JPH10323564A - チタン含有固体触媒及びオキシラン化合物の製造方法 - Google Patents
チタン含有固体触媒及びオキシラン化合物の製造方法Info
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- JPH10323564A JPH10323564A JP10058678A JP5867898A JPH10323564A JP H10323564 A JPH10323564 A JP H10323564A JP 10058678 A JP10058678 A JP 10058678A JP 5867898 A JP5867898 A JP 5867898A JP H10323564 A JPH10323564 A JP H10323564A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Epoxy Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 オレフィン型化合物と、有機ハイドロパーオ
キサイドをチタン含有固体触媒を用いて反応させ、オレ
フィン型化合物をオキシラン化合物に変換する方法であ
って,選択率が高く、公知法より小さな精製設備、エネ
ルギーで目的の変換を行うことを可能とするオキシラン
化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】 オレフィン型化合物と有機ハイドロパー
オキサイドとを反応させてオキシラン化合物を製造する
チタン含有固体触媒であって、（１）下記［式−１］を
充足するチタン含有含浸液中に担体であるシリカを含浸
し、（２）焼成する、ことにより得られるチタン含有固
体触媒。 Ａ／Ｂ≦０．２ ［式−１］ Ａ：含浸液中のチタン金属のモル数 Ｂ：担体であるシリカ上に存在するシラノール基のモル
数
キサイドをチタン含有固体触媒を用いて反応させ、オレ
フィン型化合物をオキシラン化合物に変換する方法であ
って,選択率が高く、公知法より小さな精製設備、エネ
ルギーで目的の変換を行うことを可能とするオキシラン
化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】 オレフィン型化合物と有機ハイドロパー
オキサイドとを反応させてオキシラン化合物を製造する
チタン含有固体触媒であって、（１）下記［式−１］を
充足するチタン含有含浸液中に担体であるシリカを含浸
し、（２）焼成する、ことにより得られるチタン含有固
体触媒。 Ａ／Ｂ≦０．２ ［式−１］ Ａ：含浸液中のチタン金属のモル数 Ｂ：担体であるシリカ上に存在するシラノール基のモル
数
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、チタン含有固体触
媒及びオキシラン化合物の製造方法オキシラン化合物の
製造方法に関するものである。更に詳しくは、本発明
は、オレフィン型化合物と有機ハイドロパーオキサイド
をチタン含有固体触媒触媒を用いて反応させ、オレフィ
ン型化合物をオキシラン化合物に変換する方法であっ
て、選択率が高く、公知法より小さな精製設備、エネル
ギーで目的の変換を行うことを可能とするチタン含有固
体触媒及びオキシラン化合物の製造方法オキシラン化合
物の製造方法に関するものである。
媒及びオキシラン化合物の製造方法オキシラン化合物の
製造方法に関するものである。更に詳しくは、本発明
は、オレフィン型化合物と有機ハイドロパーオキサイド
をチタン含有固体触媒触媒を用いて反応させ、オレフィ
ン型化合物をオキシラン化合物に変換する方法であっ
て、選択率が高く、公知法より小さな精製設備、エネル
ギーで目的の変換を行うことを可能とするチタン含有固
体触媒及びオキシラン化合物の製造方法オキシラン化合
物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オレフィン型化合物と有機ハイドロパー
オキサイドをチタン含有固体触媒触媒を用いて反応さ
せ、オレフィン型化合物をオキシラン化合物に変換する
方法は公知である（特公昭５６−３５９４１号公報、５
４−４０５２５号公報、５４−４０５２６号公報、５０
−３００４９号公報、特開平８−２６９０３１号公
報）。
オキサイドをチタン含有固体触媒触媒を用いて反応さ
せ、オレフィン型化合物をオキシラン化合物に変換する
方法は公知である（特公昭５６−３５９４１号公報、５
４−４０５２５号公報、５４−４０５２６号公報、５０
−３００４９号公報、特開平８−２６９０３１号公
報）。
【０００３】チタン含有固体触媒触媒はいろいろな方法
で作ることができる。シリカをチタン化合物で含浸し、
焼成する調製法は、有用な方法の一つである。これまで
どの程度の量のチタンをシリカ上に含浸すれば選択率が
よい触媒が得られるかという基準が知られていなかっ
た。
で作ることができる。シリカをチタン化合物で含浸し、
焼成する調製法は、有用な方法の一つである。これまで
どの程度の量のチタンをシリカ上に含浸すれば選択率が
よい触媒が得られるかという基準が知られていなかっ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】かかる現状に鑑み、本
発明が解決しようとする課題は、オレフィン型化合物と
有機ハイドロパーオキサイドをチタン含有固体触媒触媒
を用いて反応させ、オレフィン型化合物をオキシラン化
合物に変換する方法であって、選択率が高く、公知法よ
り小さな精製設備、エネルギーで目的の変換を行うこと
を可能とするオキシラン化合物の製造方法を提供する点
に存するものである。
発明が解決しようとする課題は、オレフィン型化合物と
有機ハイドロパーオキサイドをチタン含有固体触媒触媒
を用いて反応させ、オレフィン型化合物をオキシラン化
合物に変換する方法であって、選択率が高く、公知法よ
り小さな精製設備、エネルギーで目的の変換を行うこと
を可能とするオキシラン化合物の製造方法を提供する点
に存するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決すべく鋭意検討の結果、本発明に到達した。
を解決すべく鋭意検討の結果、本発明に到達した。
【０００６】すなわち、本発明のうち一の発明は、オレ
フィン型化合物と有機ハイドロパーオキサイドとを反応
させてオキシラン化合物を製造するチタン含有固体触媒
であって、（１）下記［式−１］を充足するチタン含有
含浸液中に担体であるシリカを含浸し、（２）焼成す
る、ことにより得られるチタン含有固体触媒に係るもの
である。 Ａ／Ｂ≦０．２ ［式−１］ Ａ：含浸液中のチタン金属のモル数 Ｂ：担体であるシリカ上に存在するシラノール基のモル
数
フィン型化合物と有機ハイドロパーオキサイドとを反応
させてオキシラン化合物を製造するチタン含有固体触媒
であって、（１）下記［式−１］を充足するチタン含有
含浸液中に担体であるシリカを含浸し、（２）焼成す
る、ことにより得られるチタン含有固体触媒に係るもの
である。 Ａ／Ｂ≦０．２ ［式−１］ Ａ：含浸液中のチタン金属のモル数 Ｂ：担体であるシリカ上に存在するシラノール基のモル
数
【０００７】また、本発明のうち他の発明は、上記の触
媒の存在下、オレフィン型化合物と有機ハイドロパーオ
キサイドとを反応させるオキシラン化合物の製造方法に
係るものである。
媒の存在下、オレフィン型化合物と有機ハイドロパーオ
キサイドとを反応させるオキシラン化合物の製造方法に
係るものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】担体に供される固体シリカは、二
酸化物の形の珪素の含有量が５０％以上のものが好まし
く、更に好ましくは７５％以上、最も好ましくは９０％
以上のものである。固体シリカは、比較的大きい比表面
積を有することが好ましく、比表面積は好ましくは１ｍ
2 ／ｇ以上であり、一層好ましくは２５〜８００ｍ2 ／
ｇである。
酸化物の形の珪素の含有量が５０％以上のものが好まし
く、更に好ましくは７５％以上、最も好ましくは９０％
以上のものである。固体シリカは、比較的大きい比表面
積を有することが好ましく、比表面積は好ましくは１ｍ
2 ／ｇ以上であり、一層好ましくは２５〜８００ｍ2 ／
ｇである。
【０００９】シリカは、凝固又は相互に結合した非晶質
シリカ粒子からなる比較的高密度かつ密充填型の多孔性
合成シリカであることが好ましく、その例にはシリカゲ
ルや沈降シリカなどがあげられる。これらの製法及び性
質は、Ｒ．Ｇ．アイラー著「ザ、コロイド、ケミスト
リ、オブ、シリカ、アンド、シリケート」（米国ニュー
ヨークのコーネル大学出版部１９５５年発行）の第ＶＩ
章、及び米国特許第２，６５７，１４９号公報に記載さ
れている。市場で入手できるシリカゲルのうちでは、比
表面積２５ 〜７００ｍ2 ／ｇ、細孔容積０．３〜２.
０ml／ｇ、シリカ含有量９９重量％以上のシリカゲルが
好ましく使用される。
シリカ粒子からなる比較的高密度かつ密充填型の多孔性
合成シリカであることが好ましく、その例にはシリカゲ
ルや沈降シリカなどがあげられる。これらの製法及び性
質は、Ｒ．Ｇ．アイラー著「ザ、コロイド、ケミスト
リ、オブ、シリカ、アンド、シリケート」（米国ニュー
ヨークのコーネル大学出版部１９５５年発行）の第ＶＩ
章、及び米国特許第２，６５７，１４９号公報に記載さ
れている。市場で入手できるシリカゲルのうちでは、比
表面積２５ 〜７００ｍ2 ／ｇ、細孔容積０．３〜２.
０ml／ｇ、シリカ含有量９９重量％以上のシリカゲルが
好ましく使用される。
【００１０】更にまた、凝固操作によって生成され、オ
ープンパック構造を有し、崩壊し易く、かつゆるく結合
している非晶質シリカ粒子からなる合成シリカ粉末も適
当であり、その例には、水素及び酸素を四塩化珪素又は
四弗化珪素と燃焼操作を行うことによって得られる焼成
シリカ（ｆｕｍｅｄ ｐｙｒｏｇｅｎｉｃ ｓｉｌｉｃ
ａ）があげられる。この種のシリカは種々の業者によっ
て製造、販売されており、たとえばカボット社（キャブ
−Ｏ−ジル）及びデグツサ社（エアロジル）から販売さ
れている（前記の「キャブ−Ｏ−ジル」及び「エアロジ
ル」は登録商標である。）。これらのシリカ製品のうち
では、比表面積が５０〜５００ｍ2 ／ｇであり、シリカ
含有量が９９％以上である製品が最も好ましい。
ープンパック構造を有し、崩壊し易く、かつゆるく結合
している非晶質シリカ粒子からなる合成シリカ粉末も適
当であり、その例には、水素及び酸素を四塩化珪素又は
四弗化珪素と燃焼操作を行うことによって得られる焼成
シリカ（ｆｕｍｅｄ ｐｙｒｏｇｅｎｉｃ ｓｉｌｉｃ
ａ）があげられる。この種のシリカは種々の業者によっ
て製造、販売されており、たとえばカボット社（キャブ
−Ｏ−ジル）及びデグツサ社（エアロジル）から販売さ
れている（前記の「キャブ−Ｏ−ジル」及び「エアロジ
ル」は登録商標である。）。これらのシリカ製品のうち
では、比表面積が５０〜５００ｍ2 ／ｇであり、シリカ
含有量が９９％以上である製品が最も好ましい。
【００１１】更に、固体シリカとして、結晶質の多孔性
シリカも適当である。結晶質の多孔性シリカとしては例
えばハイシリカゼオライト（アルミ等他の金属が僅かし
か入っていないゼオライト）があげられる。ハイシリカ
ゼオライトの例としてはペンタシル型ゼオライトである
シリカライト等が知られている（Ｒ．Ｗ．Ｇｒｏｓｅａ
ｎｄ Ｅ．Ｍ．Ｆｌａｎｉｇｅｎ， ＵＳ４０６１７２
４(１９７７)(ｔｏＵＣＣ））。また結晶質ではない
が、規則的な細孔構造を有するMCM41（J. S. Beck, et
al., J. Am. Chem. Soc., 114, 10834(1992)）も担体と
して用いることができる。
シリカも適当である。結晶質の多孔性シリカとしては例
えばハイシリカゼオライト（アルミ等他の金属が僅かし
か入っていないゼオライト）があげられる。ハイシリカ
ゼオライトの例としてはペンタシル型ゼオライトである
シリカライト等が知られている（Ｒ．Ｗ．Ｇｒｏｓｅａ
ｎｄ Ｅ．Ｍ．Ｆｌａｎｉｇｅｎ， ＵＳ４０６１７２
４(１９７７)(ｔｏＵＣＣ））。また結晶質ではない
が、規則的な細孔構造を有するMCM41（J. S. Beck, et
al., J. Am. Chem. Soc., 114, 10834(1992)）も担体と
して用いることができる。
【００１２】好適な含浸・洗浄用溶媒としては、一般に
炭素数１〜約１２の常温で液状のオキサ及び／又はオキ
ソ置換炭化水素を用いることができる。この種類の好適
な溶媒としてはアルコール類、ケトン類、エーテル類
（非環式及び環式のもの）及びエステル類を用いること
ができる。例えば、メタノール、エタノール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、イソプロパノー
ル、ｎ−ブタノール及びオクタノールのようなヒドロキ
シ置換炭化水素；アセトン、ジエチルケトン、メチルエ
チルケトン及びメチルイソブチルケトンのようなオキソ
置換炭化水素；ジイソブチルエーテルやテトラヒドロフ
ランのような炭化水素エーテル；及び酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル及びプロピオン酸ブチルのような炭
化水素エステル等があげられる。
炭素数１〜約１２の常温で液状のオキサ及び／又はオキ
ソ置換炭化水素を用いることができる。この種類の好適
な溶媒としてはアルコール類、ケトン類、エーテル類
（非環式及び環式のもの）及びエステル類を用いること
ができる。例えば、メタノール、エタノール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、イソプロパノー
ル、ｎ−ブタノール及びオクタノールのようなヒドロキ
シ置換炭化水素；アセトン、ジエチルケトン、メチルエ
チルケトン及びメチルイソブチルケトンのようなオキソ
置換炭化水素；ジイソブチルエーテルやテトラヒドロフ
ランのような炭化水素エーテル；及び酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル及びプロピオン酸ブチルのような炭
化水素エステル等があげられる。
【００１３】好適なチタン化合物は無機酸及び有機酸の
可溶性チタン塩類及びチタン酸エステル類である。チタ
ン化合物の例としては、チタン酸テトラメチル、チタン
酸テトラエチル、チタン酸テトラプロピル、チタン酸テ
トライソプロピル、チタン酸テトラブチル、チタン酸テ
トライソブチル、チタン酸テトラ-２-エチルヘキシル、
チタン酸テトラオクタデシル、四塩化チタン、四臭化チ
タン、四沃化チタン、チタニウム（IV）オキシアセチル
アセトナート、チタニウム（IV）ジイソプロポキシドビ
スアセチルアセトナートをあげることができる。乾燥及
び／又は焼成段階を経るか又は経ない多段階含浸法を用
いることもできる。
可溶性チタン塩類及びチタン酸エステル類である。チタ
ン化合物の例としては、チタン酸テトラメチル、チタン
酸テトラエチル、チタン酸テトラプロピル、チタン酸テ
トライソプロピル、チタン酸テトラブチル、チタン酸テ
トライソブチル、チタン酸テトラ-２-エチルヘキシル、
チタン酸テトラオクタデシル、四塩化チタン、四臭化チ
タン、四沃化チタン、チタニウム（IV）オキシアセチル
アセトナート、チタニウム（IV）ジイソプロポキシドビ
スアセチルアセトナートをあげることができる。乾燥及
び／又は焼成段階を経るか又は経ない多段階含浸法を用
いることもできる。
【００１４】本発明においては、下記［式−１］を充足
するチタン含有含浸液中に担体であるシリカを含浸する
必要がある。 Ａ／Ｂ≦０．２ ［式−１］ Ａ：含浸液中のチタン金属のモル数 Ｂ：担体であるシリカ上に存在するシラノール基のモル
数
するチタン含有含浸液中に担体であるシリカを含浸する
必要がある。 Ａ／Ｂ≦０．２ ［式−１］ Ａ：含浸液中のチタン金属のモル数 Ｂ：担体であるシリカ上に存在するシラノール基のモル
数
【００１５】Ａ／Ｂの値が０．２を超えると、目的物で
あるオキシラン化合物への選択率が低下する。なお、Ａ
／Ｂの値は０．１５以下が更に好ましく、０．０５以下
が最も好ましい。また、Ａ／Ｂの値の下限としては、チ
タン担持量が少なすぎると活性が低くなるため、０．０
０５以上であることが好ましい。
あるオキシラン化合物への選択率が低下する。なお、Ａ
／Ｂの値は０．１５以下が更に好ましく、０．０５以下
が最も好ましい。また、Ａ／Ｂの値の下限としては、チ
タン担持量が少なすぎると活性が低くなるため、０．０
０５以上であることが好ましい。
【００１６】担体上のシラノール基のモル数は高温焼成
（〜１０００℃）によるシリカの重量減少をシラノール
基の縮合脱水量として計算により求めることができる
（ＪＩＳ Ｋ １１５０ シリカゲル試験方法（１９９
４））。ＴＧ（熱重量解析）法により重量減少を測定し
て上記と同様の方法で計算してもよい。
（〜１０００℃）によるシリカの重量減少をシラノール
基の縮合脱水量として計算により求めることができる
（ＪＩＳ Ｋ １１５０ シリカゲル試験方法（１９９
４））。ＴＧ（熱重量解析）法により重量減少を測定し
て上記と同様の方法で計算してもよい。
【００１７】仕込んだチタン金属は含浸条件あるいはそ
の後の処理法により異なるが、通常その５０-１００％
ができ上がりの チタン含有固体触媒上に含まれる。
の後の処理法により異なるが、通常その５０-１００％
ができ上がりの チタン含有固体触媒上に含まれる。
【００１８】担体上のシラノール基のモル数に対する含
浸液中のチタン金属のモル数の比を好ましい値に調節す
るには２つの方法がある。第一は、含浸するチタン金属
量を定め、それに対し好ましいシラノール基数を持つ担
体を選択する方法である。第二は担体のシラノール基数
を測定し、好ましい範囲でチタン金属含浸量を調節する
方法である。
浸液中のチタン金属のモル数の比を好ましい値に調節す
るには２つの方法がある。第一は、含浸するチタン金属
量を定め、それに対し好ましいシラノール基数を持つ担
体を選択する方法である。第二は担体のシラノール基数
を測定し、好ましい範囲でチタン金属含浸量を調節する
方法である。
【００１９】含浸に引続いて、吸収されている溶媒が除
かれる。この溶媒除去操作はデカンテーション、濾過、
遠心分離、真空排気、乾燥及びその他の操作を含んでい
てもよい。この溶媒除去段階ではシリカから少なくとも
８０％、好ましくは少なくとも９５％の過剰の含浸用溶
媒を除くように条件を選択することが重要である。
かれる。この溶媒除去操作はデカンテーション、濾過、
遠心分離、真空排気、乾燥及びその他の操作を含んでい
てもよい。この溶媒除去段階ではシリカから少なくとも
８０％、好ましくは少なくとも９５％の過剰の含浸用溶
媒を除くように条件を選択することが重要である。
【００２０】特開平８−２６９０３１号公報に記載のあ
るとおり溶媒留去の後洗浄を行うことが好ましい。洗浄
用溶媒と含浸用溶媒留去後の触媒を十分に混合した後、
液相部を、濾過あるいはデカンテーションなどの方法に
より分離する。この操作を必要回数繰り返す。洗浄の終
了はたとえば液相部の分析により知ることができる。洗
浄温度は好ましくは０〜１００℃、より好ましくは１０
〜６０℃である。洗浄終了後、含浸溶媒除去工程と同様
の手法により残存する洗浄用溶媒を除く。この溶媒除去
は多量の溶媒の回収を行うと同時に、焼成期間中におけ
る引火危険を少なくし、かつその後のより高温度での焼
成中における触媒組織中での多量の揮発性溶媒の急激な
蒸発に起因する触媒の物理的強度の低下を防止するのに
役立っている。２５〜２００℃での乾燥は溶媒除去法と
して有効である。
るとおり溶媒留去の後洗浄を行うことが好ましい。洗浄
用溶媒と含浸用溶媒留去後の触媒を十分に混合した後、
液相部を、濾過あるいはデカンテーションなどの方法に
より分離する。この操作を必要回数繰り返す。洗浄の終
了はたとえば液相部の分析により知ることができる。洗
浄温度は好ましくは０〜１００℃、より好ましくは１０
〜６０℃である。洗浄終了後、含浸溶媒除去工程と同様
の手法により残存する洗浄用溶媒を除く。この溶媒除去
は多量の溶媒の回収を行うと同時に、焼成期間中におけ
る引火危険を少なくし、かつその後のより高温度での焼
成中における触媒組織中での多量の揮発性溶媒の急激な
蒸発に起因する触媒の物理的強度の低下を防止するのに
役立っている。２５〜２００℃での乾燥は溶媒除去法と
して有効である。
【００２１】洗浄、洗浄用溶媒除去段階の後で、この触
媒組成物を焼成する。即ち非還元性気体、例えば窒素、
アルゴン又は二酸化炭素もしくは酸素含有気体、例えば
空気の雰囲気下に加熱する。焼成の１つの役 割はチタ
ンをその担持された形、即ちハロゲン化物又はアルカノ
レート等から不溶性の化学結合した酸化物に転化させる
ことにある。焼成の他の役割は触媒を活性化することに
ある。焼成温度は４００〜９００℃で十分であり、４０
０〜８００℃の温度が推奨される。通常の焼成時間は１
〜１８時間である。
媒組成物を焼成する。即ち非還元性気体、例えば窒素、
アルゴン又は二酸化炭素もしくは酸素含有気体、例えば
空気の雰囲気下に加熱する。焼成の１つの役 割はチタ
ンをその担持された形、即ちハロゲン化物又はアルカノ
レート等から不溶性の化学結合した酸化物に転化させる
ことにある。焼成の他の役割は触媒を活性化することに
ある。焼成温度は４００〜９００℃で十分であり、４０
０〜８００℃の温度が推奨される。通常の焼成時間は１
〜１８時間である。
【００２２】得られた触媒はその使用前にシリル化剤と
反応させるのが好ましい。シリル化剤の例には有機シラ
ン、有機シリルアミン、有機シリルアミドとその誘導
体、及び有機シラザン及びその他のシリル化剤があげら
れる。有機シランの例としては、クロロトリメチルシラ
ン、ジクロロジメチルシラン、クロロブロモジメチルシ
ラン、ニトロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラ
ン、ヨードジメチルブチルシラン、クロロジメチルフェ
ニルシラン、クロロジメチルシラン、ジメチルn-プロピ
ルクロロシラン、ジメチルイソプロピルクロロシラン、
t-ブチルジメチルクロロシラン、トリプロピルクロロシ
ラン、ジメチルオクチルクロロシラン、トリブチルクロ
ロシラン、トリヘキシルクロロシラン、ジメチルエチル
クロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシラン、n-
ブチルジメチルクロロシラン、ブロモメチルジメチルク
ロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン、３-
クロロプロピルジメチルクロロシラン、ジメトキシメチ
ルクロロシラン、メチルフェニルクロロシラン、トリエ
トキシクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、
メチルフェニルビニルクロロシラン、ベンジルジメチル
クロロシラン、ジフェニルクロロシラン、ジフェニルメ
チルクロロシラン、ジフェニルビニルクロロシラン、ト
リベンジルクロロシラン、３-シアノプロピルジメチル
クロロシランがあげられる。有機シリルアミンの例とし
ては、N-トリメチルシリルイミダゾール、N-t-ブチルジ
メチルシリルイミダゾール、N-ジメチルエチルシリルイ
ミダゾール、N-ジメチルn-プロピルシリルイミダゾー
ル、N-ジメチルイソプロピルシリルイミダゾール、N-ト
リメチルシリルジメチルアミン、N-トリメチルシリルジ
エチルアミン,N-トリメチルシリルピロール、N-トリメ
チルシリルピロリジン、N-トリメチルシリルピペリジ
ン、１-シアノエチル（ジエチルアミノ）ジメチルシラ
ン、ペンタフルオロフェニルジメチルシリルアミン、が
あげられる。有機シリルアミド及び誘導体の例として
は、N,O-ビストリメチルシリルアセトアミド、N,O-ビス
トリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、N-トリメ
チルシリルアセトアミド、N-メチル-N-トリメチルシリ
ルアセトアミド、N-メチル-N-トリメチルシリルトリフ
ルオロアセトアミド、N-メチル-N-トリメチルシリルヘ
プタフルオロブチルアミド、N-(t-ブチルジメチルシリ
ル)-N-トリフルオロアセトアミド,N,O-ビス（ジエチル
ハイドロシリル）トリフルオロアセトアミドがあげられ
る。有機シラザンの例としてはヘキサメチルジシラザ
ン、ヘプタメチルジシラザン、１,１,３,３-テトラメチ
ルジシラザン,１,３-ビス（クロロメチル）テトラメチ
ルジシラザン、１,３-ジビニル-１,１,３,３-テトラメ
チルジシラザン、１,３-ジフェニルテトラメチルジシラ
ザンがあげられる。その他のシリル化剤としては、N-メ
トキシ-N,O-ビストリメチルシリルトリフルオロアセト
アミド、N-メトキシ-N,O-ビストリメチルシリルカーバ
メート、N,O-ビストリメチルシリルスルファメートメー
ト、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナー
ト、N,N'- ビストリメチルシリル尿素があげられる。好
ましいシリル化剤はヘキサメチルジシラザンである。
反応させるのが好ましい。シリル化剤の例には有機シラ
ン、有機シリルアミン、有機シリルアミドとその誘導
体、及び有機シラザン及びその他のシリル化剤があげら
れる。有機シランの例としては、クロロトリメチルシラ
ン、ジクロロジメチルシラン、クロロブロモジメチルシ
ラン、ニトロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラ
ン、ヨードジメチルブチルシラン、クロロジメチルフェ
ニルシラン、クロロジメチルシラン、ジメチルn-プロピ
ルクロロシラン、ジメチルイソプロピルクロロシラン、
t-ブチルジメチルクロロシラン、トリプロピルクロロシ
ラン、ジメチルオクチルクロロシラン、トリブチルクロ
ロシラン、トリヘキシルクロロシラン、ジメチルエチル
クロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシラン、n-
ブチルジメチルクロロシラン、ブロモメチルジメチルク
ロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン、３-
クロロプロピルジメチルクロロシラン、ジメトキシメチ
ルクロロシラン、メチルフェニルクロロシラン、トリエ
トキシクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、
メチルフェニルビニルクロロシラン、ベンジルジメチル
クロロシラン、ジフェニルクロロシラン、ジフェニルメ
チルクロロシラン、ジフェニルビニルクロロシラン、ト
リベンジルクロロシラン、３-シアノプロピルジメチル
クロロシランがあげられる。有機シリルアミンの例とし
ては、N-トリメチルシリルイミダゾール、N-t-ブチルジ
メチルシリルイミダゾール、N-ジメチルエチルシリルイ
ミダゾール、N-ジメチルn-プロピルシリルイミダゾー
ル、N-ジメチルイソプロピルシリルイミダゾール、N-ト
リメチルシリルジメチルアミン、N-トリメチルシリルジ
エチルアミン,N-トリメチルシリルピロール、N-トリメ
チルシリルピロリジン、N-トリメチルシリルピペリジ
ン、１-シアノエチル（ジエチルアミノ）ジメチルシラ
ン、ペンタフルオロフェニルジメチルシリルアミン、が
あげられる。有機シリルアミド及び誘導体の例として
は、N,O-ビストリメチルシリルアセトアミド、N,O-ビス
トリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、N-トリメ
チルシリルアセトアミド、N-メチル-N-トリメチルシリ
ルアセトアミド、N-メチル-N-トリメチルシリルトリフ
ルオロアセトアミド、N-メチル-N-トリメチルシリルヘ
プタフルオロブチルアミド、N-(t-ブチルジメチルシリ
ル)-N-トリフルオロアセトアミド,N,O-ビス（ジエチル
ハイドロシリル）トリフルオロアセトアミドがあげられ
る。有機シラザンの例としてはヘキサメチルジシラザ
ン、ヘプタメチルジシラザン、１,１,３,３-テトラメチ
ルジシラザン,１,３-ビス（クロロメチル）テトラメチ
ルジシラザン、１,３-ジビニル-１,１,３,３-テトラメ
チルジシラザン、１,３-ジフェニルテトラメチルジシラ
ザンがあげられる。その他のシリル化剤としては、N-メ
トキシ-N,O-ビストリメチルシリルトリフルオロアセト
アミド、N-メトキシ-N,O-ビストリメチルシリルカーバ
メート、N,O-ビストリメチルシリルスルファメートメー
ト、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナー
ト、N,N'- ビストリメチルシリル尿素があげられる。好
ましいシリル化剤はヘキサメチルジシラザンである。
【００２３】シリル化の前の焼成済触媒に水和処理を施
すこともできる。この水和処理は、（シリル化の前に）
触媒を水と接触させそれからそれを加熱すること、又は
触媒を高温で、一般には１００℃以上で、好ましくは１
５０〜４５０℃の範囲内で０．５〜６時間水蒸気と接触
させることを意味する。水和処理を３００〜４５０℃の
温度で１〜６時間水蒸気にさらすことによって行なう
と、最もよい結果が得られる。
すこともできる。この水和処理は、（シリル化の前に）
触媒を水と接触させそれからそれを加熱すること、又は
触媒を高温で、一般には１００℃以上で、好ましくは１
５０〜４５０℃の範囲内で０．５〜６時間水蒸気と接触
させることを意味する。水和処理を３００〜４５０℃の
温度で１〜６時間水蒸気にさらすことによって行なう
と、最もよい結果が得られる。
【００２４】前記の触媒は、たとえば粉末、フレーク、
球状粒子、ペレットのごとき任意の物理的形態で使用で
きる。
球状粒子、ペレットのごとき任意の物理的形態で使用で
きる。
【００２５】エポキシ化反応は上述の方法により調製し
た触媒の存在下、有機ハイドロパーオキサイドとオレフ
ィンとの反応により実施される。
た触媒の存在下、有機ハイドロパーオキサイドとオレフ
ィンとの反応により実施される。
【００２６】有機ハイドロパーオキサイドは、一般式 Ｒ−Ｏ−Ｏ−Ｈ （ここにＲは１価のヒドロカルビル基である。）を有す
る化合物であって、これはオレフィン型化合物と反応し
て、オキシラン化合物及び化合物Ｒ−ＯＨを生成する。
る化合物であって、これはオレフィン型化合物と反応し
て、オキシラン化合物及び化合物Ｒ−ＯＨを生成する。
【００２７】好ましくは、基Ｒは炭素原子を３〜２０個
を有する基である。最も好ましくは、これは炭素原子３
〜１０個のヒドロカルビル基、特に、第２又は第３アル
キル基又はアラルキル基である。これらの基のうちで特
に好ましい基は第３アルキル基、及び第２又は第３アラ
ルキル基であって、その具体例には第３ブチル基、第３
ペンチル基、シクロペンチル基、１−フェニルエチル−
１基、２−フェニルプロピル−２基があげられ、更にま
た、テトラリン分子の脂肪族側鎖から水素原子を除去す
ることによって生じる種々のテトラニリル基もあげられ
る。
を有する基である。最も好ましくは、これは炭素原子３
〜１０個のヒドロカルビル基、特に、第２又は第３アル
キル基又はアラルキル基である。これらの基のうちで特
に好ましい基は第３アルキル基、及び第２又は第３アラ
ルキル基であって、その具体例には第３ブチル基、第３
ペンチル基、シクロペンチル基、１−フェニルエチル−
１基、２−フェニルプロピル−２基があげられ、更にま
た、テトラリン分子の脂肪族側鎖から水素原子を除去す
ることによって生じる種々のテトラニリル基もあげられ
る。
【００２８】エチルベンゼンハイドロパーオキサイドを
使用した場合には、その結果得られるヒドロキシル化合
物は１−フェニルエタノールであり、これは脱水反応に
よってスチレンに変換できる。クメンハイドロパーオキ
サイドを使用した場合には、その結果得られるヒドロキ
シル化合物は２−フェニル-２-プロパノールである。こ
れは脱水反応によってα−メチルスチレンに変換でき
る。スチレン及びα−メチルスチレンの両者は工業的に
有用な物質である。
使用した場合には、その結果得られるヒドロキシル化合
物は１−フェニルエタノールであり、これは脱水反応に
よってスチレンに変換できる。クメンハイドロパーオキ
サイドを使用した場合には、その結果得られるヒドロキ
シル化合物は２−フェニル-２-プロパノールである。こ
れは脱水反応によってα−メチルスチレンに変換でき
る。スチレン及びα−メチルスチレンの両者は工業的に
有用な物質である。
【００２９】第３ペンチルハイドロパーオキサイドを使
用したときに得られる第３ペンチルアルコールの脱水反
応によって生じる第３アミレンは、イソプレンの前駆体
として有用な物質である。第３ペンチルアルコールはオ
クタン価向上剤であるメチル第３ペンチルエーテルの前
駆体としても有用である。t-ブチルハイドロパーオキサ
イドを使用したときに得られるt-ブチルアルコールはオ
クタン価向上剤であるメチル-t-ブチルエーテルの前駆
体として有用な物質である。
用したときに得られる第３ペンチルアルコールの脱水反
応によって生じる第３アミレンは、イソプレンの前駆体
として有用な物質である。第３ペンチルアルコールはオ
クタン価向上剤であるメチル第３ペンチルエーテルの前
駆体としても有用である。t-ブチルハイドロパーオキサ
イドを使用したときに得られるt-ブチルアルコールはオ
クタン価向上剤であるメチル-t-ブチルエーテルの前駆
体として有用な物質である。
【００３０】原料物質として使用される有機ハイドロパ
ーオキサイドは、希薄又は濃厚な精製物又は非精製物で
あってよい。
ーオキサイドは、希薄又は濃厚な精製物又は非精製物で
あってよい。
【００３１】少なくとも１つのオレフィン型二重結合を
有する有機化合物を有機ハイドロパーオキサイドと反応
させることができる。該化合物は非環式、単環式、二環
式又は多環式化合物であってよく、かつ、モノオレフィ
ン型、ジオレフィン型又はポリオレフィン型のものであ
ってよい。オレフィン結合が２以上ある場合には、これ
は共役結合又は非共役結合であってよい。炭素原子２〜
６０個のオレフィン型化合物が一般に好ましい。置換基
を有していてもよいが、置換基は比較的安定な基である
ことが好ましい。このような炭化水素の例にはエチレ
ン、プロピレン、ブテン-１、イソブチレン、ヘキセン-
１、ヘキセン-２、ヘキセン−３、オクテン−１、デセ
ン−１、スチレン、シクロヘキセンがあげられる。適当
なジオレフィン型炭化水素の例にはブタジエン、イソプ
レンがあげられる。置換基が存在してもよく、その例に
はハロゲン原子があげられ、更にまた、酸素、硫黄、窒
素原子を、水素及び／又は炭素原子と共に含有する種々
の置換基が存在してもよい。特に好ましいオレフィン型
化合物はオレフィン型不飽和アルコール、及びハロゲン
で置換されたオレフィン型不飽和炭化水素であり、その
例にはアリルアルコール、クロチルアルコール、塩化ア
リルがあげられる。特に好適なものは炭素原子３〜４０
個のアルケンであって、これはヒドロキシル基又はハロ
ゲン原子で置換されていてもよい。
有する有機化合物を有機ハイドロパーオキサイドと反応
させることができる。該化合物は非環式、単環式、二環
式又は多環式化合物であってよく、かつ、モノオレフィ
ン型、ジオレフィン型又はポリオレフィン型のものであ
ってよい。オレフィン結合が２以上ある場合には、これ
は共役結合又は非共役結合であってよい。炭素原子２〜
６０個のオレフィン型化合物が一般に好ましい。置換基
を有していてもよいが、置換基は比較的安定な基である
ことが好ましい。このような炭化水素の例にはエチレ
ン、プロピレン、ブテン-１、イソブチレン、ヘキセン-
１、ヘキセン-２、ヘキセン−３、オクテン−１、デセ
ン−１、スチレン、シクロヘキセンがあげられる。適当
なジオレフィン型炭化水素の例にはブタジエン、イソプ
レンがあげられる。置換基が存在してもよく、その例に
はハロゲン原子があげられ、更にまた、酸素、硫黄、窒
素原子を、水素及び／又は炭素原子と共に含有する種々
の置換基が存在してもよい。特に好ましいオレフィン型
化合物はオレフィン型不飽和アルコール、及びハロゲン
で置換されたオレフィン型不飽和炭化水素であり、その
例にはアリルアルコール、クロチルアルコール、塩化ア
リルがあげられる。特に好適なものは炭素原子３〜４０
個のアルケンであって、これはヒドロキシル基又はハロ
ゲン原子で置換されていてもよい。
【００３２】オキシラン化合物は有用な工業用化学品で
ある。プロピレンオキサイドは、重合反応又は共重合反
応によって有用な重合体生成物に変換できる。塩化アリ
ルから得られるエピクロロヒドリンも工業的に重要であ
る。エピクロロヒドリンはグリセリンに変換できる。ア
リルアルコールから得られたオキシラン化合物から、グ
リセリンを製造することも可能である。
ある。プロピレンオキサイドは、重合反応又は共重合反
応によって有用な重合体生成物に変換できる。塩化アリ
ルから得られるエピクロロヒドリンも工業的に重要であ
る。エピクロロヒドリンはグリセリンに変換できる。ア
リルアルコールから得られたオキシラン化合物から、グ
リセリンを製造することも可能である。
【００３３】エポキシ化反応は、溶媒及び／又は希釈剤
を用いて液相中で実施できる。溶媒及び希釈剤は、反応
時の温度及び圧力のもとで液体であり、かつ、反応体及
び生成物に対して実質的に不活性なものでなければなら
ない。溶媒は使用されるハイドロパーオキサイド溶液中
に存在する物質からなるものであってよい。例えばエチ
ルベンゼンハイドロパーオキサイド（ＥＢＨＰ）がＥＢ
ＨＰとその原料であるエチルベンゼンとからなる混合物
であるばあいには、特に溶媒を添加することなく、これ
を溶媒の代用とすることも可能である。
を用いて液相中で実施できる。溶媒及び希釈剤は、反応
時の温度及び圧力のもとで液体であり、かつ、反応体及
び生成物に対して実質的に不活性なものでなければなら
ない。溶媒は使用されるハイドロパーオキサイド溶液中
に存在する物質からなるものであってよい。例えばエチ
ルベンゼンハイドロパーオキサイド（ＥＢＨＰ）がＥＢ
ＨＰとその原料であるエチルベンゼンとからなる混合物
であるばあいには、特に溶媒を添加することなく、これ
を溶媒の代用とすることも可能である。
【００３４】希釈剤として更に第二の溶媒を用いること
ができ、希釈剤として有用な溶媒としては、芳香族の単
環式化合物（たとえばベンゼン、トルエン、クロロベン
ゼン、ブロモベンゼン、オルトジクロロベンゼン）、及
びアルカン（たとえばオクタン、デカン、ドデカン）な
どがあげられる。。余剰量のオレフィン型反応体を溶媒
として使用することも可能である。すなわち、有機ハイ
ドロパーオキサイドと一緒に供給された溶媒と共に、余
剰量のオレフィン型反応体が溶媒として使用できる。溶
媒全体の使用量は、（ハイドロパーオキサイドモル当た
り）２０モル以下であることが好ましい。
ができ、希釈剤として有用な溶媒としては、芳香族の単
環式化合物（たとえばベンゼン、トルエン、クロロベン
ゼン、ブロモベンゼン、オルトジクロロベンゼン）、及
びアルカン（たとえばオクタン、デカン、ドデカン）な
どがあげられる。。余剰量のオレフィン型反応体を溶媒
として使用することも可能である。すなわち、有機ハイ
ドロパーオキサイドと一緒に供給された溶媒と共に、余
剰量のオレフィン型反応体が溶媒として使用できる。溶
媒全体の使用量は、（ハイドロパーオキサイドモル当た
り）２０モル以下であることが好ましい。
【００３５】エポキシ化反応温度は一般に０〜２００℃
であるが、２５〜２００℃の温度が好ましい。圧力は、
反応混合物を液体の状態に保つのに充分な圧力でよい。
一般に圧力は１００〜１００００ＫＰａであることが有
利である。
であるが、２５〜２００℃の温度が好ましい。圧力は、
反応混合物を液体の状態に保つのに充分な圧力でよい。
一般に圧力は１００〜１００００ＫＰａであることが有
利である。
【００３６】エポキシ化反応の終了後に、所望生成物を
含有する液状混合物が触媒組成物から容易に分離でき
る。次いで液状混合物を適当な方法によって精製でき
る。精製は分別蒸留、選択抽出、濾過、洗浄等を含む。
溶媒、触媒、未反応オレフィン、未反応ハイドロパーオ
キサイドは再循環して再び使用することもできる。本発
明方法は、スラリー、固定床の形の触媒を使用して有利
に実施できる。大規模な工業的操作の場合には、固定床
を用いるのが好ましい。本発明の方法は、回分法、半連
続法又は連続法によって実施できる。反応体を含有する
液を固定床に通した場合には、反応帯域から出た液状混
合物には、触媒が全く含まれていないか又は実質的に含
まれていない。
含有する液状混合物が触媒組成物から容易に分離でき
る。次いで液状混合物を適当な方法によって精製でき
る。精製は分別蒸留、選択抽出、濾過、洗浄等を含む。
溶媒、触媒、未反応オレフィン、未反応ハイドロパーオ
キサイドは再循環して再び使用することもできる。本発
明方法は、スラリー、固定床の形の触媒を使用して有利
に実施できる。大規模な工業的操作の場合には、固定床
を用いるのが好ましい。本発明の方法は、回分法、半連
続法又は連続法によって実施できる。反応体を含有する
液を固定床に通した場合には、反応帯域から出た液状混
合物には、触媒が全く含まれていないか又は実質的に含
まれていない。
【００３７】
【実施例】以下に実施例により本発明を説明する。 実施例１
【００３８】触媒の調製：窒素気流下、チタン酸テトラ
イソプロピル（ ０．３７ｇ,１.３ ×１０-3ｍｏｌ）の
イソプロパノール（１０ｍｌ）溶液に攪拌下アセチルア
セトン（ ０.２７ ｇ）をゆっくり滴下した後、３０分
室温で攪拌した。シリカゲル（２５ｇ, シラノール基数
２.２×１０-3 ｍｏｌ／ｇ）とイソプロパノール（１２
０ｍｌ）の混合物に、上記の液を滴下した後、１時間室
温で攪拌後混合物を濾過した。担体上のシラノール基の
モル数（Ｂ）に対する含浸液中のチタン金属のモル数
（Ａ）比（Ａ／Ｂ）は０．０２であった。次に、固体部
分を３回イソプロパノールで洗浄した（計１２０ｍ
ｌ）。固体部を空気雰囲気下１５０℃で２時間乾燥し
た。更に空気雰囲気下６００℃で４時間焼成した。この
物質（１０ｇ）、ヘキサメチルジシラザン（４ｇ）、ト
ルエン（５０ｇ）を混合し、攪拌下、１時間加熱還流し
た。混合物から濾過により液を留去した。トルエン（１
００ｇ）で洗浄し、真空乾燥（１２０℃、１０ｍｍＨ
ｇ、３時間）することにより触媒を得た。
イソプロピル（ ０．３７ｇ,１.３ ×１０-3ｍｏｌ）の
イソプロパノール（１０ｍｌ）溶液に攪拌下アセチルア
セトン（ ０.２７ ｇ）をゆっくり滴下した後、３０分
室温で攪拌した。シリカゲル（２５ｇ, シラノール基数
２.２×１０-3 ｍｏｌ／ｇ）とイソプロパノール（１２
０ｍｌ）の混合物に、上記の液を滴下した後、１時間室
温で攪拌後混合物を濾過した。担体上のシラノール基の
モル数（Ｂ）に対する含浸液中のチタン金属のモル数
（Ａ）比（Ａ／Ｂ）は０．０２であった。次に、固体部
分を３回イソプロパノールで洗浄した（計１２０ｍ
ｌ）。固体部を空気雰囲気下１５０℃で２時間乾燥し
た。更に空気雰囲気下６００℃で４時間焼成した。この
物質（１０ｇ）、ヘキサメチルジシラザン（４ｇ）、ト
ルエン（５０ｇ）を混合し、攪拌下、１時間加熱還流し
た。混合物から濾過により液を留去した。トルエン（１
００ｇ）で洗浄し、真空乾燥（１２０℃、１０ｍｍＨ
ｇ、３時間）することにより触媒を得た。
【００３９】プロピレンのエチルベンゼンハイドロパー
オキサイト゛（ＥＢＨＰ）を用いるエポキシ化反応による
プロピレンオキサイド（ＰＯ）の合成：このようにして
合成した触媒（３ｇ）、３５％エチルベンゼンハイドロ
パーオキサイド（２４ｇ）、プロピレン（１７ｇ）を磁
気攪拌機付きオートクレーブに仕込み、９０℃で １時
間反応した。反応成績を表１に示す。
オキサイト゛（ＥＢＨＰ）を用いるエポキシ化反応による
プロピレンオキサイド（ＰＯ）の合成：このようにして
合成した触媒（３ｇ）、３５％エチルベンゼンハイドロ
パーオキサイド（２４ｇ）、プロピレン（１７ｇ）を磁
気攪拌機付きオートクレーブに仕込み、９０℃で １時
間反応した。反応成績を表１に示す。
【００４０】実施例２〜６及び比較例１ 含浸液中のチタン金属のモル数が表１の値になるように
チタン酸テトライソプロピル及びアセチルアセトンの量
を調節した点を除き実施例１と同等の方法により触媒を
得た。エポキシ化反応成績を表１〜２に示す。
チタン酸テトライソプロピル及びアセチルアセトンの量
を調節した点を除き実施例１と同等の方法により触媒を
得た。エポキシ化反応成績を表１〜２に示す。
【００４１】表１〜２において、担体上のシラノール基
のモル数に対する含浸液中のチタン金属のモル数の比が
０.２以下であると、０.２より大きい場合に比較して選
択率が高い。 比を０.２以下に規制することが高選択率
触媒を得るために重要であることは明らかである。
のモル数に対する含浸液中のチタン金属のモル数の比が
０.２以下であると、０.２より大きい場合に比較して選
択率が高い。 比を０.２以下に規制することが高選択率
触媒を得るために重要であることは明らかである。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【表２】
【００４４】１）担体シリカゲル２５ｇに対しての量 ２) ＰＯ選択率= 生成ＰＯ（ｍｏｌ）／ 消費ＥＢＨＰ
（ｍｏｌ）×１００ ３) ＥＢＨＰ転化率 = 消費ＥＢＨＰ（ｍｏｌ）／ 仕
込みＥＢＨＰ（ｍｏｌ）×１００
（ｍｏｌ）×１００ ３) ＥＢＨＰ転化率 = 消費ＥＢＨＰ（ｍｏｌ）／ 仕
込みＥＢＨＰ（ｍｏｌ）×１００
【００４５】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明により、オ
レフィン型化合物と、有機ハイドロパーオキサイドをチ
タン含有固体触媒を用いて反応させ、オレフィン型化合
物をオキシラン化合物に変換する方法であって,選択率
が高く、公知法より小さな精製設備、エネルギーで目的
の変換を行うことを可能とするオキシラン化合物の製造
方法を提供することができた。
レフィン型化合物と、有機ハイドロパーオキサイドをチ
タン含有固体触媒を用いて反応させ、オレフィン型化合
物をオキシラン化合物に変換する方法であって,選択率
が高く、公知法より小さな精製設備、エネルギーで目的
の変換を行うことを可能とするオキシラン化合物の製造
方法を提供することができた。
Claims (7)
- 【請求項１】 オレフィン型化合物と有機ハイドロパー
オキサイドとを反応させてオキシラン化合物を製造する
チタン含有固体触媒であって、（１）下記［式−１］を
充足するチタン含有含浸液中に担体であるシリカを含浸
し、（２）焼成する、ことにより得られるチタン含有固
体触媒。 Ａ／Ｂ≦０．２ ［式−１］ Ａ：含浸液中のチタン金属のモル数 Ｂ：担体であるシリカ上に存在するシラノール基のモル
数 - 【請求項２】 請求項１記載の方法により得られた触媒
を更にシリル化することにより得られる請求項１記載の
触媒。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載の触媒の存在
下、オレフィン型化合物と有機ハイドロパーオキサイド
とを反応させるオキシラン化合物の製造方法。 - 【請求項４】 オレフィン型化合物がプロピレンである
請求項３記載の製造方法。 - 【請求項５】 有機ハイドロパーオキサイドがエチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイドである請求項３記載の製
造方法。 - 【請求項６】 オレフィン型化合物がプロピレンであ
り、かつ有機ハイドロパーオキサイドがエチルベンゼン
ハイドロパーオキサイドである請求項３記載の製造方
法。 - 【請求項７】 オレフィン型化合物がプロピレンであ
り、かつ有機ハイドロパーオキサイドがｔ−ブチルハイ
ドロパーオキサイドである請求項３記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10058678A JPH10323564A (ja) | 1997-03-28 | 1998-03-10 | チタン含有固体触媒及びオキシラン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7705997 | 1997-03-28 | ||
| JP9-77059 | 1997-03-28 | ||
| JP10058678A JPH10323564A (ja) | 1997-03-28 | 1998-03-10 | チタン含有固体触媒及びオキシラン化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10323564A true JPH10323564A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=26399705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10058678A Withdrawn JPH10323564A (ja) | 1997-03-28 | 1998-03-10 | チタン含有固体触媒及びオキシラン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10323564A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255949A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | プロピレンオキシドの製造方法 |
-
1998
- 1998-03-10 JP JP10058678A patent/JPH10323564A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255949A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | プロピレンオキシドの製造方法 |
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