JPH10324672A - フェニルグリオキシル酸エステル類の製造法、それを用いたメトキシイミノアセトアミド誘導体の製造法およびそれらの中間体 - Google Patents

フェニルグリオキシル酸エステル類の製造法、それを用いたメトキシイミノアセトアミド誘導体の製造法およびそれらの中間体

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JPH10324672A JP13365697A JP13365697A JPH10324672A JP H10324672 A JPH10324672 A JP H10324672A JP 13365697 A JP13365697 A JP 13365697A JP 13365697 A JP13365697 A JP 13365697A JP H10324672 A JPH10324672 A JP H10324672A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】農業用殺菌剤の重要な製造用中間体であるフェ
ニルグリオキシル酸エステル類の製造方法、それを原料
にした、フェニルグリオキシル酸アミド類および農業用
殺菌剤として有用なメトキシイミノアセトアミド誘導体
の製造方法ならびにそれらの中間体を提供する。 【解決手段】一般式（Ｉ）： 【化１】 ［式中、Ａは置換されていてもよいベンゼン環、Ｚは−
Ｏ−又は−ＯＣＨ2−、又はＡ−Ｚ−はメチル基；Ｘは
ハロゲン原子を示す］で表わされるグリニャ−ル試薬
に、一般式（ＩＩ）： （ＣＯＯＲ1）2 （ＩＩ） ［式中、Ｒ1はｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル
又はｓｅｃ−ブチルを示す］で表わされるしゅう酸ジア
ルキルをテトラヒドロフラン溶媒中反応させることを特
徴とする、一般式（ＩＩＩ）： 【化２】 ［式中、Ａ、ＺおよびＲ1は前記と同意義］で表わされ
るフェニルグリオキシル酸エステル類の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、農業用殺菌剤の重
要な製造用中間体であるフェニルグリオキシル酸エステ
ル類の製造方法、それを原料にした、フェニルグリオキ
シル酸アミド類および農業用殺菌剤として有用なメトキ
シイミノアセトアミド誘導体の製造方法、ならびにそれ
らの中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しょうとする課題】フェ
ニルグリオキシル酸アミド類は、農業用殺菌剤として有
用なアルコキシイミノアセトアミド類の重要な製造用中
間体として知られている（特開平３−２４６２６８号参
照）。
【０００３】その製造法として、例えば、対応するグリ
ニャール試薬にオキサリルハライドを反応させて得られ
るフェニルグリオキシル酸ハライド類と、アミンの反応
（特開平５−９７７６８号）、又は対応するカルボン酸
ハライドとイソシアニドの反応（特開平５−３３１１２
４号）による製造法が知られている。しかしながら、こ
れらの製造法に用いられるオキサリルハライドおよびイ
ソシアニドの経済性、安全性が工業的な製造法として問
題である。
【０００４】また、テトラヒドロフラン溶媒中、対応す
るグリニャール試薬にしゅう酸ジメチルを反応させて得
られるフェニルグリオキシル酸メチルエステル類と、ア
ミンの反応による製造法が知られている（特開平３−２
４６２６８号）が、この製造法は以下の点で不十分であ
った。
【０００５】１）グリニャール反応工程の溶媒であるテ
トラヒドロフランと、反応で生成する１モルのメタノー
ルが共沸し、溶媒回収が困難である。これは工業的な製
造法として非常に問題である。 ２）グリニャール反応工程の原料であるしゅう酸ジメチ
ルが結晶であるため、取り扱いの面で工業的な製造法と
しては不都合である。 ３）グリニャール反応工程で溶媒のテトラヒドロフラン
量が少ない場合、しゅう酸ジメチルの結晶が残存し、副
生成物の生成量が増加する。特に低温反応が要求される
場合に問題である。 ４）グリニャール反応工程で反応の進行とともに結晶が
多量に析出し、攪拌が困難になる場合が多い。これも低
温反応が要求される場合に問題である。 ５）中間体のフェニルグリオキシル酸メチルエステル類
を単離せずにアミド化した場合には、反応で生成するも
う１モルのメタノールがテトラヒドロフラン溶媒中に混
入する。
【０００６】本発明は、これらの問題点を改良したフェ
ニルグリオキシル酸エステル類の工業的に有利な製造法
を提供するとともに、それを原料にした、フェニルグリ
オキシル酸アミド類および農業用殺菌剤として有用なメ
トキシイミノアセトアミド誘導体の製造方法を提供する
ことを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、フェニル
グリオキシル酸アミド類のより優れた製造方法を見出す
べく鋭意検討を重ねた結果、フェニルグリオキシル酸ｎ
−プロピルエステル類、フェニルグリオキシル酸ｎ−ブ
チルエステル類、フェニルグリオキシル酸イソブチルエ
ステル類又はフェニルグリオキシル酸ｓｅｃ−ブチルエ
ステル類を経由することにより目的とするフェニルグリ
オキシル酸アミド類を高い収率で、しかも容易に製造し
得ることを見出し本発明を完成した。
【０００８】すなわち本発明は、（１）一般式（Ｉ）：
【０００９】
【化１４】
【００１０】［式中、Ａは置換されていてもよいベンゼ
ン環、Ｚは−Ｏ−又は−ＯＣＨ２−、又はＡ−Ｚ−はメ
チル基；Ｘはハロゲン原子を示す］で表わされるグリニ
ャ−ル試薬に、一般式（ＩＩ）： （ＣＯＯＲ1）2 （ＩＩ） ［式中、Ｒ1はｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル
又はｓｅｃ−ブチルを示す］で表わされるしゅう酸ジア
ルキルをテトラヒドロフラン溶媒中反応させることを特
徴とする、一般式（ＩＩＩ）：
【００１１】
【化１５】
【００１２】［式中、Ａ、ＺおよびＲ１は前記と同意
義］で表わされるフェニルグリオキシル酸エステル類の
製造方法、（２）（１）に記載の製造方法により得たフ
ェニルグリオキシル酸エステル類に、一般式（ＩＶ）： ＨＮＲ2Ｒ3 （ＩＶ） ［式中、Ｒ2およびＲ3は同一又は異なって水素原子、低
級アルキル又は低級アルコキシを示す］で表わされるア
ミンとを反応させることを特徴とする、一般式（Ｖ）：
【００１３】
【化１６】
【００１４】［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ２およびＲ3は前記と
同意義］で表わされるフェニルグリオキシル酸アミド類
の製造方法、（３）フェニルグリオキシル酸エステル類
を単離せずに使用する（２）に記載の製造方法、（４）
フェニルグリオキシル酸エステル類を単離して、テトラ
ヒドロフラン、Ｒ 1ＯＨ［式中、Ｒ1は前記と同意義］で
表わされるアルコ−ル、又はこれらの混合溶媒中で行う
（２）に記載の製造方法、（５）Ａ−Ｚ−がメチル基で
ある（１）の記載の製造方法により得た一般式（ＩＩＩ
ａ）：
【００１５】
【化１７】
【００１６】［式中、Ｒ１は前記と同意義］で表わされ
るフェニルグリオキシル酸エステル類をハロゲン化し
て、一般式（ＶＩ）：
【００１７】
【化１８】
【００１８】［式中、ＸおよびＲ１は前記と同意義］で
表わされる化合物を得、次いで一般式（ＶＩＩ）：
【００１９】
【化１９】
【００２０】［式中、Ｒ４は水素原子、低級アルキル、
低級アルケニル、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アル
キル又はハロゲン原子；ｎは１〜４の整数を示す］で表
わされるフェノ−ル類を反応させて、一般式（ＩＩＩ
ｂ）：
【００２１】
【化２０】
【００２２】［式中、Ｒ１、Ｒ4およびｎは前記と同意
義］で表わされるフェニルグリオキシル酸エステル類を
得、次いで一般式（ＩＶ）： ＨＮＲ2Ｒ3 （ＩＶ） ［式中、Ｒ2およびＲ3は前記と同意義］で表わされるア
ミンとを反応させることを特徴とする、一般式（Ｖ
ａ）：
【００２３】
【化２１】
【００２４】［式中、Ｒ２、Ｒ3、Ｒ4およびｎは前記と
同意義］で表わされるフェニルグリオキシル酸アミド類
の製造方法、（６）（２）ないし（５）に記載のいずれ
かの製造方法により得たフェニルグリオキシル酸アミド
類に、メトキシルアミン又はその塩を反応させることを
特徴とする、一般式（ＶＩＩＩ）：
【００２５】
【化２２】
【００２６】［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ２およびＲ3は前記と
同意義、結合〜はＥ体、Ｚ体またはＥ体とＺ体の混合物
のいずれかの配置を示す］で表わされるメトキシイミノ
アセトアミド誘導体の製造方法、（７）（２）ないし
（５）に記載のいずれかの製造方法により得たフェニル
グリオキシル酸アミド類に、ヒドロキシルアミン又はそ
の塩を反応させて、一般式（ＩＸ）：
【００２７】
【化２３】
【００２８】［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ２、Ｒ3および結合〜
は前記と同意義］で表わされるヒドロキシイミノアセト
アミド誘導体を得、次いで一般式（Ｘ）： ＣＨ3−Ｌ （Ｘ） ［式中、Ｌは脱離基を示す］で表わされるメチル化剤を
反応させることを特徴とする、一般式（ＶＩＩＩ）：
【００２９】
【化２４】
【００３０】［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ２、Ｒ3および結合〜
は前記と同意義］で表わされるメトキシイミノアセトア
ミド誘導体の製造方法、（８）Ｒ1がｎ−ブチルである
しゅう酸ジアルキルを反応させる（１）ないし（７）に
記載の製造方法。（９）Ｒ2またはＲ3のいずれかが水素
であり、もう一方がメチルであるアミンを反応させる
（２）ないし（７）に記載の製造方法、（１０）一般式
（ＩＩＩ）：
【００３１】
【化２５】
【００３２】［式中、Ａ、ＺおよびＲ１は前記と同意
義］で表わされるフェニルグリオキシル酸エステル類、
（１１）Ｒ1がｎ−ブチルである（１０）に記載のフェ
ニルグリオキシル酸エステル類、および（１２）一般式
（ＶＩ）：
【００３３】
【化２６】
【００３４】［式中、ＸおよびＲ１は前記と同意義］で
表わされる化合物を提供するものである。
【００３５】本発明によると、対応するグリニャ−ル試
薬に反応させるしゅう酸ジｎ−プロピル、しゅう酸ジｎ
−ブチル、しゅう酸ジイソブチルおよびしゅう酸ジｓｅ
ｃ−ブチルが液体で取り扱いが容易であり、また、それ
らのしゅう酸ジアルキル類および生成したフェニルグリ
オキシル酸エステル類がグリニャール反応工程の溶媒で
あるテトラヒドロフランに溶けやすいため溶媒量を低減
することができる。特に、反応で生成するｎ−プロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコ
ールおよびｓｅｃ−ブチルアルコールがテトラヒドロフ
ランと共沸しないため溶媒の回収が容易であることが挙
げられる。また、本発明は、テトラヒドロフラン溶媒中
グリニャ−ル反応工程とアミド化工程を連続して実施す
るか、又はフェニルグリオキシル酸エステル類を単離後
無溶媒もしくは適当な溶媒中でアミド化することもでき
る工業的に非常に有利な製造法である。
【００３６】本発明は、上記のような一連の製造方法に
おいて種々の反応溶媒と、種々の原料（しゅう酸ジアル
キル）又は反応工程で生じる種々のアルコ−ルとの無数
の組み合わせの中から、工業的製法として現実的に選択
しうる組み合わせの１つを特定し提供するものである。
【００３７】なお、この製法の別途合成として一般式
（ＩＩＩ）：
【００３８】
【化２７】
【００３９】［式中、Ａ、ＺおよびＲ１は前記と同意
義］で表わされるフェニルグリオキシル酸エステル類に
おいてＡ−Ｚ−がメチルである一般式（ＩＩＩａ）：
【００４０】
【化２８】
【００４１】［式中、Ｒ１は前記と同意義］であるフェ
ニルグリオキシル酸エステル類から当該メチル基をハロ
ゲン化した後フェノキシ化し、続いてアミド化してフェ
ニルグリオキシル酸アミド類を製造することが挙げられ
る。従って、一般式（ＶＩ）：
【００４２】
【化２９】
【００４３】［式中、ＸおよびＲ１は前記と同意義］で
表わされる化合物は新規化合物であるとともにこの別途
合成法の重要な中間体である。
【００４４】フェニルグリオキシル酸アミド類は、公知
の方法により農業用殺菌剤として有用なメトキシイミノ
アセトアミド誘導体に誘導することができる（特開平３
−２４６２６８号参照）。なお、フェニルグリオキシル
酸ｎ−プロピルエステル類、フェニルグリオキシル酸ｎ
−ブチルエステル類、フェニルグリオキシル酸イソブチ
ルエステル類及びフェニルグリオキシル酸ｓｅｃ−ブチ
ルエステル類は新規化合物であり、重要な中間体であ
る。
【００４５】本明細書中で用いる用語および記号につい
て以下に説明する。本明細書中で用いる「低級」なる語
は、別に定めのない限り、炭素数１〜８個、好ましくは
炭素数１〜６個、より好ましくは炭素数１〜４個の基を
表す。Ａで示される置換されていてもよいベンゼン環
は、非置換であってもよいし、次に示す置換基で置換さ
れていてもよい。例えば、低級アルキル（例、メチル、
エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等）、低
級アルケニル（例、ビニル、アリル、２−ブテニル
等）、低級アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、ｎ−
プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブト
キシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等）、ト
リフルオロメチル等が挙げられる。該置換基は、ベンゼ
ン環のいずれの位置で置換されていてもよい。置換基の
数は１〜４個、好ましくは１〜３個であり、これらは同
一であっても異なっていてもよい。Ａで示される置換さ
れていてもよいベンゼン環の好ましい具体例としては、
２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチル
フェニル、２，５−ジメチルフェニル、３，４−ジメチ
ルフェニル、３−トリフルオロメチルフェニル、４−ト
リフルオロメチルフェニルおよび非置換のフェニル等が
挙げられる。
【００４６】Ｚは、−Ｏ−、−ＯＣＨ2−、又はＡ−Ｚ
−はメチル基として定義される。Ｒ1は、ｎ−プロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル又はｓｅｃ−ブチルとして
定義される。これらの中ではｎ−ブチルが好ましい。Ｒ
2、Ｒ3は、同一又は異なって水素原子、低級アルキル又
は低級アルコキシとして定義される。Ｒ2、Ｒ3で示され
る低級アルキルとしては、前記Ａで示されるベンゼン環
に置換されていてもよい低級アルキルとして例示したも
のと同様のものが挙げられる。Ｒ2、Ｒ3で示される低級
アルコキシとしては、前記Ａで示されるベンゼン環に置
換されていてもよい低級アルコキシとして例示したもの
と同様のものが挙げられる。これらの場合で特に好まし
いのは、Ｒ2またはＲ3のいずれかが水素であり、もう一
方がメチルである場合である。
【００４７】Ｒ4は、例えば、低級アルキル（例、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル
等）、低級アルケニル（例、ビニル、アリル、２−ブテ
ニル等）、低級アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、
ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソ
ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ
等）、ハロゲン化低級アルキル（例、トリフルオロメチ
ル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、クロロメチ
ル、２−ブロモエチル、１，２−ジクロロプロピル
等）、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子）等が挙げられる。該置換基は、ベン
ゼン環のいずれの位置で置換されていてもよい。置換基
の数ｎは１〜４個、好ましくは１〜３個であり、これら
は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ4の好ましい
具体例としては、２−クロロフェニル、３−クロロフェ
ニル、４−クロロフェニル、２−メチルフェニル、３−
メチルフェニル、４−メチルフェニル、２，５−ジメチ
ルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、４−クロロ−
２−メチルフェニル、３，４−ジクロロフェニル、３−
トリフルオロメチルフェニル、４−トリフルオロメチル
フェニルおよび非置換のフェニル等が挙げられる。
【００４８】Ｘで示されるハロゲン原子としては、前記
Ｒ4で示される置換基のハロゲン原子として例示したも
のと同様のものが挙げられる。一般式（ＶＩＩＩ）およ
び（ＩＸ）で表わされる化合物にはイミノ部分によるＥ
体およびＺ体の二種の異性体が存在するが、本発明は、
これらの異性体およびこれらの異性体の任意の比率の混
合物を包含する。本明細書では、一般式中に波線（〜）
を使用してこれを示す。Ｌで表される脱離基としては、
ハロゲン原子（例、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
等）およびメトキシスルホニルオキシ等が挙げられる。
【００４９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の製造法の好ましい
具体例を各工程毎に説明する。 ［ステップ１］
【００５０】
【化３０】
【００５１】［式中、各記号は前記と同じ意味を示
す。］ 即ち、グリニャール試薬（Ｉ）は、乾燥テトラヒドロフ
ラン中、ハロゲン化物（ＸＩ）にマグネシウムを反応さ
せることにより製造することができる。通常、ハロゲン
化物（ＸＩ）に対して１〜４当量、好ましくは１〜２当
量のマグネシウムを反応させる。テトラヒドロフランの
使用量は、ハロゲン化物（ＸＩ）に対して、通常、約１
〜１０重量倍である。反応温度は通常２０℃ないし反応
混合物の還流温度、好ましくは３０〜８５℃である。反
応時間は１０分〜２４時間、好ましくは３０分〜１０時
間である。必要ならば反応の活性化剤としてヨウ素、
１，２−ジブロモエタン、エチルブロミド等を少量用い
る。また、グリニャール試薬（Ｉ）そのものを活性化剤
として用いてもよい。それらの量は、ハロゲン化物に
（ＸＩ）に対して０．００１〜０．４当量、好ましくは
０．００５〜０．２当量である。得られたグリニャール
試薬（Ｉ）は、単離してもよいが、通常、反応液のまま
次工程で使用することができる。
【００５２】［ステップ２］
【００５３】
【化３１】
【００５４】［式中、各記号は前記と同じ意味を示す］ 即ち、一般式（ＩＩＩ）で示されるフェニルグリオキシ
ル酸エステル類は、グリニャール試薬（Ｉ）としゅう酸
ジアルキル（ＩＩ）をテトラヒドロフラン中で反応させ
製造することができる。反応は、通常、しゅう酸ジアル
キル（ＩＩ）を約１〜１０重量倍のテトラヒドロフラン
に溶解した溶液中にグリニャール試薬（Ｉ）のテトラヒ
ドロフラン溶液を滴下する。しゅう酸ジアルキル（Ｉ
Ｉ）は、しゅう酸ジｎ−プロピル、しゅう酸ジｎ−ブチ
ル、しゅう酸ジイソブチル、しゅう酸ジｓｅｃ−ブチル
のいずれかを用い、グリニャール試薬（Ｉ）に対して１
当量またはそれ以上、好ましくは１〜３当量使用するこ
とができる。滴下は−１００〜５０℃、好ましくは−８
０〜３０℃にて５分〜５時間、好ましく１５分〜３時間
かけて行う。ついで、必要ならば−１００〜５０℃、好
ましくは−８０〜３０℃にて３０分〜５時間反応させれ
ばよい。または、逆にグリニャール試薬（Ｉ）のテトラ
ヒドロフラン溶液中にしゅう酸ジアルキル（ＩＩ）を約
１〜１０重量倍のテトラヒドロフランで希釈するか、も
しくは希釈せずに滴下して反応させてもよい。該反応条
件は、上記と同一である。得られたフェニルグリオキシ
ル酸エステル類（ＩＩＩ）は、反応液のままか粗製物と
して、または常法（例、カラムクロマトグラフィー、再
結晶等）により精製して次工程で使用することができ
る。
【００５５】フェニルグリオキシル酸エステル類（ＩＩ
Ｉ）は、新規化合物であり、本発明に包含される。この
一般式で示される化合物群の中ではＲ１がｎ−ブチルで
ある場合が好ましい。
【００５６】［ステップ３］
【００５７】
【化３２】
【００５８】［式中、各記号は前記と同じ意味を示す］ 即ち、一般式（Ｖ）で示されるフェニルグリオキシル酸
アミド類は、フェニルグリオキシル酸エステル類（ＩＩ
Ｉ）とアミン（ＩＶ）を無溶媒または適当な溶媒中（単
一もしくは混合）、反応させ製造することができる。反
応は、常圧下、加圧下、いずれでも実施できる。アミン
（ＩＶ）としては、一級アミン（例、メチルアミン、エ
チルアミン、ｎ−プロピルアミン、メトキシルアミン
等）、二級アミン（例、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、メチルエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン等）お
よびアンモニアが挙げられる。アミン（ＩＶ）の使用量
はフェニルグリオキシル酸エステル類（ＩＩＩ）を単離
せずに使用するか、単離して使用するかによっても異な
るが通常フェニルグリオキシル酸エステル類（ＩＩＩ）
に対して１〜１２当量、好ましくは１〜８当量使用する
ことができる。アミン（ＩＶ）は溶媒で希釈してフェニ
ルグリオキシル酸エステル類（ＩＶ）に滴下するか、ア
ミン（ＩＶ）が液体の場合には溶媒で希釈せず滴下して
もよい。また、アミン（ＩＶ）が気体の場合には反応溶
液中に直接導入してもよい。
【００５９】アミン（ＩＶ）を溶媒で希釈する場合の溶
媒としては、例えば、炭化水素類（例、ベンゼン、トル
エン、キシレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジク
ロロメタン、１，２−ジクロロエタン等）、エーテル類
（例、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、アルコー
ル類（例、メタノール、エタノール、 ｎ−プロパノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等）、水および
それらの混合溶媒等が挙げられる。特に反応で生成する
アルコール類（ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イ
ソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール）、水およびそれら
の混合溶媒等が好ましい。フェニルグリオキシル酸エス
テル類（ＩＩＩ）を単離せずに使用する場合には、新た
な溶媒を追加せずに反応させるか、必要ならば、アミン
（ＩＶ）を溶媒で希釈する場合の溶媒として例示したも
のと同様の溶媒で希釈して反応させてもよい。単離した
フェニルグリオキシル酸エステル類（ＩＩＩ）を使用す
る場合の反応溶媒としては、アミン（ＩＶ）を溶媒で希
釈する場合の溶媒として例示したものと同様の溶媒が挙
げられる。特にテトラヒドロフラン、反応で生成するア
ルコール類（ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソ
ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール）、およびそれらの混
合溶媒等が好ましい。アミン（ＩＶ）の滴下および導入
は、−７５〜６０℃、好ましくは−３０〜４０℃にて、
５分〜１２時間、好ましくは３０分〜６時間かけて行
う。ついで−５０〜１００℃、好ましくは０〜６０℃に
て、１分〜２４時間、好ましくは３０分〜１２時間反応
させてフェニルグリオキシル酸アミド類（Ｖ）を得る。
得られたフェニルグリオキシル酸アミド類（Ｖ）は、反
応液のままか粗製物で、または常法（例、カラムクロマ
トグラフィー、再結晶など）により精製して次工程で使
用することができる。
【００６０】［ステップ４］
【００６１】
【化３３】
【００６２】［式中、各記号は前記と同じ意味を示す］ 即ち、一般式（ＶＩＩＩ）で示されるメトキシイミノア
セトアミド類は、フェニルグリオキシル酸アミド類
（Ｖ）にメトキシルアミンまたはその塩を適当な溶媒中
（単一または混合）、反応させ製造することができる。
メトキシルアミンまたはその塩は、フェニルグリオキシ
ル酸アミド類（Ｖ）に対して１〜４当量、好ましくは１
〜２．５当量使用することができる。メトキシルアミン
の塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩等の鉱酸塩等が
挙げられる。使用出来る溶媒としては、例えば、炭化水
素類（例、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、ハロゲ
ン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、１，２−ジクロ
ロエタン等）、エーテル類（例、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等）、アルコール類（例、メタノール、エタ
ノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブ
タノール等）、水およびそれらの混合溶媒等が挙げられ
る。反応温度は、０〜１６０℃、好ましくは２０〜１３
０℃である。反応時間は、通常、１５分〜２４時間程度
である。得られた所望のメトキシイミノアセトアミド類
（ＶＩＩＩ）は、要すれば常法（例、カラムクロマトグ
ラフィー、再結晶等）により精製することができる。な
お、所望のメトキシイミノアセトアミド類（ＶＩＩＩ）
は、以下のステップ５とステップ６に従い、一般式（Ｉ
Ｘ）で示されるヒドロキシイミノアセトアミド類を経由
して製造することができる。
【００６３】［ステップ５］
【００６４】
【化３４】
【００６５】［式中、各記号は前記と同じ意味を示す］ 即ち、ヒドロキシイミノアセトアミド類（ＩＸ）は、フ
ェニルグリオキシル酸アミド類（Ｖ）にヒドロキシルア
ミンまたはその塩を適当な溶媒中（単一または混合）、
反応させ製造することができる。ヒドロキシルアミンま
たはその塩は、フェニルグリオキシル酸アミド類（Ｖ）
に対して１〜４当量、好ましくは１〜２．５当量使用す
ることができる。ヒドロキシルアミンの塩としては、例
えば、塩酸塩、硫酸塩等の鉱酸塩等が挙げられる。使用
出来る溶媒としては、例えば、炭化水素類（例、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭化水素類
（例、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等）、
エーテル類（例、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等）、アルコール類（例、メタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール
等）、水およびそれらの混合溶媒等が挙げられる。反応
温度は、０〜１６０℃、好ましくは２０〜１３０℃であ
る。反応時間は、通常、１５分〜２４時間程度である。
得られたヒドロキシイミノアセトアミド類（ＩＸ）は、
反応液のままか粗製物で、または常法（例、カラムクロ
マトグラフィー、再結晶など）により精製して次工程で
使用することができる。
【００６６】［ステップ６］
【００６７】
【化３５】
【００６８】［式中、Ｌはハロゲン原子（例、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等）またはメトキシスルホニ
ルオキシ等の脱離基を示し、他の記号は前記と同じ意味
を示す］ 即ち、一般式（ＶＩＩＩ）で示されるメトキシイミノア
セトアミド類は、ヒドロキシイミノアセトアミド類（Ｉ
Ｘ）と化合物（Ｘ）を塩基の存在下、適当な溶媒中（単
一または混合）、反応させ製造することができる。メチ
ル化剤である化合物（Ｘ）としては、ジメチル硫酸、メ
チルハライド（例、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メ
チル）等が挙げられる。本反応において、化合物（Ｘ）
は、ヒドロキシイミノアセトアミド類（ＩＸ）に対して
１当量またはそれ以上、好ましくは１〜３当量使用する
ことができる。使用することができる塩基としては、例
えば、金属水酸化物（例、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等）、金属炭酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム等）、金属アルコキシド（例、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブト
キシド等）等が挙げられ、化合物（ＩＸ）に対して１当
量またはそれ以上、好ましくは１〜３当量使用すること
ができる。使用できる溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、芳香族
炭化水素類（例、トルエン、ベンゼン、キシレン等）、
飽和炭化水素類（例、シクロヘキサン、ヘキサン等）、
ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、１，２−
ジクロロエタン等）、エーテル類（例、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等）、ケトン類（例、アセトン、メチ
ルエチルケトン等）、ニトリル類（例、アセトニトリル
等）、水およびそれらの混合溶媒等が挙げられる。反応
温度は−３０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃
である。反応時間は化合物により異なるが３０分〜７０
時間反応させればよい。得られた所望のメトキシイミノ
アセトアミド類（ＶＩＩＩ）は、要すれば常法（例、ク
ロマトグラフィー、再結晶など）により精製することが
できる。
【００６９】［ステップ７］
【００７０】
【化３６】
【００７１】［式中、各記号は前記と同じ意味を示す］ 即ち、一般式（ＶＩ）で示される化合物は、一般式（Ｉ
ＩＩａ）で示されるフェニルグリオキシル酸エステル類
のベンゼン環のメチル基をハロゲン化して製造すること
ができる。例えば、四塩化炭素、シクロヘキサン、ベン
ゼン、クロロベンゼン等の溶媒中、塩素、臭素、Ｎ−ク
ロロこはく酸イミドもしくはＮ−ブロモこはく酸イミド
等のハロゲン化剤と必要ならば水銀燈を用いて光照射下
で反応させるか、または２，２′−アゾビス（イソブチ
リロニトリル）、過酸化ジベンゾイル等のラジカル開始
剤の存在下で反応させて製造することができる。本反応
において、ハロゲン化剤は、フェニルグリオキシル酸エ
ステル類（ＩＩＩａ）に対して１当量またはそれ以上、
好ましくは１〜１．５当量使用することができる。ラジ
カル開始剤は、フェニルグリオキシル酸エステル類（Ｉ
ＩＩａ）に対して０．０１当量またはそれ以上、好まし
くは０．０３〜０．５当量使用することができる。反応
温度は２０〜１２０℃、好ましくは５０〜９０℃であ
る。反応時間は化合物により異なるが５分〜３時間反応
させればよい。得られた化合物（ＶＩ）は、反応液のま
まか粗製物で、または常法（例、カラムクロマトグラフ
ィー、再結晶など）により精製して次工程で使用するこ
とができる。化合物（ＶＩ）は、新規化合物であり、本
発明に包含される。
【００７２】［ステップ８］
【００７３】
【化３７】
【００７４】［式中、各記号は前記と同じ意味を示す］ 即ち、一般式（ＩＩＩｂ）で示されるフェニルグリオキ
シル酸エステル類は、化合物（ＶＩ）と一般式（ＶＩ
Ｉ）で示されるフェノール類を塩基の存在下、無溶媒ま
たは適当な溶媒中（単一もしくは混合）、反応させ製造
することができる。本反応において、フェノール類（Ｖ
ＩＩ）は、化合物（ＶＩ）に対して１当量またはそれ以
上、好ましくは１〜２当量使用することができる。使用
することができる塩基としては、例えば、金属水酸化物
（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、金属炭
酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、金属ア
ルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等）、金属水
素化物（例、水素化ナトリウム、水素化カリウム等）等
が挙げられ、塩基は化合物（ＶＩ）に対して１当量また
はそれ以上、好ましくは１〜３当量使用することができ
る。使用できる溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、芳香族炭化水
素類（例、トルエン、ベンゼン、キシレン等）、飽和炭
化水素類（例、シクロヘキサン、ヘキサン等）、エーテ
ル類（例、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、ケト
ン類（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、ニトリ
ル類（例、アセトニトリル等）、水およびそれらの混合
溶媒等が挙げられる。反応温度は−２０〜１３０℃で、
好ましくは０〜１００℃である。反応時間は化合物によ
り異なるが１０分〜２４時間反応させればよい。得られ
たフェニルグリオキシル酸エステル類（ＩＩＩｂ）は、
反応液のままか粗製物で、または常法（例、カラムクロ
マトグラフィー、再結晶など）により精製して次工程で
使用することができる。
【００７５】［ステップ９］
【００７６】
【化３８】
【００７７】［式中、各記号は前記と同じ意味を示す］ 即ち、一般式（Ｖａ）で示されるフェニルグリオキシル
酸アミド類は、一般式（ＩＩＩｂ）で示されるフェニル
グリオキシル酸エステル類にアミン（ＩＶ）をステップ
３と同条件で反応させることにより製造することができ
る。得られたフェニルグリオキシル酸アミド類は（Ｖ
ａ）は、反応液のままか粗製物で、または常法（例、カ
ラムクロマトグラフィー、再結晶など）により精製して
次工程で使用することができる。上記ステップ４および
６により得られた一般式（ＶＩＩＩ）で示されるメトキ
シイミノアセトアミド誘導体は、優れた殺菌活性を有し
ており、農業用殺菌剤として有用である（特開平３−２
４６２６８号参照）。
【００７８】
【実施例】以下、実施例を示して本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。実施例中に記載した１Ｈ−ＮＭＲ値は、重クロロホ
ルム中、テトラメチルシランを内部標準として、２７０
MHzで測定し、ケミカルシフト値をδ(ppm)で表した。結
合定数(J)はHzで標記した。データ中、sは一重線、dは
二重線、tは三重線、mは多重線、brsは幅の広い一重線
を意味する。
【００７９】［実施例１］ ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミドの製造 窒素ガス雰囲気下でマグネシウム１．３４ｇ（５５ｍｍ
ｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン２５ｍｌと臭化エチル
０．１９ｍｌ（２．５ｍｍｏｌ）の混合物に１−ブロモ
−２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンゼン
１４．５６ｇ（５０ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラ
ン１０ｍｌに溶解した溶液を少量滴下して加温し、グリ
ニャール試薬の生成が始まった後、残りの溶液を内温５
０〜６０℃に保ちながら３０分間で滴下した。続いて５
０〜６０℃で１時間撹拌した後、室温まで冷却した。反
応液を乾燥テトラヒドロフラン６ｍｌを使って滴下ロー
トに移し、しゅう酸ジｎ−ブチル１５．１７ｇ（７５ｍ
ｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン５０ｍｌに溶解した
溶液に−１０〜０℃で３０分間にわたって滴下した。滴
下ロートを乾燥テトラヒドロフラン４ｍｌで洗浄した
後、−１０〜０℃で１時間撹拌した。この反応溶液に４
０％メチルアミン水溶液１７．２ｍｌ（２００ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応後、２Ｎ塩酸
水溶液１００ｍｌを加えて１５分間撹拌し、酢酸エチル
１５０ｍｌで抽出、水１５０ｍｌで３回洗浄、さらに飽
和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃
縮して２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチ
ル）フェニル］−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミド
の粗結晶を得た。この結晶をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン／ジクロロメタン）で
精製して９．６７ｇ（収率６５．０％）の結晶を得た。1 H-NMR(CDCl3)δppm : 2.16(3H, s), 2.31(3H, s), 2.8
0(3H, d, J=4.9), 5.29(2H, s), 6.69-7.99(8H, m).
【００８０】［実施例２］ ２−（２−フェノキシフェニル）−２−オキソ酢酸ｎ−
ブチルの製造 ２−クロロジフェニルエーテル２０．４６ｇ（１００ｍ
ｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、
マグネシウム３．１６ｇ（１３０ｍｍｏｌ）、エチルブ
ロミド０．７５ｍｌ（１０ｍｍｏｌ）を加えて加熱する
と反応が開始し、内温が７０〜８０℃になるように氷水
で調節すると約３０分で発熱がおさまった。乾燥テトラ
ヒドロフラン２０ｍｌを追加して８０℃の油浴で６時間
加熱した（内温７２〜７３℃）。反応液を室温まで冷却
した後、乾燥テトラヒドロフラン３０ｍｌで滴下ロート
に移し、しゅう酸ジｎ−ブチル２２．２５ｇ（１１０ｍ
ｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解した
溶液中に−１０〜−５℃で１時間かけて滴下した。続い
て−１０〜−５℃で１時間撹拌後、さらに室温で２時間
撹拌した。反応後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え
てエーテル１００ｍｌで３回抽出、飽和食塩水で洗浄、
無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮して粗製２−
（２−フェノキシフェニル）−２−オキソ酢酸ｎ−ブチ
ル３２．３４ｇ得た。純度８２．３％（ＨＰＬＣ定
量）、換算収率８８．９％。粗製物の一部をシリカゲル
クロマトグラフィー（トルエン／ｎ−ヘキサンと酢酸エ
チル／ｎ−ヘキサン）で繰返し精製して淡黄色の低融点
結晶を得た。1 H-NMR(CDCl3)δppm : 0.81(3H, t, J=7.3), 1.22-1.36
(2H, m), 1.48-1.58(2H, m), 4.12(2H, t, J=7.3), 6.8
6(1H, d, J=8.8), 7.07-7.55(7H, m), 7.98(1H, d, J=
7.8).
【００８１】［実施例３］ ２−（２−フェノキシフェニル）−２−オキソ酢酸ｎ−
ブチルの製造 ２−クロロジフェニルエーテル２０．４６ｇ（１００ｍ
ｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、
マグネシウム３．１６ｇ（１３０ｍｍｏｌ）、エチルブ
ロミド０．７５ｍｌ（１０ｍｍｏｌ）を加えて加熱する
と反応が開始し、内温が７０〜８０℃になるように氷水
で調節すると約３０分で発熱がおさまった。乾燥テトラ
ヒドロフラン２０ｍｌを追加し、８０℃の油浴で３時間
加熱した（内温７０〜７２℃）。反応液を室温まで冷却
した後、乾燥テトラヒドロフラン３０ｍｌで滴下ロート
に移し、しゅう酸ジｎ−ブチル２２．２５ｇ（１１０ｍ
ｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解した
溶液中に５〜１０℃で１時間かけて滴下した。続いて５
℃で１時間撹拌後、さらに室温で２時間撹拌した。反応
後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてエーテル１０
０ｍｌで３回抽出、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、減圧濃縮して粗製２−（２−フェノキシ
フェニル）−２−オキソ酢酸ｎ−ブチル３２．２７ｇ得
た。純度７８．７％（ＨＰＬＣ定量）、換算収率８５．
１％。
【００８２】［実施例４］ ２−（２−フェノキシフェニル）−２−オキソ−Ｎ−メ
チルアセトアミドの製造 ２−（２−フェノキシフェニル）−２−オキソ酢酸ｎ−
ブチル５９７ｍｇ（２ｍｍｏｌ）をｎ−ブタノール２ｍ
ｌに溶解し、氷冷下で４０％メチルアミン水溶液０．３
９ｍｌ（５ｍｍｏｌ）を添加した。室温で１．５時間撹
拌後、減圧濃縮し、残渣に水３０ｍｌを加えてトルエン
３０ｍｌで２回抽出、水２０ｍｌで洗浄、無水硫酸ナト
リウムで乾燥、減圧濃縮して２−（２−フェノキシフェ
ニル）−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミドの粗結晶
を得た。この結晶をシリカゲルクロマトグラフィー（酢
酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製して４８０ｍｇ（収率
９４．０％）の結晶を得た。1 H-NMR(CDCl3)δppm : 2.87(3H, d, J=4.9), 6.63(1H,
brs), 6.86-7.78(9H,m).
【００８３】［実施例５］ ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミド
の製造 ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミド０．２７
ｇ（０．９ｍｍｏｌ）にメタノール２ｍｌと塩酸メトキ
シルアミン０．１５ｇ（１．８ｍｍｏｌ）を加えて４時
間加熱還流した。反応後、水１００ｍｌを加え、塩化メ
チレンで２回抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。乾燥後、減圧下で濃縮して２−［２−（２，５−ジ
メチルフェノキシメチル）フェニル］−２−メトキシイ
ミノ−Ｎ−メチルアセトアミドのＥ体とＺ体の混合物
（約１：１）を０．２８ｇ（収率９８．９％）得た。1 H-NMR(CDCl3)δppm : 3.95(1.5H, s), 4.01(1.5H, s),
4.92(1H, s), 5.17(1H, s).
【００８４】［実施例６］ ２−（２−フェノキシフェニル）−２−ヒドロキシイミ
ノ−Ｎ−メチルアセトアミドの製造 ２−（２−フェノキシフェニル）−２−オキソ−Ｎ−メ
チルアセトアミド１．２８ｇ（５ｍｍｏｌ）にメタノー
ル１０ｍｌと塩酸ヒドロキシルアミン０．６９ｇ（１０
ｍｍｏｌ）を加え、１３．５時間加熱還流した。反応
後、食塩水１５０ｍｌを加えて塩化メチレン１５０ｍｌ
で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、
減圧下で濃縮して２−（２−フェノキシフェニル）−２
−ヒドロキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミドのＥ体と
Ｚ体の混合物（約９９：１）１．３３ｇ（収率９７．８
％）を得た。融点１８３〜１８４．５℃。1 H-NMR(CDCl3)δppm : 2.84(3H, d, J=4.9), 6.77(1H,
brs), 6.88-7.37(9H,m).
【００８５】［実施例７］ ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−ヒドロキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミ
ドの製造 ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミド１１．９
０ｇ（４０ｍｍｏｌ）にエタノール１２０ｍｌと塩酸ヒ
ドロキシルアミン５．５６ｇ（８０ｍｍｏｌ）を加え、
１３時間加熱還流した。反応後、食塩水４００ｍｌを加
えて塩化メチレン２００ｍｌで２回抽出し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。乾燥後、減圧下で濃縮して得ら
れた結晶を酢酸エチル／ｎ−ヘキサンから再結晶して
（Ｅ）−２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチ
ル）フェニル］−２−ヒドロキシイミノ−Ｎ−メチルア
セトアミドの結晶５．５８ｇ（収率４４．７％）を得
た。さらに、再結晶の母液をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製をして（Ｅ）
−２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フ
ェニル］−２−ヒドロキシイミノ−Ｎ−メチルアセトア
ミドの結晶３．５９ｇ（収率２８．７％）と（Ｚ）−２
−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニ
ル］−２−ヒドロキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミド
の結晶３．２５ｇ（収率２６．０％）を得た。 Ｅ体：融点１５４〜１５５．５℃1 H-NMR(CDCl3)δppm : 2.17(3H, s), 2.29(3H, s), 2.8
6(3H, d, J=4.9), 4.96(2H, s), 6.64-7.61(8H, m). Ｚ体：融点１３９〜１４１℃1 H-NMR(CDCl3)δppm : 2.15(3H, s), 2.31(3H, s), 2.7
7(3H, d, J=4.9), 5.06(2H, s), 5.79(1H, brs), 6.69-
7.68(7H, m).
【００８６】［実施例８］ （Ｅ）−２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチ
ル）フェニル］−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセ
トアミドの製造 （Ｅ）−２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチ
ル）フェニル］−２−ヒドロキシイミノ−Ｎ−メチルア
セトアミド６．２５ｇ（２０ｍｍｏｌ）にアセトン６０
ｍｌ、炭酸カリウム８．２９ｇ（６０ｍｍｏｌ）とジメ
チル硫酸３．７８ｍｌ（４０ｍｍｏｌ）を加えて室温で
１４時間撹拌した。反応後、不溶物を除去し、減圧下で
濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製をして（Ｅ）−２
−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニ
ル］−２−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミドの
結晶６．１２ｇ（収率９３．７％）を得た。融点１３６
〜１３７℃。1 H-NMR(CDCl3)δppm : 2.18(3H, s), 2.29(3H, s), 2.8
8(3H, d, J=4.9), 3.95(3H, s), 4.92(2H, s), 6.62-7.
57(8H, m).
【００８７】［実施例９］ （Ｅ）−２−（２−フェノキシフェニル）−２−メトキ
シイミノ−Ｎ−メチルアセトアミドの製造 （Ｅ）−２−（２−フェノキシフェニル）−２−ヒドロ
キシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミド０．５４ｇ（２ｍ
ｍｏｌ）にアセトン６ｍｌ、炭酸カリウム０．８３ｇ
（６ｍｍｏｌ）とジメチル硫酸０．３８ｍｌ（４ｍｍｏ
ｌ）を加えて室温で６５時間撹拌した。反応後、不溶物
を除去し、減圧下で濃縮して得られた残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精
製をして（Ｅ）−２−（２−フェノキシフェニル）−２
−メトキシイミノ−Ｎ−メチルアセトアミドの結晶０．
５４ｇ（収率９４．７％）を得た。融点８３〜８４℃。1 H-NMR(CDCl3)δppm : 2.87(3H, d, J=4.9), 3.91(3H,
s),6.63(1H, brs), 6.88-7.36(9H, m).
【００８８】［実施例１０］ ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ酢酸ｎ−ブチルの製造 窒素ガス雰囲気下でマグネシウム０．３０ｇ（１２．３
ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン４ｍｌと臭化エチ
ル０．０５ｍｌ（０．７ｍｍｏｌ）の混合物に１−ブロ
モ−２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）ベンゼ
ン２．９１ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロ
フラン１０ｍｌに溶解した溶液を少量滴下して加温し、
グリニャール試薬の生成が始まった後、残りの溶液を内
温５０℃以下に保ちながら１０分間で滴下し、続いて５
０℃で１時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、
しゅう酸ジｎ−ブチル３．０３ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）
を乾燥テトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解した溶液に−
３０〜−２０℃で１０分間にわたって滴下した。続いて
−３０〜−２０℃で１時間撹拌した。反応後、飽和塩化
アンモニウム水溶液を加えて１０分間攪拌し、エーテル
３０ｍｌで３回抽出、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥、減圧濃縮して粗製２−［２−（２，５
−ジメチルフェノキシメチル）フェニル］−２−オキソ
酢酸ｎ−ブチルを得た。粗製物をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製して無色
結晶１．９１ｇ（収率５６．２％）を得た。融点６４〜
６７℃。1 H-NMR(CDCl3)δppm : 0.93(3H, t, J=7.3),1.32-1.46
(2H, m), 1.61-1.75(2H, m), 2.26(3H, s), 2.31(3H,
s), 4.26(2H, t, J=7.3), 5.39(2H, s), 6.70(1H, d, J
=7.6), 6.72(1H, s), 7.04(1H, d, J=7.6), 7.46(1H,
t, J=7.9), 7.66(1H, t, J=7.9), 7.82(1H, d, J=7.9),
7.84(1H, d, J=7.9).
【００８９】［実施例１１］ ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミドの製造 ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ酢酸ｎ−ブチル１．００ｇ（２．９
４ｍｍｏｌ）をメタノール５ｍｌに溶解し、４０％メチ
ルアミンメタノール溶液０．６０ｇ（７．７ｍｍｏｌ）
を添加して室温で４時間反応した。
【００９０】反応後、減圧濃縮して２−［２−（２，５
−ジメチルフェノキシメチル）フェニル］−２−オキソ
−Ｎ−メチルアセトアミドの結晶０．９０ｇを得た。
【００９１】［実施例１２］ ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミドの製造 窒素ガス雰囲気下でマグネシウム０．６７ｇ（２７．５
ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン３ｍｌと１，２−
ジブロモエタン０．１１ｍｌ（１．３ｍｍｏｌ）の混合
物に１−ブロモ−２−（２，５−ジメチルフェノキシメ
チル）ベンゼン７．２８ｇ（２５ｍｍｏｌ）を乾燥テト
ラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した溶液を少量滴下して
加温し、グリニャール試薬の生成が始まった後、残りの
溶液を内温５０〜６０℃に保ちながら１５分間で滴下し
た。続いて６０℃で１時間撹拌した後、室温まで冷却し
た。反応液を乾燥テトラヒドロフラン２ｍｌを使って滴
下ロートに移し、しゅう酸ジｎ−ブチル１０．２１ｍｌ
（５０ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン４５ｍｌに
溶解した溶液に−６５〜−６０℃で２０分間にわたって
滴下した。滴下ロートを乾燥テトラヒドロフラン５ｍｌ
で洗浄した後、−６０℃で１時間撹拌した。反応後、塩
化アンモニウム水溶液１００ｍｌとトルエン１００ｍｌ
を加えて室温で５分間攪拌した後、トルエン層と水層を
分液した。水層をさらにトルエン１００ｍｌで抽出し、
トルエン層を合わせて水１００ｍｌと２００ｍｌで洗
浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮して粗製２
−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニ
ル］−２−オキソ酢酸ｎ−ブチル１７．７２ｇ得た。こ
の粗製物をメタノール２５ｍｌに溶解し、４０％メチル
アミンメタノール溶液９．７１ｇ（１２５ｍｍｏｌ）を
氷冷下で添加し、室温で一夜撹拌した。反応後、２００
ｍｌの水を添加し、濃塩酸でｐＨ２以下に調整してトル
エン２００ｍｌで２回抽出、水２００ｍｌで洗浄、無水
硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮して得られた結晶を
酢酸エチル／ｎ−ヘキサンから再結晶して２−［２−
（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェニル］−２
−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミド４．５８ｇ（収率６
１．６％）を得た。さらに、再結晶の母液をシリカゲル
クロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精
製して０．５２ｇ（収率７．０％）の結晶を得た。
【００９２】［実施例１３］ ２−（２−メチルフェニル）−２−オキソ酢酸ｎ−ブチ
ルの製造 窒素ガス雰囲気下でマグネシウム２．９１ｇ（０．１２
ｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン１０ｍｌと臭化エチ
ル０．０４ｍｌ（０．５ｍｍｏｌ）の混合物に２−ブロ
モトルエン１７．１０ｇ（０．１０ｍｏｌ）を乾燥テト
ラヒドロフラン５０ｍｌに溶解した溶液を少量滴下して
加温し、グリニャール試薬の生成が始まった後、残りの
溶液を内温５０℃以下に保ちながら２０分間で滴下し、
続いて５０℃で１時間撹拌した。反応液を室温まで冷却
した後、しゅう酸ジｎ−ブチル２６．３０ｇ（０．１３
ｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し
た溶液に−７８℃で４０分間にわたって滴下した。続い
て−７８℃で１時間撹拌した。反応後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を添加し、エーテル１００ｍｌで３回抽
出、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、
減圧濃縮して粗製２−（２−メチルフェニル）−２−オ
キソ酢酸ｎ−ブチルを得た。1 H-NMR(CDCl3)δppm :0.96(3H, t, J=7.3), 1.40-1.48
(2H, m), 1.72-1.78(2H, m), 2.61(3H, s), 4.37(2H,
t, J=7.3), 7.31(2H, t, J=7.6), 7.45(1H, t, J=7.6),
7,68(1H,d, J=7.6).
【００９３】［実施例１４］ ２−（２−ブロモメチルフェニル）−２−オキソ酢酸ｎ
−ブチルの製造 実施例１３で得られた粗製の２−（２−メチルフェニ
ル）−２−オキソ酢酸ｎ−ブチル５．００ｇ（２２．７
ｍｍｏｌ）をベンゼン２０ｍｌに溶解し、Ｎ−ブロモこ
はく酸イミド４．４４ｇ（２５．０ｍｍｏｌ）と２，
２’−アゾビス（イソブチリロニトリル）０．１５ｇ
（０．９ｍｍｏｌ）を添加して３時間加熱還流した。反
応溶液を冷却し、不溶物を除去した後、減圧下で濃縮し
て得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸
エチル／ｎ−ヘキサン）で精製して２−（２−ブロモメ
チルフェニル）−２−オキソ酢酸ｎ−ブチル５．２０ｇ
（収率７６．６％）を油状物として得た。
【００９４】1H-NMR(CDCl3)δppm :0.93(3H, t, J=7.
3), 1.40-1.49(2H, m), 1.71-1.80(2H, m), 4.39(2H,
t, J=7.3), 4.90(2H, s), 7.44-7.48(1H, m), 7.56-7.6
0(2H, m), 7.73(1H, d, J=8.6).
【００９５】［実施例１５］ ２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミドの製造 ２−（２−ブロモメチルフェニル）−２−オキソ酢酸ｎ
−ブチル２．００ｇ（６．７ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド６ｍｌに溶解し、２，５−キシレノー
ル０．９８ｇ（８．０ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム１．８
４ｇ（１３．３ｍｍｏｌ）を添加して室温で３時間攪拌
した。反応後、水４０ｍｌを加えてエーテル１００ｍｌ
で３回抽出、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウム
で乾燥、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製して
２−［２−（２，５−ジメチルフェノキシメチル）フェ
ニル］−２−オキソ−Ｎ−メチルアセトアミドの結晶
１．２０ｇ（収率５２．６％）を得た。
【００９６】
【発明の効果】本発明によると、グリニャール反応工程
で生成するｎ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコ
ール、イソブチルアルコールおよびｓｅｃ−ブチルアル
コールが反応溶媒のテトラヒドロフランと共沸しないた
め溶媒の回収が容易である。さらに、対応するグリニャ
ール試薬に反応させる、しゅう酸ジｎ−プロピル、しゅ
う酸ジｎ−ブチル、しゅう酸ジイソブチルおよびしゅう
酸ジｓｅｃ−ブチルが液体で取り扱いが容易であり、ま
た、それらのしゅう酸ジアルキル類および生成したフェ
ニルグリオキシル酸エステル類がグリニャール反応工程
の溶媒であるテトラヒドロフランに溶けやすいため溶媒
量を低減することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 69/738 Ｃ０７Ｃ 69/738 Ｚ 231/02 231/02 235/78 235/78

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式（Ｉ）： 【化１】 ［式中、Ａは置換されていてもよいベンゼン環、Ｚは−
    Ｏ−又は−ＯＣＨ2−、又はＡ−Ｚ−はメチル基；Ｘは
    ハロゲン原子を示す］で表わされるグリニャ−ル試薬
    に、一般式（ＩＩ）： （ＣＯＯＲ1）2 （ＩＩ） ［式中、Ｒ1はｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル
    又はｓｅｃ−ブチルを示す］で表わされるしゅう酸ジア
    ルキルをテトラヒドロフラン溶媒中反応させることを特
    徴とする、一般式（ＩＩＩ）： 【化２】 ［式中、Ａ、ＺおよびＲ1は前記と同意義］で表わされ
    るフェニルグリオキシル酸エステル類の製造方法。
  2. 【請求項２】請求項１に記載の製造方法により得たフェ
    ニルグリオキシル酸エステル類に、一般式（ＩＶ）： ＨＮＲ2Ｒ3 （ＩＶ） ［式中、Ｒ2およびＲ3は同一又は異なって水素原子、低
    級アルキル又は低級アルコキシを示す］で表わされるア
    ミンとを反応させることを特徴とする、一般式（Ｖ）： 【化３】 ［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ2およびＲ3は前記と同意義］で表わ
    されるフェニルグリオキシル酸アミド類の製造方法。
  3. 【請求項３】フェニルグリオキシル酸エステル類を単離
    せずに使用する請求項２に記載の製造方法。
  4. 【請求項４】フェニルグリオキシル酸エステル類を単離
    して、テトラヒドロフラン、Ｒ1ＯＨ［式中、Ｒ1は前記
    と同意義］で表わされるアルコ−ル、又はこれらの混合
    溶媒中で行う請求項２に記載の製造方法。
  5. 【請求項５】Ａ−Ｚ−がメチル基である請求項１に記載
    の製造方法により得た一般式（ＩＩＩａ）： 【化４】 ［式中、Ｒ1は前記と同意義］で表わされるフェニルグ
    リオキシル酸エステル類をハロゲン化して、一般式（Ｖ
    Ｉ）： 【化５】 ［式中、ＸおよびＲ1は前記と同意義］で表わされる化
    合物を得、次いで一般式（ＶＩＩ）： 【化６】 ［式中、Ｒ4は水素原子、低級アルキル、低級アルケニ
    ル、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アルキル又はハロ
    ゲン原子；ｎは１〜４の整数を示す］で表わされるフェ
    ノ−ル類を反応させて、一般式（ＩＩＩｂ）： 【化７】 ［式中、Ｒ1、Ｒ4およびｎは前記と同意義］で表わされ
    るフェニルグリオキシル酸エステル類を得、次いで一般
    式（ＩＶ）： ＨＮＲ2Ｒ3 （ＩＶ） ［式中、Ｒ2およびＲ3は前記と同意義］で表わされるア
    ミンとを反応させることを特徴とする、一般式（Ｖ
    ａ）： 【化８】 ［式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびｎは前記と同意義］で表
    わされるフェニルグリオキシル酸アミド類の製造方法。
  6. 【請求項６】請求項２ないし請求項５に記載のいずれか
    の製造方法により得たフェニルグリオキシル酸アミド類
    に、メトキシルアミン又はその塩を反応させることを特
    徴とする、一般式（ＶＩＩＩ）： 【化９】 ［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ2およびＲ3は前記と同意義、結合〜
    はＥ体、Ｚ体またはＥ体とＺ体の混合物のいずれかの配
    置を示す］で表わされるメトキシイミノアセトアミド誘
    導体の製造方法。
  7. 【請求項７】請求項２ないし請求項５に記載のいずれか
    の製造方法により得たフェニルグリオキシル酸アミド類
    に、ヒドロキシルアミン又はその塩を反応させて、一般
    式（ＩＸ）： 【化１０】 ［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ2、Ｒ3および結合〜は前記と同意
    義］で表わされるヒドロキシイミノアセトアミド誘導体
    を得、次いで一般式（Ｘ）： ＣＨ3−Ｌ （Ｘ） ［式中、Ｌは脱離基を示す］で表わされるメチル化剤を
    反応させることを特徴とする、一般式（ＶＩＩＩ）： 【化１１】 ［式中、Ａ、Ｚ、Ｒ2、Ｒ3および結合〜は前記と同意
    義］で表わされるメトキシイミノアセトアミド誘導体の
    製造方法。
  8. 【請求項８】Ｒ1がｎ−ブチルであるしゅう酸ジアルキ
    ルを反応させる請求項１ないし請求項７に記載の製造方
    法。
  9. 【請求項９】Ｒ2またはＲ3のいずれかが水素であり、も
    う一方がメチルであるアミンを反応させる請求項２ない
    し請求項７に記載の製造方法。
  10. 【請求項１０】一般式（ＩＩＩ）： 【化１２】 ［式中、Ａ、ＺおよびＲ1は前記と同意義］で表わされ
    るフェニルグリオキシル酸エステル類。
  11. 【請求項１１】Ｒ1がｎ−ブチルである請求項１０に記
    載のフェニルグリオキシル酸エステル類。
  12. 【請求項１２】一般式（ＶＩ）： 【化１３】 ［式中、ＸおよびＲ1は前記と同意義］で表わされる化
    合物。
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