JPH10341336A - 画像処理装置および二次元線特徴量算出装置 - Google Patents

画像処理装置および二次元線特徴量算出装置

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JPH10341336A
JPH10341336A JP10062737A JP6273798A JPH10341336A JP H10341336 A JPH10341336 A JP H10341336A JP 10062737 A JP10062737 A JP 10062737A JP 6273798 A JP6273798 A JP 6273798A JP H10341336 A JPH10341336 A JP H10341336A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 濃度が異なる複数の2値画像領域が混在する
原稿等を製版印刷した際に、階調画像領域では階調性が
保存され、2値画像領域における薄い文字などの掠れや
消滅、あるいは濃い下地の上に書かれた文字の潰れを防
止できると共に、濃度の段差による違和感が生じない印
刷物が得られるようにする。 【解決手段】 注目画素の2値画像らしさ階調画像らし
さを分析する第1の分析手段114 と、注目画素が一定幅
以下の線を構成する画素である場合に、線とその下地と
の濃度差に関する2次元線特徴量を算出する第2の分析
手段116 と、第1の分析手段114 による分析結果と2次
元線特徴量とに基づいて注目画素の2値画像らしさの度
合いを多段階に判断する判断手段122 と、この判断結果
に基づいて注目画素の濃度を変換する適応濃度変換手段
124 と、濃度変換を受けた注目画素を必要に応じて2値
化する2値化手段130 とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は原稿の画像を読み取
り、読み取られたデジタル画像データを画像処理して2
値データとして出力する画像処理装置、特に、感熱孔版
原紙に穿孔を施す製版装置(デジタル印刷機)、電子写
真技術により感光体に潜像を形成し用紙に転写する装置
(デジタル複写機)、あるいは、感熱紙等に複写する装
置に使用される画像処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】文字や線画等の二値画像と写真等の階調
画像とが混在する原稿を上記のような画像処理装置を用
いて二値データとして出力する場合に最良な結果を得る
ためには、二値画像領域は適当な単一閾値により最大濃
度か最小濃度のどちらかに二値化し、階調画像領域は入
出力デバイスの特性を考慮して、適切な濃度に変換する
濃度変換を施す必要がある。そのためには画像の各部が
二値画像領域であるか階調画像領域であるかを判別し、
両領域を分離する必要がある。
【0003】従来、二値画像領域か階調画像領域かの判
別を行うために、画像をn×n画素のブロックに分割
し、各ブロック毎に特徴抽出を行い特徴抽出結果を利用
してブロックの判別を行う方法(例えば特開平3-153167
号参照)(以下方法Aという)、注目画素とその周辺画
素を利用して特徴抽出を行い、その特徴抽出結果を利用
して各画素毎に判別を行う方法(例えば、特開平1-2275
73号参照)(以下方法Bという)等がある。
【0004】前記方法Aでは各ブロック毎に判別を行う
ため、誤判別された部分や、二値画像領域と階調画像領
域との境界の部分にブロックの形が現れてしまうという
問題がある。前記方法Bを用いた場合には誤判別の影響
が前記方法Aより目立たないが、誤判別された部分と正
しく判別された部分との間に濃度の段差が生じ、違和感
があるという問題がある。
【0005】また、二値画像領域にある太い線画や黒ベ
タと階調画像領域にある写真の高濃度部とは区別が困難
である。太い線画や黒ベタを二値画像と判別できるよう
に判別用パラメータを調整すると写真画像中につぶれる
部分ができ、一方写真の高濃度部を階調画像と判別でき
るように判別用パラメータを調整すると太い線画や黒ベ
タの濃度が薄くなってしまう。
【0006】そこで本願出願人は、前記方法A,方法B
の問題点を緩和する手段として、二値画像領域か階調画
像領域かの判別を行うために、原稿における「エッジ画
素」(濃度勾配が強い画素)およびその周辺を検出し、
エッジ画素とその周辺の高濃度画素を二値画像領域とし
て判別し、エッジ画素が階調画像領域の輪郭画素である
という誤判断等があった場合、印刷結果に違和感が生じ
ないように、二値画像領域画素とエッジ画素の間の距離
が大きくなるに従って、階調画像用濃度変換曲線と二値
画像濃度変換曲線とを補間する1本以上の濃度変換曲線
の中で適当なものを選択する方法を提案している(特開
平 8-51538号、以下方法Cという)。
【0007】この方法Cでは注目画素が二値画像領域画
素として判別されるためにはエッジ画素に近くかつ濃度
が濃いという二つの条件が要求されるが、新聞の切張り
の隣に手書きによる文字がある場合や、レーザビームプ
リンタで印刷された文書に印(朱肉による文字)が押さ
れた場合のように、下地の濃度や文字の濃度が異なる二
値画像領域が混在する原稿、更に写真等の階調画像領域
も混在する原稿においては、薄い文字(特に、鉛筆や朱
肉印による文字)の濃度勾配がそれほど強くなく、かつ
濃度が薄いため、この薄い文字が二値画像領域としてで
はなく階調画像領域として誤判別され、その結果印刷物
上では消えてしまうことがある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、文字の濃度の異なる二値画像
領域が混在する原稿、更に写真等の階調画像領域も混在
する原稿に対して、階調画像領域の階調性を保存するこ
とができると共に、文字の濃度が異なっても適度に文字
のコントラストを強めるように画像濃度信号を出力し、
薄い文字などの掠れや消滅という問題を解決することの
できる画像処理装置を提供することを目的とするもので
ある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の画像処理装置
は、注目画素の2値画像らしさ階調画像らしさを分析す
る第1の分析手段と、注目画素周辺の参照画像データに
基づき、注目画素を通る複数の異なる方向について注目
画素の山および谷の度合いのうち少なくとも一方を1次
元線特徴量として夫々算出し、算出した複数の結果に基
づいて2次元線特徴量を算出して注目画素の2値画像ら
しさ階調画像らしさを分析する第1の分析手段とは異な
る第2の分析手段と、第1および第2の分析手段による
分析結果に基づいて注目画素の濃度を変換する濃度変換
手段とを備えたことを特徴とするものである。
【0010】ここで「第1の分析手段」とは、前記第2
の分析手段との組合せによって2値画像らしさ階調画像
らしさの判別効果を向上させるものである。例えば、注
目画素を通る任意の一方向のみの画像特徴量に基づいて
2値画像らしさ階調画像らしさを分析するものや、特開
平 8-51538号に記載されているような注目画素のエッジ
鋭さ、注目画素に最も近いエッジ画素との距離、線の太
さ(高濃度縦線)等のエッジ情報に応じた画像特徴量に
基づいて2値画像らしさ階調画像らしさを分析するもの
等である。
【0011】また、「注目画素の山および谷の度合い」
とは、注目画素が線画素である場合に、その線とその地
との濃度差(濃度プロファイルに表われる)の程度を表
す指標である。
【0012】なお、周辺画素が注目画素の濃度より低い
濃度値を有するとき、即ち、濃度プロファイルに立ち上
がった後に立ち下がる部分があるときには「山」とい
い、周辺画素が注目画素の濃度より高い濃度値を有する
とき、即ち、濃度プロファイルに立ち下がった後に立ち
上がる部分があるときには「谷」という。
【0013】本発明による画像処理装置の第2の分析手
段は、上記度合いを注目画素と注目画素周辺の参照画像
との濃度差の絶対値の大きさで示すものであり、予め定
められた角度と複数の異なる方向の数との関連により、
何番目に絶対値の大きい1次元線特徴量を2次元線特徴
量として抽出すべきかを予め決定しておき、該当する1
次元線特徴量を注目画素の2次元線特徴量として出力す
るものであることが望ましい。この場合、度合いは、注
目画素を挟む参照画像中の両参照画素群のうち注目画素
との濃度差の小さい方の画素群と注目画素との濃度差の
絶対値の大きさで示すものであればより望ましい。
【0014】ここで「予め定められた角度」とは、階調
画像領域の角で、線として検出したくない部分の角度を
意味する。
【0015】上記2次元線特徴量は、例えば式(1)に
基づいて算出される。
【0016】
【数1】
【0017】本発明による画像処理装置の濃度変換手段
は、複数の異なる濃度変換曲線から適切な濃度変換曲線
を選択して濃度変換するものであることが望ましい。
【0018】ここで「複数の異なる濃度変換曲線」は、
全体的により薄いおよび/またはより濃い出力を与える
ように、基本的な濃度変換曲線を滑らかに変形する複数
の濃度変換曲線を持っていればより好ましい。
【0019】本発明による画像処理装置は、必要に応じ
て、濃度変換された注目画素に対して誤差拡散法により
2値化処理を施す2値化手段を備えるようにしてもよ
い。
【0020】なお、本発明による画像処理装置は、上記
第1の分析手段を備えることなく、2次元線特徴量のみ
を算出して注目画素の2値画像らしさ階調画像らしさを
分析するようにしてもよい。本発明による2次元線特徴
量算出手段はこのためのものであって、注目画素周辺の
参照画像データに基づき、注目画素を通る複数の異なる
方向について注目画素の山および谷の度合いのうち少な
くとも一方を1次元線特徴量として夫々算出し、算出し
た複数の結果に基づいて2次元線特徴量を算出すること
を特徴とするものである。
【0021】
【発明の効果】本発明による画像処理装置は、濃度差情
報を有する1次元線特徴量の性質を併せ持つ2次元線特
徴量に基づいて注目画素の2値画像らしさ階調画像らし
さを分析する第2の分析手段(2次元線特徴算出手段)
と、この第2の分析手段との組合せによって2値画像ら
しさ階調画像らしさの判別効果を向上させる第1の分析
手段とを備え、分析結果に応じて濃度変換するように構
成したので、従来の画像処理装置のもつ効果に加えて、
一層適切な濃度変換ができるようになる。
【0022】例えば、濃い線をより濃くすることがで
き、細線で構成された薄い文字や階調画像領域における
薄い模様(捺印等)の再現が適切にできる。また、明る
い線をより明るくすることもでき、文字ストロークの間
の隙間等の潰れを避けることもできる。更に、濃い線を
より濃く、明るい線をより明るくすることができるか
ら、細かい点から成る網点写真が一方的に濃くなったり
一方的に薄くなったりすることを防ぐことができる。
【0023】これにより、濃度が異なる複数の2値画像
領域が混在する原稿や、2値画像領域と階調画像領域が
混在する原稿を製版印刷した際に、2値画像領域におけ
る薄い文字などの掠れや消滅、あるいは濃い下地の上に
書かれた文字の潰れがなく、また階調画像領域では階調
性が保存され、濃度の段差による違和感が生じない印刷
物を得ることができる。
【0024】また、2次元線特徴量の算出は主に比較演
算に基づいているため、第2の分析手段(2次元線特徴
算出手段)を単純なハードウエアで構成することが可能
である。
【0025】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明による
画像処理装置の実施の形態について詳細に説明する。
【0026】図1は本発明による画像処理装置の基本構
成を示したブロック図である。この画像処理装置100
は、図示しない原稿読み取り手段を備えている。この原
稿読み取り手段は、図3に示すように、原稿の主走査方
向の画素位置b、副走査方向の画素位置aの画素P(a,b)
の画像情報をデジタル画像信号(濃度信号)f(a,b)とし
て、順次原稿を主走査および副走査して読み取るもので
ある。
【0027】画像処理装置100 は、原稿読み取り手段に
より得られた濃度信号f(a,b)に対して、画素毎に、注目
画素Pの2値画像らしさ或いは階調画像らしさ(以下
「注目画素Pの状態」ともいう)を分析する分析手段11
0 と、分析手段110 の分析結果に基づいて、注目画素P
の状態を2値画像から階調画像の間で多段階に判断する
判断手段122 と、判断手段122 による注目画素Pの状態
の判断結果に従って複数の濃度変換曲線からなる濃度変
換曲線集合の中から所望の濃度変換曲線を選択して、選
択された濃度変換曲線に基づいて注目画素Pの濃度信号
f(a,b)に対して濃度変換処理を施す適応濃度変換手段12
4 とからなる濃度変換手段120 とを備えている。尚、感
熱孔版原紙に穿孔を施す製版装置用の画像処理装置等必
要に応じて、図中点線で示すように、濃度変換が施され
た注目画素Pを2値化する2値化手段130 を更に備える
ようにしてもよい。
【0028】図2は分析手段110 の詳細を示したブロッ
ク図である。この分析手段110 は、濃度信号f(a,b)を記
憶するデータ記憶手段112 と、データ記憶手段112 から
の画像データを用いて、注目画素Pの2値画像らしさ階
調画像らしさを分析する第1の分析手段114 と、注目画
素P周辺の画素の参照画像データに基づき、注目画素P
を通る複数の異なる方向について注目画素Pの山および
/または谷の度合いを1次元線特徴量hxとして夫々算出
し、算出した複数の結果に基づいて、線とその地との濃
度差(以下「2次元線特徴量」と称す)Hを算出して注
目画素Pの2値画像らしさ階調画像らしさを分析する第
2の分析手段116 とを備えている。第1の分析手段114
は、注目画素Pにおけるエッジの鋭さSを算出するエッ
ジ鋭さ算出手段114aと、注目画素Pにおけるエッジ鋭さ
Sが予め定められた閾値を超えるか否か、換言すれば
「注目画素Pにおいて強いエッジが存在するか否か」と
いう判定を表す特徴量Eを算出する強いエッジ検出手段
114bと、強いエッジ検出手段114bが強いエッジを検出し
た場合、該当画素を強いエッジ画素と呼び、注目画素P
と最も近い強いエッジ画素からの距離Dを算出する強い
エッジ画素からの距離算出手段(以下「距離算出手段」
と称す)114cと、注目画素Pが一定幅以下の濃い縦線の
画素であるか否かという判定を表す特徴量Kを算出する
高濃度縦線検出手段114dとからなる。また、第2の分析
手段116 は、換言すれば、注目画素Pが一定幅以下の線
を構成する画素である場合に、その線とその地との濃度
差(2次元線特徴量)Hを算出する2次元線特徴量算出
手段である。以下、第2の分析手段116 を2次元線特徴
量算出手段116 と称す。
【0029】次に、上記構成の画像処理装置の作用につ
いて説明する。尚、最初に当該画像処理装置100 の特徴
である2次元線特徴量算出手段116 の作用について図8
〜図12を参照して詳細に説明し、その後に画像処理装置
100 をより具体的に示した図5を参照して全体的な作用
について説明する。
【0030】2次元線特徴量算出手段116 は、線の特徴
である「線自身の方向を除く、全ての方向において、そ
の濃度プロファイルを取ると、濃度の山(立ち上がった
後に立ち下がる部分)あるいは谷(立ち下がった後に立
ち上がる部分)となること」を検出するため、注目画素
P(a,b)を通る複数の異なる方向の直線に沿って、式
(2)で定義される1次元線特徴量hx(a,b) を方向毎に
算出する。次に、この方向毎の全算出結果に基づいて式
(1)で定義される2次元線検出特徴量を算出して、階
調画像領域の角を構成する画素と2次元線を構成する画
素とを区別することにより、階調画像領域の角を線と誤
認識しないようにする。これは、「線自身の方向に濃度
プロファイルを取ると1次元線特徴量hx(a,b) はゼロに
なるが、その他の方向に濃度プロファイルを取ると1次
元線特徴量hx(a,b) は大きな値を持ち、したがって、上
記「線の特徴」の検出は、1次元線特徴量hx(a,b) の最
小値から2番目以降のものを2次元線検出特徴量として
採用し、これを評価することによってなされる」、とい
うことに基づくものである。
【0031】
【数1】
【0032】この式(1)から明らかなように、注目画
素P(a,b)の2次元線特徴量H(a,b)は、それが正/負の場
合、注目画素P(a,b)が下地より濃い線/明るい線の画素
であることを意味する。したがって注目画素P(a,b)の2
次元線特徴量H(a,b)の絶対値が高い/低い程、2値画像
領域/階調画像領域らしさを示す。階調画像領域等濃度
がほとんど平らである領域では2次元線特徴量H(a,b)が
ゼロに近い値を取り、線が見えないか線が存在しないこ
とを意味する。以下2次元線特徴量H(a,b)についてより
詳しく説明する。
【0033】最初に注目画素P(a,b)の1次元線特徴量hx
(a,b)の特性について説明する。上述の式(2)は1次
元線特徴量hx(a,b)を正確に定義するもので、1次元線
検出特徴量は線の特徴である「線自身の方向以外全ての
方向に沿って、線の濃度プロファイルにおける濃度の山
あるいは谷」が、参照領域内に検出可能であれば、線の
幅に関係なく線の検出を可能にするものである。以下、
これについて簡単な例を用いて説明する。
【0034】図8は下地の濃度値がAである原稿の注目
画素P(a,b)を取り囲む所定のサイズの参照領域内に線
(濃度値B;B>A)が存在して注目画素P(a,b)が線を
構成する画素である場合に、1次元線特徴量hx(a,b)
(図中画素位置を示すサフィックスは省略している。図
9〜図12も同様)による線検出を図説したものである。
参照領域の大きさは、検出したい線の幅に応じて適宜変
更することができる。
【0035】図8(A)に示すように、注目画素P(a,b)を通
り左下から右上への方向x(45°)について濃度プロフ
ァイル(図8(B))をとり、1次元線特徴量hx(a,b) を以
下のようにして求める。
【0036】(1) 注目画素P(a,b)の左右で夫々最大値お
よび最小値を求める。
【0037】本例では、左半面の最大値=B 左半面の最小値=A 右半面の最大値=B 右半面の最小値=A (2) 上記で求めた左右の最小値の最大値を求める。本例
ではAとなる。
【0038】(3) 上記で求めた左右の最大値の最小値を
求める。本例ではBとなる。
【0039】(4) 注目画素P(a,b)の濃度値Bと (2)で求
めた左右の最小値の最大値との差を取って山x(a,b) を
求める。値があれば線は「山」即ち「明るい下地に暗い
線がある」ことを現し、値が線の濃さ(下地との濃度
差)になる。本例ではB−Aとなる。
【0040】(5) 注目画素P(a,b)の濃度値Bと (3)で求
めた左右の最大値の最小値との差を取って谷x(a,b) を
求める。値があれば線は「谷」即ち「濃い下地に明るい
線がある」ことを現し、値が線の濃さ(下地との濃度
差)になる。本例ではゼロとなる。
【0041】(6) (4)および(5)で求めた山x(a,b) およ
び谷x(a,b) の絶対値の大きい方を採って注目画素P(a,
b)の1次元線特徴量hx(a,b)とする。本例ではB−Aと
なる。
【0042】上記 (4)は式(3)に対応し、(5)は式
(4)に対応し、(6)は式(2)に対応するものであ
る。
【0043】このように、注目画素P(a,b)が線を構成す
る画素である場合、濃度の山あるいは谷が検出されるか
ら、1次元線特徴量hx(a,b)はゼロより大きい値を取
り、注目画素P(a,b)は線画素の一部であるとして識別さ
れる。
【0044】図9は注目画素P(a,b)が階調画像領域の縁
の周辺に位置した場合に、1次元線特徴量hx(a,b)がど
のような値を示すかを図説したものである。注目画素P
(a,b)を通り左下から右上への方向Xについて、濃度プ
ロファイル図9(B)から上記図8における(1)〜(6)と同様
にして注目画素P(a,b)の1次元線特徴量hx(a,b)を求め
るとゼロとなる。
【0045】このように、注目画素P(a,b)が階調画像領
域の縁の周辺に位置した場合、参照領域において濃度の
立ち上がりと立ち下りのどちらかしか観察できないた
め、1次元線特徴量hx(a,b)はゼロに近い値(本例では
ゼロ)を取り、注目画素P(a,b)は線画素の一部でない、
即ち階調画像領域の画素として識別される。
【0046】次に注目画素P(a,b)の2次元線特徴量の特
性について説明する。上述の式(1)は2次元線特徴量
H(a,b)を正確に定義するもので、注目画素P(a,b)を通り
主走査方向に対して、 方向1は、縦(-90°)方向 方向2は、右斜め下(-45°) 方向 方向3は、横(0°)方向 方向4は、右斜め上(+45°) 方向 の異なる4つの方向に沿って1次元線特徴量hx(a,b) を
算出し、その4つの値の中で絶対値が2番目に大きいも
のを選択する。
【0047】図10は上記図8と同様に下地の濃度値がA
である原稿の注目画素P(a,b)を取り囲む所定のサイズの
参照領域内に線(濃度値B;B>A)が存在して注目画
素P(a,b)が線を構成する画素である場合に、夫々の1次
元線特徴量hx(a,b) および2次元線特徴量H(a,b)がどの
ような値を示すかを図説したものである。この例では、
方向1において1次元線特徴量h3(a,b) がゼロとなる
が、他の1次元線特徴量hx(a,b) はB−Aであるから2
次元線特徴量H(a,b)はB−Aとなる。
【0048】また、図11は上記図9と同様に注目画素P
(a,b)が階調画像領域の縁の周辺に位置した場合に、夫
々の1次元線特徴量hx(a,b) および2次元線特徴量H(a,
b)がどのような値を示すかを図説したものである。この
例では、いずれの方向においても1次元線特徴量hx(a,
b) がゼロとなるから2次元線特徴量H(a,b)もゼロとな
る。
【0049】このように、2次元線特徴量H(a,b)は1次
元線特徴量hx(a,b) と同様の特性を示すので2次元線特
徴量H(a,b)によっても線の検出が可能であると共に、2
次元線特徴量H(a,b)は階調画像領域の縁の周辺が線とし
て誤判断されないような特性を持っている。
【0050】図12は注目画素P(a,b)が階調画像領域の角
の周辺に位置した場合に、夫々の1次元線特徴量hx(a,
b) および2次元線特徴量H(a,b)がどのような値を示す
かを図説したものである。この例では、方向4において
1次元線特徴量h2(a,b) がB−Aとなるが、他の1次元
線特徴量hx(a,b) はゼロであるから2次元線特徴量H(a,
b)はゼロとなる。即ち、2次元線特徴量H(a,b)によれ
ば、階調画像領域の角の周辺が線としてではなく、階調
画像領域として正しく認識される。
【0051】このように、2次元線特徴量H(a,b)は前記
特性に加えて、階調画像領域の角の周辺が線として誤判
断されないような特性を持っており、注目画素P(a,b)が
階調画像領域の角の周辺に位置した場合、1次元線特徴
量hx(a,b) に大きな値を取らせる方向は1つしかないた
め(上記例では方向4)、式(1)により2次元線特徴
量H(a,b)はゼロに近い値を取り(上記例ではゼロ)、注
目画素P(a,b)は階調画像領域画素として正しく識別され
る。
【0052】上述の図10〜図12では、一般的な原稿にお
いては階調画像領域の角が走査方向と略同一となるよう
な位置に置かれることが多いことを考慮して、4つの方
向を上述のように採ったが、1次元線特徴量を算出する
ための方向とその数は、必ずしも上記の4つに限られ
ず、例えば5つ以上であってもよく、また、選択される
絶対値も2番目に大きいものに限られず、3番目以降の
大きさの絶対値を選択することもできる。この際、階調
画像領域の角が線として誤認識されないように、角の大
きさおよび向きと1次元線特徴量を算出する方向および
その数との関連により何番目の大きさのものを選択する
かを決定すればよく、要するに、「階調画像領域の角が
線として誤認識されない」ことを達成できれば何れのも
のでもよい。
【0053】次に、図5を参照して画像処理装置100 の
具体的な作用について説明する。図5は図1および図2
により示される画像処理装置100 をより具体的に示した
ブロック図である。
【0054】図中点線で示した各手段1,2,3,4に
含まれる要素は夫々図1に示した分析手段 110,判断手
段 122,適応濃度変換手段 124,2値化手段 130を実現
する部分である(以下、夫々図1と同様の名称を用い
る。)。分析手段1内の各回路8,10,11,12は夫々図
2に示した第1の分析手段114 を構成する距離算出手段
114c,エッジ鋭さ算出手段114a,強いエッジ検出手段11
4b,高濃度縦線検出手段114dを実現する回路であり、9
は2次元線特徴量算出手段116 を実現する2次元線特徴
量算出回路である。分析手段1内のRAM 7と画像データ
バッファ6がデータ記憶手段 122を実現する回路であ
る。分析手段1内の入出力管理回路5は後述するよう
に、図示しない原稿読み取り手段から入力された濃度値
を担持する濃度信号fをRAM 7に出力すると共に、RAM
7と画像データバッファ6内のデータの入出力の管理を
行う。
【0055】画像処理装置100 は入力される濃度値f
(または濃度信号f;後述の各特徴量についても、適宜
「**信号」と称す)に対して、画素毎に同じ処理を繰
り返すため、以下の説明は、注目画素P(i,j-L)の各特徴
量を算出する時点の処理について説明する。
【0056】図4は処理の対象となる注目画素P(i,j-L)
と、参照領域の中心となる中心画素P(i,j)と、注目画素
P(i,j-L)の処理が始まる時、画像処理装置100 への入力
となる最新画素P(i+N,j+N)の濃度信号f(i+N,j+N)の空間
関係を図説したものである。ここで、カッコ内の記号は
副走査上および主走査上の画素番号を示す。また、中心
画素P(i,j)と注目画素P(i,j-L)の主走査方向の画素位置
がLだけずれているのは、高濃度縦線検出回路12により
特徴量Kを求めるためには、その他の特徴量を求めるた
めの画素位置よりLだけ遅れてからでなければ求めるこ
とができないからである。
【0057】(1) 分析手段1における処理の流れ 最新画素P(i+N,j+N)の濃度信号f(i+N,j+N)が本装置に入
力される時、入出力管理回路5がRAM 7から、中心画素
P(i,j)におけるエッジ鋭さ特徴量S(i,j)、画像データバ
ッファ6に必要なデータ(以下、「画像データバッファ
用最新画像データ」と称す)、および最も近い強いエッ
ジ画素からの距離D(i,j)の算出に必要となるD(i-1,j),
D(i-1,j+1)およびD(i,j-1)を読み取り、この読み取った
距離信号D(i-1,j)等および最新画素の濃度値を画像デー
タバッファ6へ、距離信号D(i-1,j)等を最も近い強いエ
ッジ画素からの距離算出回路8へ送る。そして、入出力
管理回路5はRAM 7に格納されていた濃度値f(i-N,j+N)
を最新画素の濃度値f(i+N,j+N)で上書きする。
【0058】図6は最新画素の濃度値f(i+N,j+N)がRAM
7に格納される前、RAM 7内に保存されている濃度値を
表す画像データを図説したものである。図7はN=8,
S+={1,2,4,8}, S-={-1,-2,-4,-8} 、2次元線特徴量
を求めるための方向x=0°,45°,-90°,-45° の場
合、画像データバッファ6に格納されている画像データ
を示したものである。この図7では、f(i+8,j+8)が最新
画素の濃度信号、f(i-8,j+8),f(i-4,j+4),f(i-2,j+
2),f(i-1,j+1),f(i,j+8),f(i+1,j+1),f(i+2,j+2)、
f(i+4,j+4)が画像データバッファ用最新画像データであ
る。画像データバッファ6は、各ライン毎にシフトレジ
スタを持つことにより構成される。なお、ここでS+およ
びS-として、「1,2,4,8」という飛び飛びの値を
用いたのは2次元線特徴量を求める演算速度を高めるた
めであって、連続する整数値を用いてもよい。
【0059】画像データバッファ6内に格納された画像
データ(図7参照)を用いて、上記図10〜図12の説明と
同様にして2次元線特徴量算出回路9が式(1)で定義
される2次元線特徴量H(i,j)を算出した後H(i,j)を遅延
回路(FIFO)15に入力する。
【0060】エッジ鋭さ算出回路10では、-90°,-45
°,0°,45°という4つの向き(図7参照)を持つエ
ッジを検出するために、式(5)但書きに示す縦(-90
°) 方向,右斜め下(-45°) 方向,横(0°)方
向,右斜め上(45°)方向の4つの方向性を持つエッジ
検出フィルタ(エッジ検出係数マトリクス)によりコン
ヴォリューションの演算が行われる。求められた4つの
値の絶対値のうち最大となるエッジ強度が式(5)で定
義されるエッジ鋭さ特徴量S(i,j)である(特開平8-5153
8号参照)。 エッジ鋭さ算出回路10により式(5)で定
義されるエッジ鋭さ特徴量S(i,j)を算出した後S(i,j)を
FIFO16に入力する。
【0061】
【数2】
【0062】このエッジ鋭さ特徴量S(i,j)は、中心画素
P(i,j)のエッジの鋭さが高い(低い)程、該中心画素P
(i,j)が文字の輪郭画素(階調画像領域の画素)である
可能性が高いことを示す。
【0063】強いエッジ検出回路11は中心画素P(i,j)に
おけるエッジ鋭さ信号S(i,j)を使って、式(6)で定義
される強いエッジ検出特徴量E(i,j)を算出し、最も近い
強いエッジ画素からの距離算出回路8と高濃度縦線検出
回路12とへ送る。式(6)で定義される強いエッジ検出
特徴量E(i,j)はエッジ鋭さ特徴量S(i,j)が予め定められ
た閾値を超えた場合のみ、真となる。
【0064】
【数3】
【0065】最も近い強いエッジ画素からの距離算出回
路8は強いエッジ検出特徴量E(i,j)と入出力管理回路5
で読み取られたD(i-1,j+1),D(i-1,j+1),D(i,j-1)およ
び計算されたエッジ検出特徴量E(i,j)を用いて、式
(7)で定義される中心画素P(i,j)での最も近い強いエ
ッジ画素からの距離D(i,j)を算出し、FIFO14の入力と入
出力管理回路5へ送る。そして、入出力管理回路5はRA
M 7で保存されていたD(i-1,j)をD(i,j)で上書きする。
【0066】式(7)は中心画素と中心画素より前に読
み込まれて、強いエッジが存在する画素の中で、最寄り
のとの間の距離を示し、単純なハードウエアでこの式を
実現可能な近似演算方法を提供するものである(特開平
8-51538 号参照)。
【0067】
【数4】
【0068】この最も近い強いエッジ画素からの距離D
(i,j)は、中心画素P(i,j)と最寄りの強いエッジ画素か
らの距離が短い程文字像域らしさを示し、長いほど階調
画像領域らしさを示す。
【0069】高濃度縦線検出回路12は、強いエッジ検出
特徴量E(i,j)と、中心画素P(i,j)の濃度値f(i,j)をL個
の画素で遅延するFIFO13の出力となる注目画素P(i,j-L)
の濃度値f(i,j-L)とを用いて、数式(8)で定義される
注目画素P(i,j-L)での高濃度縦線検出特徴量K(i,j-L)を
算出して、判定回路17へ送る。この高濃度縦線検出特徴
量K(i,j-L)は注目画素P(i,j-L)が原画像における濃い且
つある程度太い縦線(副走査方向と平行している線)の
上に乗っているかどうかという判定結果を表わすもので
あり、注目画素P(i,j-L)の濃度がある程度濃い、かつ、
注目画素P(i,j-L)から主走査方向にそって一定距離以内
位置する画素の中で、少なくとも1つの画素において強
いエッジが存在する、かつ、注目画素P(i,j-L)の直前画
素が強いエッジ画素あるいは高濃度縦線画素であるとい
う3つの条件が満たされた場合、注目画素P(i,j-L)が高
濃度縦線画素であることを意味する(特開平8-51538 号
参照)。したがって、注目画素P(i,j-L)において高濃度
縦線が検出された場合、この線が文字を構成する濃い縦
線である可能性が高い。
【0070】
【数5】
【0071】FIFO14,15,16は夫々中心画素P(i,j)で
の、最も近い強いエッジ画素からの距離信号D(i,j)、2
次元線特徴量信号H(i,j)、エッジ鋭さ信号S(i,j)を、注
目画素P(i,j-L)における特徴量K(i,j-L)と画素位置を合
わせるため、L個の画素で遅延し、注目画素P(i,j-L)で
の夫々の信号D(i,j-L)、H(i,j-L)、S(i,j-L)を、適当な
濃度変換曲線の番号を判定する判定回路17へ送る。
【0072】(2) 判定手段2における処理の流れ 判定回路17は注目画素P(i,j-L)の状態を2値画像から階
調画像の間で多段階に判定するものである。この判定回
路17は、上述のようにして求めた注目画素P(i,j-L)の状
態を特徴づけるD(i,j-L)信号,H(i,j-L)信号,S(i,j-L)
信号,K(i,j-L)信号を用いて、式(9)で定義される注
目画素P(i,j-L)の状態に適したガンマ曲線(濃度変換曲
線)の番号を選択する選択信号B(i,j-L)を求め、選択信
号B(i,j-L)に応じた濃度変換曲線を選択して濃度変換す
る適応濃度変換回路19へ送る。
【0073】
【数6】
【0074】この選択信号B(i,j-L)の値は、 1.エッジ画素は主として2値画像領域に存在する 2.エッジの鋭さ(濃度差)の度合いが強い(大きい)
程2値画像らしさを示し、エッジの鋭さの度合いが弱い
(小さい)程階調画像らしさを示す 3.主走査方向または副走査方向での濃度の立ち上がり
エッジ画素と立ち下がりエッジ画素で注目画素を挟む線
分がある場合、その線の濃度が高く細ければ文字を構成
する線(2値画像の一部)である可能性が強い 4.注目画素と該注目画素に最も近いエッジ画素との距
離が短い程文字画像らしさを示し、長い程階調画像らし
さを示す 5.2次元線特徴量が検出される線分がある場合、下地
より濃い(或いは薄い)線が存在し、その値が大きいほ
ど濃度差がある 等、注目画素の特徴を考慮して、適応濃度変換回路19で
画素毎に所望の濃度変換曲線が選択されるように閾値T
3〜T12が設定されている。
【0075】具体的には、選択信号B(i,j-L)は、 B(i,j-L)=0ならば、2値画像 B(i,j-L)=1ならば、下地より極めて濃い線 B(i,j-L)=2ならば、下地より濃い線 B(i,j-L)=3ならば、下地より少し濃い線 B(i,j-L)=4ならば、下地より極めて薄い線 B(i,j-L)=5ならば、下地より薄い線 B(i,j-L)=6ならば、下地より少し薄い線 B(i,j-L)=7ならば、2値画像らしい B(i,j-L)=8ならば、2値画像か階調画像か判断しかね
る画像 B(i,j-L)=9ならば、階調画像らしい B(i,j-L)=10ならば、階調画像 なる意味を持つ。
【0076】(3) 濃度変換手段3における処理の流れ 適応濃度変換回路19と接続されたROM 18には、上記選択
信号B(i,j-L)の夫々に応じた濃度変換曲線に対応する適
応濃度変換データG(i,j-L)が保存されている。
【0077】適応濃度変換回路19は注目画素P(i,j-L)の
状態に適した選択信号B(i,j-L)と注目画素P(i,j-L)の濃
度値f(i,j-L)を用いて、予めROM 18に保存された、式
(10)で定義される適応濃度変換データG(i,j-L)を読み
取り、2値化回路20へ送る。
【0078】
【数7】
【0079】具体的には、適応濃度変換回路19は図13に
示すように、入力濃度を最大か最小かのどちらかに2値
化する2値画像領域用濃度変換曲線21と、入力濃度の階
調特性を出力濃度に保存する階調画像領域用濃度変換曲
線25と、上記2曲線を補間する2値画像領域用濃度変換
曲線21よりの濃度変換曲線22,階調画像領域用濃度変換
曲線25よりの濃度変換曲線24,濃度変換曲線22と濃度変
換曲線24との中間階調を呈する濃度変換曲線23からなる
3本の補間用濃度変換曲線と、階調画像用濃度変換曲線
25を全体的に極めて/中程度に/少し濃い出力を与える
ように滑らかに変形する濃度変換曲線26(大山用),27
(中山用),28(小山用)と、階調画像用濃度変換曲線
25を全体的に少し/中程度に/極めて薄い出力を与える
ように滑らかに変形する濃度変換曲線29(小谷用),30
(中谷用),31(大谷用)の合計11本の濃度変換曲線の
何れかにしたがって濃度変換を行うものである。
【0080】したがって、適応濃度変換回路19は、判定
回路17から入力される選択信号B(i,j-L)に応じて、 B(i,j-L)=0ならば、2値画像領域用濃度変換曲線21 B(i,j-L)=1ならば、大山用濃度変換曲線26 B(i,j-L)=2ならば、中山用濃度変換曲線27 B(i,j-L)=3ならば、小山用濃度変換曲線28 B(i,j-L)=4ならば、大谷用濃度変換曲線31 B(i,j-L)=5ならば、中谷用濃度変換曲線30 B(i,j-L)=6ならば、小谷用濃度変換曲線29 B(i,j-L)=7ならば、2曲線を補間する2値画像用濃度
変換曲線21よりの濃度変換曲線22 B(i,j-L)=8ならば、濃度変換曲線22と濃度変換曲線24
との中間階調を呈する濃度変換曲線23 B(i,j-L)=9ならば、2曲線を補間する階調画像用濃度
変換曲線25よりの濃度変換曲線24 B(i,j-L)=10ならば、階調画像領域用濃度変換曲線25 なる規則により何れかの濃度変換曲線を選択し、濃度値
f(i,j-L)に対して選択された濃度変換曲線に従って濃度
変換を行い、適応濃度変換データG(i,j-L)を出力する。
【0081】(4) 2値化手段4における処理の流れ 適応濃度変換回路19において適応的に濃度変換された注
目画素P(i,j-L)の濃度値G(i,j-L)は2値化回路20に入力
され、2値化回路20で誤差拡散法に基づいた方式により
2値化されて孔版印刷に適した2値画像データが出力さ
れる。
【0082】これにより、濃い(明るい)線を示す2次
元線特徴量の大きさに応じて、階調画像用濃度変換曲線
25より全体的に濃い(明るい)出力を与える濃度変換曲
線26,27,28(29,30,31)を選択することによって、細線
で構成される薄い文字を適切に再現することができ、ま
た、明るい線の潰れを避けることもできる。更に、濃い
線をより濃く、明るい線をより明るくすることによっ
て、細かい点からなる網点写真が一方的に濃くなったり
一方的に薄くなったりすることを防ぐことができる。
【0083】このように、本発明による画像処理装置に
よれば、2次元線特徴量に基づいて画像状態を判断する
ことにより、階調画像領域の階調性を保存することがで
きると共に、文字の濃度が異なっても適度に文字のコン
トラストを強めたり弱めたりすることにより薄い文字な
どの掠れや消滅という問題を解決することが可能とな
る。
【0084】また、図5の分析手段1では特開平8-5153
8号 に示された画像処理装置における特徴量算出回路と
同様の特徴量算出回路8,10,11,12と2次元線特徴量算出
回路9とを組み合わせ、適応濃度変換回路19で特徴量算
出回路8,10,11,12の出力をも画像状態の判断要素として
いるので、画像の状態に応じて一層適切な濃度変換がで
きるようになり、エッジに近い程2値画像領域用濃度変
換曲線21寄りの濃度変換曲線22或いは23を選択し、エッ
ジから離れる程階調画像領域用濃度変換曲線25寄りの濃
度変換曲線24或いは23を選択することにより、特開平8-
51538号 に示された画像処理装置と同様に、太い文字や
べた部を黒々と見せることができ、階調画像の濃度の濃
い部分の階調性を保存することもできる。
【0085】なお、本発明による画像処理装置は上述の
実施の形態のように、従来の画像処理装置の濃度変換処
理と組み合わせることで、従来の装置による効果に2次
元線特徴量に基づいて画像状態を判断する効果を加える
ことができるが、2次元線特徴量のみに基づいて画像状
態を判断し、適切な濃度変換を行うこともできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による画像処理装置の基本構成を示した
ブロック図
【図2】上記画像処理装置の分析手段の詳細を示したブ
ロック図
【図3】画素位置と原稿の走査方向との関係を説明する
【図4】注目画素と中心画素と最新画素との関係を説明
する図
【図5】上記画像処理装置の詳細を示したブロック図
【図6】メモリに格納された画像濃度信号に対応する画
素の原稿上の位置を示した図
【図7】画像データバッファに格納されるデータの例を
示した図(N=8, S+={1,2,4,8}, S-={-1,-2,-4,-8}の場
合)
【図8】1次元線特徴量による線検出を説明する図
【図9】階調画像領域の縁の周辺での1次元線特徴量の
働きを説明する図
【図10】2次元線特徴量による線検出を説明する図
【図11】階調画像領域の縁の周辺での2次元線特徴量
の働きを説明する図
【図12】階調画像領域の角の周辺での2次元線特徴量
の働きを説明する図
【図13】上記画像処理装置における濃度変換曲線を示
した図
【符号の説明】
1 分析手段 2 判定手段 3 濃度変換手段 4 2値化手段 5 入出力管理回路 6 画像データバッファ 7 画像データを保存するラムメモリ 8 最も近い強いエッジ画素からの距離を算出する回
路 9 2次元線特徴量算出回路 10 エッジ鋭さ算出回路 11 強いエッジ検出回路 12 高濃度縦線検出回路 13〜16 遅延回路(FIFO) 17 判定回路 18 ロムメモリ(ROM) 19 適応濃度変換回路 20 2値化回路 21 2値画像領域用濃度変換曲線(選択信号=0) 22 2値画像寄りの濃度変換曲線(選択信号=7) 23 中間調の濃度変換曲線(選択信号=8) 24 階調画像寄りの濃度変換曲線(選択信号=9) 25 階調画像領域用濃度変換曲線(選択信号=10) 26 大山用濃度変換曲線(選択信号=1) 27 中山用濃度変換曲線(選択信号=2) 28 小山用濃度変換曲線(選択信号=3) 29 小谷用濃度変換曲線(選択信号=6) 30 中谷用濃度変換曲線(選択信号=5) 31 大谷用濃度変換曲線(選択信号=4) 110 分析手段 112 データ記憶手段 114 第1の分析手段 114a エッジ鋭さ算出手段 114b 強いエッジ検出手段 114c 注目画素と最も近い強いエッジ画素からの距離
算出手段 114d 高濃度縦線検出手段 116 第2の分析手段
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H04N 1/405 H04N 1/40 B 1/403 103A

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 注目画素の2値画像らしさ階調画像らし
    さを分析する第1の分析手段と、 前記注目画素周辺の参照画像データに基づき、該注目画
    素を通る複数の異なる方向について該注目画素の山およ
    び谷の度合いのうち少なくとも一方を一次元線特徴量と
    して夫々算出し、該算出した複数の結果に基づいて二次
    元線特徴量を算出して前記注目画素の2値画像らしさ階
    調画像らしさを分析する前記第1の分析手段とは異なる
    第2の分析手段と、 前記第1および第2の分析手段による分析結果に基づい
    て前記注目画素の濃度を変換する濃度変換手段とを備え
    たことを特徴とする画像処理装置。
  2. 【請求項2】 前記第2の分析手段が、前記度合いを前
    記注目画素と該注目画素周辺の参照画像との濃度差の絶
    対値の大きさで示すものであり、予め定められた角度と
    前記複数の異なる方向の数との関連により、何番目に大
    きい一次元線特徴量を二次元線特徴量として抽出すべき
    かを予め決定しておき、該当する一次元線特徴量を前記
    注目画素の二次元線特徴量として出力するものであるこ
    とを特徴とする請求項1記載の画像処理装置。
  3. 【請求項3】 前記度合いが、前記注目画素を挟む前記
    参照画像中の両参照画素群のうち該注目画素との濃度差
    の小さい方の画素群と該注目画素との濃度差の絶対値の
    大きさで示すものであることを特徴とする請求項2記載
    の画像処理装置。
  4. 【請求項4】 前記二次元線特徴量が、式(1)に基づ
    いて算出されることを特徴とする請求項3記載の画像処
    理装置。 【数1】
  5. 【請求項5】 前記濃度変換手段が、複数の異なる濃度
    変換曲線から適切な濃度変換曲線を選択して濃度変換す
    るものであることを特徴とする請求項1から4いずれか
    1項記載の画像処理装置。
  6. 【請求項6】 前記濃度変換された注目画素に対して誤
    差拡散法により2値化処理を施す2値化手段を備えたこ
    とを特徴とする請求項1から5いずれか1項記載の画像
    処理装置。
  7. 【請求項7】 注目画素周辺の参照画像データに基づ
    き、該注目画素を通る複数の異なる方向について該注目
    画素の山および谷の度合いのうち少なくとも一方を一次
    元線特徴量として夫々算出し、該算出した複数の結果に
    基づいて二次元線特徴量を算出することを特徴とする二
    次元線特徴量算出装置。
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