JPH10339668A - 光波長計及び光波長調整装置 - Google Patents
光波長計及び光波長調整装置Info
- Publication number
- JPH10339668A JPH10339668A JP10108279A JP10827998A JPH10339668A JP H10339668 A JPH10339668 A JP H10339668A JP 10108279 A JP10108279 A JP 10108279A JP 10827998 A JP10827998 A JP 10827998A JP H10339668 A JPH10339668 A JP H10339668A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- light
- optical
- light source
- optical power
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 157
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract description 28
- 230000001934 delay Effects 0.000 abstract description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 3
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 30
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J9/0246—Measuring optical wavelength
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】実施時に精度の高い、安価な光波長計と、レー
ザ光源の光信号波長を自動調整する安価な光波長調整装
置を提供する。 【解決手段】入射光ビームの光波長に依存した光学パワ
ーを発生する光学部品(エタロンや複屈折部品)を備
え、該部品の較正データを準備しておく。次に被測定光
ビーム全体またはその一部を該部品に入射させて光学パ
ワーを測定し、較正データから被測定光ビームの波長を
決定する。また、被測定光ビームをレーザ光源等の光源
の出力とし、該決定された波長を所定波長と比較して偏
差を帰還して光源の波長制御をおこなう。
ザ光源の光信号波長を自動調整する安価な光波長調整装
置を提供する。 【解決手段】入射光ビームの光波長に依存した光学パワ
ーを発生する光学部品(エタロンや複屈折部品)を備
え、該部品の較正データを準備しておく。次に被測定光
ビーム全体またはその一部を該部品に入射させて光学パ
ワーを測定し、較正データから被測定光ビームの波長を
決定する。また、被測定光ビームをレーザ光源等の光源
の出力とし、該決定された波長を所定波長と比較して偏
差を帰還して光源の波長制御をおこなう。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信ネットワー
クの分野における装置に関するものであり、とりわけ、
レーザ光源の信号波長を調整するための装置に関するも
のである。
クの分野における装置に関するものであり、とりわけ、
レーザ光源の信号波長を調整するための装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】光通信ネットワークにおける情報の伝送
は、光源(送信器)、光ファイバ、及び、受光器を基本
要素に用いて行われる。光通信に用いられる典型的な波
長は、850〜1650nmの範囲にあり、とりわけ、
850nm、1330nm、及び、1550nmの範囲
の波長のレーザ・ダイオードが光源として利用される。
は、光源(送信器)、光ファイバ、及び、受光器を基本
要素に用いて行われる。光通信に用いられる典型的な波
長は、850〜1650nmの範囲にあり、とりわけ、
850nm、1330nm、及び、1550nmの範囲
の波長のレーザ・ダイオードが光源として利用される。
【0003】波長分割多重化(WDM)光通信システム
の場合、情報の伝送は、それぞれ、波長(光通信チャネ
ル)の異なるコヒーレント光を発生する1組のレーザ光
源を同時に用いて行われる。光電子送信器及び受信器の
帯域幅は制限されているので、多数の通信チャネルを利
用して伝送能力を増すには、狭いチャネル間隔(一般に
1.6nm)が必要とされる。すなわち、WDMシステ
ムの場合、狭いチャネル間隔でチャネル干渉を回避する
には、各レーザ光源の波長を極めて正確に調整すること
が必要になる。
の場合、情報の伝送は、それぞれ、波長(光通信チャネ
ル)の異なるコヒーレント光を発生する1組のレーザ光
源を同時に用いて行われる。光電子送信器及び受信器の
帯域幅は制限されているので、多数の通信チャネルを利
用して伝送能力を増すには、狭いチャネル間隔(一般に
1.6nm)が必要とされる。すなわち、WDMシステ
ムの場合、狭いチャネル間隔でチャネル干渉を回避する
には、各レーザ光源の波長を極めて正確に調整すること
が必要になる。
【0004】レーザ光源の信号波長を調整するため、周
知のように、十分に調整された、複雑な機械装置からな
る、高価で、測定確度の高い光波長計が利用される。レ
ーザ光源の信号波長は、測定されて、PCなどのコント
ローラによって所望の値と比較され、自動的に所望の波
長に調整される。
知のように、十分に調整された、複雑な機械装置からな
る、高価で、測定確度の高い光波長計が利用される。レ
ーザ光源の信号波長は、測定されて、PCなどのコント
ローラによって所望の値と比較され、自動的に所望の波
長に調整される。
【0005】WO95/02171号明細書には、従来
の計器に用いられていたマイケルソン干渉計を必要とし
ない、複屈折光学部品を含むフーリエ変換分光計が開示
されている。ウォラストン・プリズムなどの適合する複
屈折素子を利用して、2つの偏光間に光路差が導入され
る。複屈折部品の全領域が同時に照射されるように拡大
光源を利用することで、複屈折部品の異なる位置が、2
つの偏光間における異なる光路差に対応するという保証
が得られる。検出器において結果得られるインターフェ
ログラムにフーリエ変換を施すことによって、入力光の
スペクトル分布が得られる。拡大光源を用いることによ
って、可動部のないフーリエ変換分光計を実現すること
が可能になる。
の計器に用いられていたマイケルソン干渉計を必要とし
ない、複屈折光学部品を含むフーリエ変換分光計が開示
されている。ウォラストン・プリズムなどの適合する複
屈折素子を利用して、2つの偏光間に光路差が導入され
る。複屈折部品の全領域が同時に照射されるように拡大
光源を利用することで、複屈折部品の異なる位置が、2
つの偏光間における異なる光路差に対応するという保証
が得られる。検出器において結果得られるインターフェ
ログラムにフーリエ変換を施すことによって、入力光の
スペクトル分布が得られる。拡大光源を用いることによ
って、可動部のないフーリエ変換分光計を実現すること
が可能になる。
【0006】OPTICS COMMUNICATIO
NS,Vol.14,No.4,Amsterdam
NL,pages 438−441,XP002041
763におけるP.Juncar他による「レーザの周
波数校正と制御とをおこなうための新しい方法(A n
ew method for frequencyca
libration and control of
a laser)」には、単一モード同調可能レーザに
よって放出される単色光の波数の高精度な測定方法が開
示されている。開示の装置は、波数の直接測定を可能に
し、レーザ周波数の安定化及び誘導のための基準として
機能する。
NS,Vol.14,No.4,Amsterdam
NL,pages 438−441,XP002041
763におけるP.Juncar他による「レーザの周
波数校正と制御とをおこなうための新しい方法(A n
ew method for frequencyca
libration and control of
a laser)」には、単一モード同調可能レーザに
よって放出される単色光の波数の高精度な測定方法が開
示されている。開示の装置は、波数の直接測定を可能に
し、レーザ周波数の安定化及び誘導のための基準として
機能する。
【0007】WO95/20144号明細書には、その
全幅にわたって光波長の異なる共振を示すウェッジ形状
のファブリ・ペロー・エタロンと、エタロンに生じる共
振ピークの空間配置を検出して、プロセッサに記憶され
たピーク・パターンと比較し、光ファイバからの入射光
のスペクトル内容を判定する検出器アレイから構成され
る光波長センサが開示されている。
全幅にわたって光波長の異なる共振を示すウェッジ形状
のファブリ・ペロー・エタロンと、エタロンに生じる共
振ピークの空間配置を検出して、プロセッサに記憶され
たピーク・パターンと比較し、光ファイバからの入射光
のスペクトル内容を判定する検出器アレイから構成され
る光波長センサが開示されている。
【0008】WO95/10759号明細書には、放射
ビームの波長の正確な測定を可能にするスペクトル波長
弁別システム及び方法が開示されている。該システム
は、受信した放射を集めて、方向付けを行うための光学
系と、各波長のビームの所定の部分を2つの出力ビーム
のそれぞれに振り当てるための、「線形波長フィルタ」
と呼ばれる波長選択性ビーム・スプリッタと、各出力ビ
ームを受信して、各出力ビームの強度を検知するための
検出器と、受信した放射の波長を求めるためのコンピュ
ータから構成される。出力ビームの強度測定値、及び、
ビーム・スプリッタのスペクトル特性及び検出器の感度
特性を含む選択されたシステム・パラメータを用い、特
殊アルゴリズムによってフーリエ解析に基いた波長分散
解析を実施する。フーリエ解析に基く特殊解は、放射ビ
ームの波長である。
ビームの波長の正確な測定を可能にするスペクトル波長
弁別システム及び方法が開示されている。該システム
は、受信した放射を集めて、方向付けを行うための光学
系と、各波長のビームの所定の部分を2つの出力ビーム
のそれぞれに振り当てるための、「線形波長フィルタ」
と呼ばれる波長選択性ビーム・スプリッタと、各出力ビ
ームを受信して、各出力ビームの強度を検知するための
検出器と、受信した放射の波長を求めるためのコンピュ
ータから構成される。出力ビームの強度測定値、及び、
ビーム・スプリッタのスペクトル特性及び検出器の感度
特性を含む選択されたシステム・パラメータを用い、特
殊アルゴリズムによってフーリエ解析に基いた波長分散
解析を実施する。フーリエ解析に基く特殊解は、放射ビ
ームの波長である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、実施
時に遭遇する条件下における有害な影響にあまり左右さ
れない、安価な光波長計を提供することにある。
時に遭遇する条件下における有害な影響にあまり左右さ
れない、安価な光波長計を提供することにある。
【0010】本発明のもう1つの目的は、レーザ光源の
光信号の波長を自動調整するための安価な装置を提供す
ることにある。
光信号の波長を自動調整するための安価な装置を提供す
ることにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明による第1の光ビ
ームの波長を測定するための光波長計は、請求項1に記
載の特徴から構成される。
ームの波長を測定するための光波長計は、請求項1に記
載の特徴から構成される。
【0012】光源の光学パワーは、フォトダイオードな
どの光検出器を用いて正確かつ安価に測定することが可
能である。本発明の核心は、測定される光ビーム全体ま
たはその一部が、光学部品を照射すると、該部品によっ
て、測定される入射ビームの波長に基づく光学パワーを
備えた光ビームが発生する、光波長計の提案にある。本
発明による光波長計の較正が済むと、光学部品によって
発生したビームの光学パワーが、光検出器によって測定
され、光学パワーの測定値が、光波長計の較正データの
パワー値と比較され、光学パワーの測定値に対応する較
正データの波長が求められる。従って、光学パワーを測
定することによって、レーザ光源などの光源の信号波長
の安価でかつ正確な測定を実施することができる。
どの光検出器を用いて正確かつ安価に測定することが可
能である。本発明の核心は、測定される光ビーム全体ま
たはその一部が、光学部品を照射すると、該部品によっ
て、測定される入射ビームの波長に基づく光学パワーを
備えた光ビームが発生する、光波長計の提案にある。本
発明による光波長計の較正が済むと、光学部品によって
発生したビームの光学パワーが、光検出器によって測定
され、光学パワーの測定値が、光波長計の較正データの
パワー値と比較され、光学パワーの測定値に対応する較
正データの波長が求められる。従って、光学パワーを測
定することによって、レーザ光源などの光源の信号波長
の安価でかつ正確な測定を実施することができる。
【0013】本発明の第1の実施例によれば、第1及び
/または第2の光学部品はエタロンである。エタロン
は、反射表面を備えた、ガラスまたは石英ガラスの平行
な平面板である。エタロンは、測定される光ビーム内ま
たはこのビームの一部内に配置され、エタロンは、その
光学パワーが測定される光ビームの波長によって決まる
光信号を発生する。較正が済むと、光学パワーは、光検
出器を用いて測定することが可能であり、測定された光
学パワーに対応する波長が求められる。
/または第2の光学部品はエタロンである。エタロン
は、反射表面を備えた、ガラスまたは石英ガラスの平行
な平面板である。エタロンは、測定される光ビーム内ま
たはこのビームの一部内に配置され、エタロンは、その
光学パワーが測定される光ビームの波長によって決まる
光信号を発生する。較正が済むと、光学パワーは、光検
出器を用いて測定することが可能であり、測定された光
学パワーに対応する波長が求められる。
【0014】エタロンが発生する光学パワーは波長に依
存し、入射光ビームの波長が増すにつれて振動する。一
般に、エタロンの発生する光学パワー対波長の依存関係
は、三角関数を利用して、すなわち、正弦曲線または余
弦曲線によって記述することができる。この依存関係
は、反射率の高い表面を備えたエタロンを用いることに
よって強められる。
存し、入射光ビームの波長が増すにつれて振動する。一
般に、エタロンの発生する光学パワー対波長の依存関係
は、三角関数を利用して、すなわち、正弦曲線または余
弦曲線によって記述することができる。この依存関係
は、反射率の高い表面を備えたエタロンを用いることに
よって強められる。
【0015】光学パワー対波長の依存関係の数学的記述
が、既知か、確定されていると、エタロンまたは複屈折
光学部品を用いた特定の光波長計の較正では少数の較正
データまたは較正曲線上の少数の点を決定すればよく、
較正に費やす労力は大幅に軽減できる。後で、これらの
較正データまたは較正曲線における少数の点を利用し、
周知の数学的補間技法を用いて、特定の光波長計に関し
て、その他の較正データまたは較正曲線の点が求められ
る。特に、光波長計のエタロン及び他の光学部品装置に
寸法公差があるために較正が必要とされる。
が、既知か、確定されていると、エタロンまたは複屈折
光学部品を用いた特定の光波長計の較正では少数の較正
データまたは較正曲線上の少数の点を決定すればよく、
較正に費やす労力は大幅に軽減できる。後で、これらの
較正データまたは較正曲線における少数の点を利用し、
周知の数学的補間技法を用いて、特定の光波長計に関し
て、その他の較正データまたは較正曲線の点が求められ
る。特に、光波長計のエタロン及び他の光学部品装置に
寸法公差があるために較正が必要とされる。
【0016】提案されている光学部品によれば、1つ以
上のエタロンまたは単一複屈折光学部品によって、極め
て寸法の小さい、精密な光波長計を製作することが可能
になるので、本発明による光波長計は、動作条件下にお
いて、ペルチエ素子または任意の他の冷却装置を用い
て、いつも所定の温度に保つことが可能である。このた
め、再現性よく波長測定が可能になる。較正データは、
この所定の温度に対して決定されるのが望ましい。
上のエタロンまたは単一複屈折光学部品によって、極め
て寸法の小さい、精密な光波長計を製作することが可能
になるので、本発明による光波長計は、動作条件下にお
いて、ペルチエ素子または任意の他の冷却装置を用い
て、いつも所定の温度に保つことが可能である。このた
め、再現性よく波長測定が可能になる。較正データは、
この所定の温度に対して決定されるのが望ましい。
【0017】さらに、本発明による光波長計は、光波長
計の動作中に移動する部品を含んでいない。動く部品を
含む既知の光波長計と比較すると、光波長計の動作中の
このましくない機械的影響が、波長測定に大きく影響す
ることはない。
計の動作中に移動する部品を含んでいない。動く部品を
含む既知の光波長計と比較すると、光波長計の動作中の
このましくない機械的影響が、波長測定に大きく影響す
ることはない。
【0018】本発明の第2の実施例の場合、データ・プ
ロセッサを用いて、検出された光学パワー値と較正デー
タまたは較正曲線のパワー・データが比較され、データ
・プロセッサによって、オペレータに表示するか、また
は、光源の光信号の波長を制御するために利用可能な、
あるいは、その両方が可能な、対応する波長が割り当て
られる。本発明による光波長計は、大きさが極めて小さ
いので、光源に組み込んでその波長の制御及び/または
安定化のために用いることが可能である。
ロセッサを用いて、検出された光学パワー値と較正デー
タまたは較正曲線のパワー・データが比較され、データ
・プロセッサによって、オペレータに表示するか、また
は、光源の光信号の波長を制御するために利用可能な、
あるいは、その両方が可能な、対応する波長が割り当て
られる。本発明による光波長計は、大きさが極めて小さ
いので、光源に組み込んでその波長の制御及び/または
安定化のために用いることが可能である。
【0019】本発明による光波長計の第3の望ましい実
施例は、エタロンを照射するビームまたはその一部の光
学パワーを検出する光検出器を含んでいる。対応する波
長の測定に直接エタロンによって発生する検出パワーを
利用する代わりに、エタロンによって発生する検出パワ
ーと、エタロンを照射するビームまたはその一部の光学
パワーとの比が用いられる。本発明によるこの正規化に
よって、光源によって発生する光学パワーの変動が波長
の測定精度に影響を及ぼすのを回避することができ、較
正データまたは曲線の値に対するエタロンによって発生
する検出光学パワーの正しい割り当てを実施することが
可能になる。言うまでもないことではあるが、特に言及
しておきたいのは、この望ましい実施例を実施する場
合、エタロンによって発生する検出パワーとエタロンを
照射するビームまたはその一部の光学パワーとの上述の
比を利用して、較正が実施される。
施例は、エタロンを照射するビームまたはその一部の光
学パワーを検出する光検出器を含んでいる。対応する波
長の測定に直接エタロンによって発生する検出パワーを
利用する代わりに、エタロンによって発生する検出パワ
ーと、エタロンを照射するビームまたはその一部の光学
パワーとの比が用いられる。本発明によるこの正規化に
よって、光源によって発生する光学パワーの変動が波長
の測定精度に影響を及ぼすのを回避することができ、較
正データまたは曲線の値に対するエタロンによって発生
する検出光学パワーの正しい割り当てを実施することが
可能になる。言うまでもないことではあるが、特に言及
しておきたいのは、この望ましい実施例を実施する場
合、エタロンによって発生する検出パワーとエタロンを
照射するビームまたはその一部の光学パワーとの上述の
比を利用して、較正が実施される。
【0020】第2の測定チャネルを設けるための本発明
の第1の代替実施例の場合、第2の測定チャネルは、第
1の測定チャネルにおける第1のエタロンとは光学厚さ
の異なる第2のエタロンを含んでいる。第1のエタロン
と同様、第2のエタロンは、波長測定の精度を高める反
射表面を備えることが望ましい。
の第1の代替実施例の場合、第2の測定チャネルは、第
1の測定チャネルにおける第1のエタロンとは光学厚さ
の異なる第2のエタロンを含んでいる。第1のエタロン
と同様、第2のエタロンは、波長測定の精度を高める反
射表面を備えることが望ましい。
【0021】光源からの光ビームの一部は、第1のエタ
ロンと同様、入射ビームの波長によって決まる光学パワ
ーの光ビームを発生する、第2のエタロンを照射する。
光源からの光ビームの他の部分は、第1のエタロンを照
射する。本発明によれば、第2のエタロンは、第1のエ
タロンによって発生する光ビームに対して遅延した光ビ
ームを発生する。本発明によれば、光学パワー強度にπ
/2の位相推移を生じさせるように、電界に関してπ/
4×N(N=1、3、5...)の遅延(位相推移)を
特徴とする第2のエタロンを選択することが望ましい。
ロンと同様、入射ビームの波長によって決まる光学パワ
ーの光ビームを発生する、第2のエタロンを照射する。
光源からの光ビームの他の部分は、第1のエタロンを照
射する。本発明によれば、第2のエタロンは、第1のエ
タロンによって発生する光ビームに対して遅延した光ビ
ームを発生する。本発明によれば、光学パワー強度にπ
/2の位相推移を生じさせるように、電界に関してπ/
4×N(N=1、3、5...)の遅延(位相推移)を
特徴とする第2のエタロンを選択することが望ましい。
【0022】第1のチャネルの場合と同様、第2のチャ
ネルの検出光学パワーは、第2のエタロンを照射するビ
ームまたはその一部の検出光学パワーによって正規化
し、光源のパワー変動による影響を排除することが望ま
しい。さらに、第1のチャネルの場合と同様に、較正が
実施される。両方のチャネルの光学パワー対波長の正規
化依存関係を用いて、第1のチャネルにおける光学パワ
ーと第2のチャネルにおける光学パワーの比を波長に対
して求めることができる。
ネルの検出光学パワーは、第2のエタロンを照射するビ
ームまたはその一部の検出光学パワーによって正規化
し、光源のパワー変動による影響を排除することが望ま
しい。さらに、第1のチャネルの場合と同様に、較正が
実施される。両方のチャネルの光学パワー対波長の正規
化依存関係を用いて、第1のチャネルにおける光学パワ
ーと第2のチャネルにおける光学パワーの比を波長に対
して求めることができる。
【0023】第1及び第2のチャネルにおいて、望まし
いπ/4の遅延を得るためにエタロンを用いる場合、こ
の比を正接関数によって表すことが可能であり、一方、
第1のチャネルにおける正規化光学パワーは、正弦関数
によって表すことが可能であり、第2のチャネルにおけ
る正規化光学パワーは、余弦関数によって表すことが可
能である。さらにもう1つのチャネル及びπ/4の遅延
を利用すると、正接関数を用いて、本発明による波長の
較正を行うことが可能になる。2πの自由スペクトル範
囲(FRS)内において、逆正接関数は、急峻な直線
(換言すれば、勾配のきついライン)であり、正弦また
は余弦関数のような勾配が反転する点を有しない。従っ
て、較正は、少数の異なる波長に関する第1及び第2の
チャネルにおける光学パワーの比の測定/決定によって
実施することが可能である。この測定/決定が行われな
かった波長における光学パワー比は、周知の数学的技法
によって簡単に補間することが可能である。さらに、本
発明による波長の較正に正接関数を用いることによっ
て、両チャネルにおける測定/決定光学パワーに対する
正しい波長の割り当てをいっそう容易にすることが可能
になり、この結果、光源によって発生する光信号の波長
が極めて正確に測定されることになる。
いπ/4の遅延を得るためにエタロンを用いる場合、こ
の比を正接関数によって表すことが可能であり、一方、
第1のチャネルにおける正規化光学パワーは、正弦関数
によって表すことが可能であり、第2のチャネルにおけ
る正規化光学パワーは、余弦関数によって表すことが可
能である。さらにもう1つのチャネル及びπ/4の遅延
を利用すると、正接関数を用いて、本発明による波長の
較正を行うことが可能になる。2πの自由スペクトル範
囲(FRS)内において、逆正接関数は、急峻な直線
(換言すれば、勾配のきついライン)であり、正弦また
は余弦関数のような勾配が反転する点を有しない。従っ
て、較正は、少数の異なる波長に関する第1及び第2の
チャネルにおける光学パワーの比の測定/決定によって
実施することが可能である。この測定/決定が行われな
かった波長における光学パワー比は、周知の数学的技法
によって簡単に補間することが可能である。さらに、本
発明による波長の較正に正接関数を用いることによっ
て、両チャネルにおける測定/決定光学パワーに対する
正しい波長の割り当てをいっそう容易にすることが可能
になり、この結果、光源によって発生する光信号の波長
が極めて正確に測定されることになる。
【0024】第1と第2の測定チャネルを設けるための
本発明の第2の望ましい代替実施例では、第1の偏光軸
を備えた光に対する「高速軸」と第2の偏光軸を備えた
光に対する「低速軸」を有する、遅延板または波長板な
どの単一複屈折光学部品のみが利用される。波長が測定
/決定される光ビームまたはその一部が、単一複屈折光
学部品を通過すると、単一複屈折光学部品の後に配置さ
れた偏光ビーム・スプリッタによって、前記偏光に従っ
て、単一複屈折光学部品からの光が2つのビームに分割
される。2つの物理的に分離したエタロンによる解決策
の代わりに、高速軸と低速軸を備えた単一複屈折光学部
品を利用することによって、本発明による光波長計の寸
法をさらに縮小することが可能になる。さらに、波長板
または遅延板などの、前記単一複屈折光学部品は、妥当
な値段で入手可能であり、単一部品を使えば、光波長計
の部品量を減少できるというもう1つの利点がある。こ
れらによって、より調整容易な構成が可能になる。2つ
の分離したエタロンを含む本発明の実施例のように、単
一複屈折光学部品は、第2の偏光軸を備えた光(第2の
測定チャネルにおける)に対して、第1の偏光軸を備え
た光(第1の測定チャネルにおける)がπ/4またはπ
/4×N(N=1、3、5...)の遅延(位相推移)
を生じさせるように選択される。こうした複屈折光学部
品は、λ/8波長板としても知られている。広い波長範
囲にわたってπ/4の位相推移を実現するには、N=1
を選択することが望ましい。この場合、複屈折光学部品
は、零次波長板としても知られている。
本発明の第2の望ましい代替実施例では、第1の偏光軸
を備えた光に対する「高速軸」と第2の偏光軸を備えた
光に対する「低速軸」を有する、遅延板または波長板な
どの単一複屈折光学部品のみが利用される。波長が測定
/決定される光ビームまたはその一部が、単一複屈折光
学部品を通過すると、単一複屈折光学部品の後に配置さ
れた偏光ビーム・スプリッタによって、前記偏光に従っ
て、単一複屈折光学部品からの光が2つのビームに分割
される。2つの物理的に分離したエタロンによる解決策
の代わりに、高速軸と低速軸を備えた単一複屈折光学部
品を利用することによって、本発明による光波長計の寸
法をさらに縮小することが可能になる。さらに、波長板
または遅延板などの、前記単一複屈折光学部品は、妥当
な値段で入手可能であり、単一部品を使えば、光波長計
の部品量を減少できるというもう1つの利点がある。こ
れらによって、より調整容易な構成が可能になる。2つ
の分離したエタロンを含む本発明の実施例のように、単
一複屈折光学部品は、第2の偏光軸を備えた光(第2の
測定チャネルにおける)に対して、第1の偏光軸を備え
た光(第1の測定チャネルにおける)がπ/4またはπ
/4×N(N=1、3、5...)の遅延(位相推移)
を生じさせるように選択される。こうした複屈折光学部
品は、λ/8波長板としても知られている。広い波長範
囲にわたってπ/4の位相推移を実現するには、N=1
を選択することが望ましい。この場合、複屈折光学部品
は、零次波長板としても知られている。
【0025】言うまでもないことではあるが、物理的に
分離した2つのエタロンを利用する場合における、第1
の代替実施態様に関して既述の正接関数と逆正接関数を
用いた正規化及び較正は、第2の測定チャネルを設ける
ための第2の望ましい代替実施態様における単一複屈折
光学部品の利用にも当てはまるということである。前述
のように、複屈折光学部品の表面は、波長感度を高める
ため、反射率の高いコーティングを施すことが望まし
い。
分離した2つのエタロンを利用する場合における、第1
の代替実施態様に関して既述の正接関数と逆正接関数を
用いた正規化及び較正は、第2の測定チャネルを設ける
ための第2の望ましい代替実施態様における単一複屈折
光学部品の利用にも当てはまるということである。前述
のように、複屈折光学部品の表面は、波長感度を高める
ため、反射率の高いコーティングを施すことが望まし
い。
【0026】本発明では、さらに、本発明による光波長
計、コンパレータ、及び、同調装置から構成される、レ
ーザ光源の波長を調整するための装置が提案される。レ
ーザ光源などの光源の信号の当該波形が、光波長計によ
って測定され、コンパレータによって事前調整波長また
は所望の波長と比較される。波長の偏差が一定の量を超
えると、コンパレータは、同調装置に、レーザ光源の調
整を変更させ、所望の波長または事前調整波長を備える
光ビームを発生するようにしむける。
計、コンパレータ、及び、同調装置から構成される、レ
ーザ光源の波長を調整するための装置が提案される。レ
ーザ光源などの光源の信号の当該波形が、光波長計によ
って測定され、コンパレータによって事前調整波長また
は所望の波長と比較される。波長の偏差が一定の量を超
えると、コンパレータは、同調装置に、レーザ光源の調
整を変更させ、所望の波長または事前調整波長を備える
光ビームを発生するようにしむける。
【0027】レーザ・ダイオードが用いられる本発明の
実施態様の1つによれば、コンパレータは、レーザ・ダ
イオードの駆動電流を変化させるか、あるいは、できれ
ば、レーザ・ダイオードの温度及び/またはレーザ・ダ
イオードの別の適正なパラメータを変化させる制御信号
を発生する。レーザ・ダイオードの温度を変化させる場
合には、ペルチエ素子を用いることが可能である。
実施態様の1つによれば、コンパレータは、レーザ・ダ
イオードの駆動電流を変化させるか、あるいは、できれ
ば、レーザ・ダイオードの温度及び/またはレーザ・ダ
イオードの別の適正なパラメータを変化させる制御信号
を発生する。レーザ・ダイオードの温度を変化させる場
合には、ペルチエ素子を用いることが可能である。
【0028】外部空洞レーザ(ECL)の波長が本発明
による装置によって制御される、本発明のもう1つの実
施態様によれば、同調装置が、空洞の寸法及び/または
レーザ空洞内における波長検知フィルタの位置の調整を
トリガし、これによって、レーザ光源の信号波長が所望
の値または事前調整値に合わせて調整される。
による装置によって制御される、本発明のもう1つの実
施態様によれば、同調装置が、空洞の寸法及び/または
レーザ空洞内における波長検知フィルタの位置の調整を
トリガし、これによって、レーザ光源の信号波長が所望
の値または事前調整値に合わせて調整される。
【0029】言うまでもないことではあるが、本発明
は、単独であるか、他の任意の組み合わせであるかにか
かわらず、上述の特徴の有用で、新規な組み合わせのい
ずれにも関するものである。さらに、言及した全ての利
点は、そっくりそのまま、本発明によって解決される目
的とみなすことが可能である。
は、単独であるか、他の任意の組み合わせであるかにか
かわらず、上述の特徴の有用で、新規な組み合わせのい
ずれにも関するものである。さらに、言及した全ての利
点は、そっくりそのまま、本発明によって解決される目
的とみなすことが可能である。
【0030】
【発明の実施の形態】図1に示す光波長計は、ハウジン
グ8、入射窓15、ビーム・スプリッタ7(5%)、ビ
ーム・スプリッタ6(50%)、複屈折遅延板1、偏光
ビーム・スプリッタ2、フォトダイオード3、フォトダ
イオード4、フォトダイオード5、電気回路9、データ
・プロセッサ(不図示)に対するコネクタ10、出射窓
16から構成される。
グ8、入射窓15、ビーム・スプリッタ7(5%)、ビ
ーム・スプリッタ6(50%)、複屈折遅延板1、偏光
ビーム・スプリッタ2、フォトダイオード3、フォトダ
イオード4、フォトダイオード5、電気回路9、データ
・プロセッサ(不図示)に対するコネクタ10、出射窓
16から構成される。
【0031】光源(不図示)からのコヒーレント光ビー
ムが、ビーム・スプリッタ7に導かれ、入射コヒーレン
ト光の約5%が入射ビームの波長を測定するため光波長
計に送り込まれる。ビーム・スプリッタ7に向かう途中
で、ビームは、光ファイバ11、マイクロ対物レンズ1
3、偏光子14、及び、入射窓15を通過する。光波長
計に隣接した光ファイバ11の端部は、マイクロ対物レ
ンズ13の焦点に位置しており、マイクロ対物レンズに
よって、ビーム・スプリッタ7に送られる平行ビームが
発生する。ビーム・スプリッタ7によって、入射ビーム
の約5%がビーム・スプリッタ6に送られ、ビーム・ス
プリッタ6によって、該ビームの約50%がフォトダイ
オード5に送られ、波長測定のため該装置に入射する光
学パワーが検出される。
ムが、ビーム・スプリッタ7に導かれ、入射コヒーレン
ト光の約5%が入射ビームの波長を測定するため光波長
計に送り込まれる。ビーム・スプリッタ7に向かう途中
で、ビームは、光ファイバ11、マイクロ対物レンズ1
3、偏光子14、及び、入射窓15を通過する。光波長
計に隣接した光ファイバ11の端部は、マイクロ対物レ
ンズ13の焦点に位置しており、マイクロ対物レンズに
よって、ビーム・スプリッタ7に送られる平行ビームが
発生する。ビーム・スプリッタ7によって、入射ビーム
の約5%がビーム・スプリッタ6に送られ、ビーム・ス
プリッタ6によって、該ビームの約50%がフォトダイ
オード5に送られ、波長測定のため該装置に入射する光
学パワーが検出される。
【0032】第1と第2の偏光を備えた光からなるビー
ムの光パワーの残りの50%が、ビーム・スプリッタ6
を通り、遅延板1に到達する。遅延板は、第2の偏光を
備えた光に関して、第1の偏光を備えた光のπ/4の位
相推移に対応するλ/8の遅延を生じさせるように選択
される。「高速軸」と「低速軸」を備えた遅延板1は、
偏光が高速軸と平行な光に対して、偏光が低速軸と平行
な光をπ/4だけ遅延させる。
ムの光パワーの残りの50%が、ビーム・スプリッタ6
を通り、遅延板1に到達する。遅延板は、第2の偏光を
備えた光に関して、第1の偏光を備えた光のπ/4の位
相推移に対応するλ/8の遅延を生じさせるように選択
される。「高速軸」と「低速軸」を備えた遅延板1は、
偏光が高速軸と平行な光に対して、偏光が低速軸と平行
な光をπ/4だけ遅延させる。
【0033】遅延板1を通過するビームが、偏光ビーム
・スプリッタ2に到達すると、遅延板1からの再結合ビ
ームは、それぞれ、遅延板の前記偏光に対応する異なる
偏光状態を備えた、2つのビームに分割される。偏光ビ
ーム・スプリッタ2からの第1のビームは、フォトダイ
オード4に焦点を合わせられ、偏光ビーム・スプリッタ
からの第2のビームは、フォトダイオード3に焦点を合
わせられる。フォトダイオード3及び4は、ビームの存
在を検出し、それぞれ、フォトダイオード3及び4に到
達した光の光学パワーによって決まる電流を発生する。
各フォトダイオード3、4、及び、5の電流は、電気回
路9に加えられる。電気回路9は、演算増幅器によって
構成されており、フォトダイオードによって発生した電
流を増幅する。電気回路9は、電気回路9の出力をデー
タ・プロセッサ(不図示)に接続するコネクタ10に対
する電気接続部を備えている。
・スプリッタ2に到達すると、遅延板1からの再結合ビ
ームは、それぞれ、遅延板の前記偏光に対応する異なる
偏光状態を備えた、2つのビームに分割される。偏光ビ
ーム・スプリッタ2からの第1のビームは、フォトダイ
オード4に焦点を合わせられ、偏光ビーム・スプリッタ
からの第2のビームは、フォトダイオード3に焦点を合
わせられる。フォトダイオード3及び4は、ビームの存
在を検出し、それぞれ、フォトダイオード3及び4に到
達した光の光学パワーによって決まる電流を発生する。
各フォトダイオード3、4、及び、5の電流は、電気回
路9に加えられる。電気回路9は、演算増幅器によって
構成されており、フォトダイオードによって発生した電
流を増幅する。電気回路9は、電気回路9の出力をデー
タ・プロセッサ(不図示)に接続するコネクタ10に対
する電気接続部を備えている。
【0034】遅延板1からの光ビームの波長は、図4、
5、6、及び、7によってより詳細に説明されているよ
うに、フォトダイオード3、4、及び、5によって測定
されるビームの光学パワーによって決まる。
5、6、及び、7によってより詳細に説明されているよ
うに、フォトダイオード3、4、及び、5によって測定
されるビームの光学パワーによって決まる。
【0035】図2には、レーザ光源の波長を調整するた
めの本発明による装置が概略図で示されている。該装置
は、レーザ光源30、そのハウジング8で指示された図
1の較正光波長計WM、コンパレータ32、及び、コン
トローラ33から構成される。レーザ光源30の出力信
号は、図1における光波長計のビーム・スプリッタ7を
通過し、出力信号の光パワーの約5%が、図1に関して
解説のように、本発明による光波長計に到達する。デー
タ・プロセッサ(不図示)による当該波長の計算が済む
と、コンパレータ32によって、当該波長とレーザ光源
30の事前調整波長の比較が行われる。事前調整波長と
当該波長の偏差が所定の量を超える場合には、コンパレ
ータ32は、当該波長が事前調整波長に比べて長すぎる
か、短すぎるかによって決めることが可能なエラー信号
を発生する。エラー信号は、当該波長と事前調整波長の
偏差に基づいて、レーザ光源によって発生する出力の波
長を増減させる制御信号を発生するコントローラ33を
トリガする。
めの本発明による装置が概略図で示されている。該装置
は、レーザ光源30、そのハウジング8で指示された図
1の較正光波長計WM、コンパレータ32、及び、コン
トローラ33から構成される。レーザ光源30の出力信
号は、図1における光波長計のビーム・スプリッタ7を
通過し、出力信号の光パワーの約5%が、図1に関して
解説のように、本発明による光波長計に到達する。デー
タ・プロセッサ(不図示)による当該波長の計算が済む
と、コンパレータ32によって、当該波長とレーザ光源
30の事前調整波長の比較が行われる。事前調整波長と
当該波長の偏差が所定の量を超える場合には、コンパレ
ータ32は、当該波長が事前調整波長に比べて長すぎる
か、短すぎるかによって決めることが可能なエラー信号
を発生する。エラー信号は、当該波長と事前調整波長の
偏差に基づいて、レーザ光源によって発生する出力の波
長を増減させる制御信号を発生するコントローラ33を
トリガする。
【0036】本発明による光波長計を利用することが可
能な環境の温度変化によって生じる、好ましくない熱的
影響を回避するため、図1による光波長計は、ペルチエ
冷却器(不図示)などの温度安定化対策が施されてい
る。ペルチエ冷却器は、鋼製が望ましい光波長計のハウ
ジング8と熱的につながっており、冷却器によって、事
前調整温度の約±0.1゜Cの範囲内で温度が安定化す
る。
能な環境の温度変化によって生じる、好ましくない熱的
影響を回避するため、図1による光波長計は、ペルチエ
冷却器(不図示)などの温度安定化対策が施されてい
る。ペルチエ冷却器は、鋼製が望ましい光波長計のハウ
ジング8と熱的につながっており、冷却器によって、事
前調整温度の約±0.1゜Cの範囲内で温度が安定化す
る。
【0037】図3には、図1に示す単一複屈折光学部品
の代わりに、物理的に分離した2つのエタロンE1及び
E2を利用した場合の、本発明による光波長計の原理が
示されている。図1に示す単一遅延板1を備えた光波長
計のより複雑な原理については、後で図4によって明ら
かになる。その波長が測定される光ビームIinは、ビー
ム・スプリッタBSによって2つのビームに分割され
る。第1のビームk1は、エタロンE1を照射し、エタ
ロンE1内において複数回にわたって反射される。E1
からの光ビームはI1で表示されている。第2のビーム
k2は、エタロンE2を照射し、エタロンE2内におい
て複数回にわたって反射される。E2からの光ビームは
I2で表示されている。ビームI1及びI2の光強度また
は光学パワーは、ビームIinの波長によって決まる。図
1に示すフォトダイオード3及び4を用いたビームI1
及びI2の変換結果は、電流であり、該電流は、図5に
おける2つの図に示すようなビームの波長によって決ま
る。フォトダイオード3及び4によって発生する電流
は、波長の増大につれて振動し、ビームの波長に対する
電流の依存関係は、正弦関数または余弦関数によって記
述することが可能である。
の代わりに、物理的に分離した2つのエタロンE1及び
E2を利用した場合の、本発明による光波長計の原理が
示されている。図1に示す単一遅延板1を備えた光波長
計のより複雑な原理については、後で図4によって明ら
かになる。その波長が測定される光ビームIinは、ビー
ム・スプリッタBSによって2つのビームに分割され
る。第1のビームk1は、エタロンE1を照射し、エタ
ロンE1内において複数回にわたって反射される。E1
からの光ビームはI1で表示されている。第2のビーム
k2は、エタロンE2を照射し、エタロンE2内におい
て複数回にわたって反射される。E2からの光ビームは
I2で表示されている。ビームI1及びI2の光強度また
は光学パワーは、ビームIinの波長によって決まる。図
1に示すフォトダイオード3及び4を用いたビームI1
及びI2の変換結果は、電流であり、該電流は、図5に
おける2つの図に示すようなビームの波長によって決ま
る。フォトダイオード3及び4によって発生する電流
は、波長の増大につれて振動し、ビームの波長に対する
電流の依存関係は、正弦関数または余弦関数によって記
述することが可能である。
【0038】従って、較正後、ビームI1またはI2内に
配置されたフォトダイオードによって発生する電流を測
定し、較正データ(波長の関数としての電流)と測定電
流の比較を行い、較正データに基づいて対応する波長を
割り当てることによって、フォトダイオードを照射する
ビームの波長を決定することができる。ビームの波長に
対する電流の依存関係の周期性のため(図5から明らか
になる)、測定電流に対応する波長の正しい割り当て
は、測定波長がいわゆる自由スペクトル範囲(FSR)
内にあり、どの波長範囲(FSR)において測定波長が
期待できるかが分かっている場合に限って実施可能であ
る。
配置されたフォトダイオードによって発生する電流を測
定し、較正データ(波長の関数としての電流)と測定電
流の比較を行い、較正データに基づいて対応する波長を
割り当てることによって、フォトダイオードを照射する
ビームの波長を決定することができる。ビームの波長に
対する電流の依存関係の周期性のため(図5から明らか
になる)、測定電流に対応する波長の正しい割り当て
は、測定波長がいわゆる自由スペクトル範囲(FSR)
内にあり、どの波長範囲(FSR)において測定波長が
期待できるかが分かっている場合に限って実施可能であ
る。
【0039】波長測定の正確度を高めるため、2つの測
定チャネルが得られるように、2つのエタロンE1及び
E2が利用される。エタロンE2は、ビームI1の強度
に対して、ビームI2の強度のπ/2の位相推移を生じ
させる。従って、ビームI2の光強度を変換するフォト
ダイオードによって生じる電流対ビームI2の波長の曲
線は、ビームI1の光強度に関するこうした曲線に対す
るπ/2の位相推移をなしている。両チャネルの電流対
波長の2つの曲線間における位相推移π/2は、図5か
ら明らかである(図5において、ビームI1及びI2の光
強度を変換するそれぞれのフォトダイオードによって発
生する電流の曲線は、正規化曲線である、すなわち、レ
ーザ光源の光学パワーの時間依存変動に左右されない曲
線が得られるように、測定電流と図1のフォトダイオー
ド5によって発生する電流の比を示すものである)。
定チャネルが得られるように、2つのエタロンE1及び
E2が利用される。エタロンE2は、ビームI1の強度
に対して、ビームI2の強度のπ/2の位相推移を生じ
させる。従って、ビームI2の光強度を変換するフォト
ダイオードによって生じる電流対ビームI2の波長の曲
線は、ビームI1の光強度に関するこうした曲線に対す
るπ/2の位相推移をなしている。両チャネルの電流対
波長の2つの曲線間における位相推移π/2は、図5か
ら明らかである(図5において、ビームI1及びI2の光
強度を変換するそれぞれのフォトダイオードによって発
生する電流の曲線は、正規化曲線である、すなわち、レ
ーザ光源の光学パワーの時間依存変動に左右されない曲
線が得られるように、測定電流と図1のフォトダイオー
ド5によって発生する電流の比を示すものである)。
【0040】第2の測定チャネルの利用及び電界のπ/
4の遅延によって、単一複屈折光学部品を利用する図1
の光波長計に関して図7に示すような逆正接関数を用い
て、本発明による2つの物理的に分離したエタロンを備
えた光波長計の較正が可能になる。図7の曲線には、第
1の測定チャネルのフォトダイオードによって発生した
電流及び第2の測定チャネルのもう1つのフォトダイオ
ードによって発生した電流対波長の、図5及び6に関し
て解説したいくつかの数学的変換を施した後の比の逆正
接関数が示されている。2πの自由スペクトル範囲(F
SR)内において、比の正接関数は、測定チャネルのフ
ォトダイオードによって発生した電流対波長特性を記述
する勾配のきついラインである。0〜+1の範囲内の光
パワーの正規化表現で図5に示された正弦関数または余
弦関数のように、反転点を含まない。図6には、オフセ
ットを考慮することによって図5から得られる、−1〜
+1の光パワー範囲内における図5の2つの測定チャネ
ルに関する曲線が示されている。
4の遅延によって、単一複屈折光学部品を利用する図1
の光波長計に関して図7に示すような逆正接関数を用い
て、本発明による2つの物理的に分離したエタロンを備
えた光波長計の較正が可能になる。図7の曲線には、第
1の測定チャネルのフォトダイオードによって発生した
電流及び第2の測定チャネルのもう1つのフォトダイオ
ードによって発生した電流対波長の、図5及び6に関し
て解説したいくつかの数学的変換を施した後の比の逆正
接関数が示されている。2πの自由スペクトル範囲(F
SR)内において、比の正接関数は、測定チャネルのフ
ォトダイオードによって発生した電流対波長特性を記述
する勾配のきついラインである。0〜+1の範囲内の光
パワーの正規化表現で図5に示された正弦関数または余
弦関数のように、反転点を含まない。図6には、オフセ
ットを考慮することによって図5から得られる、−1〜
+1の光パワー範囲内における図5の2つの測定チャネ
ルに関する曲線が示されている。
【0041】各エタロン内における2つの光ビームの複
数反射によって、π/2の強度の位相差を実現すること
が可能である。この場合、エタロンは、プリズムによっ
て構成しなければならないし、ビームは、プリズムの反
射表面に対応するp偏光及びs偏光を施さなければなら
ない。内部入射角は、一往復毎にπ/2の位相推移を実
現するのに適した値でなければならない。
数反射によって、π/2の強度の位相差を実現すること
が可能である。この場合、エタロンは、プリズムによっ
て構成しなければならないし、ビームは、プリズムの反
射表面に対応するp偏光及びs偏光を施さなければなら
ない。内部入射角は、一往復毎にπ/2の位相推移を実
現するのに適した値でなければならない。
【0042】代替案として、エタロン2は、下記の公式
により、エタロン1に対してλe/8だけ増大した光学
厚さを備えることが可能である: d2=d1+λe/8 ここで、d1 は、エタロン1の幾何学的厚さであり、
d2 は、エタロン2の幾何学的厚さであり、λe
は、光源の光信号の期待波長である。
により、エタロン1に対してλe/8だけ増大した光学
厚さを備えることが可能である: d2=d1+λe/8 ここで、d1 は、エタロン1の幾何学的厚さであり、
d2 は、エタロン2の幾何学的厚さであり、λe
は、光源の光信号の期待波長である。
【0043】さらに、エタロン2については、下記の公
式によって示される屈折率を備えた、異なる材料を選択
することが可能である: n2=n1−λe/(8 d2) ここで、n2 は、エタロン2の屈折率であり、λe
は、光源の光信号の期待波長であり、d2 は、エタロ
ン2の幾何学的厚さである。
式によって示される屈折率を備えた、異なる材料を選択
することが可能である: n2=n1−λe/(8 d2) ここで、n2 は、エタロン2の屈折率であり、λe
は、光源の光信号の期待波長であり、d2 は、エタロ
ン2の幾何学的厚さである。
【0044】図4には、図1に示す光波長計の望ましい
実施態様におけるように、単一複屈折遅延板1を用いた
場合の、本発明の原理が示されている。規定条件を実現
するため、光波長計の入射部に、45゜といった所定の
角度だけ入射ビームIinを偏光させる偏光子14が利用
される。ビーム・スプリッタ6によって、入射ビームは
分割され、該ビームの一部Imonitorがフォトダイオー
ド5(図1参照)を照射し、入射ビームの他の部分は、
高速光学軸及び低速光学軸を備えた単一遅延板RPを照
射することになる。
実施態様におけるように、単一複屈折遅延板1を用いた
場合の、本発明の原理が示されている。規定条件を実現
するため、光波長計の入射部に、45゜といった所定の
角度だけ入射ビームIinを偏光させる偏光子14が利用
される。ビーム・スプリッタ6によって、入射ビームは
分割され、該ビームの一部Imonitorがフォトダイオー
ド5(図1参照)を照射し、入射ビームの他の部分は、
高速光学軸及び低速光学軸を備えた単一遅延板RPを照
射することになる。
【0045】より理解しやすくするため、図4の遅延板
RPの図式表現によって、図3におけるような2つのエ
タロンE1及びE2の組み合わせが示されている。実際
のところ、該遅延板は、第2の偏光を備えた光に対して
第1の偏光を備えた光を遅延させるので、2つのエタロ
ンを備えた本発明の実施態様と同様の光学作用を示す。
遅延板RPの図式表現に示された矢印と円内のドットに
よって、異なる偏光が示されている。従って、遅延板
は、異なる偏光を備えた光に対する高速軸及び低速軸の
ために、第1の偏光を備えた光の場合には、屈折率n1
を示すが、第2の偏光の場合には、屈折率n2を示す。
図3におけるように、ビームの強度に従って、第2の偏
光を備えた光に対して第1の偏光を備えた光をπ/4ま
たはπ/2だけ位相推移させるのが望ましい、遅延板が
選択される。
RPの図式表現によって、図3におけるような2つのエ
タロンE1及びE2の組み合わせが示されている。実際
のところ、該遅延板は、第2の偏光を備えた光に対して
第1の偏光を備えた光を遅延させるので、2つのエタロ
ンを備えた本発明の実施態様と同様の光学作用を示す。
遅延板RPの図式表現に示された矢印と円内のドットに
よって、異なる偏光が示されている。従って、遅延板
は、異なる偏光を備えた光に対する高速軸及び低速軸の
ために、第1の偏光を備えた光の場合には、屈折率n1
を示すが、第2の偏光の場合には、屈折率n2を示す。
図3におけるように、ビームの強度に従って、第2の偏
光を備えた光に対して第1の偏光を備えた光をπ/4ま
たはπ/2だけ位相推移させるのが望ましい、遅延板が
選択される。
【0046】高速及び低速軸を備えた遅延板1を出たビ
ームは、偏光ビーム・スプリッタ2によって、遅延板の
前記偏光に対応する異なる偏光を備えた2つのビームI
1及びI2に分割される。第1の偏光を備えるビームI1
は、レーザ・ダイオード3(図1参照)を照射し、第2
の偏光を備えるビームI2は、図1のレーザ・ダイオー
ド4を照射する。
ームは、偏光ビーム・スプリッタ2によって、遅延板の
前記偏光に対応する異なる偏光を備えた2つのビームI
1及びI2に分割される。第1の偏光を備えるビームI1
は、レーザ・ダイオード3(図1参照)を照射し、第2
の偏光を備えるビームI2は、図1のレーザ・ダイオー
ド4を照射する。
【0047】図5、6、及び、7には、図1による光波
長計の較正中に得られる測定/決定データが描かれてい
る。もちろん、較正プロセスを変更することなく、図3
に示す本発明の原理を利用することも可能である。少数
の波長に関して、フォトダイオード3、4、及び、5に
よって発生する電流が、電気回路9の演算増幅器によっ
て増幅された後、測定される。フォトダイオード3によ
って発生する電流とフォトダイオード5によって発生す
る電流の比、並びに、フォトダイオード4によって発生
する電流とフォトダイオード5によって発生する電流の
比が、求められる。この計算結果が、いくつかの波長に
関して、2つの測定チャネルについて、図5に示されて
いる。1/υ1は、ビームI1によって生じる、チャネル
1のフォトダイオード3によって発生する電流の比であ
り、1/υ2は、ビームI2によって生じる、チャネル2
のフォトダイオード4によって発生する電流の比であ
り、0〜+1の範囲内でそれぞれのチャネルの光パワー
に対して正規化される。
長計の較正中に得られる測定/決定データが描かれてい
る。もちろん、較正プロセスを変更することなく、図3
に示す本発明の原理を利用することも可能である。少数
の波長に関して、フォトダイオード3、4、及び、5に
よって発生する電流が、電気回路9の演算増幅器によっ
て増幅された後、測定される。フォトダイオード3によ
って発生する電流とフォトダイオード5によって発生す
る電流の比、並びに、フォトダイオード4によって発生
する電流とフォトダイオード5によって発生する電流の
比が、求められる。この計算結果が、いくつかの波長に
関して、2つの測定チャネルについて、図5に示されて
いる。1/υ1は、ビームI1によって生じる、チャネル
1のフォトダイオード3によって発生する電流の比であ
り、1/υ2は、ビームI2によって生じる、チャネル2
のフォトダイオード4によって発生する電流の比であ
り、0〜+1の範囲内でそれぞれのチャネルの光パワー
に対して正規化される。
【0048】図5に示す計算結果について、遅延板の低
速軸及び高速軸におけるビーム強度のオフセット補正が
なされ、図6のとおりとなる。1/υ1と1/υ2はそれ
ぞれμ1及びμ2となる。最後に、測定されるビームのμ
2とμ1の比の逆正接関数δが波長λに対して−π〜+π
の範囲で求められ、図7に示されている。
速軸及び高速軸におけるビーム強度のオフセット補正が
なされ、図6のとおりとなる。1/υ1と1/υ2はそれ
ぞれμ1及びμ2となる。最後に、測定されるビームのμ
2とμ1の比の逆正接関数δが波長λに対して−π〜+π
の範囲で求められ、図7に示されている。
【0049】異なる波長の光に関する数回の測定及び計
算から、数学的補間技法を用いて、図7に示す較正曲線
または1組の較正データを求めることが可能である。
算から、数学的補間技法を用いて、図7に示す較正曲線
または1組の較正データを求めることが可能である。
【0050】光ビームの波長を測定する場合、較正に関
連して解説のものと同じ測定及び較正が実施され、逆正
接関数δの値が、図7に示す較正曲線のデータまたは求
められた1組の較正データと比較される。正接関数δの
値に対応する波長が割り当てられ、図2に関連して解説
の光源の波長を制御するために利用される。
連して解説のものと同じ測定及び較正が実施され、逆正
接関数δの値が、図7に示す較正曲線のデータまたは求
められた1組の較正データと比較される。正接関数δの
値に対応する波長が割り当てられ、図2に関連して解説
の光源の波長を制御するために利用される。
【0051】以上、本発明の実施態様について説明した
が、本発明の広範囲にわたる実施の便宜をはかるため、
以下に本発明の実施態様を例示する。 (実施態様1)第1の光ビームの波長を測定するための
光波長計であって、前記第1の光ビーム内またはその一
部内に配置されて、前記第1の光ビームの波長によって
決まる第1の光学パワーを備えた第2の光ビームを発生
する第1の光学部品(1;E1)と、前記第2の光ビー
ムの光学パワーを検出する第1のパワー検出器(3)
と、測定される前記第1の光ビームの波長に対する、前
記第1の光学部品(1;E1)によって発生する前記第
2の光ビームの光学パワーの依存関係に基づいて、前記
検出された第1の光学パワーに対して波長の割り当てを
行う第1の割り当て器が含まれている、光波長計。
が、本発明の広範囲にわたる実施の便宜をはかるため、
以下に本発明の実施態様を例示する。 (実施態様1)第1の光ビームの波長を測定するための
光波長計であって、前記第1の光ビーム内またはその一
部内に配置されて、前記第1の光ビームの波長によって
決まる第1の光学パワーを備えた第2の光ビームを発生
する第1の光学部品(1;E1)と、前記第2の光ビー
ムの光学パワーを検出する第1のパワー検出器(3)
と、測定される前記第1の光ビームの波長に対する、前
記第1の光学部品(1;E1)によって発生する前記第
2の光ビームの光学パワーの依存関係に基づいて、前記
検出された第1の光学パワーに対して波長の割り当てを
行う第1の割り当て器が含まれている、光波長計。
【0052】(実施態様2)前記第1の光学部品が、エ
タロン(E1)、または、遅延板または波長板などの複
屈折部品(1)であることを特徴とする、実施態様1に
記載の光波長計。 (実施態様3)前記第1の光学部品(1)によって発生
する前記光学パワーが、前記第1の光ビームの波長の増
大に応じて周期的に振動することを特徴とする、実施態
様1または2に記載の光波長計。 (実施態様4)前記第2の光ビームの光学パワーを検出
する前記第1のパワー検出器が、フォトダイオード
(3)などの光検出器であることを特徴とする、実施態
様1に記載の光波長計。 (実施態様5)前記第1の割り当て器が、前記第2の光
ビームの検出された光学パワーを前記第1の光学部品
(1)の波長に対する光学パワーの特定の依存関係に照
らして、検出された光学パワーに対応する波長を割り当
てる、データ・プロセッサであることを特徴とする、実
施態様1に記載の光波長計。
タロン(E1)、または、遅延板または波長板などの複
屈折部品(1)であることを特徴とする、実施態様1に
記載の光波長計。 (実施態様3)前記第1の光学部品(1)によって発生
する前記光学パワーが、前記第1の光ビームの波長の増
大に応じて周期的に振動することを特徴とする、実施態
様1または2に記載の光波長計。 (実施態様4)前記第2の光ビームの光学パワーを検出
する前記第1のパワー検出器が、フォトダイオード
(3)などの光検出器であることを特徴とする、実施態
様1に記載の光波長計。 (実施態様5)前記第1の割り当て器が、前記第2の光
ビームの検出された光学パワーを前記第1の光学部品
(1)の波長に対する光学パワーの特定の依存関係に照
らして、検出された光学パワーに対応する波長を割り当
てる、データ・プロセッサであることを特徴とする、実
施態様1に記載の光波長計。
【0053】(実施態様6)さらに、前記光ビーム内ま
たはその一部内に配置されて、第3の光ビームの波長に
よって決まる第2の光学パワーを備えた、前記第3の光
ビームを発生する第2の光学部品(1;E2)と、前記
第3の光ビームの前記第2の光学パワーを検出する第2
のパワー検出器(4)と、測定される前記第1の光ビー
ムの波長に対する、前記第2の光学部品(1;E2)に
よって発生する前記第3の光ビームの前記第2の光学パ
ワーの依存関係に基づいて、前記検出された第2の光学
パワーに対して波長の割り当てを行う第2の割り当て器
が含まれていることを特徴とする、実施態様1〜5に記
載の光波長計。
たはその一部内に配置されて、第3の光ビームの波長に
よって決まる第2の光学パワーを備えた、前記第3の光
ビームを発生する第2の光学部品(1;E2)と、前記
第3の光ビームの前記第2の光学パワーを検出する第2
のパワー検出器(4)と、測定される前記第1の光ビー
ムの波長に対する、前記第2の光学部品(1;E2)に
よって発生する前記第3の光ビームの前記第2の光学パ
ワーの依存関係に基づいて、前記検出された第2の光学
パワーに対して波長の割り当てを行う第2の割り当て器
が含まれていることを特徴とする、実施態様1〜5に記
載の光波長計。
【0054】(実施態様7)前記第1の光学部品及び第
2の光学部品が、前記第1の極性を備えた前記第2の光
ビームに対して第2の極性を備えた前記第3の光ビーム
を遅延させる、遅延板(1)または波長板などの単一複
屈折光学部品で実施されることを特徴とする、実施態様
6に記載の光波長計。 (実施態様8)前記第2の光学部品が、第1のエタロン
(E1)であり、前記第2の光学部品が、前記第2の光
ビームに対して前記第3の光ビームを遅延させる、第2
のエタロン(E2)であることを特徴とする、実施態様
6に記載の光波長計。 (実施態様9)前記遅延が、前記第3の光ビームに関し
て、前記第2の光ビームの電界のπ/4の位相推移に対
応することを特徴とする、実施態様7または8に記載の
光波長計。
2の光学部品が、前記第1の極性を備えた前記第2の光
ビームに対して第2の極性を備えた前記第3の光ビーム
を遅延させる、遅延板(1)または波長板などの単一複
屈折光学部品で実施されることを特徴とする、実施態様
6に記載の光波長計。 (実施態様8)前記第2の光学部品が、第1のエタロン
(E1)であり、前記第2の光学部品が、前記第2の光
ビームに対して前記第3の光ビームを遅延させる、第2
のエタロン(E2)であることを特徴とする、実施態様
6に記載の光波長計。 (実施態様9)前記遅延が、前記第3の光ビームに関し
て、前記第2の光ビームの電界のπ/4の位相推移に対
応することを特徴とする、実施態様7または8に記載の
光波長計。
【0055】(実施態様10)光源の波長を調整するた
めの装置であって、実施態様1〜9の1つに記載の光波
長計と、前記第1の光ビームの測定波長と所定の波長を
比較するコンパレータ(32)と、前記光源(30)を
制御して、前記コンパレータ(32)によって実施され
た比較結果に基づいて、前記所定の波長の光ビームを発
生するコントローラ(33)が含まれている、光波長調
整装置。
めの装置であって、実施態様1〜9の1つに記載の光波
長計と、前記第1の光ビームの測定波長と所定の波長を
比較するコンパレータ(32)と、前記光源(30)を
制御して、前記コンパレータ(32)によって実施され
た比較結果に基づいて、前記所定の波長の光ビームを発
生するコントローラ(33)が含まれている、光波長調
整装置。
【図1】本発明による光波長計のブロック図である。
【図2】レーザ光源の光信号の波長を制御するための装
置のブロック図である。
置のブロック図である。
【図3】2つの物理的に分離したエタロンE1及びE2
を利用する場合の、本発明の原理を示すための図であ
る。
を利用する場合の、本発明の原理を示すための図であ
る。
【図4】図1に示す光波長計におけるように、単一複屈
折光学部品を用いた場合の、本発明の原理を示すための
図である。
折光学部品を用いた場合の、本発明の原理を示すための
図である。
【図5】図1に示す光波長計に備えられたフォトダイオ
ードの出力電流の入力光波長に対する変化を示す図であ
る。
ードの出力電流の入力光波長に対する変化を示す図であ
る。
【図6】図5の出力電流からオフセットを除いた変化を
示す図である。
示す図である。
【図7】図1に示す光波長計を較正するための較正デー
タを示す図である。
タを示す図である。
1 複屈折遅延板 2 偏光ビーム・スプリッタ 3 フォトダイオード 4 フォトダイオード 5 フォトダイオード 6 ビーム・スプリッタ 7 ビーム・スプリッタ 8 ハウジング 9 電気回路 10 コネクタ 11 光ファイバ 13 マイクロ対物レンズ 14 偏光子 15 入射窓 16 出射窓 30 レーザ光源 32 コンパレータ 33 コントローラ E1 エタロン E2 エタロン I1 ビーム I2 ビーム
Claims (1)
- 【請求項1】第1の光ビームの波長を測定するための光
波長計であって、 前記第1の光ビーム内またはその一部内に配置されて、
前記第1の光ビームの波長によって決まる第1の光学パ
ワーを備えた第2の光ビームを発生する第1の光学部品
と、 前記第2の光ビームの光学パワーを検出する第1のパワ
ー検出器と、 測定される前記第1の光ビームの波長に対する、前記第
1の光学部品によって発生する前記第2の光ビームの光
学パワーの依存関係に基づいて、前記検出された第1の
光学パワーに対して波長の割り当てを行う第1の割り当
て器が含まれている、 光波長計。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE97107247.5 | 1997-05-02 | ||
| EP97107247A EP0875743B1 (en) | 1997-05-02 | 1997-05-02 | A wavemeter and an arrangement for the adjustment of the wavelength of an optical source |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10339668A true JPH10339668A (ja) | 1998-12-22 |
| JPH10339668A5 JPH10339668A5 (ja) | 2005-09-22 |
Family
ID=8226759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10108279A Withdrawn JPH10339668A (ja) | 1997-05-02 | 1998-04-17 | 光波長計及び光波長調整装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6043883A (ja) |
| EP (1) | EP0875743B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10339668A (ja) |
| DE (1) | DE69706827T2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001057487A1 (en) * | 2000-01-31 | 2001-08-09 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wavelength monitor, method of adjustment thereof, stabilized light source, and communication system using stabilized light sources |
| US7595886B2 (en) | 2005-06-27 | 2009-09-29 | Yokogawa Electric Corporation | Wavelength monitor using interference signals |
| JP2015060961A (ja) * | 2013-09-19 | 2015-03-30 | 住友電気工業株式会社 | 波長制御システムおよび波長制御方法 |
| JP2018190778A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 波長モニタ装置、光源装置及び光モジュール |
Families Citing this family (105)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7006541B2 (en) | 1998-06-01 | 2006-02-28 | Lambda Physik Ag | Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp |
| US6160832A (en) | 1998-06-01 | 2000-12-12 | Lambda Physik Gmbh | Method and apparatus for wavelength calibration |
| US6580517B2 (en) | 2000-03-01 | 2003-06-17 | Lambda Physik Ag | Absolute wavelength calibration of lithography laser using multiple element or tandem see through hollow cathode lamp |
| AU6142399A (en) | 1998-09-11 | 2000-04-03 | New Focus, Inc. | Tunable laser |
| US6853654B2 (en) * | 1999-07-27 | 2005-02-08 | Intel Corporation | Tunable external cavity laser |
| US6879619B1 (en) | 1999-07-27 | 2005-04-12 | Intel Corporation | Method and apparatus for filtering an optical beam |
| WO2001011738A1 (en) * | 1999-08-10 | 2001-02-15 | Coretek, Inc. | Double etalon optical wavelength reference device |
| US6665076B1 (en) | 1999-08-23 | 2003-12-16 | Coretek, Inc. | Wavelength reference device |
| US6847661B2 (en) * | 1999-09-20 | 2005-01-25 | Iolon, Inc. | Tunable laser with microactuator |
| US6856632B1 (en) | 1999-09-20 | 2005-02-15 | Iolon, Inc. | Widely tunable laser |
| US6667804B1 (en) | 1999-10-12 | 2003-12-23 | Lambda Physik Ag | Temperature compensation method for wavemeters |
| US6597462B2 (en) | 2000-03-01 | 2003-07-22 | Lambda Physik Ag | Laser wavelength and bandwidth monitor |
| US6661818B1 (en) | 2000-04-05 | 2003-12-09 | Digital Optics Corporation | Etalon, a wavelength monitor/locker using the etalon and associated methods |
| US7092416B2 (en) | 2000-04-05 | 2006-08-15 | Digital Optics Corporation | Integrated wavelength locker for use with more than one wavelength and associated methods |
| US7209498B1 (en) | 2000-05-04 | 2007-04-24 | Intel Corporation | Method and apparatus for tuning a laser |
| US6807205B1 (en) | 2000-07-14 | 2004-10-19 | Lambda Physik Ag | Precise monitor etalon calibration technique |
| US7120176B2 (en) * | 2000-07-27 | 2006-10-10 | Intel Corporation | Wavelength reference apparatus and method |
| DE60001139T2 (de) * | 2000-08-16 | 2003-09-11 | Agilent Technologies, Inc. (N.D.Ges.D.Staates Delaware) | Wellenlängenmesser mit grober und feiner Messanlage |
| US6747741B1 (en) | 2000-10-12 | 2004-06-08 | Lambda Physik Ag | Multiple-pass interferometric device |
| US6549548B2 (en) | 2000-10-25 | 2003-04-15 | Axsun Technologies, Inc. | Interferometric filter wavelength meter and controller |
| JP4566401B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2010-10-20 | アンリツ株式会社 | 光波長測定装置 |
| JP2002214049A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-07-31 | Ando Electric Co Ltd | 波長モニタ |
| WO2002075935A2 (en) * | 2001-03-15 | 2002-09-26 | Iolon, Inc. | Apparatus for frequency tuning and locking and method for operating same |
| WO2002091534A1 (en) * | 2001-05-08 | 2002-11-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wavelength monitoring apparatus |
| US6822979B2 (en) | 2001-07-06 | 2004-11-23 | Intel Corporation | External cavity laser with continuous tuning of grid generator |
| US6901088B2 (en) * | 2001-07-06 | 2005-05-31 | Intel Corporation | External cavity laser apparatus with orthogonal tuning of laser wavelength and cavity optical pathlength |
| DE60103482T2 (de) * | 2001-08-17 | 2005-06-02 | Agilent Technologies, Inc. (n.d.Ges.d.Staates Delaware), Palo Alto | Lichtinterferenz |
| US6654124B2 (en) * | 2001-09-21 | 2003-11-25 | Agilent Technologies, Inc. | Signal modulation compensation for wavelength meter |
| US6683295B2 (en) | 2001-10-01 | 2004-01-27 | Digital Optics Corp. | Reduced noise wavelength locker module |
| US20030076568A1 (en) * | 2001-10-22 | 2003-04-24 | Adc Telecommunications, Inc. | Light frequency stabilizer |
| US7230959B2 (en) | 2002-02-22 | 2007-06-12 | Intel Corporation | Tunable laser with magnetically coupled filter |
| JP2003324240A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-14 | Ando Electric Co Ltd | 波長可変光源装置 |
| US6845121B2 (en) * | 2002-06-15 | 2005-01-18 | Intel Corporation | Optical isolator apparatus and methods |
| US6763047B2 (en) * | 2002-06-15 | 2004-07-13 | Intel Corporation | External cavity laser apparatus and methods |
| JP4214367B2 (ja) * | 2002-07-19 | 2009-01-28 | 横河電機株式会社 | 波長モニタ及びモータ駆動制御装置 |
| US6859284B2 (en) * | 2002-12-02 | 2005-02-22 | Picarro, Inc. | Apparatus and method for determining wavelength from coarse and fine measurements |
| US7256893B2 (en) * | 2003-06-26 | 2007-08-14 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for measuring bandwidth of an optical spectrum output of a very small wavelength very narrow bandwidth high power laser |
| TWI263412B (en) * | 2003-06-26 | 2006-10-01 | Cymer Inc | Improved bandwidth estimation |
| US6952267B2 (en) | 2003-07-07 | 2005-10-04 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for measuring bandwidth of a laser output |
| WO2006037373A1 (en) | 2004-10-01 | 2006-04-13 | Agilent Technologies, Inc. | Optical spectrum analysis |
| US7317536B2 (en) | 2005-06-27 | 2008-01-08 | Cymer, Inc. | Spectral bandwidth metrology for high repetition rate gas discharge lasers |
| US7653095B2 (en) * | 2005-06-30 | 2010-01-26 | Cymer, Inc. | Active bandwidth control for a laser |
| US9867530B2 (en) | 2006-08-14 | 2018-01-16 | Volcano Corporation | Telescopic side port catheter device with imaging system and method for accessing side branch occlusions |
| US7608808B2 (en) | 2006-11-07 | 2009-10-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Injection-locked pulsed laser with high wavelength stability |
| US10219780B2 (en) | 2007-07-12 | 2019-03-05 | Volcano Corporation | OCT-IVUS catheter for concurrent luminal imaging |
| US8395781B2 (en) | 2007-07-12 | 2013-03-12 | Volcano Corporation | Automatic calibration systems and methods of use |
| JP5481376B2 (ja) | 2007-07-12 | 2014-04-23 | ヴォルカノ コーポレイション | 光コヒーレンストモグラフィー用のクロック制御方法 |
| WO2009009799A1 (en) | 2007-07-12 | 2009-01-15 | Volcano Corporation | Catheter for in vivo imaging |
| US9596993B2 (en) | 2007-07-12 | 2017-03-21 | Volcano Corporation | Automatic calibration systems and methods of use |
| JP2010249808A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-11-04 | Olympus Corp | 分光透過率可変素子を備えた分光イメージング装置及び分光イメージング装置における分光透過率可変素子の調整方法 |
| US10072971B2 (en) * | 2010-04-16 | 2018-09-11 | Metal Improvement Company, Llc | Flexible beam delivery system for high power laser systems |
| US11141063B2 (en) | 2010-12-23 | 2021-10-12 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Integrated system architectures and methods of use |
| US11040140B2 (en) | 2010-12-31 | 2021-06-22 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Deep vein thrombosis therapeutic methods |
| US9360630B2 (en) | 2011-08-31 | 2016-06-07 | Volcano Corporation | Optical-electrical rotary joint and methods of use |
| US9292918B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-03-22 | Volcano Corporation | Methods and systems for transforming luminal images |
| US9286673B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-03-15 | Volcano Corporation | Systems for correcting distortions in a medical image and methods of use thereof |
| US11272845B2 (en) | 2012-10-05 | 2022-03-15 | Philips Image Guided Therapy Corporation | System and method for instant and automatic border detection |
| US9324141B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-04-26 | Volcano Corporation | Removal of A-scan streaking artifact |
| US9307926B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-04-12 | Volcano Corporation | Automatic stent detection |
| US20140100454A1 (en) | 2012-10-05 | 2014-04-10 | Volcano Corporation | Methods and systems for establishing parameters for three-dimensional imaging |
| EP2904671B1 (en) | 2012-10-05 | 2022-05-04 | David Welford | Systems and methods for amplifying light |
| US10568586B2 (en) | 2012-10-05 | 2020-02-25 | Volcano Corporation | Systems for indicating parameters in an imaging data set and methods of use |
| US9858668B2 (en) | 2012-10-05 | 2018-01-02 | Volcano Corporation | Guidewire artifact removal in images |
| US10070827B2 (en) | 2012-10-05 | 2018-09-11 | Volcano Corporation | Automatic image playback |
| US9367965B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-06-14 | Volcano Corporation | Systems and methods for generating images of tissue |
| US9840734B2 (en) | 2012-10-22 | 2017-12-12 | Raindance Technologies, Inc. | Methods for analyzing DNA |
| EP2931132B1 (en) | 2012-12-13 | 2023-07-05 | Philips Image Guided Therapy Corporation | System for targeted cannulation |
| US9709379B2 (en) | 2012-12-20 | 2017-07-18 | Volcano Corporation | Optical coherence tomography system that is reconfigurable between different imaging modes |
| JP6785554B2 (ja) | 2012-12-20 | 2020-11-18 | ボルケーノ コーポレイション | 平滑遷移カテーテル |
| US10942022B2 (en) | 2012-12-20 | 2021-03-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Manual calibration of imaging system |
| US10939826B2 (en) | 2012-12-20 | 2021-03-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Aspirating and removing biological material |
| US11406498B2 (en) | 2012-12-20 | 2022-08-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Implant delivery system and implants |
| US9730613B2 (en) | 2012-12-20 | 2017-08-15 | Volcano Corporation | Locating intravascular images |
| WO2014099672A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Andrew Hancock | System and method for multipath processing of image signals |
| US9612105B2 (en) | 2012-12-21 | 2017-04-04 | Volcano Corporation | Polarization sensitive optical coherence tomography system |
| US10413317B2 (en) | 2012-12-21 | 2019-09-17 | Volcano Corporation | System and method for catheter steering and operation |
| US10332228B2 (en) | 2012-12-21 | 2019-06-25 | Volcano Corporation | System and method for graphical processing of medical data |
| EP2934280B1 (en) | 2012-12-21 | 2022-10-19 | Mai, Jerome | Ultrasound imaging with variable line density |
| US9486143B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-11-08 | Volcano Corporation | Intravascular forward imaging device |
| US10058284B2 (en) | 2012-12-21 | 2018-08-28 | Volcano Corporation | Simultaneous imaging, monitoring, and therapy |
| CA2896004A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Nathaniel J. Kemp | Power-efficient optical buffering using optical switch |
| EP2934653B1 (en) | 2012-12-21 | 2018-09-19 | Douglas Meyer | Rotational ultrasound imaging catheter with extended catheter body telescope |
| EP2936626A4 (en) | 2012-12-21 | 2016-08-17 | David Welford | SYSTEMS AND METHOD FOR REDUCING A WAVELENGTH LIGHT EMISSION |
| US10226597B2 (en) | 2013-03-07 | 2019-03-12 | Volcano Corporation | Guidewire with centering mechanism |
| EP2965263B1 (en) | 2013-03-07 | 2022-07-20 | Bernhard Sturm | Multimodal segmentation in intravascular images |
| US20140276923A1 (en) | 2013-03-12 | 2014-09-18 | Volcano Corporation | Vibrating catheter and methods of use |
| JP2016521138A (ja) | 2013-03-12 | 2016-07-21 | コリンズ,ドナ | 冠動脈微小血管疾患を診断するためのシステム及び方法 |
| US9301687B2 (en) | 2013-03-13 | 2016-04-05 | Volcano Corporation | System and method for OCT depth calibration |
| WO2014159819A1 (en) | 2013-03-13 | 2014-10-02 | Jinhyoung Park | System and methods for producing an image from a rotational intravascular ultrasound device |
| US11026591B2 (en) | 2013-03-13 | 2021-06-08 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Intravascular pressure sensor calibration |
| US12343198B2 (en) | 2013-03-14 | 2025-07-01 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Delivery catheter having imaging capabilities |
| US10292677B2 (en) | 2013-03-14 | 2019-05-21 | Volcano Corporation | Endoluminal filter having enhanced echogenic properties |
| US10219887B2 (en) | 2013-03-14 | 2019-03-05 | Volcano Corporation | Filters with echogenic characteristics |
| CN105208947B (zh) | 2013-03-14 | 2018-10-12 | 火山公司 | 具有回声特性的过滤器 |
| US9407395B2 (en) * | 2013-07-05 | 2016-08-02 | Futurewei Technologies, Inc. | Optical network unit (ONU) wavelength self-tuning |
| JP2016100743A (ja) * | 2014-11-21 | 2016-05-30 | 富士通株式会社 | 光伝送装置および波長校正方法 |
| US20180088378A1 (en) * | 2016-09-28 | 2018-03-29 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Polarimetric-analysis-type dual liquid crystal wavelength filter module |
| US10243325B2 (en) * | 2017-02-02 | 2019-03-26 | QuSpin, Inc. | Method for stabilizing atomic devices |
| WO2019068334A1 (en) * | 2017-10-05 | 2019-04-11 | Huawei Technologies Co., Ltd. | WAVELENGTH MONITORING AND / OR CONTROL DEVICE, LASER SYSTEM PROVIDED WITH SUCH A DEVICE AND METHOD FOR OPERATING SUCH A DEVICE |
| CA3107172C (en) | 2020-01-30 | 2024-02-13 | Thorlabs Quantum Electronics, Inc. | Tunable laser assembly |
| CN113324665B (zh) * | 2020-02-29 | 2022-10-11 | 华为技术有限公司 | 波长计、获取波长计的参数的方法以及在线校准的方法 |
| CA3111302A1 (en) | 2020-03-09 | 2021-09-09 | Thorlabs Quantum Electronics, Inc. | Tunable laser assembly and method of control |
| CN112271551A (zh) * | 2020-10-23 | 2021-01-26 | 武汉光迅科技股份有限公司 | 一种波长锁定器和可调激光器组件 |
| US12560754B2 (en) * | 2022-05-27 | 2026-02-24 | Ii-Vi Delaware, Inc. | Wavelength reference having repeating spectral features and unique spectral features |
| CN119437416B (zh) * | 2024-11-06 | 2025-10-31 | 长沙麓邦光电科技有限公司 | 光功率计相对光谱响应度的标定系统及方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9314302D0 (en) * | 1993-07-10 | 1993-08-25 | Univ Court Of The University O | Improved spectrometer |
| US5515169A (en) * | 1993-10-13 | 1996-05-07 | Labintelligence Inc. | Spectral wavelength discrimination system and method for using |
| WO1995020144A1 (en) * | 1994-01-20 | 1995-07-27 | British Telecommunications Public Limited Company | Optical wavelength sensor |
| US5822049A (en) * | 1997-04-24 | 1998-10-13 | The United States Of America As Represented By The Director Of The National Security Agency | Optical fiber coupler type wavelength measuring apparatus |
| US5841536A (en) * | 1997-08-01 | 1998-11-24 | The United States Of America As Represented By The Director Of The National Security Agency | Polarization interferometer apparatus using the polarization dependent phase lag in a birefringent retarder |
-
1997
- 1997-05-02 DE DE69706827T patent/DE69706827T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-05-02 EP EP97107247A patent/EP0875743B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-03-30 US US09/050,484 patent/US6043883A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-04-17 JP JP10108279A patent/JPH10339668A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001057487A1 (en) * | 2000-01-31 | 2001-08-09 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wavelength monitor, method of adjustment thereof, stabilized light source, and communication system using stabilized light sources |
| US6567437B1 (en) | 2000-01-31 | 2003-05-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wavelength monitoring device and its adjusting method, and wavelength stabilizing light source and transmission system having plural wavelength stabilizing light source |
| US7595886B2 (en) | 2005-06-27 | 2009-09-29 | Yokogawa Electric Corporation | Wavelength monitor using interference signals |
| DE102006028953B4 (de) * | 2005-06-27 | 2011-01-27 | Yokogawa Electric Corp., Musashino | Wellenlängenmonitor |
| JP2015060961A (ja) * | 2013-09-19 | 2015-03-30 | 住友電気工業株式会社 | 波長制御システムおよび波長制御方法 |
| US9395504B2 (en) | 2013-09-19 | 2016-07-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | System to control wavelength and method to control wavelength |
| JP2018190778A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 波長モニタ装置、光源装置及び光モジュール |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0875743B1 (en) | 2001-09-19 |
| EP0875743A1 (en) | 1998-11-04 |
| DE69706827D1 (de) | 2001-10-25 |
| DE69706827T2 (de) | 2002-03-28 |
| US6043883A (en) | 2000-03-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10339668A (ja) | 光波長計及び光波長調整装置 | |
| US6937346B2 (en) | Wavemeter having two interference elements | |
| US6836330B2 (en) | Optical beamsplitter for a polarization insensitive wavelength detector and a polarization sensor | |
| US20020093660A1 (en) | Wavelength monitor | |
| US6992774B2 (en) | Wavelength determining apparatus and method | |
| US6462827B1 (en) | Phase-based wavelength measurement apparatus | |
| US7280216B2 (en) | Method and apparatus for determining the wavelength of an input light beam | |
| CN112082585A (zh) | 基于干涉光信号拼接的驱动电流调谐分布式测量方法、装置及系统 | |
| EP1266248A1 (en) | Method and apparatus for estimating chromatic dispersion in fibre bragg gratings | |
| US6590666B2 (en) | Method and system for optical spectrum analysis with non-uniform sweep rate correction | |
| JPH09166414A (ja) | 光計測装置 | |
| US7333210B2 (en) | Method and apparatus for feedback control of tunable laser wavelength | |
| JPH0227202A (ja) | 光干渉測定装置 | |
| EP1028311A1 (en) | Apparatus for measuring wavelength changes and wavelength tunable light source | |
| JP2002131139A (ja) | 光ファイバセンサ並びに光ファイバの調節方法及び装置 | |
| JPS60104236A (ja) | 偏波保持光フアイバのモ−ド複屈折率測定方法およびその装置 | |
| WO2002088629A1 (en) | Phase-based wavelength measurement apparatus | |
| JPH01210804A (ja) | 面間隔測定方法 | |
| JP3632825B2 (ja) | 波長計測装置 | |
| JP2024115237A (ja) | 光路長差計測装置および振動計測装置 | |
| JP2001208608A (ja) | 波長測定器 | |
| JP2002340687A (ja) | 波長モニタ | |
| JPH05312523A (ja) | 半導体レーザ測長器 | |
| JPH11326052A (ja) | 分光装置 | |
| JPH1197792A (ja) | 可変波長半導体レーザ光源 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050407 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050407 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20061114 |