JPH10322044A - 気密パッケージ - Google Patents
気密パッケージInfo
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- JPH10322044A JPH10322044A JP10129975A JP12997598A JPH10322044A JP H10322044 A JPH10322044 A JP H10322044A JP 10129975 A JP10129975 A JP 10129975A JP 12997598 A JP12997598 A JP 12997598A JP H10322044 A JPH10322044 A JP H10322044A
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- JP
- Japan
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- layer
- package
- hydrogen
- lid
- package according
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W76/00—Containers; Fillings or auxiliary members therefor; Seals
- H10W76/40—Fillings or auxiliary members in containers, e.g. centering rings
- H10W76/42—Fillings
- H10W76/48—Fillings including materials for absorbing or reacting with moisture or other undesired substances
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/02208—Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
- H01S5/02216—Butterfly-type, i.e. with electrode pins extending horizontally from the housings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
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-
- H—ELECTRICITY
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- H01S5/00—Semiconductor lasers
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- H01S5/022—Mountings; Housings
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- H01S5/02325—Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
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- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Casings For Electric Apparatus (AREA)
- Packages (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 密閉パッケージの内部からの水素を低減・除
去するようなパッケージ構造体を提供すること。 【解決手段】 密閉パッケージの内部(蓋19)に搭載
される本発明の水素除去部材31は、第1層33と第1
層33の上に形成された第2層32とを有する。この第
1層33が水素化物を形成し、第2層32は貴金属製で
水素溶融化合物を形成して表面酸化物の形成を阻止し
て、パッケージ周囲から第1層33へのみ水素が移動す
るような一方向バルブとして機能する。
去するようなパッケージ構造体を提供すること。 【解決手段】 密閉パッケージの内部(蓋19)に搭載
される本発明の水素除去部材31は、第1層33と第1
層33の上に形成された第2層32とを有する。この第
1層33が水素化物を形成し、第2層32は貴金属製で
水素溶融化合物を形成して表面酸化物の形成を阻止し
て、パッケージ周囲から第1層33へのみ水素が移動す
るような一方向バルブとして機能する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学および/また
はマイクロエレクトロニクス用密閉パッケージに関し、
特にパッケージからの水素を低減・除去するような構造
体に関する。
はマイクロエレクトロニクス用密閉パッケージに関し、
特にパッケージからの水素を低減・除去するような構造
体に関する。
【0002】
【従来の技術】水素は、光学およびマイクロエレクトロ
ニクス素子および回路の故障の原因である。例えばチタ
ン/プラチナ/金の金属領域は、光学パッケージおよび
マイクロエレクトロニクスパッケージの様々な分野で用
いられ、そしてこれらの混合回路は、水素に侵されやす
い。このような損傷は、これらの素子が密閉パッケージ
内に配置されたときに特に大きい。その理由は、パッケ
ージ材料とパッケージされた素子とは、長期間にわたっ
て水素を放出するからである。パッケージ材料からの水
素は、パッケージ内の全圧の1〜3%にまで達する。こ
の種の問題は、パッケージが容易に修理、あるいは置換
できないような海底ケーブルシステムの場合に特に大き
くなる。
ニクス素子および回路の故障の原因である。例えばチタ
ン/プラチナ/金の金属領域は、光学パッケージおよび
マイクロエレクトロニクスパッケージの様々な分野で用
いられ、そしてこれらの混合回路は、水素に侵されやす
い。このような損傷は、これらの素子が密閉パッケージ
内に配置されたときに特に大きい。その理由は、パッケ
ージ材料とパッケージされた素子とは、長期間にわたっ
て水素を放出するからである。パッケージ材料からの水
素は、パッケージ内の全圧の1〜3%にまで達する。こ
の種の問題は、パッケージが容易に修理、あるいは置換
できないような海底ケーブルシステムの場合に特に大き
くなる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、パッケージの内部からのガス状水素を低減、あるい
は除去するようなパッケージ構造体を提供することであ
る。
は、パッケージの内部からのガス状水素を低減、あるい
は除去するようなパッケージ構造体を提供することであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の気密パッケージ
は、請求項1に記載した特徴を有する。本発明の水素除
去部材は、第1層と第1層の上に形成された第2層とを
有する。この第2層が、表面酸化物の形成を阻止して、
パッケージ周囲から第1層への水素の移動に対する一方
向バルブとして機能し、水素を水素化物として固定する
よう機能する。
は、請求項1に記載した特徴を有する。本発明の水素除
去部材は、第1層と第1層の上に形成された第2層とを
有する。この第2層が、表面酸化物の形成を阻止して、
パッケージ周囲から第1層への水素の移動に対する一方
向バルブとして機能し、水素を水素化物として固定する
よう機能する。
【0005】
【発明の実施の形態】図1、2を用いて、本発明の光学
電子パッケージについて説明する。同図において本発明
のパッケージ10は光学電子パッケージであり、光学電
子素子を収納するための空洞30を形成するハウジング
11を有する。この光学電子素子は、レーザ12と、レ
ーザ光を集光する球状レンズ13と、レーザ光をモニタ
する光検知器14とを有する。これらの素子12〜14
は、通常シリコン製の基板15上に搭載される。次にこ
の基板15は、空洞30の底部表面に搭載される。
電子パッケージについて説明する。同図において本発明
のパッケージ10は光学電子パッケージであり、光学電
子素子を収納するための空洞30を形成するハウジング
11を有する。この光学電子素子は、レーザ12と、レ
ーザ光を集光する球状レンズ13と、レーザ光をモニタ
する光検知器14とを有する。これらの素子12〜14
は、通常シリコン製の基板15上に搭載される。次にこ
の基板15は、空洞30の底部表面に搭載される。
【0006】図1に示すように、シリコン製基板15
は、その表面に金属領域16を有し、レーザ12と光検
知器14に対し電気的接点を与える。金属領域16は、
空洞30の棚上の金属領域17にワイヤボンディングで
接続され、これによりこれらの素子は、パッケージの側
面から外側に延びたピン18を介して外部回路と電気的
に接続される。金属領域16、17は、通常チタン/プ
ラチナ/金の層から形成される。空洞30は、図2に示
すように、はんだ20により、ハウジングの上部表面に
結合される蓋19により気密にシールされる。レーザ1
2は、空洞30の壁23に形成された開口21を介して
光ファイバ22に接続される。
は、その表面に金属領域16を有し、レーザ12と光検
知器14に対し電気的接点を与える。金属領域16は、
空洞30の棚上の金属領域17にワイヤボンディングで
接続され、これによりこれらの素子は、パッケージの側
面から外側に延びたピン18を介して外部回路と電気的
に接続される。金属領域16、17は、通常チタン/プ
ラチナ/金の層から形成される。空洞30は、図2に示
すように、はんだ20により、ハウジングの上部表面に
結合される蓋19により気密にシールされる。レーザ1
2は、空洞30の壁23に形成された開口21を介して
光ファイバ22に接続される。
【0007】空洞30は、蓋19により気密にシールさ
れるが、金属領域16、17は、水素ガスにより裂ける
ことがある。理由は、ハウジング11の材料が水素ガス
を放出するからである。ある場合においては、パッケー
ジ雰囲気内の水素ガスの量は、全内圧の1〜3%にも達
することがある。
れるが、金属領域16、17は、水素ガスにより裂ける
ことがある。理由は、ハウジング11の材料が水素ガス
を放出するからである。ある場合においては、パッケー
ジ雰囲気内の水素ガスの量は、全内圧の1〜3%にも達
することがある。
【0008】空洞30内の水素ガスの量を低減するため
に、空洞30は水素吸収部材31を有する。この水素吸
収部材31は、この実施例においては、蓋19の内側表
面に接着されているが、キャビティ内の如何なる場所に
も搭載することができる。この水素吸収部材31の詳細
を図3に示す。水素吸収部材31は、パッケージの雰囲
気にさらされる第2層32を有する。この第2層32
は、プラチナのような貴金属製で、通常その厚さは50
nmから500nmである。この第2層32は、第1層
33の上に真空蒸着、スパッタリング、あるいは他の公
知技術を用いて形成される。この第1層33は、チタン
またはジルコニウムのような水素化物を形成する材料製
で、その厚さは200nm以上である。この2層構造が
蓋19の内側表面に、例えばはんだのような接合層34
により接着される。
に、空洞30は水素吸収部材31を有する。この水素吸
収部材31は、この実施例においては、蓋19の内側表
面に接着されているが、キャビティ内の如何なる場所に
も搭載することができる。この水素吸収部材31の詳細
を図3に示す。水素吸収部材31は、パッケージの雰囲
気にさらされる第2層32を有する。この第2層32
は、プラチナのような貴金属製で、通常その厚さは50
nmから500nmである。この第2層32は、第1層
33の上に真空蒸着、スパッタリング、あるいは他の公
知技術を用いて形成される。この第1層33は、チタン
またはジルコニウムのような水素化物を形成する材料製
で、その厚さは200nm以上である。この2層構造が
蓋19の内側表面に、例えばはんだのような接合層34
により接着される。
【0009】別の方法として、2つの層、第2層32と
第1層33を、例えば真空蒸着、スパッタリング、ある
いは他の技術を用いて蓋19上に堆積することも可能で
ある。次に述べるように、大量の水素を吸収するため
に、水素吸収部材31の表面積は、パッケージの内側面
積の1%以上、あるいは保護すべき素子が水素にさらさ
れるリスク材料の全表面積の10倍以上の面積のうちい
ずれか大きい方である。ここで水素にさらされるリスク
材料とは、水素損傷に敏感なパッケージ内の材料であ
る。通常、1個の回路、あるいは小さな混成電気パッケ
ージにおいては、その面積は0.1〜0.4cm2であ
る。
第1層33を、例えば真空蒸着、スパッタリング、ある
いは他の技術を用いて蓋19上に堆積することも可能で
ある。次に述べるように、大量の水素を吸収するため
に、水素吸収部材31の表面積は、パッケージの内側面
積の1%以上、あるいは保護すべき素子が水素にさらさ
れるリスク材料の全表面積の10倍以上の面積のうちい
ずれか大きい方である。ここで水素にさらされるリスク
材料とは、水素損傷に敏感なパッケージ内の材料であ
る。通常、1個の回路、あるいは小さな混成電気パッケ
ージにおいては、その面積は0.1〜0.4cm2であ
る。
【0010】次に水素吸収部材31の機能について説明
する。パッケージの雰囲気から出た水素は、第2層32
の表面に吸収され、この金属構造体内で水素分子(mole
cular hydrogen)から水素溶媒化合物(solvated hydro
gen)に変わることにより、その層の内部に透過してい
く。この反応は、吸熱性であり、プラチナの場合には図
4のエネルギーグラフに示すように、H原子当たり0.
5eV必要とする。水素溶媒化合物は、原子当たり1.
1eVを放出する吸熱反応により、第1層33内に移動
する。水素溶媒化合物は、原子当たり0.2eVを放出
する別の吸熱反応で、チタンハイドライド(titanium h
ydride)として沈殿(凝固)する。この吸熱反応は、チ
タン製の第1層33内で水素を固定するよう機能し、そ
れが第2層32に戻ってくるのを阻止する。これは、そ
れにより生成されたエネルギーバリアの存在に起因す
る。貴金属製の第2層32を使用すると、反応性(水素
化物を生成しやすい)および金属製の第1層33上で酸
化表面の形成を阻止し、それにより表面をオープンな状
態に維持して水素を受け入れやすくする。さらにまた、
エネルギーバリアの存在により水素が水素化物形成金属
内に移動しやすくなるが、これは二次的な機能である。
かくして、貴金属製の第2層32は、水素化物形成用の
第1層33内に水素を受け入れやすくする一方向バルブ
として機能する。
する。パッケージの雰囲気から出た水素は、第2層32
の表面に吸収され、この金属構造体内で水素分子(mole
cular hydrogen)から水素溶媒化合物(solvated hydro
gen)に変わることにより、その層の内部に透過してい
く。この反応は、吸熱性であり、プラチナの場合には図
4のエネルギーグラフに示すように、H原子当たり0.
5eV必要とする。水素溶媒化合物は、原子当たり1.
1eVを放出する吸熱反応により、第1層33内に移動
する。水素溶媒化合物は、原子当たり0.2eVを放出
する別の吸熱反応で、チタンハイドライド(titanium h
ydride)として沈殿(凝固)する。この吸熱反応は、チ
タン製の第1層33内で水素を固定するよう機能し、そ
れが第2層32に戻ってくるのを阻止する。これは、そ
れにより生成されたエネルギーバリアの存在に起因す
る。貴金属製の第2層32を使用すると、反応性(水素
化物を生成しやすい)および金属製の第1層33上で酸
化表面の形成を阻止し、それにより表面をオープンな状
態に維持して水素を受け入れやすくする。さらにまた、
エネルギーバリアの存在により水素が水素化物形成金属
内に移動しやすくなるが、これは二次的な機能である。
かくして、貴金属製の第2層32は、水素化物形成用の
第1層33内に水素を受け入れやすくする一方向バルブ
として機能する。
【0011】水素吸収部材31は、金属をパッケージの
蓋内に堆積することにより、いくつかの標準的なポンプ
レーザパッケージ内に組み込まれ、パッケージを気密に
シールして、その内部雰囲気をN2で満たすようにす
る。このパッケージを100℃で1840時間の劣化試
験を行った。その結果、これらのパッケージ内では水素
は検出不可能で、パッケージのハウジング内には多くの
水蒸気は存在しなかった。
蓋内に堆積することにより、いくつかの標準的なポンプ
レーザパッケージ内に組み込まれ、パッケージを気密に
シールして、その内部雰囲気をN2で満たすようにす
る。このパッケージを100℃で1840時間の劣化試
験を行った。その結果、これらのパッケージ内では水素
は検出不可能で、パッケージのハウジング内には多くの
水蒸気は存在しなかった。
【0012】本発明の変形例としては、水素化物形成層
である第1層33は、鉄−チタン合金のような金属間化
合物、あるいは合金で形成できる。このような場合この
合金は、酸化表面がスパッタで取り除かれ、そしてPt
またはPbがこの表面上に堆積するような真空チェンバ
内に配置される。このようにして得られた水素吸収部材
は、はんだであるいは機械的に、パッケージの内壁ある
いは蓋に取り付けることができる。さらにまた第2層3
2は、この実施例においてはプラチナであったが、パラ
ジウム層も使用することができる。
である第1層33は、鉄−チタン合金のような金属間化
合物、あるいは合金で形成できる。このような場合この
合金は、酸化表面がスパッタで取り除かれ、そしてPt
またはPbがこの表面上に堆積するような真空チェンバ
内に配置される。このようにして得られた水素吸収部材
は、はんだであるいは機械的に、パッケージの内壁ある
いは蓋に取り付けることができる。さらにまた第2層3
2は、この実施例においてはプラチナであったが、パラ
ジウム層も使用することができる。
【0013】特許請求の範囲に記載した参照番号は発明
の容易なる理解のためで、発明を限定的に解釈すべきも
のではない。
の容易なる理解のためで、発明を限定的に解釈すべきも
のではない。
【図1】本発明の一実施例によるパッケージの部分断面
図。
図。
【図2】図1のパッケージの一部断面側面図。
【図3】図1の実施例の水素吸収部材の断面図。
【図4】本発明の動作を説明するエネルギー図。
10 本発明のパッケージ 11 ハウジング 12 レーザ 13 球状レンズ 14 光検知器 15 基板 16、17 金属領域 18 ピン 19 蓋 20 はんだ 21 開口 22 光ファイバ 23 壁 30 空洞 31 水素吸収部材 32 第2層 33 第1層 34 接合層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 596077259 600 Mountain Avenue, Murray Hill, New Je rsey 07974−0636U.S.A. (72)発明者 グスタフ エドワード ダーキッツ,ジュ ニア アメリカ合衆国,07974 ニュージャージ ー,ニュー プロヴィデンス,ホルメス オーバル 55 (72)発明者 ジョン ロパタ アメリカ合衆国,07060 ニュージャージ ー,ノース プレインフィールド,ウェス ターベルト アベニュー #1 160 (72)発明者 フランクリン リチャード ナッシュ アメリカ合衆国,08540 ニュージャージ ー,プリンストン,キャナルロード 1069
Claims (10)
- 【請求項1】 素子(12〜14)を収納するハウジン
グ(11)と、 前記ハウジング内に前記素子から分離して配置された部
材(31)と、を有し、前記部材(31)は、 水素溶媒化合物にさらされたときに水素化物を形成する
材料製の第1層(33)と、 前記第1層(33)上に形成され、前記水素分子にさら
されたときに水素溶媒化合物を形成する貴金属材料製の
第2層(32)と、を有し、 前記部材(31)の表面に酸化物が形成されるのを阻止
することを特徴とする気密パッケージ。 - 【請求項2】 前記第1層(33)は、チタンを含有
し、 前記第2層(32)は、プラチナを含有することを特徴
とする請求項1に記載のパッケージ。 - 【請求項3】 前記第1層(33)の厚さは、200n
m以上であり、 前記第2層(32)の厚さは、50nmと500nmの
範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載のパッケ
ージ。 - 【請求項4】 前記部材(31)の表面積は、パッケー
ジの内側表面の1%以上、または保護すべき素子(12
〜14)の露出全表面積の10倍以上のいずれか大きい
方の面積であることを特徴とする請求項1に記載のパッ
ケージ。 - 【請求項5】 前記パッケージは、ハウジングの内側を
シールする蓋(19)を有し、 前記部材(31)は、前記蓋の内側に搭載されることを
特徴とする請求項1に記載のパッケージ。 - 【請求項6】 前記部材(31)は、蓋にはんだ(3
4)でもって固着されることを特徴とする請求項5に記
載のパッケージ。 - 【請求項7】 前記第1層(33)と第2層(32)
は、蓋の内側表面に堆積されることを特徴とする請求項
5に記載のパッケージ。 - 【請求項8】 前記素子(12〜14)は、光学素子ま
たはマイクロエレクトロニクス素子を含むことを特徴と
する請求項1に記載のパッケージ。 - 【請求項9】 前記第1層(33)と第2層(32)の
材料は、第1層から第2層への水素の移動が、吸熱性反
応となるような材料であることを特徴とする請求項1に
記載のパッケージ。 - 【請求項10】 前記部材(31)は、パッケージの内
側表面に機械的に取り付けられることを特徴とする請求
項1に記載のパッケージ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/853735 | 1997-05-13 | ||
| US08/853,735 US5861665A (en) | 1997-05-13 | 1997-05-13 | Structure for absorption of hydrogen in a package |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10322044A true JPH10322044A (ja) | 1998-12-04 |
Family
ID=25316764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10129975A Pending JPH10322044A (ja) | 1997-05-13 | 1998-05-13 | 気密パッケージ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5861665A (ja) |
| EP (1) | EP0878845B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10322044A (ja) |
| KR (1) | KR19980086954A (ja) |
| DE (1) | DE69809630T2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6203869B1 (en) | 1996-11-12 | 2001-03-20 | Thomas K. Dougherty | Hydrogen getters and methods for fabricating sealed microelectronic packages employing same |
| EP0993047A1 (fr) * | 1998-10-06 | 2000-04-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Dispositif semi-conducteur avec des éléments de circuits intégrés du groupe III-V ayant des moyens pour prévenir la pollution par l'hydrogène |
| US6110808A (en) * | 1998-12-04 | 2000-08-29 | Trw Inc. | Hydrogen getter for integrated microelectronic assembly |
| US6923625B2 (en) * | 2002-01-07 | 2005-08-02 | Integrated Sensing Systems, Inc. | Method of forming a reactive material and article formed thereby |
| US7377961B2 (en) * | 2004-01-12 | 2008-05-27 | Intel Corporation | Hydrogen vent for optoelectronic packages with resistive thermal device (RTD) |
| US20050253283A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-11-17 | Dcamp Jon B | Getter deposition for vacuum packaging |
| CN101163586A (zh) * | 2005-02-17 | 2008-04-16 | 泽斯吸气剂公司 | 柔性多层吸气器 |
| FR2956521B1 (fr) * | 2010-02-16 | 2012-08-17 | Thales Sa | Dispositif comprenant des composants electriques, electroniques, electromecaniques ou electro-optiques, a sensibilite reduite a faible debit de dose |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7812244A (nl) * | 1978-12-18 | 1980-06-20 | Philips Nv | Halogeengloeilamp. |
| GB8623296D0 (en) * | 1986-09-27 | 1986-10-29 | Emi Plc Thorn | Hydrogen getter |
| US4769345A (en) * | 1987-03-12 | 1988-09-06 | Olin Corporation | Process for producing a hermetically sealed package for an electrical component containing a low amount of oxygen and water vapor |
| US5491361A (en) * | 1994-10-14 | 1996-02-13 | The Aerospace Corporation | Hydrogen out venting electronic package |
| US5624598A (en) * | 1995-04-18 | 1997-04-29 | Shepodd; Timothy J. | Materials for the scavanging of hydrogen at high temperatures |
| US6673400B1 (en) * | 1996-10-15 | 2004-01-06 | Texas Instruments Incorporated | Hydrogen gettering system |
-
1997
- 1997-05-13 US US08/853,735 patent/US5861665A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-05-12 DE DE69809630T patent/DE69809630T2/de not_active Expired - Lifetime
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