JPH10340584A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPH10340584A JPH10340584A JP15126597A JP15126597A JPH10340584A JP H10340584 A JPH10340584 A JP H10340584A JP 15126597 A JP15126597 A JP 15126597A JP 15126597 A JP15126597 A JP 15126597A JP H10340584 A JPH10340584 A JP H10340584A
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- digit
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体記憶装置において、メモリセルのデー
タ保持部の安定度を損うことなく大きくし、またセンス
を不要にする。 【解決手段】 メモリセルはリード動作用のデジット線
DRを1本有している。リード動作の初期に、パルス発
生回路PGにより、MOSトランジスタM11が短時間
オン状態になるようにワンショットパルスがMOSトラ
ンジスタM11に加えられ、その結果デジット線DRは
電源電位Vccまで引き上げられる。デジット線DRの
接地電位への引き下げは、MOSトランジスタM5、M
6によって行なわれる。
タ保持部の安定度を損うことなく大きくし、またセンス
を不要にする。 【解決手段】 メモリセルはリード動作用のデジット線
DRを1本有している。リード動作の初期に、パルス発
生回路PGにより、MOSトランジスタM11が短時間
オン状態になるようにワンショットパルスがMOSトラ
ンジスタM11に加えられ、その結果デジット線DRは
電源電位Vccまで引き上げられる。デジット線DRの
接地電位への引き下げは、MOSトランジスタM5、M
6によって行なわれる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特にCMOSおよびBiCMOSによって構成され
るSRAMに関する。
し、特にCMOSおよびBiCMOSによって構成され
るSRAMに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体記憶装置は、図10に示す
ように、MOSトランジスタM1、M2、M3、M4で
構成されるデータ記憶部分と、データの入出力を制御す
るMOSトランジスタM7、M9と、MOSトランジス
タM7、M9のオン/オフを制御するワード線WLと、
データの伝達を行うデジット線D、DBと、データ読み
出し時の負荷となるMOSトランジスタM15、M16
と、読み出し時に、デジット線D、DBの電位差を増幅
するセンスアンプSAと、書き込み時に、デジット線
D、DBをドライブする書き込み回路WCを有してい
る。
ように、MOSトランジスタM1、M2、M3、M4で
構成されるデータ記憶部分と、データの入出力を制御す
るMOSトランジスタM7、M9と、MOSトランジス
タM7、M9のオン/オフを制御するワード線WLと、
データの伝達を行うデジット線D、DBと、データ読み
出し時の負荷となるMOSトランジスタM15、M16
と、読み出し時に、デジット線D、DBの電位差を増幅
するセンスアンプSAと、書き込み時に、デジット線
D、DBをドライブする書き込み回路WCを有してい
る。
【0003】次に、本従来例の動作について説明する。
読み出し状態では、ワード線WLが高電位になり、MO
SトランジスタM7、M9がオンとなる。メモリセルの
情報に応じてデジット線D、DBいずれか一方に読み出
し電流I1(MOSトランジスタM2がオンの場合)ま
たはI2(MOSトランジスタM4がオンの場合)が流
れ、負荷MOSトランジスタM14、M15によって、
電流の流れているデジット線は電源電位Vccより0.
1V程度低い電位に、電流の流れていないもう一方のデ
ジット線はVccと同電位となり、その電位差はセンス
アンプSAによって増幅される。
読み出し状態では、ワード線WLが高電位になり、MO
SトランジスタM7、M9がオンとなる。メモリセルの
情報に応じてデジット線D、DBいずれか一方に読み出
し電流I1(MOSトランジスタM2がオンの場合)ま
たはI2(MOSトランジスタM4がオンの場合)が流
れ、負荷MOSトランジスタM14、M15によって、
電流の流れているデジット線は電源電位Vccより0.
1V程度低い電位に、電流の流れていないもう一方のデ
ジット線はVccと同電位となり、その電位差はセンス
アンプSAによって増幅される。
【0004】書き込み動作では、ワード線WLが高電位
の状態で、書き込み回路WCによりデジット線D、DB
の一方を接地電位に、もう一方をVccにし、MOSト
ランジスタM7、M9を通してメモリセルにデータを書
き込む。
の状態で、書き込み回路WCによりデジット線D、DB
の一方を接地電位に、もう一方をVccにし、MOSト
ランジスタM7、M9を通してメモリセルにデータを書
き込む。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置は下記のような問題点があった。
記憶装置は下記のような問題点があった。
【0006】第1の問題点は、読み出し動作において、
メモリセルとセンスアンプ部でDC電流を消費すること
である。その理由は、読み出し動作において、メモリセ
ル内のデータ保持をしているMOSトランジスタM3、
M4に電流が流れるのと、デジット線D、DBの電位差
が小さいために、電位増幅用のセンスアンプを必要とす
るからである。
メモリセルとセンスアンプ部でDC電流を消費すること
である。その理由は、読み出し動作において、メモリセ
ル内のデータ保持をしているMOSトランジスタM3、
M4に電流が流れるのと、デジット線D、DBの電位差
が小さいために、電位増幅用のセンスアンプを必要とす
るからである。
【0007】第2の問題点は、メモリセル内のデータ保
持をしているMOSトランジスタM3、M4に電流を流
しているため、あまり大きな読み出し電流をとることが
できず、デジット線D、DBの応答速度を高めるために
は、MOSトランジスタM14、M15のインピーダン
スを小さくするため、デジット線D、DBの電位差が
0.1Vしか得られないことである。その理由は、メモ
リセル内のデータ保持部分にあまり大きな電流を流す
と、その電流により、データ保持部に電位変動が生じ、
データ保持の安定性が低下してしまうためである。
持をしているMOSトランジスタM3、M4に電流を流
しているため、あまり大きな読み出し電流をとることが
できず、デジット線D、DBの応答速度を高めるために
は、MOSトランジスタM14、M15のインピーダン
スを小さくするため、デジット線D、DBの電位差が
0.1Vしか得られないことである。その理由は、メモ
リセル内のデータ保持部分にあまり大きな電流を流す
と、その電流により、データ保持部に電位変動が生じ、
データ保持の安定性が低下してしまうためである。
【0008】本発明の目的は、メモリセルのデータ保持
の安定性を低下させることなく、読み出し電流の増加を
実現し、読み出し時のデジット線電位の振幅を増大さ
せ、センスアンプが不要な回路構成の半導体記憶装置を
提供することにある。
の安定性を低下させることなく、読み出し電流の増加を
実現し、読み出し時のデジット線電位の振幅を増大さ
せ、センスアンプが不要な回路構成の半導体記憶装置を
提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、1本の読み出し用デジット線と、デジット線を電源
電位に引き上げるMOSトランジスタと、メモリセル内
に、データ安定性を低下させることなくデジット線を接
地電位に引き下げるMOSトランジスタを有している。
は、1本の読み出し用デジット線と、デジット線を電源
電位に引き上げるMOSトランジスタと、メモリセル内
に、データ安定性を低下させることなくデジット線を接
地電位に引き下げるMOSトランジスタを有している。
【0010】メモリセルの読み出し電流を流すMOSト
ランジスタは、データ保持部分のMOSトランジスタに
ゲートが接続されているため、保持部分に読み出し電流
が流れることはない。そのため、メモリセルの安定度を
問題にすることなく、読み出し電流を大きくすることが
可能になる。リード動作用デジット線に大きな電流が流
せるので、短時間でリード動作用デジット線を引き下げ
ることが可能になる。ただしメモリセル自身には、リー
ド動作用デジット線を引き上げる作用がないので、リー
ド動作用デジット線の引き上げはデジット線制御用MO
Sトランジスタによって行われる。
ランジスタは、データ保持部分のMOSトランジスタに
ゲートが接続されているため、保持部分に読み出し電流
が流れることはない。そのため、メモリセルの安定度を
問題にすることなく、読み出し電流を大きくすることが
可能になる。リード動作用デジット線に大きな電流が流
せるので、短時間でリード動作用デジット線を引き下げ
ることが可能になる。ただしメモリセル自身には、リー
ド動作用デジット線を引き上げる作用がないので、リー
ド動作用デジット線の引き上げはデジット線制御用MO
Sトランジスタによって行われる。
【0011】その結果、従来例のようにデジット線の応
答速度を改善するための負荷MOSトランジスタが不要
になり、読み出し動作時にメモリセルを流れるDC電流
を削減できる。また、センスアンプが消費していたDC
電流も削減される。
答速度を改善するための負荷MOSトランジスタが不要
になり、読み出し動作時にメモリセルを流れるDC電流
を削減できる。また、センスアンプが消費していたDC
電流も削減される。
【0012】本発明の実施態様によれば、デジット線
は、リード動作用1本とライト動作用の2本を有し、該
メモリセルに、データ保持部に電流を流入させることな
く、リード動作用デジット線に読み出し電流を流せる電
流経路を有する。
は、リード動作用1本とライト動作用の2本を有し、該
メモリセルに、データ保持部に電流を流入させることな
く、リード動作用デジット線に読み出し電流を流せる電
流経路を有する。
【0013】本発明の実施態様によれば、ワード線は、
リード動作用とライト動作用の2系統を有し、ライト動
作用デジット線2本のうち1本がリード動作用デジット
線と共用化されている。
リード動作用とライト動作用の2系統を有し、ライト動
作用デジット線2本のうち1本がリード動作用デジット
線と共用化されている。
【0014】本発明の実施態様によれば、ワード線は、
リード動作用とライト動作用の2系統を有し、デジット
線は、リード動作用1本とライト動作用1本を有する。
リード動作用とライト動作用の2系統を有し、デジット
線は、リード動作用1本とライト動作用1本を有する。
【0015】本発明の実施態様によれば、ライト動作用
デジット線がリード動作用デジット線と共用化されてい
る。
デジット線がリード動作用デジット線と共用化されてい
る。
【0016】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
て図面を参照して詳細に説明する。
【0017】図1は本発明の第1の実施の形態の半導体
記憶装置の回路図である。MOSトランジスタM1〜M
4はデータを保持するラッチ回路を形成している。MO
SトランジスタM5、M6がリード動作において、読み
出し電流を流す役目をする。MOSトランジスタM7〜
M10はライト動作において、MOSトランジスタM1
〜M4で形成されるラッチ回路の反転動作を行う。WL
はMOSトランジスタM5、M7、M9のオン/オフを
コントロールするワード線、DRはリード動作用のデジ
ット線、DW、DWBはライト動作用のデジット線であ
る。MOSトランジスタM11は、リード動作の初期に
おいて、デジット線DRを引き上げる役目をする。MO
SトランジスタM11はクロック信号を元に、ワンショ
ットのパルスを発生する回路PGでドライブされる。デ
ータ出力部において、MOSトランジスタM12、M1
3は、デジット線DRが高電位の時にラッチをかけ、デ
ジット線DRがフローティングになるのを防止する。Y
はデジット線の選択信号で、非選択時にMOSトランジ
スタM11の動作を停止するのと同時に、MOSトラン
ジスタM14によってデジット線DRを低電位に固定す
る役目をする。
記憶装置の回路図である。MOSトランジスタM1〜M
4はデータを保持するラッチ回路を形成している。MO
SトランジスタM5、M6がリード動作において、読み
出し電流を流す役目をする。MOSトランジスタM7〜
M10はライト動作において、MOSトランジスタM1
〜M4で形成されるラッチ回路の反転動作を行う。WL
はMOSトランジスタM5、M7、M9のオン/オフを
コントロールするワード線、DRはリード動作用のデジ
ット線、DW、DWBはライト動作用のデジット線であ
る。MOSトランジスタM11は、リード動作の初期に
おいて、デジット線DRを引き上げる役目をする。MO
SトランジスタM11はクロック信号を元に、ワンショ
ットのパルスを発生する回路PGでドライブされる。デ
ータ出力部において、MOSトランジスタM12、M1
3は、デジット線DRが高電位の時にラッチをかけ、デ
ジット線DRがフローティングになるのを防止する。Y
はデジット線の選択信号で、非選択時にMOSトランジ
スタM11の動作を停止するのと同時に、MOSトラン
ジスタM14によってデジット線DRを低電位に固定す
る役目をする。
【0018】また、本発明の第2の実施の形態の変形例
として、図2に示すように、メモリセルのデータ反転回
路をM7、M9のように構成してもよい。この場合は、
図1の実施形態と比較してメモリセルを構成するMOS
トランジスタの数を削減することが可能であるが、デー
タ保持部に電流が流れるので、安定性に留意した設計が
必要になる。
として、図2に示すように、メモリセルのデータ反転回
路をM7、M9のように構成してもよい。この場合は、
図1の実施形態と比較してメモリセルを構成するMOS
トランジスタの数を削減することが可能であるが、デー
タ保持部に電流が流れるので、安定性に留意した設計が
必要になる。
【0019】次に、本実施形態の動作について、図1〜
3を参照して詳細に説明する。
3を参照して詳細に説明する。
【0020】まず、ワード線WLおよび選択信号Yが高
電位になり、メモリセルおよびデジット線DRが選択状
態であるものとする。次に、パルス発生回路PGによ
り、リード動作の初期に、短時間MOSトランジスタM
11がオン状態になるよう、ワンショットのパルスが印
加され、デジット線DRは電源電位Vccまで引き上げ
られる。その後メモリセルのデータが、読み出し電流が
0となる(MOSトランジスタM6がオフ)の状態を記
憶している場合、デジット線DRの電位は図3で実線で
示すように高電位を保ったままになる。この時DOB、
YBは低電位になっているので、MOSトランジスタM
12、13がオン状態になり、デジット線DRを高電位
に保持しつづける。逆に、メモリセルのデータが、読み
出し電流を流す(MOSトランジスタM6がオン)の状
態を記憶している場合、デジット線DRの電位は図3に
点線で示されるように、高電位から低電位に引き下げら
れる。この時、データ出力DOBが低電位から高電位に
反転するまでの間、MOSトランジスタM12、M13
がオン状態になっているので、デジット線DRを引き上
げるように作用するが、MOSトランジスタM12、M
13の素子サイズを小さくしておけば、メモリセルによ
る引き下げを阻害することはない。
電位になり、メモリセルおよびデジット線DRが選択状
態であるものとする。次に、パルス発生回路PGによ
り、リード動作の初期に、短時間MOSトランジスタM
11がオン状態になるよう、ワンショットのパルスが印
加され、デジット線DRは電源電位Vccまで引き上げ
られる。その後メモリセルのデータが、読み出し電流が
0となる(MOSトランジスタM6がオフ)の状態を記
憶している場合、デジット線DRの電位は図3で実線で
示すように高電位を保ったままになる。この時DOB、
YBは低電位になっているので、MOSトランジスタM
12、13がオン状態になり、デジット線DRを高電位
に保持しつづける。逆に、メモリセルのデータが、読み
出し電流を流す(MOSトランジスタM6がオン)の状
態を記憶している場合、デジット線DRの電位は図3に
点線で示されるように、高電位から低電位に引き下げら
れる。この時、データ出力DOBが低電位から高電位に
反転するまでの間、MOSトランジスタM12、M13
がオン状態になっているので、デジット線DRを引き上
げるように作用するが、MOSトランジスタM12、M
13の素子サイズを小さくしておけば、メモリセルによ
る引き下げを阻害することはない。
【0021】次に、ライト動作について説明する。ライ
ト動作は従来例と同じである。ワード線WLが高電位で
メモリセルが選択状態の時、デジット線DWが高電位、
デジット線DWBが低電位の場合、図1の実施形態では
MOSトランジスタM9、M10がオンになり、節点Q
Bの電位を引き下げる。図2の実施形態では、DWBが
低電位なので、オン状態のMOSトランジスタM9を通
して節点QBを引き下げる。デジット線DWが低電位、
デジット線DWBが高電位の場合、図1の実施形態では
MOSトランジスタM7、M8がオンになり、デジット
線Qの電位を引き下げる。図2の実施形態では、デジッ
ト線DWが低電位なので、オン状態のMOSトランジス
タM7を通して節点Qを引き下げる。
ト動作は従来例と同じである。ワード線WLが高電位で
メモリセルが選択状態の時、デジット線DWが高電位、
デジット線DWBが低電位の場合、図1の実施形態では
MOSトランジスタM9、M10がオンになり、節点Q
Bの電位を引き下げる。図2の実施形態では、DWBが
低電位なので、オン状態のMOSトランジスタM9を通
して節点QBを引き下げる。デジット線DWが低電位、
デジット線DWBが高電位の場合、図1の実施形態では
MOSトランジスタM7、M8がオンになり、デジット
線Qの電位を引き下げる。図2の実施形態では、デジッ
ト線DWが低電位なので、オン状態のMOSトランジス
タM7を通して節点Qを引き下げる。
【0022】
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
して詳細に説明する。
して詳細に説明する。
【0023】図4は図1の実施形態に相当する実施例で
ある。MOSトランジスタM1〜M14に付記されてい
る数値は、チャネル幅をμm単位で表わしている。ま
た、いずれのトランジスタM1〜M14もチャネル長は
0.5μmである。ライト動作は従来と変わらないの
で、リード動作を中心に説明する。本発明で特徴的なの
は、データ記憶部分のMOSトランジスタM4に対し
て、データの読み出しトランジスタM5、M6のチャネ
ル幅が4倍の大きさを持っていることである。従来の回
路では、データ保持の安定度の問題から、データ記憶部
分のトランジスタに対して読み出しトランジスタのチャ
ネル幅を1/3〜1/4に押さえる必要があった。本実
施例では、データ記憶部分のトランジスタサイズを同一
とした場合、従来に比例して約一桁大きい電流を流すこ
とができる。
ある。MOSトランジスタM1〜M14に付記されてい
る数値は、チャネル幅をμm単位で表わしている。ま
た、いずれのトランジスタM1〜M14もチャネル長は
0.5μmである。ライト動作は従来と変わらないの
で、リード動作を中心に説明する。本発明で特徴的なの
は、データ記憶部分のMOSトランジスタM4に対し
て、データの読み出しトランジスタM5、M6のチャネ
ル幅が4倍の大きさを持っていることである。従来の回
路では、データ保持の安定度の問題から、データ記憶部
分のトランジスタに対して読み出しトランジスタのチャ
ネル幅を1/3〜1/4に押さえる必要があった。本実
施例では、データ記憶部分のトランジスタサイズを同一
とした場合、従来に比例して約一桁大きい電流を流すこ
とができる。
【0024】次に、本発明の実施例の動作について、図
5を参照して詳細に説明する。
5を参照して詳細に説明する。
【0025】図4の例において、読み出し電流が1mA
流れるものとする。リード動作用のデジット線DRの容
量が0.5pFの場合、電位の降下速度は、 dV/dt=I/C=1mA/0.5pF=2V/nS になる。電源電位はVccを3Vとすると、Vcc/2
まで降下する時間tは t=(Vcc/2)/(dV/dt)=0.75nS である。
流れるものとする。リード動作用のデジット線DRの容
量が0.5pFの場合、電位の降下速度は、 dV/dt=I/C=1mA/0.5pF=2V/nS になる。電源電位はVccを3Vとすると、Vcc/2
まで降下する時間tは t=(Vcc/2)/(dV/dt)=0.75nS である。
【0026】
【発明の実施の形態】図6は、本発明の第2の実施形態
をに示す図である。本実施形態では、リード動作制御ト
ランジスタM5は、リード動作用ワード線WLRで、ラ
イト動作制御トランジスタM7、M9は、ライト動作用
ワード線WLWによって、それぞれ独立に制御されてい
る。本実施形態は2ポートのSRAMに応用できる。
をに示す図である。本実施形態では、リード動作制御ト
ランジスタM5は、リード動作用ワード線WLRで、ラ
イト動作制御トランジスタM7、M9は、ライト動作用
ワード線WLWによって、それぞれ独立に制御されてい
る。本実施形態は2ポートのSRAMに応用できる。
【0027】図7は第2の実施形態において、ライト動
作用デジット線2本のうち1本を、リード動作用デジッ
ト線と共用化したものである。本実施形態ではリード動
作用のワード線WLRかライト動作用ワード線WLWの
いずれか一方のみを高電位にして動作させる。ワード線
WLRが高電位の場合、デジット線Dはリード動作用デ
ジット線として、ワード線WLWが高電位の場合、デジ
ット線DおよびDWBがライト動作用デジット線として
動作する。
作用デジット線2本のうち1本を、リード動作用デジッ
ト線と共用化したものである。本実施形態ではリード動
作用のワード線WLRかライト動作用ワード線WLWの
いずれか一方のみを高電位にして動作させる。ワード線
WLRが高電位の場合、デジット線Dはリード動作用デ
ジット線として、ワード線WLWが高電位の場合、デジ
ット線DおよびDWBがライト動作用デジット線として
動作する。
【0028】図8はリード動作用デジット線1本と、ラ
イト動作用デジット線1本で構成した実施形態である。
ワード線はリード動作用のWLRとライト動作用のWL
Wの2系統を有する。本実施例は2ポートのSRAMに
応用できる。
イト動作用デジット線1本で構成した実施形態である。
ワード線はリード動作用のWLRとライト動作用のWL
Wの2系統を有する。本実施例は2ポートのSRAMに
応用できる。
【0029】図9は図8の実施例において、リード動作
用デジット線とライト動作用デジット線を共用化した実
施形態である。本実施形態ではリード動作用ワード線W
LRとライト動作用ワード線WLWのいずれか一方のみ
を高電位にして動作させる。
用デジット線とライト動作用デジット線を共用化した実
施形態である。本実施形態ではリード動作用ワード線W
LRとライト動作用ワード線WLWのいずれか一方のみ
を高電位にして動作させる。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、下記の
ような効果がある。 (1)メモリセルのデータ保持部の安定度を損うことな
く読み出し電流を大きくすることが可能である。その理
由は、データ保持部に読み出し電流が流れ込まないの
で、データ保持部に電位変動を生じさせることなく、読
み出し電流を大きくできるからである。 (2)リード動作用デジット線の電位を、電源電位から
接地電位まで引き下げることが可能になり、センスアン
プが不要になる。その理由は、メモリセルの読み出し電
流が大きいので短時間でデジット線電位を引き下げ可能
だからである。
ような効果がある。 (1)メモリセルのデータ保持部の安定度を損うことな
く読み出し電流を大きくすることが可能である。その理
由は、データ保持部に読み出し電流が流れ込まないの
で、データ保持部に電位変動を生じさせることなく、読
み出し電流を大きくできるからである。 (2)リード動作用デジット線の電位を、電源電位から
接地電位まで引き下げることが可能になり、センスアン
プが不要になる。その理由は、メモリセルの読み出し電
流が大きいので短時間でデジット線電位を引き下げ可能
だからである。
【図1】本発明の第1の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。
路図である。
【図2】第1の実施形態の変形例を示す図である。
【図3】第1の実施形態の動作波形図である。
【図4】本発明の第1の実施例の半導体記憶装置の回路
図である。
図である。
【図5】第1の実施例の動作波形図である。
【図6】本発明の第2の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。
路図である。
【図7】本発明の第3の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。
路図である。
【図8】本発明の第4の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。
路図である。
【図9】本発明の第5の実施形態の半導体記憶装置の回
路図である。
路図である。
【図10】半導体記憶装置の従来例の回路図である。
M1〜M14 MOSトランジスタ WL、WLR、WLW ワード線 D、DB、DR、DW、DWB デジット線 Y デジット線選択信号 I、I1、I2 読み出し電流 Q、QB データ保持部の節点 DOB データ出力 RP デジット線引き上げ用p形MOSトランジスタ
駆動信号 WC 書き込み回路 PG パルス発生回路 SA センスアンプ
駆動信号 WC 書き込み回路 PG パルス発生回路 SA センスアンプ
Claims (5)
- 【請求項1】 複数のワード線とデジット線のマトリッ
クスで構成されるメモリセルアレイと、該デジット線を
制御するMOSトランジスタを有する半導体記憶装置に
おいて、 前記メモリセルは、リード動作用のデジット線を1本有
し、該デジット線の引き上げ動作は、前記MOSトラン
ジスタに、リード動作の初期に、ワンショットパルスを
印加することで行い、引き下げ動作は、前記メモリセル
で行うことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項2】 前記デジット線は、リード動作用1本と
ライト動作用の2本を有し、該メモリセルに、データ保
持部に電流を流入させることなく、リード動作用デジッ
ト線に読み出し電流を流せる電流経路を有する請求項1
記載の半導体記憶装置。 - 【請求項3】 ワード線は、リード動作用とライト動作
用の2系統を有し、ライト動作用デジット線2本のうち
1本がリード動作用デジット線と共用化されている請求
項2記載の半導体記憶装置。 - 【請求項4】 ワード線は、リード動作用とライト動作
用の2系統を有し、デジット線は、リード動作用1本と
ライト動作用1本を有する請求項2記載の半導体記憶装
置。 - 【請求項5】ライト動作用デジット線がリード動作用デ
ジット線と共用化されている請求項4記載の半導体記憶
装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15126597A JPH10340584A (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15126597A JPH10340584A (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10340584A true JPH10340584A (ja) | 1998-12-22 |
Family
ID=15514892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15126597A Pending JPH10340584A (ja) | 1997-06-09 | 1997-06-09 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10340584A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002093176A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-03-29 | Mitsubishi Electric Corp | 記憶装置 |
| JP2005228468A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Fujitsu Ltd | メモリの差動電流モードを検出する方法と装置 |
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-
1997
- 1997-06-09 JP JP15126597A patent/JPH10340584A/ja active Pending
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| EP1924998A4 (en) * | 2005-08-11 | 2009-11-25 | Texas Instruments Inc | SRAM CELL WITH SEPARATE READ-WRITE CIRCUITS |
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