JPH10316667A - 感光性化合物及び感光性樹脂 - Google Patents
感光性化合物及び感光性樹脂Info
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Abstract
及びこれを用いた感光性樹脂を提供する。 【解決手段】 下記一般式で示される感光性化合物。 【化1】 ここで、RはC6までのアルキル基,および二つのRが
一緒になって形成する−(CH2)m−(mは2または
3)から選択される。また、nは1,2又は3である。
さらに、Rxは下記Rx1〜Rx9から選択され、Rx
1〜Rx9中のXは水溶性基、Yは、H,NO2,OC
H3,Cl,およびBrから選択され、Ryはアルキル
基、Y-は、燐酸,メタンスルホン酸,モノメチル硫
酸,塩素,臭素,蓚酸,p−トルエンスルホン酸等の陰
イオンである。
Description
物及び感光性樹脂に関し、特に、例えば、ブラウン管
用、スクリーン印刷用、その他表示管用、固定化酵素
用、PS板用、エッチングレジスト用などの用途で使用
可能な感光性化合物及び感光性樹脂に関する。
性ポリビニルアルコールにスチリルピリジウム塩化合物
又はスチリルキノリウム塩化合物などの第4級アンモニ
ウム塩を縮合反応させた感光性樹脂を含有するもの(P
VA−SbQ系レジストという)が知られている(特公
昭56−5761号公報、特公昭56−5762号公
報、特開昭56−11906号公報)。
系レジストは、感光速度が速い等の利点を有している
が、イオン的にはカチオン性のものに限定されてしまう
ので、用途及び組成物の制限が出てくる。また、露光光
源として、水銀灯(365nm)の他、メタルハライド
(400nm)の光源を用いるため、感光波長を長波長
に設定するには、4−メチルキノリン等を使用する必要
があり、コスト高になるという欠点がある。
ン印刷用、その他表示管用などの用途においては、40
0nmという長波長で感光性が良好で、水系溶媒に溶解
乃至分散できるものが要望されている。また、特に、蛍
光体パターン形成用途としては、バインダポリマーとし
てポリビニルアルコール(PVA)が優れているので、
PVA系レジストで、PVA−SbQ系レジストより感
光波長が長く、且つイオン性についても用途によりカチ
オン、アニオン、ノニオンの使い分けが可能な感光性樹
脂が要望されている。
光性樹脂を調製可能な感光性化合物及びこれを用いた感
光性樹脂を提供することを課題とする。
明の感光性化合物は、下記一般式で示されることを特徴
とする感光性化合物にある。
び二つのRが一緒になって形成する−(CH2)m−(m
は2または3)から選択される。また、nは1,2又は
3である。さらに、Rxは下記Rx1〜Rx9から選択
され、Rx1〜Rx9中のXは水溶性基、Yは、H,N
O2,OCH3,Cl,およびBrから選択され、Ryは
アルキル基、Y-は、燐酸,メタンスルホン酸,モノメ
チル硫酸,塩素,臭素,蓚酸,p−トルエンスルホン酸
等の陰イオンである。
ら選択される。
リウム、アンモニウム、モノアルキルアンモニウム、ジ
アルキルアンモニウム、トリアルキルアンモニウム、又
はテトラアルキルアンモニウムを表し、Y-は、燐酸,
メタンスルホン酸,モノメチル硫酸,塩素,臭素,蓚
酸,p−トルエンスルホン酸等の陰イオンである。
で示される構成単位を有することを特徴とする。
Rxは上記Rx1〜Rx9から選択される。さらに、R
x1〜Rx9中のXは水溶性基、Yは、H,NO2,O
CH3,Cr,及びBrから選択され、Ryはアルキル
基、Y-は、燐酸,メタンスルホン酸,モノメチル硫
酸,塩素,臭素,蓚酸,p−トルエンスルホン酸等の陰
イオンである。
ら選択される。
性樹脂を含有することを特徴とする。
意研究を重ねた結果、アセタール基を有するロダニン化
合物と、水溶性アルデヒド又は複素環を有するアルデヒ
ドとを縮合することにより、新規なロダニン骨格を有す
る、長波長で感光可能な新規化合物を開発し、本発明を
完成したものである。
しては、米国特許第2,828,087号に開示された
ものがある。しかしながら、この感光性樹脂は、感光基
そのものが疎水性で、水溶性ではなく、ポリマーのカル
ボキシル基によりアルカリ水可溶性となっているもので
あり、本発明とは全く相違する。
化合物は、基本的に水溶性で、光二量化タイプの感光性
を有し、且つPVAにアセタール化することにより容易
に感光性樹脂を調製できるものである。
化合物は、アセタール基を有するロダニン化合物と、水
溶性のベンズアルデヒドもしくはアリルアルデヒド誘導
体又は複素環を有するアルデヒド化合物とを縮合するこ
とにより得ることができる。
合物は、下記式で示される。
物は、例えば、アミノ基を有するアセタール化合物を、
アンモニア、トリエチルアミン、NaOH、KOH等の
塩基存在下で二硫化炭素とさせて、ジチオカルバミン酸
塩を合成し、続いて、クロル酢酸エチルと反応させるこ
とにより得ることができる。この場合の反応溶媒は、使
用するアミン化合物により、水、エーテル、DMF等を
選択して使用することができるが、これに限定されるも
のではない。
化合物と縮合可能なベンズアルデヒドアルデヒドもしく
はアリルアルデヒド誘導体としては下記式(1)及び
(2)で示される。さらに、複素環を有するアルデヒド
化合物としては、下記式(3)〜(9)で示される。な
お、これらの化合物は、本発明の感光性化合物に水溶性
を付与するものであるので、水溶性を有するものであ
る。
及びYは上述した通りである。
合物は、ポリ酢酸ビニルけん化物、又はビニルアルコー
ルと他のビニル化合物との水溶性共重合体に、酸触媒下
で反応させることにより、本発明の上記式(II)で示され
る感光性樹脂とすることができる。
としては、例えば、平均重合度200〜5000、けん
化度60〜100%のものが好適である。また、このポ
リ酢酸ビニルけん化物としては、例えば、親水基変性、
アニオン変性、カチオン変性、又はアセトアセチル基の
ような反応基変性などの変性酢酸ビニルけん化物を用い
ることができる。
合には、十分な感度が得られ難く、また、平均重合度が
5000より大きい場合には、感光性樹脂の溶液の粘度
が高くなり、塗布性が悪くなるという不具合が発生し易
く、さらに、粘度を下げるために濃度を低くすると、所
望の塗布膜厚を得るのが困難となる。また、けん化度が
60%より低いと十分な水溶性及び水現像性が得られ難
い。
物との共重合体としては、例えば、平均重合度200〜
5000のものが使用できる。なお、ビニルアルコール
と共重合され得るビニルモノマーとしては、例えば、N
−ビニルピロリドン、アクリルアミド等を挙げることが
できる。
上記式(I)で示される感光性化合物とを酸触媒存在下
で反応させて、上記式(II)で示される感光性樹脂を得る
場合、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ベンズアル
デヒド等のアルデヒド類又はこれらのアセタール類を同
時に反応させることもできる。
(I)の感光性化合物の導入率は、モノマー単位当た
り、0.3〜5モル%程度が好ましい。
て詳細に説明する。
ル)ロダニンの調製] アミノブチルアルデヒドジメチルアセタール67g、ト
リエチルアミン51gをジエチルエーテル300gに溶
解し、10℃に冷却した。。撹拌下に二硫化炭素38g
を60分かけて滴下し、その後、20℃で24時間反応
した。次に、ブロモ酢酸エチル84gを15分で滴下
し、室温下で48時間反応した。トリエチルアミン・臭
化水素酸塩を濾別で除き、エバポレータによりジエチル
エーテルを除き、下記式で示される目的物を含む油状液
を得た。
ル)−(4−ピリジリデン)ロダニンの合成例] 4−ピリジンアルデヒド54g、水酸化ナトリウム2g
を水100g、メタノール100gに溶解した溶液を1
0℃に冷却し、これを実施例1の油状物にゆっくりと加
えた。反応に従い目的物が析出してくるが、そのまま撹
拌を続け、5時間反応した。濾別し、水洗、乾燥し、下
記式に示される目的物を得た。
った。また、吸収極大は、370nmであった。
ル200gに、ジメチル硫酸65gを加え、50℃で5
時間反応することにより、四級化した。冷却後アセトン
を加えて下記式で示される目的物を析出させ、濾別し
た。吸収極大は、384nmであった。
0gを水900gに溶解した。実施例2の化合物を17
g、燐酸3gを加え、60℃で24時間反応した。燐酸
をイオン交換処理により除去し、感光基がPVAに1.
6モル%導入された感光液を調製した。
釈し、ガラス板に膜厚1.0μm塗布し、超高圧水銀等
(紫外線照度5mW/cm2:UV−35(オーク製照
度計))にて、10mJ露光した。次いで、水現像する
ことによりパターンが形成することを確認した。
ル)−(ベンジリデン−4−カルボン酸Na)ロダニン
の合成例] テレフタルアルデヒド酸Na75g、水酸化ナトリウム
30gを水2000gに溶解した水溶液を10℃に冷却
し、これを、実施例2の化合物(化15に示す)160
gにゆっくりと加えた。反応するに従い目的物が析出し
てくるが、そのまま撹拌を続け、24時間反応した。N
aClを50g添加し、更に5時間撹拌し、濾別し、ア
セトンにて洗浄した。
グラフィー純度95%であった。また、吸収極大は、3
83nmであった。
0gを水900gに溶解した。実施例4の化合物を19
g、燐酸3gを加え、60℃で24時間反応した。燐酸
をイオン交換処理により除去し、感光基がPVAに2.
0モル%導入された感光液を調製した。
釈し、ガラス板に膜厚1.0μm塗布し、超高圧水銀等
(紫外線照度5mW/cm2:UV−35(オーク製照
度計))にて、20mJ露光した。水現像により、パタ
ーンが形成することを確認した。
アセタール基を有するロダニン化合物と、水溶性アルデ
ヒド又は複素環を有するアルデヒドとを縮合することに
より、新規なロダニン骨格を有する、長波長で感光可能
な新規化合物を提供することができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 下記一般式で示されることを特徴とする
感光性化合物。 【化1】 ここで、RはC6までのアルキル基,および二つのRが
一緒になって形成する−(CH2)m−(mは2または
3)から選択される。また、nは1,2又は3である。
さらに、Rxは下記Rx1〜Rx9から選択され、Rx
1〜Rx9中のXは水溶性基、Yは、H,NO2,OC
H3,Cl,およびBrから選択され、Ryはアルキル
基、Y-は、燐酸,メタンスルホン酸,モノメチル硫
酸,塩素,臭素,蓚酸,p−トルエンスルホン酸等の陰
イオンである。 【化2】 - 【請求項2】 請求項1において、Xが下記X1〜X13
から選択されることを特徴とする感光性化合物。 【化3】 ここで、Qは、リチウム、ナトリウム、カリウム、アン
モニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアン
モニウム、トリアルキルアンモニウム、又はテトラアル
キルアンモニウムを表し、Y-は、燐酸,メタンスルホ
ン酸,モノメチル硫酸,塩素,臭素,蓚酸,p−トルエ
ンスルホン酸等の陰イオンである。 - 【請求項3】 下記一般式で示される構成単位を有する
ことを特徴とする感光性樹脂。 【化4】 ここで、nは1,2又は3である。また、Rxは下記R
x1〜Rx9から選択される。さらに、Rx1〜Rx9
中のXは水溶性基、Yは、H,NO2,OCH3,Cr,
及びBrから選択され、Ryはアルキル基、Y-は、燐
酸,メタンスルホン酸,モノメチル硫酸,塩素,臭素,
蓚酸,p−トルエンスルホン酸等の陰イオンである。 【化5】 - 【請求項4】 請求項3において、Xが下記X1〜X13
から選択されることを特徴とする感光性化合物。 【化6】 ここで、Qは、リチウム、ナトリウム、カリウム、アン
モニウム、モノアルキルアンモニウム、ジアルキルアン
モニウム、トリアルキルアンモニウム、又はテトラアル
キルアンモニウムを表し、Y-は、燐酸,メタンスルホ
ン酸,モノメチル硫酸,塩素,臭素,蓚酸,p−トルエ
ンスルホン酸等の陰イオンである。 - 【請求項5】 請求項3又は4の感光性樹脂を含有する
ことを特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12192697A JP4093501B2 (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 感光性化合物及び感光性樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12192697A JP4093501B2 (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 感光性化合物及び感光性樹脂 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10316667A true JPH10316667A (ja) | 1998-12-02 |
| JP4093501B2 JP4093501B2 (ja) | 2008-06-04 |
Family
ID=14823349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12192697A Expired - Fee Related JP4093501B2 (ja) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | 感光性化合物及び感光性樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4093501B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000028382A1 (en) * | 1997-05-13 | 2000-05-18 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive compounds, photosensitive resin compositions, and pattern formation method making use of the compounds or compositions |
-
1997
- 1997-05-13 JP JP12192697A patent/JP4093501B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000028382A1 (en) * | 1997-05-13 | 2000-05-18 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive compounds, photosensitive resin compositions, and pattern formation method making use of the compounds or compositions |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4093501B2 (ja) | 2008-06-04 |
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