JPH10328657A - 超純水の殺菌方法及び殺菌超純水供給システム - Google Patents
超純水の殺菌方法及び殺菌超純水供給システムInfo
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- JPH10328657A JPH10328657A JP7727698A JP7727698A JPH10328657A JP H10328657 A JPH10328657 A JP H10328657A JP 7727698 A JP7727698 A JP 7727698A JP 7727698 A JP7727698 A JP 7727698A JP H10328657 A JPH10328657 A JP H10328657A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 殺菌効果が高くかつコスト安全性の面で優れ
た殺菌方法及び殺菌超純水供給システムを提供するこ
と。 【解決手段】 製造源から供給される超純水を貯蔵する
純水槽から超純水を使用するユースポイントへ超純水を
供給するための超純水供給ライン途中において高周波数
の超音波を超純水に照射することを特徴とする。
た殺菌方法及び殺菌超純水供給システムを提供するこ
と。 【解決手段】 製造源から供給される超純水を貯蔵する
純水槽から超純水を使用するユースポイントへ超純水を
供給するための超純水供給ライン途中において高周波数
の超音波を超純水に照射することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造、電力、医
製薬等の超純水を利用する分野における有効的な殺菌の
方法及び殺菌超純水供給システムに関するものである。
製薬等の超純水を利用する分野における有効的な殺菌の
方法及び殺菌超純水供給システムに関するものである。
【０００２】
【背景技術】超純水の生菌の殺菌方法として、紫外線を
用いる方法が広く用いられている。一般には、超純水の
配管中や貯槽に紫外線ランプ（波長：２５４nm）を導入
して超純水に紫外線を照射することにより照射部を通過
する超純水を殺菌する方法である。またオゾンは、低濃
度でも強い酸化力を有するために、ごく希薄な（１００
ｐｐｂ以下）オゾンを超純水に添加して超純水槽ならび
にユースポイント配管を殺菌する方法が考えられた。
用いる方法が広く用いられている。一般には、超純水の
配管中や貯槽に紫外線ランプ（波長：２５４nm）を導入
して超純水に紫外線を照射することにより照射部を通過
する超純水を殺菌する方法である。またオゾンは、低濃
度でも強い酸化力を有するために、ごく希薄な（１００
ｐｐｂ以下）オゾンを超純水に添加して超純水槽ならび
にユースポイント配管を殺菌する方法が考えられた。
【０００３】紫外線照射による超純水の殺菌は、紫外線
が直接照射された超純水を殺菌することができるが、直
接紫外線が当たらない部分の生菌を殺菌することができ
ないという問題がある。具体的には、紫外線照射装置よ
りも下流側に生菌が存在していた場合に、その生菌が流
れに乗って移動したとしても紫外線の照射部を通過しな
いので殺菌されずにユースポイントにまで到達してしま
うことが挙げられる。
が直接照射された超純水を殺菌することができるが、直
接紫外線が当たらない部分の生菌を殺菌することができ
ないという問題がある。具体的には、紫外線照射装置よ
りも下流側に生菌が存在していた場合に、その生菌が流
れに乗って移動したとしても紫外線の照射部を通過しな
いので殺菌されずにユースポイントにまで到達してしま
うことが挙げられる。
【０００４】オゾンによる殺菌は、配管系全体を有効に
殺菌できるが、オゾンが強い酸化力を持っているために
超純水システムの構成部材にダメージを与える問題があ
る。オゾンの酸化力に耐性のある材料として、特にイオ
ン交換樹脂などの高分子材料は、オゾンにより劣化され
やすくオゾンを分解する紫外線照射装置などと組み合わ
せる必要がある。
殺菌できるが、オゾンが強い酸化力を持っているために
超純水システムの構成部材にダメージを与える問題があ
る。オゾンの酸化力に耐性のある材料として、特にイオ
ン交換樹脂などの高分子材料は、オゾンにより劣化され
やすくオゾンを分解する紫外線照射装置などと組み合わ
せる必要がある。
【０００５】そこで、本発明者らは、超純水の殺菌方法
について、その効果、コスト面等を総合的に検討する中
で、高周波数の超音波を照射することにより超純水中の
生菌数が減少することを発見した。本発明は、かかる知
見に基づいて完成したものである。
について、その効果、コスト面等を総合的に検討する中
で、高周波数の超音波を照射することにより超純水中の
生菌数が減少することを発見した。本発明は、かかる知
見に基づいて完成したものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】即ち、本発明は、殺菌
効果が高くかつコスト安全性の面で優れた殺菌方法及び
殺菌超純水供給システムを提供することにある。
効果が高くかつコスト安全性の面で優れた殺菌方法及び
殺菌超純水供給システムを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の殺菌方法は、製
造源から供給される超純水を貯蔵する純水槽から超純水
を使用するユースポイントへ超純水を供給するための超
純水供給ライン途中において高周波数の超音波を超純水
に照射することを特徴とする。
造源から供給される超純水を貯蔵する純水槽から超純水
を使用するユースポイントへ超純水を供給するための超
純水供給ライン途中において高周波数の超音波を超純水
に照射することを特徴とする。
【０００８】また、前記超純水槽においても超音波を照
射するのが好ましい。
射するのが好ましい。
【０００９】超音波の周波数が０．８０ＭＨｚより高周
波数であることを特徴とする。
波数であることを特徴とする。
【００１０】超純水に不活性ガスを添加した後または同
時に超音波を照射することを特徴とする。さらに、不活
性ガスとともに過酸化水素または次亜塩素酸を添加する
のが好ましい。
時に超音波を照射することを特徴とする。さらに、不活
性ガスとともに過酸化水素または次亜塩素酸を添加する
のが好ましい。
【００１１】ユースポイント手前で分岐し、未使用超純
水を純水槽に戻す分岐ライン途中において高周波数の超
音波を超純水に照射することを特徴とする。
水を純水槽に戻す分岐ライン途中において高周波数の超
音波を超純水に照射することを特徴とする。
【００１２】超純水供給ラインを構成する配管内を流れ
る超純水に超音波を照射することを特徴とする。
る超純水に超音波を照射することを特徴とする。
【００１３】超音波照射槽を、純水槽からユースポイン
トの間に設け、該超音波照射槽内における超純水に超音
波を照射することを特徴とする。
トの間に設け、該超音波照射槽内における超純水に超音
波を照射することを特徴とする。
【００１４】超音波照射槽を、分岐ライン途中に設け、
該超音波照射槽内における超純水に超音波を照射するこ
とを特徴とする。
該超音波照射槽内における超純水に超音波を照射するこ
とを特徴とする。
【００１５】本発明の殺菌方法は、製造源から供給され
る超純水を貯蔵する純水槽から超純水を使用するユース
ポイントへ超純水を供給するための超純水供給ラインか
ら分岐して未使用超純水を純水槽に戻す分岐ライン途中
において高周波数の超音波を超純水に照射することを特
徴とする。
る超純水を貯蔵する純水槽から超純水を使用するユース
ポイントへ超純水を供給するための超純水供給ラインか
ら分岐して未使用超純水を純水槽に戻す分岐ライン途中
において高周波数の超音波を超純水に照射することを特
徴とする。
【００１６】超音波の周波数が０．８０ＭＨｚより高周
波数であることを特徴とする。
波数であることを特徴とする。
【００１７】超純水に不活性ガスを添加した後または同
時に超音波を照射することを特徴とする。ここで、不活
性ガスとともに過酸化水素または次亜塩素酸を添加する
のが好ましい。
時に超音波を照射することを特徴とする。ここで、不活
性ガスとともに過酸化水素または次亜塩素酸を添加する
のが好ましい。
【００１８】本発明の殺菌超純水の供給システムは、製
造源から供給される超純水を貯蔵する純水槽と、該純水
槽からユースポイントへ超純水を供給するための超純水
供給ラインとを有し、該超純水供給ライン途中におい
て、超純水に超音波を照射するための手段を設けたこと
を特徴とする。
造源から供給される超純水を貯蔵する純水槽と、該純水
槽からユースポイントへ超純水を供給するための超純水
供給ラインとを有し、該超純水供給ライン途中におい
て、超純水に超音波を照射するための手段を設けたこと
を特徴とする。
【００１９】ユースポイント手前において、該超純水供
給ラインから分岐し、未使用の超純水を純水槽へ戻す分
岐ラインを設け、該分岐ライン途中に、超純水に超音波
を照射するための手段を設けたことを特徴とする。
給ラインから分岐し、未使用の超純水を純水槽へ戻す分
岐ラインを設け、該分岐ライン途中に、超純水に超音波
を照射するための手段を設けたことを特徴とする。
【００２０】超純水供給ライン上に、槽内の超純水に超
音波照射するための超音波発振部を有する超音波照射槽
を設けたことを特徴とする。
音波照射するための超音波発振部を有する超音波照射槽
を設けたことを特徴とする。
【００２１】分岐ライン上に、槽内の超純水に超音波照
射するための超音波発振部を有する超音波照射槽を設け
たことを特徴とする。
射するための超音波発振部を有する超音波照射槽を設け
たことを特徴とする。
【００２２】超音波の周波数が０．８０ＭＨｚより高周
波数であることを特徴とする。
波数であることを特徴とする。
【００２３】超純水に不活性ガスを添加するための手段
を設けたことを特徴とする。
を設けたことを特徴とする。
【００２４】本発明の超純水殺菌方法では、高周波数の
超音波を超純水に直接または間接的に照射することで物
理的な振動のエネルギーと、物理的なエネルギーにより
超純水中で水分子が分解してラジカルを生成させる（so
nochemistry的効果）が相乗的に働いて殺菌する方法で
ある。
超音波を超純水に直接または間接的に照射することで物
理的な振動のエネルギーと、物理的なエネルギーにより
超純水中で水分子が分解してラジカルを生成させる（so
nochemistry的効果）が相乗的に働いて殺菌する方法で
ある。
【００２５】ここで用いられる超音波は、１００kHz以
上のものをさすが、一般にメガソニックと呼ばれる１MH
z程度以上の周波数を持つ超音波ではラジカル生成が促
進される。即ち、０．８ＭＨｚ以上が好ましく、０．９
５ＭＨｚがより好ましい。
上のものをさすが、一般にメガソニックと呼ばれる１MH
z程度以上の周波数を持つ超音波ではラジカル生成が促
進される。即ち、０．８ＭＨｚ以上が好ましく、０．９
５ＭＨｚがより好ましい。
【００２６】ここで超純水中にヘリウム、ネオン、アル
ゴン、クリプトン、キセノンおよび窒素などの不活性ガ
スを超純水に溶解させた後もしくは溶解させながらメガ
ソニックを照射するとラジカルの生成量が増加するため
に殺菌の効率が向上する。
ゴン、クリプトン、キセノンおよび窒素などの不活性ガ
スを超純水に溶解させた後もしくは溶解させながらメガ
ソニックを照射するとラジカルの生成量が増加するため
に殺菌の効率が向上する。
【００２７】不活性ガスの溶解法としては、クリーンな
不活性ガスと超純水の間にガス分離膜または脱気膜を設
けて膜を介してガスを溶解させる方法が挙げられる。こ
の方法では、水中に溶解させたガス成分の気泡を生じさ
せることなしに目的のガスを溶解させられる。
不活性ガスと超純水の間にガス分離膜または脱気膜を設
けて膜を介してガスを溶解させる方法が挙げられる。こ
の方法では、水中に溶解させたガス成分の気泡を生じさ
せることなしに目的のガスを溶解させられる。
【００２８】メガソニックの照射法としては、直接超音
波を発振させる振動部が殺菌される超純水と直接接触し
て音波を伝播させる方法と、配管材や貯槽の壁の外側を
超純水等の液体で満たしてその液体と超音波発振部を接
触させて超音波を間接的に伝播させる方法のいずれかの
方法が望ましい。
波を発振させる振動部が殺菌される超純水と直接接触し
て音波を伝播させる方法と、配管材や貯槽の壁の外側を
超純水等の液体で満たしてその液体と超音波発振部を接
触させて超音波を間接的に伝播させる方法のいずれかの
方法が望ましい。
【００２９】超純水製造システムは、（１）純水槽、
（２）純水槽の超純水をさらに処理するイオン交換装
置、紫外線酸化装置および限外濾過膜などと（３）処理
後の超純水をユースポイントへ供給する配管とユースポ
イントから純水槽への戻り配管から構成されるが、これ
らの任意の場所でこの超音波による殺菌を行うことがで
きる。超純水への超音波照射は、連続および間欠のいず
れの方法でも殺菌が可能である。
（２）純水槽の超純水をさらに処理するイオン交換装
置、紫外線酸化装置および限外濾過膜などと（３）処理
後の超純水をユースポイントへ供給する配管とユースポ
イントから純水槽への戻り配管から構成されるが、これ
らの任意の場所でこの超音波による殺菌を行うことがで
きる。超純水への超音波照射は、連続および間欠のいず
れの方法でも殺菌が可能である。
【００３０】高周波数の超音波を超純水に照射すること
で物理的な振動と振動によって生成したラジカルが相乗
的に作用して超純水を殺菌できる。純水槽からユースポ
イントの間に超音波照射装置を設ければ、ユースポイン
トでの生菌の発生を抑制することができる。またユース
ポイントから純水槽へのリターンライン中に超音波照射
装置を設ければ、ユースポイントからのリターン水で純
水槽が生菌で汚染されることなく良好な水質が得られ
る。
で物理的な振動と振動によって生成したラジカルが相乗
的に作用して超純水を殺菌できる。純水槽からユースポ
イントの間に超音波照射装置を設ければ、ユースポイン
トでの生菌の発生を抑制することができる。またユース
ポイントから純水槽へのリターンライン中に超音波照射
装置を設ければ、ユースポイントからのリターン水で純
水槽が生菌で汚染されることなく良好な水質が得られ
る。
【００３１】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図１
〜３を用いて説明する。
〜３を用いて説明する。
【００３２】図１には本発明の殺菌超純水供給システム
の一例を示す。図１において、一次純水を純水槽１に受
水し、ポンプ２で圧送する。紫外線酸化装置３、イオン
交換装置４および限外濾過膜５で処理をされた超純水
は、ユースポイント６で使用される。一部の超純水は使
用されずに分岐ライン８を通って再び１の純水槽に戻る
装置構成となっている。
の一例を示す。図１において、一次純水を純水槽１に受
水し、ポンプ２で圧送する。紫外線酸化装置３、イオン
交換装置４および限外濾過膜５で処理をされた超純水
は、ユースポイント６で使用される。一部の超純水は使
用されずに分岐ライン８を通って再び１の純水槽に戻る
装置構成となっている。
【００３３】なお、紫外線酸化装置３では有機物を分解
し、イオン交換装置４では分解有機物、イオン金属を除
去する。また、限外濾過装置５では微粒子や生菌の除去
を行う。
し、イオン交換装置４では分解有機物、イオン金属を除
去する。また、限外濾過装置５では微粒子や生菌の除去
を行う。
【００３４】超音波を照射する手段は、図２に示す例で
は、超音波照射槽７ａから構成されており、この超音波
照射槽７ａの外壁には超音波発振部１０が設けられてい
る。
は、超音波照射槽７ａから構成されており、この超音波
照射槽７ａの外壁には超音波発振部１０が設けられてい
る。
【００３５】また、超純水供給ラインを構成する配管１
５（図３）の周囲に超音波発振部１０を設けて超音波を
照射する手段を構成してもよい。
５（図３）の周囲に超音波発振部１０を設けて超音波を
照射する手段を構成してもよい。
【００３６】なお、一般に未使用超純水は純水槽１に戻
される。そのためにユースポイント６の手前で超純水供
給ライン２０を分岐して分岐ライン８が設けられてい
る。通常、ユースポイント６には、７割の超純水が供給
され、分岐ライン８には３割の超純水が供給される。流
れる量が少ないと菌は発生しやすい。すなわち、分岐ラ
イン８の方が超純水供給ラインより菌が発生しやすい。
従って、分岐ライン上に超音波を照射するための手段を
設けることが好ましい。
される。そのためにユースポイント６の手前で超純水供
給ライン２０を分岐して分岐ライン８が設けられてい
る。通常、ユースポイント６には、７割の超純水が供給
され、分岐ライン８には３割の超純水が供給される。流
れる量が少ないと菌は発生しやすい。すなわち、分岐ラ
イン８の方が超純水供給ラインより菌が発生しやすい。
従って、分岐ライン上に超音波を照射するための手段を
設けることが好ましい。
【００３７】なお、不活性ガスを添加して超音波を照射
すると殺菌効果が向上するため、たとえば、図１の９に
示すように、不活性ガスを超純水に添加するための不活
性ガス導入口９を超音波照射槽７ａに設けることが好ま
しい。また、不活性ガスを同時に過酸化水素や次亜塩素
酸等の酸化剤を加えてもよい。
すると殺菌効果が向上するため、たとえば、図１の９に
示すように、不活性ガスを超純水に添加するための不活
性ガス導入口９を超音波照射槽７ａに設けることが好ま
しい。また、不活性ガスを同時に過酸化水素や次亜塩素
酸等の酸化剤を加えてもよい。
【００３８】以下に実施例を挙げて具体的に説明する。
【００３９】（実施例１）図１において、超音波照射槽
７ａを除いた超純水供給システムを用いてメガソニック
の殺菌効果を調べた。
７ａを除いた超純水供給システムを用いてメガソニック
の殺菌効果を調べた。
【００４０】即ち、ユースポイント６と純水槽１の間の
分岐ラインに０．９５ＭＨｚの超音波発振器７ｂを設置
してユースポイントから純水槽に戻る超純水に１３０Ｗ
（２．５Ｗ／ｃｍ2）でメガソニックを照射した。な
お、超純水は その３割が循環するものとし、１時間で
純水槽（１ｍ3）の超純水が入れ替わる条件とした。
分岐ラインに０．９５ＭＨｚの超音波発振器７ｂを設置
してユースポイントから純水槽に戻る超純水に１３０Ｗ
（２．５Ｗ／ｃｍ2）でメガソニックを照射した。な
お、超純水は その３割が循環するものとし、１時間で
純水槽（１ｍ3）の超純水が入れ替わる条件とした。
【００４１】１時間超音波照射を続け、ユースポイント
での生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５０で測定した結果を表
１に示す。
での生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５０で測定した結果を表
１に示す。
【００４２】（比較例）超音波の周波数を１００ＫＨｚ
とした以外は実施例１と同様にして超音波を照射し、同
様にして照射前後の生菌数を測定した。結果を表１に示
す。
とした以外は実施例１と同様にして超音波を照射し、同
様にして照射前後の生菌数を測定した。結果を表１に示
す。
【００４３】（実施例２）実施例１と同様にして、ユー
スポイント６と純水槽１の間の７ｂに２ＭＨｚの超音波
発振器を設置してユースポイントから純水槽に戻る超純
水に２．５Ｗ／ｃｍ2でメガソニックを照射した。超音
波照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５０で測定した
結果を表１に示す。
スポイント６と純水槽１の間の７ｂに２ＭＨｚの超音波
発振器を設置してユースポイントから純水槽に戻る超純
水に２．５Ｗ／ｃｍ2でメガソニックを照射した。超音
波照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５０で測定した
結果を表１に示す。
【００４４】（実施例３）ユースポイント６と純水槽１
の間の７ｂに脱気膜（大日本インキ製）と０．９５ＭＨ
ｚの超音波発振器を設置した。ユースポイントから純水
槽に戻る超純水にまず脱気膜を介して窒素を溶解させた
後に、実施例１と同様にして２．５Ｗ／ｃｍ2でメガソ
ニックを照射した。超音波照射前後の生菌数をＪＩＳ−
Ｋ−０５５０で測定した結果を表１に示す。
の間の７ｂに脱気膜（大日本インキ製）と０．９５ＭＨ
ｚの超音波発振器を設置した。ユースポイントから純水
槽に戻る超純水にまず脱気膜を介して窒素を溶解させた
後に、実施例１と同様にして２．５Ｗ／ｃｍ2でメガソ
ニックを照射した。超音波照射前後の生菌数をＪＩＳ−
Ｋ−０５５０で測定した結果を表１に示す。
【００４５】（実施例４）窒素ガスの代わりにアルゴン
ガスを用いた以外は実施例３と同様にして超音波照射を
行った。超音波照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５
０で測定した結果を表１に示す。
ガスを用いた以外は実施例３と同様にして超音波照射を
行った。超音波照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５
０で測定した結果を表１に示す。
【００４６】（実施例５）超音波照射槽７ｂの代わり
に、超純水供給ラインに超音波照射槽7ａを設け（限外
濾過膜５とユースポイント６の間）、０．９５ＭＨｚの
超音波発振器によりユースポイントへ向かう超純水に
２．５Ｗ／ｃｍ2でメガソニックを照射した。そのほか
は実施例１と同じ条件である。超音波照射前後の生菌数
をＪＩＳ−Ｋ−０５５０で測定した結果を表１に示す。
に、超純水供給ラインに超音波照射槽7ａを設け（限外
濾過膜５とユースポイント６の間）、０．９５ＭＨｚの
超音波発振器によりユースポイントへ向かう超純水に
２．５Ｗ／ｃｍ2でメガソニックを照射した。そのほか
は実施例１と同じ条件である。超音波照射前後の生菌数
をＪＩＳ−Ｋ−０５５０で測定した結果を表１に示す。
【００４７】（実施例６）超音波照射槽で超音波を照射
する代わりに、超純水槽１の底面に０．９５ＭＨｚの超
音波発振機を設置して純水槽内の超純水に２．５Ｗ／ｃ
ｍ2でメガソニックを照射した。他の条件は実施例１と
同じである。超音波照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０
５５０で測定した結果を表１に示す。
する代わりに、超純水槽１の底面に０．９５ＭＨｚの超
音波発振機を設置して純水槽内の超純水に２．５Ｗ／ｃ
ｍ2でメガソニックを照射した。他の条件は実施例１と
同じである。超音波照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０
５５０で測定した結果を表１に示す。
【００４８】（実施例７）０．８ＭＨｚの超音波発振器
を用いた以外は実施例６と同様にして純水槽内の超純水
に２．５Ｗ／ｃｍ2でメガソニックを照射した。超音波
照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５０で測定した結
果を表１に示す。
を用いた以外は実施例６と同様にして純水槽内の超純水
に２．５Ｗ／ｃｍ2でメガソニックを照射した。超音波
照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５０で測定した結
果を表１に示す。
【００４９】（実施例８）図４に示すようにして配管に
２．９ＭＨｚの超音波発振器を設置し、超純水の流れの
方向と平行に超音波１３０Ｗを照射した。本実施例で
は、超純水を循環させず、毎分１リットルの超純水を流
した。超音波照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５０
で測定した結果を表１に示す。
２．９ＭＨｚの超音波発振器を設置し、超純水の流れの
方向と平行に超音波１３０Ｗを照射した。本実施例で
は、超純水を循環させず、毎分１リットルの超純水を流
した。超音波照射前後の生菌数をＪＩＳ−Ｋ−０５５０
で測定した結果を表１に示す。
【００５０】
【表１】
【００５１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の超純水の殺
菌の方法は、超純水に高周波数の超音波を照射すること
で超音波の物理的振動エネルギーと振動エネルギーによ
り生成したラジカル種が相乗的に機能することにより効
率的に超純水中の生菌を殺菌することができる。
菌の方法は、超純水に高周波数の超音波を照射すること
で超音波の物理的振動エネルギーと振動エネルギーによ
り生成したラジカル種が相乗的に機能することにより効
率的に超純水中の生菌を殺菌することができる。
【００５２】超音波発振機は長期に渡り連続で使用でき
るのでメンテナンスをする必要がなくなる。超音波は連
続または間欠で超純水に照射させて有効なので、被処理
水に存在する生菌数および処理後の生菌数に応じて運転
方法を変化させることでランニングコストを節約でき
る。
るのでメンテナンスをする必要がなくなる。超音波は連
続または間欠で超純水に照射させて有効なので、被処理
水に存在する生菌数および処理後の生菌数に応じて運転
方法を変化させることでランニングコストを節約でき
る。
【図１】本発明の実施例を示す超純水供給システム図で
ある。
ある。
【図２】超音波を照射するための手段を示す概念図であ
る。
る。
【図３】超音波を照射するための手段を示す概念断面図
である。
である。
【図４】超音波の照射方法を示す概念図である。
１ 純水槽、 ２ ポンプ、 ３ 紫外線酸化装置、 ４ イオン交換装置、 ５ 限外濾過装置、 ６ ユースポイント、 ７ａ，７ｂ 超音波照射槽、 ８ 分岐ライン、 ９ 不活性ガス供給口、 １０ 超音波発振部、 １５ 配管 ２０ 超純水供給ライン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川田 和彦 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉（無番地) 東北大学工学部電子工学科内 (72)発明者 自在丸 隆行 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉（無番地) 東北大学工学部電子工学科内 (72)発明者 新田 雄久 東京都文京区本郷４丁目１番４号株式会社 ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所 内
Claims (19)
- 【請求項１】 製造源から供給される超純水を貯蔵する
純水槽から超純水を使用するユースポイントへ超純水を
供給するための超純水供給ライン途中において高周波数
の超音波を超純水に照射することを特徴とする超純水の
殺菌方法。 - 【請求項２】 前記超純水槽において超音波を照射する
ことを特徴とする請求項１記載の超純水の殺菌方法。 - 【請求項３】 超音波の周波数が０．８０ＭＨｚより高
周波数であることを特徴とする請求項１又は２記載の超
純水の殺菌方法。 - 【請求項４】 超純水に不活性ガスを添加した後または
同時に超音波を照射することを特徴とする請求項１ない
し３のいずれか１項記載の超純水の殺菌方法。 - 【請求項５】 ユースポイント手前で分岐し、未使用超
純水を前記純水槽に戻す分岐ライン途中において高周波
数の超音波を超純水に照射することを特徴とする請求項
１ないし４のいずれか１項記載の超純水の殺菌方法。 - 【請求項６】 超純水供給ラインを構成する配管内を流
れる超純水に超音波を照射することを特徴とする請求項
１ないし５のいずれか１項記載の超純水の殺菌方法。 - 【請求項７】 前記超音波は、配管内を流れる超純水の
流れの方向と平行に照射することを特徴とする請求項６
に記載の超純水の殺菌方法。 - 【請求項８】 超音波照射槽を、前記純水槽からユース
ポイントの間に設け、該超音波照射槽内における超純水
に超音波を照射することを特徴とする請求項１ないし５
のいずれか１項記載の超純水の殺菌方法。 - 【請求項９】 超音波照射槽を、前記分岐ライン途中に
設け、該超音波照射槽内における超純水に超音波を照射
することを特徴とする請求項５記載の超純水の殺菌方
法。 - 【請求項１０】 製造源から供給される超純水を貯蔵す
る純水槽から超純水を使用するユースポイントへ超純水
を供給するための超純水供給ラインから分岐して未使用
超純水を前記純水槽に戻す分岐ライン途中において高周
波数の超音波を超純水に照射することを特徴とする超純
水の殺菌方法。 - 【請求項１１】 超音波の周波数が０．８０ＭＨｚより
高周波数であることを特徴とする請求項１０記載の超純
水の殺菌方法。 - 【請求項１２】 超純水に不活性ガスを添加した後また
は同時に超音波を照射することを特徴とする請求項１０
又は１１記載の超純水の殺菌方法。 - 【請求項１３】 前記不活性ガスの添加とともに過酸化
水素又は次亜塩素酸を添加することを特徴とする請求項
１２に記載の超純水の殺菌方法。 - 【請求項１４】 製造源から供給される超純水を貯蔵す
る純水槽と、該純水槽からユースポイントへ超純水を供
給するための超純水供給ラインとを有し、該超純水供給
ライン途中において、超純水に超音波を照射するための
手段を設けたことを特徴とする殺菌超純水供給システ
ム。 - 【請求項１５】 ユースポイント手前において、前記超
純水供給ラインから分岐し、未使用の超純水を純水槽へ
戻す分岐ラインを設け、該分岐ライン途中に、超純水に
超音波を照射するための手段を設けたことを特徴とする
請求項１４記載の殺菌超純水供給システム。 - 【請求項１６】 前記超純水供給ライン上に、超純水に
超音波照射するための超音波発振部を有する超音波照射
槽を設けたことを特徴とする請求項１４または１５記載
の殺菌超純水供給システム。 - 【請求項１７】 前記分岐ライン上に、槽内の超純水に
超音波照射するための超音波発振部を有する超音波照射
槽を設けたことを特徴とする請求項１５又は１６記載の
殺菌超純水供給システム。 - 【請求項１８】 超音波の周波数が０．８０ＭＨｚより
高周波数であることを特徴とする請求項１４ないし１７
のいずれか１項記載の殺菌超純水供給システム。 - 【請求項１９】 超純水に不活性ガスを添加するための
手段を設けたことを特徴とする請求項１４ないし１８の
いずれか１項記載の殺菌超純水供給システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07727698A JP3856558B2 (ja) | 1997-03-31 | 1998-03-25 | 超純水の殺菌方法及び殺菌超純水供給システム |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9814297 | 1997-03-31 | ||
| JP9-98142 | 1997-03-31 | ||
| JP07727698A JP3856558B2 (ja) | 1997-03-31 | 1998-03-25 | 超純水の殺菌方法及び殺菌超純水供給システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10328657A true JPH10328657A (ja) | 1998-12-15 |
| JP3856558B2 JP3856558B2 (ja) | 2006-12-13 |
Family
ID=26418382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07727698A Expired - Fee Related JP3856558B2 (ja) | 1997-03-31 | 1998-03-25 | 超純水の殺菌方法及び殺菌超純水供給システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3856558B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002307080A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-22 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
| SG125937A1 (en) * | 2003-03-14 | 2006-10-30 | Kurita Water Ind Ltd | System for producing ultrapure water |
| JP2007537034A (ja) * | 2004-05-13 | 2007-12-20 | ゴールデン・ティーム | 純水処理方法 |
-
1998
- 1998-03-25 JP JP07727698A patent/JP3856558B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JP2002307080A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-22 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
| SG125937A1 (en) * | 2003-03-14 | 2006-10-30 | Kurita Water Ind Ltd | System for producing ultrapure water |
| JP2007537034A (ja) * | 2004-05-13 | 2007-12-20 | ゴールデン・ティーム | 純水処理方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3856558B2 (ja) | 2006-12-13 |
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