JPH10332930A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 密着性、耐薬品性、耐熱性、耐光性、色座標
特性、平滑性などに優れているので保護膜が不要にな
る。 【解決手段】 基板３１上にブラックマトリックス用物
質３２ａをコーティングした後、フォトリソグラフィ工
程を通じてブラックマトリックスパターン３２ｂを形成
し、基板上に配置された、熱転写性の第１カラー層を含
んでいる転写フィルム３３に光源を照射し、基板上に第
１のカラーフィルター層３４ａを形成し、基板上に配置
された、熱転写性の第２カラー層を含んでいる転写フィ
ルムに光源を照射し、基板上に第２のカラーフィルター
層３４ｂを形成し、基板上に配置された、熱転写性の第
３カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、
基板上に第３のカラーフィルター層３４ｃを形成し、第
１、第２及び第３のカラーフィルター層が形成された基
板を２００〜３００℃で硬化し、結果物上に透明電極層
３６を形成する
特性、平滑性などに優れているので保護膜が不要にな
る。 【解決手段】 基板３１上にブラックマトリックス用物
質３２ａをコーティングした後、フォトリソグラフィ工
程を通じてブラックマトリックスパターン３２ｂを形成
し、基板上に配置された、熱転写性の第１カラー層を含
んでいる転写フィルム３３に光源を照射し、基板上に第
１のカラーフィルター層３４ａを形成し、基板上に配置
された、熱転写性の第２カラー層を含んでいる転写フィ
ルムに光源を照射し、基板上に第２のカラーフィルター
層３４ｂを形成し、基板上に配置された、熱転写性の第
３カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、
基板上に第３のカラーフィルター層３４ｃを形成し、第
１、第２及び第３のカラーフィルター層が形成された基
板を２００〜３００℃で硬化し、結果物上に透明電極層
３６を形成する
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルターの
製造方法に係り、更に詳しくは、液晶表示装置のカラー
フィルターを製造する方法に関する。
製造方法に係り、更に詳しくは、液晶表示装置のカラー
フィルターを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルターは、基本的に図１に示
すような構造を有している。
すような構造を有している。
【０００３】これを参照すれば、カラーフィルターは、
硝子基板１１上にブラックマトリックス層１２、前記ブ
ラックマトリックス層１２に挟まれて形成された赤色、
青色及び緑色のカラーフィルター層１３ａ、１３ｂ及び
１３ｃ、さらに、前記ブラックマトリックス層１２とカ
ラーフィルター層１３ａ、１３ｂ及び１３ｃの上部には
保護層１４と透明電極層１５とが順次積層されているよ
うな構造になっている。
硝子基板１１上にブラックマトリックス層１２、前記ブ
ラックマトリックス層１２に挟まれて形成された赤色、
青色及び緑色のカラーフィルター層１３ａ、１３ｂ及び
１３ｃ、さらに、前記ブラックマトリックス層１２とカ
ラーフィルター層１３ａ、１３ｂ及び１３ｃの上部には
保護層１４と透明電極層１５とが順次積層されているよ
うな構造になっている。
【０００４】カラーフィルターを製造する方法として
は、顔料分散法（ｐｉｇｍｅｎｔ ｄｉｓｐｅｒｓｉｏ
ｎ ｍｅｔｈｏｄ）、印刷法（ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｍｅ
ｔｈｏｄ）、電着法（ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉ
ｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）などが挙げられる。ここで、顔料
分散法とは、感光性樹脂に分散された顔料をコーティン
グ、露光、現像及び焼結することによってカラーフィル
ターが製造される方法である。図２を参照し、前記顔料
分散法によりカラーフィルターを製造する方法について
述べる。
は、顔料分散法（ｐｉｇｍｅｎｔ ｄｉｓｐｅｒｓｉｏ
ｎ ｍｅｔｈｏｄ）、印刷法（ｐｒｉｎｔｉｎｇ ｍｅ
ｔｈｏｄ）、電着法（ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｐｏｓｉｔｉ
ｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）などが挙げられる。ここで、顔料
分散法とは、感光性樹脂に分散された顔料をコーティン
グ、露光、現像及び焼結することによってカラーフィル
ターが製造される方法である。図２を参照し、前記顔料
分散法によりカラーフィルターを製造する方法について
述べる。
【０００５】硝子基板２１上にクロム金属または有機物
などのブラックマトリックス形成用物質２６をコーティ
ングした後に、フォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔ
ｈｏｇｒａｐｈｙ）工程を用い、ブラックマトリックス
パターン２２を形成する。次いで、前記ブラックマトリ
ックスパターン２２が形成された基板２１の上部に赤色
カラーフィルター層形成用組成物２７をコーティングし
た後、フォトマスク２８を用いて所定領域のみを露光及
び現像し、赤色カラーフィルター層２３ａを形成する。
などのブラックマトリックス形成用物質２６をコーティ
ングした後に、フォトリソグラフィ（ｐｈｏｔｏｌｉｔ
ｈｏｇｒａｐｈｙ）工程を用い、ブラックマトリックス
パターン２２を形成する。次いで、前記ブラックマトリ
ックスパターン２２が形成された基板２１の上部に赤色
カラーフィルター層形成用組成物２７をコーティングし
た後、フォトマスク２８を用いて所定領域のみを露光及
び現像し、赤色カラーフィルター層２３ａを形成する。
【０００６】赤色のカラーフィルター層用組成物の代わ
りに緑色及び青色のカラーフィルター層用組成物を用い
て前記過程を繰り返すことにより、緑色及び青色のカラ
ーフィルター層２３ｂ及び２３ｃをそれぞれ形成する。
りに緑色及び青色のカラーフィルター層用組成物を用い
て前記過程を繰り返すことにより、緑色及び青色のカラ
ーフィルター層２３ｂ及び２３ｃをそれぞれ形成する。
【０００７】次に、前記結果物上に保護層２４と透明電
極層２５とを順次形成し、カラーフィルターを完成す
る。
極層２５とを順次形成し、カラーフィルターを完成す
る。
【０００８】前記方法は、カラーフィルターが精度よく
再現できるものの、製造工程ラインが複雑で、しかも長
過ぎるという問題がある。
再現できるものの、製造工程ラインが複雑で、しかも長
過ぎるという問題がある。
【０００９】カラーフィルターは印刷法によっても製造
可能である。印刷法とは、赤色、緑色及び青色のインク
を印刷版に塗布して印刷することにより、カラーフィル
ターを形成する方法である。しかしながら、この方法に
より製造されたカラーフィルターは再現性及び精度が低
下するという欠点がある。
可能である。印刷法とは、赤色、緑色及び青色のインク
を印刷版に塗布して印刷することにより、カラーフィル
ターを形成する方法である。しかしながら、この方法に
より製造されたカラーフィルターは再現性及び精度が低
下するという欠点がある。
【００１０】カラーフィルターを製造する他の方法であ
る電着法は、透明電極上に赤色、緑色及び青色のカラー
フィルターを電気化学的に形成する方法であり、この方
法によると、カラーフィルターの平滑性には優れている
が、色純度などの色特性が不良であるという不具合が生
じる。
る電着法は、透明電極上に赤色、緑色及び青色のカラー
フィルターを電気化学的に形成する方法であり、この方
法によると、カラーフィルターの平滑性には優れている
が、色純度などの色特性が不良であるという不具合が生
じる。
【００１１】前記カラーフィルターの製造方法で見られ
る問題点を解決するため、近年、カラーフィルターを製
造する新たな方法として、フィルム転写法（ｆｉｌｍ
ｔｒａｎｓｆｅｒ ｍｅｔｈｏｄ）と熱転写法が提案さ
れている。ここで、フィルム転写法は、赤色、緑色及び
青色のカラーフィルター層形成用組成物のコーティング
工程がフィルムを用いたラミネート（ｌａｍｉｎａｔｉ
ｎｇ）工程に取り替えられるのを除いては、製造工程が
従来の顔料分散法とほとんど同一である。さらに、熱転
写法はコダック社と３Ｍ社により提案された方法であ
り、レーザー、フラッシュランプなどの光源を用いて転
写フィルム上のカラーフィルター層物質を基板上に転写
させ、カラーフィルター層を形成する方法である。
る問題点を解決するため、近年、カラーフィルターを製
造する新たな方法として、フィルム転写法（ｆｉｌｍ
ｔｒａｎｓｆｅｒ ｍｅｔｈｏｄ）と熱転写法が提案さ
れている。ここで、フィルム転写法は、赤色、緑色及び
青色のカラーフィルター層形成用組成物のコーティング
工程がフィルムを用いたラミネート（ｌａｍｉｎａｔｉ
ｎｇ）工程に取り替えられるのを除いては、製造工程が
従来の顔料分散法とほとんど同一である。さらに、熱転
写法はコダック社と３Ｍ社により提案された方法であ
り、レーザー、フラッシュランプなどの光源を用いて転
写フィルム上のカラーフィルター層物質を基板上に転写
させ、カラーフィルター層を形成する方法である。
【００１２】一方、表示素子用のカラーフィルターは、
硬度、密着性、耐薬品性、耐熱性、耐光性及び色特性に
優れていなければならない。しかしながら、前記熱転写
法により製造されたカラーフィルターの場合、前記特性
が満足できる水準に達していないため、改善の余地が多
い。さらに、熱転写法は、未解決の課題が多いため、ま
だ実用化段階に至っていないのが現状である。
硬度、密着性、耐薬品性、耐熱性、耐光性及び色特性に
優れていなければならない。しかしながら、前記熱転写
法により製造されたカラーフィルターの場合、前記特性
が満足できる水準に達していないため、改善の余地が多
い。さらに、熱転写法は、未解決の課題が多いため、ま
だ実用化段階に至っていないのが現状である。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が果たそうとす
る技術的課題は、熱転写法を用いることにより、膜硬
度、密着性、信頼性及び色特性に優れたカラーフィルタ
ーを容易に製造できる方法を提供することにある。
る技術的課題は、熱転写法を用いることにより、膜硬
度、密着性、信頼性及び色特性に優れたカラーフィルタ
ーを容易に製造できる方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】前記課題を達成するた
め、本発明では、（ａ−１）基板上にブラックマトリッ
クス用物質をコーティングした後、フォトリソグラフィ
工程を通じてブラックマトリックスパターンを形成する
段階と、（ｂ−１）前記基板上に配置された、熱転写性
の第１カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、前記基板上に第１のカラーフィルター層を形成する
段階と、（ｃ−１）前記基板上に配置された、熱転写性
の第２カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、前記基板上に第２のカラーフィルター層を形成する
段階と、（ｄ−１）前記基板上に配置された、熱転写性
の第３カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、前記基板上に第３のカラーフィルター層を形成する
段階と、（ｅ−１）前記第１、第２及び第３のカラーフ
ィルター層が形成された基板を２００〜３００℃で硬化
する段階と、（ｆ−１）前記（ｅ−１）段階で硬化され
たカラーフィルター層を有する基板上に透明電極層を形
成する段階とを含むことを特徴とするカラーフィルター
の製造方法を提供する。
め、本発明では、（ａ−１）基板上にブラックマトリッ
クス用物質をコーティングした後、フォトリソグラフィ
工程を通じてブラックマトリックスパターンを形成する
段階と、（ｂ−１）前記基板上に配置された、熱転写性
の第１カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、前記基板上に第１のカラーフィルター層を形成する
段階と、（ｃ−１）前記基板上に配置された、熱転写性
の第２カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、前記基板上に第２のカラーフィルター層を形成する
段階と、（ｄ−１）前記基板上に配置された、熱転写性
の第３カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、前記基板上に第３のカラーフィルター層を形成する
段階と、（ｅ−１）前記第１、第２及び第３のカラーフ
ィルター層が形成された基板を２００〜３００℃で硬化
する段階と、（ｆ−１）前記（ｅ−１）段階で硬化され
たカラーフィルター層を有する基板上に透明電極層を形
成する段階とを含むことを特徴とするカラーフィルター
の製造方法を提供する。
【００１５】また、本発明の課題は、（ａ−２）基板上
にブラックマトリックス用物質をコーティングした後
に、フォトリソグラフィ工程を通じてブラックマトリッ
クスパターンを形成する段階と、（ｂ−２）前記基板上
に配置された、熱転写性の第１カラー層を含んでいる転
写フィルムに光源を照射し、前記基板上に第１のカラー
フィルター層を形成する段階と、（ｃ−２）第１のカラ
ーフィルター層が形成された基板を２００〜３００℃で
硬化する段階と、（ｄ−２）前記基板上に配置された、
熱転写性の第２カラー層を含んでいる転写フィルムに光
源を照射し、前記基板上に第２のカラーフィルター層を
形成する段階と、（ｅ−２）前記第２のカラーフィルタ
ー層が形成された基板を２００〜３００℃で硬化する段
階と、（ｆ−２）前記基板上に配置された、熱転写性の
第３カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、前記基板上に第３のカラーフィルター層を形成する
段階と、（ｇ−２）前記第３のカラーフィルター層が形
成された基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、
（ｈ−２）前記（ｇ−２）の段階で硬化された前記カラ
ーフィルター層を有する基板上に透明電極層を形成する
段階とを含むことを特徴とするカラーフィルターの製造
方法により達成される。
にブラックマトリックス用物質をコーティングした後
に、フォトリソグラフィ工程を通じてブラックマトリッ
クスパターンを形成する段階と、（ｂ−２）前記基板上
に配置された、熱転写性の第１カラー層を含んでいる転
写フィルムに光源を照射し、前記基板上に第１のカラー
フィルター層を形成する段階と、（ｃ−２）第１のカラ
ーフィルター層が形成された基板を２００〜３００℃で
硬化する段階と、（ｄ−２）前記基板上に配置された、
熱転写性の第２カラー層を含んでいる転写フィルムに光
源を照射し、前記基板上に第２のカラーフィルター層を
形成する段階と、（ｅ−２）前記第２のカラーフィルタ
ー層が形成された基板を２００〜３００℃で硬化する段
階と、（ｆ−２）前記基板上に配置された、熱転写性の
第３カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、前記基板上に第３のカラーフィルター層を形成する
段階と、（ｇ−２）前記第３のカラーフィルター層が形
成された基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、
（ｈ−２）前記（ｇ−２）の段階で硬化された前記カラ
ーフィルター層を有する基板上に透明電極層を形成する
段階とを含むことを特徴とするカラーフィルターの製造
方法により達成される。
【００１６】さらに、本発明の課題は、（ａ−３）基板
と密着しており、熱転写性ブラックマトリックス層を含
む転写フィルムに光源を照射し、基板上にブラックマト
リックスパターンを形成する段階と、（ｂ−３）前記基
板上に配置された、熱転写性の第１カラー層を含んでい
る転写フィルムに光源を照射し、前記基板上に第１のカ
ラーフィルター層を形成する段階と、（ｃ−３）前記基
板上に配置された、熱転写性の第２カラー層を含んでい
る転写フィルムに光源を照射し、基板上に第２のカラー
フィルター層を形成する段階と、（ｄ−３）前記基板上
に配置された、熱転写性の第３カラー層を含んでいる転
写フィルムに光源を照射し、前記基板上に第３のカラー
フィルター層を形成する段階と、（ｅ−３）前記第１、
第２及び第３カラーフィルター層が形成された基板を２
００〜３００℃で硬化する段階と、（ｆ−３）前記（ｅ
−３）段階で硬化された前記カラーフィルター層を有す
る基板上に透明電極層を形成する段階とを含むことを特
徴とするカラーフィルターの製造方法により達成され
る。
と密着しており、熱転写性ブラックマトリックス層を含
む転写フィルムに光源を照射し、基板上にブラックマト
リックスパターンを形成する段階と、（ｂ−３）前記基
板上に配置された、熱転写性の第１カラー層を含んでい
る転写フィルムに光源を照射し、前記基板上に第１のカ
ラーフィルター層を形成する段階と、（ｃ−３）前記基
板上に配置された、熱転写性の第２カラー層を含んでい
る転写フィルムに光源を照射し、基板上に第２のカラー
フィルター層を形成する段階と、（ｄ−３）前記基板上
に配置された、熱転写性の第３カラー層を含んでいる転
写フィルムに光源を照射し、前記基板上に第３のカラー
フィルター層を形成する段階と、（ｅ−３）前記第１、
第２及び第３カラーフィルター層が形成された基板を２
００〜３００℃で硬化する段階と、（ｆ−３）前記（ｅ
−３）段階で硬化された前記カラーフィルター層を有す
る基板上に透明電極層を形成する段階とを含むことを特
徴とするカラーフィルターの製造方法により達成され
る。
【００１７】本発明の課題は、また、（ａ−４）基板と
密着しており、熱転写性ブラックマトリックス層を含む
転写フィルムに光源を照射し、基板上にブラックマトリ
ックスパターンを形成する段階と、（ｂ−４）前記基板
上に配置された、熱転写性の第１カラー層を含んでいる
転写フィルムに光源を照射し、前記基板上に第１のカラ
ーフィルター層を形成する段階と、（ｃ−４）前記第１
のカラーフィルター層が形成された基板を２００〜３０
０℃で硬化する段階と、（ｄ−４）前記基板上に配置さ
れた、熱転写性の第２カラー層を含んでいる転写フィル
ムに光源を照射し、基板上に第２のカラーフィルター層
を形成する段階と、（ｅ−４）前記第２のカラーフィル
ター層が形成された基板を２００〜３００℃で硬化する
段階と、（ｆ−４）前記基板上に配置された、熱転写性
の第３カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、基板上に第３のカラーフィルター層を形成する段階
と、（ｇ−４）前記第３のカラーフィルター層が形成さ
れた基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、（ｈ−
４）前記（ｇ−４）段階で硬化された前記カラーフィル
ター層を有する基板上に透明電極層を形成する段階とを
含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法によ
り達成される。
密着しており、熱転写性ブラックマトリックス層を含む
転写フィルムに光源を照射し、基板上にブラックマトリ
ックスパターンを形成する段階と、（ｂ−４）前記基板
上に配置された、熱転写性の第１カラー層を含んでいる
転写フィルムに光源を照射し、前記基板上に第１のカラ
ーフィルター層を形成する段階と、（ｃ−４）前記第１
のカラーフィルター層が形成された基板を２００〜３０
０℃で硬化する段階と、（ｄ−４）前記基板上に配置さ
れた、熱転写性の第２カラー層を含んでいる転写フィル
ムに光源を照射し、基板上に第２のカラーフィルター層
を形成する段階と、（ｅ−４）前記第２のカラーフィル
ター層が形成された基板を２００〜３００℃で硬化する
段階と、（ｆ−４）前記基板上に配置された、熱転写性
の第３カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射
し、基板上に第３のカラーフィルター層を形成する段階
と、（ｇ−４）前記第３のカラーフィルター層が形成さ
れた基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、（ｈ−
４）前記（ｇ−４）段階で硬化された前記カラーフィル
ター層を有する基板上に透明電極層を形成する段階とを
含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法によ
り達成される。
【００１８】上記した透明電極層は、厚さが８００〜４
０００Åで、シート抵抗が２〜１００Ω／□であるのが
好ましい。
０００Åで、シート抵抗が２〜１００Ω／□であるのが
好ましい。
【００１９】本発明のカラーフィルターの製造方法にお
いては、基板上に赤色、緑色、及び青色のカラーフィル
ター層を形成してから、透明電極を形成する前に、カラ
ーフィルター層と透明電極層との密着性を向上させるた
め、緩衝層を数十ないし数百Åの厚さで形成するのが好
ましい。この時、緩衝層としては、二酸化ケイ素（Ｓｉ
Ｏ2 ）膜やシリコン窒化膜（ＳｉＮＸ）を用いる。
いては、基板上に赤色、緑色、及び青色のカラーフィル
ター層を形成してから、透明電極を形成する前に、カラ
ーフィルター層と透明電極層との密着性を向上させるた
め、緩衝層を数十ないし数百Åの厚さで形成するのが好
ましい。この時、緩衝層としては、二酸化ケイ素（Ｓｉ
Ｏ2 ）膜やシリコン窒化膜（ＳｉＮＸ）を用いる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づき、本発明
によるカラーフィルターの製造方法を説明する。
によるカラーフィルターの製造方法を説明する。
【００２１】図３を参照すれば、基板３１上にブラック
マトリックス形成用物質をコーティングしてブラックマ
トリックス層３２ａを形成し（図３Ａ）、フォトリソグ
ラフィ工程を用いてブラックマトリックスパターン３２
ｂを形成する（図３Ｂ）。ブラックマトリックスパター
ン３２ｂが形成された基板３１と密着した位置に第１の
カラーフィルター層用転写フィルム３３を配置する。次
いで、前記転写フィルム３３の基材フィルム３３ａ側か
ら光源を照射すると、光吸収層３３ｂが光を吸収し、熱
を放出する。このとき、放出された熱によって第１の色
カラー層３３ｃが基板３１上に転写される。その結果、
第１の色カラーフィルター層３４ａが形成される（図３
Ｃ）。かかる過程を第２色及び第３色に対し繰り返して
施すことにより、第２色及び第３色のカラーフィルター
層３４ｂ及び３４ｃが形成される。次に、前記結果物を
２００乃至３００℃で硬化させる（図３Ｄ）。
マトリックス形成用物質をコーティングしてブラックマ
トリックス層３２ａを形成し（図３Ａ）、フォトリソグ
ラフィ工程を用いてブラックマトリックスパターン３２
ｂを形成する（図３Ｂ）。ブラックマトリックスパター
ン３２ｂが形成された基板３１と密着した位置に第１の
カラーフィルター層用転写フィルム３３を配置する。次
いで、前記転写フィルム３３の基材フィルム３３ａ側か
ら光源を照射すると、光吸収層３３ｂが光を吸収し、熱
を放出する。このとき、放出された熱によって第１の色
カラー層３３ｃが基板３１上に転写される。その結果、
第１の色カラーフィルター層３４ａが形成される（図３
Ｃ）。かかる過程を第２色及び第３色に対し繰り返して
施すことにより、第２色及び第３色のカラーフィルター
層３４ｂ及び３４ｃが形成される。次に、前記結果物を
２００乃至３００℃で硬化させる（図３Ｄ）。
【００２２】前記硬化工程中、縮合反応やラジカル反応
を通じてカラーフィルター層が硬くなり、硬化直前カラ
ーフィルター層の膜硬度が約１Ｈ未満であったのが硬化
後には３Ｈ以上に高まる。硬化工程を経ると、このよう
にカラーフィルター層の膜硬度が高まりながら、膜の縮
まりが僅かに起こることになる。この時の膜厚の縮まり
率は３乃至２０％程度である。
を通じてカラーフィルター層が硬くなり、硬化直前カラ
ーフィルター層の膜硬度が約１Ｈ未満であったのが硬化
後には３Ｈ以上に高まる。硬化工程を経ると、このよう
にカラーフィルター層の膜硬度が高まりながら、膜の縮
まりが僅かに起こることになる。この時の膜厚の縮まり
率は３乃至２０％程度である。
【００２３】硬化工程は、図３の如く、第１色、第２色
及び第３色のカラーフィルター層をすべて形成し切った
後に施しても良いが、図４及び図６の如く、一つのカラ
ーフィルター層を形成するたびに、施しても構わない。
このように３回の硬化工程を経た場合、工程ラインが長
引くという欠点があるが、まず、形成されたカラーフィ
ルター層との擬集現象を防止できるという長所がある。
及び第３色のカラーフィルター層をすべて形成し切った
後に施しても良いが、図４及び図６の如く、一つのカラ
ーフィルター層を形成するたびに、施しても構わない。
このように３回の硬化工程を経た場合、工程ラインが長
引くという欠点があるが、まず、形成されたカラーフィ
ルター層との擬集現象を防止できるという長所がある。
【００２４】硬化工程のすんだ基板３１上に保護層３５
を形成する。それから、スパッタリング法やＥ−ビーム
法を用い、前記保護層３５の上部に透明電極層３６を形
成する（図３Ｅ）。カラーフィルター層の厚さが均一で
あれば、保護層３５なしに第１色、第２色及び第３色の
カラーフィルター層３４ａ、３４ｂ及び３４ｃの上部に
透明電極層３６を直接形成する場合もある（図３Ｆ）。
を形成する。それから、スパッタリング法やＥ−ビーム
法を用い、前記保護層３５の上部に透明電極層３６を形
成する（図３Ｅ）。カラーフィルター層の厚さが均一で
あれば、保護層３５なしに第１色、第２色及び第３色の
カラーフィルター層３４ａ、３４ｂ及び３４ｃの上部に
透明電極層３６を直接形成する場合もある（図３Ｆ）。
【００２５】図４に示すカラーフィルターの製造方法
は、各カラーフィルター層の形成後、硬化工程をそれぞ
れ施すことを除いては、図３に示す製造工程と同じであ
る。
は、各カラーフィルター層の形成後、硬化工程をそれぞ
れ施すことを除いては、図３に示す製造工程と同じであ
る。
【００２６】すなわち、基板４１上にブラックマトリッ
クス用物質をコーティングしてブラックマトリックス層
４２ａを形成し（図４Ａ）、フォトリソグラフィ工程を
用いてブラックマトリックスパターン４２ｂを形成する
（図４Ｂ）。ブラックマトリックスパターン４２ｂが形
成された基板４１と密着した位置に第１のカラーフィル
ター層用転写フィルム４３を配置する。次いで、前記転
写フィルム４３の基材フィルム４３ａ側から光源を照射
することにより、光吸収層４３ｂがアクティブされ光を
吸収し、熱を放出する。この時に放出された熱によって
第１の色カラー層４３ｃが基板４１上に転写され、第１
の色カラーフィルター層４４ａが形成される（図４
Ｃ）。それから、前記結果物を２００乃至３００℃で硬
化させる（図４Ｄ）。
クス用物質をコーティングしてブラックマトリックス層
４２ａを形成し（図４Ａ）、フォトリソグラフィ工程を
用いてブラックマトリックスパターン４２ｂを形成する
（図４Ｂ）。ブラックマトリックスパターン４２ｂが形
成された基板４１と密着した位置に第１のカラーフィル
ター層用転写フィルム４３を配置する。次いで、前記転
写フィルム４３の基材フィルム４３ａ側から光源を照射
することにより、光吸収層４３ｂがアクティブされ光を
吸収し、熱を放出する。この時に放出された熱によって
第１の色カラー層４３ｃが基板４１上に転写され、第１
の色カラーフィルター層４４ａが形成される（図４
Ｃ）。それから、前記結果物を２００乃至３００℃で硬
化させる（図４Ｄ）。
【００２７】かかる過程を第２色に対し繰り返して施す
ことにより、第２色のカラーフィルター層を転写する。
次いで、前記結果物を２００乃至３００℃で硬化させ、
第２のカラーフィルター層４４ｂを形成する（図４
Ｅ）。
ことにより、第２色のカラーフィルター層を転写する。
次いで、前記結果物を２００乃至３００℃で硬化させ、
第２のカラーフィルター層４４ｂを形成する（図４
Ｅ）。
【００２８】前記過程を第３色に対しても同一に繰り返
し、第３色のカラーフィルター層４４ｃを形成すること
によって、基板４１上に第１色、第２色及び第３色のカ
ラーフィルター層４４ａ、４４ｂ及び４４ｃが形成され
る（図４Ｆ）。
し、第３色のカラーフィルター層４４ｃを形成すること
によって、基板４１上に第１色、第２色及び第３色のカ
ラーフィルター層４４ａ、４４ｂ及び４４ｃが形成され
る（図４Ｆ）。
【００２９】カラーフィルター層が形成された基板４１
上に保護層４５と透明電極層４６とを順次形成するか
（図４Ｇ）、あるいは、この保護層４５なしに第１色、
第２色及び第３色のカラーフィルター層４４ａ、４４ｂ
及び４４ｃの上部に透明電極層４６を直接形成する（図
４Ｈ）。
上に保護層４５と透明電極層４６とを順次形成するか
（図４Ｇ）、あるいは、この保護層４５なしに第１色、
第２色及び第３色のカラーフィルター層４４ａ、４４ｂ
及び４４ｃの上部に透明電極層４６を直接形成する（図
４Ｈ）。
【００３０】図３及び図４に示すカラーフィルターの製
造方法において、ブラックマトリックス形成用の物質が
黒鉛もしくは感光性樹脂に黒色の顔料を分散してなる有
機物である場合は、ブラックマトリックスパターンを硬
化する工程が必要である。かかるブラックマトリックス
パターンの硬化工程は、第１色のカラーフィルター層を
形成する前に第１色のカラーフィルター層を硬化させる
場合、あるいは第１色、第２色及び第３色のカラーフィ
ルター層を一挙に硬化させる場合の中から選択できる。
また、硬化温度は、ブラックマトリックス形成用の物質
が黒鉛の場合は１００〜３００℃で、そうでない場合は
２００〜３００℃である。
造方法において、ブラックマトリックス形成用の物質が
黒鉛もしくは感光性樹脂に黒色の顔料を分散してなる有
機物である場合は、ブラックマトリックスパターンを硬
化する工程が必要である。かかるブラックマトリックス
パターンの硬化工程は、第１色のカラーフィルター層を
形成する前に第１色のカラーフィルター層を硬化させる
場合、あるいは第１色、第２色及び第３色のカラーフィ
ルター層を一挙に硬化させる場合の中から選択できる。
また、硬化温度は、ブラックマトリックス形成用の物質
が黒鉛の場合は１００〜３００℃で、そうでない場合は
２００〜３００℃である。
【００３１】図５に示すカラーフィルターの製造方法で
は、ブラックマトリックスパターンを形成する場合にも
熱転写法を用いる。
は、ブラックマトリックスパターンを形成する場合にも
熱転写法を用いる。
【００３２】基板５１と密着した位置にブラックマトリ
ックス層用の転写フィルム５２を配置する。次いで、前
記転写フィルム５２の基材フィルム５２ａ側から光源を
照射すると、光吸収層５２ｂが光を吸収し、熱を放出す
る。この時に放出された熱によってブラックマトリック
ス層５２ｃが転写され、基板５１上にブラックマトリッ
クス層５３が形成される（図５Ａ）。
ックス層用の転写フィルム５２を配置する。次いで、前
記転写フィルム５２の基材フィルム５２ａ側から光源を
照射すると、光吸収層５２ｂが光を吸収し、熱を放出す
る。この時に放出された熱によってブラックマトリック
ス層５２ｃが転写され、基板５１上にブラックマトリッ
クス層５３が形成される（図５Ａ）。
【００３３】ブラックマトリックス層用転写フィルム５
２の代わりに、第１色のカラーフィルター層用転写フィ
ルム５４を用い、前記ブラックマトリックス層形成時と
同じ過程を繰り返すことにより、基板５１上に第１色の
カラー層５４ｃが転写され、第１色のカラーフィルター
層５５ａが形成される（図５Ｂ）。第２色及び第３色に
対し前記過程を繰り返して、第２色及び第３色のカラー
フィルター層５５ｂ及び５５ｃを形成する。次いで、前
記結果物を２００乃至３００℃で硬化させ、膜硬度を高
める（図５Ｃ）。このように、第１色、第２色及び第３
色のカラーフィルター層を全て形成し切ってから、硬化
工程を施しても良いが、図６のごとき一つのカラーフィ
ルター層を形成するたびに、硬化工程を施しても構わな
い。
２の代わりに、第１色のカラーフィルター層用転写フィ
ルム５４を用い、前記ブラックマトリックス層形成時と
同じ過程を繰り返すことにより、基板５１上に第１色の
カラー層５４ｃが転写され、第１色のカラーフィルター
層５５ａが形成される（図５Ｂ）。第２色及び第３色に
対し前記過程を繰り返して、第２色及び第３色のカラー
フィルター層５５ｂ及び５５ｃを形成する。次いで、前
記結果物を２００乃至３００℃で硬化させ、膜硬度を高
める（図５Ｃ）。このように、第１色、第２色及び第３
色のカラーフィルター層を全て形成し切ってから、硬化
工程を施しても良いが、図６のごとき一つのカラーフィ
ルター層を形成するたびに、硬化工程を施しても構わな
い。
【００３４】前記結果物上に保護層５６と透明電極層５
７とを順次形成するか（図５Ｄ）、あるいは透明電極層
５７を直接形成する（図５Ｅ）。
７とを順次形成するか（図５Ｄ）、あるいは透明電極層
５７を直接形成する（図５Ｅ）。
【００３５】図６に示すカラーフィルターの製造方法
は、各カラーフィルター層を形成してから硬化工程をそ
れぞれ施すことを除いては、図５に示す製造工程と同一
である。
は、各カラーフィルター層を形成してから硬化工程をそ
れぞれ施すことを除いては、図５に示す製造工程と同一
である。
【００３６】基板６１と密着した位置にブラックマトリ
ックス層用の転写フィルム６２を配置する。次いで、前
記転写フィルム６２の基材フィルム６２ａ側から光源を
照射すると、光吸収層６２ｂが光を吸収し、熱を放出す
る。この時に放出された熱によってブラックマトリック
ス層６２ｃが転写され、基板６１上にブラックマトリッ
クス層６３が形成される（図６Ａ）。
ックス層用の転写フィルム６２を配置する。次いで、前
記転写フィルム６２の基材フィルム６２ａ側から光源を
照射すると、光吸収層６２ｂが光を吸収し、熱を放出す
る。この時に放出された熱によってブラックマトリック
ス層６２ｃが転写され、基板６１上にブラックマトリッ
クス層６３が形成される（図６Ａ）。
【００３７】ブラックマトリックス用転写フィルム６２
の代わりに第１色のカラーフィルター層用転写フィルム
６４を用い、前記ブラックマトリックス層６３の形成時
と同一の過程を繰り返すことにより、基板６１上に第１
色のカラー層６４ｃが転写される（図６Ｂ）。得られた
結果物を２００乃至３００℃で硬化させ、第１色のカラ
ーフィルター層６５ａを形成する（図６Ｃ）。
の代わりに第１色のカラーフィルター層用転写フィルム
６４を用い、前記ブラックマトリックス層６３の形成時
と同一の過程を繰り返すことにより、基板６１上に第１
色のカラー層６４ｃが転写される（図６Ｂ）。得られた
結果物を２００乃至３００℃で硬化させ、第１色のカラ
ーフィルター層６５ａを形成する（図６Ｃ）。
【００３８】第２色と第３色に対して前記過程を繰り返
し、第２色のカラーフィルター層６５ｂ及び第３色のカ
ラーフィルター層６５ｃをそれぞれ形成する（図６Ｄ及
び図６Ｅ）。
し、第２色のカラーフィルター層６５ｂ及び第３色のカ
ラーフィルター層６５ｃをそれぞれ形成する（図６Ｄ及
び図６Ｅ）。
【００３９】前記結果物上に保護層６６と透明電極層６
７とを順次に形成するか（図６Ｆ）、あるいは透明電極
層６７を直接形成する（図６Ｇ）。
７とを順次に形成するか（図６Ｆ）、あるいは透明電極
層６７を直接形成する（図６Ｇ）。
【００４０】図５及び図６に示すカラーフィルターの製
造方法において、ブラックマトリックスパターンの硬化
工程は、第１色のカラーフィルター層を形成する前に第
１色のカラーフィルター層を硬化させる場合、あるいは
第１色、第２色及び第３色のカラーフィルター層を一挙
に硬化させる場合の中から選択して施すことができる。
また、好適な硬化温度は、２００〜３００℃である。
造方法において、ブラックマトリックスパターンの硬化
工程は、第１色のカラーフィルター層を形成する前に第
１色のカラーフィルター層を硬化させる場合、あるいは
第１色、第２色及び第３色のカラーフィルター層を一挙
に硬化させる場合の中から選択して施すことができる。
また、好適な硬化温度は、２００〜３００℃である。
【００４１】本発明で用いる熱転写フィルムは特別に制
限されることがなく、普通のレーザー誘導転写フィルム
ならいずれも使用可能である。転写フィルムの基本的な
構造は図７に示されている。かかる基本的な構造の他、
必要に応じて、性能を向上させるための幾つかの層を更
に形成することもできる。
限されることがなく、普通のレーザー誘導転写フィルム
ならいずれも使用可能である。転写フィルムの基本的な
構造は図７に示されている。かかる基本的な構造の他、
必要に応じて、性能を向上させるための幾つかの層を更
に形成することもできる。
【００４２】図７を参照すれば、基材フィルム７１は熱
転写フィルムを支持する働きを有した層であり、単一膜
若しくは複合多層膜を使用する。ここで、基材フィルム
の厚さは１０乃至５００μｍであることが好ましい。こ
の層は透明性に優れた高分子フィルムを用い、ポリエス
テル、ポリアクリレート、エポキシ樹脂、ポリエチレ
ン、ポリプロフィレン、ポリスチレンなどのフィルムを
用いる。中でも、ポリエステルの一種であるポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムがさらに好まし
い。
転写フィルムを支持する働きを有した層であり、単一膜
若しくは複合多層膜を使用する。ここで、基材フィルム
の厚さは１０乃至５００μｍであることが好ましい。こ
の層は透明性に優れた高分子フィルムを用い、ポリエス
テル、ポリアクリレート、エポキシ樹脂、ポリエチレ
ン、ポリプロフィレン、ポリスチレンなどのフィルムを
用いる。中でも、ポリエステルの一種であるポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムがさらに好まし
い。
【００４３】本発明の光吸収層７２は、紫外線−赤外線
領域の光を吸収する性質に優れた材料からなる。前記材
料は、無機物と、結合樹脂に着色剤が分散された有機物
とに大別できる。
領域の光を吸収する性質に優れた材料からなる。前記材
料は、無機物と、結合樹脂に着色剤が分散された有機物
とに大別できる。
【００４４】前記無機物としては、光学濃度（ｏｐｔｉ
ｃａｌ ｄｅｎｓｉｔｙ）が０．２乃至３．０であるア
ルミニウム、すず、チタニウム、コバルト、亜鉛、鉛な
どの金属と、該酸化物及びこれらの混合物があるが、中
でもアルミニウムまたはその酸化物が好ましい。この無
機物からなる膜はその厚さが０．１乃至１０μｍである
のが好ましい。
ｃａｌ ｄｅｎｓｉｔｙ）が０．２乃至３．０であるア
ルミニウム、すず、チタニウム、コバルト、亜鉛、鉛な
どの金属と、該酸化物及びこれらの混合物があるが、中
でもアルミニウムまたはその酸化物が好ましい。この無
機物からなる膜はその厚さが０．１乃至１０μｍである
のが好ましい。
【００４５】前記有機物としては、高分子結合樹脂に顔
料、染料などの着色剤、分散剤などが分散された物質が
挙げられる。ここで、前記結合樹脂としては、転写工程
時に高いエネルギーに耐えられる網状構造（ｎｅｔｗｏ
ｒｋ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）の樹脂が好ましい。さら
に、前記顔料及び染料としては、紫外線−赤外線領域の
光を吸収するカーボンブラックや黒鉛顔料及びＩＲ−染
料を用いる。
料、染料などの着色剤、分散剤などが分散された物質が
挙げられる。ここで、前記結合樹脂としては、転写工程
時に高いエネルギーに耐えられる網状構造（ｎｅｔｗｏ
ｒｋ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）の樹脂が好ましい。さら
に、前記顔料及び染料としては、紫外線−赤外線領域の
光を吸収するカーボンブラックや黒鉛顔料及びＩＲ−染
料を用いる。
【００４６】前記転写層７３は、転写物質によってその
組成が変わる。一般に、分散剤に顔料若しくは染料を添
加してから、これを溶媒に分散させ、更に結合樹脂とそ
の他の添加剤を加えて、転写用組成物を組成する。
組成が変わる。一般に、分散剤に顔料若しくは染料を添
加してから、これを溶媒に分散させ、更に結合樹脂とそ
の他の添加剤を加えて、転写用組成物を組成する。
【００４７】本発明において、ブラックマトリックス層
用の物質は大きく３つに区分できるが、各物質によって
ブラックマトリックス層の製造方法がそれぞれ異なる。
用の物質は大きく３つに区分できるが、各物質によって
ブラックマトリックス層の製造方法がそれぞれ異なる。
【００４８】第一、ブラックマトリックス用の物質とし
て一番汎用される物質には、クロムまたはクロム酸化物
がある。これを用いたブラックマトリックス層を形成す
る方法は以下の通りである。
て一番汎用される物質には、クロムまたはクロム酸化物
がある。これを用いたブラックマトリックス層を形成す
る方法は以下の通りである。
【００４９】スパッタリングやＥ−ビーム蒸着法を用い
て硝子基板上にクロムやクロム酸化物の単一膜を約４０
０乃至２０００Åの厚さで形成し、フォトリソグラフィ
工程を用いてブラックマトリックスパターンを形成す
る。或いは、クロムとクロム酸化物とを用いた２層膜若
しくは３層膜を４００乃至３０００Åの厚さで形成する
こともできる。
て硝子基板上にクロムやクロム酸化物の単一膜を約４０
０乃至２０００Åの厚さで形成し、フォトリソグラフィ
工程を用いてブラックマトリックスパターンを形成す
る。或いは、クロムとクロム酸化物とを用いた２層膜若
しくは３層膜を４００乃至３０００Åの厚さで形成する
こともできる。
【００５０】本発明のブラックマトリックス層は下記の
乃至の構造で形成でき、膜厚は４００乃至３０００
Åが適合である。
乃至の構造で形成でき、膜厚は４００乃至３０００
Åが適合である。
【００５１】 クロム膜 クロム酸化物膜 クロム膜／クロム酸化物膜 クロム酸化物膜／クロム膜 クロム酸化物膜／クロム膜／クロム酸化物膜 第二、ブラックマトリックス層用の物質として、感光性
有機物が使用可能である。感光性有機物とは、感光性樹
脂にカーボンブラックなどの顔料を分散した材料を言
い、これを基板上にスピンコーティングしてから露光及
び現像し、ブラックマトリックスパターンを形成する。
ここで、前記ブラックマトリックスパターンの厚さは
０．５乃至１．５μｍであることが好ましい。
有機物が使用可能である。感光性有機物とは、感光性樹
脂にカーボンブラックなどの顔料を分散した材料を言
い、これを基板上にスピンコーティングしてから露光及
び現像し、ブラックマトリックスパターンを形成する。
ここで、前記ブラックマトリックスパターンの厚さは
０．５乃至１．５μｍであることが好ましい。
【００５２】第三、ブラックマトリックス層用の物質と
しては黒鉛が使用可能である。これを用いたブラックマ
トリックス層の形成方法を調べてみると、まず基板上に
ポジティブ型フォトレジストを塗布した上で、露光及び
現像を行い、フォトレジストパターンを形成する。
しては黒鉛が使用可能である。これを用いたブラックマ
トリックス層の形成方法を調べてみると、まず基板上に
ポジティブ型フォトレジストを塗布した上で、露光及び
現像を行い、フォトレジストパターンを形成する。
【００５３】それから、前記フォトレジストパターンが
形成された基板の上部に黒鉛を１０００乃至５０００Å
の厚さでスピンコーティングし、塩基性溶液を用いて前
記フォトレジストパターンを完全に除去し切ることによ
り（リフトオフ；ｌｉｆｔ−ｏｆｆ方式）、ブラックマ
トリックスパターンを完成する。
形成された基板の上部に黒鉛を１０００乃至５０００Å
の厚さでスピンコーティングし、塩基性溶液を用いて前
記フォトレジストパターンを完全に除去し切ることによ
り（リフトオフ；ｌｉｆｔ−ｏｆｆ方式）、ブラックマ
トリックスパターンを完成する。
【００５４】本発明のブラックマトリックス層として
は、クロムとクロム酸化物との２重膜が一番好ましい。
ブラックマトリックス用の物質としては、上記したクロ
ムとクロム酸化物の代わりに、クロム窒化物、クロム硫
化物、あるいはこれらの混合物が使用可能である。
は、クロムとクロム酸化物との２重膜が一番好ましい。
ブラックマトリックス用の物質としては、上記したクロ
ムとクロム酸化物の代わりに、クロム窒化物、クロム硫
化物、あるいはこれらの混合物が使用可能である。
【００５５】図８は本発明に使われる転写装置の構成を
概略に示す図面である。
概略に示す図面である。
【００５６】これを参照すれば、まず、光源８１から高
出力のレーザービームが放出される。前記光源として
は、Ｎｄ／ＹＡＧなどの高出力固体レーザー、ＣＯ2 、
ＣＯなどのガスレーザー、ダイオードと結合したＮｄ／
ＹＡＧ（Ｄｉｏｄｅ−ｃｏｕｐｌｅｄ Ｎｄ／ＹＡＧ）
（０．１〜４０Ｗ）などが用いられる。
出力のレーザービームが放出される。前記光源として
は、Ｎｄ／ＹＡＧなどの高出力固体レーザー、ＣＯ2 、
ＣＯなどのガスレーザー、ダイオードと結合したＮｄ／
ＹＡＧ（Ｄｉｏｄｅ−ｃｏｕｐｌｅｄ Ｎｄ／ＹＡＧ）
（０．１〜４０Ｗ）などが用いられる。
【００５７】前記放出されたレーザービームは、単一ビ
ームまたは単一ビームスプリッタを経て同一の強度を有
した多数本のビームに分けられたものである。ここで、
単一のレーザービームを多数本のビームに分けて、各ビ
ームの強度を調節する場合、単なるストライプ状のパタ
ーンの他ドット状のパターンを製造することが可能とな
る。
ームまたは単一ビームスプリッタを経て同一の強度を有
した多数本のビームに分けられたものである。ここで、
単一のレーザービームを多数本のビームに分けて、各ビ
ームの強度を調節する場合、単なるストライプ状のパタ
ーンの他ドット状のパターンを製造することが可能とな
る。
【００５８】レーザービームとしては、同一の強度を有
した多数本のビームを使用するよりは、単一ビームを使
用することが好ましい。というのは、単一ビームを使う
と、簡単なストライプ状のパターンを割に単純な設備と
短時間で経済的に製作できるからである。
した多数本のビームを使用するよりは、単一ビームを使
用することが好ましい。というのは、単一ビームを使う
と、簡単なストライプ状のパターンを割に単純な設備と
短時間で経済的に製作できるからである。
【００５９】単一ビームまたは多数本のビームに分けら
れたレーザービームは、転写しようとする形状に応じて
モジュレータ８２で強度比が調節されてから、第１のレ
ンズアレイ（ｌｅｎｓｅ ａｒｒａｙ）８３を経てスキ
ャニングミラー（ｓｃａｎｎｉｎｇ ｍｉｒｒｏｒ）８
４に着く。ここで、スキャニングミラー８４は、基板の
Ｘ軸方向に沿って光を所望の位置に送り出す働きをす
る。
れたレーザービームは、転写しようとする形状に応じて
モジュレータ８２で強度比が調節されてから、第１のレ
ンズアレイ（ｌｅｎｓｅ ａｒｒａｙ）８３を経てスキ
ャニングミラー（ｓｃａｎｎｉｎｇ ｍｉｒｒｏｒ）８
４に着く。ここで、スキャニングミラー８４は、基板の
Ｘ軸方向に沿って光を所望の位置に送り出す働きをす
る。
【００６０】スキャンニングミラー８４に着いた光は、
第２のレンズアレイ８５を経て転写しようとする物質が
塗布された転写フィルム８６上に照射されるようになっ
ている。この時、転写フィルム８６の光を受けた部分に
塗布された物質のみが基板８７上に転写される。ここ
で、パターンの幅は転写フィルムの感度、光のエネルギ
ー分布及び強度、そして光のスキャン速度によって決ま
ることになる。さらに、ステージ８８の動きはコンピュ
ータ８９により制御される。ここで、参照番号９０は前
記スキャンニングミラー８４を制御するスキャンニング
ミラー制御器（ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）を示す。
第２のレンズアレイ８５を経て転写しようとする物質が
塗布された転写フィルム８６上に照射されるようになっ
ている。この時、転写フィルム８６の光を受けた部分に
塗布された物質のみが基板８７上に転写される。ここ
で、パターンの幅は転写フィルムの感度、光のエネルギ
ー分布及び強度、そして光のスキャン速度によって決ま
ることになる。さらに、ステージ８８の動きはコンピュ
ータ８９により制御される。ここで、参照番号９０は前
記スキャンニングミラー８４を制御するスキャンニング
ミラー制御器（ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）を示す。
【００６１】本発明で使用可能な光源はレーザー、キセ
ノンランプ、ハロゲンランプなどである。前記レーザー
としては、固体、ガス、半導体、染料、エキシマー（ｅ
ｘｃｉｍｅｒ）などの汎用的なレーザーがいずれも使用
可能である。ビームの形状としてはシングルモード（ｓ
ｉｎｇｌｅ ｍｏｄｅ）のガウス（ｇａｕｓｓｉａｎ）
ビームが主に使われてきたが、マルチモード（ｍｕｌｔ
ｉ ｍｏｄｅ）のビームも使用可能である。
ノンランプ、ハロゲンランプなどである。前記レーザー
としては、固体、ガス、半導体、染料、エキシマー（ｅ
ｘｃｉｍｅｒ）などの汎用的なレーザーがいずれも使用
可能である。ビームの形状としてはシングルモード（ｓ
ｉｎｇｌｅ ｍｏｄｅ）のガウス（ｇａｕｓｓｉａｎ）
ビームが主に使われてきたが、マルチモード（ｍｕｌｔ
ｉ ｍｏｄｅ）のビームも使用可能である。
【００６２】
【実施例】以下、本発明を具体的な実施例を通じて更に
詳しく説明する。本発明は下記の実施例に限定されるこ
となく、多くの変形が当業者にとって可能であることは
言うまでもない。
詳しく説明する。本発明は下記の実施例に限定されるこ
となく、多くの変形が当業者にとって可能であることは
言うまでもない。
【００６３】実施例１ Ｉ．熱転写によるブラックマトリックスパターンの製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ
Ｔｅｃｈ．、ＵＳＡ）を使って硝子基板（３７０×４
００ｍｍ2 ）を洗浄した後、純水で超音波処理を行なっ
た。洗浄された硝子基板と後続して形成される膜との密
着性を向上させるため、前記硝子基板の表面をＵＶ及び
熱処理した。
Ｔｅｃｈ．、ＵＳＡ）を使って硝子基板（３７０×４
００ｍｍ2 ）を洗浄した後、純水で超音波処理を行なっ
た。洗浄された硝子基板と後続して形成される膜との密
着性を向上させるため、前記硝子基板の表面をＵＶ及び
熱処理した。
【００６４】次いで、前記基板上から密着した位置に基
材フィルム、光吸収層（ｌｉｇｈｔａｂｓｏｒｂｉｎｇ
ｌａｙｅｒ）及びブラックマトリックス層からなる転
写フィルムを設けた。
材フィルム、光吸収層（ｌｉｇｈｔａｂｓｏｒｂｉｎｇ
ｌａｙｅｒ）及びブラックマトリックス層からなる転
写フィルムを設けた。
【００６５】ビームサイズが約３０μｍ（１／ｅ2 ）で
ある連続発振Ｎｄ／ＹＡＧレーザービームを同一強度と
位相に分離（ｓｐｌｉｔ）させた後、ウインドの形態に
即するように分離された各ビームの開閉を調節した。こ
のビームを前記転写フィルムの上部に走査し、パターン
幅が約２０μｍであるブラックマトリックスパターンを
製造した。
ある連続発振Ｎｄ／ＹＡＧレーザービームを同一強度と
位相に分離（ｓｐｌｉｔ）させた後、ウインドの形態に
即するように分離された各ビームの開閉を調節した。こ
のビームを前記転写フィルムの上部に走査し、パターン
幅が約２０μｍであるブラックマトリックスパターンを
製造した。
【００６６】ＩＩ.フォトリソグラフィ工程によるブラ
ックマトリックス及び該パターンの製造 １.Ｃｒ、ＣｒＯｘ、Ｃｒ／ＣｒＯｘ、ＣｒＯｘ／Ｃｒ
またはＣｒＯｘ／Ｃｒ／ＣｒＯｘブラックマトリックス
及び該パターンの製造 フラット表示素子用バッチ（ｂａｔｃｈ）式スパッタ
（ｓｐｕｔｔｅｒ）装備を用い、下記表１の条件下でブ
ラックマトリックス層を形成した。Ｃｒ膜は放電ガスと
してアルゴンＡｒを使い、ＣｒＯｘ膜は反応ガスとして
ＣＯ2 及びＮ2 を使ってブラックマトリックスを製造し
た。
ックマトリックス及び該パターンの製造 １.Ｃｒ、ＣｒＯｘ、Ｃｒ／ＣｒＯｘ、ＣｒＯｘ／Ｃｒ
またはＣｒＯｘ／Ｃｒ／ＣｒＯｘブラックマトリックス
及び該パターンの製造 フラット表示素子用バッチ（ｂａｔｃｈ）式スパッタ
（ｓｐｕｔｔｅｒ）装備を用い、下記表１の条件下でブ
ラックマトリックス層を形成した。Ｃｒ膜は放電ガスと
してアルゴンＡｒを使い、ＣｒＯｘ膜は反応ガスとして
ＣＯ2 及びＮ2 を使ってブラックマトリックスを製造し
た。
【００６７】
【表１】
【００６８】洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、Ｅｎｖｉｒｏｎ
ｍｅｎｔａｌ Ｔｅｃｈ．、ＵＳＡ）を用いて前記ブラ
ックマトリックス層の表面を洗浄した後、純水で超音波
処理を行なった。前記ブラックマトリックス層の上部に
フォトレジスト（Ｓｈｉｐｌｅｙ ＳＲＣ−３００また
はＨｏｃｈｅｓｔ Ｋｏｒｅａ ＨＫＲ ２３０Ｍ）を
１乃至２μｍの厚さでコーティングした。次いで、フォ
トマスクを用いて前記フォトレジスト膜を約５０乃至８
０ｍＪ／ｃｍ2 で露光した後、現像液としてフェックス
トコリア（Ｈｏｃｈｅｓｔ Ｋｏｒｅａ）ＭＩＦ３１２
を使って６０秒間現像し、フォトレジストパターンを形
成した。
ｍｅｎｔａｌ Ｔｅｃｈ．、ＵＳＡ）を用いて前記ブラ
ックマトリックス層の表面を洗浄した後、純水で超音波
処理を行なった。前記ブラックマトリックス層の上部に
フォトレジスト（Ｓｈｉｐｌｅｙ ＳＲＣ−３００また
はＨｏｃｈｅｓｔ Ｋｏｒｅａ ＨＫＲ ２３０Ｍ）を
１乃至２μｍの厚さでコーティングした。次いで、フォ
トマスクを用いて前記フォトレジスト膜を約５０乃至８
０ｍＪ／ｃｍ2 で露光した後、現像液としてフェックス
トコリア（Ｈｏｃｈｅｓｔ Ｋｏｒｅａ）ＭＩＦ３１２
を使って６０秒間現像し、フォトレジストパターンを形
成した。
【００６９】前記フォトレジストパターンとドンウ半導
体社（Ｄｏｎｇｗｏｏ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ
Ｃｏ．）製品であるＣｒ食刻液ＭＡ−ＳＯ3 ［アンモニ
ウム硝酸塩（ａｍｍｏｎｉｕｍ ｎｉｔｒａｔｅ）：硝
酸ＨＮＯ3 ：脱イオン水＝１１．２：４．５：８４．３
の体積比］とを用い、前記ブラックマトリックスクロム
層をエッチングした。その後、３％ＮａＯＨまたはＮ−
メチルピロリドン（ＮＭＰ）溶媒を用いて前記フォトレ
ジストパターンを除去することによりブラックマトリッ
クスパターンを形成した。
体社（Ｄｏｎｇｗｏｏ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ
Ｃｏ．）製品であるＣｒ食刻液ＭＡ−ＳＯ3 ［アンモニ
ウム硝酸塩（ａｍｍｏｎｉｕｍ ｎｉｔｒａｔｅ）：硝
酸ＨＮＯ3 ：脱イオン水＝１１．２：４．５：８４．３
の体積比］とを用い、前記ブラックマトリックスクロム
層をエッチングした。その後、３％ＮａＯＨまたはＮ−
メチルピロリドン（ＮＭＰ）溶媒を用いて前記フォトレ
ジストパターンを除去することによりブラックマトリッ
クスパターンを形成した。
【００７０】下記の表２にはブラックマトリックス層形
成用の物質に対する現像及びエッチング条件が示されて
いる。この時に使ったフォトマスクパターンの幅は、Ｓ
ＶＧＡ用は２０μｍ、ＶＧＡ用は２５μｍであり、実際
のパターン幅は、ＳＶＧＡ用は２０±０．５μｍ、ＶＧ
Ａ用は２５±０．５μｍであった。
成用の物質に対する現像及びエッチング条件が示されて
いる。この時に使ったフォトマスクパターンの幅は、Ｓ
ＶＧＡ用は２０μｍ、ＶＧＡ用は２５μｍであり、実際
のパターン幅は、ＳＶＧＡ用は２０±０．５μｍ、ＶＧ
Ａ用は２５±０．５μｍであった。
【００７１】
【表２】
【００７２】２.有機ブラックマトリックスパターンの
製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ
Ｔｅｃｈ．、ＵＳＡ）を用いて硝子基板（３７０×４
００ｍｍ）を洗浄した後、脱イオン水で超音波処理を行
なった。前記硝子基板上に感光性有機ブラックマトリッ
クス（Ｆｕｊｉ−Ｈｕｎｔ社ＣＫ−Ｓ１７１）をスピン
コーティングした。次いで、結果物又はスピンコートさ
れた硝子基板を仮硬化（ｐｒｅｂａｋｅ）し、１．０μ
ｍの厚さの有機ブラックマトリックス層を形成した。
製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ
Ｔｅｃｈ．、ＵＳＡ）を用いて硝子基板（３７０×４
００ｍｍ）を洗浄した後、脱イオン水で超音波処理を行
なった。前記硝子基板上に感光性有機ブラックマトリッ
クス（Ｆｕｊｉ−Ｈｕｎｔ社ＣＫ−Ｓ１７１）をスピン
コーティングした。次いで、結果物又はスピンコートさ
れた硝子基板を仮硬化（ｐｒｅｂａｋｅ）し、１．０μ
ｍの厚さの有機ブラックマトリックス層を形成した。
【００７３】その後、フォトマスクを用い、前記ブラッ
クマトリックス層の所定領域のみを４００ｍＪ／ｃｍ2
で露光した後、この結果物又は露光されたものをフジハ
ント（Ｆｕｊｉ−Ｈｕｎｔ）社のＣＤ（ｃｏｌｏｒ ｄ
ｅｖｅｌｏｐｅｒ）２０％の溶液中で約７０秒間現像し
た。次いで、現像の済んだブラックマトリックス層を２
６℃の温度及び１４０ｋｇ／ｃｍ2 圧力の条件下で洗浄
（ｒｉｎｓｅ）して、表面に残存する顔料を除去し、２
２０℃で１時間硬化した。この時に用いたフォトマスク
のパターン幅は、ＳＶＧＡ用は２０μｍ、ＶＧＡ用は２
４μｍであり、実際のパターン幅は、ＳＶＧＡ用は２１
±０．５μｍ、ＶＧＡ用は２５±０．５μｍであった。
クマトリックス層の所定領域のみを４００ｍＪ／ｃｍ2
で露光した後、この結果物又は露光されたものをフジハ
ント（Ｆｕｊｉ−Ｈｕｎｔ）社のＣＤ（ｃｏｌｏｒ ｄ
ｅｖｅｌｏｐｅｒ）２０％の溶液中で約７０秒間現像し
た。次いで、現像の済んだブラックマトリックス層を２
６℃の温度及び１４０ｋｇ／ｃｍ2 圧力の条件下で洗浄
（ｒｉｎｓｅ）して、表面に残存する顔料を除去し、２
２０℃で１時間硬化した。この時に用いたフォトマスク
のパターン幅は、ＳＶＧＡ用は２０μｍ、ＶＧＡ用は２
４μｍであり、実際のパターン幅は、ＳＶＧＡ用は２１
±０．５μｍ、ＶＧＡ用は２５±０．５μｍであった。
【００７４】３.黒鉛ブラックマトリックスパターンの
製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ
ｌ Ｔｅｃｈ．、 ＵＳＡ）を用いて硝子基板（３７０
×４００ｍｍ）を洗浄した後、純水で超音波処理した。
洗浄された硝子基板の表面をＵＶ及び熱処理した。
製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ
ｌ Ｔｅｃｈ．、 ＵＳＡ）を用いて硝子基板（３７０
×４００ｍｍ）を洗浄した後、純水で超音波処理した。
洗浄された硝子基板の表面をＵＶ及び熱処理した。
【００７５】表面処理された硝子基板上にフォトレジス
トＰＭＥＲ−６００５（東京応化株式会社）をスピンコ
ーティングし、１２０℃で仮硬化（ｐｒｅ−ｂａｋｉｎ
ｇ）して、１μｍの厚さを有するフォトレジスト膜を形
成した。フォトマスクを用いて前記フォトレジスト膜の
所定領域を７０ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、０．５％ＮａＯ
Ｈを約６４秒間スプレーして現像した。次いで、結果物
又は得られた現像物を洗浄及び乾燥することによりフォ
トレジストパターンを形成した。
トＰＭＥＲ−６００５（東京応化株式会社）をスピンコ
ーティングし、１２０℃で仮硬化（ｐｒｅ−ｂａｋｉｎ
ｇ）して、１μｍの厚さを有するフォトレジスト膜を形
成した。フォトマスクを用いて前記フォトレジスト膜の
所定領域を７０ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、０．５％ＮａＯ
Ｈを約６４秒間スプレーして現像した。次いで、結果物
又は得られた現像物を洗浄及び乾燥することによりフォ
トレジストパターンを形成した。
【００７６】前記フォトレジストパターン上に黒鉛（日
立粉末冶金 ＬＣＤ−ＢＭ１２）をスピン塗布してから
仮硬化し、０．４μｍの厚さを有するブラックマトリッ
クス層を得た。次いで、前記ブラックマトリックス層を
１％ＮａＯＨ水溶液を使って８５秒間現像してから、３
ｋｇｆ／ｃｍ2 の高圧で洗浄し、フォトレジストを完全
に剥離し切った上で、乾燥した。その後、前記結果物を
１５０℃で２０分間再硬化し、黒鉛ブラックマトリック
スパターンを形成した。この時に用いたフォトマスクパ
ターン幅は、ＳＶＧＡ用は２０μｍ、ＶＧＡ用は２５μ
ｍであり、実際のパターン幅はＳＶＧＡ用は２０±０．
５μｍ、ＶＧＡ用は２５±０．５μｍであった。
立粉末冶金 ＬＣＤ−ＢＭ１２）をスピン塗布してから
仮硬化し、０．４μｍの厚さを有するブラックマトリッ
クス層を得た。次いで、前記ブラックマトリックス層を
１％ＮａＯＨ水溶液を使って８５秒間現像してから、３
ｋｇｆ／ｃｍ2 の高圧で洗浄し、フォトレジストを完全
に剥離し切った上で、乾燥した。その後、前記結果物を
１５０℃で２０分間再硬化し、黒鉛ブラックマトリック
スパターンを形成した。この時に用いたフォトマスクパ
ターン幅は、ＳＶＧＡ用は２０μｍ、ＶＧＡ用は２５μ
ｍであり、実際のパターン幅はＳＶＧＡ用は２０±０．
５μｍ、ＶＧＡ用は２５±０．５μｍであった。
【００７７】ＩＩＩ.赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色
（Ｂ）カラーフィルター層の形成 洗浄剤（ＥＴ Ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ
ｌ Ｔｅｃｈ．、 ＵＳＡ）を使用してブラックマトリ
ックスパターンが形成された基板を洗浄した後、脱イオ
ン水で超音波処理（３００Ｗ、シャープ社）を行なっ
た。次いで、洗浄された硝子基板にＵＶ及び熱処理を施
した。
（Ｂ）カラーフィルター層の形成 洗浄剤（ＥＴ Ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ
ｌ Ｔｅｃｈ．、 ＵＳＡ）を使用してブラックマトリ
ックスパターンが形成された基板を洗浄した後、脱イオ
ン水で超音波処理（３００Ｗ、シャープ社）を行なっ
た。次いで、洗浄された硝子基板にＵＶ及び熱処理を施
した。
【００７８】赤色カラーフィルター用の転写フィルムを
洗浄のすんだ硝子基板と密着した位置に配置した。その
後、前記転写フィルムの上部に連続発振Ｎｄ／ＹＡＧ
（Ｑｕａｎｔｒｏｎｉｃ ８Ｗ）から放出されるシング
ルモードレーザービームを走査（スキャン速度：約５ｍ
／ｓｅｃ）し、ストライプ状の赤色カラーフィルターパ
ターンを形成した。ここで、ビームスポットの直径は、
ＶＧＡの場合は１４０μｍ（１／ｅ2 ）、ＳＶＧＡの場
合は１３０μｍ（１／ｅ2 ）に調節した。この時、実際
に得られたパターンの幅は、ＶＧＡの場合は１００μ
ｍ、ＳＶＧＡの場合は９０μｍであった。
洗浄のすんだ硝子基板と密着した位置に配置した。その
後、前記転写フィルムの上部に連続発振Ｎｄ／ＹＡＧ
（Ｑｕａｎｔｒｏｎｉｃ ８Ｗ）から放出されるシング
ルモードレーザービームを走査（スキャン速度：約５ｍ
／ｓｅｃ）し、ストライプ状の赤色カラーフィルターパ
ターンを形成した。ここで、ビームスポットの直径は、
ＶＧＡの場合は１４０μｍ（１／ｅ2 ）、ＳＶＧＡの場
合は１３０μｍ（１／ｅ2 ）に調節した。この時、実際
に得られたパターンの幅は、ＶＧＡの場合は１００μ
ｍ、ＳＶＧＡの場合は９０μｍであった。
【００７９】レーザービームのスキャン段階が完結した
後、赤色カラーフィルター用の転写フィルムを除去し
た。その後、赤色カラーフィルター用の転写フィルムの
代わりに緑色または青色のカラーフィルター用転写フィ
ルムをそれぞれ使って前記工程と同一の方法で施すこと
により、ストライプ状の緑色及び青色カラーフィルター
パターンをそれぞれ形成した。このとき、ストライプ状
のカラーフィルターパターンの形成手順は色に拘わらず
任意に決めることができる。その後、赤色、緑色及び青
色のカラーフィルターパターンを約２５０℃で１時間硬
化させた。
後、赤色カラーフィルター用の転写フィルムを除去し
た。その後、赤色カラーフィルター用の転写フィルムの
代わりに緑色または青色のカラーフィルター用転写フィ
ルムをそれぞれ使って前記工程と同一の方法で施すこと
により、ストライプ状の緑色及び青色カラーフィルター
パターンをそれぞれ形成した。このとき、ストライプ状
のカラーフィルターパターンの形成手順は色に拘わらず
任意に決めることができる。その後、赤色、緑色及び青
色のカラーフィルターパターンを約２５０℃で１時間硬
化させた。
【００８０】ＩＶ.保護層のないカラーフィルターの製
造 赤色、緑色及び青色のカラーフィルターパターンが形成
された基板を洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、Ｅｎｖｉｒｏｎ
ｍｅｎｔａｌ Ｔｅｃｈ．、ＵＳＡ）を用いて洗浄した
後に、脱イオン水で超音波処理を行なった。次いで、前
記硝子基板の表面をＵＶ及び熱処理した。その後、フラ
ット表示素子用のバッチ式スパッタ装備を用い、表３の
条件下でシート抵抗が７乃至８Ω／□のＩＴＯ膜を形成
した。
造 赤色、緑色及び青色のカラーフィルターパターンが形成
された基板を洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、Ｅｎｖｉｒｏｎ
ｍｅｎｔａｌ Ｔｅｃｈ．、ＵＳＡ）を用いて洗浄した
後に、脱イオン水で超音波処理を行なった。次いで、前
記硝子基板の表面をＵＶ及び熱処理した。その後、フラ
ット表示素子用のバッチ式スパッタ装備を用い、表３の
条件下でシート抵抗が７乃至８Ω／□のＩＴＯ膜を形成
した。
【００８１】
【表３】
【００８２】Ｖ.緩衝層（ＳｉＯ2 層）を形成したカラ
ーフィルターの製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ
ｌ Ｔｅｃｈ．、 ＵＳＡ）を使用して洗浄した後に、
脱イオン水で超音波処理を行い、赤色（Ｒ）、緑色
（Ｇ）及び青色（Ｂ）のカラーフィルター層の形成され
た基板を清潔に洗浄した後、基板の表面をＵＶ及び熱処
理した。次いで、フラット表示素子用のバッチ式スパッ
タ装備を用い、まず表４の条件下でシート抵抗が７乃至
８Ω／□のＩＴＯ膜を形成した。
ーフィルターの製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ
ｌ Ｔｅｃｈ．、 ＵＳＡ）を使用して洗浄した後に、
脱イオン水で超音波処理を行い、赤色（Ｒ）、緑色
（Ｇ）及び青色（Ｂ）のカラーフィルター層の形成され
た基板を清潔に洗浄した後、基板の表面をＵＶ及び熱処
理した。次いで、フラット表示素子用のバッチ式スパッ
タ装備を用い、まず表４の条件下でシート抵抗が７乃至
８Ω／□のＩＴＯ膜を形成した。
【００８３】
【表４】
【００８４】ＶＩ.保護層と緩衝層（ＳｉＯ2 層）とを
形成したカラーフィルターの製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ
ｌ Ｔｅｃｈ．、 ＵＳＡ）を使用して赤色、緑色及び
青色のカラーフィルター層が形成された基板を洗浄した
後、脱イオン水で超音波処理を行ない、この基板の表面
をＵＶ及び熱処理した。
形成したカラーフィルターの製造 洗浄剤（ＥＴ−ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａ
ｌ Ｔｅｃｈ．、 ＵＳＡ）を使用して赤色、緑色及び
青色のカラーフィルター層が形成された基板を洗浄した
後、脱イオン水で超音波処理を行ない、この基板の表面
をＵＶ及び熱処理した。
【００８５】日本合成ゴム社（Ｊａｐａｎ Ｓｙｎｔｈ
ｅｔｉｃ Ｒｕｂｂｅｒ Ｃｏ．）のオプトマー（Ｏｐ
ｔｏｍｅｒ）ＳＳ６６００とＳＳ０６００とを混合し
た。得られた混合物をＵＶ及び熱で表面処理した基板上
にスピン塗布した。この結果物を１２０℃で仮硬化した
後に、２３０℃で１時間再硬化し、２．０μｍの厚さを
有する保護層を形成した。
ｅｔｉｃ Ｒｕｂｂｅｒ Ｃｏ．）のオプトマー（Ｏｐ
ｔｏｍｅｒ）ＳＳ６６００とＳＳ０６００とを混合し
た。得られた混合物をＵＶ及び熱で表面処理した基板上
にスピン塗布した。この結果物を１２０℃で仮硬化した
後に、２３０℃で１時間再硬化し、２．０μｍの厚さを
有する保護層を形成した。
【００８６】前記保護層の形成された基板を洗浄剤（Ｅ
Ｔ−ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ Ｔｅｃ
ｈ．、 ＵＳＡ）を使用して洗浄した後に、脱イオン水
で超音波処理を行ない、洗浄した。洗浄された基板の表
面をＵＶ及び熱処理した。
Ｔ−ｃｏｌｄ、 Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ Ｔｅｃ
ｈ．、 ＵＳＡ）を使用して洗浄した後に、脱イオン水
で超音波処理を行ない、洗浄した。洗浄された基板の表
面をＵＶ及び熱処理した。
【００８７】フラット表示素子用のバッチ式スパッタ装
備を用い、ＳｉＯ2 層を有するカラーフィルターの製造
方法と同様にＳｉＯ2 層を２００Åの厚さで形成し、Ｉ
ＴＯ膜をシート抵抗が７乃至８Ω／□で、厚さが２００
０Åとなるように形成した。
備を用い、ＳｉＯ2 層を有するカラーフィルターの製造
方法と同様にＳｉＯ2 層を２００Åの厚さで形成し、Ｉ
ＴＯ膜をシート抵抗が７乃至８Ω／□で、厚さが２００
０Åとなるように形成した。
【００８８】比較例 硝子基板上に赤色の着色フォトレジストをコーティン
グ、露光及び現像し、赤色のカラーフィルターパターン
を形成した。次いで、赤色の着色フォトレジストの代わ
りに、緑色及び青色の着色フォトレジストを使い、赤色
のカラーフィルターパターンが形成された硝子基板上に
緑色及び青色のカラーフィルターパターンをそれぞれ形
成した。
グ、露光及び現像し、赤色のカラーフィルターパターン
を形成した。次いで、赤色の着色フォトレジストの代わ
りに、緑色及び青色の着色フォトレジストを使い、赤色
のカラーフィルターパターンが形成された硝子基板上に
緑色及び青色のカラーフィルターパターンをそれぞれ形
成した。
【００８９】ここで、赤色の着色フォトレジストとして
は、フジハント（Ｆｕｊｉ−Ｈｕｎｔ）社のレッド６０
１１Ｌ、緑色の着色レジストとしてはフジハント（Ｆｕ
ｊｉ−Ｈｕｎｔ）社のグリーン６０１１Ｌ、さらに、青
色の着色レジストとしてはフジハント（Ｆｕｊｉ−Ｈｕ
ｎｔ）社のブルー６０１１Ｌをそれぞれ用いた。
は、フジハント（Ｆｕｊｉ−Ｈｕｎｔ）社のレッド６０
１１Ｌ、緑色の着色レジストとしてはフジハント（Ｆｕ
ｊｉ−Ｈｕｎｔ）社のグリーン６０１１Ｌ、さらに、青
色の着色レジストとしてはフジハント（Ｆｕｊｉ−Ｈｕ
ｎｔ）社のブルー６０１１Ｌをそれぞれ用いた。
【００９０】以上からわかるように、本発明のカラーフ
ィルター製造方法では、カラーフィルター層および／ま
たはブラックマトリックス層の形成後、硬化工程を経て
いる。反面、従来の熱転写法では熱転写時にある程度の
硬化が自動で行なわれるので、別途の硬化工程を施さな
いのが普通であった。しかしながら、本発明では、熱硬
化型材料を用い、２００乃至３００℃、特に約２５０℃
で約１時間の高温硬化工程を経ている。そのため、従来
の場合より膜硬度に優れたカラーフィルター層を得るこ
とが可能であった。
ィルター製造方法では、カラーフィルター層および／ま
たはブラックマトリックス層の形成後、硬化工程を経て
いる。反面、従来の熱転写法では熱転写時にある程度の
硬化が自動で行なわれるので、別途の硬化工程を施さな
いのが普通であった。しかしながら、本発明では、熱硬
化型材料を用い、２００乃至３００℃、特に約２５０℃
で約１時間の高温硬化工程を経ている。そのため、従来
の場合より膜硬度に優れたカラーフィルター層を得るこ
とが可能であった。
【００９１】下記の表５は、転写後硬化工程を経る前後
のカラーフィルター層の膜硬度を示すものである。この
時の膜硬度は日本工業規格（ＪＩＳ）Ｋ５４００により
測定した。
のカラーフィルター層の膜硬度を示すものである。この
時の膜硬度は日本工業規格（ＪＩＳ）Ｋ５４００により
測定した。
【００９２】
【表５】
【００９３】表５から、硬化工程を経れば、カラーフィ
ルター層の膜硬度が向上するということが確認できる。
ルター層の膜硬度が向上するということが確認できる。
【００９４】一方、前記実施例及び比較例に従って製造
されたカラーフィルター層の密着性、耐薬品性、耐熱
性、耐光性及び色座標特性を後述の如く測定し、その測
定結果を比較かつ分析した。ここで、各データ値はいず
れも３回以上測定した上で各平均値を取ったものであ
る。
されたカラーフィルター層の密着性、耐薬品性、耐熱
性、耐光性及び色座標特性を後述の如く測定し、その測
定結果を比較かつ分析した。ここで、各データ値はいず
れも３回以上測定した上で各平均値を取ったものであ
る。
【００９５】第一、赤色、緑色及び青色のカラーフィル
ター層（層厚：約１．２μｍ）の密着性は米国工業規格
（ＡＳＴＭ）Ｄ３３５９−９３、Ｘ−カットテープテス
ト（Ｘ−ｃｕｔ ｔａｐｅ ｔｅｓｔ）法により測定
し、その結果は下記の表６に示す通りである。
ター層（層厚：約１．２μｍ）の密着性は米国工業規格
（ＡＳＴＭ）Ｄ３３５９−９３、Ｘ−カットテープテス
ト（Ｘ−ｃｕｔ ｔａｐｅ ｔｅｓｔ）法により測定
し、その結果は下記の表６に示す通りである。
【００９６】
【表６】
【００９７】第二、赤色、緑色及び青色のカラーフィル
ター層（層厚：約１．２μｍ）の耐薬品性は、各カラー
フィルター層を化学溶媒（５％ ＮａＯＨ、１０％ Ｈ
Ｃｌ、γ−ブチロラクトン（γ−ｂｕｔｙｒｏｌａｃｔ
ｏｎｅ）、Ｎ−メチルピロリドン（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ
ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ：ＮＭＰ）及びイソプロピルア
ルコール（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ： Ｉ
ＰＡ）に２５℃で約１０分間浸してから取り出し、各カ
ラーフィルター層の色変化を観察することにより測定し
た。測定の結果は表７に示す通りである。ここで、△Ｅ
abが３以下であれば、耐薬品性に優れているということ
を示す。
ター層（層厚：約１．２μｍ）の耐薬品性は、各カラー
フィルター層を化学溶媒（５％ ＮａＯＨ、１０％ Ｈ
Ｃｌ、γ−ブチロラクトン（γ−ｂｕｔｙｒｏｌａｃｔ
ｏｎｅ）、Ｎ−メチルピロリドン（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ
ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ：ＮＭＰ）及びイソプロピルア
ルコール（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ： Ｉ
ＰＡ）に２５℃で約１０分間浸してから取り出し、各カ
ラーフィルター層の色変化を観察することにより測定し
た。測定の結果は表７に示す通りである。ここで、△Ｅ
abが３以下であれば、耐薬品性に優れているということ
を示す。
【００９８】
【表７】
【００９９】第三、赤色、緑色及び青色のカラーフィル
ター層（層厚：約１．２μｍ）の耐熱性を測定するた
め、窒素雰囲気で、かつ約２５０℃に調節されたオーブ
ン中にカラーフィルター層を１時間放置してから取り出
し、各カラーフィルター層の色変化を観察することによ
り測定した。測定の結果は表８に示す通りである。
ター層（層厚：約１．２μｍ）の耐熱性を測定するた
め、窒素雰囲気で、かつ約２５０℃に調節されたオーブ
ン中にカラーフィルター層を１時間放置してから取り出
し、各カラーフィルター層の色変化を観察することによ
り測定した。測定の結果は表８に示す通りである。
【０１００】
【表８】
【０１０１】第四、赤色、緑色及び青色のカラーフィル
ター層（層厚：約１．２μｍ）の耐光性を測定し、表９
に示す。ここで、耐光性の測定条件は以下の通りであ
る。
ター層（層厚：約１．２μｍ）の耐光性を測定し、表９
に示す。ここで、耐光性の測定条件は以下の通りであ
る。
【０１０２】 設備：ウェザロメーター（Ｗｅａｔｈｅｒ−Ｏｍｅｔｅ
ｒ Ｃｉ６５／ＸＷ） 温度：５３〜８８℃ 湿度：２０〜７０％ＲＨ ランプ：キセノンサンシャインカーボン（Ｘｅｎｏｎ
Ｓｕｎｓｈｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ） 時間：２５０時間
ｒ Ｃｉ６５／ＸＷ） 温度：５３〜８８℃ 湿度：２０〜７０％ＲＨ ランプ：キセノンサンシャインカーボン（Ｘｅｎｏｎ
Ｓｕｎｓｈｉｎｅ Ｃａｒｂｏｎ） 時間：２５０時間
【０１０３】
【表９】
【０１０４】第五、オリンパス分光光度計（Ｏｌｙｍｐ
ｕｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）を用いて
カラーフィルター層（層厚：約１．２μｍ）の色座標特
性を測定し、下記の表１０に示す。ここで、基準サンプ
ルはコーニング社の１７３７ベアガラス（ｂａｒｅ ｇ
ｌａｓｓ）である。
ｕｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）を用いて
カラーフィルター層（層厚：約１．２μｍ）の色座標特
性を測定し、下記の表１０に示す。ここで、基準サンプ
ルはコーニング社の１７３７ベアガラス（ｂａｒｅ ｇ
ｌａｓｓ）である。
【０１０５】
【表１０】
【０１０６】表６〜１０からわかるように、実施例に伴
うカラーフィルター層の密着性、耐薬品性、耐熱性、耐
光性及び色座標特性は比較例の場合と同じく、あるいは
それ以上に優れていた。
うカラーフィルター層の密着性、耐薬品性、耐熱性、耐
光性及び色座標特性は比較例の場合と同じく、あるいは
それ以上に優れていた。
【０１０７】さらに、実施例のカラーフィルターの製造
方法は、比較例の製造方法に比べて、製造工程ラインが
短く、しかも簡単であるため、製造が極めて容易であっ
た。
方法は、比較例の製造方法に比べて、製造工程ラインが
短く、しかも簡単であるため、製造が極めて容易であっ
た。
【０１０８】
【発明の効果】本発明によれば、高温硬化工程を施し、
緩衝層としてＳｉＯ2 層を形成することにより、膜硬度
に優れたカラーフィルター層が形成されうる。そのた
め、配向工程及び洗浄工程時に各層間の密着性の不足に
よって界面が剥離される現象を抑えることが可能とな
る。
緩衝層としてＳｉＯ2 層を形成することにより、膜硬度
に優れたカラーフィルター層が形成されうる。そのた
め、配向工程及び洗浄工程時に各層間の密着性の不足に
よって界面が剥離される現象を抑えることが可能とな
る。
【０１０９】更に、本発明の製造方法に従って製造され
たカラーフィルターは、その諸特性に優れているので保
護層が不要である。
たカラーフィルターは、その諸特性に優れているので保
護層が不要である。
【図１】普通のカラーフィルター構造を示す図面であ
る。
る。
【図２】従来技術の顔料分散法によるカラーフィルター
の製造工程を示す図面である。
の製造工程を示す図面である。
【図３】（Ａ）〜（Ｆ）は本発明に係るカラーフィルタ
ーの製造工程の一例を示す図面である。
ーの製造工程の一例を示す図面である。
【図４】（Ａ）〜（Ｈ）は本発明に係るカラーフィルタ
ーの製造工程の一例を示す図面である。
ーの製造工程の一例を示す図面である。
【図５】（Ａ）〜（Ｅ）は本発明に係るカラーフィルタ
ーの製造工程の一例を示す図面である。
ーの製造工程の一例を示す図面である。
【図６】（Ａ）〜（Ｇ）は本発明に係るカラーフィルタ
ーの製造工程の一例を示す図面である。
ーの製造工程の一例を示す図面である。
【図７】転写フィルムの構造を示す図面である。
【図８】本発明の転写装置を概略に示す図面である。
３１、４１、５１、６１…基板 ３２ａ、４２ａ、５２ｃ，５３、６３…ブラックマトリ
ックス層 ３２ｂ，４２ｂ…ブラックマトリックスパターン ５２、６２…ブラックマトリックス層用転写フィルム ３３、４３、５４…カラーフィルター層用転写フィルム ３４、４４、５５、６５…カラーフィルター層 ３５、４５、５６、６６…保護層 ３６、４６、５７、６７…透明電極層 ７１…基材フィルム ７２…光吸収層 ７３…転写層 ８１…光源 ８２…モジュレータ ８３…第１のレンズアレイ ８４…スキャニングミラー ８５…第２のレンズアレイ ８６…転写フィルム ８７…基板 ８８…ステージ ８９…コンピュータ ９０…スキャンニングミラー制御器
ックス層 ３２ｂ，４２ｂ…ブラックマトリックスパターン ５２、６２…ブラックマトリックス層用転写フィルム ３３、４３、５４…カラーフィルター層用転写フィルム ３４、４４、５５、６５…カラーフィルター層 ３５、４５、５６、６６…保護層 ３６、４６、５７、６７…透明電極層 ７１…基材フィルム ７２…光吸収層 ７３…転写層 ８１…光源 ８２…モジュレータ ８３…第１のレンズアレイ ８４…スキャニングミラー ８５…第２のレンズアレイ ８６…転写フィルム ８７…基板 ８８…ステージ ８９…コンピュータ ９０…スキャンニングミラー制御器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 朴 柱 相 大韓民国京畿道水原市長安區迎華洞417− ４番地 (72)発明者 金 利 坤 大韓民国京畿道水原市長安區亭子１洞395 −３番地 東信アパート 201棟604號
Claims (36)
- 【請求項１】 （ａ−１）基板上にブラックマトリック
ス用物質をコーティングした後、フォトリソグラフィ工
程によってブラックマトリックスパターンを形成する段
階と、 （ｂ−１）前記基板上に配置された、熱転写性の第１カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第１のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｃ−１）前記基板上に配置された、熱転写性の第２カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第２のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｄ−１）前記基板上に配置された、熱転写性の第３カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第３のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｅ−１）前記第１、第２及び第３のカラーフィルター
層が形成された基板を２００〜３００℃で硬化する段階
と、および （ｆ−１）前記（ｅ−１）段階で硬化された前記カラー
フィルター層を有する基板上に透明電極層を形成する段
階とを含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方
法。 - 【請求項２】 前記ブラックマトリックス用物質がクロ
ムまたはクロム酸化物であることを特徴とする請求項１
に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３】前記ブラックマトリックス用物質が黒鉛、
あるいは感光性樹脂に黒色の顔料を分散してなる有機物
であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィル
ターの製造方法。 - 【請求項４】 前記（ｂ−１）段階前に、前記ブラック
マトリックス形成用物質からなるブラックマトリックス
パターンが形成された基板を１００〜３００℃で硬化す
る段階を更に含むことを特徴とする請求項３に記載のカ
ラーフィルターの製造方法。 - 【請求項５】 前記（ｅ−１）段階で、前記ブラックマ
トリックス形成用物質からなるブラックマトリックスパ
ターンを硬化することを特徴とする請求項３に記載のカ
ラーフィルターの製造方法。 - 【請求項６】 前記透明電極層の厚さが８００〜４００
０Åで、シート抵抗が２〜１００Ω／□であることを特
徴とする請求項１に記載のカラーフィルターの製造方
法。 - 【請求項７】 前記（ｆ−１）段階前に、保護層を形成
する段階を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の
カラーフィルターの製造方法。 - 【請求項８】 前記（ｆ−１）段階前に、緩衝層を形成
する段階を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の
カラーフィルターの製造方法。 - 【請求項９】 前記緩衝層を形成する段階前に、保護層
を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項８に
記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項１０】 前記ブラックマトリックス層、第１、
第２及び第３のカラーフィルター層形成の前後に、紫外
線および／またはオゾンを照射するか、あるいは界面活
性剤を使って基板を表面処理することを特徴とする請求
項１に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項１１】 （ａ−２）基板上にブラックマトリッ
クス用物質をコーティングした後に、フォトリソグラフ
ィ工程を通じてブラックマトリックスパターンを形成す
る段階と、 （ｂ−２） 前記基板上に配置された、熱転写性の第１
カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前
記基板上に第１のカラーフィルター層を形成する段階
と、 （ｃ−２） 第１のカラーフィルター層が形成された基
板を２００〜３００℃で硬化する段階と、 （ｄ−２） 前記基板上に配置された、熱転写性の第２
カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前
記基板上に第２のカラーフィルター層を形成する段階
と、 （ｅ−２） 前記第２のカラーフィルター層が形成され
た基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、 （ｆ−２） 前記基板上に配置された、熱転写性の第３
カラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前
記基板上に第３のカラーフィルター層を形成する段階
と、 （ｇ−２） 前記第３のカラーフィルター層が形成され
た基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、および （ｈ−２） 前記（ｇ−２）段階で硬化された前記第３
のカラーフィルター層を有する基板上に透明電極層を形
成する段階とを含むことを特徴とするカラーフィルター
の製造方法。 - 【請求項１２】 前記ブラックマトリックス用物質がク
ロムまたはクロム酸化物であることを特徴とする請求項
１１に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項１３】 前記ブラックマトリックス用物質が黒
鉛または感光性樹脂に黒色顔料を分散してなる有機物で
あることを特徴とする請求項１１に記載のカラーフィル
ターの製造方法。 - 【請求項１４】 前記（ｂ−２）段階前に、前記ブラッ
クマトリックス形成用物質からなるブラックマトリック
スパターンが形成された基板を１００〜３００℃で硬化
する段階を更に含むことを特徴とする請求項１３に記載
のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項１５】 前記（ｃ−２）段階で、前記ブラック
マトリックス形成用物質からなるブラックマトリックス
パターンを硬化することを特徴とする請求項１３に記載
のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項１６】 前記透明電極層の厚さが８００〜４０
００Åで、シート抵抗が２〜１００Ω／□であることを
特徴とする請求項１１に記載のカラーフィルターの製造
方法。 - 【請求項１７】 （ｈ−２）段階前に、保護層を形成す
る段階を更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の
カラーフィルターの製造方法。 - 【請求項１８】 前記（ｈ−２）段階前に、緩衝層を形
成する段階を更に含むことを特徴とする請求項１１に記
載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項１９】 前記緩衝層を形成する段階前に、保護
層を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項１
８に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２０】 ブラックマトリックス層、第１、第２
及び第３カラーフィルター層形成の前後に、紫外線およ
び／またはオゾンを照射するか、あるいは界面活性剤を
使って基板を表面処理することを特徴とする請求項１１
に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２１】 （ａ−３）基板と密着しており、熱転
写性ブラックマトリックス層を含む転写フィルムに光源
を照射し、前記基板上にブラックマトリックスパターン
を形成する段階と、 （ｂ−３）前記基板上に配置された、熱転写性の第１カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第１のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｃ−３）前記基板上に配置された、熱転写性の第２カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第２のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｄ−３）前記基板上に配置された、熱転写性の第３カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第３のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｅ−３）前記第１、第２及び第３カラーフィルター層
が形成された基板を２００〜３００℃で硬化する段階
と、および （ｆ−３） 前記（ｅ−３）段階で硬化された前記第
１、第２及び第３カラーフィルター層を有する基板上に
透明電極層を形成する段階とを含むことを特徴とするカ
ラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２２】 前記（ｂ−３）段階前に、ブラックマ
トリックスパターンが形成された基板を２００〜３００
℃で硬化する段階を更に含むことを特徴とする請求項２
１に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２３】 前記（ｅ−３）段階で、ブラックマト
リックスパターンを硬化することを特徴とする請求項２
１に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２４】 前記透明電極層の厚さが８００〜４０
００Åで、シート抵抗が２〜１００Ω／□であることを
特徴とする請求項２１に記載のカラーフィルターの製造
方法。 - 【請求項２５】 前記（ｆ−３）段階前に、保護層を形
成する段階を更に含むことを特徴とする請求項２１に記
載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２６】 前記（ｆ−３）段階前に、緩衝層を形
成する段階を更に含むことを特徴とする請求項２１に記
載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２７】 前記緩衝層を形成する段階前に、保護
層を形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項２
６に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２８】 前記ブラックマトリックス層、第１、
第２及び第３カラーフィルター層形成の前後に、紫外線
および／またはオゾンを照射するか、あるいは界面活性
剤を使って基板を表面処理することを特徴とする請求項
２１に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項２９】 （ａ−４）基板と密着しており、熱転
写性ブラックマトリックス層を含む転写フィルムに光源
を照射し、前記基板上にブラックマトリックスパターン
を形成する段階と、 （ｂ−４）前記基板上に配置された、熱転写性の第１カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第１のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｃ−４）前記第１のカラーフィルター層が形成された
基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、 （ｄ−４）前記基板上に配置された、熱転写性の第２カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第２のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｅ−４）前記第２のカラーフィルター層が形成された
基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、 （ｆ−４）前記基板上に配置された、熱転写性の第３カ
ラー層を含んでいる転写フィルムに光源を照射し、前記
基板上に第３のカラーフィルター層を形成する段階と、 （ｇ−４）前記第３のカラーフィルター層が形成された
基板を２００〜３００℃で硬化する段階と、および （ｈ−４）前記（ｇ−４）段階で硬化された前記第３の
カラーフィルター層を有する基板上に透明電極層を形成
する段階とを含むことを特徴とするカラーフィルターの
製造方法。 - 【請求項３０】 前記（ｂ−４）段階前に、ブラックマ
トリックスパターンが形成された基板を２００〜３００
℃で硬化する段階を更に含むことを特徴とする請求項２
９に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３１】 前記（ｃ−４）段階で、ブラックマト
リックスパターンを硬化することを特徴とする請求項２
９に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３２】 前記透明電極層の厚さが８００〜４０
００Åで、シート抵抗が２〜１００Ω／□であることを
特徴とする請求項２９に記載のカラーフィルターの製造
方法。 - 【請求項３３】 前記（ｈ−４）段階前に、保護層を形
成する段階を更に含むことを特徴とする請求項２９に記
載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３４】 前記（ｈ−４）段階前に、緩衝層を形
成する段階を更に含むことを特徴とする請求項２９に記
載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３５】 前記緩衝層を形成する段階前に、保護
層を順次形成する段階を更に含むことを特徴とする請求
項３４に記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３６】 ブラックマトリックス層、第１、第２
及び第３カラーフィルター層形成の前後に、紫外線およ
び／またはオゾンを照射するか、あるいは界面活性剤を
使って基板を表面処理することを特徴とする請求項３１
に記載のカラーフィルターの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970020394A KR100247819B1 (ko) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | 칼라필터의제조방법 |
| KR97P20394 | 1997-05-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10332930A true JPH10332930A (ja) | 1998-12-18 |
Family
ID=19506937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6015098A Pending JPH10332930A (ja) | 1997-05-23 | 1998-03-11 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10332930A (ja) |
| KR (1) | KR100247819B1 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6221543B1 (en) | 1999-05-14 | 2001-04-24 | 3M Innovatives Properties | Process for making active substrates for color displays |
| WO2001030585A1 (en) * | 1999-10-29 | 2001-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Donor sheet and color filter, and organic el device and method for producing them |
| US6228543B1 (en) | 1999-09-09 | 2001-05-08 | 3M Innovative Properties Company | Thermal transfer with a plasticizer-containing transfer layer |
| WO2003050575A1 (en) * | 2001-12-11 | 2003-06-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color filter, color filter formation material, color filter formation method, circuit board having color filter, formation method thereof, and liquid crystal element |
| CN1301419C (zh) * | 2004-03-22 | 2007-02-21 | 昂纳信息技术（深圳）有限公司 | 多激光光束复合装置 |
| CN100365446C (zh) * | 2002-11-06 | 2008-01-30 | 普立尔科技股份有限公司 | 彩色分色片的制作方法 |
| JP2008276255A (ja) * | 2008-07-14 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | カラーフィルターの形成方法及びそれに用いるカラーフィルター形成材料並びにカラーフィルター |
| JP2008304927A (ja) * | 2008-07-14 | 2008-12-18 | Fujifilm Corp | カラーフィルター形成材料及びそれを用いたカラーフィルターの形成方法並びにカラーフィルター |
| US7875308B2 (en) | 2002-06-28 | 2011-01-25 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Organic electroluminescent device using a mixture of high and low molecular light-emitting substances as a light-emitting substance |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100595294B1 (ko) * | 1999-12-14 | 2006-07-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 횡전계방식 액정표시장치용 칼라필터 기판의 제조방법 |
| KR100342653B1 (ko) | 2000-08-24 | 2002-07-03 | 김순택 | 유기 전계발광소자의 제조 방법 |
| US7588795B2 (en) * | 2000-08-24 | 2009-09-15 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Manufacturing method of OLED display and apparatus for manufacturing the OLED display |
| KR20040050770A (ko) | 2002-12-09 | 2004-06-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 컬러필터 기판 제조 방법 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH041725A (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JPH0477717A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-11 | Toshiba Corp | カラー液晶表示素子 |
-
1997
- 1997-05-23 KR KR1019970020394A patent/KR100247819B1/ko not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-03-11 JP JP6015098A patent/JPH10332930A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6221543B1 (en) | 1999-05-14 | 2001-04-24 | 3M Innovatives Properties | Process for making active substrates for color displays |
| US6228543B1 (en) | 1999-09-09 | 2001-05-08 | 3M Innovative Properties Company | Thermal transfer with a plasticizer-containing transfer layer |
| WO2001030585A1 (en) * | 1999-10-29 | 2001-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Donor sheet and color filter, and organic el device and method for producing them |
| US7704650B2 (en) | 1999-10-29 | 2010-04-27 | 3M Innovative Properties Company | Donor sheet, color filter, organic EL element and method for producing them |
| US7713676B2 (en) | 1999-10-29 | 2010-05-11 | Seiko Epson Corporation | Donor sheet, color filter, organic EL element and method for producing them |
| WO2003050575A1 (en) * | 2001-12-11 | 2003-06-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color filter, color filter formation material, color filter formation method, circuit board having color filter, formation method thereof, and liquid crystal element |
| CN100416307C (zh) * | 2001-12-11 | 2008-09-03 | 富士胶片株式会社 | 滤色片的形成方法 |
| US7875308B2 (en) | 2002-06-28 | 2011-01-25 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Organic electroluminescent device using a mixture of high and low molecular light-emitting substances as a light-emitting substance |
| CN100365446C (zh) * | 2002-11-06 | 2008-01-30 | 普立尔科技股份有限公司 | 彩色分色片的制作方法 |
| CN1301419C (zh) * | 2004-03-22 | 2007-02-21 | 昂纳信息技术（深圳）有限公司 | 多激光光束复合装置 |
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