JPH103608A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、隣接クロストークの影響を少なく
抑えることができる磁気及びその製造方法を提供するこ
とを課題とする。 【解決手段】 略同一形状で溝深さｄの異なるトラック
幅規制溝２４ａ，２４ｂを交互に形成し、これら溝深さ
ｄの異なるトラック幅規制溝２４ａ，２４ｂを位置合わ
せすることで、各磁気コア半体５，６の磁気ギャップ形
成用突部２４Ａの突き合わせ位置にトラック幅規制溝２
４の溝深さｄの相違に応じたズレを付与する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばビデオテー
プレコーダー（ＶＴＲ）やデジタルオーディオテープレ
コーダー（Ｒ−ＤＡＴ）等の高密度記録可能な磁気記録
再生装置に搭載して好適な磁気ヘッド及びその製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、高密度記録化を行うためには、
磁気記録媒体に記録されているトラックパターンをなる
べく狭くすることが必要となる。その一つの手法とし
て、トラック間にガードバンドを設けずに記録を行う、
いわゆるガードバンドレス記録方式がある。かかる記録
方式では、ガードバンドがないことから記録密度の向上
を図ることができる。

【０００３】しかし、このガードバンドレス記録方式に
おいては、各トラック間にガードバンドがないことか
ら、磁気ヘッドが隣接するトラックの信号をトレース
（再生）する際に生じる、いわゆる隣接クロストークが
問題となる。

【０００４】これを、家庭用ＶＴＲに搭載される磁気ヘ
ッドにより説明すると、図１に示すように、この磁気ヘ
ッドでは、通常、記録と再生は兼用になっており、この
ため再生の互換性を確保するために、記録トラックピッ
チよりも再生ヘッドのヘッド幅（ギャップの幅）ＨＷの
方が広く形成されている。

【０００５】したがって、この家庭用ＶＴＲに搭載され
る磁気ヘッドによりガードバンドがない記録パターンを
再生する場合、上記磁気ギャップのズレが生じている部
分Ｇ１が求めるトラックＴＡに隣接する記録トラックＴ
Ｂの信号を拾うこととなり、上記隣接クロストークが生
じる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の磁気
ヘッドでは、例えば家庭用デジタルＶＴＲの場合、アジ
マス記録された信号を再生してみると、再生Ｃ／Ｎを一
定にしても、得られるエラーレートに±１桁程度のバラ
ツキがあり、このバラツキの下限で磁気ヘッドが搭載さ
れる家庭用デジタルＶＴＲ等の磁気記録再生装置を設計
しなければならなかった。

【０００７】また、従来の磁気ヘッドでは、例えば家庭
用ＶＴＲの標準テープ送り速度を２／３にして、録画再
生時間を１．５倍にしようとする長時間録画において、
Ｃ／Ｎ不足で再生に充分なエラーレートが得られないと
いう問題を有してした。

【０００８】他方、高密密度記録化に伴い、磁気テープ
上に記録されるパターンのピッチであるトラックピッチ
が狭くなると、上記隣接クロストークの影響が大きくな
り、Ｓ／Ｎやエラーレートの劣化の原因となることが知
られている。

【０００９】このため、従来の磁気ヘッドにおいて、再
生時の隣接クロストークの影響をできるだけ抑えるため
には、トラック幅規制溝の角度を磁気ギャップ対向面に
対してほぼ垂直になるように形成することが考えられ
る。

【００１０】しかしながら、このような形状の磁気ヘッ
ドは、磁気ギャップ近傍の磁気コアの断面積が小さくな
り、記録再生の点で好ましくない。

【００１１】さらに、従来の磁気ヘッドの製造方法は、
一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部が両端部
まで完全に一致して突き合わされるわけでなく、一対の
磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の端部のズレが
生じる。このズレにより、隣接クロストークが生じるこ
とが知られているが、このズレと隣接クロストークとの
関係については具体的に明らかにされていない。

【００１２】このため、例えば、トラック幅規制溝の角
度を大きく、すなわち大きな角度のＶ字状溝に形成する
ことにより、一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用
突部の両端縁まで可能な限り一致させることが考えられ
る。

【００１３】しかしながら、トラック幅規制溝の角度を
大きくすると、従来の磁気ヘッドの製造方法は、このト
ラック幅規制溝のエッジでのみ磁気ギャップの突き合わ
せ作業を行うために、加工歩留まりが著しく劣化する問
題を有していた。

【００１４】そこで、本発明は、かかる従来の技術的な
課題に鑑みて提案されたものであって、隣接クロストー
クの影響を少なく抑えることができる磁気ヘッドを提供
するとともに、このような磁気ヘッドを加工歩留まり良
く製造する磁気ヘッドの製造方法を提供することを課題
とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決するために鋭意研究した結果、磁気ギャップの
トラック幅のズレ量、方向を規制することにより、隣接
クロストークの影響を少なく抑えることができることを
見い出すとともに、この磁気ギャップのトラック幅のズ
レ量、方向を一定にする磁気ヘッドの製造方法を見い出
した。

【００１６】すなわち、本発明者等は、図４及び図５に
示す実験結果を得たが、かかる実験結果を詳細に検討し
て、後述する作用・効果を実現し得る発明を完成した。

【００１７】まず、磁気ギャップのズレが生じている場
合としては、図３に示すように、一対の磁気コア半体の
磁気ギャップ形成用突部の端部のズレにより生じる中心
線Ｆの方向が求める記録トラックＴＡと隣接する記録ト
ラックＴＢのアジマス角に近くなる方向となる場合と、
図２に示すように、一対の磁気コア半体の磁気ギャップ
形成用突部の端部のズレにより生じる中心線Ｆの方向が
求める記録トラックＴＡと隣接する記録トラックＴＢの
アジマス角と遠くなる方向となる場合に分けられる。

【００１８】すなわち、ここで、磁気ギャップｇのズレ
Ｇ１による開き角θの二等分線Ｆの方向と隣接する記録
トラックのアジマス記録の角度との関係を問題として、
図２の場合を「＋方向の磁気ギャップのズレ」とし、図
３の場合、「−方向の磁気ギャップのズレ」と言うこと
とする。

【００１９】なお、再生ヘッドのヘッド幅（ギャップの
幅）ＨＷが隣接する記録トラックＴＢに及ぶ部分Ｇ２で
は、正規の磁気ギャップによって求められるトラックＴ
Ａの信号が拾われ、いわゆる逆アジマスをスキャンする
ために、隣接する記録トラックＴＢの信号を拾うような
ことはない。

【００２０】そこで、これら両者の場合の隣接クロスト
ークの影響を検討すると、上記＋方向の磁気ギャップの
ズレの場合は、図４に示すように、隣接クロストークの
影響が小さいことが分かる。他方、−方向の磁気ギャッ
プのズレの場合には、図５に示すように、隣接クロスト
ークの影響が大きいことが分かる。

【００２１】ここで、図４及び図５は、上記磁気ギャッ
プのズレが生じている場合の隣接クロストークによりエ
ラーレートがどのように変化するかを示す特性図であ
る。また、図４及び図５は、磁気ヘッドのアジマス角が
±２０°の場合である。また、図４及び図５に示すプロ
ット（縦線）は、隣接クロストークの影響を、「有
り」、「無し」で測定した結果であり、縦線の下はクロ
ストークの影響のない分のプロットであり、縦線の上は
クロストークの影響のある分のプロットである。一つの
線が１つの磁気ヘッドのデータを示す。

【００２２】ところで、正規の磁気ギャップｇで拾う隣
接のパターン成分は、アジマス損失によって周波数の高
い部分は抑えられるが、磁気ギャップのズレによる隣接
パターンは、−方向の磁気ギャップのズレの場合、アジ
マス損失はほとんど期待することができない。実際に、
周波数の高い部分では、正規の磁気ギャップから拾う量
よりも５ｄＢ程度高い場合がある。したがって、例え
ば、パーシャルレスポンスクラス４の信号のように、低
域の成分を信号検出に使わないシステムでは、このよう
な比較的高周波の隣接トラックからの漏れ込みが信号検
出にかなり影響を与えていることになる。

【００２３】以上の結果から、上記＋方向の磁気ギャッ
プのズレとなるように製造するか、或いは、磁気ギャッ
プのズレが生じないように製造すれば良いことになる
が、従来の磁気ヘッドの製造方法により、磁気ギャップ
のズレの方向を一定にしながら磁気ギャップの突き合わ
せ作業を行うと、磁気ギャップのトラック幅方向のズレ
量の制御が困難であり、トラック精度を高精度に保つこ
とができない。

【００２４】そこで、本発明の磁気ヘッドは、上述の課
題を解決するために、トラック幅規制溝が形成され磁気
ギャップ形成用突部が形成された一対の磁気コア半体
を、トラック幅規制溝形成面が互いに対向するように突
き合わせて接合一体化し、上記磁気ギャップ形成用突部
の突き合わせ面間に所定のアジマス角を有する磁気ギャ
ップを形成してなる磁気ヘッドにおいて、各トラック幅
規制溝の形状が略同一形状とされるとともに、互いに対
向するトラック幅規制溝及び互いに隣接するトラック幅
規制溝において溝形状における変曲点の位置が溝深さ方
向で異なる位置とされ、各磁気コア半体の磁気ギャップ
形成用突部の突き合わせ位置にトラック幅方向のズレが
付与されていることを特徴とする。

【００２５】他方、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、
トラック幅規制溝が形成され磁気ギャップ形成用突部が
形成された一対の磁気コア半体を、トラック幅規制溝形
成面が互いに対向するように突き合わせて接合一体化
し、上記磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面間に所
定のアジマス角を有する磁気ギャップを形成する磁気ヘ
ッドの製造方法において、略同一形状で溝深さの異なる
トラック幅規制溝を交互に形成し、これら溝深さの異な
るトラック幅規制溝を位置合わせすることで、各磁気コ
ア半体の磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ位置にト
ラック幅規制溝の溝深さの相違に応じたズレを付与する
ことを特徴とする。

【００２６】また、上記ズレは、磁気ギャップ形成用突
部の突き合わせ面とこれと対向するトラック幅規制溝の
壁面との中心線と、隣接する記録トラックのアジマス方
向とがなす角度が、磁気ギャップと前記隣接する記録ト
ラックのアジマス方向とがなす角度よりも大きくなるズ
レであることを特徴とする。

【００２７】本発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、
略同一形状で溝深さの異なるトラック幅規制溝を交互に
形成し、これら溝深さの異なるトラック幅規制溝を位置
合わせすることで、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成
用突部の突き合わせ位置にトラック幅規制溝の溝深さの
相違に応じたズレを付与することにより、磁気ギャップ
のトラック幅方向のズレ量を一方向のみに一定に調整し
た高精度な突き合わせが行われる。

【００２８】ここで、溝深さの異なるトラック幅規制溝
は、同じ形状のスライサー等を用いて、その深さのみを
制御することで容易に形成することができる。

【００２９】そして、磁気ギャップ形成用突部の突き合
わせ面とこれと対向するトラック幅規制溝の壁面との中
心線と、隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす
角度が、磁気ギャップと前記隣接する記録トラックのア
ジマス方向とがなす角度よりも大きくなるようにズレを
付与することより、再生する際に隣接チャンネルからの
クロストークを抑制することができる磁気ヘッドが製造
される。

【００３０】このような製造方法により製造された磁気
ヘッドは、各トラック幅規制溝の形状が略同一形状とさ
れるとともに、互いに対向するトラック幅規制溝及び互
いに隣接するトラック幅規制溝において溝形状における
変曲点の位置が溝深さ方向で異なる位置とされ、各磁気
コア半体の磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ位置に
トラック幅方向のズレが付与されているが、この磁気ヘ
ッドは、再生する際に隣接チャンネルからのクロストー
クを抑制することができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明す
る。

【００３２】本実施の形態は、磁気ギャップ部を金属磁
性膜により形成するようにしたメタル・イン・ギャップ
（Ｍｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ）型の磁気ヘッド（以下、
「ＭＩＧヘッド」と称する。）に適用したものである。

【００３３】本例の磁気ヘッドは、図６に示すように、
フェライトよりなる磁気コア基板１，２とこの磁気コア
基板１，２の突き合わせ面にそれぞれ被着形成される金
属磁性膜３，４とからなる一対の磁気コア半体５，６と
によって閉磁路が構成され、その金属磁性膜３，４の突
き合わせ面間に記録再生ギャップとして動作するアジマ
ス角が付与された磁気ギャップｇが形成されている。

【００３４】上記磁気コア基板１，２は、例えばフェラ
イト等の酸化物磁性材料からなり、主コアとして機能す
るコア断面積が小さい金属磁性膜３，４をバックアップ
する補助コアとして機能するようになっている。つま
り、金属磁性膜３，４のコア断面積が小さい分、この磁
気コア基板１，２のコアボリュームによって再生出力の
劣化を防止するようになっている。

【００３５】また、この磁気コア基板１，２において
は、その突き合わせ面側の形状が断面略々台形状として
形成されている。すなわち、この磁気コア基板１，２の
突き合わせ面側は、上記磁気ギャップｇと平行なギャッ
プ形成面７，８と、このギャップ形成面７，８の両端部
に上記磁気ギャップｇのトラック幅Ｔｗを規制するため
のトラック幅規制溝９，１０，１１，１２が形成されて
いる。

【００３６】なお、上記トラック幅規制溝７，８，９，
１０内には、それぞれ磁気記録媒体との当たり特性を確
保すると共に摺接による偏摩耗を防止する目的で、ガラ
ス等の非磁性材１４が充填されている。

【００３７】また、一方の磁気コア基板１の突き合わせ
面には、磁気ギャップｇのデプスを規制するとともに、
図示しないコイルを巻装するための断面略コ字状の巻線
溝１３がコア厚方向に形成されている。

【００３８】一方、金属磁性膜３，４は、磁気コア基板
１，２の突き合わせ面に、フロント側よりバック側にわ
たって成膜されている。すなわち、上記金属磁性膜３，
４は、磁気コア基板１，２のギャップ形成面７，８及び
この両端縁側に設けられるトラック幅規制溝９，１０，
１１，１２上にそのフロント側よりバック側にわたって
形成されている。

【００３９】上記金属磁性膜３、４には、高い飽和磁束
密度を有し、且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用
されるが、この強磁性材料としては、従来より公知の結
晶質、非結晶質、あるいは微結晶質のものが使用でき
る。

【００４０】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
（センダスト）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系
合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ
−Ａｌ系合金等が挙げられる。また、耐蝕性や耐摩耗性
等の一層の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，
Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少なくとも一種
を添加したものであってもよい。また、酸素含有センダ
スト，窒素含有センダスト、酸素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ
−Ｒｕ系合金、窒素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金
等の結晶質磁性膜でも良い。さらには、Ｆｅ系微結晶
膜、Ｃｏ系微結晶膜を用いてもよい。

【００４１】これら金属磁性膜３，４の成膜方法として
は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真
空薄膜形成技術がいずれも採用される。

【００４２】また、金属磁性膜３，４は、前記強磁性合
金材料の中間層であっても良いが、例えばＳｉＯ₂ ，Ｔ
ａ₂ Ｏ₃ ，ＺｒＯ₂ ，Ｓｉ₃ ＮＯ₄ 等の絶縁膜を介して
何層にも積層した積層膜とするようにしても良い。

【００４３】また、上記基板３，４には、フェライト材
の他、非磁性フェライト、酸化ジルコニウム系セラミッ
ク、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系セラミック、ＢａＴ
ｉＯ₃ ，Ｋ₂ ＴｉＯ₃ 等のチタン酸系セラミック等が用
いられる。

【００４４】そして、本例の磁気ヘッドにおいては特
に、図２に示すように、各磁気コア半体５，６の磁気ギ
ャップ形成用突部２４Ａの突き合わせ位置にトラック幅
方向のズレＧ１が付与されている。

【００４５】前記ズレＧ１は、磁気ギャップ形成用突部
２４Ａの突き合わせ面８とこれと対向するトラック幅規
制溝の壁面１０との中心線Ｆと、隣接する記録トラック
ＴＢのアジマス方向とがなす角度θ２が、磁気ギャップ
ｇと前記隣接する記録トラックＴＢのアジマス方向とが
なす角度θよりも大きくなる方向にズレである（前記
「＋方向の磁気ギャップのズレ」）。

【００４６】これは、図４に示すように、磁気ギャップ
のズレＧ１の部分が拾う隣接パターン信号の量は磁気ギ
ャップのズレＧ１の方向に強く依存するためである。す
なわち、トラック幅Ｔｗを規制するトラック幅規制溝１
０，１１の磁気ギャップｇのズレＧ１による開き角θの
二等分線Ｆの方向が隣接する記録トラックのアジマス記
録の角度から遠くなる方向に形成することにより、隣接
する記録トラックのアジマス記録に影響を与えるような
ことがなくなり、隣接チャンネルからのクロストークを
減少させることができるからである。

【００４７】そこで、本実施の形態では、トラック幅Ｔ
ｗを規制するトラック幅規制溝１０，１１の磁気ギャッ
プｇのズレＧ１による開き角θの二等分線Ｆの方向が隣
接する記録トラックのアジマス記録の角度から遠くなる
方向に形成されている。

【００４８】さらに、上記のように構成された一対の磁
気コア半体５，６は、ギャップ形成面７，８上に成膜さ
れた金属磁性膜３，４同士をトラック位置合わせをしな
がら突き合わせ、該磁気ギャップｇの両端縁に形成され
る第１の傾斜面９，１０と第２の傾斜面１１，１２の対
向部分に融着ガラス１４を充填させることによって接合
一体化され、その金属磁性膜３，４間に磁気ギャップｇ
のトラック幅Ｔｗは、高密度磁気記録を目的として、１
３ミクロン以下となされている。なお、第１の傾斜面
９，１０と第２の傾斜面１１，１２の対向部分に充填さ
れる融着ガラス１４は、磁気記録媒体に対する当たりを
確保するようになっている。

【００４９】そして特に、図１８に示すように、各トラ
ック幅規制溝７，８，９，１０，１１，１２の形状が略
同一形状とされるとともに、互いに対向するトラック幅
規制溝及び互いに隣接するトラック幅規制溝において溝
形状における変曲点Ｏ１，Ｏ２の位置が溝深さ方向で異
なる位置とされている。

【００５０】すなわち、トラック幅規制溝の第１の傾斜
面９，１０近傍のギャップ形成面７，８の垂線Ｍ１がト
ラック幅規制溝の底面に相当する位置Ｚ１までの長さＬ
１と、第２の傾斜面１１，１２近傍のギャップ形成面
７，８の垂線Ｍ２がトラック幅規制溝の底面に相当する
位置Ｚ２までの長さＬ２が異なる長さとされている（Ｌ
１＜Ｌ２）。これは、後述する製造方法により製造する
に際して、容易な製造方法で、磁気ギャップの幅方向の
ズレ量δを一定に調整することができるようにするため
である。

【００５１】本実施の形態では、これら垂線Ｍ１とＭ２
の長さＬ１とＬ２の差ｄは、１．３μｍとされている。
本発明では、この差ｄは、０．５〜３．０μｍのもので
あれば、本実施の形態にかかるものには限られない。

【００５２】この値は、第１の傾斜面９，１０近傍のギ
ャップ形成面７，８の垂線Ｍ１がトラック幅規制溝の底
面に相当する位置Ｚ１までの長さＬ１と、第２の傾斜面
１１，１２近傍のギャップ形成面７，８の垂線Ｍ２がト
ラック幅規制溝の底面に相当する位置Ｚ２までの長さＬ
２との差をｄ、第１の傾斜面９，１０とギャップ形成面
７，８の垂線とのなす角度をθ２、第２の傾斜面１１，
１２とギャップ形成面７，８の垂線とのなす角度をθ
３、上記磁気ギャップの幅方向のズレ量をδとした場
合、ｄ＝δ／（ｔａｎθ２＋ｔａｎθ３）の式で求めら
れる。

【００５３】ところで、トラック幅規制溝の溝形状は、
磁気ヘッドの種類によって異なる。例えば、図１９、図
２０に示すような磁気ヘッドがあるが、これらの場合、
これらの図１９，図２０に示すように、第１の傾斜面
９，１０の長さＬ１と第２の傾斜面１１，１２の長さＬ
２は、各々その変曲点Ｏ１，Ｏ２までの長さとする。な
お、図中、符号Ｓ１は磁気記録媒体摺動面を示し、Ｓ２
は当たり幅加工部を示す。

【００５４】次に、本実施の形態の磁気ヘッドの製造方
法について説明する。

【００５５】先ず、図７に示すように、フェライト材よ
りなる基板２１を用意する。そして、平面研削盤を用い
て基板２１の平面出しを行う。

【００５６】本例では、上記基板２１として、磁性フェ
ライト材の単結晶あるいは多結晶、これらの接合材、又
は、非磁性フェライト，ＢａＴｉＯ₃ ，Ｋ₂ ＴｉＯ₃ ，
結晶化ガラス等の非磁性のものが挙げられる。

【００５７】また、本実施の形態に用いた単結晶フェラ
イトの面方位は図７に示す通りであるが、他の面方位の
単結晶基板、多結晶基板や、単結晶フェライトと多結晶
フェライトとの接合基板等を用いてもよい。

【００５８】次に、スライサーを用いて、図８に示すよ
うに、基板２１の長手方向に巻線溝２２と、ガラス溝２
３を二つずつ形成する。すなわち、基板２１の中央から
これら巻線溝２２と、ガラス溝２３が各々対称となるよ
うにして形成する。このように形成することにより、上
記一つの基板２１から一対の磁気コア半体となる一対の
磁気コアブロック２１ａ，２１ｂが形成されることにな
る。

【００５９】次いで、スライサーを用いて、図９に示す
ように、巻線溝２２、ガラス溝２３と直角の方向、すな
わち基板２１の幅方向にトラック幅規制溝２４を形成す
る。なお、これらトラック幅規制溝２４を形成した後
は、ポリッシング等により基板２１の表面の鏡面加工を
行う。

【００６０】ここで、このトラック幅規制溝２４の形成
に際しては、溝深さ（ｄ）が異なるとともに、開口幅Ｗ
１，Ｗ２が異なるトラック幅規制溝２４ａ，２４ｂを交
互に形成する。

【００６１】本実施の形態では、図１０に示すように、
広い方の開口幅Ｗ１が２０１．５μｍであり、狭い方の
開口幅Ｗ２が２００μｍである。また、磁気ギャップ形
成用突部２４Ａの幅Ｈ１が１３μｍであり、隣接するト
ラック幅規制溝２４ａ，２４ｂの溝深さの差ｄは、１．
３μｍである。

【００６２】この点、従来のトラック幅規制溝の形成に
際しては、トラック幅規制溝のギャップ対向面から底面
までの距離がすべて均一になるように形成していた。ま
た、トラック幅規制溝は、基板の垂直方向に対して３０
°とし、すべて均一になるように形成していた。

【００６３】しかし、従来の磁気ヘッドの製造方法は、
一対の磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の端部の
ズレが生じ、このズレは、いわゆる疑似ギャップとなっ
て上述した隣接クロストークの問題を生じさせていた。
このために、基板にトラック幅規制溝を形成する際に、
基板の一部にマーカとなる溝を入れたり、突き合わせの
ための特別の加工を施すことが考えられるが、このよう
な特別の加工は、時間がかかったり、生産性が悪くな
る。

【００６４】これに対して、本実施の形態では、図１０
に示すように、磁気ギャップの幅方向のズレ量δを一定
に調整するために、第１の傾斜面９，１０近傍のギャッ
プ形成面７，８の垂線Ｍ１がトラック幅規制溝２４の底
面に相当する位置Ｚ１までの長さＬ１と、第２の傾斜面
１１，１２近傍のギャップ形成面７，８の垂線Ｍ２がト
ラック幅規制溝２４の底面に相当する位置Ｚ２までの長
さＬ２が異なるように形成する。すなわち、トラック幅
規制溝２４ａ，２４ｂのギャップ形成面７，８から溝底
面までの距離Ｌ１，Ｌ２を異なるように形成する。

【００６５】このようなトラック幅規制溝２４の形成に
際しては、このトラック幅規制溝２４と同じ形状をした
スライサーを用いて、このスライサーを基板２１に対し
て深く研磨するか浅く研磨するかにより形成すれば足り
る。このように形成することにより、磁気ギャップの幅
方向のズレ量δの調整のためだけに特別の加工を複数回
施すような必要がなく、又、加工のために時間がかかる
こともない。

【００６６】なお、本実施の形態では、略々台形状のト
ラック幅規制溝２４を用いたが、このトラック幅規制溝
２４の形状は、例えば、上述した図１９、図２０に示す
ように、トラック幅規制溝２４がＶ字状のものや溝内に
変曲点Ｏ１，Ｏ２を有する等の他の形状であっても良
い。

【００６７】次いで、図１１に示すように、上記基板２
１をその中央から切断して、切断された基板２１ａ，２
１ｂを作製する。

【００６８】ここで、本実施の形態では、１つの基板２
１に、巻線溝２２、ガラス溝２３の他、トラック幅規制
溝２４を形成するものであることから、上記切断によ
り、各々対称な上記１つおきに溝深さ（ｄ）と開口幅Ｗ
１，Ｗ２が異なるトラック幅規制溝２４が形成されるこ
ととなる。

【００６９】次いで、上記切断された基板２１ａ，２１
ｂに、図１２及び図１３に示すように、スパッタリング
を用いて金属磁性膜２７を形成し、その上にギャップ膜
２８を形成する。この金属磁性膜２７の成膜に際して
は、図１３に示すように、先のトラック幅規制溝内も含
めて成膜する。この金属磁性膜２７としては、本実施の
形態では、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金を用いた。

【００７０】ここで、基板２１ａ，２１ｂと金属磁性膜
２７との付着力の向上のために、ＳｉＯ_2,Ｔａ₂ Ｏ₅ 等
の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｏ₄ 等の窒化物膜、或いは、Ｃｒ，
Ａｌ、Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びこれらの合金膜、さら
に、これらを組み合わせた積層膜を金属磁性膜２７の下
地膜として用いても良い。本実施の形態では、この付着
力の向上のために、厚さ５ｎｍのＳｉＯ₂ 膜を用いた。

【００７１】また、ギャップ膜には、ＳｉＯ₂ 単層膜を
用いたが、融着ガラス１１との反応防止膜として、上層
に例えばＣｒ膜等を設けた２層膜、多層膜を用いても良
い。

【００７２】次いで、以上のようにして作製された基板
２１ａ，２１ｂを圧着しながら５００〜７００°Ｃに加
熱して、図１４に示すように、低融点ガラス１４にて接
合して接合基板３０を作製する。

【００７３】この接合に際しては、図１５に示すよう
に、基板２１ａ，２１ｂに形成された異なるトラック幅
規制溝２４ａ，２４ｂが対向するように突き合わせを行
った。

【００７４】ここで、溝深さと開口幅が異なるトラック
幅規制溝２４ａ，２４ｂは、各基板２１ａ，２１ｂに形
成されているため、基板２１ａ，２１ｂの突き合わせの
際に、トラック幅規制溝２４ａ，２４ｂを一つずらした
上で、交互にトラックズレがないようにギャップ突き合
わせを行うことにより、磁気ギャップの幅方向のズレ量
δを一定に生じさせながら高精度で接合されることにな
る。この例では、磁気ギャップの幅方向のズレ量δは、
上述したように、１．５μｍである。

【００７５】次いで、上記接合基板３０を平面研削除盤
を用いて所定の厚みにした後に、磁気記録媒体摺動面と
なる部分を円筒研削を行う。

【００７６】次いで、磁気記録媒体摺動面に磁気記録媒
体との当たりを確保するために、図１６に示すように、
当たり幅加工、上記巻線溝２２等の加工を行った後に、
図１７に示すように、目的とするアジマス角と同角度で
切り出し、多数のヘッドチップ３１を製作する。

【００７７】今回の切り出しに際しては、アジマス角が
±２０°となるように作製したが、その際、前述した＋
方向の磁気ギャップのズレが生じるようにアジマス角を
決定した。このようにして、磁気ヘッドが図６に示すよ
うに完成する。

【００７８】以上のようにして作製された磁気ヘッドの
磁気ギャップのトラック幅方向のズレ量δを測定した。

【００７９】その結果、従来の磁気ヘッドのトラック幅
規制溝のみで一方向にずらしてギャップの突き合わせ作
業を行った場合には、３σ＝１．５μｍであったが、本
実施の形態により製造された磁気ヘッドは、３σ＝０．
７μｍと大幅な改善が見られた。

【００８０】以上、このように製造された磁気ヘッド
は、再生信号のエラーレートの向上が図られる高精度の
磁気ヘッドである。したがって、家庭用デジタルＶＴＲ
によれば、長時間録画においても充分なエラーレートが
得られ、過去の判定状況を記憶しておくことによりエラ
ーレートを向上させる回路である、ビタビ複合器を不要
とすることが期待される。

【００８１】なお、本発明を適用した具体的な実施の形
態について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限
定されることなく種々の変更が可能である。例えば先の
例では、金属磁性膜を主コアとしたが、かかる膜を磁気
コア基板に成膜せずに、フェライトコアのみによって閉
磁路を構成した磁気ヘッドとしても良い。もちろん、こ
の場合のヘッドでも先の磁気ヘッドと同様な作用効果が
得られる。また、このような磁気ヘッドを用いた磁気記
録再生装置は、家庭用デジタルＶＴＲのほかにもデータ
ストリーマなどのデジタル信号蓄積装置にも応用可能で
ある。

【００８２】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、略同一形状で溝深さの異なるトラック幅規制溝を交
互に形成し、これら溝深さの異なるトラック幅規制溝を
位置合わせすることで、各磁気コア半体の磁気ギャップ
形成用突部の突き合わせ位置にトラック幅規制溝の溝深
さの相違に応じたズレを付与することにより、磁気ギャ
ップのトラック幅方向のズレ量を一定に調整した高精度
な突き合わせが行われる。

【００８３】そして、磁気ギャップ形成用突部の突き合
わせ面とこれと対向するトラック幅規制溝の壁面との中
心線と、隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす
角度が、磁気ギャップと前記隣接する記録トラックのア
ジマス方向とがなす角度よりも大きくなるようにズレを
付与することより、再生する際に隣接チャンネルからの
クロストークを抑制することができる磁気ヘッドが製造
される。

【００８４】このような製造方法により製造された磁気
ヘッドは、各トラック幅規制溝の形状が略同一形状とさ
れるとともに、互いに対向するトラック幅規制溝及び互
いに隣接するトラック幅規制溝において溝形状における
変曲点の位置が溝深さ方向で異なる位置とされ、各磁気
コア半体の磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ位置に
トラック幅方向のズレが付与されているが、この磁気ヘ
ッドは、再生する際に隣接チャンネルからのクロストー
クを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生
する状態を示す模式図である。

【図２】＋方向の磁気ギャップのズレが生じている場合
の磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生する状
態を示す模式図である。

【図３】−方向の磁気ギャップのズレが生じている場合
の磁気ヘッドが磁気テープの記録パターンを再生する状
態を示す模式図である。

【図４】＋方向の磁気ギャップのズレの場合のエラーレ
ートとＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。

【図５】−方向の磁気ギャップのズレの場合のエラーレ
ートとＣ／Ｎとの関係を示す特性図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。

【図７】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
の平面出しを行う工程を示す斜視図である。

【図８】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
に巻線溝とガラス溝を形成する工程を示す斜視図であ
る。

【図９】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基板
にトラック幅規制溝と突出部を形成する工程を示す斜視
図である。

【図１０】図９のａ部の拡大斜視図であり、トラック幅
規制溝を示す。

【図１１】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、基
板を切断する工程を示す斜視図である。

【図１２】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、金
属磁性膜を成膜する工程を示す斜視図である。

【図１３】図１２のｄ部の拡大斜視図であり、トラック
幅規制溝とギャップ部に金属磁性膜が成膜された状態を
示す斜視図である。

【図１４】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、切
断された基板を突き合わせて接合する状態を示す斜視図
である。

【図１５】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、磁
気ギャップにズレを生じさせる方向を調整して突き合わ
せる工程を示す模式図である。

【図１６】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、磁
気記録媒体摺動面を円筒研磨する工程を示す斜視図であ
る。

【図１７】上記磁気ヘッドの製造工程を示すもので、所
定の大きさのヘッドチップに切断する工程を示す斜視図
である。

【図１８】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を模式的
に示す平面図である。

【図１９】本発明を適用した磁気ヘッドの他の例を模式
的に示す平面図である。

【図２０】本発明を適用した磁気ヘッドの他の例を模式
的に示す平面図である。

【符号の説明】

１，２ 磁気コア基板、３，４，２７ 金属磁性膜、
５，６ 磁気コア半体、７，８ ギャップ形成面、９，
１０，１１，１２，２４，２４ａ，２４ｂ トラック幅
規制溝、２１ 基板、２１ａ，２１ｂ 磁気コアブロッ
ク（基板）、２４Ａ 磁気ギャップ形成用突部、Ｏ１，
Ｏ２ トラック幅規制溝の変曲点、Ｔｗトラック幅、Ｆ
磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこれと対向
するトラック幅規制溝の壁面との中心線、θ 磁気ギャ
ップと隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角
度、θ１ 磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面とこ
れと対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線と隣接
する記録トラックのアジマス方向とがなす角度、δ 磁
気ギャップのトラック幅方向のズレ量、θ２ 第１の傾
斜面とギャップ形成面の垂線とのなす角度、θ３ 第２
の傾斜面とギャップ形成面の垂線とのなす角度、Ｈ１
磁気ギャップ形成用突部

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 トラック幅規制溝が形成され磁気ギャッ
   プ形成用突部が形成された一対の磁気コア半体を、トラ
   ック幅規制溝形成面が互いに対向するように突き合わせ
   て接合一体化し、上記磁気ギャップ形成用突部の突き合
   わせ面間に所定のアジマス角を有する磁気ギャップを形
   成してなる磁気ヘッドにおいて、 各トラック幅規制溝の形状が略同一形状とされるととも
   に、互いに対向するトラック幅規制溝及び互いに隣接す
   るトラック幅規制溝において溝形状における変曲点の位
   置が溝深さ方向で異なる位置とされ、 各磁気コア半体の磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ
   位置にトラック幅方向のズレが付与されていることを特
   徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 上記ズレは、磁気ギャップ形成用突部の
   突き合わせ面とこれと対向するトラック幅規制溝の壁面
   との中心線と、隣接する記録トラックのアジマス方向と
   がなす角度が、磁気ギャップと前記隣接する記録トラッ
   クのアジマス方向とがなす角度よりも大きくなるズレで
   あることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 トラック幅規制溝が形成され磁気ギャッ
   プ形成用突部が形成された一対の磁気コア半体を、トラ
   ック幅規制溝形成面が互いに対向するように突き合わせ
   て接合一体化し、上記磁気ギャップ形成用突部の突き合
   わせ面間に所定のアジマス角を有する磁気ギャップを形
   成する磁気ヘッドの製造方法において、 略同一形状で溝深さの異なるトラック幅規制溝を交互に
   形成し、これら溝深さの異なるトラック幅規制溝を位置
   合わせすることで、各磁気コア半体の磁気ギャップ形成
   用突部の突き合わせ位置にトラック幅規制溝の溝深さの
   相違に応じたズレを付与することを特徴とする磁気ヘッ
   ドの製造方法。
4. 【請求項４】 磁気ギャップ形成用突部の突き合わせ面
   とこれと対向するトラック幅規制溝の壁面との中心線
   と、隣接する記録トラックのアジマス方向とがなす角度
   が、磁気ギャップと前記隣接する記録トラックのアジマ
   ス方向とがなす角度よりも大きくなるようにズレを付与
   することを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッドの製造
   方法。