JPH10340872A

JPH10340872A - ポリッシング装置

Info

Publication number: JPH10340872A
Application number: JP16515397A
Authority: JP
Inventors: Hideo Aizawa; 英夫相澤; Kenya Ito; 賢也伊藤
Original assignee: Ebara Corp
Current assignee: Ebara Corp
Priority date: 1997-06-06
Filing date: 1997-06-06
Publication date: 1998-12-22
Anticipated expiration: 2017-06-06
Also published as: JP3883256B2

Abstract

(57)【要約】【課題】同一建家内に収容した研磨装置や洗浄装置と
いった各種装置のメンテナンスの便を図る。【解決手段】被研磨材の研磨面を化学機械的に研磨す
る研磨装置１０ａ，１０ｂ，２２ａ，２２ｂを備えたポ
リッシング装置において、内部空間を複数の部屋に分割
し、同一建家内に複数の部屋Ｒ₁〜Ｒ₅を構成し、各部屋
の壁の一部に開閉自在なドア６０ａ〜６０ｇを設けたこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリッシング装置
に係り、特に、半導体ウエハ等の被研磨材を平坦かつ鏡
面状に研磨するポリッシング装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体デバイスの高集積化が進む
につれて回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭く
なりつつある。これに伴い、光リソグラフィなどで回路
形成を行なう場合に焦点深度が浅くなるので、ステッパ
の結像面のより高い平坦度を必要とする。半導体ウエハ
の表面を平坦化する手段として、回転するターンテーブ
ル上に貼付した研磨布に砥粒を含む研磨液を供給しなが
ら、キャリアで保持したウエハを研磨布に押しつけて研
磨する化学機械的研磨（ＣＭＰ）が行われている。

【０００３】このような研磨装置として、平面内で周期
運動する研磨テーブルと、該研磨テーブルに対して被研
磨材の研磨面を押圧する把持部材とを有する研磨装置が
用いられている。そして、このような研磨ユニットに、
さらに、被研磨材を収容する収容装置と、前記研磨装置
において研磨がされた被研磨材を洗浄する洗浄装置と、
前記収容部に隣接して設けられた反転装置と、これらの
各部又は装置の間で被研磨材を移送する搬送装置とを付
加したポリッシング装置が用いられている。

【０００４】これは、例えば、図４に示すように、被研
磨材を収容する収容部１００ａ，１００ｂと、それぞれ
がターンテーブル１０２とトップリング１０４を有する
少なくとも２つの研磨ユニット１０６ａ，１０６ｂと、
研磨ユニット１０６ａ，１０６ｂにおいて研磨された被
研磨材を洗浄及び乾燥する洗浄装置１０８ａ〜１０８ｄ
と、これらの装置の間で被研磨材を移送する搬送装置１
１０と、被研磨材を反転させるための反転機１１２ａ，
１１２ｂを備えている。各ユニットは、全体としての処
理の流れと被研磨材の搬送とを考慮して、例えば、フレ
ームで構築された直方体状の空調可能な収容空間内に配
置されている。

【０００５】このポリッシング装置は２つの研磨ユニッ
トを有するので、化合物半導体の製造などにおいて研磨
液を変えて多段で研磨作業を行なう場合に、前段階の研
磨液による汚染を防止して、品質や歩留まりの低下を防
ぐことができ、さらに、１段研磨の場合には、これをそ
れぞれの研磨ユニットでパラレルに行ってスループット
を上げるように用いることもできる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たこれまでのポリッシング装置では、同一収容空間内に
各処理工程を行なう各種装置が密な状態で配置されてい
るため、例えば、研磨ユニット１０６ａ，１０６ｂから
発する研磨液の飛沫が、洗浄装置１０８ｄにある洗浄を
終えたウエハを汚染する可能性がある。そこで、要求さ
れる清浄度に従い、各処理部を隔壁で区画して汚染を防
止することが考えられる。しかしながら、その場合に
は、従来に比べてさらに各装置への人のアクセスが困難
になり、それらの点検や修理等のメンテナンスが困難と
なるという課題がある。

【０００７】従って、この発明は、装置間の相互汚染を
防止しながら、各装置のメンテナンスを容易に行うこと
ができるポリッシング装置を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、被研磨材の研磨面を化学機械的に研磨する研磨装置
を備えたポリッシング装置において、内部空間を複数の
部屋に分割し、各部屋の壁の一部には、開閉自在なドア
が設けられていることを特徴とするポリッシング装置で
ある。これにより、研磨装置の各部分のメンテナンスを
行う時には、各部を収容している部屋を区画している外
壁や隔壁等の壁の一部に設けたドアを開くことにより、
それらの部分に直接にアクセスことができる。

【０００９】請求項２に記載の発明は、前記ドアの内側
に、所定の装置を部屋内で移動、又は外部に退避させる
ための案内レールが設けられていることを特徴とする請
求項１に記載のポリッシング装置であるので、ドアに面
する所定の装置を案内レールにより部屋内で移動、又は
外部に退避させることによってこの装置の有った場所に
空間を形成し、ここに人が入ることにより必要なメンテ
ナンスを行うことができる。

【００１０】請求項３に記載の発明は、前記所定の装置
は、被研磨材を収容する収容装置と前記研磨装置との間
に設けられ、前記収容装置と前記研磨装置との間で移送
される被研磨材を仮置きするための仮置室であることを
特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置である。
仮置室は、部屋の間で被研磨材を移送する移送路に位置
しており、これを待避させることで各部屋へのメンテナ
ンス用の通路が構成される。

【００１１】請求項４に記載の発明は、前記案内レール
に沿った床面を床板で被覆したことを特徴とする請求項
２に記載のポリッシング装置であるので、メンテナンス
用通路に配線、配管、駆動機構等が露出せず、人が通過
しやすく、また通過の際に配線等を引っかけて損傷する
こともない。

【００１２】請求項５に記載の発明は、複数の洗浄部が
有り、前記所定の装置の両側にそれぞれ１個以上の洗浄
部が有るように配置されたことを特徴とする請求項２に
記載のポリッシング装置である。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るポリッシング
装置の実施の形態を図１乃至図３に基づいて説明する。
この装置は、全体が長方形をなす床上のスペースの一端
側の一側に２基の研磨装置１０ａ，１０ｂが配置され、
他端にはウエハ収納用カセット１２ａ，１２ｂを載置す
る一対のロード・アンロードユニット１４が配置されて
いる。

【００１４】ロード・アンロードユニット１４から装置
の長手方向に沿って２軌の走行レール１６ａ，１６ｂが
間に搬送ゲート１８を挟んで敷設され、それぞれのレー
ル１６ａ，１６ｂ上には搬送ロボット２０ａ，２０ｂが
走行可能に配置されている。走行レール１６ａ，１６ｂ
の先端側には、バフ研磨装置２２とバフ研磨工具のドレ
ッシングを行なう工具の洗浄槽２３ａが設けられ、走行
レール１６ａ，１６ｂの脇には、２台の反転機２４ａ，
２４ｂと３台の洗浄機２６ａ，２６ｂ，２６ｃが配置さ
れている。

【００１５】２基の研磨装置１０ａ，１０ｂは、上面に
研磨布を貼付したターンテーブル２８と、ウエハを真空
吸着により保持してターンテーブル２８に押し付けるト
ップリング３０と、研磨布の目立てを行なうドレッシン
グ装置３２と、これらのターンテーブル２８やドレッシ
ング装置３２に水や砥粒を含む研磨液などを供給する手
段とを備えており、それぞれの搬送ラインに面する位置
には、ウエハをトップリング３０との間で授受するプッ
シャ３４が設置されている。トップリング３０は水平面
内で旋回可能とされ、プッシャ３４は上下動可能となっ
ている。

【００１６】バフ研磨装置２２は、研磨装置１０ａ，１
０ｂで研磨されたウエハをさらに仕上げ研磨あるいは洗
浄研磨するもので、バフを貼付した並進円運動をするテ
ーブル（バフ研磨工具）として構成され、搬送ロボット
とウエハの授受を仲介するプッシャ３６、このプッシャ
からウエハを把持してバフ研磨工具に押圧するトップリ
ング（把持装置）２２ａと、バフ研磨工具の目立てを行
なうためのドレッシング工具（ドレッシング装置）２３
が設けられている。図１ではトップリング２２ａがバフ
研磨工具上にあり、ドレッシング工具２３が洗浄槽２３
ａ上にある状態を示している。

【００１７】バフ研磨装置でウエハを研磨するときは、
トップリング２２ａ、ドレッシングヘッド２２ｂが図１
の状態から移動し、トップリング２２ａがプッシャ３６
上、ドレッシングヘッド２２ｂがバフ研磨工具上に位置
し、ドレッシングヘッドでバフ研磨工具を再生しつつ、
トップリング２２ａでプッシャ３６上のウエハを保持
し、再びトップリング２２ａ、ドレッシングヘッド２２
ｂが図１の位置へ移動し、トップリング２２ａ、バフ研
磨工具でウエハを研磨しつつドレッシングヘッド２２ｂ
がドレッシングヘッド洗浄槽により洗浄される。このよ
うなバフ研磨装置２２の構成では、自転するターンテー
ブルを用いる場合よりも研磨工具が小径で済むので、省
スペースとなる。

【００１８】洗浄機２６ａ，２６ｂ，２６ｃの形式は、
それぞれ目的に応じて選択され、例えば、先端にスポン
ジが付いたペンシル型のものやスポンジ付きのローラ形
式のものが用いられ、ウエハ片面またはウエハ両面を洗
浄し、あるいは最後段の洗浄機２６ｃはウエハをスピン
させて脱水、乾燥させる形式のものが用いられる。

【００１９】搬送ロボット２０ａ，２０ｂは、例えばレ
ール１６ａ，１６ｂ上を走行する台車の上部に水平面内
で屈折自在に関節アームが設けられているもので、上下
の各アームの先端に２つの把持部（ハンド）を有してい
る。第１のロボット２０ａの上側のハンドは研磨前およ
び乾燥後のウエハを扱うドライハンド３８ａ、下側は乾
燥前のウエハを扱うウエットハンド３８ｂとなってお
り、また、第２のロボット２０ｂの上側は清浄なウエハ
を扱うクリーンハンド３８ｃ、下側は研磨過程にあるウ
エハを扱うダーティーハンド３８ｄとなっている。４種
類のハンド３８ａ〜３８ｄは上下動可能であり、後述の
搬送ゲート１８の上段又は下段へ進入可能である。

【００２０】反転機２４ａ，２４ｂは、この実施の形態
では、カセットの収納方式やロボットの把持機構との関
係で必要であるが、常にウエハの研磨面が下向きの状態
で移送されるような場合には必要ではない。また、ロボ
ット２０ａ，２０ｂに反転機能を持たせるような構造の
場合も必要ではない。この実施の形態では、２つの反転
機２４ａ，２４ｂを、研磨前のドライなウエハを扱うも
の２４ａと、研磨後のウエットなウエハを扱うもの２４
ｂとに使い分けている。

【００２１】このポリッシング装置では、外壁４０で囲
まれた直方体状の収容空間４２を隔壁４４で区画して複
数の部屋Ｒ₁〜Ｒ₅を構成している。すなわち、ロード・
アンロードユニット１４、第１の搬送ロボット２０ａ、
及びこれの脇に配置された反転機２４ａ及び２つの洗浄
装置２６ｂ，２６ｃを含む空間が第１の部屋Ｒ₁とな
り、第２の搬送ロボット２０ｂとこれの一側に配置され
た反転機２４ｂ及び洗浄装置２６ａを含む空間が第２の
部屋Ｒ₂となり、バフ研磨装置２２を含む空間が第３の
部屋Ｒ₃、各研磨装置１０ａ，１０ｂを収容する空間が
第４及び第５の部屋Ｒ₄，Ｒ₅となる。この例では、ロー
ド・アンロードユニット１４に隣接する空間Ｒ₆には制
御装置（図示略）が配置され、また、これに隣接する空
間Ｒ₇はメンテナンスのために人間が入れるように開口
している。部屋Ｒ₅，Ｒ₇間の隔壁、部屋Ｒ₁，Ｒ₇間の隔
壁は、部屋Ｒ₁，Ｒ₅の空気が部屋Ｒ₇へ出ていかないよ
うにするためである。部屋Ｒ₇はポリッシング装置外部
（クリーンルーム）に連通しているので清浄度を高く保
つ必要がある。各部屋を隔壁４４で区画するにあたり、
以下の点が重要である。即ち、研磨装置を含む部屋
Ｒ₃，Ｒ₄は、ポリッシング装置内で最も汚染されてお
り、部屋Ｒ₃，Ｒ₄と、高い清浄度を要する部屋Ｒ₁とを
隔離することが重要である。

【００２２】第１の部屋Ｒ₁と第２の部屋Ｒ₂の間には、
被研磨材を部屋間で移動する際に仮置きするための搬送
ゲート１８が設けられている。これは、プラスチック製
の箱であり、ウエハをこれらの部屋の間で受け渡しをす
る場所である。図３に示すように、内部は上下の仮置室
１８ａ，１８ｂに仕切られており、上段でドライな状態
のウエハを、下段でウエットな状態のウエハを受け渡し
するようになっている。なお、図示していないが、第２
の部屋Ｒ₂と第３及び第４の部屋Ｒ₃，Ｒ₄の間の隔壁に
も、プッシャ３４，３６に面する位置にシャッタ（図示
略）が設けられている。

【００２３】第１の部屋Ｒ₁及び第２の部屋Ｒ₂に面する
位置に、それぞれ上下の仮置室１８ａ，１８ｂごとに個
別に開閉するシャッタ５０ａ₁，５０ａ₂，５０ｂ₁，５
０ｂ₂が設けられている。また、搬送ゲート１８の上下
及び中間の仕切壁には、それぞれ穴Ｈ₁，Ｈ₂，Ｈ₃が形
成され、これに順次清浄な空気を流すように穴Ｈ₁及び
Ｈ₃に給気ダクト１９ａ及び排気ダクト１９ｂが設けら
れている。また、下段側の仮置室１８ｂには、ウエハに
注水するノズルが設けられている。このように、上段か
ら下段に向けて送風することにより、各仮置室１８ａ，
１８ｂ内のパーティクルの飛散を防止することができる
とともに、各仮置室１８ａ，１８ｂが相互にその内部を
汚染しあうこともない。また、下段の仮置室１８ｂをウ
エットなウエハの搬送用として使い分けることにより、
上段側の仮置室１８ａへの汚染を防止することができ
る。

【００２４】このように搬送ゲート１８の内部を上下の
仮置室１８ａ，１８ｂに区画したのは、第１に、スルー
プットを上げるためである。すなわち、１段しかない
と、未研磨のウエハを搬送ゲート１８に格納すると、そ
の間は、研磨ずみのウエハを搬送ゲート１８に入れられ
ず、研磨済のウエハは未研磨のウエハが搬送ゲートを出
るまで洗浄機２６ａ内で待っている必要があり、円滑に
ウエハが流れない。つまり待ち時間が生じる。研磨済の
ウエハを搬送ゲートに格納したときも未研磨のウエハに
ついて同様のことが生ずる。上下２段にしてあれば上述
のような待ち時間が生じないのでスループットが上が
る。すなわち、４つのハンドにより、部屋Ｒ₁からＲ₂へ
未研磨のウエハを送る動作と、Ｒ₂からＲ₁へ研磨済のウ
エハを送る動作を同時並行的に行うことができる。

【００２５】第２には、上述したように２つの仮置室１
８ａ，１８ｂを清浄な被研磨材の搬送と、清浄でない被
研磨材の処理に使い分けることにより、被研磨材が搬送
ゲート１８を介して汚染されることを防止するためであ
る。この例では、下段にウエットなウエハを入れ、ウエ
ハにパーティクルが固着しないように、箱内に設けたノ
ズルより水をウエハにかける。従って、箱内のウエハの
受け台は濡れており、また、パーティクルにより汚れて
いる。一方、上段はドライウエハ専用として用いてお
り、下段のように水を掛けていないので、上段の受け台
は濡れていない。従って、上段にウエハがある時に装置
にトラブルが生じたとき等、ウエハを一旦ロード・アン
ロードユニット１２ａ，１２ｂに戻すことがあるが、上
段の受け台によりウエハが汚染されることはないのでウ
エハを清浄なままロードユニットに戻すことができる。
もし、未研磨のウエハが汚染されてロード側に戻ると、
汚染物質（パーティクル）がウエハ上で乾燥して固着し
てのちの研磨時のウエハ面の傷の元となる。

【００２６】また、この実施の形態において、搬送ゲー
ト１８のシャッタ５０ａ₁，５０ａ₂，５０ｂ₁，５０ｂ₂
を上下の各仮置室１８ａ，１８ｂの２つの出口ごとに設
けたのは、部屋Ｒ₁，Ｒ₂と、搬送ゲート１８との間の空
気の流通を防いで、特にＲ₁側の清浄な空間を汚染をさ
せないようにするためである。つまり、ドライハンド３
８ａがドライウエハを上段に置くときはシャッタ５０ａ
₁のみが開き、さらにシャッタ５０ａ₁を閉じてシャッタ
５０ｂ₁を開き、ダーティハンド３８ｄによりドライウ
エハを上段から部屋Ｒ₂に取り出す。

【００２７】同様に、クリーンハンド３８ｃが洗浄装置
２６ａで洗浄されたウエットウエハを下段に置くとき
は、シャッタ５０ｂ₂を開き、ウエットハンド３８ｂが
ウエットウエハを下段から取るときはシャッタ５０ａ₂
のみを開くようにする。このように必要なシャッタのみ
が開くようにしてあるため、部屋Ｒ₁，Ｒ₂，搬送ゲート
１８の空気流通を防いでいる。なお、ウエハを搬送ゲー
トの仮置室内に置いて、挿入した側のシャッタを閉じ、
他方のシャッタを開くまで、間に短い時間を取って、Ｈ
₁から清浄な空気を供給し、搬送ゲート内の空気を置換
すると、搬送ゲートからの相互汚染を一層完全に防止す
ることができる。部屋Ｒ₁を清浄に保ち、それにより、
ドライハンド３８ａ、未研磨のドライウエハ、研磨と洗
浄・乾燥の終了したドライウエハも清浄に保てる。ドラ
イハンド３８ａは、この乾燥の終了したドライウエハを
搬送するため清浄に保つことが必要である。

【００２８】このポリッシング装置には、各部屋内に収
容した各種装置のメンテナンスの便を図るために、各部
屋を区画する壁の一部に開閉自在なドアが設けられてい
る。すなわち、第１の部屋Ｒ₁においては、収容空間４
２の洗浄装置２６ｂ，２６ｃ側の外壁４０に、折り畳み
自在な一対の折り畳み式ドア６０ａが設けられ、また、
メンテナンス用の空間Ｒ₇との隔壁４４にも、ヒンジを
介して回転自在な回転式ドア６０ｂが設けられている。
第２の部屋Ｒ₂においては、収容空間４２の洗浄装置２
６ａ側の外壁４０に折り畳み自在な一対の折り畳み式ド
ア６０ｃが設けられている。第３の部屋Ｒ₃において
は、収容空間４２の端部側外壁４０に折り畳み自在な一
対の折り畳み式ドア６０ｄが設けられている。第４の部
屋Ｒ₄においては、収容空間４２の端部側外壁４０に折
り畳み自在な一対の折り畳み式ドア６０ｅが設けられて
いる。第５の部屋Ｒ₅においては、メンテナンス用の空
間Ｒ₇との隔壁４４に折り畳み自在な折り畳み式ドア６
０ｆとヒンジを介して回転自在な回転式ドア６０ｇとが
設けられている。

【００２９】搬送ゲート１８は、第１の部屋Ｒ₁と第２
の部屋Ｒ₂との間に設けられた空間Ｒ₈に沿って収容空間
４２内での移動又はその外に退避できるよう構成されて
いる。この空間Ｒ₈の床面には、一対のレール６４が敷
設され、このレール６４上を搬送ゲート１８が走行可能
になっている。また、この空間Ｒ₈の入口部には、ヒン
ジを介して回転自在な回転式ドア６６が設けられてい
る。

【００３０】このような構成のポリッシング装置におい
てウエハの研磨を行なう場合のウエハの流れを説明す
る。ロード・アンロードユニット１４に載置された複数
枚数のウエハを収容するカセット１２ａ，１２ｂから、
第１のロボット２０ａのドライハンド３８ａでウエハを
取り出し、第１の反転機２４ａで反転した後、搬送ゲー
ト１８のシャッタ５０ａ₁を開き、再びドライハンド３
８ａで上段に置く。次に、搬送ゲート１８の他方のシャ
ッタ５０ｂ₁を開いて第２ロボット２０ｂのダーティハ
ンド３８ｄでウエハを取り出し、隔壁のシャッタを開い
て研磨装置１０ａ又は１０ｂのプッシャ３４の上に置
く。

【００３１】以下、ウエハは、パラレル処理の場合に
は、研磨装置１０ａ，１０ｂ→バフ研磨装置２２→反転
機２４ｂ→洗浄装置２６ａと流れ、また、シリーズ処理
の場合は、第１研磨装置１０ａ→洗浄装置２６ａ→第２
研磨装置１０ｂ→バフ研磨装置２２→反転機２４ｂ→洗
浄装置２６ａと流れる。ここまでの各装置間の搬送はダ
ーティハンド３８ｄで行なわれる。次に、洗浄装置２６
ａで第１の洗浄を行った後の比較的クリーンでかつウエ
ットなウエハを、第２のロボット２０ｂのクリーンハン
ド３８ｃで取り出し、シャッタ５０ｂ₂を開いて搬送ゲ
ート１８の下段に置き、シャッタ５０ｂ₂を閉じる。ク
リーンハンド３８ｃは研磨済みのウェットなウエハを洗
浄装置２６ａから搬送ゲート１８へ搬送するためだけに
使うため、クリーンハンド３８ｃを清浄に保つことがで
き、クリーンハンド３８ｃがこのウエハを汚染すること
がない。

【００３２】この実施の形態では、バフ研磨装置２２一
基に対して研磨装置１０ａ，１０ｂが２基設けられてい
る。これは、研磨装置１０ａ，１０ｂにおける研磨より
もバフ研磨装置２２における研磨の方が研磨時間が短い
からである。従来の装置で、１次研磨装置が１基のみ設
けられていたときは、次のウエハの１次研磨が済むまで
は２次研磨装置（バフ研磨装置２２）は研磨を休んでい
たが、本装置では、１次研磨装置を１０ａ，１０ｂの２
台としたので、ウエハの１次研磨をパラレルで行い、２
次研磨を行なうバフ研磨装置２２を遊ばせることをなく
して研磨のスループットを上げることができる。

【００３３】次に、搬送ゲート１８のシャッタ５０ａ₂
を開き、第１のロボット２０ａのウエットハンド３８ｂ
でウエハを取り出し、第２の洗浄装置２６ｂ、第３の洗
浄装置２６ｃへと順次送って、洗浄と乾燥を行なう。第
３の洗浄装置２６ｃで乾燥が済んだウエハは、第１のロ
ボット２０ａのドライハンド３８ａで取り出されてロー
ド・アンロードユニット１４のカセット１２ａ，１２ｂ
に戻される。

【００３４】次に、研磨装置のメンテナンスを行なう場
合の作業を説明する。上述したように、各部屋のメンテ
ナンスが必要な箇所にはドア６０ａ〜６０ｇが設けられ
ており、これを開くことによりアクセスが可能である。
例えば、第３の部屋Ｒ₃内に収容したバフ研磨装置２２
やドレッシング装置２３のメンテナンスを行う時には、
この部屋Ｒ₃を区画する収容空間４２の外壁４０に設け
たドア６０ｄを開くことによって、また、第５の部屋Ｒ
₅内に収容した研磨装置１０ａのメンテナンスを行う時
には、メンテナンス用の空間Ｒ₇との隔壁４４に設けた
ドア６０ｆ，６０ｇを開くことによって、これを容易か
つ迅速に行うことができる。このドアは、特に外側だけ
でなく研磨装置１０ａの内側に近い位置（空間Ｒ₇の奥
のドア６０ｆ）にも設けられているので、内側の部分の
点検や修理が容易に行える。

【００３５】さらに、より内側にある装置や部分、の点
検や修理を行なう際には、ドア６６を開き、搬送ゲート
１８を収容空間４２内での移動又はその外に退避させた
後ドア６０ｂを開いて、この搬送ゲート１８がもとあっ
た場所に人が入り込んで、ここから、特に搬送ロボット
２０ｂに対する必要なメンテナンスを行う。搬送ゲート
１８をポリッシング装置外へ退避した場合、空間Ｒ₈の
床面には配線や搬送ゲートを移動させるレール覆う床蓋
（床板）６２ａが設けられ、人はその上を歩くことがで
きるので、レール、配線等を踏んだり、引っかけたりす
ることが防止され、円滑かつ安全な作業が行われる。
尚、搬送ゲート１８を移動させる前に、気流用のダクト
１９ａ，１９ｂを取り外す。

【００３６】このように搬送ゲートを待避させると、図
１の斜線で示すように、人の手または人が外部空間から
研磨装置１０ａ，１０ｂのプッシャ３４に臨む位置まで
達するので、比較的複雑な構成の部分の点検や修理が容
易となる。なお、床蓋（床板）６２ｂおよび６２ｃは、
搬送ロボット２０ａおよび２０ｂの走行経路の途中まで
延ばされており、搬送ロボット２０ａおよび２０ｂを駆
動するボールねじを覆っているので、人が進入する際
に、このボールねじを踏んでしまうことを防止すること
ができる。

【００３７】なお、この実施の形態では、ロボット２０
ａ，２０ｂにハンド３８ａ〜３８ｄをそれぞれ２本持た
せて、洗浄後のウエハとそれ以外のウエハ、及び乾燥状
態の濡れた状態のウエハを扱う場合をそれぞれ使い分け
るようにしたので、各ハンドを介して汚染されることも
ない。さらに、搬送ゲート１８の中の空間を上下の仮置
室１８ａ，１８ｂに分けているので、搬送ゲート１８を
介して汚染されることもない。

【００３８】また、この発明の実施の形態は前記に限ら
れるものではなく、各装置内の構成、台数、形式又は配
置は任意である。例えば、シリーズやパラレルの処理を
行わない場合には、研磨装置は１台で足り、付属設備も
少なくてよい。また、反転機の有無、配置、台数、形
式、プッシャ３４，３６の有無等も任意であり、例え
ば、搬送ロボット２０ａ，２０ｂはレール上を走行する
方式ではなく、据え付け式でもよい。また、上記実施例
では第１の部屋Ｒ₁はロード・アンロードユニット１４
を含むが、特に高い清浄度を要するロード・アンロード
ユニット１４を隔壁で覆い別個の部屋としてもよい。さ
らに、ロード・アンロードユニット１４とロボット２０
ａとの間でウエハの受け渡しをするシャッタを該隔壁に
設けてもよい。これにより、ロード・アンロードユニッ
ト１４と、例えば洗浄装置２６ｂ，２６ｃとの間の相互
汚染を防げる。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、内部空間を複数の部屋に分割して装置間の相互汚染
を防止するとともに、各部屋の壁の一部にドアを設け
て、メンテナンス時にこれを開くことにより各装置に直
接にアクセスできるようにしたのでメンテナンスを容易
に行うことができる。さらに、装置を部屋内での移動、
又は外部に退避させるための案内レールを設けることに
より、ドアに面する所定の装置を案内レールにより部屋
内での移動、又は外部に退避させることによってこの装
置の有った場所に空間を形成し装置内部のメンテナンス
を容易にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明のポリッシング装置を示す平面図であ
る。

【図２】図１のポリッシング装置を模式的に示す平面図
である。

【図３】図１のポリッシング装置の搬送ゲートを示す斜
視図である。

【図４】従来のポリッシング装置を模式的に示す平面図
である。

【符号の説明】

１０ａ，１０ｂ研磨装置１４ロード・アンロードユニット１８搬送ゲート１８ａ，１８ｂ仮置室２０ａ，２０ｂロボット（搬送装置）２３ドレッシング装置２４ａ，２４ｂ反転機２６ａ，２６ｂ，２６ｃ洗浄装置２２バフ研磨装置６０ａ，６０ｂ，６０ｃ，６０ｄ，６０ｅ，６０ｆ，６
０ｇドア６２ａ，６２ｂ，６２ｃ床板６４レールＲ₁〜Ｒ₈ 部屋

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被研磨材の研磨面を化学機械的に研磨す
る研磨装置を備えたポリッシング装置において、内部空間を複数の部屋に分割し、各部屋の壁の一部に
は、開閉自在なドアが設けられていることを特徴とする
ポリッシング装置。
【請求項２】前記ドアの内側に、所定の装置を部屋内
で移動、又は外部に退避させるための案内レールが設け
られていることを特徴とする請求項１に記載のポリッシ
ング装置。
【請求項３】前記所定の装置は、被研磨材を収容する
収容装置と前記研磨装置との間に設けられ、前記収容装
置と前記研磨装置との間で移送される被研磨材を仮置き
するための仮置室であることを特徴とする請求項１に記
載のポリッシング装置。
【請求項４】前記案内レールに沿った床面を床板で被
覆したことを特徴とする請求項１に記載のポリッシング
装置。
【請求項５】複数の洗浄部が有り、前記所定の装置の
両側にそれぞれ１個以上の洗浄部が有るように配置され
たことを特徴とする請求項２に記載のポリッシング装
置。