JPH10319578A - 電子線露光マスクホルダー - Google Patents
電子線露光マスクホルダーInfo
- Publication number
- JPH10319578A JPH10319578A JP13201697A JP13201697A JPH10319578A JP H10319578 A JPH10319578 A JP H10319578A JP 13201697 A JP13201697 A JP 13201697A JP 13201697 A JP13201697 A JP 13201697A JP H10319578 A JPH10319578 A JP H10319578A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- beam exposure
- mask
- exposure mask
- mask holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子線露光マスクをマスクホルダーに装着又
は取り出す際の取り扱いを容易にして、電子線露光マス
クに損傷を与えない電子線露光マスクホルダーを提供す
る。 【解決手段】 銅又はリン青銅等の金属材を機械加工し
てマスクホルダー外枠１１、電子線露光マスク装着部１
２、彫り込み１４及び開口窓１５を有するマスクホルダ
ー１０を作製する。次に、マスクホルダー１０の電子線
露光マスク装着部１２に導電性ペースト（藤倉化成株式
会社製）を塗布し、続いて電子線露光マスク３０の外周
側面をピンセットではさんで電子線露光マスク３０の支
持枠部３２をマスクホルダー１０の電子線露光マスク装
着部１２に貼り付けて、電子線露光マスク３０をマスク
ホルダー１０に装着する。この際、マスクホルダー１０
に彫り込み１４があるため電子線露光マスク３０の装着
が容易である。
は取り出す際の取り扱いを容易にして、電子線露光マス
クに損傷を与えない電子線露光マスクホルダーを提供す
る。 【解決手段】 銅又はリン青銅等の金属材を機械加工し
てマスクホルダー外枠１１、電子線露光マスク装着部１
２、彫り込み１４及び開口窓１５を有するマスクホルダ
ー１０を作製する。次に、マスクホルダー１０の電子線
露光マスク装着部１２に導電性ペースト（藤倉化成株式
会社製）を塗布し、続いて電子線露光マスク３０の外周
側面をピンセットではさんで電子線露光マスク３０の支
持枠部３２をマスクホルダー１０の電子線露光マスク装
着部１２に貼り付けて、電子線露光マスク３０をマスク
ホルダー１０に装着する。この際、マスクホルダー１０
に彫り込み１４があるため電子線露光マスク３０の装着
が容易である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＩＣやＬＳＩなどの
半導体製造に用いる電子線露光装置に電子線露光マスク
を取り付ける際に用いられるマスクホルダーに関するも
のである。
半導体製造に用いる電子線露光装置に電子線露光マスク
を取り付ける際に用いられるマスクホルダーに関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】電子線露光方法は０．１ミクロン幅のレ
ジストパターンを露光することが可能な露光技術であ
り、ＩＣやＬＳＩ等の半導体作製に有効である。電子線
露光にはシリコンウエハに微細な開孔パターンを設けた
電子線露光マスクを用いる。電子線露光マスクは中央に
パターン領域があり１０から２０ミクロン厚程度のシリ
コン薄膜でできている。この薄膜に微細な開孔パターン
が設けられており、電子線露光では電子銃から出た電子
は電子線露光マスクの開孔パターンを通過してパターン
通りに整形される。
ジストパターンを露光することが可能な露光技術であ
り、ＩＣやＬＳＩ等の半導体作製に有効である。電子線
露光にはシリコンウエハに微細な開孔パターンを設けた
電子線露光マスクを用いる。電子線露光マスクは中央に
パターン領域があり１０から２０ミクロン厚程度のシリ
コン薄膜でできている。この薄膜に微細な開孔パターン
が設けられており、電子線露光では電子銃から出た電子
は電子線露光マスクの開孔パターンを通過してパターン
通りに整形される。
【０００３】電子線露光マスクはマスクホルダーに装着
して電子線露光装置に設置する。従来のマスクホルダー
４０の平面図を図４（ａ）に、図４（ａ）のマスクホル
ダーをＢ−Ｂ’の位置で切断したマスクホルダーの断面
図を図４（ｂ）に、さらに電子線露光マスク３０を図４
（ｂ）のマスクホルダーに装着した場合の断面図を図４
（ｃ）にそれぞれ示す。
して電子線露光装置に設置する。従来のマスクホルダー
４０の平面図を図４（ａ）に、図４（ａ）のマスクホル
ダーをＢ−Ｂ’の位置で切断したマスクホルダーの断面
図を図４（ｂ）に、さらに電子線露光マスク３０を図４
（ｂ）のマスクホルダーに装着した場合の断面図を図４
（ｃ）にそれぞれ示す。
【０００４】マスクホルダー４０の中央部分に開口窓４
５があり電子線露光マスク３０のパターン領域３１を通
過した電子はマスクホルダーの開口窓４５を通過して基
板上に露光される。一方、電子線露光マスク３０は支持
枠部３２がマスクホルダー４０の電子線露光マスクの装
着部４２に接着剤等で固定されて、マスクホルダーに装
着される。さらに、マスクホルダー４０の角には彫り込
み４３があり電子線露光マスク３０の角がぶつからない
ようになっている。
５があり電子線露光マスク３０のパターン領域３１を通
過した電子はマスクホルダーの開口窓４５を通過して基
板上に露光される。一方、電子線露光マスク３０は支持
枠部３２がマスクホルダー４０の電子線露光マスクの装
着部４２に接着剤等で固定されて、マスクホルダーに装
着される。さらに、マスクホルダー４０の角には彫り込
み４３があり電子線露光マスク３０の角がぶつからない
ようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来のマ
スクホルダーでは角に彫り込みがあり電子線露光マスク
の角部分が接触しない構造になっている。しかし、従来
のマスクホルダーに電子線露光マスクを装着する場合に
はマスクホルダーに電子線露光マスクを落とし込むか、
もしくは電子線露光マスクの角をピンセット等で支えて
マスクホルダーに装着するしか方法がなかった。電子線
露光マスクはシリコンウエハから切り出しているため、
上記のような方法を用いると端部が欠けたり、また著し
い場合には中央部分のパターン領域で薄膜が破壊されて
しまうなどの問題がある。
スクホルダーでは角に彫り込みがあり電子線露光マスク
の角部分が接触しない構造になっている。しかし、従来
のマスクホルダーに電子線露光マスクを装着する場合に
はマスクホルダーに電子線露光マスクを落とし込むか、
もしくは電子線露光マスクの角をピンセット等で支えて
マスクホルダーに装着するしか方法がなかった。電子線
露光マスクはシリコンウエハから切り出しているため、
上記のような方法を用いると端部が欠けたり、また著し
い場合には中央部分のパターン領域で薄膜が破壊されて
しまうなどの問題がある。
【０００６】また、電子線露光マスクをマスクホルダー
に接着材等で貼り付けた時に位置ずれがあった場合には
電子線露光マスクを剥がして再度貼り合わせるが、従来
のマスクホルダーでは貼り付けた電子線露光マスクを剥
がすのに電子線露光マスクに力を加えられる場所が角部
分に限られていた。特にマスクホルダーの角部分から電
子線露光マスクにピンセット等で力を加えると不均一な
力が加わり著しい場合には電子線露光マスクが破壊され
るという問題がある。
に接着材等で貼り付けた時に位置ずれがあった場合には
電子線露光マスクを剥がして再度貼り合わせるが、従来
のマスクホルダーでは貼り付けた電子線露光マスクを剥
がすのに電子線露光マスクに力を加えられる場所が角部
分に限られていた。特にマスクホルダーの角部分から電
子線露光マスクにピンセット等で力を加えると不均一な
力が加わり著しい場合には電子線露光マスクが破壊され
るという問題がある。
【０００７】本発明は上記の問題を解決るするために考
案されたもので、電子線露光マスクをマスクホルダーに
装着又は取り出す際の取り扱いを容易にして、電子線露
光マスクに損傷を与えない電子線露光マスクホルダを提
供する。
案されたもので、電子線露光マスクをマスクホルダーに
装着又は取り出す際の取り扱いを容易にして、電子線露
光マスクに損傷を与えない電子線露光マスクホルダを提
供する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を解決するために、請求項１においては、電子線露光マ
スクを電子線露光装置に取り付けるためのマスクホルダ
ーにおいて、装着する電子線露光マスクの外周の辺に相
対するマスクホルダー外枠の内側部分に彫り込みを設け
たことを特徴とする電子線露光マスクホルダーとしたも
のである。
を解決するために、請求項１においては、電子線露光マ
スクを電子線露光装置に取り付けるためのマスクホルダ
ーにおいて、装着する電子線露光マスクの外周の辺に相
対するマスクホルダー外枠の内側部分に彫り込みを設け
たことを特徴とする電子線露光マスクホルダーとしたも
のである。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき説
明する。図１は本発明のマスクホルダーの一実施例の斜
視図を、図２（ａ）に平面図を、図２（ｂ）に図２
（ａ）のマスクホルダーをＡ−Ａ’の位置で切断した部
分の断面図をそれぞれ示す。装着する電子線露光マスク
３０の外周の辺に相対するマスクホルダー外枠１１の内
側部分の２ヶ所に彫り込み１４を形成したものである。
電子線露光マスク３０をマスクホルダー１０に装着する
場合にはピンセット等で電子線露光マスク３０の外周側
面を保持してマスクホルダー１０の上方から装着する。
この時ピンセット等の先端部分が彫り込み１４の部分に
入るため障害になることなく装着が可能である。
明する。図１は本発明のマスクホルダーの一実施例の斜
視図を、図２（ａ）に平面図を、図２（ｂ）に図２
（ａ）のマスクホルダーをＡ−Ａ’の位置で切断した部
分の断面図をそれぞれ示す。装着する電子線露光マスク
３０の外周の辺に相対するマスクホルダー外枠１１の内
側部分の２ヶ所に彫り込み１４を形成したものである。
電子線露光マスク３０をマスクホルダー１０に装着する
場合にはピンセット等で電子線露光マスク３０の外周側
面を保持してマスクホルダー１０の上方から装着する。
この時ピンセット等の先端部分が彫り込み１４の部分に
入るため障害になることなく装着が可能である。
【００１０】図２（ｃ）にはマスクホルダー１０に電子
線露光マスク３０を装着した場合の断面図を示したもの
であり、電子線露光マスク３０の外周側面をピンセット
等で保持して装着する時にピンセット等の先端がマスク
ホルダー１０に当たらないようにするために、Ａ−Ａ’
部分ではマスクホルダーの電子線露光マスク装着部１２
面の大きさが彫り込み１４により電子線露光マスク３０
より若干小さくなっており、さらに、彫り込み１４は電
子線露光マスク装着部１２の面より深く彫られている。
線露光マスク３０を装着した場合の断面図を示したもの
であり、電子線露光マスク３０の外周側面をピンセット
等で保持して装着する時にピンセット等の先端がマスク
ホルダー１０に当たらないようにするために、Ａ−Ａ’
部分ではマスクホルダーの電子線露光マスク装着部１２
面の大きさが彫り込み１４により電子線露光マスク３０
より若干小さくなっており、さらに、彫り込み１４は電
子線露光マスク装着部１２の面より深く彫られている。
【００１１】図３はマスクホルダー２０に電子線露光マ
スク３０を装着する際に縦、横両方に対応できるように
するために彫り込み２４を４ヶ所設けた他の実施例で、
ここでは４ヶ所の彫り込みを設けたが、彫り込み２４の
設置数は特に限定されるものではない。また、電子線露
光マスク３０をホルダー２０へ装着する際に落とし込む
必要がないため、マスクホルダー２０の外枠２１の内側
と電子線露光マスク３０の外周側面との間隙は従来より
も狭くてもよい。
スク３０を装着する際に縦、横両方に対応できるように
するために彫り込み２４を４ヶ所設けた他の実施例で、
ここでは４ヶ所の彫り込みを設けたが、彫り込み２４の
設置数は特に限定されるものではない。また、電子線露
光マスク３０をホルダー２０へ装着する際に落とし込む
必要がないため、マスクホルダー２０の外枠２１の内側
と電子線露光マスク３０の外周側面との間隙は従来より
も狭くてもよい。
【００１２】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。
４インチ径の１０μｍ厚の表側シリコンと５００μｍ厚
の裏側シリコンウエハとを熱酸化シリコンにて貼り合わ
せた貼り合わせシリコンウエハを用いて、まず表側シリ
コンウエハをエッチングしてパターン領域３１を形成
し、次に、裏側シリコンウエハをＫＯＨを主成分とする
エッチング液でエッチングして支持枠部３２を形成し
て、外形１５ｍｍ角の電子線露光マスク３０を作製した
（図２（ｃ）参照）。
４インチ径の１０μｍ厚の表側シリコンと５００μｍ厚
の裏側シリコンウエハとを熱酸化シリコンにて貼り合わ
せた貼り合わせシリコンウエハを用いて、まず表側シリ
コンウエハをエッチングしてパターン領域３１を形成
し、次に、裏側シリコンウエハをＫＯＨを主成分とする
エッチング液でエッチングして支持枠部３２を形成し
て、外形１５ｍｍ角の電子線露光マスク３０を作製した
（図２（ｃ）参照）。
【００１３】次に、銅又はリン青銅等の金属材を機械加
工してマスクホルダー外枠１１、電子線露光マスク装着
部１２、彫り込み１４及び開口窓１５を有するマスクホ
ルダー１０を作製した（図２（ａ）、（ｂ）参照）。マ
スクホルダー１０の外枠１１の内側を１５．２ｍｍ角と
して、中央に電子線が通過する開口窓１５を形成した。
続いて、マスクホルダーの４隅に彫り込み１３を、マス
クホルダー外枠１１の内側の中央部分に彫り込み１４を
形成した。
工してマスクホルダー外枠１１、電子線露光マスク装着
部１２、彫り込み１４及び開口窓１５を有するマスクホ
ルダー１０を作製した（図２（ａ）、（ｂ）参照）。マ
スクホルダー１０の外枠１１の内側を１５．２ｍｍ角と
して、中央に電子線が通過する開口窓１５を形成した。
続いて、マスクホルダーの４隅に彫り込み１３を、マス
クホルダー外枠１１の内側の中央部分に彫り込み１４を
形成した。
【００１４】次に、マスクホルダー１０の電子線露光マ
スク装着部１２に導電性ペースト（藤倉化成株式会社
製）を塗布し、続いて電子線露光マスク３０の外周側面
をピンセットではさんで電子線露光マスク３０の支持枠
部３２をマスクホルダー１０の電子線露光マスク装着部
１２に貼り合わせ、電子線露光マスク３０をマスクホル
ダー１０に装着した（図２（ｃ）参照）。電子線露光マ
スク３０の外周部とマスクホルダー１０の外枠１１の内
側の間隙は約１００μｍであった。上記貼り合わせで電
子線露光マスクが破壊されることはなく、またマスクへ
傷を付けることもなかった。
スク装着部１２に導電性ペースト（藤倉化成株式会社
製）を塗布し、続いて電子線露光マスク３０の外周側面
をピンセットではさんで電子線露光マスク３０の支持枠
部３２をマスクホルダー１０の電子線露光マスク装着部
１２に貼り合わせ、電子線露光マスク３０をマスクホル
ダー１０に装着した（図２（ｃ）参照）。電子線露光マ
スク３０の外周部とマスクホルダー１０の外枠１１の内
側の間隙は約１００μｍであった。上記貼り合わせで電
子線露光マスクが破壊されることはなく、またマスクへ
傷を付けることもなかった。
【００１５】次に、上記電子線露光マスク３０が装着さ
れたマスクホルダー１０をアセトン中に浸けて超音波洗
浄しつつ電子線露光マスク３０を分離した。電子線露光
マスク３０を分離する際には本発明の彫り込み部分にピ
ンセットの先端を入れて電子線露光マスク３０の両辺を
保持しつつ力を加えたが電子線露光マスク３０が破壊さ
れる等の問題は生じなかった。
れたマスクホルダー１０をアセトン中に浸けて超音波洗
浄しつつ電子線露光マスク３０を分離した。電子線露光
マスク３０を分離する際には本発明の彫り込み部分にピ
ンセットの先端を入れて電子線露光マスク３０の両辺を
保持しつつ力を加えたが電子線露光マスク３０が破壊さ
れる等の問題は生じなかった。
【００１６】
【発明の効果】電子線露光マスクの外周の辺に相対する
マスクホルダー外枠の内側部分に彫り込みを入れること
で電子線露光マスクを破壊することなく安定してマスク
ホルダーに装着できるようになった。また、マスクホル
ダー外枠の内側と電子線露光マスク外周側面間の間隙が
より少なくてすむためマスクホルダーと電子線露光マス
クの位置合わせ精度が向上した。さらに、電子線露光マ
スク貼り合わせ位置がずれた場合に電子線露光マスクを
マスクホルダーから分離するのが容易になった。
マスクホルダー外枠の内側部分に彫り込みを入れること
で電子線露光マスクを破壊することなく安定してマスク
ホルダーに装着できるようになった。また、マスクホル
ダー外枠の内側と電子線露光マスク外周側面間の間隙が
より少なくてすむためマスクホルダーと電子線露光マス
クの位置合わせ精度が向上した。さらに、電子線露光マ
スク貼り合わせ位置がずれた場合に電子線露光マスクを
マスクホルダーから分離するのが容易になった。
【図１】本発明のマスクホルダーの一実施例を示す斜視
図である。
図である。
【図２】（ａ）は、本発明のマスクホルダーの一実施例
を示す平面図である。（ｂ）は、本発明のマスクホルダ
ーの一実施例をＡ−Ａ’で切断した部分の構成を示す断
面図である。（ｃ）は、本発明のマスクホルダーの一実
施例に電子線露光マスクを装着した場合の構成を示す断
面図である。
を示す平面図である。（ｂ）は、本発明のマスクホルダ
ーの一実施例をＡ−Ａ’で切断した部分の構成を示す断
面図である。（ｃ）は、本発明のマスクホルダーの一実
施例に電子線露光マスクを装着した場合の構成を示す断
面図である。
【図３】本発明のマスクホルダーの他の実施例を示す平
面図である。
面図である。
【図４】（ａ）は、従来のマスクホルダーを示す平面図
である。（ｂ）は、従来のマスクホルダーをＢ−Ｂ’で
切断した部分の構成を示す断面図である。（ｃ）は、従
来のマスクホルダーに電子線露光マスクを装着した場合
の構成を示す断面図である。
である。（ｂ）は、従来のマスクホルダーをＢ−Ｂ’で
切断した部分の構成を示す断面図である。（ｃ）は、従
来のマスクホルダーに電子線露光マスクを装着した場合
の構成を示す断面図である。
１０、２０、４０……マスクホルダー １１、２１、４１……マスクホルダー外枠 １２、２２、４２……電子線露光マスク装着部 １３、２３、４３……従来の彫り込み １４、２４……本発明の彫り込み １５、２５、４５……開口窓 ３０……電子線露光マスク ３１……パターン領域 ３２……支持枠部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成９年５月２６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
Claims (1)
- 【請求項１】電子線露光マスクを電子線露光装置に取り
付けるためのマスクホルダーにおいて、装着する電子線
露光マスクの外周の辺に相対するマスクホルダー外枠の
内側部分に彫り込みを設けたことを特徴とする電子線露
光マスクホルダー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13201697A JPH10319578A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 電子線露光マスクホルダー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13201697A JPH10319578A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 電子線露光マスクホルダー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10319578A true JPH10319578A (ja) | 1998-12-04 |
Family
ID=15071566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13201697A Pending JPH10319578A (ja) | 1997-05-22 | 1997-05-22 | 電子線露光マスクホルダー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10319578A (ja) |
-
1997
- 1997-05-22 JP JP13201697A patent/JPH10319578A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6465158B1 (en) | Semiconductor wafer dividing method | |
| JP3097619B2 (ja) | 電界放射冷陰極の製造方法 | |
| JPH1050584A (ja) | マスク保持装置 | |
| JP2950472B2 (ja) | 電子集積回路パッケージのメタライゼーション構造を形成する方法 | |
| JPH04152512A (ja) | ウエハチャック | |
| KR20170128546A (ko) | 펠리클의 제조 방법 및 펠리클 부착 포토마스크의 제조 방법 | |
| JPH06268112A (ja) | 半導体装置、及びその製造方法 | |
| JP3672715B2 (ja) | マスクホルダー付き転写マスク及び転写マスク用ホルダー | |
| EP0104242B1 (en) | A method and apparatus for captivating a substrate within a holder | |
| JP3751062B2 (ja) | 断面ｔｅｍ観察用試料ホルダー及びそれを備えたｔｅｍ装置 | |
| JP2863131B2 (ja) | フォトマスクブランクスの製造方法 | |
| JPH10218364A (ja) | ウエハ保持用ステージ | |
| JP4362350B2 (ja) | ステンシルマスクの製造方法 | |
| US6198109B1 (en) | Aperture apparatus used for photolithography and method of fabricating the same | |
| KR100205245B1 (ko) | 반도체제조장치의 웨이퍼클램프 | |
| JP3269391B2 (ja) | リードフレーム | |
| JP2000331917A (ja) | 電子ビーム露光マスク、および電子ビーム露光装置 | |
| JPS60229335A (ja) | 電子ビ−ム露光用基板装着装置 | |
| JP2005310855A (ja) | メンブレンマスク | |
| KR100722786B1 (ko) | 투과전자현미경 분석용 시료 제작 방법 | |
| JP2005332844A (ja) | メンブレンマスク、これを用いたパターン処理方法、およびメンブレンマスクの製造方法 | |
| JP3991721B2 (ja) | ステンシルマスク及びそのパターン転写方法 | |
| JP2001007005A (ja) | 電子ビーム描画用アパーチャ及びマスクホルダー並びにそれらを用いた電子ビーム露光マスク | |
| JPH0992610A (ja) | 荷電ビーム描画装置 | |
| JPS63293820A (ja) | Ｘ線露光用マスクの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040318 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050728 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050802 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050929 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051220 |