JPH10340947A - スピン処理装置 - Google Patents
スピン処理装置Info
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- JPH10340947A JPH10340947A JP9151048A JP15104897A JPH10340947A JP H10340947 A JPH10340947 A JP H10340947A JP 9151048 A JP9151048 A JP 9151048A JP 15104897 A JP15104897 A JP 15104897A JP H10340947 A JPH10340947 A JP H10340947A
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Abstract
な機構で解除できるようにしたスピン処理装置を提供す
ることを目的とする。 【解決手段】 回転体12に周方向に所定間隔で回転自
在に立設され半導体ウエハUを支持する支持ピン21お
よび半導体ウエハの周辺部を保持するロックピン22が
設けられた複数の保持部材17と、回転体の下面側に回
転自在に設けられた親歯車25と、各保持部材の下端部
にそれぞれ親歯車と噛合して設けられた子歯車23と、
ロックピンが半導体ウエハを保持する回転方向に保持部
材を親歯車および子歯車を介して付勢した捩じりコイル
ばね26と、親歯車の回転を阻止した状態でパルス制御
モ−タ9により回転体を保持部材に与えられた捩じりコ
イルばねによる付勢力に抗して回転させることでロック
ピンによる半導体ウエハの保持状態を解除する解除機構
31とを具備したことを特徴とする。
Description
ながら洗浄処理したり乾燥処理するためのスピン処理装
置に関する。
製造過程においては、ワ−クとしての半導体ウエハや液
晶用ガラス基板に回路パタ−ンを形成するための成膜プ
ロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセスで
は、上記ワ−クの処理と洗浄とが繰り返し行われる。
ピン処理装置が用いられる。このスピン処理装置は、回
転モ−タによって回転駆動される回転体を有し、この回
転体の上面の周辺部には周方向に所定間隔で保持部材が
回転自在に突設されている。この保持部材の上端にはワ
−クの下面周辺部を支持する支持ピンと、上記保持部材
の回転によって偏心回転して上記支持ピンに支持された
ワ−クの周辺部に係合し、そのワ−クを保持するロック
ピンとが突設されている。
ピンがワ−クの外周面に係合する回転方向に付勢されて
いて、ワ−クを着脱するときには上記保持部材をばねの
付勢力に抗して回転させることで、ロックピンによるロ
ック状態が解除されるようになっている。
解除するためには、上記保持部材を上記回転体と一体的
に設けられたリンク機構によって回転できるようにする
とともに、上記回転体の周辺部に上記リンク機構を作動
させてロックピンによるロック状態を解除するための解
除機構を配置する。
終了して上記回転体の回転が停止したときに、上記解除
機構によって上記リンク機構を作動させることで、上記
ロックピンによるワ−クのロック状態を解除し、そのワ
−クを搬出して未処理のワ−クを供給するということが
行われる。
めのアクチュエ−タをまずリンク機構に係合させ、つい
で解除方向へ駆動しなければならない。したがって、上
記アクチュエ−タをリンク機構に係合させる方向へ駆動
するための駆動源と、解除方向へ駆動するための駆動源
とを必要とする。
によるワ−クのロック状態を解除するためには、リンク
機構を作動させるための専用の2つの駆動源が必要とな
るから、部品点数の増大によるコストの上昇や構成の複
雑化を招くということがあった。しかも、上記解除機構
を回転体の周囲に配置しなければならないから、装置全
体が大型化するということもあった。
ピン処理装置においては、ワ−クのロック状態を解除す
るために、それ専用の2つの駆動源を用いなければなら
なかったので、部品点数の増大によるコストアップや構
成の複雑化、さらには装置の大型化を招くなどのことが
あった。
利用してワ−クのロック状態を解除できるようにするこ
とで、構成の簡略化を計ることができるようにしたスピ
ン処理装置を提供することにある。
クを保持して回転させることで処理するスピン処理装置
において、カップ体と、このカップ体内に配設された回
転体と、この回転体を回転駆動する駆動手段と、上記回
転体の径方向周辺部に周方向に所定間隔で回転自在に立
設され上端に上記ワ−クの下面周辺部を支持する支持ピ
ンおよび偏心回転して上記ワ−クの周辺部を保持するロ
ックピンが設けられた複数の保持部材と、上記回転体の
下面側にこの回転体に対して回転自在に設けられた親歯
車と、各保持部材の下端部にそれぞれ上記親歯車と噛合
して設けられた子歯車と、上記ロックピンが上記ワ−ク
の周辺部を保持する回転方向に上記保持部材を上記親歯
車および子歯車を介して弾性的に付勢した付勢手段と、
上記親歯車と係合しこの親歯車が上記回転体と一緒に回
転するのを阻止するとともに親歯車の回転を阻止した状
態で上記駆動手段により上記回転体を上記保持部材に与
えられた上記付勢手段による付勢力に抗して回転させる
ことで上記ロックピンによる上記ワ−クの保持状態を解
除する解除手段とを具備したことを特徴とする。
て、上記ロックピンによるワ−クの保持状態が解除され
ているときに、上記回転体が上記付勢手段の復元力で回
転するのを阻止するブレ−キ手段が設けられていること
を特徴とする。
て、上記駆動手段は、中空状の固定子と、この固定子の
内部に回転自在に設けられた中空軸状の回転子とからな
り、上記回転体は上記回転子の上端に取付けれていると
ともに中心部に通孔が形成されていて、この通孔には上
記回転体の保持部材に保持されたワ−クの下面に向けて
洗浄液を噴出する洗浄ノズルが配置されていることを特
徴とする。
て、上記回転体の上面側であって、上記保持部材に保持
されるワ−クの下面側には、上記回転体の上面側を覆う
乱流防止カバ−が設けられていることを特徴とする。
車に係合させたなら、回転体を回転駆動するための駆動
手段を作動させて回転体を所定角度回転させることで、
上記保持手段を上記付勢手段の付勢力に抗して回転させ
ることができるから、上記保持手段に設けられたロック
ピンによるワ−クのロック状態を解除することができ
る。
させて回転体を所定角度回転させ、ロックピンによるワ
−クの保持状態を解除しているときに、上記駆動手段の
駆動力が消失しても、上記回転体が付勢手段の復元力に
よって回転してロックピンがワ−クを保持する方向に偏
心に回転するのが阻止される。
子を中空軸状とし、その上端に中心部に通孔が形成され
た回転体を取付けるようにしたから、上記通孔に洗浄ノ
ズルを配置し、上記回転体に保持されたワ−クの下面を
洗浄処理することができるばかりか、回転体と駆動手段
とが同軸に設けられるから、これらをコンパクトに配置
して装置の小型化が計れる。
で、ワ−クの下面側に、回転体の上面の形状によって乱
流が発生するのを防止する乱流防止カバ−を設けたこと
で、たとえば洗浄時に発生するミスト状となった洗浄液
が舞い上がってワ−クの上面や下面に付着するのを防止
できる。
図面を参照して説明する。図2に示すこの発明のスピン
処理装置はカップ体1を有する。このカップ体1は載置
板2上に設けられた下カップ3と、この下カップ3の上
側に図示しない上下駆動機構によって上下駆動自在に設
けられた上カップ4とからなる。
とにはこれらを貫通する通孔5が形成されており、また
上記下カップ3の周壁3aは上記上カップ4の二重構造
の周壁4aにスライド自在に嵌挿し、これら周壁によっ
てラビリンス構造をなしている。
の上カップ4が下降方向に駆動されることで、後述する
ようにカップ体1内で処理されたワ−クとしてのたとえ
ば半導体ウエハUを取り出したり、未処理の半導体ウエ
ハUを供給できるようになっている。さらに、上記下カ
ップ3の底壁には周方向に所定間隔で複数の排出管6の
一端が接続され、他端は図示しない吸引ポンプに連通し
ている。それによって、上記半導体ウエハUを洗浄処理
したり、乾燥処理することで上記カップ体1内で飛散す
る洗浄液が排出されるようになっている。
置されている。このベ−ス7には上記カップ体1の通孔
5と対応する位置に取付孔8が形成されていて、この取
付孔8には駆動手段を構成するパルス制御モ−タ9の固
定子9aの上端部が嵌入固定されている。
内部には同じく筒状の回転子9bが回転自在に嵌挿され
ている。この回転子9bの上端面には筒状の連結体11
が下端面を接合させて一体的に固定されている。この連
結体11の下端面には上記固定子9aの内径寸法よりも
大径な鍔部11aが形成されている。この鍔部11aは
上記固定子9aの上端面に摺動自在に接合しており、そ
れによって回転子9bの回転を阻止することなくこの回
転子9aが固定子9bから抜けおちるのを規制してい
る。
からその内部に突出し、上端面には円板状の回転体12
が取付け固定されている。この回転体12は図1に示す
ように下板13aと上板13bとを接合させた二重板構
造をなしていて、その中心部には通孔14が形成されて
いる。
壁3bが突設され、上記回転体12の外周面には上記環
状壁3bの外周面に内周面を対向させた環状壁12aが
垂設され、これら環状壁3b、12aに洗浄液が回転体
12の下面側に回り込むのを防止するラビリンス構造を
なしている。
隔、この実施の形態では60度間隔で6つのボス部15
が突設されている。このボス部15には滑り軸受16が
嵌挿されていて、この滑り軸受16には保持部材17が
回転自在に挿入支持されている。
が上記ボス部15の外径寸法とほぼ同径の大径部18に
形成され、この大径部18の下面に上記滑り軸受16に
支持される軸部19が一体形成されてなる。上記大径部
18の上面には中心部に円錐状の支持ピン21が突設さ
れ、径方向周辺部である偏心位置には逆テ−パ状のロッ
クピン22が突設されている。
には上記半導体ウエハUが下面を支持されて載置され
る。その状態で図3に示すように上記ロックピン22が
半導体ウエハUの外周面に当接することで、その半導体
ウエハUは回転体12と一体的に保持されるようになっ
ている。後述するように、回転体12が回転(公転)す
ることで、上記保持部材17が同図にXで示す状態から
鎖線で示すYの状態へ回転(自転)すると、上記ロック
ピン22が保持部材17の回転中心に対して偏心回転す
るから、上記ロックピン22による上記半導体ウエハU
の保持状態が解除されるようになっている。
部19の下端部は回転体12の下面から突出し、その下
端部にはセクタギヤからなる子歯車23が嵌合固定され
ている。各子歯車23は上記連結体11の外周面に軸受
24によって回転自在に設けられた平歯車からなる親歯
車25に噛合している。この親歯車25は図3に示すよ
うに、6つの子歯車23と対応する間隔で6つの凸部2
5aが周方向に所定間隔で形成されてなり、各凸部25
aの先端外周面には上記子歯車23に噛合する歯が形成
されている。
ての捩じりコイルばね26が装着されている。この捩じ
りコイルばね26は一端を上記連結体11に係合させ、
他端を上記親歯車25に係合させることで、上記親歯車
25を図3に矢印Aで示す回転方向(反時計方向)に付
勢している。それによって、上記子歯車23は同図に矢
印Bで示す時計方向に付勢されるから、この子歯車23
の回転に保持部材17が連動し、上記ロックピン22が
回転体12の中心方向へ偏心回転して半導体ウエハUの
外周面に当接するようになっている。
のロック状態は図2に示す解除機構31によって解除さ
れるようになっている。この解除機構31はガイド付き
の解除シリンダ32を有する。この解除シリンダ32は
上記固定子9aの下端面に一端を固定したほぼL字状の
ブラケット33の他端に軸線を垂直にして取付けられて
いる。
−ム35の下端が連結されている。このア−ム35の上
端部は上記ベ−ス7に形成された挿通孔7aを通されて
上記親歯車25の下面側近傍まで延出され、その上端に
は解除ピン36が垂直に立設されている。
クピン22が半導体ウエハUの外周面に当接してこの半
導体ウエハUが保持された状態において、上記解除シリ
ンダ32が作動してその駆動軸34が突出方向に駆動さ
れ、その動きにア−ム35が連動すると、このア−ム3
5の上端に設けられた解除ピン36は上記親歯車25の
1つの凸部25aの側面に係合し、上記親歯車25が矢
印A方向に回転するのを阻止するようになっている。
印A方向の回転が阻止された状態で、パルス制御モ−タ
9を駆動してその回転子9bを図3に示す矢印C方向へ
回転させると、上記回転体12が捩じりコイルばね26
の付勢力に抗して連結体11とともに回転する。
させると、親歯車25は回転体12と一体的に回転せ
ず、回転体12だけが回転子9bとともに角度θ回転す
る。それによって、上記親歯車25に噛合した上記子歯
車23は回転体12とともに公転しながら自転するか
ら、この子歯車23と一体的に設けられた保持部材17
は矢印B方向と逆方向である反時計方向に回転する。そ
の結果、保持部材17は図3にXで示す状態からYで示
す状態になり、ロックピン22は半導体ウエハUの外周
面から離れる方向へ偏心回転するから、このロックピン
22による半導体ウエハUの保持状態が解除されること
になる。
示すようにゲ−ジ37が設けられ、このゲ−ジ37は上
記固定子9aの下端面に設けられたセンサ38によって
検出される。センサ38がゲ−ジ37を検出した位置が
上記回転子9bの回転角度の原点として認識され、その
認識に基づいて上記回転子9bの回転角度が制御される
ようになっている。
41が挿通されている。この固定軸41の下端部は上記
パルス制御モ−タ9の下方に配置された支持部材42の
取付孔42aに嵌入固定されている。上記支持部材42
にはブレ−キシリンダ43が軸線を垂直にして取付けら
れている。このブレ−キシリンダ43の駆動軸44には
ブレ−キシュ−45aが取付けられている。
駆動軸44が上昇方向に駆動されると、ブレ−キシュ−
45aは上記回転子9bの下端面に設けられたブレ−キ
ディスク45bに圧接してこの回転子9bの回転を阻止
するようになっている。
ばね26の復元力が加わっているとき、つまり回転体1
2を捩じりコイルばね26の付勢力に抗してパルス制御
モ−タ9により矢印C方向に角度θだけ回転させ、ロッ
クピン22による半導体ウエハUのロック状態を解除し
ているときに、たとえば停電などでパルス制御モ−タ9
の駆動力が消失しても、上記回転体12が捩じりコイル
ばね26の復元力によって矢印C方向と逆方向へ戻るの
を阻止している。
のロック状態を解除した状態において、図示しないロボ
ットにより、上記回転体12から処理された半導体ウエ
ハUが搬出されたり、未処理の半導体ウエハUが供給さ
れる。
の搬出、供給時に停電などが生じても、回転体12が捩
じりコイルばね26の復元力によって矢印C方向と逆方
向へ回転して戻ることがないから、回転体12に立設さ
れた保持部材17の位置が変化することもない。
より、停電時などに、保持部材17の間から半導体ウエ
ハUの下面側に導入されるロボットのア−ムが保持部材
17にぶつかり、半導体ウエハUの搬出、供給作業が不
能になるのを防止できるようになっている。
の通孔14に通されている。この固定軸41の上端には
ノズルヘッド46が嵌入固定されている。このノズルヘ
ッド46は回転体12の上面側に突出していて、その外
周部には上記通孔14の周辺部に突設された環状壁47
を内部に収容した環状溝48が下面に開放して形成され
ている。つまり、環状壁47と環状溝48とでラビリン
ス構造を形成しており、回転体12の上面側で飛散する
洗浄液などが通孔14を通り、固定軸41に沿ってカッ
プ体1の外部へ流出するのを阻止している。
ノズル孔51が穿設され、この第1のノズル孔51の周
囲には3つの第2のノズル孔52が穿設されている。第
1のノズル孔51の下端には窒素などの乾燥用の気体を
供給するための第1の供給チュ−ブ53が接続され、上
記第2のノズル孔52には洗浄液を供給するための第2
の供給チュ−ブ54が接続されている。これらチュ−ブ
53、54は上記固定軸41の内部を通されて外部に導
出され、それぞれ図示しない供給源に接続されている。
の噴射方向や広がり角度を設定するための下部洗浄ノズ
ル55が取付けられている。上記第1、第2のノズル孔
51、51からは気体や液体が上記保持部材17に保持
された半導体ウエハUの下面に向かって噴射される。そ
れによって、半導体ウエハUの下面を洗浄したり、乾燥
させることこができるようになっている。
しないがこの上面を乾燥したり、洗浄するための上部乾
燥ノズルと上部洗浄ノズルとが配置されている。さら
に、上記回転体12の上面側には乱流防止カバ−56が
設けられている。この乱流防止カバ−56は上記保持部
材17に保持された半導体ウエハUの下面側に位置し、
周辺部には上記保持部材17の上部を露出させる第1の
開口57が形成され、中心部には上記ノズルヘッド46
の各ノズル孔51、52を露出させる第2の開口58が
形成されている。
2の凹凸状の上面が覆われている。それによって、回転
体12の回転に伴う乱流の発生が抑制されるから、半導
体ウエハUを洗浄した塵埃を含む洗浄液がカップ体1内
であらゆる方向に飛散し、たとえば半導体ウエハUの下
面側に舞い込んで付着するのを防止できるようになって
いる。とくに、上記乱流防止カバ−56の上面と半導体
ウエハUの下面との間隔を所定の間隔に設定すると、乱
流の抑制効果が高くなる。
て半導体ウエハUを洗浄処理する場合について図1乃至
図3を参照して説明する。半導体ウエハUを回転体12
に供給する前には、保持部材17のロックピン22はア
ンロック状態になっている。つまり、解除シリンダ32
が作動して解除ピン36が親歯車25の凸部25aの側
面に係合した状態で回転体12がパルス制御モ−タ9に
よって図3に矢印Cで示す方向に捩じりコイルばね26
の付勢力に抗して角度θ回転させられている。それによ
って、保持部材17が回転するから、ロックピン22が
偏心回転し、このロックピン22は支持ピン21に支持
される半導体ウエハUの外周面よりも所定寸法径方向外
方の離れた位置にある。
き、上記回転体12上に未処理の半導体ウエハUが図示
しないロボットによってそのア−ムを保持部材17の間
を通して供給される。つまり、半導体ウエハUを保持し
たア−ムは回転体12の上面へ進入してから下降し、半
導体ウエハUをア−ムから支持ピン21に受け渡し、つ
いで後退することで上記半導体ウエハUの供給が完了す
る。
ンダ43が作動してブレ−キシュ−45aがブレ−キデ
ィスク45bに圧接し、回転子9bの回転を阻止してい
る。そのため、半導体ウエハUの供給時に停電などが生
じても、上記回転子9bが捩じりコイルばね26の復元
力によって矢印C方向と逆方向に回転するのが防止され
る。
よって回転体12の回転角度が一定に維持されるから、
停電等が生じてパルス制御モ−タ9の駆動力が消失して
も、回転体12が回転してロボットのア−ムが保持部材
17にぶつかり、半導体ウエハUの供給ができなくなる
ということがない。
なら、解除シリンダ32の駆動を解除し、解除ピン36
を親歯車25の凸部25aから外す。それによって、親
歯車25は捩じりコイルばね26の付勢力によって矢印
A方向へ回転するから、この親歯車25により子歯車2
3が保持部材17とともに矢印B方向に回転させられ
る。
この保持部材17に設けられたロックピン22が半導体
ウエハUの外周面に当接する方向へ偏心回転するから、
上記半導体ウエハUがロックピン22によって保持され
ることになる。
保持したならば、ブレ−キシリンダ43の駆動を解除し
てブレ−キシュ−45aによる回転子9bの回転阻止状
態も解除する。ついで、パルス制御モ−タ9を作動させ
て回転体12を高速回転させるとともに、半導体ウエハ
Uの上面および必要に応じて下面とにそれぞれ洗浄液を
供給することで、この半導体ウエハUの上下面を洗浄す
ることができる。
カバ−56が設けられ、回転体12が高速回転しても、
その上面の凹凸形状によって乱流が発生するのを防止す
る。そのため、半導体ウエハUを洗浄して塵埃を含んだ
洗浄液は、排出管6から円滑に排出されるから、カップ
体1内で舞い上がって半導体ウエハUに再付着するのが
防止される。
その上下面に乾燥用の気体を供給しながら高速回転させ
ることで乾燥処理する。乾燥処理が終了したならば、回
転体12の回転を停止し、ついでセンサ38がゲ−ジ3
7を検出する原点位置まで上記回転体12をパルス駆動
する。回転体12を原点位置まで回転させたなら、解除
シリンダ32を作動させて解除ピン36を親歯車25の
凸部25aの側面に係合させる。
を所定のパルス数だけ回転させ、回転体12を捩じりコ
イルばね26の付勢力に抗して矢印C方向へ角度θ回転
させる。つまり、親歯車25の回転を解除ピン36で阻
止して回転体12だけを回転させることで、この回転体
12を捩じりコイルばね26の付勢力に抗して回転させ
ることができる。
子歯車23が回転体12とともに公転しながら自転し、
その自転に保持部材17が連動して矢印Bと逆方向に回
転するから、ロックピン22による半導体ウエハUのロ
ック状態が解除される。
ならば、ブレ−キシリンダ43を作動させて回転子9b
を固定し、回転体12が捩じりコイルばね26の復元力
で矢印C方向と逆方向に回転するのを阻止したならば、
図示しないロボットによってカップ体1内の処理された
半導体ウエハUを回転体12から取り出す。
ら取り出したならば、未処理の半導体ウエハUを供給
し、上述した工程を繰り返すことで、その半導体ウエハ
Uの洗浄処理および乾燥処理を行うことができる。
体12に供給されてロックピン22により保持された半
導体ウエハUのロック状態の解除は、解除ピン36を解
除シリンダ32によって駆動して親歯車25に係合させ
たならば、回転体12を回転駆動するパルス制御モ−タ
9によって上記回転体12を捩じりコイルばね26の付
勢力に抗して回転させることで行える。
制御モ−タ9を利用して半導体ウエハUのロック状態を
解除できるようにしたから、その分、部品点数を少なく
することができ、それによって装置全体の小型化やコス
トダウンが計れる。
転子9bとが筒状に形成されているものを用いたので、
回転体12と同軸に設けることができる。そのため、パ
ルス制御モ−タ9を回転体12の径方向外方に突出させ
ることなく配置できるから、そのことによっても装置の
小型化を計ることができる。
であることにより、回転子9bの内部に固定軸41を通
し、その上端に回転体12の通孔14からその上面側に
突出したノズルヘッド46を取付けることができる。こ
のノズルヘッド46は半導体ウエハUの下面に対向す
る。
浄ノズル55を設けたり、乾燥用気体を供給するための
第1のノズル孔51を形成することで、半導体ウエハU
の下面に洗浄液や乾燥用の気体を噴射させることができ
る。
歯車に係合させ、この親歯車の回転を阻止したならば、
回転体を回転駆動するための駆動手段を作動させて回転
体を所定角度回転させることで、ワ−クを保持した保持
手段を、ワ−クを保持する方向に付勢した付勢手段の付
勢力に抗して回転させることができるようにした。
クピンによるワ−クのロック状態を回転体を回転駆動す
るための駆動手段を利用して解除できるから、従来に比
べて部品点数の減少や構成の簡略化を計ることができ
る。
るワ−クのロック状態を解除し、上記回転体に対してロ
ボットなどにより未処理のワ−クを供給したり、処理さ
れたワ−クを取り出しているときに、停電などが生じて
駆動手段の駆動力が消失しても、ブレ−キ手段によって
回転体が付勢手段の復元力で回転するのを阻止できるよ
うにしたから、ロボットが回転体に設けられた保持部材
にぶつかってこのロボットによるワ−クの供給や取り出
し作業ができなくなるのを防止できる。
子を中空軸状とし、その上端に中心部に通孔が形成され
た回転体を取付けることで、上記通孔に洗浄ノズルを配
置することが可能となるから、上記回転体に保持された
ワ−クの下面を洗浄処理することができる。
ることができるから、駆動手段を回転体の径方向外方に
配置する場合に比べて装置全体を小型化することが可能
となる。
であって、しかもワ−クの下面側には、回転体の上面を
覆う乱流防止カバ−を設けたから、この乱流防止カバ−
によって回転体の上面が凹凸形状であっても、その形状
により回転体が高速回転したときに乱流が発生するのを
防止することができる。
に、塵埃を含む洗浄液がカップ体内であらゆる方向に不
規則に飛散してワ−クの上面や裏面に再付着するのを防
止することができる。
拡大断面図。
図。
Claims (4)
- 【請求項1】 ワ−クを保持して回転させることで処理
するスピン処理装置において、 カップ体と、 このカップ体内に配設された回転体と、 この回転体を回転駆動する駆動手段と、 上記回転体の径方向周辺部に周方向に所定間隔で回転自
在に立設され上端に上記ワ−クの下面周辺部を支持する
支持ピンおよび偏心回転して上記ワ−クの周辺部を保持
するロックピンが設けられた複数の保持部材と、 上記回転体の下面側にこの回転体に対して回転自在に設
けられた親歯車と、 各保持部材の下端部にそれぞれ上記親歯車と噛合して設
けられた子歯車と、 上記ロックピンが上記ワ−クの周辺部を保持する回転方
向に上記保持部材を上記親歯車および子歯車を介して弾
性的に付勢した付勢手段と、 上記親歯車と係合しこの親歯車が上記回転体と一緒に回
転するのを阻止するとともに親歯車の回転を阻止した状
態で上記駆動手段により上記回転体を上記保持部材に与
えられた上記付勢手段による付勢力に抗して回転させる
ことで上記ロックピンによる上記ワ−クの保持状態を解
除する解除手段とを具備したことを特徴とするスピン処
理装置。 - 【請求項2】 上記ロックピンによるワ−クの保持状態
が解除されているときに、上記回転体が上記付勢手段の
復元力で回転するのを阻止するブレ−キ手段が設けられ
ていることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装
置。 - 【請求項3】 上記駆動手段は、中空状の固定子と、こ
の固定子の内部に回転自在に設けられた中空軸状の回転
子とからなり、 上記回転体は上記回転子の上端に取付けれているととも
に中心部に通孔が形成されていて、 この通孔には上記回転体の保持部材に保持されたワ−ク
の下面に向けて洗浄液を噴出する洗浄ノズルが配置され
ていることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装
置。 - 【請求項4】 上記回転体の上面側であって、上記保持
部材に保持されるワ−クの下面側には、上記回転体の上
面側を覆う乱流防止カバ−が設けられていることを特徴
とする請求項1記載のスピン処理装置。
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