JPH10340475A - 記録装置、記録方法および記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短波長（例えば、紫外波長）の光ビームを用
いて、記録媒体に情報を記録することが可能な記録装置
および記録方法を提供する。 【解決手段】 記録装置１００は、基板１１０ａと基板
１１０ａの上に形成された記録膜１１０ｂを含む記録媒
体１１０に情報を記録する。記録膜１１０ｂは保護膜に
よって覆われていない。記録装置１００は、４８８ｎｍ
以下の波長を有する光ビームを出射するレーザ１０１
と、記録媒体１１０の回転を駆動する駆動回路１２１
と、記録媒体１１０が回転している状態において記録媒
体１１０から浮上するように構成されたスライダ１０８
と、スライダ１０８と一体的に構成された半球レンズ１
０７と、スライダ１０７が記録媒体１１０から浮上して
いる状態でレーザ１０１から出射された光ビームを半球
レンズ１０７およびスライダ１０８を介して記録媒体１
１０の記録膜１１０ａに照射する光学系１０５とを備え
ている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体に情報を
記録する記録装置および記録方法、並びに記録媒体を原
盤として用いて他の記録媒体を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報化社会の進展と共に、ますま
す高密度大容量の光記録媒体が要求されている。光記録
媒体の記録密度を向上させるためには、より短波長のレ
ーザを用いるか、対物レンズの開口数（ＮＡ）を向上さ
せる必要がある。しかしながら、短波長レーザや、高Ｎ
Ａレンズの実用化は容易ではない。そこで、対物レンズ
と記録媒体の間に半球型のレンズを設けることにより、
ビームスポット径を小さくすることが提案されている
（Appl. Phys. Lett., Vol.68, No.2, 1996, pp.141-14
3）。

【０００３】図５は、半球型のレンズを用いた従来の記
録再生光学系５００の構造を示す。記録再生光学系５０
０は、光ビーム５０１を集光する対物レンズ５０２と、
高屈折率の半球レンズ５０３と、半球レンズ５０３と同
一の高屈折率のスライダ５０４と、スライダ５０４を支
持するサスペンション５０６とを含む。半球レンズ５０
３とスライダ５０４とは互いに接着されている。

【０００４】記録媒体５０５は、シリコン（Ｓｉ）基板
５０５ａと、酸化シリコン（ＳｉＯ₂）膜５０５ｂと、
ＴｂＦｅＣｏ膜５０５ｃと、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜
５０５ｄとをこの順番で積層することによって形成され
る。

【０００５】酸化シリコン膜５０５ｂは、断熱層として
機能する。ＴｂＦｅＣｏ膜５０５ｃは、記録膜として機
能する。窒化シリコン膜５０５ｄは、保護膜として機能
する。

【０００６】以下、記録再生光学系５００の動作を説明
する。

【０００７】記録媒体５０５は、回転駆動系（図示せ
ず）によって記録再生時に回転される。記録媒体５０５
の回転に伴う空気圧は、スライダ５０４の気体軸受け面
に作用する。その結果、記録媒体５０５が回転するにつ
れて、スライダ５０４は、記録媒体５０５から浮上し、
その後、記録媒体５０５の上を滑空することになる。

【０００８】一般に、対物レンズのみを用いて記録媒体
上にビームスポットを形成する場合には、そのビームス
ポットのサイズは、λ／ＮＡに比例する。ここで、λは
対物レンズによって集光される光ビームの波長を示し、
ＮＡは対物レンズの開口数を示す。

【０００９】対物レンズと記録媒体との間に、半球型の
レンズとそれと同一の屈折率のスライダとから構成され
る光学素子を配置した場合には、記録媒体上に形成され
るビームスポットのサイズは、λ／（ｎ²ＮＡ）に比例
する。ここで、ｎは半球型のレンズおよびスライダの屈
折率を示し、λは対物レンズによって集光される光ビー
ムの波長を示し、ＮＡは対物レンズの開口数を示す。半
球型のレンズとスライダとを設けることによって、ビー
ムスポットのサイズが１／ｎ²になることがわかる。

【００１０】Appl. Phys. Lett., Vol.68, No.2, 1996,
pp.141-143によれば、λ＝８３０ｎｍという実験条件
に対してｎ＝１．８３である。従って、ビームスポット
のサイズを従来の３０％程度に抑えることが可能とな
る。このようなビームスポットのサイズの低減は、スラ
イダを透過する光と、スライダから出射されるエバネッ
セント光の両者の作用で実現される。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、エバネ
ッセント光は、スライダの光出射面の極近傍にしか作用
しない。このため、ビームスポットのサイズの低減効果
を得るためには、記録媒体の記録膜とスライダとの距離
をλ／５以下にする必要がある。

【００１２】対物レンズによって集光される光ビームの
波長λが比較的長い場合には、記録膜の上に保護膜を形
成した場合でも保護膜とスライダとの距離を十分にとる
ことができる。

【００１３】しかし、波長λが短くなるにつれて、保護
膜とスライダとの距離を十分にとることが困難になる。
上述したように、記録膜とスライダとの距離をλ／５以
下にすることが要求されるからである。このことは、波
長λが短くなるにつれて、記録媒体上をより小さい浮上
量で安定して走行するスライダが要求されることを意味
する。スライダの浮上量が実質的にゼロに近づくと、ス
ライダが記録媒体に接触摺動する確率が増加する。スラ
イダが記録媒体に接触摺動すると、保護膜に傷が発生す
る。このことは、再生信号に著しい悪影響を与える。あ
るいは、スライダが記録媒体に接触することにより、ス
ライダがクラッシュするおそれがある。

【００１４】最近では、より高密度な記録を実現するた
め、このような系では対物レンズによって集光される光
ビームの波長はますます短くなる傾向にある。

【００１５】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、短波長（例えば、紫外波長）の光ビームを使用
した場合でも、スライダの浮上量を十分に確保しつつ、
記録媒体に情報を記録することが可能な記録装置および
記録方法を提供することを目的とする。

【００１６】また、本発明は、上述した記録方法によっ
て記録された記録媒体を原盤として用いて他の記録媒体
を製造する製造方法を提供することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の記録装置は、基
板と前記基板の上に形成された記録膜であって保護膜に
よって覆われていない記録膜とを含む記録媒体に情報を
記録する記録装置であって、４８８ｎｍ以下の波長を有
する光ビームを出射するレーザと、前記記録媒体の回転
を駆動する駆動回路と、前記記録媒体が回転している状
態において、前記記録媒体から浮上するように構成され
たスライダと、前記スライダと一体的に構成された半球
レンズと、前記スライダが前記記録媒体から浮上してい
る状態で、前記レーザから出射された前記光ビームを前
記半球レンズおよび前記スライダを介して前記記録媒体
の前記記録膜に照射する光学系とを備えており、これに
より、上記目的が達成される。

【００１８】前記スライダと前記半球レンズとは、前記
光ビームが通過する領域では接着剤を用いることなく貼
り合わされていることが好ましい。

【００１９】前記スライダおよび前記半球レンズはガラ
スから形成されており、前記スライダおよび前記半球レ
ンズの屈折率は、１．８以上であることが好ましい。

【００２０】前記駆動回路は、前記記録媒体が線速度一
定で回転するように前記記録媒体の回転数を制御しても
よい。

【００２１】前記記録媒体は、記録動作の開始時に前記
スライダを前記記録媒体から浮上させ、記録動作の終了
時に前記スライダを前記記録媒体に着地させるために使
用される第１領域と、前記情報を記録するための第２領
域とを含んでいてもよい。

【００２２】本発明の記録方法は、基板と前記基板の上
に形成された記録膜であって保護膜によって覆われてい
ない記録膜とを含む記録媒体に情報を記録する記録方法
であって、前記記録媒体を回転させるステップと、前記
記録媒体が回転している状態で、前記記録媒体からスラ
イダを浮上させるステップと、前記スライダが前記記録
媒体から浮上している状態で、レーザから出射された４
８８ｎｍ以下の波長を有する光ビームを前記スライダに
一体的に構成された半球レンズと前記スライダとを介し
て前記記録媒体の前記記録膜に照射するステップとを包
含しており、これにより、上記目的が達成される。

【００２３】本発明の記録媒体の製造方法は、上述した
記録方法に従って記録された記録媒体を原盤として用い
て、前記記録媒体の前記記録膜に記録された情報を他の
記録媒体に転写する工程を包含しており、これにより、
上記目的が達成される。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら発明の
実施の形態を説明する。

【００２５】図１は、本発明による記録装置１００の構
成を示す。記録装置１００は、アルゴンレーザ（Ａｒレ
ーザ）１０１とＨｅＮｅレーザ１１２とＨｅＮｅレーザ
１１６とを含んでいる。Ａｒレーザ１０１から出射され
る光ビームは、記録媒体１１０に情報を記録するために
使用される。ＨｅＮｅレーザ１１２から出射される光ビ
ームは、フォーカス制御を行うために使用される。Ｈｅ
Ｎｅレーザ１１６から出射される光ビームは、記録媒体
１１０の回転数を制御するために使用される。

【００２６】Ａｒレーザ１０１は、４８８ｎｍ以下の波
長を有する光レーザを出射する。本明細書では、４８８
ｎｍ以下の波長を「短波長」と定義する。すなわち、Ａ
ｒレーザ１０１は、短波長の光ビームを出射する。その
波長は、例えば、４８８ｎｍ、４５０ｎｍ、３６４ｎ
ｍ、３５１ｎｍ、２７５ｎｍである。このように短波長
の光ビームが使用されるのは、記録媒体１１０に情報を
高密度で記録するためである。

【００２７】Ａｒレーザ１０１から出射された光ビーム
は、光変調器１０２、記録光学系１０３およびハーフミ
ラー１０４を通過し、対物レンズ１０５、半球レンズ１
０７およびスライダ１０８によって記録媒体１１０上に
集光される。記録媒体１１０に記録されるべき情報のパ
ターンは、光変調器１０２によって制御される。光変調
器１０２は、光変調器ドライバ１１８によって駆動され
る。

【００２８】ＨｅＮｅレーザ１１２から出射された光ビ
ームは、記録媒体１１０によって反射される。その反射
光は、ハーフミラー１０４およびハーフミラー１２４を
介して受光器１１３に入射する。受光器１１３は、入射
された光に基づいて、フォーカスエラー信号を生成す
る。フォーカスサーボ１１９は、フォーカスエラー信号
に基づいて、フォーカス駆動コイル１０６を駆動する。
このようにして、Ａｒレーザ１０１から出射された光ビ
ームが記録媒体１１０上に常に集光されるように対物レ
ンズ１０５の位置が制御される。

【００２９】なお、対物レンズ１０５は、ラジアル方向
には移動しないように構成されている。従って、対物レ
ンズ１０５と半球レンズ１０７との横方向の相対位置は
変化しない。その結果、対物レンズ１０５と半球レンズ
１０７との横方向のずれに対する収差は発生しないこと
となる。

【００３０】ＨｅＮｅレーザ１１６から出射された光ビ
ームは、回転モータ１１４によって反射される。その反
射光は、ハーフミラー１２５を介して受光器１１７に入
射される。受光器１１７は、入射された光に基づいて、
記録媒体１１０の位置を示す信号を生成する。送りピッ
チモニタ１２２は、記録媒体１１０の位置をモニタし、
記録媒体１１０が線速度一定で回転するように、記録媒
体１１０の位置に応じて記録媒体１１０の回転数を制御
する。記録媒体１１０は、回転モータ１１４によって回
転される。記録媒体１１０の回転数は、回転モータドラ
イバ１２１によって制御される。

【００３１】記録媒体１１０の位置は、送りモータ１１
５によって決定される。送りモータ１１５は、送りモー
タドライバ１２０によって駆動される。

【００３２】スライダ１０８は、記録媒体１１０が回転
している状態で、記録媒体１１０から浮上し、その後、
記録媒体１１０の上を滑空するように構成されている。
スライダ１０８は、サスペンション１０９によって支持
されている。

【００３３】半球レンズ１０７は、スライダ１０８と一
体的に構成されている。例えば、半球レンズ１０７とス
ライダ１０８との接触面がオプティカルフラットになる
まで研磨され、半球レンズ１０７とスライダ１０８とが
その接触面で接着剤を用いることなくはり合わされる。
接着剤を用いると接触面の厚さのばらつきを±０．２ミ
クロン程度に抑える必要がある。接着剤を用いなけれ
ば、このような接触面の精度は要求されない。

【００３４】本明細書では、半球レンズ１０７とは、球
形のレンズの一部を所定の平面で切り取った形状を有す
るレンズをいうと定義される。その所定の平面を接触面
として、半球レンズ１０７とスライダ１０８とがはり合
わされる。半球レンズ１０７の定義から、半球レンズ１
０７は、球形のレンズの１／２のレンズに限定されな
い。半球レンズ１０７の半径をｒ、半球レンズ１０７お
よびスライダ１０８の屈折率をｎとするとき、半球レン
ズ１０７の高さとスライダ１０８の高さの和は、ｒもし
くはｒ＋ｒ／ｎに設定することが好ましい。

【００３５】半球レンズ１０７およびスライダ１０８
は、ガラスから形成されていることが好ましい。また、
半球レンズ１０７およびスライダ１０８の屈折率は、
１．８以上であることが好ましい。

【００３６】記録媒体１１０は、基板１１０ａと基板１
１０ａの上に形成された記録膜１１０ｂとを含む。好ま
しい実施態様では、基板１１０ａはガラス基板であり、
記録膜１１０ｂはフォトレジスト層である。フォトレジ
スト層は感光性を有する材料からできている。フォトレ
ジスト層に光を照射することにより、情報を表すパター
ンがフォトレジスト層に記録される。

【００３７】記録膜１１０ｂの上に保護膜は形成されて
いない。これにより、記録媒体１１０に情報を記録する
際に使用される光ビームが短波長を有している場合で
も、記録媒体１１０の記録膜１１０ｂに情報を表すパタ
ーンを形成することができる。

【００３８】図２は、好ましい実施態様における記録媒
体１１０の構造を示す。上述したように、ガラス基板１
１０ａの上にフォトレジスト層１１０ｂが形成されてい
る。このような構造は、例えば、溶媒により希釈された
感光性材料をスピンコート法を用いてガラス基板１１０
ａの上に塗布することによって形成される。フォトレジ
スト層１１０ｂの表面は、記録動作の開始時にスライダ
１０８を記録媒体１１０から浮上させ、記録動作の終了
時にスライダ１０８を記録媒体１１０に着地させるため
に使用される粗面部２１と、情報を記録するための鏡面
部２２とを含む。粗面部２１は、記録媒体１１０の外周
部に形成される。粗面部２１は、数１０ナノメートルか
ら数１００ナノメートル程度の粗さを有するように形成
される。このような粗面部２１の形成は、例えば、スパ
ッタエッチ法を用いて行われる。

【００３９】図３（ａ）および（ｂ）は、半球レンズ１
０７とスライダ１０８とをはり合わせた後に、半球レン
ズ１０７の周囲を接着剤３０１を用いてスライダ１０８
に固定した構造を示す。半球レンズ１０７とスライダ１
０８との接触面を完全に近いオプティカルフラットとす
ることにより、その接触面に接着剤を用いることなく、
半球レンズ１０７とスライダ１０８とをはり合わすこと
ができる。このように、光ビームが通過する領域では接
着剤が用いられることなく、半球レンズ１０７とスライ
ダ１０８とがはり合わされる。

【００４０】以下、上述した構成を有する記録装置１０
０の動作を説明する。

【００４１】記録媒体１１０に情報を記録するのに先立
って、記録媒体１１０の回転が開始される。記録媒体１
１０は、回転モータ１１４によって回転される。記録媒
体１１０が回転するにつれて、スライダ１０８が記録媒
体１１０の粗面部２１から浮上する。スライダ１０８の
浮上量が定常となった後、送りモータ１１５が駆動され
る。これにより、スライダ１０８の位置が粗面部２１か
ら鏡面部２２に移動する。

【００４２】その後、記録媒体１１０に記録されるべき
情報に応じて光変調器１０２が駆動される。これによ
り、記録媒体１１０の鏡面部２２に記録パターンが記録
される。記録媒体１１０は、送りモータ１１５によって
所定のピッチで送られる。これにより、記録パターンが
所定のピッチで記録媒体１１０の鏡面部２２に記録され
る。

【００４３】記録媒体１１０の位置は、送りモータ１１
５によって決定される。記録媒体１１０の位置に応じて
記録媒体１１０の回転数が制御される。その結果、記録
媒体１１０が線速度一定で回転される。

【００４４】記録媒体１１０が線速度一定で回転される
結果、記録媒体１１０のどの位置に情報を記録する場合
でもスライダ１０８の浮上量を一定とすることができ
る。スライダ１０８は、記録媒体１１０の線速度が一定
である場合にスライダ１０８の浮上量が一定となるよう
にサスペンション１０９によって支持されているからで
ある。これにより、記録媒体１１０に情報を記録する際
の条件を常に一定に保つことが可能になる。

【００４５】半球レンズ１０７を用いて短波長（例え
ば、紫外波長）の光ビームを微小なビームスポットに絞
り、エバネッセント光を利用して記録媒体１１０の記録
膜１１０ｂに情報を記録する場合には、スライダ１０８
と記録膜１１０ｂとの間の距離は、１５ｎｍ〜６０ｎｍ
程度とすることが望ましい。その距離は、１５ｎｍ〜３
０ｎｍであることが特に好ましい。

【００４６】従来のように、記録媒体の記録膜の上に保
護膜が形成されている場合にスライダと記録膜との間の
望ましい距離を確保しようとすると、スライダの浮上量
を実質的にゼロにせざるをえなくなる。保護膜の厚さの
分だけ、スライダの浮上量を低減する必要があるからで
ある。その結果、記録媒体のキズや損傷を回避すること
は不可能となる。

【００４７】これに対し、本発明では、記録膜の上に保
護膜が形成されていない記録媒体が使用される。従っ
て、短波長（例えば、紫外波長）の光ビームを使用する
場合でも、１５ｎｍ〜６０ｎｍ程度のスライダ１０８の
浮上量を確保することができる。このようにして、情報
を高密度で記録することが実現される。

【００４８】図４（ａ）〜（ｈ）は、記録媒体１１０を
原盤として用いて記録媒体２１０を製造する工程を示
す。図４（ｉ）は、そのようにして製造された記録媒体
２１０上の情報を再生する工程を示す。工程４０１〜４
０８は、クラス１０００のクリーン環境下で行われるこ
とが好ましい。特に、工程４０３は、クラス１００のク
リーン環境下で行われることが好ましい。

【００４９】工程４０１：ガラス基板１１０ａの上にフ
ォトレジスト層１１０ｂが形成される（図４（ａ））。
このようにして記録媒体１１０が形成される。記録媒体
１１０は、例えば、溶剤により希釈されたフォトレジス
トをスピンコート法を用いてガラス基板１１０ａに塗布
することによって形成される。フォトレジスト層１１０
ｂは、情報を表すパターンを記録する記録膜として機能
する。フォトレジスト層１１０ｂの厚さは、プリベーク
後で約４０ｎｍである。

【００５０】工程４０２：記録媒体１１０の外周部に粗
面部２１が形成される（図４（ｂ））。粗面部２１は、
例えば、アルゴンイオンＡｒ⁺を用いて、記録媒体１１
０の外周部のみをスパッタエッチすることにより形成さ
れる。

【００５１】工程４０３：記録装置１００（図１）を用
いて、Ａｒレーザ１０１から出射された短波長の光ビー
ムが記録媒体１１０のフォトレジスト層１１０ｂに照射
される（図４（ｃ））。これにより、情報を表すパター
ンが記録媒体１１０のフォトレジスト層１１０ｂに記録
される。工程４０３は、記録装置１００に対する記録媒
体１１０の脱着を含めてクリーン環境の下で実行される
ことが好ましい。クリーン環境の下では、スライダを安
定した浮上状態で動作させることができる。その結果、
記録の信頼性を著しく向上させることができる。

【００５２】工程４０４：フォトレジスト層１１０ｂを
現像することにより、フォトレジスト層１１０ｂから光
ビームが照射された部分が除去される（図４（ｄ））。
これにより、情報を表すパターンがフォトレジスト層１
１０ｂの凹凸として表現される。

【００５３】工程４０５：レプリカ２２０が形成される
（図４（ｅ））。レプリカ２２０は、例えば、記録媒体
１１０の表面にニッケルをスパッタ蒸着し、そのニッケ
ルを電極としてニッケルメッキを施し、裏打ちを行った
ものを記録媒体１１０から剥離することによって形成さ
れる。なお、工程４０５において、記録媒体１１０の外
周部に設けられた粗面部２１に対向するレプリカ２２０
の部分は切り落とされる。

【００５４】工程４０６：レプリカ２２０をスタンパと
して用いて、基板２３０が成形される（図４（ｆ））。
基板２３０は、樹脂材料から形成されている。これによ
り、工程４０３において形成されたフォトレジスト層１
１０ｂの凹凸が基板２３０に転写される。

【００５５】工程４０７：基板２３０の上に反射膜２４
０が形成される（図４（ｇ））。反射膜２４０は、例え
ば、基板２３０の上にアルミニウムを製膜することによ
って得られる。

【００５６】工程４０８：反射膜２４０の上に保護膜
（オーバーコート）２５０が形成される（図４
（ｈ））。保護膜２４０は、樹脂材料から形成されてい
る。保護膜２４０の形成には、例えば、スピンコート法
を用いることができる。このようにして、基板２３０と
反射膜２４０と保護膜２５０とを含む記録媒体２１０が
形成される。

【００５７】工程４０９：青色レーザを記録媒体２１０
の基板２３０側から照射することにより、基板２３０の
凹凸に対応する凹凸信号が再生される（図４（ｉ））。
青色レーザは、例えば、４２０ｎｍの波長を有してい
る。

【００５８】以上説明したように、記録媒体１１０を原
盤として記録媒体２１０を製造することができる。ま
た、青色レーザを用いて記録媒体２１０上の情報を基板
２３０の側から何度でも再生することができる。このよ
うな再生には、クリーン環境は何ら必要とされない。記
録媒体２１０は、従来の記録媒体と同様に取り扱うこと
ができる。

【００５９】なお、図４（ａ）〜図４（ｈ）を参照して
説明した工程４０１〜４０８は、再生専用の記録媒体２
１０を製造する際に必要とされる工程である。しかし、
記録・再生用の記録媒体２１０を製造することも可能で
ある。記録・再生用の記録媒体２１０を製造するために
は、工程４０３において情報を記録する代わりにトラッ
ク溝を形成し、工程４０７においてアルミニウムを製膜
する代わりに、光磁気膜または相変化記録膜等を形成す
るようにすればよい。これにより、工程４０９において
青色レーザを用いて記録媒体２１０に情報を記録し、そ
の後、記録媒体２１０から情報を再生することができ
る。

【００６０】また、この場合、工程４０３における記録
を線速度一定で行い、工程４０９における再生または記
録／再生を角速度一定で行うことが好ましい。工程４０
３における記録を安定化し、かつ、工程４０９における
アクセス速度を速くすることができるからである。

【００６１】

【発明の効果】本発明によれば、短波長の光ビームを出
射するレーザと、保護膜に覆われていない記録膜の上を
浮上滑空するスライダおよび半球レンズとを組み合わせ
ることにより、スライダの安定した浮上量を確保するこ
とができる。これにより、０．２ミクロン以下の記録マ
ークを安定して形成することができるという顕著な効果
が得られる。さらに、スライダと半球レンズとを接触面
で接着剤を介さずにはり合わせることにより、接着層の
厚さ誤差に伴う収差を低く押さえることができる。その
結果、組立精度が著しく改善される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による記録装置１００の構成を示すブロ
ック図である。

【図２】記録媒体１１０の構造を示す図である。

【図３】（ａ）および（ｂ）は、半球レンズ１０７とス
ライダ１０８とをはり合わせた後に、半球レンズ１０７
の周囲を接着剤３０１を用いてスライダ１０８に固定し
た構造を示す図である。

【図４】（ａ）〜（ｈ）は記録媒体１１０を原盤として
用いて記録媒体２１０を製造する工程を示す図、（ｉ）
はそのようにして製造された記録媒体２１０上の情報を
再生する工程を示す図である。

【図５】従来の記録再生光学系５００の構造を示す図で
ある。

【符号の説明】

１０１ Ａｒレーザ １０２ 光変調器 １０３ 記録光学系 １０４ ハーフミラー １０５ 対物レンズ １０６ フォーカス駆動用コイル １０７ 半球レンズ １０８ スライダ １０９ サスペンション １１０ 記録媒体 １１０ａ 基板 １１０ｂ 記録膜 １１２ ＨｅＮｅレーザ １１３ 受光器 １１４ 回転モータ １１５ 送りモータ １１６ ＨｅＮｅレーザ １１７ 受光器 １１８ 光変調器ドライバ １１９ フォーカスサーボ １２０ 送りモータドライバ １２１ 回転モータドライバ １２２ 送りピッチモニタ １２３ システムコントローラ １２４、１２５ ハーフミラー

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と前記基板の上に形成された記録膜
   であって保護膜によって覆われていない記録膜とを含む
   記録媒体に情報を記録する記録装置であって、 ４８８ｎｍ以下の波長を有する光ビームを出射するレー
   ザと、 前記記録媒体の回転を駆動する駆動回路と、 前記記録媒体が回転している状態において、前記記録媒
   体から浮上するように構成されたスライダと、 前記スライダと一体的に構成された半球レンズと、 前記スライダが前記記録媒体から浮上している状態で、
   前記レーザから出射された前記光ビームを前記半球レン
   ズおよび前記スライダを介して前記記録媒体の前記記録
   膜に照射する光学系とを備えた記録装置。
2. 【請求項２】 前記スライダと前記半球レンズとは、前
   記光ビームが通過する領域では接着剤を用いることなく
   貼り合わされている、請求項１に記載の記録装置。
3. 【請求項３】 前記スライダおよび前記半球レンズはガ
   ラスから形成されており、前記スライダおよび前記半球
   レンズの屈折率は、１．８以上である、請求項１に記載
   の記録装置。
4. 【請求項４】 前記駆動回路は、前記記録媒体が線速度
   一定で回転するように前記記録媒体の回転数を制御す
   る、請求項１に記載の記録装置。
5. 【請求項５】 前記記録媒体は、記録動作の開始時に前
   記スライダを前記記録媒体から浮上させ、記録動作の終
   了時に前記スライダを前記記録媒体に着地させるために
   使用される第１領域と、前記情報を記録するための第２
   領域とを含む、請求項１に記載の記録装置。
6. 【請求項６】 基板と前記基板の上に形成された記録膜
   であって保護膜によって覆われていない記録膜とを含む
   記録媒体に情報を記録する記録方法であって、 前記記録媒体を回転させるステップと、 前記記録媒体が回転している状態で、前記記録媒体から
   スライダを浮上させるステップと、 前記スライダが前記記録媒体から浮上している状態で、
   レーザから出射された４８８ｎｍ以下の波長を有する光
   ビームを前記スライダに一体的に構成された半球レンズ
   と前記スライダとを介して前記記録媒体の前記記録膜に
   照射するステップとを包含する記録方法。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の記録方法に従って記録
   された情報を有する記録媒体を原盤として用いて、前記
   記録媒体の前記記録膜に記録された情報を他の記録媒体
   に転写する工程を包含する、記録媒体の製造方法。