JPH10320761A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents
Magnetic recording medium and its productionInfo
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- JPH10320761A JPH10320761A JP12892797A JP12892797A JPH10320761A JP H10320761 A JPH10320761 A JP H10320761A JP 12892797 A JP12892797 A JP 12892797A JP 12892797 A JP12892797 A JP 12892797A JP H10320761 A JPH10320761 A JP H10320761A
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Landscapes
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
等の磁気記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しくは磁
気ディスク(以下、HDという)と磁気ヘッドとの間の
摺動耐久性を向上させた磁気記録媒体及びその製造方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium such as a magnetic disk drive, and more particularly, to improving the sliding durability between a magnetic disk (hereinafter referred to as HD) and a magnetic head. The present invention relates to a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】磁気記録の高密度化の進歩はまさに日進
月歩の勢いであり、かつて10年で10倍といわれたハ
ードディスク・ドライブ(HDD)の記録密度向上速度
が最近では10年で100倍という声も聞かれている。
HDDは俗にウィンチェスター様式と呼ばれる、HD/
磁気ヘッド間の接触摺動−ヘッド浮上−接触摺動を基本
動作とするCSS(接触起動停止)方式が主流である。
この方式はHDDの高記録密度化を一気に加速した画期
的なものではあるが、一方で深刻なトライポロジー上の
課題を持ち込む端緒にもなった。近年の記録密度の向上
は、ディスクの回転速度の増加と磁気ヘッドの浮上高さ
の提言を伴い、CSS方式における摺動耐久性/安定性
やHD表面の平滑性への要求はますます強まっている現
状である。2. Description of the Related Art The progress of high-density magnetic recording has been steadily increasing, and the speed of improving the recording density of a hard disk drive (HDD), which was once said to be 10 times in 10 years, has recently been 100 times in 10 years. Voices have also been heard.
HDD is popularly called Winchester style.
The CSS (contact start / stop) method, which basically includes contact sliding between magnetic heads, head floating, and contact sliding, is mainly used.
Although this system is a revolutionary one that has rapidly accelerated the increase in the recording density of HDDs, it has also begun to introduce serious tribological issues. The recent increase in recording density has been accompanied by an increase in disk rotation speed and a proposal for the flying height of the magnetic head, and the demands for sliding durability / stability and smoothness of the HD surface in the CSS method are increasing. It is the present situation.
【0003】磁気ヘッド/HD間の摺動耐久性を向上さ
せる鍵は、材料強度向上と潤滑性も含めた摩擦係数低下
にあるが、HDの側でいえば、従来トップコート技術の
検討〔ダイヤモンドライクカーボン(DLC)保護膜、
各種塗布潤滑剤等〕と並んでHD表面の粗面化によって
摩擦係数を低減させる努力が払われてきた。これはテク
スチャ処理と呼ばれ、接触面積の実効的低減によって摩
擦係数を下げてCSS耐久性/安定性を高めることを目
的としたものである。粗面化は基本的にはHD表面に所
定範囲の高低差を有する凹凸を形成することである。こ
のテクスチャ処理はHD製造技術の重要な要素技術とな
っている。The key to improving the sliding durability between the magnetic head and the HD lies in the improvement of the material strength and the reduction of the friction coefficient including the lubricating property. Like carbon (DLC) protective film,
Efforts have been made to reduce the coefficient of friction by roughening the HD surface along with various types of applied lubricants. This is called texturing, and is intended to reduce the coefficient of friction by effectively reducing the contact area to increase CSS durability / stability. Roughening is basically forming irregularities having a predetermined range of height difference on the HD surface. This texture processing is an important elemental technology of the HD manufacturing technology.
【0004】上記テクスチャ技術は、当然のことながら
基板材質と不可分の関係にあり、従来のNiP被覆Al
基板の場合には、研磨粉等を用いた機械的研磨によって
凹凸を形成する手法が主流であった。また、ガラス基板
等ではリソグラフィー、或いはそれと印刷技法を組み合
わせたエッチング技術等が提案され、一部では実用化さ
れている。[0004] The above-mentioned texture technique is, of course, inseparable from the material of the substrate.
In the case of a substrate, a method of forming irregularities by mechanical polishing using polishing powder or the like has been mainly used. For a glass substrate or the like, lithography or an etching technique combining the lithography and the printing technique has been proposed, and some of them have been put to practical use.
【0005】テクスチャ技術全般に言えることとして、
精密な凹凸制御と並んで工程上の効率性も必要条件であ
るが、両者はしばしば拮抗する関係にあり、特に前述の
ようなHDDの高記録密度化が驚くべき速さで進行して
いる現今の状勢下では、従来技術は所定仕様を満足しき
れないだけではなく、もはや工夫や改良の蓄積ではカバ
ーし得ない様々な問題点を露呈しつつある。例えば、機
械研磨法では既に微細加工制御の限界付近にあり、凹凸
の高低のみならず、ゾーンテクスチャリング等で重要に
なるテクスチャ領域の精密制御でも根本的な困難に遭遇
している。具体的には一定の割合で発生する所定範囲外
の高低差を示す凹凸(過研磨、バリ等)の発生や、テク
スチャ境界のぼやけ等である。また、リソグラフィ的手
法は、精密制度の点では問題ないものの、工程の複雑さ
が避けられず、それが効率面でのアキレス腱になってい
る。[0005] As can be said about texture technology in general,
Efficiency in the process is also a necessary condition along with precise unevenness control, but the two are often in opposition to each other, and in particular, as described above, the increase in the recording density of HDDs is progressing at an amazing speed. Under the circumstances, the conventional technology is not only unable to satisfy a predetermined specification, but also exposes various problems that can no longer be covered by accumulating ideas and improvements. For example, the mechanical polishing method is already near the limit of fine processing control, and fundamental difficulties are encountered not only in the level of unevenness but also in precision control of a texture area which is important in zone texturing and the like. More specifically, there are irregularities (over-polishing, burrs, etc.) that occur at a constant rate and indicate a height difference outside a predetermined range, and blurring of texture boundaries. In addition, although the lithographic method has no problem in terms of precision system, the complexity of the process is inevitable, which is the Achilles' heel in terms of efficiency.
【0006】他方、HDDの高記録容量化、高品質化は
必然的にHD製造環境の高いクリーン度達成を包含する
ものであり、各種汚染物、塵埃の高いレベルでの除去/
排除が各工程に対する至上目標となっている現状であ
る。この観点からすれば各工程が乾式であることが望ま
しく、この乾式テクスチャリングに対して大きな期待が
持たれている。On the other hand, a higher recording capacity and a higher quality of an HDD inevitably include achieving a high degree of cleanliness in an HD manufacturing environment, and removal / removal of various contaminants and dust at a high level.
At present, elimination is the ultimate goal for each process. From this point of view, it is desirable that each step is dry, and there is great expectation for this dry texturing.
【0007】レーザ光を物質加工や測定に応用する試み
はレーザの発明当初から始まったと言えるが、昨今のレ
ーザ光源の発達/開発は基本特性やハンドリング性の目
覚ましい向上をもたらし、高エネルギー加工から超微細
加工、精密測定まで利用技術の広い裾野を形成してい
る。レーザビームによって物質を成膜し、或いは物質表
面を加工するレーザアブレーション(爆蝕)ないしレー
ザエッチングは80年代から盛んに検討されている技術
であるが、これによってテクスチャを施す、所謂レーザ
テクスチャ技術が最近関心を集めている(例えばUSP
5062021、特開昭62−209788号公報、特
開平3−272018号公報、特開平7−182655
号公報、特開平8−129749号公報)。レーザテク
スチャ技術では、レーザビーム照射によりクレーター状
の突起を任意の高さ、間隔、位置に基板上で制御良く形
成することができる上、基本的に乾式工程であるという
利点がある。特開平3−272018号公報では、Qス
イッチパルス発振のNd−YAGレーザ(波長1064
nm、発振周波数12KHz)を用い、直径2.5〜1
00μmのクレータ状突起(図6参照)を間隔12.7
〜25.4μmでNiPメッキAl基板に形成してい
る。また、特開平8−129749号公報では、図7に
示す断面形状の突起を所定の面積率および高さで形成す
ることを提案している。[0007] It can be said that an attempt to apply laser light to material processing and measurement started from the beginning of the invention of the laser. However, recent development / development of laser light sources has brought about remarkable improvements in basic characteristics and handling properties, and has shifted from high energy processing to ultra-high energy processing. It forms a wide range of utilization technologies, from fine processing to precision measurement. Laser ablation (erosion) or laser etching, which forms a material by a laser beam or processes a material surface, has been actively studied since the 1980s. Recently attracted interest (eg USP
5062021, JP-A-62-209788, JP-A-3-272018, JP-A-7-182655
JP-A-8-129949). The laser texture technique has an advantage that a crater-like projection can be formed on a substrate at an arbitrary height, interval, and position with good control by laser beam irradiation, and is basically a dry process. JP-A-3-272018 discloses an Nd-YAG laser of Q-switch pulse oscillation (wavelength 1064).
nm, oscillation frequency 12 KHz) and a diameter of 2.5 to 1
Crater-like projections of 00 μm (see FIG. 6) are spaced 12.7 apart.
It is formed on a NiP-plated Al substrate with a thickness of 2525.4 μm. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-129949 proposes that protrusions having a cross-sectional shape shown in FIG. 7 be formed at a predetermined area ratio and a predetermined height.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
テクスチャ技術では突起高さ、間隔の設定を誤ると、デ
ィスク表面へのヘッド吸着、CSS特性の悪化が顕著と
なる。ヘッドと突起との間には、CSS時に摩擦が生じ
ている。この摩擦により、突起には削れが生じてしま
う。突起の削れ量は、CSS回数の増加とともに大きく
なっていき、CSS特性を悪化させる要因の一つにな
る。とりわけ、突起が大きく削れて、ヘッドが基板平滑
面(突起部以外の部分)に接触するようになると、CS
S特性は著しく悪化し、ヘッドクラッシュを起こしてし
まう。However, in the laser texture technique, if the heights and the intervals of the projections are set incorrectly, the head is attracted to the disk surface and the CSS characteristics are remarkably deteriorated. Friction occurs between the head and the projection during CSS. Due to this friction, the projections are shaved. The shaving amount of the protrusion increases with an increase in the number of CSSs, and is one of the factors that deteriorate the CSS characteristics. In particular, when the projections are greatly shaved and the head comes into contact with the smooth surface of the substrate (the portion other than the projections), CS
The S characteristic deteriorates remarkably, causing a head crash.
【0009】この突起の削れは、(A)ヘッドが突起1
個1個に及ぼす荷重と(B)摩擦係数に大きく依存す
る。 (A)ヘッドが突起1個1個に及ぼす荷重は、(ヘッド
の総合荷重)/(突起密度)であるので、突起密度が大
きくなればなるほど、小さくなるものと考えられる。一
方、(B)摩擦係数は突起密度が大きくなりすぎると増
加する傾向にある。すなわち、突起の削れ量低減のため
に単純に突起密度を大きくすると、摩擦係数が増大して
しまい、実際には突起の削れ量を低減することは困難で
ある。そこで本発明は、摩擦係数を増大させずに、突起
1個1個に負荷される最大荷重を低減することができる
突起の配置を提供し、磁気記録媒体のCSS特性の向上
を図ることを課題とする。[0009] The shaving of the projection is as follows.
It greatly depends on the load applied to each piece and (B) the coefficient of friction. (A) Since the load applied to each projection by the head is (total load of the head) / (projection density), it is considered that the higher the projection density, the smaller the load. On the other hand, (B) the coefficient of friction tends to increase when the projection density becomes too large. That is, if the projection density is simply increased in order to reduce the amount of protrusion shaving, the friction coefficient increases, and it is actually difficult to reduce the amount of protrusion shaving. Therefore, an object of the present invention is to provide an arrangement of projections capable of reducing the maximum load applied to each projection without increasing the friction coefficient, and to improve the CSS characteristics of the magnetic recording medium. And
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するため、突起の削れ要因(A)、(B)について
さらに検討した。 (A)ヘッドが突起1個1個に及ぼす荷重が最大になる
のは、基板回転数がREAD/WRITE時から減少し
ていき、ヘッドと突起が初めて接触する時である。回転
数が大きい方がヘッドの速度が速く、ヘッドの持つ運動
エネルギーが大きいためである。また、ここでヘッドと
突起が初めて接触する時、ヘッドは飛行状態にあるの
で、ヘッドの面積の小さいTrailing Edge Face(図8参
照)のみが突起と接触すると考えられる。 (B)摩擦係数において、静摩擦係数と動摩擦係数で
は、一般的に静摩擦係数の方が大きいので、この摩擦係
数が最大になるのは、ディスクが回転し始める時であ
る。また、基板回転開始時にはヘッドは静止状態にある
ので、面積の大きいAir Bearing Surface(図8参照)
全体が突起と接触していると考えられる。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present inventors have further studied the factors (A) and (B) for shaving the projections. (A) The load that the head exerts on each of the projections becomes the maximum when the substrate rotation speed decreases from the time of READ / WRITE and the head contacts the projection for the first time. This is because the higher the rotation speed, the faster the head speed and the greater the kinetic energy of the head. Also, when the head and the projection make contact for the first time, it is considered that only the Trailing Edge Face (see FIG. 8) having a small head area comes into contact with the projection because the head is in a flying state. (B) Regarding the coefficient of friction, the coefficient of static friction and the coefficient of dynamic friction are generally larger than the coefficient of static friction. Therefore, the coefficient of friction becomes maximum when the disk starts rotating. At the start of the rotation of the substrate, the head is stationary, so that the air bearing surface has a large area (see FIG. 8).
It is considered that the whole is in contact with the protrusion.
【0011】このように、要因(A)、(B)が最大と
なる現象は、回転時と回転開始時という異なる時間帯で
起きている。また、これら2つの現象では、接触してい
る突起の数が著しく異なっている。即ち、最大荷重時
は、接触する突起の数は極めて小さく、最大摩擦の時
は、接触する突起の数は極めて大きい。As described above, the phenomenon in which the factors (A) and (B) are maximized occurs in different time zones, ie, at the time of rotation and at the start of rotation. Further, in these two phenomena, the number of contacting projections is significantly different. That is, at the time of maximum load, the number of projections that contact is extremely small, and at the time of maximum friction, the number of projections that contact is extremely large.
【0012】そこで、本発明者らは最大摩擦量を増大さ
せずに、突起1個1個の最大荷重を低減する方法を見出
し、本発明に至った。つまり、最大荷重を低減するため
にはヘッドと接触する突起の数を増加させればよいが、
全体の突起密度を大きくすれば摩擦係数が増加する。し
かし、局部的に突起密度を大きくすれば、摩擦係数の増
加を伴わずに最大荷重を低減できることを新たに着想し
た。本発明はこの着想に基づくものであり、基板表面に
複数の突起が形成された磁気記録媒体において、突起が
他の部分よりも密に形成された密集部分が存在すること
を特徴とする磁気記録媒体である。Therefore, the present inventors have found a method of reducing the maximum load of each projection without increasing the maximum friction amount, and have reached the present invention. In other words, in order to reduce the maximum load, the number of protrusions that come into contact with the head may be increased,
Increasing the overall projection density increases the friction coefficient. However, the present inventors have newly conceived that if the projection density is locally increased, the maximum load can be reduced without increasing the friction coefficient. The present invention is based on this idea, and is characterized in that a magnetic recording medium having a plurality of projections formed on a substrate surface has a dense portion where projections are formed more densely than other portions. Medium.
【0013】本発明における密集部分は、円周方向に突
起が連続的に形成される場合と、半径方向に形成される
場合がある。前者の例を図1に、また後者の例を図2に
示す。図3に示すように円周方向および半径方向の両方
向に連続的に形成することもできる。また、本発明は基
本的には密集部分が形成されていることが重要であり、
図4に示すように密集部分と密集部分との間に突起が存
在していても、その効果に影響を与えない。なお、レー
ザビーム照射による突起の形態は、図6および図7に示
すものが知られているが、図1〜図4は、単純な円に模
式化して表している。また、本発明の突起は、典型的に
は図6に示される形態であるが、図7あるいは他の形態
であっても構わない。In the present invention, the dense portion may be formed such that projections are continuously formed in the circumferential direction or may be formed in the radial direction. FIG. 1 shows the former example, and FIG. 2 shows the latter example. As shown in FIG. 3, it may be formed continuously in both the circumferential direction and the radial direction. Further, in the present invention, it is basically important that a dense portion is formed,
As shown in FIG. 4, even if there is a projection between the dense portions, the effect is not affected. 6 and 7 are known as the form of the projection by the laser beam irradiation, and FIGS. 1 to 4 are schematically represented by simple circles. The projection of the present invention is typically in the form shown in FIG. 6, but may be in FIG. 7 or another form.
【0014】また、密集部分としては、2個以上10個
以下の突起が連続的に形成されたものであり、密集部分
内における突起の外端部間隔D1が0.1〜10μm、
密集部分同士の間隔D2が10〜100μmの条件で構
成することが好ましい。密集部分における突起の個数を
2個以上10個以下とするのは、1個ではヘッド荷重が
分散されないためであり、11個以上では突起密度が高
くなりすぎてしまい、ディスク表面へのヘッドの吸着が
起きてしまうおそれがあるからである。密集部分内にお
ける突起の外端部間隔D1を0.1〜10μmとするの
は、0.1μm未満では突起同士の相互干渉が起こり、
突起の形が変形してしまうおそれがあるからであり、ま
た、10μmを越えると、突起間隔が広すぎるためにヘ
ッド荷重が分散されず、突起1個1個に加わる最大荷重
の低減が不十分となる場合があるからである。間隔D1
が狭い方が1個1個に及ぼされるヘッドの最大荷重を低
減できるため、D1は0.1〜5.0μmとするのが好
ましい。In the dense portion, two or more and ten or less protrusions are continuously formed, and the outer end interval D1 of the protrusions in the dense portion is 0.1 to 10 μm.
It is preferable that the distance D2 between the dense portions is 10 to 100 μm. The reason why the number of protrusions in the dense portion is 2 or more and 10 or less is that if one is used, the head load is not dispersed, and if it is 11 or more, the protrusion density becomes too high, and the head is attracted to the disk surface. This is because there is a risk of occurrence. The reason why the distance D1 between the outer ends of the projections in the dense portion is 0.1 to 10 μm is that when the distance is less than 0.1 μm, mutual interference between the projections occurs.
This is because the shape of the projections may be deformed. When the thickness exceeds 10 μm, the head load is not dispersed because the interval between the projections is too wide, and the reduction of the maximum load applied to each projection is insufficient. This is because Interval D1
D1 is preferably set to 0.1 to 5.0 μm because the smaller the width of the head, the smaller the maximum load of the head exerted on each head.
【0015】密集部分同士の間隔D2を10〜100μ
mとするのは、10μm未満では突起密度が高くなりす
ぎてしまい、ディスク表面へのヘッドの吸着が起きやす
くなるからであり、また、100μmを越えると、突起
間隔が広すぎるため、ヘッドの飛行安定性に影響を及ぼ
してしまうからである。、ヘッドの飛行安定性を維持し
つつ、最大摩擦係数を低減する好ましい間隔D2の値
は、20〜50μmである。なお、外端部間隔D1およ
び密集部分同士の間隔D2は、図5により定義される。The distance D2 between the dense portions is 10 to 100 μm.
The reason why m is that if the diameter is less than 10 μm, the projection density becomes too high and the head is easily attracted to the disk surface. This is because the stability is affected. A preferable value of the interval D2 for reducing the maximum friction coefficient while maintaining the flying stability of the head is 20 to 50 μm. Note that the outer end interval D1 and the interval D2 between the dense portions are defined by FIG.
【0016】本発明における突起自体の大きさは、直径
1〜10μm、高さ1〜30nmであることが望まし
い。直径1μm未満では突起の強度が弱くCSS特性上
脆弱であるからであり、また10μmを越える領域では
突起がヘッドに与える衝撃が大きく、グライドノイズに
影響を与えるおそれがあるからである。また、高さ1n
m未満では、基板の表面粗さで突起が識別できなくなる
からであり、30nmを越える領域では基板が高速回転
時においても突起がヘッドに衝突してしまい、ヘッドク
ラッシュ等の原因になるためである。The size of the projection itself in the present invention is desirably 1 to 10 μm in diameter and 1 to 30 nm in height. If the diameter is less than 1 μm, the strength of the protrusion is weak and the CSS characteristics are weak. If the diameter exceeds 10 μm, the protrusion exerts a large impact on the head, which may affect glide noise. In addition, height 1n
If the diameter is less than m, the projections cannot be identified due to the surface roughness of the substrate. If the area exceeds 30 nm, the projections will collide with the head even when the substrate is rotating at high speed, causing a head crash or the like. .
【0017】また、突起間隔の平均値、つまり(D1+
D2)/2は1〜50μmとすることが好ましい。1μ
m未満では、連続する突起が重なってしまうからであ
り、50μmを越える領域では間隔が大きくなってしま
い、最大摩擦係数がCSS回数の増加とともに大きくな
ってしまうからである。逆にグライドノイズが増加して
しまうからである。より好ましい平均値は、10〜30
μmである。本発明の基板としては、典型的にはNiP
メッキが施されたAl基板が用いられるが、他の材質、
構造を有するものであっても構わない。Further, the average value of the protrusion interval, that is, (D1 +
D2) / 2 is preferably from 1 to 50 μm. 1μ
If it is less than m, the continuous projections overlap, and if it exceeds 50 μm, the interval becomes large, and the maximum friction coefficient increases with the number of CSS. Conversely, glide noise increases. A more preferable average value is 10 to 30.
μm. The substrate of the present invention is typically NiP
A plated Al substrate is used, but other materials,
It may have a structure.
【0018】本発明磁気記録媒体は、以下説明するよう
に種々の手法で製造することができる。本発明のように
突起の密集部分を間隔を隔てて形成する方法として、レ
ーザビームのパルスの繰り返し周波数を変化させる方法
がある。レーザビームのパルスの繰り返し周波数は、連
続発振レーザの場合、外部変調器により制御されてい
る。外部変調器としては電気光学効果変調器(Elec
tro−Optic−Modulator、略してEO
M)、または音響光学変調器(Acoustic−Op
tic−Modulator、略してAOM)が用いら
れる。The magnetic recording medium of the present invention can be manufactured by various methods as described below. As a method of forming dense portions of protrusions at intervals as in the present invention, there is a method of changing a repetition frequency of a pulse of a laser beam. The repetition frequency of the laser beam pulse is controlled by an external modulator in the case of a continuous wave laser. As an external modulator, an electro-optic effect modulator (Elect
tro-optic-modulator, EO for short
M) or an acousto-optic modulator (Acoustic-Op)
tic-Modulator (AOM for short) is used.
【0019】EOMは、光学結晶に電圧を印加して結晶
の屈折率が変化する電気光学効果を利用して入射した連
続発振レーザの光路を変更させることによりレーザ出力
を連続的に変化させることができる。AOMは、光学結
晶に外部より超音波を導入し、結晶の光学弾性効果を利
用して入射した連続発振レーザ光の解析角度を変化させ
ることにより直進透過するレーザ出力を連続的に変化さ
せることができる。上記何れの変調器も、外部から入力
する信号によりMHz帯域でのレーザ出力変調が可能で
あり、出力変調も任意に変更することができる。The EOM is capable of continuously changing the laser output by changing the optical path of an incident continuous wave laser by applying a voltage to an optical crystal and utilizing the electro-optic effect of changing the refractive index of the crystal. it can. The AOM is capable of continuously changing the laser output that passes straight through by introducing ultrasonic waves from the outside into the optical crystal and changing the analysis angle of the incident continuous wave laser light using the optical elasticity effect of the crystal. it can. Any of the modulators can modulate the laser output in the MHz band by a signal input from the outside, and the output modulation can be arbitrarily changed.
【0020】上記変調器に入力する外部信号の周波数を
大きくすれば、突起同士の間隔が短くなり密集部分を形
成することができる。一方、外部信号の周波数を小さく
すれば、突起同士の間隔が長くなり、密集部分同士間に
間隔を空けることができる。If the frequency of the external signal input to the modulator is increased, the interval between the protrusions becomes shorter, and a dense portion can be formed. On the other hand, if the frequency of the external signal is reduced, the distance between the protrusions becomes longer, and the distance between the dense portions can be increased.
【0021】基板を等周速で回転させながら、外部入力
する信号に周波数変調をかけることにより、2個以上1
0個以下の突起が連続的に形成した密集部分を有し、こ
の密集分内における突起の外端部間隔D1が0.1〜1
0μm、密集部分同士の間隔D2が10〜100μmの
磁気記録媒体を製造することができる。さらに、パルス
幅、パルス強度を一定にすれば、基板表面上に形成され
る突起の高さを一定とすることができる。周波数変調
は、高周波領域と低周波領域の2階段とすればよいが、
高周波領域と低周波領域の周波数は必ずしも一定である
必要はなく、高周波領域及び低周波領域で周波数が変化
してもよい。基板を等回転で回転する場合も、上記と同
様に本発明磁気記録媒体を製造することができる。While rotating the substrate at a constant peripheral speed, frequency modulation is applied to an externally input signal, whereby two or more
Zero or less projections have a densely formed portion formed continuously, and the outer end interval D1 of the projections in this densely spaced portion is 0.1 to 1
A magnetic recording medium having a thickness of 0 μm and a distance D2 between dense portions of 10 to 100 μm can be manufactured. Furthermore, if the pulse width and the pulse intensity are kept constant, the height of the protrusion formed on the substrate surface can be kept constant. Frequency modulation may be performed in two steps, a high frequency area and a low frequency area.
The frequencies in the high frequency region and the low frequency region do not necessarily have to be constant, and the frequency may change in the high frequency region and the low frequency region. Even when the substrate is rotated at a constant rotation, the magnetic recording medium of the present invention can be manufactured in the same manner as described above.
【0022】パルスレーザは、EOMまたはAOMが本
体に内蔵されて変調を行っているので、レーザ本体から
のパルス制御信号に変えて、外部から信号を入力するこ
とにより、上記と同様に本発明磁気記録媒体を製造する
ことができる。Since the pulse laser has a built-in EOM or AOM for modulation, a pulse control signal from the laser main body is used instead of a pulse control signal, and a signal is input from the outside. A recording medium can be manufactured.
【0023】レーザビームを連続的に反射角度が変更さ
れるミラーを通した上で照射させる光学系において、ミ
ラーの反射角度を制御することにより、加工位置を制御
することができる。この特性を用い、ミラーの反射角度
を制御しても、本発明磁気記録媒体を製造することがで
きる。In an optical system for continuously irradiating a laser beam after passing through a mirror whose reflection angle is changed, the processing position can be controlled by controlling the reflection angle of the mirror. Even if the reflection angle of the mirror is controlled using this characteristic, the magnetic recording medium of the present invention can be manufactured.
【0024】また、突起が他の部分よりも密に形成され
た密集部分が存在するように構成されたマスクを作成
し、レーザービームをこのマスクを通過させることによ
っても本発明磁気記録媒体を製造することができる。Also, a magnetic recording medium of the present invention can be manufactured by preparing a mask having a dense portion where protrusions are formed more densely than other portions, and passing a laser beam through the mask. can do.
【0025】[0025]
[実施例1〜10、比較例1〜4]連続発振レーザ光源
に、出力5Wの半導体レーザ励起の連続発振 YAGレ
ーザ(2倍波モード、波長532nm、出力5W)を用
い、レーザ光外部変調器にはEOM(立ち上がり15n
s、最大変換効率85%、レーザ最大最小比Imax/
Imin=80)を用いた。EOMに外部信号入力装置
として波形発生器を接続した。EOMへの入力波形は、
パルス波型とし、クレーター状突起の高さ18nmを得
る場合にはパルス幅を150ns、高さ14nmを得る
場合にはパルス幅を120nsとした。パルス波の繰り
返し周波数は波形発生装置の周波数変調機能を用い、表
1に示すように実施例1〜10では高周波、低周波の2
つの周波数を用い、比較例1〜4では周波数変調を行わ
ずに400または200Hzのいずれかの周波数のみとし
た。また、レーザビームのスポット径は5μmとし、直
径95mmのNiPメッキAl基板を表1に示す周速で
等速回転させ、かつレーザービームを半径方向に1mm
/sで移動させつつレーザビーム照射を行った。[Examples 1 to 10, Comparative Examples 1 to 4] A laser light external modulator using a continuous oscillation YAG laser (double harmonic mode, wavelength 532 nm, output 5 W) of a semiconductor laser excited by a 5 W output as a continuous oscillation laser light source Has EOM (15n rise)
s, maximum conversion efficiency 85%, laser maximum / minimum ratio Imax /
Imin = 80). A waveform generator was connected to the EOM as an external signal input device. The input waveform to EOM is
The pulse width was used, and the pulse width was 150 ns when obtaining a crater-like projection height of 18 nm, and the pulse width was 120 ns when obtaining a height of 14 nm. The repetition frequency of the pulse wave uses the frequency modulation function of the waveform generator.
In Comparative Examples 1 to 4, only one frequency of 400 or 200 Hz was used without performing frequency modulation. The spot diameter of the laser beam was 5 μm, the NiP-plated Al substrate having a diameter of 95 mm was rotated at a constant speed at the peripheral speed shown in Table 1, and the laser beam was rotated 1 mm in the radial direction.
The laser beam irradiation was performed while moving at / s.
【0026】実施例1〜5においては、密集部分は円周
方向に連続する2個の突起により構成されており、ま
た、実施例6においては密集部分は円周方向に連続する
4個の突起により構成されている。また、実施例7にお
いては、密集部分は2個の突起により構成されている
が、このうちの一方の突起の高さは18nm、もう一方
の突起の高さは14nmである。また、実施例8〜10
は、密集部分は円周方向に連続する2個の突起により構
成されている。以上のレーザービーム照射により形成さ
れた突起の間隔D1、D2、およびその平均((D1+
D2)/2)を表1に併せて示す。比較例1〜4は、突
起が等間隔で形成されている。In the first to fifth embodiments, the dense portion is formed by two circumferentially continuous projections, and in the sixth embodiment, the dense portion is formed by four circumferentially continuous protrusions. It consists of. In the seventh embodiment, the dense portion is composed of two protrusions, one of which has a height of 18 nm and the other has a height of 14 nm. Examples 8 to 10
The dense portion is constituted by two projections that are continuous in the circumferential direction. The intervals D1 and D2 of the projections formed by the above laser beam irradiation, and the average thereof ((D1 +
D2) / 2) are also shown in Table 1. In Comparative Examples 1 to 4, the protrusions are formed at regular intervals.
【0027】[0027]
【表1】 [Table 1]
【0028】前記実施例1〜10、比較例1〜4により
得られた基板に、引き続き、基板温度200℃にて下地
層としてCr100nm、磁性層としてCoCrTa合
金20nm、保護膜としてカーボン20nmを逐次スパ
ッタ成膜し、さらにPFPE(パーフルオロポリエーテ
ル)系潤滑剤を塗布成膜して磁気記録媒体を作成した。The substrates obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 were successively sputtered at a substrate temperature of 200 ° C. by successively sputtering 100 nm of Cr as an underlayer, 20 nm of a CoCrTa alloy as a magnetic layer, and 20 nm of carbon as a protective film. A magnetic recording medium was formed by forming a film and further applying a PFPE (perfluoropolyether) -based lubricant to form a film.
【0029】得られた磁気記録媒体について、CSS1
0000回後の突起の削れ量の測定、およびCSS特性
の評価を行った。それぞれの結果を表2、表3に示す。
なお、突起の削れ量は、CSS時にAir Bearing Surfac
e の下にあった突起の中で最も削れている突起の高さを
測定し、それ以外の部分の突起高さとの差によって求め
た。With respect to the obtained magnetic recording medium, CSS1
The amount of shaving of the protrusion after 0000 times was measured, and the CSS characteristics were evaluated. Tables 2 and 3 show the results.
In addition, the amount of shaving of the protrusion was determined by Air Bearing Surfac
The height of the shaved protrusions among the protrusions below e was measured, and the difference between the height of the protrusions and the height of other protrusions was obtained.
【0030】[0030]
【表2】 [Table 2]
【0031】[0031]
【表3】 [Table 3]
【0032】表2に示すように、本発明の実施例1〜1
0の磁気記録媒体は、突起の削れ量が減少していること
が確認された。特に、実施例1〜6の削れ量の減少は著
しい。また、表3に示すように、本発明の実施例1〜1
0の磁気記録媒体は、CSS特性の改善も達成されたこ
とが確認された。As shown in Table 2, Examples 1 to 1 of the present invention
In the magnetic recording medium of No. 0, it was confirmed that the shaving amount of the protrusion was reduced. In particular, the reduction of the shaving amount in Examples 1 to 6 is remarkable. Further, as shown in Table 3, Examples 1 to 1 of the present invention
It was confirmed that the magnetic recording medium of No. 0 also achieved an improvement in CSS characteristics.
【0033】以上本発明を実施例に基づいて説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に記載の構成を変更しない限りどのように
でも実施することができる。例えば、基板の上に成膜す
る各層、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑剤等は、特にそ
の材質や組成、成膜方法等を限定するものではなく、公
知の材料、公知の方法を適宜に選定、組み合わせて使用
することができる。Although the present invention has been described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented in any manner unless the configuration described in the claims is changed. it can. For example, the layers formed on the substrate, the underlying film, the magnetic film, the protective film, the lubricant, and the like are not particularly limited in terms of the material, composition, film forming method, and the like, and may be formed using a known material or a known method. They can be appropriately selected and combined for use.
【0034】[0034]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ヘッドと基板との間の摩擦係数を増加させずに、突起1
個1個に負荷される最大荷重量を低減させることができ
る。このことにより、突起の削れが低減し、CSS特性
の劣化、ヘッドクラッシュ等を防ぐことができる。As described above, according to the present invention,
Without increasing the coefficient of friction between the head and the substrate,
The maximum load applied to each piece can be reduced. As a result, shaving of the projections is reduced, and deterioration of CSS characteristics, head crash, and the like can be prevented.
【図1】 本発明の1実施の形態を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の1実施の形態を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing one embodiment of the present invention.
【図3】 本発明の1実施の形態を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing one embodiment of the present invention.
【図4】 本発明の1実施の形態を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing one embodiment of the present invention.
【図5】 本発明における突起同士の間隔を説明する図
である。FIG. 5 is a diagram for explaining the interval between protrusions in the present invention.
【図6】 レーザービーム照射によるクレーター状突起
を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a crater-like projection formed by laser beam irradiation.
【図7】 レーザービーム照射による突起の1形態を示
す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing one form of a projection by laser beam irradiation.
【図8】 ヘッドを概略的に示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view schematically showing a head.
Claims (7)
記録媒体において、突起が他の部分よりも密に形成され
た密集部分が存在することを特徴とする磁気記録媒体。1. A magnetic recording medium having a plurality of protrusions formed on a substrate surface, wherein a dense portion in which protrusions are formed more densely than other portions is present.
形成された請求項1に記載の磁気記録媒体。2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the dense portion has projections formed continuously in a circumferential direction.
形成された請求項1に記載の磁気記録媒体。3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the dense portion has projections formed continuously in a radial direction.
れたクレーター状の突起である請求項1〜3のいずれか
に記載の磁気記録媒体。4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the projection is a crater-shaped projection formed by laser beam irradiation.
が連続的に形成されたものであり、密集部分における突
起の外端部間隔D1が0.1〜10μm、密集部分同士
の間隔D2が10〜100μmである請求項1〜4のい
ずれかに記載の磁気記録媒体。5. The dense portion is one in which two or more and ten or less protrusions are continuously formed, the outer end interval D1 of the protrusion in the dense portion is 0.1 to 10 μm, and the interval between the dense portions is The magnetic recording medium according to claim 1, wherein D2 is 10 to 100 μm.
2が20〜50μmである請求項5に記載の磁気記録媒
体。6. The distance D1 is 0.1 to 5.0 μm, and the distance D
The magnetic recording medium according to claim 5, wherein 2 is 20 to 50 µm.
起を形成する磁気記録媒体の製造方法において、パルス
の繰り返し周波数が異なるレーザービームを交互に照射
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。7. A method of manufacturing a magnetic recording medium in which projections are formed by irradiating a laser beam to a substrate surface, wherein laser beams having different pulse repetition frequencies are alternately irradiated. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12892797A JPH10320761A (en) | 1997-05-19 | 1997-05-19 | Magnetic recording medium and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12892797A JPH10320761A (en) | 1997-05-19 | 1997-05-19 | Magnetic recording medium and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10320761A true JPH10320761A (en) | 1998-12-04 |
Family
ID=14996842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12892797A Withdrawn JPH10320761A (en) | 1997-05-19 | 1997-05-19 | Magnetic recording medium and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10320761A (en) |
-
1997
- 1997-05-19 JP JP12892797A patent/JPH10320761A/en not_active Withdrawn
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