JPH10330643A - Carbon black for black matrix - Google Patents

Carbon black for black matrix

Info

Publication number
JPH10330643A
JPH10330643A JP13870597A JP13870597A JPH10330643A JP H10330643 A JPH10330643 A JP H10330643A JP 13870597 A JP13870597 A JP 13870597A JP 13870597 A JP13870597 A JP 13870597A JP H10330643 A JPH10330643 A JP H10330643A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon black
resin
black
black matrix
coated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP13870597A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3893666B2 (en
Inventor
Hideyuki Hisa
英之 久
Akihiro Matsuki
章浩 松木
Satoru Arata
悟 安良田
Taizo Mori
泰三 毛利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Mikuni Color Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Mikuni Color Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp, Mikuni Color Ltd filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP13870597A priority Critical patent/JP3893666B2/en
Publication of JPH10330643A publication Critical patent/JPH10330643A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3893666B2 publication Critical patent/JP3893666B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高温処理条件下でも使用しうる絶縁性ブラッ
クマトリックスに好適なカーボンブラックを得る。 【解決手段】 カーボンブラックを樹脂で被覆処理し、
ついで酸化処理してなるブラックマトリックス用カーボ
ンブラック。
PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a carbon black suitable for an insulating black matrix which can be used even under a high temperature treatment condition. SOLUTION: Carbon black is coated with a resin,
Next, carbon black for black matrix obtained by oxidation treatment.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁性ブラックマ
トリックス用カーボンブラックに関し、さらに詳しくは
たとえばカラーテレビ、液晶カラーテレビ、カメラ等に
使用される光学的カラーフィルターに用いる絶縁性ブラ
ックマトリックス用のカーボンブラックに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a carbon black for an insulating black matrix, and more particularly to a carbon black for an insulating black matrix used for an optical color filter used in, for example, a color television, a liquid crystal color television and a camera. About black.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、透明電極を設けたガラ
ス等の透明な基板を1ないし10μm程度に間隔を設け
てその間に液晶物質を封入し、電極間に印加した電圧に
よって液晶を一定の方向に配向させて透明部分と不透明
部分を形成して画像を表示している。カラー液晶表示装
置は、いずれかの透明電極基板上に光の三原色に対応す
る赤(R)、緑(G)、青(B)の三色のカラーフィル
ターを設けており、透明電極への印加電圧の調整によっ
て液晶の光の透過を制御してR、G、Bの3色のフィル
ターを透過する光量を制御して3原色の加色による発色
によってカラー表示を行っている。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device, a transparent substrate such as glass provided with a transparent electrode is provided at intervals of about 1 to 10 .mu.m, a liquid crystal substance is sealed therebetween, and a liquid crystal is fixed by a voltage applied between the electrodes. An image is displayed by orienting in the direction to form a transparent portion and an opaque portion. The color liquid crystal display device is provided with three color filters of red (R), green (G), and blue (B) corresponding to the three primary colors of light on one of the transparent electrode substrates, and applies a voltage to the transparent electrode. By adjusting the voltage, the transmission of the light of the liquid crystal is controlled to control the amount of light transmitted through the three color filters of R, G, and B, and color display is performed by adding the three primary colors.

【0003】R、G、Bの着色層は、あらかじめ各色の
間を区画するブラックマトリックスの膜を設けた基板上
に形成する方式や、R、G、Bを形成後ブラックマトリ
ックス膜を設ける方法等種々あるが、ブラックマトリッ
クスの役割としては、いずれもR、G、B三原色を区画
すると共に、カラーフィルターに対向する基板上に設け
た液晶の駆動用の電極あるいはTFT(薄膜トランジス
タ)等のトランジスタを遮光する作用を果している。こ
のような目的で使用されるカラーフィルターのブラック
マトリックスは二つに大別することができる。
The R, G, and B color layers are formed on a substrate on which a black matrix film for partitioning each color is provided in advance, or a black matrix film is formed after R, G, and B are formed. Although there are various types, the role of the black matrix is to partition the three primary colors of R, G, and B, and to shield the electrode such as a liquid crystal driving electrode or a transistor such as a TFT (thin film transistor) provided on a substrate facing the color filter. It has the effect of doing. The black matrix of the color filter used for such a purpose can be roughly classified into two.

【0004】(1)フォトリソグラフィー法より加工し
たCr等の金属膜からなるブラックマトリックス:解像
度、および遮光率が高く、光学濃度(OD)3.0以上
が膜厚0.1μm近辺で容易に得られるが、金属膜のた
め可視光の反射率が約40%と高く、外光の反射による
表示画像のコントラスト低下や、周囲にある明るい物体
がブラックマトリックス面で反射して表示画像に重な
る、いわゆる写り込みが生じ画質の低下を来たしやす
い。また、Cr膜のスパッタ、フォトリソグラフィー加
工と工程が長いので低コスト化が困難であるという難点
もある。
(1) A black matrix made of a metal film of Cr or the like processed by photolithography: a high resolution and a high light-shielding ratio, and an optical density (OD) of 3.0 or more can be easily obtained at a film thickness of about 0.1 μm. However, since the reflectance of visible light is as high as about 40% due to the metal film, the contrast of the displayed image is reduced due to the reflection of external light, and a bright object in the surroundings is reflected on the black matrix surface and overlaps the displayed image. It is easy for reflection to occur and image quality to deteriorate. In addition, there is a disadvantage that it is difficult to reduce the cost because the steps of sputtering and photolithography processing of the Cr film are long.

【0005】(2)黒色顔料を分散した有機樹脂膜をフ
ォトリソグラフィー法、印刷法、あるいはフォトエッチ
ング法でパターニングするか、または、感光性樹脂膜を
パターニングした後、黒色染料で染色して得られる黒色
有機樹脂膜からなるブラックマトリックス、黒色である
ため可視光の反射率が数%以下と低く、外光の反射によ
る表示画像のコントラスト低下や、周囲にある明るい物
体の写り込みが金属膜ブラックマトリックスに比べ大幅
に減少し、画質が向上する。しかし、遮光率が低いとい
う難点がある。すなわち、フォトリソグラフィー法では
遮光率を上げると、基板との界面に到達する露光光量が
減少するため、高遮光率とすると(例えば光学濃度3.
0では基板に到達する透過光量は1/1000)、現像
時に有機樹脂膜のパターン剥がれが生じ、ブラックマト
リックスが形成できなくなる。これを避けるため露光量
を増やすと、パターン寸法の太りが生じ、所定の解像度
が実現できなくなりやすい。また、印刷法やフォトエッ
チング法ではフォトリソグラフィー法に比べ制約はやや
ゆるいが、黒色着色材の含有量に限界があるので、高遮
光率とすると印刷時の膜厚が大となり(例えば膜厚1.
0μmで光学濃度2.0の場合、光学濃度を3.0に上
げると膜厚は3.3μmになる)、本質的にフォトリソ
グラフィー法に比べて劣る解像度が、さらに大幅に低下
し、実質的にブラックマトリックスが形成できなくなる
おそれがある。
(2) An organic resin film in which a black pigment is dispersed is patterned by a photolithography method, a printing method, or a photoetching method, or a photosensitive resin film is patterned and then dyed with a black dye. Black matrix made of black organic resin film. Reflection of visible light is as low as several percent or less due to black, and metal image black matrix reduces the contrast of displayed images due to the reflection of external light and reflects surrounding bright objects. And the image quality is improved. However, there is a disadvantage that the light blocking ratio is low. That is, in the photolithography method, when the light blocking ratio is increased, the amount of exposure light reaching the interface with the substrate is reduced.
At 0, the amount of transmitted light reaching the substrate is 1/1000), and the pattern of the organic resin film is peeled off during development, so that a black matrix cannot be formed. If the amount of exposure is increased to avoid this, the pattern size is increased, and it is likely that a predetermined resolution cannot be realized. In addition, although the printing method and the photo etching method are slightly less restrictive than the photolithography method, the content of the black coloring material is limited. .
In the case of 0 μm and an optical density of 2.0, increasing the optical density to 3.0 results in a film thickness of 3.3 μm.) Black matrix may not be formed.

【0006】一般に黒色有機樹脂膜からなるブラックマ
トリックスは、金属膜からなるブラックマトリックスに
比べ光学濃度2.0〜2.5において膜厚が1〜2μm
と厚いが、膜厚1.5μmを超えると、その上にカラー
フィルターや保護膜および透明電極を形成して完成した
基板の表面平坦度が0.5μmを超えるようになり、対
向電極基板と組み合せて液晶表示パネルとした場合、色
むら、白しみ、輝度むら等が発生し、表示画質が低下す
る。したがって、ブラックマトリックスの膜厚は1μm
以下好ましくは0.5μm以下とすることが極めて重要
である。
In general, a black matrix made of a black organic resin film has a thickness of 1 to 2 μm at an optical density of 2.0 to 2.5 compared to a black matrix made of a metal film.
When the film thickness exceeds 1.5 μm, the color filter, protective film, and transparent electrode are formed thereon, and the finished substrate has a surface flatness exceeding 0.5 μm, and is combined with the counter electrode substrate. When a liquid crystal display panel is used, color unevenness, white spots, brightness unevenness, and the like occur, and the display image quality deteriorates. Therefore, the thickness of the black matrix is 1 μm
It is extremely important that the thickness be 0.5 μm or less.

【0007】一方、透明保護膜や透明画素電極に関し
て、例えば、特開平4−130401号公報には、透明
基板上に導電性遮光パターン層、透明絶縁層、カラーフ
ィルターパターン層、透明保護膜層、透明導電性パター
ン層を順次形成した電極付カラーフィルターが記載され
ている。ここで、透明保護膜や透明絶縁層は、透明電極
の表面平滑性を向上させることと、カラーフィルターの
耐溶媒性の向上、更には、導電性遮光層(ブラックマト
リックス)と透明導電性層(透明電極)との電気的絶縁
を目的とし形成されている。
On the other hand, with respect to a transparent protective film and a transparent pixel electrode, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-130401 discloses a conductive light-shielding pattern layer, a transparent insulating layer, a color filter pattern layer, a transparent protective film layer on a transparent substrate. A color filter with an electrode in which a transparent conductive pattern layer is sequentially formed is described. Here, the transparent protective film and the transparent insulating layer improve the surface smoothness of the transparent electrode, improve the solvent resistance of the color filter, and further form a conductive light-shielding layer (black matrix) and a transparent conductive layer ( (Transparent electrode) for the purpose of electrical insulation.

【0008】ところが最近、カラーフィルター(液晶表
示装置)の低コスト化や更なる薄膜化を目的に透明保護
膜や透明絶縁膜を除去し、カラーフィルターやブラック
マトリックス自体で使用可能な平滑性と絶縁性を持たせ
ようとの研究が活発である。さらに、ブラックマトリッ
クスやRGBのレジストを塗布した後の乾燥温度を22
0℃以上好ましくは250℃以上に高めたいとの要望も
出てきている。すなわち、レジスト塗布面を高温で処理
した後も絶縁性を保持するブラックマトリックスの要求
が強い。しかしながら、特に絶縁性に関しては、ブラッ
クマトリックスの主成分としてクロムや酸化クロム等の
金属膜並びにカーボンブラックやグラファイト等の炭素
粉等いずれも導電性素材を用いているため低温熱処理条
件下での絶縁性も極めて困難であり、新規の素材が望ま
れていた。
However, recently, for the purpose of lowering the cost and further reducing the thickness of the color filter (liquid crystal display device), the transparent protective film and the transparent insulating film have been removed, and the smoothness and insulation that can be used for the color filter and the black matrix itself have been removed. There is a lot of research on giving sex. Further, the drying temperature after applying a black matrix or RGB resist is set to 22.
There has been a demand for increasing the temperature to 0 ° C. or higher, preferably to 250 ° C. or higher. That is, there is a strong demand for a black matrix that maintains insulation even after the resist-coated surface is treated at a high temperature. However, especially with respect to the insulating properties, as the main components of the black matrix, metal films such as chromium and chromium oxide and carbon powders such as carbon black and graphite are all conductive materials, the insulating properties under low-temperature heat treatment conditions Is extremely difficult, and new materials have been desired.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
観点に基づいて、従来法では実現できなかった、薄膜で
高遮光率を示しかつ表面反射率も低い黒色遮光膜からな
るブラックマトリックスを有するカラーフィルターに好
適なカーボンブラックを提供するとともに併せて透明保
護膜や透明絶縁膜の機能まで有する高温処理条件下でも
使用可能な絶縁性ブラックマトリックス用カーボンブラ
ックを低コストで提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Based on such a viewpoint, the present invention provides a black matrix composed of a black light-shielding film having a high light-shielding rate and a low surface reflectance, which cannot be realized by the conventional method. It is an object of the present invention to provide a carbon black suitable for a color filter having a function of a transparent protective film and a transparent insulating film at the same time as a carbon black for an insulating black matrix which can be used even under a high-temperature processing condition. I do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、カーボンブラ
ックを樹脂で被覆処理、ついで酸化処理してなる絶縁性
ブラックマトリックス用カーボンブラックを要旨とす
る。以下、本発明を詳細に説明する。
The gist of the present invention is to provide a carbon black for an insulating black matrix obtained by coating carbon black with a resin and then oxidizing the same. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】まず、本発明において樹脂を被覆
処理するカーボンブラックとしては特に限定されない
が、好適には次のようなカーボンブラックが用いられ
る。灰分が1.0重量%以下、DBP吸収量が140m
l/100g以下のカーボンブラックが好ましい。灰分
の組成は、Na、K、Ca等のアルカリ金属やアルカリ
土類金属等であり、これらを含有したカーボンブラック
を樹脂等に配合すると絶縁性が低下する。これは、Na
やK、Ca等のイオン性導電性物質が吸水性大であるた
め、カーボンブラック−樹脂複合体の吸水性が増大し、
その結果絶縁性が低下するものと考えられる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The carbon black to be coated with a resin in the present invention is not particularly limited, but the following carbon black is preferably used. Ash content 1.0% by weight or less, DBP absorption 140m
1/100 g or less of carbon black is preferred. The composition of the ash is an alkali metal such as Na, K, Ca or the like, an alkaline earth metal, or the like. When carbon black containing these is mixed with a resin or the like, the insulating property is reduced. This is Na
And ionic conductive substances such as K and Ca have high water absorption, so that the water absorption of the carbon black-resin composite increases,
As a result, it is considered that the insulating property is reduced.

【0012】このイオン性導電物質を低減させるために
は、カーボンブラック製造時の原料油の吟味、急冷時に
使用するスプレー水の吟味、添加物の吟味などにより達
成される。また製造炉から製出したカーボンブラックを
水洗或いは酸洗いすることによっても達成される。更に
上記製造時の原料、スプレー水、添加物等の吟味と、水
洗、酸洗い等とを組合わせることによっても達成でき
る。カーボンブラック中に存在するイオン性導電物質の
含量は、そのカーボンブラックを750℃において空気
中で4〜6時間焼成したときに残る灰分量で表わされ、
本発明配合物のカーボンブラックの灰分量は1.0重量
%以下であることが好ましく、さらに好ましいのは0.
5重量%以下である。
The reduction of the ionic conductive material can be achieved by examining the raw material oil at the time of producing carbon black, examining the spray water used at the time of quenching, examining additives, and the like. It can also be achieved by washing or pickling carbon black produced from a production furnace. Further, it can also be achieved by combining the examination of the raw materials, spray water, additives and the like at the time of the above production with washing with water, pickling and the like. The content of the ionic conductive substance present in the carbon black is represented by the amount of ash remaining when the carbon black is calcined at 750 ° C. in air for 4 to 6 hours.
The ash content of the carbon black in the composition of the present invention is preferably 1.0% by weight or less, more preferably 0.1% by weight.
5% by weight or less.

【0013】また、JIS−K6221−A法で測定し
たDBP吸収量が140ml/100gを超えると、カ
ーボンブラック自体の黒色度が低下しブラックマトリッ
クス用樹脂ワニスに配合し塗布した場合の濃度感が十分
でないだけでなくペーストの粘度も高くなり、平滑性の
良い塗膜が得られなくなるおそれがある。DBP吸収量
としては、140ml/100g以下であることが好ま
しく、さらに好ましくは120ml/100g以下であ
る。また、樹脂で被覆処理するカーボンブラックとし
て、酸化処理したものを用いるのが好適であり、酸化処
理方法としては、後述する方法によることができる。被
覆処理する樹脂の種類も特に限定されるものではない
が、合成樹脂が一般的であり、さらに構造の中にベンゼ
ン核を有した樹脂の方が両性系活面活性剤的な働きがよ
り強いため分散性及び分散安定性の点から好ましい。
When the DBP absorption amount measured by the JIS-K6221-A method exceeds 140 ml / 100 g, the blackness of the carbon black itself is reduced, and the density feeling when mixed and applied to a resin varnish for a black matrix is sufficient. In addition, the viscosity of the paste is increased, and a coating film having good smoothness may not be obtained. The DBP absorption amount is preferably 140 ml / 100 g or less, more preferably 120 ml / 100 g or less. The carbon black to be coated with a resin is preferably an oxidized carbon black, and the oxidizing method may be a method described later. The type of the resin to be coated is not particularly limited, but a synthetic resin is generally used, and a resin having a benzene nucleus in the structure has a stronger function as an amphoteric surfactant. Therefore, it is preferable from the viewpoint of dispersibility and dispersion stability.

【0014】具体的な合成樹脂としては、フェノール樹
脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート
樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼ
ン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリス
ルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリ
アミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミ
ド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、
ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、等の熱
可塑性樹脂が使用できる。
Specific examples of the synthetic resin include a thermosetting resin such as a phenol resin, a melamine resin, a xylene resin, a diallyl phthalate resin, a glycol resin, an epoxy resin, and an alkylbenzene resin; polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and polybutylene terephthalate. , Modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyaminobismaleimide, polyethersulfopolyphenylene sulfone,
Thermoplastic resins such as polyarylate and polyetheretherketone can be used.

【0015】カーボンブラックに対する樹脂の被覆量
は、カーボンブラックと樹脂の合計量に対し1〜30w
t%が好ましく、1wt%未満の量では、未処理のカー
ボンブラックと同様の分散性、分散安定性、絶縁性しか
得られないおそれがある。一方、30wt%を超える
と、樹脂同士の粘着性が強く、団子状の固まりとなり、
分散が進まなくなるおそれがある。
The coating amount of the resin on the carbon black is 1 to 30 watts based on the total amount of the carbon black and the resin.
t% is preferable, and if the amount is less than 1 wt%, only the same dispersibility, dispersion stability, and insulating properties as those of untreated carbon black may be obtained. On the other hand, if it exceeds 30 wt%, the adhesiveness between the resins is strong, and the resin becomes a dumpling-like mass.
Dispersion may not progress.

【0016】更に本発明のカーボンブラックは、カーボ
ンブラックに樹脂を被覆した後、酸化処理することによ
り得られる。酸化処理方法としては、窒素酸化物やオゾ
ン、SO3 ガス、フッ素ガスや高温雰囲気下で空気と接
触・反応させる空気酸化等の気相酸化並びに硝酸、過マ
ンガン酸カリ、亜塩素酸、次亜塩素酸ソーダ、臭素水溶
液オゾン水溶液、過酸化水素等を用いる液相酸化等があ
り、これらを単独あるいは、2種類以上組み合わせる事
により達成される。
Further, the carbon black of the present invention can be obtained by coating the carbon black with a resin and then subjecting the carbon black to an oxidation treatment. Examples of the oxidation treatment method include gaseous oxidation such as nitrogen oxide, ozone, SO 3 gas, fluorine gas, air oxidation that is brought into contact with and reacting with air in a high-temperature atmosphere, nitric acid, potassium permanganate, chlorous acid, and hypochlorous acid. There are liquid phase oxidation using sodium chlorate, aqueous bromine solution, ozone aqueous solution, hydrogen peroxide and the like, which can be achieved by using these alone or in combination of two or more.

【0017】酸化処理度合いは、オゾン等の酸化処理を
進めるとヨウ素吸着量が低下する現象を利用し設定する
のがよい。具体的には、樹脂で被覆したカーボンブラッ
クのヨウ素吸着量に対する変化率をマイナス5%以上と
するのが好ましい。マイナス5%未満であると、塗料等
にした際の抵抗が高くなりにくく好ましい絶縁性ブラッ
クマトリックスが得にくくなるからである。ここで、ヨ
ウ素吸着量は、JIS−K−6221により求められ
る。
The degree of the oxidation treatment is preferably set by utilizing a phenomenon in which the amount of adsorbed iodine decreases as the oxidation treatment of ozone or the like proceeds. Specifically, it is preferable that the rate of change of the carbon black coated with the resin with respect to the iodine adsorption amount is set to −5% or more. If the amount is less than -5%, the resistance when formed into a paint or the like does not easily increase, and it becomes difficult to obtain a preferable insulating black matrix. Here, the iodine adsorption amount is determined according to JIS-K-6221.

【0018】樹脂被覆後、酸化処理する事により抵抗が
大幅に向上する理由は、明確でないが、一つには、樹脂
で被覆したカーボンブラックにも樹脂が覆っていない裸
のカーボンブラック表面が存在し、この部分に絶縁性で
ある官能基が付与されるために高抵抗になるためとも考
えられる。更にもう一つの理由としては、酸化処理によ
るカーボンブラック表面を覆っている樹脂モノマーの高
分子化が進み、より絶縁性樹脂膜となるためか或いは、
これら両方の理由によるのではないかと考えられる。
The reason why the resistance is greatly improved by performing an oxidation treatment after coating with a resin is not clear, but one of the reasons is that there is a bare carbon black surface which is not covered with the resin even in the resin-coated carbon black. However, it is also conceivable that the resistance becomes high because an insulating functional group is imparted to this portion. Still another reason is that the polymerization of the resin monomer covering the carbon black surface due to the oxidation treatment is progressing to become a more insulating resin film, or
It is considered that both of these reasons are involved.

【0019】このようにして樹脂で被覆処理してなるカ
ーボンブラックは、常法に従い絶縁性ブラックマトリッ
クスの遮光材として用いることができ、この絶縁性ブラ
ックマトリックスを構成要素とするカラーフィルターを
常法により作成することができる。たとえば、本発明の
ブラックマトリックス用レジスト組成物の調液に当って
は、まず、塗布溶剤、分散剤及びカーボンブラックを、
0.1〜数mm径のガラスビーズ又はジルコニアビーズ
を用いたビーズミル、ペイントシエカー或いはバルブホ
モジナイザー、更には3本ロールミル等で0.5時間〜
30時間分散することで、カーボンブラック濃度が10
〜70重量%の分散液を得る。次にこの分散液に、光重
合開始剤組成物とエチレン性化合物(現像画像の接着性
向上剤)、有機高分子物質(基板との接着性向上剤)等
を加え混合分散することによりレジスト組成物を調製す
る。
The carbon black coated with the resin in this manner can be used as a light-shielding material for an insulating black matrix according to a conventional method, and a color filter containing the insulating black matrix as a component can be used according to a conventional method. Can be created. For example, in preparing the black matrix resist composition of the present invention, first, a coating solvent, a dispersant and carbon black,
0.5 hours using a bead mill, a paint shaker or a valve homogenizer using glass beads or zirconia beads having a diameter of 0.1 to several mm, and a three-roll mill.
By dispersing for 30 hours, the carbon black concentration becomes 10
A ~ 70 wt% dispersion is obtained. Next, a photopolymerization initiator composition, an ethylenic compound (adhesiveness improving agent for a developed image), an organic polymer substance (adhesiveness improving agent to a substrate), and the like are added to the dispersion, and the mixture is dispersed. Prepare the product.

【0020】ブラックマトリックス用レジスト組成物を
調製する際の最適配合割合は下記の通りである。 分散剤は、カーボンブラックに対し、1〜100重量
% 光重合開始剤組成物は、カーボンブラックを除くブラ
ックマトリックス用レジスト組成物に対し、0.2〜3
0重量%、好ましくは0.2〜20重量% エチレン性化合物は、カーボンブラックを除くブラッ
クマトリックス用レジスト組成物に対し、50〜95重
量%、好ましくは60〜90重量% 有機高分子物質は、カーボンブラックを除くブラック
マトリックス用レジスト組成物に対し、10〜70重量
%、好ましくは20〜60重量% カーボンブラックは、レジスト組成物中の全固形分に
対し、35〜80重量%、好ましくは50〜70重量% 溶剤は、上記、、、、の光重合性組成物全
体に対し、50〜95重量%、好ましくは70〜90重
量% の範囲となるように調整される。
The optimum compounding ratio in preparing the black matrix resist composition is as follows. The dispersant is 1 to 100% by weight based on carbon black. The photopolymerization initiator composition is 0.2 to 3% based on the black matrix resist composition excluding carbon black.
0% by weight, preferably 0.2 to 20% by weight The ethylenic compound accounts for 50 to 95% by weight, preferably 60 to 90% by weight, based on the black matrix resist composition excluding carbon black. 10 to 70% by weight, preferably 20 to 60% by weight, based on the black matrix resist composition excluding carbon black Carbon black is 35 to 80% by weight, preferably 50% by weight, based on the total solids in the resist composition. The solvent is adjusted so as to be in the range of 50 to 95% by weight, preferably 70 to 90% by weight, based on the whole of the photopolymerizable composition described above.

【0021】又、ここで用いるカーボンブラック以外の
上記物質は、一般に同種目的に使用されている物は全て
使用可能であるが、特に好ましい例として次のような物
が挙げられる。 「分散剤」ウレタン系、アクリル系、ポリイミド系等の
熱硬化性樹脂、アクリル系、塩化ビニル系、ポリアミド
系等の熱可塑性樹脂等の高分子分散剤が好ましい。 「光重合開始剤組成物」ジシクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル−1
−イルやジシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル−1−イルの
チタノセン化合物と波長400〜500nmに吸収を有
する増感色素からなる複合物が好ましい。
As the above-mentioned substances other than carbon black used here, all substances generally used for the same kind can be used. Particularly preferred examples include the following. "Dispersant" A polymer dispersant such as a thermosetting resin such as urethane, acrylic, or polyimide, or a thermoplastic resin such as acrylic, vinyl chloride, or polyamide is preferable. "Photopolymerization initiator composition" dicyclopentadienyl-Ti
-Bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1
-Yl or dicyclopentadienyl-Ti-bis-2,
A composite comprising a titanocene compound of 3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl and a sensitizing dye having an absorption at a wavelength of 400 to 500 nm is preferred.

【0022】「エチレン性化合物」芳香族ポリグリシジ
ルエーテル化合物と不飽和モノカルボン酸との付加反
応、或いは、芳香族ポリヒドロキシ化合物とエポキシモ
ノカルボン酸エステルとの付加反応、で得られるエチレ
ン性不飽和二重結合を2個以上有するエチレン性化合物
(以下「エチレン性化合物(A)」と称す。)が好適で
あるが、該エチレン性化合物(A)と共に、脂肪族ポリ
ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸との付加反応(エ
ステル反応)で得られる、エチレン性不飽和二重結合を
2個以上含有するエチレン性化合物(以下「エチレン性
化合物(B)」と称す。)を併用することが好ましい。
具体例としては、(A)としてビスフェノールAとエピ
クロルヒドリとの共縮合モノマー(B)としてジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
"Ethylenic compound" Ethylenically unsaturated compound obtained by an addition reaction between an aromatic polyglycidyl ether compound and an unsaturated monocarboxylic acid, or an addition reaction between an aromatic polyhydroxy compound and an epoxy monocarboxylic acid ester An ethylenic compound having two or more double bonds (hereinafter referred to as "ethylenic compound (A)") is preferable, and together with the ethylenic compound (A), an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid are used. It is preferable to use together an ethylenic compound containing two or more ethylenically unsaturated double bonds (hereinafter referred to as "ethylenic compound (B)") obtained by an addition reaction (ester reaction) with the compound (b).
As a specific example, dipentaerythritol hexaacrylate and the like can be mentioned as (A) a co-condensation monomer of bisphenol A and epichlorohydric (B).

【0023】「有機高分子物質」スチレン、α−メチル
スチレン、ベンジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
フェニル(メタ)アクリル酸、メトキシフェニル(メ
タ)アクリル酸、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリル
アミド、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルスルホア
ミド等のフェニル基を有する共重合モノマーを10〜8
0モル%、好ましくは20〜70モル%、より好ましく
は30〜60モル%の割合で含有し、その他(メタ)ア
クリル酸を2〜50重量%、好ましくは5〜40重量
%、より好ましくは5〜30重量%の割合で含有する共
重合体、或いは、全共重合モノマーに対して2〜50モ
ル%、好ましくは5〜40モル%、より好ましくは10
〜30モル%のエポキシ(メタ)アクリレートが付加さ
れた反応物が望ましい。
"Organic polymer substance" Styrene, α-methylstyrene, benzyl (meth) acrylate, hydroxyphenyl (meth) acrylic acid, methoxyphenyl (meth) acrylic acid, hydroxyphenyl (meth) acrylamide, hydroxyphenyl (meth) 10-8 copolymer monomers having a phenyl group such as acrylsulfonamide
0 mol%, preferably 20 to 70 mol%, more preferably 30 to 60 mol%, and other (meth) acrylic acid is 2 to 50 wt%, preferably 5 to 40 wt%, more preferably The copolymer contained at a ratio of 5 to 30% by weight, or 2 to 50% by mole, preferably 5 to 40% by mole, more preferably 10 to 10% by mole based on all copolymerized monomers.
A reactant to which about 30 mol% of epoxy (meth) acrylate is added is desirable.

【0024】「溶剤」メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下
「PGMEA」と略記する。)、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエ
ン、クロロホルム、ジクロロメチン、酢酸エチル、乳酸
メチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、テトラハイドロフラン等が挙げら
れる。
"Solvent" Methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter abbreviated as "PGMEA"), methyl ethyl ketone,
Examples include methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, toluene, chloroform, dichloromethine, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, methanol, ethanol, propanol, butanol, tetrahydrofuran and the like.

【0025】本発明のカーボンブラックを用いると、高
遮光率でかつ表面反射率が低くまた膜厚小の絶縁性ブラ
ックマトリックスが低コストで達成できる。絶縁性ブラ
ックマトリックス液を構成する樹脂や溶媒に対し、カー
ボンブラックの分散性や分散安定性が格段に向上したた
めと推測される。
When the carbon black of the present invention is used, an insulating black matrix having a high light blocking ratio, a low surface reflectance and a small film thickness can be achieved at low cost. It is presumed that the dispersibility and dispersion stability of the carbon black with respect to the resin and the solvent constituting the insulating black matrix liquid were remarkably improved.

【0026】V.E.グール等(1970年発行、「導
電性ポリマーの研究と応用」)によると、電気が流れる
際に必要な電荷の移動は、充填剤の粒子で構成される鎖
の表面及び熱輻射熱を利用した粒子内部を中心に行なわ
れると共に、印加電圧、温度等の条件によっては、電位
障壁(ポテンシャルバリヤー)を越えての電子のジャン
プいわゆるトンネル効果で行なわれると考えられてい
る。
V. E. FIG. According to Ghoul et al. (Published in 1970, "Research and Application of Conducting Polymers"), the transfer of electric charge required when electricity flows is based on the surface of chains composed of filler particles and particles using thermal radiation heat. It is considered that the process is carried out mainly by the inside and, depending on conditions such as applied voltage and temperature, is carried out by a so-called tunnel effect of electron jump over a potential barrier.

【0027】本発明によれば好適には、表面官能基の多
いカーボンブラックを用い表面を高絶縁性樹脂で被覆す
ること、更に樹脂で被覆されていない裸の部分をO2
2官能基でカバーすることにより、CaやNa等のイ
オン性物質を封じ込める働きと共に、導体同士の接触を
絶縁すること、更に、被覆膜により電子のジャンプが不
可能になること等により、高絶縁性が達成されるものと
推測される。また、高温下で処理しても抵抗の低下度合
が少なく、絶縁性を保てるようになる理由は、酸化処理
によりカーボンブラックと被覆樹脂との結合が強固にな
り、結果として樹脂自体の耐熱性が向上するため考えら
れる。
According to the present invention, preferably, the surface is coated with a highly insulating resin using carbon black having a large number of surface functional groups, and the bare portion not coated with the resin is coated with an O 2 or H 2 functional group. By covering with, it acts to contain ionic substances such as Ca and Na, insulates the contact between conductors, and furthermore makes it impossible for electrons to jump due to the coating film. It is presumed to be achieved. Also, the reason why the resistance decreases little even when treated at high temperature and the insulation property can be maintained is that the oxidation treatment strengthens the bond between the carbon black and the coating resin, and as a result, the heat resistance of the resin itself is reduced. It is thought to improve.

【0028】[0028]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。 〔実施例1〕カーボンブラックは、通常のオイルファー
ネス法で製造した。但し、原料油としては、Na、C
a、S分量の少ないエチレンボトム油を用い燃焼用には
コークス炉ガスを用いた。更に、反応停止水としては、
イオン交換樹脂で処理した純水を用い製造した。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. [Example 1] Carbon black was produced by an ordinary oil furnace method. However, as raw material oil, Na, C
a, coke oven gas was used for combustion using ethylene bottom oil having a small S content. Further, as the reaction stop water,
It was manufactured using pure water treated with an ion exchange resin.

【0029】このカーボンブラック500gを内径30
cm、長さ60cmの円筒型キルンを最大200℃まで
加熱可能な電熱式高温槽に設置し10rpmで回転させ
つつ(株)ワコーシステムコントロール社製の型式「O
R−4Z」で発生させた1万ppmのオゾンを5L/分
の流量で流しカーボンブラックと接触反応させた。オゾ
ンとカーボンブラックの接触部の温度は50℃とし2.
3時間処理した。得られたカーボンブラックの基礎物性
は、表1に示した通りである。
When 500 g of this carbon black is used with an inner diameter of 30
cm, 60 cm long cylindrical kiln is installed in an electrothermal high-temperature bath capable of heating up to 200 ° C., and is rotated at 10 rpm while a model “O” manufactured by Wako System Control Co., Ltd.
10,000 ppm ozone generated by "R-4Z" was flowed at a flow rate of 5 L / min to cause a contact reaction with carbon black. 1. The temperature of the contact portion between ozone and carbon black is 50 ° C.
Treated for 3 hours. The basic physical properties of the obtained carbon black are as shown in Table 1.

【0030】得られたカーボンブラック540gを純水
14500gと共にホモミキサーを用い6,000rp
mで30分撹拌しスラリーを得た。このスラリーをスク
リュー型撹拌機付容器に移し約1,000rpmで混合
しながら油化シェルエポキシ社製 エポキシ樹脂「エピ
コート828」60gを溶解したトルエン600gを少
量づつ添加していった。約15分で、水に分散していた
カーボンブラックは全量トルエン側に移行し約1mmの
粒となった。
The obtained carbon black (540 g) was mixed with pure water (14500 g) using a homomixer at 6,000 rpm.
The mixture was stirred at m for 30 minutes to obtain a slurry. The slurry was transferred to a vessel equipped with a screw-type stirrer, and while mixing at about 1,000 rpm, 600 g of toluene in which 60 g of an epoxy resin “Epicoat 828” manufactured by Yuka Shell Epoxy Co. was dissolved was added little by little. In about 15 minutes, the entire amount of the carbon black dispersed in the water was transferred to the toluene side to form particles of about 1 mm.

【0031】次に、60メッシュ金網で水切りを行った
後、真空乾燥機に入れ70℃で10時間乾燥しトルエン
と水を完全に除去した。得られたカーボンブラック中の
残存トルエン量は50ppm、水は500ppmであっ
た。また、他の基礎物性は、表1に示した。次に、この
カーボンブラック500gを内径30cm、長さ60c
mの円筒型キルンに入れ、18mg・オゾン/L・空気
濃度のオゾンを5L/分の流量で流し111分間処理
した。同一条件で2バッチ処理し全体を均一に混合した
物を評価用カーボンブラックとし、次のような方法でブ
ラックマトリックス用レジスト組成物を作成した。1m
m径のジルコニアビーズ300gを入れたサンドミル
に、カーボンブラック32gと下記構造の有機高分子物
質18gと、溶剤としてプロピレングリコール・モノメ
チルエーテルアセテート(以下PGMEAと略記する)
150gを加え、2000rpmで10時間混合分散さ
せ分散液を得た。
Next, after draining with a 60-mesh wire net, it was placed in a vacuum dryer and dried at 70 ° C. for 10 hours to completely remove toluene and water. The amount of residual toluene in the obtained carbon black was 50 ppm, and the amount of water was 500 ppm. Table 1 shows other basic physical properties. Next, 500 g of this carbon black was immersed in an inner diameter of 30 cm and a length of 60 c.
Then, the sample was placed in a cylindrical kiln having a flow rate of 5 mg / ozone and flowed at a flow rate of 5 L / min for 111 minutes. A mixture obtained by performing two batch treatments under the same conditions and uniformly mixing the whole was used as a carbon black for evaluation, and a resist composition for a black matrix was prepared by the following method. 1m
In a sand mill containing 300 g of zirconia beads of m diameter, 32 g of carbon black, 18 g of an organic polymer substance having the following structure, and propylene glycol / monomethyl ether acetate (hereinafter abbreviated as PGMEA) as a solvent.
150 g was added and mixed and dispersed at 2000 rpm for 10 hours to obtain a dispersion.

【0032】[0032]

【化1】 Embedded image

【0033】次に、ブラックマトリックス用レジスト組
成物は、1mm径のジルコニアビーズ90gを入れた1
40ccのマヨネーズびんに上記の分散液45gとエチ
レン性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート(日本化薬(株)製)1.13gとビスフェノ
ールAとエピクロルヒドリンとの共縮合モノマー(昭和
高分子(株)製「SP−1509」)1.13gと更に
光重合開始剤組成物としてP−ジエチルアミノ安息香酸
エチル0.37gと、PGMEA39gを加え、ペイン
トコンデショナーで30分分散し作成した。高圧水洗
浄、紫外線照射及びオゾン処理を施したガラス基板(コ
ーニング社製No.7059,厚さ1.1mm)上に得
られた上記ブラックマトリックス用レジスト組成物をス
ピンコート法により塗布し、250℃と270℃で各々
1.0時間の温度条件下で熱処理し膜厚1.0μmのレ
ジスト層を形成した。ここで用いたカーボンブラックの
物性と得られた塗膜の評価結果は、表−2に示した通り
である。
Next, the black matrix resist composition was prepared by adding 90 g of zirconia beads having a diameter of 1 mm.
In a 40 cc mayonnaise bottle, 45 g of the above dispersion, 1.13 g of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as an ethylenic compound, and a cocondensation monomer of bisphenol A and epichlorohydrin (manufactured by Showa Kogaku KK) “SP-1509”), 1.13 g, 0.37 g of ethyl P-diethylaminobenzoate as a photopolymerization initiator composition, and 39 g of PGMEA were added, and the mixture was dispersed with a paint conditioner for 30 minutes to prepare a dispersion. The above black matrix resist composition obtained on a glass substrate (Corning Co., No. 7059, thickness 1.1 mm) subjected to high-pressure water washing, ultraviolet irradiation and ozone treatment was applied by a spin coating method, and then heated to 250 ° C. And 270 ° C. for 1.0 hour each to form a resist layer having a thickness of 1.0 μm. The physical properties of the carbon black used here and the evaluation results of the obtained coating film are as shown in Table-2.

【0034】表中の粉体抵抗は、下部に真鍮製電極を取
り付けた内径2cmのポリ四フッ化エチレン製容器に約
2gのカーボンブラックを入れ、先端に真鍮製電極の付
いたポリ四フッ化エチレン製棒で蓋をした後、テンシロ
ンを用い0.2mm/minの速度で荷重をかけてい
き、50kg/cm2 時の抵抗を高感度テスターで測定
する。この荷重下における粉体の嵩高さと抵抗値から下
式を用い粉体抵抗を算出する。 粉体抵抗(Ω・cm)=カーボンブラック粉体の断面積
(cm2 )x 抵抗値(Ω)/カーボンブラック粉体の
嵩高さ(cm) また、表面抵抗は、上記塗膜面を油化電子(株)製の高
抵抗測定機「ハイレスタMCP−HT210」を用い測
定した。
The powder resistance in the table is obtained by placing about 2 g of carbon black in a polytetrafluoroethylene container having an inner diameter of 2 cm with a brass electrode attached at the bottom, and a polytetrafluoride having a brass electrode at the tip. After covering with an ethylene rod, a load is applied at a rate of 0.2 mm / min using Tensilon, and the resistance at 50 kg / cm 2 is measured with a high sensitivity tester. The powder resistance is calculated from the bulk of the powder under this load and the resistance value using the following equation. Powder resistance (Ω · cm) = Cross-sectional area of carbon black powder (cm 2 ) × resistance value (Ω) / bulk height of carbon black powder (cm) The measurement was performed using a high resistance measuring device “Hiresta MCP-HT210” manufactured by Denshi Co., Ltd.

【0035】〔実施例2と3〕実施例1の樹脂被覆後の
オゾン処理時間を実施例2は32分、また実施例3は2
33分とした以外実施例1と全て同じである。 〔実施例4〕実施例1で[化1]の構造の有機高分子物
質の代わりに高分子量ポリウレタン系樹脂(平均分子
量:13000)とした以外実施例1と全て同じであ
る。 〔比較例1と2〕比較例1は、樹脂で被覆したカーボン
ブラックそのものである。比較例2は、このカーボンブ
ラックを実施例1と同様条件で15分間オゾン処理を施
したカーボンブラックであり、その他は実施例1と同様
に評価した。
[Examples 2 and 3] The ozone treatment time after resin coating in Example 1 was 32 minutes in Example 2 and 2 minutes in Example 3
The same as in Example 1 except that the time was 33 minutes. Example 4 Example 4 was the same as Example 1 except that a high-molecular-weight polyurethane resin (average molecular weight: 13000) was used instead of the organic polymer having the structure of Chemical Formula 1. Comparative Examples 1 and 2 Comparative Example 1 is a resin-coated carbon black itself. Comparative Example 2 was a carbon black obtained by subjecting this carbon black to ozone treatment under the same conditions as in Example 1 for 15 minutes, and the others were evaluated as in Example 1.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

フロントページの続き (72)発明者 安良田 悟 兵庫県姫路市御国野町国分寺138−1 御 国色素株式会社内 (72)発明者 毛利 泰三 兵庫県姫路市御国野町国分寺138−1 御 国色素株式会社内Continued on the front page (72) Inventor Satoru Yasuda Satoru 138-1 Okunikocho Kokubunji, Himeji City, Hyogo Prefecture Inside (72) Inventor Taizo Mohri 138-1 Kokubunji Temple, Okuninocho Himeji City, Hyogo Prefecture In company

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 カーボンブラックを樹脂で被覆処理し、
ついで酸化処理してなるブラックマトリックス用カーボ
ンブラック。
1. A method of coating carbon black with a resin,
Next, carbon black for black matrix obtained by oxidation treatment.
【請求項2】 樹脂が、構造の中にベンゼン核を有して
いる請求項1記載のブラックマトリックス用カーボンブ
ラック。
2. The carbon black for a black matrix according to claim 1, wherein the resin has a benzene nucleus in the structure.
【請求項3】 樹脂の被覆量が、カーボンブラックと樹
脂の合計量に対し1〜30wt%である請求項1又は2
に記載のブラックマトリックス用カーボンブラック。
3. The coating amount of the resin is 1 to 30% by weight based on the total amount of the carbon black and the resin.
Carbon black for black matrix described in 1.
【請求項4】 (樹脂で被覆処理したカーボンブラック
のヨウ素吸着量値−樹脂で被覆処理したカーボンブラッ
クの酸化処理後のヨウ素吸着量値)/(樹脂で被覆処理
したカーボンブラックのヨウ素吸着値)で算出したヨウ
素値変化率が5%以上である請求項1〜3のいずれかに
記載のブラックマトリックス用カーボンブラック。
4. (Iodine adsorption value of carbon black coated with resin-Iodine adsorption value after oxidation treatment of carbon black coated with resin) / (Iodine adsorption value of carbon black coated with resin) The carbon black for a black matrix according to any one of claims 1 to 3, wherein the iodine value change rate calculated by the above is 5% or more.
【請求項5】 ブラックマトリックスを有するカラーフ
ィルターにおいて、樹脂で被覆し、ついで、酸化処理し
たカーボンブラックを遮光材としたブラックマトリック
スを用いてなるカラーフィルター。
5. A color filter having a black matrix, wherein the color filter is coated with a resin and then uses a black matrix in which carbon black that has been subjected to an oxidation treatment is used as a light-shielding material.
JP13870597A 1997-05-28 1997-05-28 Carbon black for black matrix Expired - Lifetime JP3893666B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13870597A JP3893666B2 (en) 1997-05-28 1997-05-28 Carbon black for black matrix

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13870597A JP3893666B2 (en) 1997-05-28 1997-05-28 Carbon black for black matrix

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10330643A true JPH10330643A (en) 1998-12-15
JP3893666B2 JP3893666B2 (en) 2007-03-14

Family

ID=15228208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13870597A Expired - Lifetime JP3893666B2 (en) 1997-05-28 1997-05-28 Carbon black for black matrix

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3893666B2 (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6372349B1 (en) 1999-08-27 2002-04-16 Mitsubishi Chemical Corporation High-resistivity carbon black
JP2004515559A (en) * 1999-05-06 2004-05-27 キャボット コーポレイション Polymerized modified particles and method for producing the same
JP2004156051A (en) * 1999-09-17 2004-06-03 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing and electronic component device
KR100752211B1 (en) * 2000-12-28 2007-08-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 LCD and its manufacturing method
EP2037323A2 (en) 2007-07-17 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
EP2103966A2 (en) 2008-03-18 2009-09-23 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor
EP2105792A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
EP2120094A2 (en) 2008-05-12 2009-11-18 Fujifilm Corporation Black photosensitive resin composition, and color filter and method of producing the same

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004515559A (en) * 1999-05-06 2004-05-27 キャボット コーポレイション Polymerized modified particles and method for producing the same
US6372349B1 (en) 1999-08-27 2002-04-16 Mitsubishi Chemical Corporation High-resistivity carbon black
JP2004156051A (en) * 1999-09-17 2004-06-03 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing and electronic component device
JP2004156050A (en) * 1999-09-17 2004-06-03 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing and electronic component device
JP2004156052A (en) * 1999-09-17 2004-06-03 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing and electronic component device
JP2004211100A (en) * 1999-09-17 2004-07-29 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing and electronic component device
KR100752211B1 (en) * 2000-12-28 2007-08-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 LCD and its manufacturing method
EP2037323A2 (en) 2007-07-17 2009-03-18 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
EP2207062A2 (en) 2007-07-17 2010-07-14 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
EP2103966A2 (en) 2008-03-18 2009-09-23 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor
EP2204677A1 (en) 2008-03-18 2010-07-07 Fujifilm Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor
EP2105792A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor
EP2120094A2 (en) 2008-05-12 2009-11-18 Fujifilm Corporation Black photosensitive resin composition, and color filter and method of producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP3893666B2 (en) 2007-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102112520B1 (en) Black matrix substrate
US9261633B2 (en) Black resin composition, resin black matrix substrate, and touch panel
US8329068B2 (en) Black resin composition, resin black matrix, color filter and liquid crystal display
US5705302A (en) Color filter for liquid crystal display device and method for producing the color filter
JP3460762B2 (en) Carbon black for insulating black matrix
JP3543501B2 (en) Carbon black for insulating black matrix
TWI421316B (en) Transparent conductive film forming composition, transparent conductive film, and display
JPH10330643A (en) Carbon black for black matrix
JP4453161B2 (en) Photosensitive paste, display and plasma display member
JP2015001652A (en) Laminate resin black matrix substrate
JP4507350B2 (en) Photosensitive paste and display
JP2001092119A (en) Photosensitive paste, display and display member
JP2009058946A (en) Black resin composition, resin black matrix, color filter, and liquid crystal display device
JPH11181326A (en) Carbon black and its manufacturing method
JP3086361B2 (en) Manufacturing method of thin film and color filter
KR100631862B1 (en) Carbon black dispersion composition for black matrix used for color filter of liquid crystal display
JPH11349898A (en) Black coating composition and resin black matrix using the same
JP2000251741A (en) Display panel member and method of manufacturing the same
JP2000251741A5 (en)
JPWO1994027173A1 (en) Color filter for liquid crystal display device, method for producing the same, and liquid crystal display device
JP2001152048A (en) Method for producing resin-coated carbon black
JP2002296578A (en) Liquid crystal device substrate and liquid crystal display element
JPH11181324A (en) Carbon black

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040525

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040908

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20040908

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061113

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061121

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131222

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term