JPH10330643A - ブラックマトリックス用カーボンブラック - Google Patents
ブラックマトリックス用カーボンブラックInfo
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- JPH10330643A JPH10330643A JP13870597A JP13870597A JPH10330643A JP H10330643 A JPH10330643 A JP H10330643A JP 13870597 A JP13870597 A JP 13870597A JP 13870597 A JP13870597 A JP 13870597A JP H10330643 A JPH10330643 A JP H10330643A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高温処理条件下でも使用しうる絶縁性ブラッ
クマトリックスに好適なカーボンブラックを得る。 【解決手段】 カーボンブラックを樹脂で被覆処理し、
ついで酸化処理してなるブラックマトリックス用カーボ
ンブラック。
クマトリックスに好適なカーボンブラックを得る。 【解決手段】 カーボンブラックを樹脂で被覆処理し、
ついで酸化処理してなるブラックマトリックス用カーボ
ンブラック。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁性ブラックマ
トリックス用カーボンブラックに関し、さらに詳しくは
たとえばカラーテレビ、液晶カラーテレビ、カメラ等に
使用される光学的カラーフィルターに用いる絶縁性ブラ
ックマトリックス用のカーボンブラックに関する。
トリックス用カーボンブラックに関し、さらに詳しくは
たとえばカラーテレビ、液晶カラーテレビ、カメラ等に
使用される光学的カラーフィルターに用いる絶縁性ブラ
ックマトリックス用のカーボンブラックに関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、透明電極を設けたガラ
ス等の透明な基板を１ないし１０μｍ程度に間隔を設け
てその間に液晶物質を封入し、電極間に印加した電圧に
よって液晶を一定の方向に配向させて透明部分と不透明
部分を形成して画像を表示している。カラー液晶表示装
置は、いずれかの透明電極基板上に光の三原色に対応す
る赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三色のカラーフィル
ターを設けており、透明電極への印加電圧の調整によっ
て液晶の光の透過を制御してＲ、Ｇ、Ｂの３色のフィル
ターを透過する光量を制御して３原色の加色による発色
によってカラー表示を行っている。
ス等の透明な基板を１ないし１０μｍ程度に間隔を設け
てその間に液晶物質を封入し、電極間に印加した電圧に
よって液晶を一定の方向に配向させて透明部分と不透明
部分を形成して画像を表示している。カラー液晶表示装
置は、いずれかの透明電極基板上に光の三原色に対応す
る赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三色のカラーフィル
ターを設けており、透明電極への印加電圧の調整によっ
て液晶の光の透過を制御してＲ、Ｇ、Ｂの３色のフィル
ターを透過する光量を制御して３原色の加色による発色
によってカラー表示を行っている。
【０００３】Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層は、あらかじめ各色の
間を区画するブラックマトリックスの膜を設けた基板上
に形成する方式や、Ｒ、Ｇ、Ｂを形成後ブラックマトリ
ックス膜を設ける方法等種々あるが、ブラックマトリッ
クスの役割としては、いずれもＲ、Ｇ、Ｂ三原色を区画
すると共に、カラーフィルターに対向する基板上に設け
た液晶の駆動用の電極あるいはＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）等のトランジスタを遮光する作用を果している。こ
のような目的で使用されるカラーフィルターのブラック
マトリックスは二つに大別することができる。
間を区画するブラックマトリックスの膜を設けた基板上
に形成する方式や、Ｒ、Ｇ、Ｂを形成後ブラックマトリ
ックス膜を設ける方法等種々あるが、ブラックマトリッ
クスの役割としては、いずれもＲ、Ｇ、Ｂ三原色を区画
すると共に、カラーフィルターに対向する基板上に設け
た液晶の駆動用の電極あるいはＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）等のトランジスタを遮光する作用を果している。こ
のような目的で使用されるカラーフィルターのブラック
マトリックスは二つに大別することができる。
【０００４】（１）フォトリソグラフィー法より加工し
たＣｒ等の金属膜からなるブラックマトリックス：解像
度、および遮光率が高く、光学濃度（ＯＤ）３．０以上
が膜厚０．１μｍ近辺で容易に得られるが、金属膜のた
め可視光の反射率が約４０％と高く、外光の反射による
表示画像のコントラスト低下や、周囲にある明るい物体
がブラックマトリックス面で反射して表示画像に重な
る、いわゆる写り込みが生じ画質の低下を来たしやす
い。また、Ｃｒ膜のスパッタ、フォトリソグラフィー加
工と工程が長いので低コスト化が困難であるという難点
もある。
たＣｒ等の金属膜からなるブラックマトリックス：解像
度、および遮光率が高く、光学濃度（ＯＤ）３．０以上
が膜厚０．１μｍ近辺で容易に得られるが、金属膜のた
め可視光の反射率が約４０％と高く、外光の反射による
表示画像のコントラスト低下や、周囲にある明るい物体
がブラックマトリックス面で反射して表示画像に重な
る、いわゆる写り込みが生じ画質の低下を来たしやす
い。また、Ｃｒ膜のスパッタ、フォトリソグラフィー加
工と工程が長いので低コスト化が困難であるという難点
もある。
【０００５】（２）黒色顔料を分散した有機樹脂膜をフ
ォトリソグラフィー法、印刷法、あるいはフォトエッチ
ング法でパターニングするか、または、感光性樹脂膜を
パターニングした後、黒色染料で染色して得られる黒色
有機樹脂膜からなるブラックマトリックス、黒色である
ため可視光の反射率が数％以下と低く、外光の反射によ
る表示画像のコントラスト低下や、周囲にある明るい物
体の写り込みが金属膜ブラックマトリックスに比べ大幅
に減少し、画質が向上する。しかし、遮光率が低いとい
う難点がある。すなわち、フォトリソグラフィー法では
遮光率を上げると、基板との界面に到達する露光光量が
減少するため、高遮光率とすると（例えば光学濃度３．
０では基板に到達する透過光量は１／１０００）、現像
時に有機樹脂膜のパターン剥がれが生じ、ブラックマト
リックスが形成できなくなる。これを避けるため露光量
を増やすと、パターン寸法の太りが生じ、所定の解像度
が実現できなくなりやすい。また、印刷法やフォトエッ
チング法ではフォトリソグラフィー法に比べ制約はやや
ゆるいが、黒色着色材の含有量に限界があるので、高遮
光率とすると印刷時の膜厚が大となり（例えば膜厚１．
０μｍで光学濃度２．０の場合、光学濃度を３．０に上
げると膜厚は３．３μｍになる）、本質的にフォトリソ
グラフィー法に比べて劣る解像度が、さらに大幅に低下
し、実質的にブラックマトリックスが形成できなくなる
おそれがある。
ォトリソグラフィー法、印刷法、あるいはフォトエッチ
ング法でパターニングするか、または、感光性樹脂膜を
パターニングした後、黒色染料で染色して得られる黒色
有機樹脂膜からなるブラックマトリックス、黒色である
ため可視光の反射率が数％以下と低く、外光の反射によ
る表示画像のコントラスト低下や、周囲にある明るい物
体の写り込みが金属膜ブラックマトリックスに比べ大幅
に減少し、画質が向上する。しかし、遮光率が低いとい
う難点がある。すなわち、フォトリソグラフィー法では
遮光率を上げると、基板との界面に到達する露光光量が
減少するため、高遮光率とすると（例えば光学濃度３．
０では基板に到達する透過光量は１／１０００）、現像
時に有機樹脂膜のパターン剥がれが生じ、ブラックマト
リックスが形成できなくなる。これを避けるため露光量
を増やすと、パターン寸法の太りが生じ、所定の解像度
が実現できなくなりやすい。また、印刷法やフォトエッ
チング法ではフォトリソグラフィー法に比べ制約はやや
ゆるいが、黒色着色材の含有量に限界があるので、高遮
光率とすると印刷時の膜厚が大となり（例えば膜厚１．
０μｍで光学濃度２．０の場合、光学濃度を３．０に上
げると膜厚は３．３μｍになる）、本質的にフォトリソ
グラフィー法に比べて劣る解像度が、さらに大幅に低下
し、実質的にブラックマトリックスが形成できなくなる
おそれがある。
【０００６】一般に黒色有機樹脂膜からなるブラックマ
トリックスは、金属膜からなるブラックマトリックスに
比べ光学濃度２．０〜２．５において膜厚が１〜２μｍ
と厚いが、膜厚１．５μｍを超えると、その上にカラー
フィルターや保護膜および透明電極を形成して完成した
基板の表面平坦度が０．５μｍを超えるようになり、対
向電極基板と組み合せて液晶表示パネルとした場合、色
むら、白しみ、輝度むら等が発生し、表示画質が低下す
る。したがって、ブラックマトリックスの膜厚は１μｍ
以下好ましくは０．５μｍ以下とすることが極めて重要
である。
トリックスは、金属膜からなるブラックマトリックスに
比べ光学濃度２．０〜２．５において膜厚が１〜２μｍ
と厚いが、膜厚１．５μｍを超えると、その上にカラー
フィルターや保護膜および透明電極を形成して完成した
基板の表面平坦度が０．５μｍを超えるようになり、対
向電極基板と組み合せて液晶表示パネルとした場合、色
むら、白しみ、輝度むら等が発生し、表示画質が低下す
る。したがって、ブラックマトリックスの膜厚は１μｍ
以下好ましくは０．５μｍ以下とすることが極めて重要
である。
【０００７】一方、透明保護膜や透明画素電極に関し
て、例えば、特開平４−１３０４０１号公報には、透明
基板上に導電性遮光パターン層、透明絶縁層、カラーフ
ィルターパターン層、透明保護膜層、透明導電性パター
ン層を順次形成した電極付カラーフィルターが記載され
ている。ここで、透明保護膜や透明絶縁層は、透明電極
の表面平滑性を向上させることと、カラーフィルターの
耐溶媒性の向上、更には、導電性遮光層（ブラックマト
リックス）と透明導電性層（透明電極）との電気的絶縁
を目的とし形成されている。
て、例えば、特開平４−１３０４０１号公報には、透明
基板上に導電性遮光パターン層、透明絶縁層、カラーフ
ィルターパターン層、透明保護膜層、透明導電性パター
ン層を順次形成した電極付カラーフィルターが記載され
ている。ここで、透明保護膜や透明絶縁層は、透明電極
の表面平滑性を向上させることと、カラーフィルターの
耐溶媒性の向上、更には、導電性遮光層（ブラックマト
リックス）と透明導電性層（透明電極）との電気的絶縁
を目的とし形成されている。
【０００８】ところが最近、カラーフィルター（液晶表
示装置）の低コスト化や更なる薄膜化を目的に透明保護
膜や透明絶縁膜を除去し、カラーフィルターやブラック
マトリックス自体で使用可能な平滑性と絶縁性を持たせ
ようとの研究が活発である。さらに、ブラックマトリッ
クスやＲＧＢのレジストを塗布した後の乾燥温度を２２
０℃以上好ましくは２５０℃以上に高めたいとの要望も
出てきている。すなわち、レジスト塗布面を高温で処理
した後も絶縁性を保持するブラックマトリックスの要求
が強い。しかしながら、特に絶縁性に関しては、ブラッ
クマトリックスの主成分としてクロムや酸化クロム等の
金属膜並びにカーボンブラックやグラファイト等の炭素
粉等いずれも導電性素材を用いているため低温熱処理条
件下での絶縁性も極めて困難であり、新規の素材が望ま
れていた。
示装置）の低コスト化や更なる薄膜化を目的に透明保護
膜や透明絶縁膜を除去し、カラーフィルターやブラック
マトリックス自体で使用可能な平滑性と絶縁性を持たせ
ようとの研究が活発である。さらに、ブラックマトリッ
クスやＲＧＢのレジストを塗布した後の乾燥温度を２２
０℃以上好ましくは２５０℃以上に高めたいとの要望も
出てきている。すなわち、レジスト塗布面を高温で処理
した後も絶縁性を保持するブラックマトリックスの要求
が強い。しかしながら、特に絶縁性に関しては、ブラッ
クマトリックスの主成分としてクロムや酸化クロム等の
金属膜並びにカーボンブラックやグラファイト等の炭素
粉等いずれも導電性素材を用いているため低温熱処理条
件下での絶縁性も極めて困難であり、新規の素材が望ま
れていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
観点に基づいて、従来法では実現できなかった、薄膜で
高遮光率を示しかつ表面反射率も低い黒色遮光膜からな
るブラックマトリックスを有するカラーフィルターに好
適なカーボンブラックを提供するとともに併せて透明保
護膜や透明絶縁膜の機能まで有する高温処理条件下でも
使用可能な絶縁性ブラックマトリックス用カーボンブラ
ックを低コストで提供することを目的とする。
観点に基づいて、従来法では実現できなかった、薄膜で
高遮光率を示しかつ表面反射率も低い黒色遮光膜からな
るブラックマトリックスを有するカラーフィルターに好
適なカーボンブラックを提供するとともに併せて透明保
護膜や透明絶縁膜の機能まで有する高温処理条件下でも
使用可能な絶縁性ブラックマトリックス用カーボンブラ
ックを低コストで提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、カーボンブラ
ックを樹脂で被覆処理、ついで酸化処理してなる絶縁性
ブラックマトリックス用カーボンブラックを要旨とす
る。以下、本発明を詳細に説明する。
ックを樹脂で被覆処理、ついで酸化処理してなる絶縁性
ブラックマトリックス用カーボンブラックを要旨とす
る。以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
【発明の実施の形態】まず、本発明において樹脂を被覆
処理するカーボンブラックとしては特に限定されない
が、好適には次のようなカーボンブラックが用いられ
る。灰分が１．０重量％以下、ＤＢＰ吸収量が１４０ｍ
ｌ／１００ｇ以下のカーボンブラックが好ましい。灰分
の組成は、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ等のアルカリ金属やアルカリ
土類金属等であり、これらを含有したカーボンブラック
を樹脂等に配合すると絶縁性が低下する。これは、Ｎａ
やＫ、Ｃａ等のイオン性導電性物質が吸水性大であるた
め、カーボンブラック−樹脂複合体の吸水性が増大し、
その結果絶縁性が低下するものと考えられる。
処理するカーボンブラックとしては特に限定されない
が、好適には次のようなカーボンブラックが用いられ
る。灰分が１．０重量％以下、ＤＢＰ吸収量が１４０ｍ
ｌ／１００ｇ以下のカーボンブラックが好ましい。灰分
の組成は、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ等のアルカリ金属やアルカリ
土類金属等であり、これらを含有したカーボンブラック
を樹脂等に配合すると絶縁性が低下する。これは、Ｎａ
やＫ、Ｃａ等のイオン性導電性物質が吸水性大であるた
め、カーボンブラック−樹脂複合体の吸水性が増大し、
その結果絶縁性が低下するものと考えられる。
【００１２】このイオン性導電物質を低減させるために
は、カーボンブラック製造時の原料油の吟味、急冷時に
使用するスプレー水の吟味、添加物の吟味などにより達
成される。また製造炉から製出したカーボンブラックを
水洗或いは酸洗いすることによっても達成される。更に
上記製造時の原料、スプレー水、添加物等の吟味と、水
洗、酸洗い等とを組合わせることによっても達成でき
る。カーボンブラック中に存在するイオン性導電物質の
含量は、そのカーボンブラックを７５０℃において空気
中で４〜６時間焼成したときに残る灰分量で表わされ、
本発明配合物のカーボンブラックの灰分量は１．０重量
％以下であることが好ましく、さらに好ましいのは０．
５重量％以下である。
は、カーボンブラック製造時の原料油の吟味、急冷時に
使用するスプレー水の吟味、添加物の吟味などにより達
成される。また製造炉から製出したカーボンブラックを
水洗或いは酸洗いすることによっても達成される。更に
上記製造時の原料、スプレー水、添加物等の吟味と、水
洗、酸洗い等とを組合わせることによっても達成でき
る。カーボンブラック中に存在するイオン性導電物質の
含量は、そのカーボンブラックを７５０℃において空気
中で４〜６時間焼成したときに残る灰分量で表わされ、
本発明配合物のカーボンブラックの灰分量は１．０重量
％以下であることが好ましく、さらに好ましいのは０．
５重量％以下である。
【００１３】また、ＪＩＳ−Ｋ６２２１−Ａ法で測定し
たＤＢＰ吸収量が１４０ｍｌ／１００ｇを超えると、カ
ーボンブラック自体の黒色度が低下しブラックマトリッ
クス用樹脂ワニスに配合し塗布した場合の濃度感が十分
でないだけでなくペーストの粘度も高くなり、平滑性の
良い塗膜が得られなくなるおそれがある。ＤＢＰ吸収量
としては、１４０ｍｌ／１００ｇ以下であることが好ま
しく、さらに好ましくは１２０ｍｌ／１００ｇ以下であ
る。また、樹脂で被覆処理するカーボンブラックとし
て、酸化処理したものを用いるのが好適であり、酸化処
理方法としては、後述する方法によることができる。被
覆処理する樹脂の種類も特に限定されるものではない
が、合成樹脂が一般的であり、さらに構造の中にベンゼ
ン核を有した樹脂の方が両性系活面活性剤的な働きがよ
り強いため分散性及び分散安定性の点から好ましい。
たＤＢＰ吸収量が１４０ｍｌ／１００ｇを超えると、カ
ーボンブラック自体の黒色度が低下しブラックマトリッ
クス用樹脂ワニスに配合し塗布した場合の濃度感が十分
でないだけでなくペーストの粘度も高くなり、平滑性の
良い塗膜が得られなくなるおそれがある。ＤＢＰ吸収量
としては、１４０ｍｌ／１００ｇ以下であることが好ま
しく、さらに好ましくは１２０ｍｌ／１００ｇ以下であ
る。また、樹脂で被覆処理するカーボンブラックとし
て、酸化処理したものを用いるのが好適であり、酸化処
理方法としては、後述する方法によることができる。被
覆処理する樹脂の種類も特に限定されるものではない
が、合成樹脂が一般的であり、さらに構造の中にベンゼ
ン核を有した樹脂の方が両性系活面活性剤的な働きがよ
り強いため分散性及び分散安定性の点から好ましい。
【００１４】具体的な合成樹脂としては、フェノール樹
脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート
樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼ
ン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリス
ルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリ
アミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミ
ド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、
ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、等の熱
可塑性樹脂が使用できる。
脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート
樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼ
ン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリス
ルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリ
アミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミ
ド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、
ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、等の熱
可塑性樹脂が使用できる。
【００１５】カーボンブラックに対する樹脂の被覆量
は、カーボンブラックと樹脂の合計量に対し１〜３０ｗ
ｔ％が好ましく、１ｗｔ％未満の量では、未処理のカー
ボンブラックと同様の分散性、分散安定性、絶縁性しか
得られないおそれがある。一方、３０ｗｔ％を超える
と、樹脂同士の粘着性が強く、団子状の固まりとなり、
分散が進まなくなるおそれがある。
は、カーボンブラックと樹脂の合計量に対し１〜３０ｗ
ｔ％が好ましく、１ｗｔ％未満の量では、未処理のカー
ボンブラックと同様の分散性、分散安定性、絶縁性しか
得られないおそれがある。一方、３０ｗｔ％を超える
と、樹脂同士の粘着性が強く、団子状の固まりとなり、
分散が進まなくなるおそれがある。
【００１６】更に本発明のカーボンブラックは、カーボ
ンブラックに樹脂を被覆した後、酸化処理することによ
り得られる。酸化処理方法としては、窒素酸化物やオゾ
ン、ＳＯ3 ガス、フッ素ガスや高温雰囲気下で空気と接
触・反応させる空気酸化等の気相酸化並びに硝酸、過マ
ンガン酸カリ、亜塩素酸、次亜塩素酸ソーダ、臭素水溶
液オゾン水溶液、過酸化水素等を用いる液相酸化等があ
り、これらを単独あるいは、２種類以上組み合わせる事
により達成される。
ンブラックに樹脂を被覆した後、酸化処理することによ
り得られる。酸化処理方法としては、窒素酸化物やオゾ
ン、ＳＯ3 ガス、フッ素ガスや高温雰囲気下で空気と接
触・反応させる空気酸化等の気相酸化並びに硝酸、過マ
ンガン酸カリ、亜塩素酸、次亜塩素酸ソーダ、臭素水溶
液オゾン水溶液、過酸化水素等を用いる液相酸化等があ
り、これらを単独あるいは、２種類以上組み合わせる事
により達成される。
【００１７】酸化処理度合いは、オゾン等の酸化処理を
進めるとヨウ素吸着量が低下する現象を利用し設定する
のがよい。具体的には、樹脂で被覆したカーボンブラッ
クのヨウ素吸着量に対する変化率をマイナス５％以上と
するのが好ましい。マイナス５％未満であると、塗料等
にした際の抵抗が高くなりにくく好ましい絶縁性ブラッ
クマトリックスが得にくくなるからである。ここで、ヨ
ウ素吸着量は、ＪＩＳ−Ｋ−６２２１により求められ
る。
進めるとヨウ素吸着量が低下する現象を利用し設定する
のがよい。具体的には、樹脂で被覆したカーボンブラッ
クのヨウ素吸着量に対する変化率をマイナス５％以上と
するのが好ましい。マイナス５％未満であると、塗料等
にした際の抵抗が高くなりにくく好ましい絶縁性ブラッ
クマトリックスが得にくくなるからである。ここで、ヨ
ウ素吸着量は、ＪＩＳ−Ｋ−６２２１により求められ
る。
【００１８】樹脂被覆後、酸化処理する事により抵抗が
大幅に向上する理由は、明確でないが、一つには、樹脂
で被覆したカーボンブラックにも樹脂が覆っていない裸
のカーボンブラック表面が存在し、この部分に絶縁性で
ある官能基が付与されるために高抵抗になるためとも考
えられる。更にもう一つの理由としては、酸化処理によ
るカーボンブラック表面を覆っている樹脂モノマーの高
分子化が進み、より絶縁性樹脂膜となるためか或いは、
これら両方の理由によるのではないかと考えられる。
大幅に向上する理由は、明確でないが、一つには、樹脂
で被覆したカーボンブラックにも樹脂が覆っていない裸
のカーボンブラック表面が存在し、この部分に絶縁性で
ある官能基が付与されるために高抵抗になるためとも考
えられる。更にもう一つの理由としては、酸化処理によ
るカーボンブラック表面を覆っている樹脂モノマーの高
分子化が進み、より絶縁性樹脂膜となるためか或いは、
これら両方の理由によるのではないかと考えられる。
【００１９】このようにして樹脂で被覆処理してなるカ
ーボンブラックは、常法に従い絶縁性ブラックマトリッ
クスの遮光材として用いることができ、この絶縁性ブラ
ックマトリックスを構成要素とするカラーフィルターを
常法により作成することができる。たとえば、本発明の
ブラックマトリックス用レジスト組成物の調液に当って
は、まず、塗布溶剤、分散剤及びカーボンブラックを、
０．１〜数ｍｍ径のガラスビーズ又はジルコニアビーズ
を用いたビーズミル、ペイントシエカー或いはバルブホ
モジナイザー、更には３本ロールミル等で０．５時間〜
３０時間分散することで、カーボンブラック濃度が１０
〜７０重量％の分散液を得る。次にこの分散液に、光重
合開始剤組成物とエチレン性化合物（現像画像の接着性
向上剤）、有機高分子物質（基板との接着性向上剤）等
を加え混合分散することによりレジスト組成物を調製す
る。
ーボンブラックは、常法に従い絶縁性ブラックマトリッ
クスの遮光材として用いることができ、この絶縁性ブラ
ックマトリックスを構成要素とするカラーフィルターを
常法により作成することができる。たとえば、本発明の
ブラックマトリックス用レジスト組成物の調液に当って
は、まず、塗布溶剤、分散剤及びカーボンブラックを、
０．１〜数ｍｍ径のガラスビーズ又はジルコニアビーズ
を用いたビーズミル、ペイントシエカー或いはバルブホ
モジナイザー、更には３本ロールミル等で０．５時間〜
３０時間分散することで、カーボンブラック濃度が１０
〜７０重量％の分散液を得る。次にこの分散液に、光重
合開始剤組成物とエチレン性化合物（現像画像の接着性
向上剤）、有機高分子物質（基板との接着性向上剤）等
を加え混合分散することによりレジスト組成物を調製す
る。
【００２０】ブラックマトリックス用レジスト組成物を
調製する際の最適配合割合は下記の通りである。 分散剤は、カーボンブラックに対し、１〜１００重量
％ 光重合開始剤組成物は、カーボンブラックを除くブラ
ックマトリックス用レジスト組成物に対し、０．２〜３
０重量％、好ましくは０．２〜２０重量％ エチレン性化合物は、カーボンブラックを除くブラッ
クマトリックス用レジスト組成物に対し、５０〜９５重
量％、好ましくは６０〜９０重量％ 有機高分子物質は、カーボンブラックを除くブラック
マトリックス用レジスト組成物に対し、１０〜７０重量
％、好ましくは２０〜６０重量％ カーボンブラックは、レジスト組成物中の全固形分に
対し、３５〜８０重量％、好ましくは５０〜７０重量％ 溶剤は、上記、、、、の光重合性組成物全
体に対し、５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重
量％ の範囲となるように調整される。
調製する際の最適配合割合は下記の通りである。 分散剤は、カーボンブラックに対し、１〜１００重量
％ 光重合開始剤組成物は、カーボンブラックを除くブラ
ックマトリックス用レジスト組成物に対し、０．２〜３
０重量％、好ましくは０．２〜２０重量％ エチレン性化合物は、カーボンブラックを除くブラッ
クマトリックス用レジスト組成物に対し、５０〜９５重
量％、好ましくは６０〜９０重量％ 有機高分子物質は、カーボンブラックを除くブラック
マトリックス用レジスト組成物に対し、１０〜７０重量
％、好ましくは２０〜６０重量％ カーボンブラックは、レジスト組成物中の全固形分に
対し、３５〜８０重量％、好ましくは５０〜７０重量％ 溶剤は、上記、、、、の光重合性組成物全
体に対し、５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重
量％ の範囲となるように調整される。
【００２１】又、ここで用いるカーボンブラック以外の
上記物質は、一般に同種目的に使用されている物は全て
使用可能であるが、特に好ましい例として次のような物
が挙げられる。 「分散剤」ウレタン系、アクリル系、ポリイミド系等の
熱硬化性樹脂、アクリル系、塩化ビニル系、ポリアミド
系等の熱可塑性樹脂等の高分子分散剤が好ましい。 「光重合開始剤組成物」ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル−１
−イルやジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イルの
チタノセン化合物と波長４００〜５００ｎｍに吸収を有
する増感色素からなる複合物が好ましい。
上記物質は、一般に同種目的に使用されている物は全て
使用可能であるが、特に好ましい例として次のような物
が挙げられる。 「分散剤」ウレタン系、アクリル系、ポリイミド系等の
熱硬化性樹脂、アクリル系、塩化ビニル系、ポリアミド
系等の熱可塑性樹脂等の高分子分散剤が好ましい。 「光重合開始剤組成物」ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル−１
−イルやジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル−１−イルの
チタノセン化合物と波長４００〜５００ｎｍに吸収を有
する増感色素からなる複合物が好ましい。
【００２２】「エチレン性化合物」芳香族ポリグリシジ
ルエーテル化合物と不飽和モノカルボン酸との付加反
応、或いは、芳香族ポリヒドロキシ化合物とエポキシモ
ノカルボン酸エステルとの付加反応、で得られるエチレ
ン性不飽和二重結合を２個以上有するエチレン性化合物
（以下「エチレン性化合物（Ａ）」と称す。）が好適で
あるが、該エチレン性化合物（Ａ）と共に、脂肪族ポリ
ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸との付加反応（エ
ステル反応）で得られる、エチレン性不飽和二重結合を
２個以上含有するエチレン性化合物（以下「エチレン性
化合物（Ｂ）」と称す。）を併用することが好ましい。
具体例としては、（Ａ）としてビスフェノールＡとエピ
クロルヒドリとの共縮合モノマー（Ｂ）としてジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
ルエーテル化合物と不飽和モノカルボン酸との付加反
応、或いは、芳香族ポリヒドロキシ化合物とエポキシモ
ノカルボン酸エステルとの付加反応、で得られるエチレ
ン性不飽和二重結合を２個以上有するエチレン性化合物
（以下「エチレン性化合物（Ａ）」と称す。）が好適で
あるが、該エチレン性化合物（Ａ）と共に、脂肪族ポリ
ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸との付加反応（エ
ステル反応）で得られる、エチレン性不飽和二重結合を
２個以上含有するエチレン性化合物（以下「エチレン性
化合物（Ｂ）」と称す。）を併用することが好ましい。
具体例としては、（Ａ）としてビスフェノールＡとエピ
クロルヒドリとの共縮合モノマー（Ｂ）としてジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
【００２３】「有機高分子物質」スチレン、α−メチル
スチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
フェニル（メタ）アクリル酸、メトキシフェニル（メ
タ）アクリル酸、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル
アミド、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルスルホア
ミド等のフェニル基を有する共重合モノマーを１０〜８
０モル％、好ましくは２０〜７０モル％、より好ましく
は３０〜６０モル％の割合で含有し、その他（メタ）ア
クリル酸を２〜５０重量％、好ましくは５〜４０重量
％、より好ましくは５〜３０重量％の割合で含有する共
重合体、或いは、全共重合モノマーに対して２〜５０モ
ル％、好ましくは５〜４０モル％、より好ましくは１０
〜３０モル％のエポキシ（メタ）アクリレートが付加さ
れた反応物が望ましい。
スチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
フェニル（メタ）アクリル酸、メトキシフェニル（メ
タ）アクリル酸、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル
アミド、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルスルホア
ミド等のフェニル基を有する共重合モノマーを１０〜８
０モル％、好ましくは２０〜７０モル％、より好ましく
は３０〜６０モル％の割合で含有し、その他（メタ）ア
クリル酸を２〜５０重量％、好ましくは５〜４０重量
％、より好ましくは５〜３０重量％の割合で含有する共
重合体、或いは、全共重合モノマーに対して２〜５０モ
ル％、好ましくは５〜４０モル％、より好ましくは１０
〜３０モル％のエポキシ（メタ）アクリレートが付加さ
れた反応物が望ましい。
【００２４】「溶剤」メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下
「ＰＧＭＥＡ」と略記する。）、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエ
ン、クロロホルム、ジクロロメチン、酢酸エチル、乳酸
メチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、テトラハイドロフラン等が挙げら
れる。
ルブ、ブチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下
「ＰＧＭＥＡ」と略記する。）、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエ
ン、クロロホルム、ジクロロメチン、酢酸エチル、乳酸
メチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、テトラハイドロフラン等が挙げら
れる。
【００２５】本発明のカーボンブラックを用いると、高
遮光率でかつ表面反射率が低くまた膜厚小の絶縁性ブラ
ックマトリックスが低コストで達成できる。絶縁性ブラ
ックマトリックス液を構成する樹脂や溶媒に対し、カー
ボンブラックの分散性や分散安定性が格段に向上したた
めと推測される。
遮光率でかつ表面反射率が低くまた膜厚小の絶縁性ブラ
ックマトリックスが低コストで達成できる。絶縁性ブラ
ックマトリックス液を構成する樹脂や溶媒に対し、カー
ボンブラックの分散性や分散安定性が格段に向上したた
めと推測される。
【００２６】Ｖ．Ｅ．グール等（１９７０年発行、「導
電性ポリマーの研究と応用」）によると、電気が流れる
際に必要な電荷の移動は、充填剤の粒子で構成される鎖
の表面及び熱輻射熱を利用した粒子内部を中心に行なわ
れると共に、印加電圧、温度等の条件によっては、電位
障壁（ポテンシャルバリヤー）を越えての電子のジャン
プいわゆるトンネル効果で行なわれると考えられてい
る。
電性ポリマーの研究と応用」）によると、電気が流れる
際に必要な電荷の移動は、充填剤の粒子で構成される鎖
の表面及び熱輻射熱を利用した粒子内部を中心に行なわ
れると共に、印加電圧、温度等の条件によっては、電位
障壁（ポテンシャルバリヤー）を越えての電子のジャン
プいわゆるトンネル効果で行なわれると考えられてい
る。
【００２７】本発明によれば好適には、表面官能基の多
いカーボンブラックを用い表面を高絶縁性樹脂で被覆す
ること、更に樹脂で被覆されていない裸の部分をＯ2 や
Ｈ2官能基でカバーすることにより、ＣａやＮａ等のイ
オン性物質を封じ込める働きと共に、導体同士の接触を
絶縁すること、更に、被覆膜により電子のジャンプが不
可能になること等により、高絶縁性が達成されるものと
推測される。また、高温下で処理しても抵抗の低下度合
が少なく、絶縁性を保てるようになる理由は、酸化処理
によりカーボンブラックと被覆樹脂との結合が強固にな
り、結果として樹脂自体の耐熱性が向上するため考えら
れる。
いカーボンブラックを用い表面を高絶縁性樹脂で被覆す
ること、更に樹脂で被覆されていない裸の部分をＯ2 や
Ｈ2官能基でカバーすることにより、ＣａやＮａ等のイ
オン性物質を封じ込める働きと共に、導体同士の接触を
絶縁すること、更に、被覆膜により電子のジャンプが不
可能になること等により、高絶縁性が達成されるものと
推測される。また、高温下で処理しても抵抗の低下度合
が少なく、絶縁性を保てるようになる理由は、酸化処理
によりカーボンブラックと被覆樹脂との結合が強固にな
り、結果として樹脂自体の耐熱性が向上するため考えら
れる。
【００２８】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。 〔実施例１〕カーボンブラックは、通常のオイルファー
ネス法で製造した。但し、原料油としては、Ｎａ、Ｃ
ａ、Ｓ分量の少ないエチレンボトム油を用い燃焼用には
コークス炉ガスを用いた。更に、反応停止水としては、
イオン交換樹脂で処理した純水を用い製造した。
明する。 〔実施例１〕カーボンブラックは、通常のオイルファー
ネス法で製造した。但し、原料油としては、Ｎａ、Ｃ
ａ、Ｓ分量の少ないエチレンボトム油を用い燃焼用には
コークス炉ガスを用いた。更に、反応停止水としては、
イオン交換樹脂で処理した純水を用い製造した。
【００２９】このカーボンブラック５００ｇを内径３０
ｃｍ、長さ６０ｃｍの円筒型キルンを最大２００℃まで
加熱可能な電熱式高温槽に設置し１０ｒｐｍで回転させ
つつ（株）ワコーシステムコントロール社製の型式「Ｏ
Ｒ−４Ｚ」で発生させた１万ｐｐｍのオゾンを５Ｌ／分
の流量で流しカーボンブラックと接触反応させた。オゾ
ンとカーボンブラックの接触部の温度は５０℃とし２．
３時間処理した。得られたカーボンブラックの基礎物性
は、表１に示した通りである。
ｃｍ、長さ６０ｃｍの円筒型キルンを最大２００℃まで
加熱可能な電熱式高温槽に設置し１０ｒｐｍで回転させ
つつ（株）ワコーシステムコントロール社製の型式「Ｏ
Ｒ−４Ｚ」で発生させた１万ｐｐｍのオゾンを５Ｌ／分
の流量で流しカーボンブラックと接触反応させた。オゾ
ンとカーボンブラックの接触部の温度は５０℃とし２．
３時間処理した。得られたカーボンブラックの基礎物性
は、表１に示した通りである。
【００３０】得られたカーボンブラック５４０ｇを純水
１４５００ｇと共にホモミキサーを用い６，０００ｒｐ
ｍで３０分撹拌しスラリーを得た。このスラリーをスク
リュー型撹拌機付容器に移し約１，０００ｒｐｍで混合
しながら油化シェルエポキシ社製 エポキシ樹脂「エピ
コート８２８」６０ｇを溶解したトルエン６００ｇを少
量づつ添加していった。約１５分で、水に分散していた
カーボンブラックは全量トルエン側に移行し約１ｍｍの
粒となった。
１４５００ｇと共にホモミキサーを用い６，０００ｒｐ
ｍで３０分撹拌しスラリーを得た。このスラリーをスク
リュー型撹拌機付容器に移し約１，０００ｒｐｍで混合
しながら油化シェルエポキシ社製 エポキシ樹脂「エピ
コート８２８」６０ｇを溶解したトルエン６００ｇを少
量づつ添加していった。約１５分で、水に分散していた
カーボンブラックは全量トルエン側に移行し約１ｍｍの
粒となった。
【００３１】次に、６０メッシュ金網で水切りを行った
後、真空乾燥機に入れ７０℃で１０時間乾燥しトルエン
と水を完全に除去した。得られたカーボンブラック中の
残存トルエン量は５０ｐｐｍ、水は５００ｐｐｍであっ
た。また、他の基礎物性は、表１に示した。次に、この
カーボンブラック５００ｇを内径３０ｃｍ、長さ６０ｃ
ｍの円筒型キルンに入れ、１８ｍｇ・オゾン／Ｌ・空気
濃度のオゾンを５Ｌ／分の流量で流し１１１分間処理
した。同一条件で２バッチ処理し全体を均一に混合した
物を評価用カーボンブラックとし、次のような方法でブ
ラックマトリックス用レジスト組成物を作成した。１ｍ
ｍ径のジルコニアビーズ３００ｇを入れたサンドミル
に、カーボンブラック３２ｇと下記構造の有機高分子物
質１８ｇと、溶剤としてプロピレングリコール・モノメ
チルエーテルアセテート（以下ＰＧＭＥＡと略記する）
１５０ｇを加え、２０００ｒｐｍで１０時間混合分散さ
せ分散液を得た。
後、真空乾燥機に入れ７０℃で１０時間乾燥しトルエン
と水を完全に除去した。得られたカーボンブラック中の
残存トルエン量は５０ｐｐｍ、水は５００ｐｐｍであっ
た。また、他の基礎物性は、表１に示した。次に、この
カーボンブラック５００ｇを内径３０ｃｍ、長さ６０ｃ
ｍの円筒型キルンに入れ、１８ｍｇ・オゾン／Ｌ・空気
濃度のオゾンを５Ｌ／分の流量で流し１１１分間処理
した。同一条件で２バッチ処理し全体を均一に混合した
物を評価用カーボンブラックとし、次のような方法でブ
ラックマトリックス用レジスト組成物を作成した。１ｍ
ｍ径のジルコニアビーズ３００ｇを入れたサンドミル
に、カーボンブラック３２ｇと下記構造の有機高分子物
質１８ｇと、溶剤としてプロピレングリコール・モノメ
チルエーテルアセテート（以下ＰＧＭＥＡと略記する）
１５０ｇを加え、２０００ｒｐｍで１０時間混合分散さ
せ分散液を得た。
【００３２】
【化１】
【００３３】次に、ブラックマトリックス用レジスト組
成物は、１ｍｍ径のジルコニアビーズ９０ｇを入れた１
４０ｃｃのマヨネーズびんに上記の分散液４５ｇとエチ
レン性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート（日本化薬（株）製）１．１３ｇとビスフェノ
ールＡとエピクロルヒドリンとの共縮合モノマー（昭和
高分子（株）製「ＳＰ−１５０９」）１．１３ｇと更に
光重合開始剤組成物としてＰ−ジエチルアミノ安息香酸
エチル０．３７ｇと、ＰＧＭＥＡ３９ｇを加え、ペイン
トコンデショナーで３０分分散し作成した。高圧水洗
浄、紫外線照射及びオゾン処理を施したガラス基板（コ
ーニング社製Ｎｏ．７０５９，厚さ１．１ｍｍ）上に得
られた上記ブラックマトリックス用レジスト組成物をス
ピンコート法により塗布し、２５０℃と２７０℃で各々
１．０時間の温度条件下で熱処理し膜厚１．０μｍのレ
ジスト層を形成した。ここで用いたカーボンブラックの
物性と得られた塗膜の評価結果は、表−２に示した通り
である。
成物は、１ｍｍ径のジルコニアビーズ９０ｇを入れた１
４０ｃｃのマヨネーズびんに上記の分散液４５ｇとエチ
レン性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート（日本化薬（株）製）１．１３ｇとビスフェノ
ールＡとエピクロルヒドリンとの共縮合モノマー（昭和
高分子（株）製「ＳＰ−１５０９」）１．１３ｇと更に
光重合開始剤組成物としてＰ−ジエチルアミノ安息香酸
エチル０．３７ｇと、ＰＧＭＥＡ３９ｇを加え、ペイン
トコンデショナーで３０分分散し作成した。高圧水洗
浄、紫外線照射及びオゾン処理を施したガラス基板（コ
ーニング社製Ｎｏ．７０５９，厚さ１．１ｍｍ）上に得
られた上記ブラックマトリックス用レジスト組成物をス
ピンコート法により塗布し、２５０℃と２７０℃で各々
１．０時間の温度条件下で熱処理し膜厚１．０μｍのレ
ジスト層を形成した。ここで用いたカーボンブラックの
物性と得られた塗膜の評価結果は、表−２に示した通り
である。
【００３４】表中の粉体抵抗は、下部に真鍮製電極を取
り付けた内径２ｃｍのポリ四フッ化エチレン製容器に約
２ｇのカーボンブラックを入れ、先端に真鍮製電極の付
いたポリ四フッ化エチレン製棒で蓋をした後、テンシロ
ンを用い０．２ｍｍ／ｍｉｎの速度で荷重をかけてい
き、５０ｋｇ／ｃｍ2 時の抵抗を高感度テスターで測定
する。この荷重下における粉体の嵩高さと抵抗値から下
式を用い粉体抵抗を算出する。 粉体抵抗（Ω・ｃｍ）＝カーボンブラック粉体の断面積
（ｃｍ2 ）ｘ 抵抗値（Ω）／カーボンブラック粉体の
嵩高さ（ｃｍ） また、表面抵抗は、上記塗膜面を油化電子（株）製の高
抵抗測定機「ハイレスタＭＣＰ−ＨＴ２１０」を用い測
定した。
り付けた内径２ｃｍのポリ四フッ化エチレン製容器に約
２ｇのカーボンブラックを入れ、先端に真鍮製電極の付
いたポリ四フッ化エチレン製棒で蓋をした後、テンシロ
ンを用い０．２ｍｍ／ｍｉｎの速度で荷重をかけてい
き、５０ｋｇ／ｃｍ2 時の抵抗を高感度テスターで測定
する。この荷重下における粉体の嵩高さと抵抗値から下
式を用い粉体抵抗を算出する。 粉体抵抗（Ω・ｃｍ）＝カーボンブラック粉体の断面積
（ｃｍ2 ）ｘ 抵抗値（Ω）／カーボンブラック粉体の
嵩高さ（ｃｍ） また、表面抵抗は、上記塗膜面を油化電子（株）製の高
抵抗測定機「ハイレスタＭＣＰ−ＨＴ２１０」を用い測
定した。
【００３５】〔実施例２と３〕実施例１の樹脂被覆後の
オゾン処理時間を実施例２は３２分、また実施例３は２
３３分とした以外実施例１と全て同じである。 〔実施例４〕実施例１で［化１］の構造の有機高分子物
質の代わりに高分子量ポリウレタン系樹脂（平均分子
量：１３０００）とした以外実施例１と全て同じであ
る。 〔比較例１と２〕比較例１は、樹脂で被覆したカーボン
ブラックそのものである。比較例２は、このカーボンブ
ラックを実施例１と同様条件で１５分間オゾン処理を施
したカーボンブラックであり、その他は実施例１と同様
に評価した。
オゾン処理時間を実施例２は３２分、また実施例３は２
３３分とした以外実施例１と全て同じである。 〔実施例４〕実施例１で［化１］の構造の有機高分子物
質の代わりに高分子量ポリウレタン系樹脂（平均分子
量：１３０００）とした以外実施例１と全て同じであ
る。 〔比較例１と２〕比較例１は、樹脂で被覆したカーボン
ブラックそのものである。比較例２は、このカーボンブ
ラックを実施例１と同様条件で１５分間オゾン処理を施
したカーボンブラックであり、その他は実施例１と同様
に評価した。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【表２】
フロントページの続き (72)発明者 安良田 悟 兵庫県姫路市御国野町国分寺138−１ 御 国色素株式会社内 (72)発明者 毛利 泰三 兵庫県姫路市御国野町国分寺138−１ 御 国色素株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 カーボンブラックを樹脂で被覆処理し、
ついで酸化処理してなるブラックマトリックス用カーボ
ンブラック。 - 【請求項２】 樹脂が、構造の中にベンゼン核を有して
いる請求項１記載のブラックマトリックス用カーボンブ
ラック。 - 【請求項３】 樹脂の被覆量が、カーボンブラックと樹
脂の合計量に対し１〜３０ｗｔ％である請求項１又は２
に記載のブラックマトリックス用カーボンブラック。 - 【請求項４】 （樹脂で被覆処理したカーボンブラック
のヨウ素吸着量値−樹脂で被覆処理したカーボンブラッ
クの酸化処理後のヨウ素吸着量値）／（樹脂で被覆処理
したカーボンブラックのヨウ素吸着値）で算出したヨウ
素値変化率が５％以上である請求項１〜３のいずれかに
記載のブラックマトリックス用カーボンブラック。 - 【請求項５】 ブラックマトリックスを有するカラーフ
ィルターにおいて、樹脂で被覆し、ついで、酸化処理し
たカーボンブラックを遮光材としたブラックマトリック
スを用いてなるカラーフィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13870597A JP3893666B2 (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | ブラックマトリックス用カーボンブラック |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13870597A JP3893666B2 (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | ブラックマトリックス用カーボンブラック |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10330643A true JPH10330643A (ja) | 1998-12-15 |
| JP3893666B2 JP3893666B2 (ja) | 2007-03-14 |
Family
ID=15228208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13870597A Expired - Lifetime JP3893666B2 (ja) | 1997-05-28 | 1997-05-28 | ブラックマトリックス用カーボンブラック |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3893666B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6372349B1 (en) | 1999-08-27 | 2002-04-16 | Mitsubishi Chemical Corporation | High-resistivity carbon black |
| JP2004515559A (ja) * | 1999-05-06 | 2004-05-27 | キャボット コーポレイション | 重合された修飾粒子およびその製造方法 |
| JP2004156051A (ja) * | 1999-09-17 | 2004-06-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
| KR100752211B1 (ko) * | 2000-12-28 | 2007-08-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| EP2037323A2 (en) | 2007-07-17 | 2009-03-18 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors |
| EP2103966A2 (en) | 2008-03-18 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor |
| EP2105792A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor |
| EP2120094A2 (en) | 2008-05-12 | 2009-11-18 | Fujifilm Corporation | Black photosensitive resin composition, and color filter and method of producing the same |
-
1997
- 1997-05-28 JP JP13870597A patent/JP3893666B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004515559A (ja) * | 1999-05-06 | 2004-05-27 | キャボット コーポレイション | 重合された修飾粒子およびその製造方法 |
| US6372349B1 (en) | 1999-08-27 | 2002-04-16 | Mitsubishi Chemical Corporation | High-resistivity carbon black |
| JP2004156051A (ja) * | 1999-09-17 | 2004-06-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
| JP2004156050A (ja) * | 1999-09-17 | 2004-06-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
| JP2004156052A (ja) * | 1999-09-17 | 2004-06-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
| JP2004211100A (ja) * | 1999-09-17 | 2004-07-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
| KR100752211B1 (ko) * | 2000-12-28 | 2007-08-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| EP2037323A2 (en) | 2007-07-17 | 2009-03-18 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors |
| EP2207062A2 (en) | 2007-07-17 | 2010-07-14 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors |
| EP2103966A2 (en) | 2008-03-18 | 2009-09-23 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor |
| EP2204677A1 (en) | 2008-03-18 | 2010-07-07 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, light-shielding color filter, method of producing the same and solid-state image sensor |
| EP2105792A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive resin composition, light-shielding color filter and production process therefor, and image sensor |
| EP2120094A2 (en) | 2008-05-12 | 2009-11-18 | Fujifilm Corporation | Black photosensitive resin composition, and color filter and method of producing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3893666B2 (ja) | 2007-03-14 |
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