JPH10321920A - 熱電変換装置 - Google Patents

熱電変換装置

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JPH10321920A
JPH10321920A JP9127167A JP12716797A JPH10321920A JP H10321920 A JPH10321920 A JP H10321920A JP 9127167 A JP9127167 A JP 9127167A JP 12716797 A JP12716797 A JP 12716797A JP H10321920 A JPH10321920 A JP H10321920A
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Mitsutoshi Ogasawara
光敏 小笠原
Hideo Watanabe
日出男 渡辺
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ECO TOUENTEIIONE KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体層と電極の熱膨張係数の違いを吸収
し、接合強度を保持することができる熱電変換装置を提
供する。 【解決手段】 少なくとも多数の半導体層35、36
と、各半導体層35、36を電気的に接続するための多
数の電極34、37とを有する熱電変換装置において、
電極34、37が、両端部付近に半導体接合領域40を
有し、その半導体接合領域40の間に、電極34、37
の一方の側端縁から他方の側端縁に向けて延びた第1の
切欠部50aと、電極34、37の他方の側端縁から一
方の側端縁に向けて延びかつ第1の切欠部50aよりず
れた位置に形成された第2の切欠部50bとを設け、そ
の第1の切欠部50aと第2の切欠部50bの間に幅狭
の通電部51が形成されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子冷却装置ある
いは発電装置などとして用いる熱電変換装置に係り、特
に熱サイクルを繰り返しても性能劣化が少ない、動作信
頼性に優れ、耐用寿命の長い熱電変換装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図9は、従来の熱変換装置の断面図であ
る。図中、符号100はセラミック製の吸熱側基板、1
01は同じくセラミック製の放熱側基板、102は銅製
の吸熱側電極、103は同じく銅製の放熱側電極、10
4はN型半導体層、105はP型半導体層である。
【0003】図に示すように、N型半導体層104並び
にP型半導体層105が半田層(図示せず)を介して吸
熱側電極102並びに放熱側電極103と一体に接合さ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体層と
電極は熱膨張係数が大きく異なるため、使用を繰り返し
ているうちに、熱膨張係数の差により、接合面の水平方
向(図11の両矢印A方向)にずれ(応力)を生じ、接
合強度(密着性)が低下し、甚だしいときには接合の一
部が剥がれることがある。このように半導体層と電極の
接合部の一部が剥がれると、接合部の熱抵抗が高くな
り、熱電変換特性が極端に低下するという問題がある。
【0005】本発明は、上記従来技術の欠点を解消し、
半導体層と電極の熱膨張係数の違いを吸収し、接合強度
を常に保持することにより、熱サイクルを繰り返しても
性能劣化が少ない、動作信頼性に優れ、耐用寿命の長い
熱電変換装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、多数の半導体層と、各半導体層を電気的
に接続するための多数の電極とを有し、前記半導体層の
少なくとも一方がスケルトンタイプの熱電変換装置にお
いて、前記多数の電極のうちの少なくとも一部が、両端
部付近に半導体接合領域を有し、その半導体接合領域の
間に、電極の一方の側端縁から他方の側端縁に向けて延
びた第1の切欠部と、電極の他方の側端縁から一方の側
端縁に向けて延びかつ前記第1の切欠部よりずれた位置
に形成された第2の切欠部とを設け、その第1の切欠部
と第2の切欠部の間に幅狭の通電部が形成されているこ
とを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図とと
もに説明する。図1ないし図4は第1の実施の形態を説
明するための図で、図1は例えば電子冷蔵庫などの電子
冷却装置として用いる熱電変換装置の断面図、図2はそ
の熱電変換装置に使用される第1放熱側枠体の底面図、
図3はリード線の取り出し構造を示す一部拡大断面図、
図4は素子ブロックの要部拡大断面図である。
【0008】図1に示すように熱電変換装置は、例えば
冷蔵庫の庫内などの被冷却側に配置される箱状の吸熱部
材1と、吸熱側熱交換基体2と、熱電変換素子群3と、
放熱側熱交換基体4と、第1放熱側枠体6−1と、第2
放熱側枠体6−2と、分散部材7とから主に構成されて
いる。
【0009】前記吸熱部材1は広い面積を有するフィン
ベースからなり多数の吸熱フィン(図示せず)を付設
し、必要に応じて近傍にファンを設けることができる。
吸熱部材1は吸熱フィンと一体でもよいし、また吸熱フ
ィンがない場合もある。
【0010】前記吸熱側熱交換基体2と放熱側熱交換基
体4は共にアルミニウムなどの熱伝導性の良好な金属か
らなり、熱電変換素子群3と接する側の表面にアルマイ
トなどの電気絶縁膜33(図4参照)が形成されてい
る。陽極酸化法によりアルマイトの絶縁膜33を形成す
る場合、その絶縁膜33に封孔処理しない方が、後述す
る薄膜38を介しての熱電変換素子群3との接合性が良
好である。絶縁膜33は、この他に溶射などで形成する
ことも可能である。図1に示すように吸熱側熱交換基体
2は、良好な冷却状態を確保するため肉厚のブロック体
から構成されている。
【0011】前記熱電変換素子群3は、図4に示すよう
に吸熱側電極34と、放熱側電極37と、両電極34,
37間に多数配置されたP型半導体層35とN型半導体
層36とから主に構成されている。P型半導体層35と
N型半導体層36は構造的ならびに熱的に並列に配置さ
れているが、電気的には前記電極34,37を介して直
列に接続されている。
【0012】前記第1吸熱側枠体6−1は図1に示され
ているように、放熱側熱交換基体4から吸熱側熱交換基
体2側にかけて配置されている。そして上方ならびに下
方が開口した中空状のもので、基端部6−1aとその基
端部6−1aの内周部から下方に向けて延びた延設部6
−1bとを有し断面形状がほぼ階段状をしている。基端
部6−1aは、例えば接着剤あるいはOリングと接着剤
の併用などにより放熱側熱交換基体4の下面周辺部に液
密に接合されている。
【0013】前述のように吸熱側熱交換基体2は肉厚の
ブロック体からなり、従ってその外周部は吸熱側熱交換
基体2−熱電変換素子群3−放熱側熱交換基体4の積層
方向にほぼ沿って延びた延設部2aを構成している。こ
の吸熱側熱交換基体2の延設部2aと第1吸熱側枠体6
−1の延設部6−1bはほぼ平行に対向しており、両者
の間に注入された接着剤14により吸熱側熱交換基体2
と第1吸熱側枠体6−1が一体に接合されている。接着
剤14としては、エポキシ系やアクリル系のような硬化
型接着剤、あるいはホットメルト系のような融着型接着
剤などが適用可能である。
【0014】前記延設部2aと延設部6−1bの間には
複数本の位置決めピン26が挿通されて、接着剤14が
完全に硬化する前の吸熱側熱交換基体2と第1吸熱側枠
体6−1との相対的に位置ずれを防止している。図2に
示されている6−1dが、延設部6−1bに形成された
ピン挿通孔である。
【0015】延設部6−1bの外側には、基端部6−1
a側に延びた補強リブ6−1cが一体に複数個(本実施
の形態では4個)設けられている。図1に示されている
ように第1吸熱側枠体6−1は吸熱側熱交換基体2と放
熱側熱交換基体4を跨ぐように配置されているため、第
1吸熱側枠体6−1を伝わっての熱の戻りがある。この
熱の戻りを可及的に少なくするため、第1吸熱側枠体6
−1は比較的肉薄に成形する方がよいが、肉薄成形だと
第1吸熱側枠体6−1の機械的強度が低下する。そのた
めに本実施の形態では、基端部6−1aと延設部6−1
bの間に複数個の補強リブ6−1cを設けて第1吸熱側
枠体6−1の剛直性を維持している。
【0016】また、基端部6−1aと延設部6−1bの
間を階段状、すなわち非直線状にすることにより、第1
吸熱側枠体6−1の吸熱側熱交換基体2から放熱側熱交
換基体4までの沿面距離を長く確保して、第1吸熱側枠
体6−1を伝わっての熱の戻りを少くしている。
【0017】図2ならびに図3に示すように、基端部6
−1aの所定位置にはリード線取出溝6−1eが形成さ
れて、熱電変換素子群3の電極34に接続されたリード
線19がこの取出溝6−1eから引き出され、取出溝6
−1eとリード線19の間はシール剤27で気液密にシ
ールされている。
【0018】前記第2放熱側枠体6−2は放熱側熱交換
基体4の上側に配置され、上方がほぼ塞がれ下方が開口
した中空状のもので、下方開口部がOリング8を介して
放熱側熱交換基体4の上面周辺部に液密に接着されてい
る。第2放熱側枠体6−2のほぼ中央部に給水管部9
が、周縁近くに排水管部10が設けられている。
【0019】分散部材7は周壁7aと、周壁7aの下端
に連設した底壁7bと、底壁7bから放熱側熱交換基体
4側に延びた多数本のノズル部7eとが設けられ、前記
ノズル部7eに分散孔7dが形成されている。
【0020】分散部材7を第2放熱側枠体6−2内に固
定することにより、分散部材7の給水管部9側に扁平状
の第1空間11が形成され、分散部材7の放熱側熱交換
基体4側に扁平状の第2空間13が形成されるととも
に、この第2空間13と排水管部10を連通する排水路
12が形成される。
【0021】図1に示すように熱移動媒体である水15
を中央の給水管部9から供給すると第1空間部11で一
斉に拡がり、各ノズル部7e(分散孔7d)から放熱側
熱交換基体4の上面に向けて勢いよく噴射する。放熱側
熱交換基体4に衝突して放熱側熱交換基体4の熱を奪っ
た水15は隙間の狭い第2空間部13で拡散し、排水路
12を経て排水管部10から系外へ排出される。排出さ
れた水15は図示しないラジェタ−または自然放冷で冷
却され、強制循環系統を通り再利用される。
【0022】図1に示した28は断熱材で、第1放熱側
枠体6−1、放熱側熱交換基体4ならびに第2放熱側枠
体6−2の外周部を覆うように設置されている。
【0023】この実施の形態においては、第1放熱側枠
体6−1と第2放熱側枠体6−2を別体としたが、第1
放熱側枠体6−1と第2放熱側枠体6−2を一体に形成
したり、あるいは放熱側熱交換基体4と第2放熱側枠体
6−2を一体に形成することも可能である。
【0024】図4は、熱交換素子群3の要部拡大断面図
である。同図に示すように、吸熱側熱交換基体2の上に
電気絶縁膜33が形成され、その上に薄膜38を介して
または介さずして吸熱側電極34が接合される。さらに
この吸熱側電極34の上にP型半導体層35ならびにN
型半導体層36が接合され、その上に放熱側電極37が
接合される。
【0025】この放熱側電極37の両側にはP型半導体
層35ならびにN型半導体層36と接合する半導体接合
領域40、40を有し、この領域40、40の間には電
極37の一方の側端縁37aから他方の側端縁37bに
向けて延びた1本の切込み溝状の第1の切欠部50a
と、反対に電極37の他方の側端縁37bから一方の側
端縁37aに向けて延びかつ前記第1の切欠部50aよ
りずれた位置に形成された1本の切込み溝状の第2の切
欠部50bが平行に設けられている。そしてこの第1の
切欠部50aと第2の切欠部50bの間に幅狭の通電部
51が形成されて、吸熱側電極37の平面形状がほぼS
字状をしている。
【0026】これら半導体接合領域40,40、切欠部
50a,50bならびに通電部51は、電極37の中心
Oを中心にして左右対称位置に設けられている。そして
電極の37一方の側端縁37aから他方の側端縁37b
までま幅をL1、前記第1の切欠部50aならびに第2
の切欠部50bの長さをL2とした場合、L1<L2の
関係にあり、第1の切欠部50aと第2の切欠部50b
は中心O付近においてオーバーラップしている。
【0027】このように領域40、40の間に互いに若
干位置をずらせて対向するように第1の切欠部50aと
第2の切欠部50bを設けてS字状にすることにより、
同図に矢印で示す水平方向の応力を効率よく吸収するこ
とができる。
【0028】図5は、本発明の第2の実施の形態を示す
図である。この実施の形態で前記第1の実施の形態と相
違する点は、電極37の両側にZ字状あるいはU字状
(本実施の形態ではZ字状)に折り曲げた折曲部39を
形成した点である。このような形状にすれば、熱サイク
ルの繰り返しによる垂直方向ならびに水平方向の両方の
応力を有効に吸収して、熱電変換素子群3へのダメージ
を極力回避することができる。
【0029】なお、前記実施の形態では、放熱側電極3
7に第1、第2の切欠部50a、50bを形成したが、
吸熱側電極34にも同様に第1、第2の切欠部50a、
50bを形成することもできる。
【0030】前記実施の形態では電子冷却装置の場合に
ついて説明したが、本発明は発電装置にも適用可能であ
る。図6ないし図9は本発明の第3の実施の形態を説明
するための図であり、図6は発電装置の分解断面図、図
7はその発電装置に用いる素子ブロックの断面図、図8
はその素子ブロックに用いるバリア金属層の断面図、図
9はその発電装置に用いる電極の平面図である。
【0031】図6において符号60は銅からなる高温側
熱導体で、下面に窒化アルミニウムからなる電気絶縁層
61が形成されている。62は図7に示すようにπ型を
したスケルトンタイプの素子ブロックで、ニッケルメッ
キした銅板からなる高温側電極63と、半田層64a
と、ニッケルや鉄などの表面処理膜を形成したバリア金
属層65aと、Pb−TeからなるP型半導体層66な
らびにN型半導体層62と、ニッケルや鉄などの表面処
理膜を形成したバリア金属層65bとから構成されてい
る。この素子ブロック62を構成する各部材は一体に焼
結されたものである。
【0032】バリア金属層65は図8に示すように、導
体層66(67)と接する側に周壁突部68と中央突部
69が設けられ、導体層66(67)との接合強度を高
めている。なお、前記中央突部69は必ずしも必要では
ない。
【0033】前記バリア金属層65bと低温側電極70
は、半田層64bによって接合される。71はシリコー
ンゲルからなる薄膜、72はアルミニウムからなる低温
側熱導体で、上面にアルマイトからなる電気絶縁層73
が形成されている。74は薄膜71を介して低温側熱導
体と接合した水冷ベローズで、内側には冷却水75が循
環するシステムになっている。なお、前記電極63とバ
リア金属層65a、ならびにバリア金属層65bと低温
側電極70が金属間結合する場合、半田層64a,64
bは必ずしも必要ではない。
【0034】図9に示すように電極63(70)の両側
にはP型半導体層66ならびにN型半導体層67と接合
する半導体接合領域76、76が設けられ、この領域7
6、76の間には電極63(70)の一方の側端縁63
a(70a)から他方の側端縁63b(70b)に向け
て延びた1本の切込み溝状の第1の切欠部77aと、電
極63(70)の他方の側端縁63b(70b)から一
方の側端縁63a(70a)に向けて延びかつ前記第1
の切欠部77aよりずれた位置に形成された1本の切込
み溝状の第2の切欠部77bが平行に設けられている。
そしてこの第1の切欠部77aと第2の切欠部77bの
間に幅狭の通電部78が形成されて、電極63(70)
の平面形状がほぼS字状をしている。
【0035】これら半導体接合領域76,76、切欠部
77a,77bならびに通電部78は、電極63(7
0)の中心Oを中心にして左右対称位置に設けられてい
る。
【0036】図10は、本発明の第4の実施の形態を示
す図である。この実施の形態で前記実施の形態と相違す
る点は、切欠部77aを間にしてその両側に切欠部77
bが形成されている点である。この例の場合も半導体接
合領域76,76、切欠部77a,77bならびに通電
部78は、電極63(70)の中心Oを中心にして左右
対称位置に設けられている。
【0037】図9ならびに図10においても、L1<L
2の関係にあり、第1の切欠部77aと第2の切欠部7
7bは中心O付近においてオーバーラップしている。
【0038】
【発明の効果】図12は、本発明の実施の形態に係る熱
電変換装置と従来の熱電変換装置の40℃/90℃の温
度サイクル加速試験におけるサイクル数と素子の抵抗変
化率との関係を示す特性図で、図中の曲線Iは本発明の
実施の形態に係る熱電変換装置の特性曲線、曲線IIは従
来の熱電変換装置の特性曲線である。
【0039】この図から明らかなように、従来の熱電変
換装置は温度サイクルの繰り返しに伴い、半導体層と電
極の接合部の抵抗変化率が極端に高くなっている。これ
に対して本発明の熱電変換装置は、電極の形状により半
導体層と電極の熱膨張係数の違いを有効に吸収するか
ら、抵抗変化率が少なく、性能的に安定している。
【0040】前述のように本発明は、電極が両端部付近
に半導体接合領域を有し、その半導体接合領域の間に、
電極の一方の側端縁から他方の側端縁に向けて延びた第
1の切欠部と、電極の他方の側端縁から一方の側端縁に
向けて延びかつ前記第1の切欠部よりずれた位置に形成
された第2の切欠部とを設け、その第1の切欠部と第2
の切欠部の間に幅狭の通電部が形成されている。
【0041】そのため、半導体層と電極の熱膨張係数の
違いを有効に吸収し、接合強度を保持することにより、
熱サイクルを繰り返しても性能劣化が少ない、動作信頼
性に優れ、耐用寿命の長い熱電変換装置を提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る熱電変換装置
の断面図である。
【図2】その熱電変換装置に使用する第1放熱側枠体の
底面図である。
【図3】その熱電変換装置におけるリード線の取り出し
構造を説明するための一部拡大断面図である。
【図4】その熱電変換装置における素子ブロックの要部
斜視図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態に係る熱電変換装置
に使用する電極の斜視図である。
【図6】本発明の第3の実施の形態に係る熱電変換装置
の分解断面図である。
【図7】その熱電変換装置の素子ブロックの断面図であ
る。
【図8】その素子ブロックに用いるバリア金属層の平面
図である。
【図9】その熱電変換装置に用いる電極の平面図であ
る。
【図10】本発明の第4の実施の形態に係る熱電変換装
置に用いる電極の平面図である。
【図11】従来の熱電変換装置の断面図である。
【図12】本発明の実施の形態に係る熱電変換装置と従
来の熱電変換装置の温度サイクルの繰り返しに伴う抵抗
変化率の特性図である。
【符号の説明】
1 吸熱部材 2 吸熱側熱交換基体 3 熱電変換素子群 4 放熱側熱交換基体 34 吸熱側電極 35 P型半導体層 36 N型半導体層 37 吸熱側電極 37a 一方の側端縁 37b 他方の側端縁 40 半導体接合領域 50a 第1の切欠部 50b 第2の切欠部 51 通電部 60 高温側熱導体 62 素子ブロック 63 高温側電極 63a(70a) 一方の側端縁 63b(70b) 他方の側端縁 66 P型半導体層 67 N型半導体層 70 低温側電極 76 半導体接合領域 77a 第1の切欠部 77b 第2の切欠部 78 通電部 O 電極の中心 L1 電極の幅 L2 第1ならびに第2の切欠部の長さ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多数の半導体層と、各半導体層を電気的
    に接続するための多数の電極とを有し、前記半導体層の
    少なくとも一方がスケルトンタイプの熱電変換装置にお
    いて、 前記多数の電極のうちの少なくとも一部が、両端部付近
    に半導体接合領域を有し、その半導体接合領域の間に、
    電極の一方の側端縁から他方の側端縁に向けて延びた第
    1の切欠部と、電極の他方の側端縁から一方の側端縁に
    向けて延びかつ前記第1の切欠部よりずれた位置に形成
    された第2の切欠部とを設け、 その第1の切欠部と第2の切欠部の間に幅狭の通電部が
    形成されていることを特徴とする熱電変換装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載において、前記半導体接合
    領域、切欠部ならびに通電部がそれぞれ電極の中心から
    左右対称位置に設けられていることを特徴とする熱電変
    換装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載において、前記半
    導体接合領域と切欠部と通電部により電極の平面形状が
    ほぼS字状になっていることを特徴とする熱電変換装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3記載のいずれかにおい
    て、前記電極の一方の側端縁から他方の側端縁までま幅
    をL1、前記第1の切欠部ならびに第2の切欠部の長さ
    をL2とした場合、L1<L2の関係にあることを特徴
    とする熱電変換装置。
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