JPH10317196A - メッキ用電気ニッケルの製造方法 - Google Patents
メッキ用電気ニッケルの製造方法Info
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- JPH10317196A JPH10317196A JP9123993A JP12399397A JPH10317196A JP H10317196 A JPH10317196 A JP H10317196A JP 9123993 A JP9123993 A JP 9123993A JP 12399397 A JP12399397 A JP 12399397A JP H10317196 A JPH10317196 A JP H10317196A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面の凹凸が少なく、同一陰極板内でも又個
々の電気ニッケル中でも硫黄分布のバラツキを少なくす
ることができる、メッキ用電気ニッケルの製造方法を提
供する。 【解決手段】 複数の導電部１ａを残して表面を非導電
膜２でマスキングした陰極板１を用い、陰極板１の表面
に触れるように空気又は不活性ガスの気泡を発生させな
がら電気ニッケル３を電着する。気泡の直径は０.２〜
５ｍｍの範囲内とし、空気又は不活性ガスをメッキ液の
表面積当たり１〜５０ｍｌ／ｃｍ2・分の流量で供給する
ことが好ましい。
々の電気ニッケル中でも硫黄分布のバラツキを少なくす
ることができる、メッキ用電気ニッケルの製造方法を提
供する。 【解決手段】 複数の導電部１ａを残して表面を非導電
膜２でマスキングした陰極板１を用い、陰極板１の表面
に触れるように空気又は不活性ガスの気泡を発生させな
がら電気ニッケル３を電着する。気泡の直径は０.２〜
５ｍｍの範囲内とし、空気又は不活性ガスをメッキ液の
表面積当たり１〜５０ｍｌ／ｃｍ2・分の流量で供給する
ことが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ニッケルメッキの
アノードとして用いられる小塊状の電気ニッケルを製造
する方法に関する。
アノードとして用いられる小塊状の電気ニッケルを製造
する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ニッケルメッキのアノード原料として供
せられる電気ニッケルは、通常は直径十数ｍｍの小塊状
とし、ニッケルメッキ槽のチタンバスケット等のアノー
ド保持具に入れて用いられている。
せられる電気ニッケルは、通常は直径十数ｍｍの小塊状
とし、ニッケルメッキ槽のチタンバスケット等のアノー
ド保持具に入れて用いられている。
【０００３】この時、板状の電気ニッケルを切断したチ
ップ品を用いると、角部が鋭いためチタンバスケットへ
の投入時に取り扱いが困難であったり、バスケットに投
入後にも角部がバスケットの網目に引っ掛っていわゆる
棚吊りを起こし、チタンバスケット内での充填状態が変
化して、メッキむらの要因となる。
ップ品を用いると、角部が鋭いためチタンバスケットへ
の投入時に取り扱いが困難であったり、バスケットに投
入後にも角部がバスケットの網目に引っ掛っていわゆる
棚吊りを起こし、チタンバスケット内での充填状態が変
化して、メッキむらの要因となる。
【０００４】そこで、角の取れた丸みのある小塊状のメ
ッキ用電気ニッケルを、電解によって製造することが行
われている。即ち、陰極板に複数の通常は円形の導電部
を残して非導電膜でマスキングを施し、各導電部に適度
な大きさの小塊状の電気ニッケルを電着させた後、それ
を陰極板から剥ぎ取ることにより、角の取れた丸みのあ
る小塊状の電気ニッケルを製造している。
ッキ用電気ニッケルを、電解によって製造することが行
われている。即ち、陰極板に複数の通常は円形の導電部
を残して非導電膜でマスキングを施し、各導電部に適度
な大きさの小塊状の電気ニッケルを電着させた後、それ
を陰極板から剥ぎ取ることにより、角の取れた丸みのあ
る小塊状の電気ニッケルを製造している。
【０００５】また、メッキ用電気ニッケル中に硫黄
（Ｓ）が０.０ｎ％（ｎは１桁の整数を意味する）程度
分散していると、極性が弱くなって溶解しやすくなる。
このため、上記のごとく陰極板に電気ニッケルを電着さ
せる際に、例えば特開平６−３２２５７５号公報に記載
された方法により、メッキ液中にチオ硫酸ナトリウム等
のＳ源を添加して、得られる電気ニッケルにＳを分散含
有させることが一般的に行われている。
（Ｓ）が０.０ｎ％（ｎは１桁の整数を意味する）程度
分散していると、極性が弱くなって溶解しやすくなる。
このため、上記のごとく陰極板に電気ニッケルを電着さ
せる際に、例えば特開平６−３２２５７５号公報に記載
された方法により、メッキ液中にチオ硫酸ナトリウム等
のＳ源を添加して、得られる電気ニッケルにＳを分散含
有させることが一般的に行われている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように、チタンバ
スケット内で棚吊りを起こしにくい小塊状のメッキ用電
気ニッケルを得るため、複数の導電部を残して表面を非
導電膜でマスキングした陰極板を使用して電着すること
により、角の取れた小塊状のメッキ用電気ニッケルを製
造することが従来から行われている。
スケット内で棚吊りを起こしにくい小塊状のメッキ用電
気ニッケルを得るため、複数の導電部を残して表面を非
導電膜でマスキングした陰極板を使用して電着すること
により、角の取れた小塊状のメッキ用電気ニッケルを製
造することが従来から行われている。
【０００７】しかし、図１に示すように、非導電膜２で
マスキングを施した陰極板１を用いた場合、マスキング
した非導電部に流れるはずであった電流がマスキングが
施されていない導電部１ａに集中するため、板状の電気
ニッケルを製造する場合よりも電流密度が上昇し、また
同じ導電部１ａの中でも中央部より周辺部に電流が集中
する。
マスキングを施した陰極板１を用いた場合、マスキング
した非導電部に流れるはずであった電流がマスキングが
施されていない導電部１ａに集中するため、板状の電気
ニッケルを製造する場合よりも電流密度が上昇し、また
同じ導電部１ａの中でも中央部より周辺部に電流が集中
する。
【０００８】このため、陰極板１の導電部１ａに電着さ
れる小塊状の電気ニッケル３は、図１のごとく、塊中央
部３ａに比べて塊周辺部３ｂが盛り上がり、且つ塊周辺
部３ｂにも凹凸が形成される。このように表面に盛り上
がりや凹凸が形成された電気ニッケル３では、角に丸み
を持たせて形成したにも拘らず、メッキ用のチタンバス
ケットに投入されたとき、この表面の凹凸などが棚吊り
の原因となることがあった。
れる小塊状の電気ニッケル３は、図１のごとく、塊中央
部３ａに比べて塊周辺部３ｂが盛り上がり、且つ塊周辺
部３ｂにも凹凸が形成される。このように表面に盛り上
がりや凹凸が形成された電気ニッケル３では、角に丸み
を持たせて形成したにも拘らず、メッキ用のチタンバス
ケットに投入されたとき、この表面の凹凸などが棚吊り
の原因となることがあった。
【０００９】また、この電気ニッケルの溶解性を向上さ
せるため添加する硫黄は、電気ニッケル中に均一に分布
することが好ましいが、実際には電気ニッケルが成長す
る際に上記凹凸などが発生した段階で液中のＳ源の拡散
が不十分となる。即ち、図１の塊中央部３ａと塊周辺部
３ｂとの境界部分３ｃ、及び塊周辺部３ｂに形成された
凹凸の谷部３ｄへのＳ源の拡散が不足するため、この部
分に沿った電気ニッケル３の内部にＳ品位が極度に不足
する箇所が発生する結果となっていた。
せるため添加する硫黄は、電気ニッケル中に均一に分布
することが好ましいが、実際には電気ニッケルが成長す
る際に上記凹凸などが発生した段階で液中のＳ源の拡散
が不十分となる。即ち、図１の塊中央部３ａと塊周辺部
３ｂとの境界部分３ｃ、及び塊周辺部３ｂに形成された
凹凸の谷部３ｄへのＳ源の拡散が不足するため、この部
分に沿った電気ニッケル３の内部にＳ品位が極度に不足
する箇所が発生する結果となっていた。
【００１０】しかも、硫黄入りの電気ニッケルを電着す
る場合、メッキ液中にチオ硫酸ナトリウム等のＳ源を添
加するのが一般的であるが、メッキ液の供給箇所が限ら
れることや、ニッケルの電着に伴うＳ濃度の低下のた
め、硫黄を槽中に均一に分布させるのが困難となり、同
じ陰極板の中でもＳ品位が極端に異なる電気ニッケルが
得られやすい。即ち、１枚の陰極板の内でも、給液箇所
に近い部分の電気ニッケルのみＳ品位が高くなり、その
他の箇所の電気ニッケルはＳ品位が低くなるという問題
があった。
る場合、メッキ液中にチオ硫酸ナトリウム等のＳ源を添
加するのが一般的であるが、メッキ液の供給箇所が限ら
れることや、ニッケルの電着に伴うＳ濃度の低下のた
め、硫黄を槽中に均一に分布させるのが困難となり、同
じ陰極板の中でもＳ品位が極端に異なる電気ニッケルが
得られやすい。即ち、１枚の陰極板の内でも、給液箇所
に近い部分の電気ニッケルのみＳ品位が高くなり、その
他の箇所の電気ニッケルはＳ品位が低くなるという問題
があった。
【００１１】このように電気ニッケルのＳ品位にバラツ
キがあると、メッキ用アノードとして溶解したときに、
Ｓ品位の低い部分が溶解不良を起こして解け残りが生じ
る。この解け残りは、チタンバスケット内に堆積するた
めチタンバスケットのメンテナンス頻度が多くなるう
え、メッキ浴中に浮遊してメッキ不良を引き起こす原因
となっていた。
キがあると、メッキ用アノードとして溶解したときに、
Ｓ品位の低い部分が溶解不良を起こして解け残りが生じ
る。この解け残りは、チタンバスケット内に堆積するた
めチタンバスケットのメンテナンス頻度が多くなるう
え、メッキ浴中に浮遊してメッキ不良を引き起こす原因
となっていた。
【００１２】本発明は、このような従来の事情に鑑み、
チタンバスケット内での棚吊りの原因となる表面の凹凸
が少なく、同一陰極板内でも又個々の電気ニッケル中で
も硫黄の分布のバラツキを少なくすることができる、メ
ッキ用電気ニッケルの製造方法を提供することを目的と
する。
チタンバスケット内での棚吊りの原因となる表面の凹凸
が少なく、同一陰極板内でも又個々の電気ニッケル中で
も硫黄の分布のバラツキを少なくすることができる、メ
ッキ用電気ニッケルの製造方法を提供することを目的と
する。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明が提供するメッキ用電気ニッケルの製造方法
は、複数の導電部を残して表面を非導電膜でマスキング
した陰極板を用いて小塊状のメッキ用電気ニッケルを電
着する際に、該陰極板表面に触れるように空気又は不活
性ガスの気泡を発生させながら電着することを特徴とす
る。
め、本発明が提供するメッキ用電気ニッケルの製造方法
は、複数の導電部を残して表面を非導電膜でマスキング
した陰極板を用いて小塊状のメッキ用電気ニッケルを電
着する際に、該陰極板表面に触れるように空気又は不活
性ガスの気泡を発生させながら電着することを特徴とす
る。
【００１４】この本発明のメッキ用電気ニッケルの製造
方法において、気泡の直径は０.２〜５ｍｍの範囲内と
することが好ましい。また、空気又は不活性ガスをメッ
キ液の単位表面積当たりの流量１〜５０ｍｌ／ｃｍ2・分
で供給して、気泡を発生させることが好ましい。
方法において、気泡の直径は０.２〜５ｍｍの範囲内と
することが好ましい。また、空気又は不活性ガスをメッ
キ液の単位表面積当たりの流量１〜５０ｍｌ／ｃｍ2・分
で供給して、気泡を発生させることが好ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明においては、角の取れた小
塊状のメッキ用電気ニッケルを製造するために、複数の
導電部を残して表面を非導電膜でマスキングした陰極板
を用いて電気ニッケルを電着するが、その際にメッキ槽
の底部から陰極板の表面に触れるように空気又は不活性
ガスの気泡を発生させる。
塊状のメッキ用電気ニッケルを製造するために、複数の
導電部を残して表面を非導電膜でマスキングした陰極板
を用いて電気ニッケルを電着するが、その際にメッキ槽
の底部から陰極板の表面に触れるように空気又は不活性
ガスの気泡を発生させる。
【００１６】気泡が陰極板の表面に触れることによっ
て、陰極板の周囲のメッキ液が撹拌されるので、陰極板
表面に存在する各導電部の電流密度が均一化され、表面
の凹凸の少ない小塊状の電気ニッケルが得られる。しか
も、同一陰極板内でも又各電気ニッケル中でも、硫黄の
分布をほぼ均一にすることが可能となる。
て、陰極板の周囲のメッキ液が撹拌されるので、陰極板
表面に存在する各導電部の電流密度が均一化され、表面
の凹凸の少ない小塊状の電気ニッケルが得られる。しか
も、同一陰極板内でも又各電気ニッケル中でも、硫黄の
分布をほぼ均一にすることが可能となる。
【００１７】気泡は陰極板の下部から発生させ、陰極板
の表面に均一に当たるように発生させる。気泡の大きさ
としては、０.２ｍｍ未満の直径の気泡は通常の方法で
は発生が困難であると共にメッキ液の撹拌効果も乏し
く、５ｍｍを越える直径の気泡では陰極板表面に気泡が
直接当たりにくくなり、硫黄の拡散効果が期待できない
から、０.２〜５ｍｍ程度の直接であることが好まし
い。
の表面に均一に当たるように発生させる。気泡の大きさ
としては、０.２ｍｍ未満の直径の気泡は通常の方法で
は発生が困難であると共にメッキ液の撹拌効果も乏し
く、５ｍｍを越える直径の気泡では陰極板表面に気泡が
直接当たりにくくなり、硫黄の拡散効果が期待できない
から、０.２〜５ｍｍ程度の直接であることが好まし
い。
【００１８】また、気泡を作るための空気又は不活性ガ
スの流量は、メッキ液の単位表面積（１ｃｍ2）当たり
の流量として、１〜５０ｍｌ／ｃｍ2・分の範囲が好まし
い。この流量が１ｍｌ／ｃｍ2・分未満では十分な撹拌効
果が得られず、逆に５０ｍｌ／ｃｍ2・分を越えても撹拌
効果がもはや向上せず、使用するガス量が増大して経済
的でないからである。
スの流量は、メッキ液の単位表面積（１ｃｍ2）当たり
の流量として、１〜５０ｍｌ／ｃｍ2・分の範囲が好まし
い。この流量が１ｍｌ／ｃｍ2・分未満では十分な撹拌効
果が得られず、逆に５０ｍｌ／ｃｍ2・分を越えても撹拌
効果がもはや向上せず、使用するガス量が増大して経済
的でないからである。
【００１９】
【実施例】実施例１ 縦１００×横２５０ｍｍのＴｉ製の陰極板の片方の表面
を、直径１２ｍｍの円形の導電部（開口部）を２１ｍｍ
のピッチで規則的に設けた非導電膜でマスキングし、片
面の導電部個数を３６個とした。
を、直径１２ｍｍの円形の導電部（開口部）を２１ｍｍ
のピッチで規則的に設けた非導電膜でマスキングし、片
面の導電部個数を３６個とした。
【００２０】この陰極板を用いて、硫黄入りの小塊状の
電気ニッケルを製造した。メッキ液は塩化ニッケル液を
用い、Ｓ源としてチオ硫酸ナトリウムをメッキ液中に
０.０１０〜０.０１２ｇ／ｌ溶解した。陽極には１００
×２５０×１０ｍｍの電気ニッケルを用い、電流は３.
８Ａとし、このときの電流密度は導電部の投影面積で９
３３Ａ／ｍ2となった。
電気ニッケルを製造した。メッキ液は塩化ニッケル液を
用い、Ｓ源としてチオ硫酸ナトリウムをメッキ液中に
０.０１０〜０.０１２ｇ／ｌ溶解した。陽極には１００
×２５０×１０ｍｍの電気ニッケルを用い、電流は３.
８Ａとし、このときの電流密度は導電部の投影面積で９
３３Ａ／ｍ2となった。
【００２１】この時、メッキ槽の底に設けたバブラーか
ら、空気を下記表１に示す流量（メッキ液の単位表面積
当たり）で供給し、直径が０.２〜０.５ｍｍの細かい気
泡を陰極板の表面に触れるように発生させた。また、比
較のために、気泡を発生させない以外は、上記と同様の
条件での電気ニッケルの電着を行った。
ら、空気を下記表１に示す流量（メッキ液の単位表面積
当たり）で供給し、直径が０.２〜０.５ｍｍの細かい気
泡を陰極板の表面に触れるように発生させた。また、比
較のために、気泡を発生させない以外は、上記と同様の
条件での電気ニッケルの電着を行った。
【００２２】各試料ごとに得られた各電気ニッケルの形
状を評価するのに、図２に示すように、電気ニッケル３
の塊中央部３ａの深さａと、塊周辺部３ｂの高さｂとの
比率ａ／ｂをとり、凸率として比較した。この凸率が小
さいほど電気ニッケルの表面は滑らかになり、且つ内部
のＳの分布も均一になる傾向がある。このようにして、
各試料ごとに得られた電気ニッケルの凸率（平均値）
と、電気ニッケル中のＳ品位を、下記表１に併せて示し
た。
状を評価するのに、図２に示すように、電気ニッケル３
の塊中央部３ａの深さａと、塊周辺部３ｂの高さｂとの
比率ａ／ｂをとり、凸率として比較した。この凸率が小
さいほど電気ニッケルの表面は滑らかになり、且つ内部
のＳの分布も均一になる傾向がある。このようにして、
各試料ごとに得られた電気ニッケルの凸率（平均値）
と、電気ニッケル中のＳ品位を、下記表１に併せて示し
た。
【００２３】
【表１】 空気流量 気泡直径 チオ硫酸ナトリウム 電気ニッケルの評価 試料 (ml/cm2・分) (mm) 濃度(g/l) S品位(％) 凸率(％) 1＊ 0 − 0.012 0.012 0.333 2 27 0.2〜0.5 0.010 0.009 0.276 3 54 0.2〜0.5 0.010 0.011 0.300 （注）表中の＊を付した試料は比較例である。
【００２４】この結果から、空気をバブリングすること
により、得られる小塊状の電気ニッケルの凸率が減少
し、図１に示す塊中央部３ａと塊周辺部３ｂとの段差及
び塊周辺部３ｂの凹凸が少なくなると共に、チオ硫酸ナ
トリウムの添加量が少なくても従来とほぼ同等のＳ品位
を確保することができた。
により、得られる小塊状の電気ニッケルの凸率が減少
し、図１に示す塊中央部３ａと塊周辺部３ｂとの段差及
び塊周辺部３ｂの凹凸が少なくなると共に、チオ硫酸ナ
トリウムの添加量が少なくても従来とほぼ同等のＳ品位
を確保することができた。
【００２５】しかし、空気の流量を増加させても、Ｓ品
位はあまり変わらず、逆に凸率は大きくなる傾向にあっ
た。これらの結果から、この実施例のように直径が０.
２〜０.５ｍｍの気泡の場合には、空気の流量は１.０〜
５４ｍｌ／ｃｍ2・分が好ましく、１.０〜５０ｍｌ／ｃ
ｍ2・分が更に好ましいことが分かった。
位はあまり変わらず、逆に凸率は大きくなる傾向にあっ
た。これらの結果から、この実施例のように直径が０.
２〜０.５ｍｍの気泡の場合には、空気の流量は１.０〜
５４ｍｌ／ｃｍ2・分が好ましく、１.０〜５０ｍｌ／ｃ
ｍ2・分が更に好ましいことが分かった。
【００２６】尚、この実施例で製造した電気ニッケルの
Ｓ品位は実用的なＳ品位（０.０１５〜０.３０％）より
若干低いが、メッキ液中のチオ硫酸ナトリウム濃度その
他の条件を変えることにより、Ｓ品位の増加を図ること
ができる。
Ｓ品位は実用的なＳ品位（０.０１５〜０.３０％）より
若干低いが、メッキ液中のチオ硫酸ナトリウム濃度その
他の条件を変えることにより、Ｓ品位の増加を図ること
ができる。
【００２７】実施例２ 縦１１００×横８４０ｍｍの陰極板の両側の表面を、直
径１２ｍｍの円形の導電部（開口部）を２１ｍｍのピッ
チで規則的に設けた非導電膜でマスキングし、片面の導
電部個数を２１１２個（合計４２２４個）とした。この
陰極板を用いて、硫黄入りの小塊状の電気ニッケルを製
造した。メッキ液は塩化ニッケル液を用い、硫黄源とし
てチオ硫酸ナトリウムをメッキ液中に０.０１０〜０.０
１２ｇ／ｌ溶解した。陽極にはペルメレック社製の不溶
性アノードを用い、電流は陰極板１枚当たり４４２Ａと
した。
径１２ｍｍの円形の導電部（開口部）を２１ｍｍのピッ
チで規則的に設けた非導電膜でマスキングし、片面の導
電部個数を２１１２個（合計４２２４個）とした。この
陰極板を用いて、硫黄入りの小塊状の電気ニッケルを製
造した。メッキ液は塩化ニッケル液を用い、硫黄源とし
てチオ硫酸ナトリウムをメッキ液中に０.０１０〜０.０
１２ｇ／ｌ溶解した。陽極にはペルメレック社製の不溶
性アノードを用い、電流は陰極板１枚当たり４４２Ａと
した。
【００２８】この時、メッキ槽の底に設けたバブラーか
ら、空気を下記表２に示す流量で供給し、直径が０.５
〜５ｍｍの気泡を陰極板の表面に触れるように発生させ
た。また、比較のために、気泡を発生させない以外は、
上記と同様の条件での電気ニッケルの電着を行った。各
試料ごとに得られた各電気ニッケルの形状を実施例１と
同様に評価し、この凸率（平均値）と、電気ニッケル中
のＳ品位を、下記表２に併せて示した。
ら、空気を下記表２に示す流量で供給し、直径が０.５
〜５ｍｍの気泡を陰極板の表面に触れるように発生させ
た。また、比較のために、気泡を発生させない以外は、
上記と同様の条件での電気ニッケルの電着を行った。各
試料ごとに得られた各電気ニッケルの形状を実施例１と
同様に評価し、この凸率（平均値）と、電気ニッケル中
のＳ品位を、下記表２に併せて示した。
【００２９】
【表２】 空気流量 気泡直径 チオ硫酸ナトリウム 電気ニッケルの評価 試料 (ml/cm2・分) (mm) 濃度(g/l) S品位(％) 凸率(％) 4＊ 0 − 0.012 0.016 0.333 5 16 0.5〜5 0.010 0.017 0.276 6 40 0.5〜5 0.010 0.026 0.270 （注）表中の＊を付した試料は比較例である。
【００３０】上記の結果から分かるように、気泡の直径
が０.５ｍｍ以上と大きい場合は、前記実施例１の気泡
直径が０.５ｍｍ以下と小さい場合に比べて、少ない空
気流量であっても、得られる電気ニッケルの凸率が改善
された。
が０.５ｍｍ以上と大きい場合は、前記実施例１の気泡
直径が０.５ｍｍ以下と小さい場合に比べて、少ない空
気流量であっても、得られる電気ニッケルの凸率が改善
された。
【００３１】また、このときの電気ニッケルのＳ品位と
空気流量との関係を図３に示した。空気流量が増加する
とＳ品位も高くなるが、空気流量が３０ｍｌ／ｃｍ2・分
以上になるとＳ品位の上昇は鈍ってくる。尚、空気流量
が５ｍｌ／ｃｍ2・分以下の場合は、Ｓ品位が０.０１５
％以下となり、実用的なＳ品位（０.０１５〜０.３０
％）よりも若干低くなる。
空気流量との関係を図３に示した。空気流量が増加する
とＳ品位も高くなるが、空気流量が３０ｍｌ／ｃｍ2・分
以上になるとＳ品位の上昇は鈍ってくる。尚、空気流量
が５ｍｌ／ｃｍ2・分以下の場合は、Ｓ品位が０.０１５
％以下となり、実用的なＳ品位（０.０１５〜０.３０
％）よりも若干低くなる。
【００３２】更に、空気のバブリングを行わなかった比
較例の試料４の電気ニッケルの断面を顕微鏡（４５倍）
で観察したところ、図４に示すように、塊中央部と塊周
辺部の境界部や塊周辺部の凹凸の谷部に沿った内部に、
白い線状にＳ濃度の極めて少ない箇所が認められた。一
方、本発明の試料５の電気ニッケルについて同様に断面
を観察したところ、図５に示すように、塊中央部と塊周
辺部の境界部や塊周辺部の凹凸の谷部に沿った白い線は
図４（試料４）よりも遥かに薄く、Ｓ濃度が均一化され
ていることが分かった。
較例の試料４の電気ニッケルの断面を顕微鏡（４５倍）
で観察したところ、図４に示すように、塊中央部と塊周
辺部の境界部や塊周辺部の凹凸の谷部に沿った内部に、
白い線状にＳ濃度の極めて少ない箇所が認められた。一
方、本発明の試料５の電気ニッケルについて同様に断面
を観察したところ、図５に示すように、塊中央部と塊周
辺部の境界部や塊周辺部の凹凸の谷部に沿った白い線は
図４（試料４）よりも遥かに薄く、Ｓ濃度が均一化され
ていることが分かった。
【００３３】次に、空気のバブリングを行った場合と、
行わない場合について、１枚の陰極板の中での各電気ニ
ッケルのＳ品位を表３に示した。一般的に給液は各陰極
板ごとに行われるが、この実施例では各陰極板の左上方
向から給液を行い、表３には各電気ニッケルを採取した
陰極板の各部位と、その電気ニッケル中のＳ品位を表示
した。
行わない場合について、１枚の陰極板の中での各電気ニ
ッケルのＳ品位を表３に示した。一般的に給液は各陰極
板ごとに行われるが、この実施例では各陰極板の左上方
向から給液を行い、表３には各電気ニッケルを採取した
陰極板の各部位と、その電気ニッケル中のＳ品位を表示
した。
【００３４】
【表３】
【００３５】この結果から分かるように、空気のバブリ
ングを行わない場合には陰極板の給液口付近（部位：左
上）のＳ品位が極端に高くなるが、空気バブリングを行
った場合には撹拌効果により全体に均一なＳ品位となっ
ている。これにより、全体のＳ品位のばらつき（σ）
も、空気バブリング無しの場合は０.０２４４であるの
に対して、空気バブリングを行った場合には０.００４
６と遥かに小さく抑えられた。
ングを行わない場合には陰極板の給液口付近（部位：左
上）のＳ品位が極端に高くなるが、空気バブリングを行
った場合には撹拌効果により全体に均一なＳ品位となっ
ている。これにより、全体のＳ品位のばらつき（σ）
も、空気バブリング無しの場合は０.０２４４であるの
に対して、空気バブリングを行った場合には０.００４
６と遥かに小さく抑えられた。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、陰極板に電着した小塊
状の電気ニッケルの表面形状は従来よりも凹凸の少ない
滑らかな状態になり、取り扱いが容易になると共に、メ
ッキ用チタンバスケットなどに投入したときに棚吊りを
起こしにくくなる。
状の電気ニッケルの表面形状は従来よりも凹凸の少ない
滑らかな状態になり、取り扱いが容易になると共に、メ
ッキ用チタンバスケットなどに投入したときに棚吊りを
起こしにくくなる。
【００３７】また、従来の電着では避けられなかった電
気ニッケル中のＳ品位の低い部分が減少し、電気ニッケ
ル中のＳ品位のバラツキが減少するため、メッキ用アノ
ードとして均質で溶解しやすい電気ニッケルの製造が可
能となった。
気ニッケル中のＳ品位の低い部分が減少し、電気ニッケ
ル中のＳ品位のバラツキが減少するため、メッキ用アノ
ードとして均質で溶解しやすい電気ニッケルの製造が可
能となった。
【００３８】更に、従来は同じ陰極板から得られる電気
ニッケルにもＳ品位のバラツキがあったが、本発明によ
れば同じ陰極板内では殆どＳ品位のバラツキが無くな
り、不良率の低減が可能である。しかも、電気ニッケル
中のＳ品位を同じにする場合、Ｓ源が従来よりも低い濃
度で済むため、コストの低減を図ることができる。
ニッケルにもＳ品位のバラツキがあったが、本発明によ
れば同じ陰極板内では殆どＳ品位のバラツキが無くな
り、不良率の低減が可能である。しかも、電気ニッケル
中のＳ品位を同じにする場合、Ｓ源が従来よりも低い濃
度で済むため、コストの低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】陰極板上に電着した小塊状の電気ニッケルを示
す概略の断面図である。
す概略の断面図である。
【図２】電気ニッケルの表面の凸率を説明するための側
面図である。
面図である。
【図３】実施例２における電気ニッケルのＳ品位と空気
流量との関係を示すグラフである。
流量との関係を示すグラフである。
【図４】空気バブリングを行わない電気ニッケルの顕微
鏡写真（４５倍）に基づく要部の断面図である。
鏡写真（４５倍）に基づく要部の断面図である。
【図５】空気バブリングを実施した電気ニッケルの顕微
鏡写真（４５倍）に基づく要部の断面図である。
鏡写真（４５倍）に基づく要部の断面図である。
１ 陰極板 １ａ 導電部 ２ 非導電膜 ３ 電気ニッケル ３ａ 塊中央部 ３ｂ 塊周辺部 ３ｃ 塊中央部と塊周辺部との境界部分 ３ｄ 塊周辺部に形成された凹凸の谷部
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の導電部を残して表面を非導電膜で
マスキングした陰極板を用いて小塊状のメッキ用電気ニ
ッケルを電着する際に、該陰極板表面に触れるように空
気又は不活性ガスの気泡を発生させながら電着すること
を特徴とするメッキ用電気ニッケルの製造方法。 - 【請求項２】 気泡の直径を０.２〜５ｍｍの範囲内と
することを特徴とする、請求項１に記載のメッキ用電気
ニッケルの製造方法。 - 【請求項３】 空気又は不活性ガスを、メッキ液の単位
表面積当たりの流量１〜５０ｍｌ／ｃｍ2・分で供給して
気泡を発生させることを特徴とする、請求項１又は２に
記載のメッキ用電気ニッケルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9123993A JPH10317196A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | メッキ用電気ニッケルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9123993A JPH10317196A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | メッキ用電気ニッケルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10317196A true JPH10317196A (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=14874392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9123993A Pending JPH10317196A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | メッキ用電気ニッケルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10317196A (ja) |
-
1997
- 1997-05-14 JP JP9123993A patent/JPH10317196A/ja active Pending
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