JPH1036421A - 共役ジエンポリマーの水素添加方法および該方法において用いるために適した触媒組成物 - Google Patents

共役ジエンポリマーの水素添加方法および該方法において用いるために適した触媒組成物

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JPH1036421A
JPH1036421A JP9092394A JP9239497A JPH1036421A JP H1036421 A JPH1036421 A JP H1036421A JP 9092394 A JP9092394 A JP 9092394A JP 9239497 A JP9239497 A JP 9239497A JP H1036421 A JPH1036421 A JP H1036421A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来公知の触媒よりも有効であり、安定であ
りかつ十分低い濃度でも活性である、エチレン型不飽和
を含有するポリマーの水素添加のための触媒組成物を提
供する。 【解決手段】 本発明のエチレン型不飽和を含有するポ
リマーの水素添加のために適した触媒組成物は、少なく
とも(a)式 【化1】 〔ここで、A1 およびA2 は置換または未置換シクロペ
ンタジエニルまたはインデニル基を表し、X1 およびX
2 は明細書に定義した通りである。〕のチタン化合物、
(b)アルカリ金属水素化物、しかも水素添加中ポリマ
ー溶液中のアルカリ金属:チタンのモル比が少なくとも
2:1、および(c)ホウ素化合物 B(R1 )(R2 )(R3 ) 〔ここで、R1 、R2 およびR3 は明細書に定義した通
りである。〕からなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、共役ジエンポリマ
ーの水素添加方法および該方法において用いるために適
した触媒組成物に関する。
【0002】特に本発明は、少なくともチタン化合物お
よびアルカリ金属化合物からなる水素添加用触媒組成物
を用いて、共役ジエンのポリマーおよびコポリマーを水
素添加する方法に関する。
【0003】
【従来の技術】不飽和二重結合を含有する化合物の水素
添加のための触媒は数多く知られており、これらの触媒
は次の2つのグループに大別され得る。即ち、(1)一
般に任意にカーボン、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウ
ム等のような支持体に担持させたNi、Pd、Pt、R
u等のような金属から成る、不均一系触媒、および
(2)(a)Ni、Co、Fe、Cr等の有機塩と例え
ば有機アルミニウム化合物のような還元剤との組合わせ
から成るチーグラー触媒および(b)Ru、Rh、T
i、La等の単一成分有機金属化合物のような均一系触
媒。
【0004】不均一系触媒は業界において広範に用いら
れているが、均一系触媒と比べてその活性は劣り、従っ
てこれらの不均一系触媒でもって所望の水素添加を行う
ためには多量の触媒が必要とされ、反応は比較的高い圧
力および温度にて行わねばならない。均一系触媒は一般
に比較的高い活性を有し、少量の触媒で十分であり、水
素添加反応は比較的温和な圧力および温度の条件下で行
われ得る。
【0005】1,3−ブタジエンおよびイソプレンのよ
うな共役ジエンのポリマー並びにこれらのジエンとビニ
ル芳香族モノマー例えばスチレンとのコポリマーは、エ
ラストマーとして業界において広範に用いられている。
これらのポリマーはそれらの鎖中に二重結合を含有し、
それによって該ポリマーの加硫が可能になるが、老化お
よび酸化に対する耐性は低くなる。共役ジエンとビニル
芳香族炭化水素のブロックコポリマーのある種のもの
は、加硫なしで熱可塑性エラストマーとして、透明な耐
衝撃性樹脂として、またはポリスチレンおよびポリオレ
フィン樹脂の改質剤もしくは相溶化剤として用いられ
る。しかしながら、これらのコポリマーは、それらの鎖
中に二重結合が存在するために、空中酸素およびオゾン
による酸化および老化に対する耐性の点で劣る。従っ
て、これらのコポリマーの、外部環境へ暴露しなければ
ならない用途での使用は制限されている。酸素およびオ
ゾンによる酸化に対する耐性、並びに一般に老化に対す
る耐性は、これらのポリマーを水素添加してそれらの二
重結合を全体的または部分的に飽和することによりかな
り向上され得る。オレフィン型二重結合を含有するポリ
マーの水素添加のための方法は数多く提案されている。
次の2つの方法が代表的である。即ち、前記の担持型不
均一系触媒を用いる方法並びにチーグラー型またはロジ
ウムおよびチタンの有機金属化合物の均一系触媒を用い
る方法である。
【0006】担持型不均一系触媒を用いる方法において
は、水素添加されるべきポリマーを最初に適当な溶媒中
に溶解させ、次いで該不均一系触媒の存在下で水素と接
触させる。反応体と触媒との接触は、ポリマー溶液の粘
度が比較的高いため、ポリマー鎖の立体障害のため、お
よびポリマーの高い吸着性(水素添加されると、触媒の
表面上に留まる傾向にあり、水素添加されていないポリ
マーの活性中心への接近を妨害する。)のため困難であ
る。従って、二重結合の完全な水素添加を完全に達成す
るためには、多量の触媒および苛酷な反応条件が要求さ
れる。こうすると、通常、ポリマーの分解およびゲル化
を招く。更に、共役ジエンとビニル芳香族炭化水素との
コポリマーの水素添加においては、芳香族核もまた水素
添加され、ポリジエン単位の二重結合を選択的に水素添
加することは困難である。同様に、水素添加したポリマ
ーの溶液からの触媒の物理的分離は極めて困難であり、
場合によっては不均一系触媒がポリマーに強く吸着され
るために完全な除去は不可能である。
【0007】(前記に挙げたような)チーグラー型の触
媒系を用いる方法において、反応は実質的に均質媒質中
で起こり、コポリマーの水素添加は温和な圧力および温
度の条件下で行われ得る。更に、水素添加の条件を適切
に選択することにより、ポリ(ビニル芳香族炭化水素)
ブロックの芳香族環を水素添加することなくポリ(共役
ジエン)ブロックの二重結合を選択的に水素添加するこ
とが可能である。
【0008】それにもかかわらず、反応生成物からの触
媒残留物の除去(これらの残留物は水素添加したポリマ
ーの安定性に好ましくない影響を及ぼすが故に、除去は
絶対的に必要である。)は、複雑でコストのかかる工程
である。
【0009】他の均一系触媒例えば米国特許第3,89
8,208号においておよび日本特許01.289,8
05において記載されているロジウム化合物を用いる他
の方法は、ロジウム触媒のコストが高いという欠点を有
する。
【0010】成分の一つがシクロペンタジエニルチタン
の誘導体である水素添加触媒(米国特許第4,501,
857号)を共役ジエンのポリマーのオレフィン型二重
結合の水素添加のために(必ず、有機リチウム化合物の
存在下で)用いることは公知である。
【0011】欧州特許出願0460725は、有機リチ
ウム化合物を用いて合成されかつ水素の添加により停止
されたポリマーの水素添加のための類似触媒系の使用を
記載しているが、この場合、最終反応において形成され
た水素化リチウムの存在が、活性触媒を発生させるため
に必須である。両方の刊行物共それらの例では、化合物
Cp2 TiCl2 を使用している。
【0012】欧州特許出願番号0549063Aおよび
0532099Aは、この概念の更なる改善を記載して
おり、ここでは停止されたポリマーの溶液中のアルカリ
金属水素化物対チタンのモル比を少なくとも6:1とし
かつ水素添加中追加の促進剤としてアルキルベンゾエー
ト用いる。
【0013】前記に挙げた刊行物の例では、化合物Cp
2 TiCl2 のみを使用しており、該化合物は、工業的
に適用される溶媒中に非常に溶けにくいものである。
【0014】英国特許出願番号2,159,819A
は、Cp2 TiR2 (R=アルキルアリール基)タイプ
の化合物は、有機リチウム化合物を存在させることなく
共役ジエンのポリマーおよびコポリマーの二重結合を選
択的に水素添加することの可能な触媒であると記載して
いる。
【0015】欧州特許出願番号0434469A2は、
アルカリ金属のアルコキシドおよびエーテル、ケトン、
スルホキシド等の極性化合物の存在下でアルミニウムま
たはマグネシウムの有機金属化合物およびアルカリ金属
と組み合わせてビスシクロペンタジエニルチタン化合物
を含む非常に複雑な触媒系の使用を記載している。該触
媒系は、共役ジエンのポリマーおよびコポリマーの二重
結合を水素添加することが可能である。
【0016】欧州特許出願番号0544304Aは、次
のものからなる触媒組成物を用いて後者の概念を更に改
善することを記載している。即ち、(a)ビス(シクロ
ペンタジエニル)遷移金属化合物、特にビス(シクロペ
ンタジエニル)チタンジクロライドまたはビス(シクロ
ペンタジエニル)チタンジベンジル、(b)カルボニル
基含有化合物およびエポキシ基含有化合物から成る群か
ら選択された少なくとも1種の極性化合物、特に一塩基
酸または二塩基酸のエステル、ラクトン化合物、ラクタ
ム化合物並びにグリシジルメチルエーテル、グリシジル
n−ブチルエーテル、グリシジルアリルエーテル、グリ
シジルメタクリレート、グリシジルアクリレート,1,
2−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオキシドのよう
なエポキシ化合物、および(c)有機リチウム化合物、
特にn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、t
−ブチルリチウム、フェニルリチウム、n−ヘキシルリ
チウム、p−トリルリチウム、キシリルリチウム、1,
4−ジリチオブタン、アルキレンジリチウムおよびリチ
ウムを末端に有するリビングポリマー、および好ましく
は更に(d)トリエチルアルミニウム、トリ−i−ブチ
ルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライド、エ
チルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロライド、
エチルアルミニウムジクロライド、アルミニウムトリ−
i−プロポキシドおよびアルミニウムトリ−i−ブトキ
シドのようなアルミニウム化合物、亜鉛化合物およびマ
グネシウム化合物から成る群から選択された、還元性有
機金属化合物。
【0017】成分(a)と(b)の間のモル比は1/
0.5より小、一層好ましくは1/2ないし1/30の
範囲であると記載されており、成分(a)と(c)の間
のモル比は1/1ないし1/40の範囲、最も好ましく
は1/3ないし1/30の範囲であると記載されてい
る。
【0018】欧州特許出願番号0545844Aおよび
0601953Aは、水素添加触媒成分としてチタン化
合物を使用する上記概念を更に改善したものを記載して
おり、ここではシクロペンタジエニル配位子が完全にメ
チル化されているかまたはジメチルシリレン基により一
緒に結合されており、そして他の配位子Rが1〜20個
の炭素原子を含有するアルコキシド基、ハロゲン原子ま
たはCH2 PPh2 、PPh2 、CH2 SiMe3 もし
くはPhOR配位子を表す。
【0019】しかしながら、該方法の、先に論じられた
先行技術に対する利点は有意でなかった。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】一層経済的な水素添加
方法を得るために、今日の業界では、現在知られている
ものよりも有効であり、安定であり、かつ水素添加した
ポリマーから触媒残留物を除去するコストのかかる工程
を避けることができるよう十分低い濃度にて活性である
均一系触媒が必要とされている。
【0021】それ故、本発明の一つの目的は、該方法の
ために用いられるべき触媒組成物を提供することにあ
る。本発明の別の目的は、前記の触媒を用いる改善水素
添加方法を提供することにある。
【0022】
【課題を解決するための手段】従って本発明は、エチレ
ン型不飽和を含有するポリマーの水素添加のための触媒
組成物であって、少なくとも(a)式
【0023】
【化2】
【0024】〔式中、A1 およびA2 は同じまたは異な
り、そして各々置換もしくは未置換のシクロペンタジエ
ニルまたはインデニル基を表し、X1 およびX2 は同じ
または異なり、そして各々水素、ハロゲン(好ましくは
塩素)、低級アルキル、低級アルコキシ、任意に置換さ
れたフェニルもしくはフェノキシ、7〜10個の炭素原
子を有するアラルキル(好ましくはベンジル)、7〜1
0個の炭素原子を有するフェニルアルコキシ基、カルボ
キシル、カルボニル、〜CH2 P(フェニル)2 、−C
2 Si(低級アルキル)3 もしくは〜P(フェニル)
2 基を表す。〕のチタン化合物、(b)そのまま添加さ
れるか、またはアルカリ金属末端リビングポリマーから
および/または追加的に添加されたアルカリ金属アルキ
ルおよび水素からポリマー溶液中でその場で製造される
アルカリ金属水素化物、ここでアルカリ金属:チタンの
モル比が少なくとも2:1である、および(c)ホウ素
(borium)化合物 B(R1 )(R2 )(R3 ) 〔式中、R1 、R2 およびR3 は同じでも異なっていて
もよく、そして各々水素、ハロゲン、低級アルキル、低
級アルコキシ、またはハロゲンおよび低級アルキルから
選択された5個までの置換基により任意に置換されたフ
ェニル、もしくは前記したような任意に置換されたフェ
ニル環を有するベンジルを表し得、あるいはRの二つは
一緒になって、それ自身1個またはそれ以上の置換基を
有し得る単環式または二環式系を形成し得る。〕からな
る上記触媒組成物に関する。
【0025】かかる任意に置換された環式系の例は、任
意に置換されたシクロボランである。
【0026】本明細書全体を通じて用いられている用語
“低級アルキル”または“低級アルコキシ”とは、1〜
4個の炭素原子を含有する基を意味する。
【0027】R1 、R2 およびR3 により表されるフェ
ニル基の好ましい置換基は、フルオロ、塩素またはメチ
ルである。
【0028】A1 およびA2 は、未置換シクロペンタジ
エニルもしくはインデニル基または置換シクロペンタジ
エニルもしくはインデニル基を表し得る。基A1 および
2は、ハロゲン、1個もしくはそれ以上の同じもしく
は異なる置換基を任意に有し得るフェニル、および/ま
たは低級アルキル、アルコキシ、フェノキシ、フェニル
アルコキシ、ベンジルおよび/または1個もしくはそれ
以上のヘテロ原子を含有する嵩高の置換基(例えば、ト
リ(低級アルキル)シリル、〜NPh2 、〜NHPh、
〜BPh2 および〜B(OPh)2 )により置換されて
いても良い。
【0029】置換基の一つまたはそれ以上好ましくは一
つまたは二つがフェニルを表すとき、このフェニルは、
低級アルキル、ハロゲン(好ましくはフルオロまたはク
ロロ)、および低級アルコキシから選択された1個また
はそれ以上の置換基により任意に置換され得る。
【0030】これらの例は、パラ−tert−ブチルフ
ェニル、ペンタフルオロフェニル、ジクロロフェニル、
3,5−ジ(t−ブチル)−4−メトキシフェニルおよ
びトリフルオロフェニルである。
【0031】X1 およびX2 は、好ましくは、ハロゲン
(特に塩素)、メチル、メトキシ、エチル、エトキシ、
イソプロポキシ、イソプロピル、tert−ブチル、t
ert−ブトキシ、フェニル、フェノキシおよびベンジ
ルから選択される。最も好ましくは、X1 およびX2
両方共塩素である。
【0032】最も好ましいチタン化合物は、ビス(シク
ロペンタジエニル)チタンジクロライド、ビス(1−イ
ンデニル)チタンジクロライド、ビス(1−インデニ
ル)チタンジフェノキシド、ビス(シクロペンタジエニ
ル)チタンジフェノキシドもしくはビス(シクロペンタ
ジエニル)チタンジメトキシド、ビス(インデニル)チ
タンジメトキシド、またはインデニルもしくはシクロペ
ンタジエニル環上1個もしくはそれ以上の置換基、好ま
しくは1個もしくは2個のメチル基、メトキシ基、パラ
−tert−ブチルフェニル基、ペンタフルオロフェニ
ル基、トリフルオロフェニル基、ジクロロフェニル基も
しくは3,5−(t−ブチル)−4−メトキシフェニル
基を有するそれらの誘導体である。
【0033】本発明の他の主題は、ポリマー溶液を少な
くとも触媒成分(a)、(b)および(c)の存在下で
水素と激しく接触させることによる、エチレン型不飽和
(二重C−C結合)を含有するポリマーの水素添加方法
である。
【0034】水素化リチウムが、アルカリ金属水素化物
として好ましく用いられる。少なくとも1個の共役ジエ
ンを有する出発リビングポリマーのために用いられるべ
き重合開始剤並びに追加的アルカリ金属水素化物を形成
するべく任意に添加されるアルカリ金属化合物は、好ま
しくは、有機リチウム化合物である。
【0035】有機リチウム化合物は、好ましくは、メチ
ルリチウム、エチルリチウム、p−トリルリチウム、キ
シリルリチウム、1,4−ジリチオブタン、アルキレン
ジリチウム、またはブチルリチウムとジビニルベンゼン
との反応生成物から選択される。
【0036】特に好ましいものは、n−ブチルリチウ
ム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウ
ムおよびフェニルリチウムである。最も好ましいもの
は、tert−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウ
ムまたはn−ブチルリチウムである。
【0037】水素化リチウム対チタンのモル比は好まし
くは少なくとも6であり、一層好ましくは6ないし25
の範囲である。
【0038】適当には、水素添加中のホウ素:チタンの
モル比は少なくとも1/10である。
【0039】特に、水素添加中のホウ素:チタンのモル
比は1/10ないし10の範囲、好ましくは1/2ない
し2の範囲、最も好ましくは0.9ないし1.1の範囲
である。
【0040】チタン化合物は、水素添加されるべき共役
ジエンポリマー1kg当たり5〜100mgの範囲の量
にて、好ましくは20〜60mgの範囲の量にて用いら
れる。
【0041】高い水素添加度を有するポリマーが本発明
の方法により得られ得、該方法において本発明の触媒系
は、先行技術の均一系Ti触媒を用いる水素添加方法と
比べて有意に高い活性を示し出発ポリマーをより高い率
で水素添加し得ることが驚くべきことに分かった。更
に、この触媒は一層的確に計量供給され得、また優れた
再現性を示す。
【0042】本方法における触媒系は有意に低い濃度に
て適用され得るので、最終水素添加生成物中のその濃度
ははるかに低い。本発明の水素添加方法は、1〜50バ
ールの範囲、好ましくは1〜35バールの範囲の水素分
圧にて遂行され得る。
【0043】本発明の水素添加方法の一層好ましい具体
的態様によれば、1種またはそれ以上の促進剤(d)
が、前記の触媒成分(a)、(b)および(c)に加え
て存在し得る。
【0044】該促進剤(d)は、極性のケトン化合物、
ヒドロキシ基含有ケトン化合物、アルデヒド化合物、エ
ステル化合物、ラクトン化合物、ラクタム化合物および
エポキシ化合物から選択され得る。
【0045】前記促進剤のうち特に好ましいものは、ケ
トン化合物、ヒドロキシ基含有ケトン化合物、アルデヒ
ド化合物、エステル化合物およびエポキシ化合物であ
る。
【0046】好ましいケトン化合物の特定の例は、アセ
トン、ジエチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジ−
i−プロピルケトン、ジ−sec−ブチルケトン、ジ−
t−ブチルケトン、メチルエチルケトン、i−プロピル
メチルケトン、i−ブチルメチルケトン、2−ペンタノ
ン、3−ヘキサノン、3−デカノン、ジアセチルアセト
フェノン、4′−メトキシアセトフェノン、4′−メチ
ルアセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノ
ン、4−メトキシベンゾフェノン、4,4′−ジメトキ
シベンゾフェノン、ベンジルフェニルケトン、ベンジル
アセトン、ベンゾイルアセトン、シクロペンタノン、シ
クロヘキサノン、4−メチルシクロヘキサノン、1,2
−シクロヘキサンジオン、シクロヘプタノンおよびアセ
チルアセトンを含む。
【0047】ヒドロキシ基含有ケトン化合物は、分子中
にヒドロキシ基およびケトンカルボニル基の両方を有す
る化合物と定義される。好ましい化合物の特定の例は、
ヒドロキシアセトン、アセトイン、4−ヒドロキシ−2
−ブタノン、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノ
ン、5−ヒドロキシ−2−ブタノン、ジアセトンアルコ
ール、4−(p−ヒドロキシフェニル)−2−ブタノ
ン、2−ヒドロキシアセトフェノン、2′−ヒドロキシ
アセトフェノン、3′−ヒドロキシアセトフェノン、
4′−ヒドロキシアセトフェノン、4′−ヒドロキシ−
3′−メトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシフェニ
ルエチルケトン、4′−ヒドロキシプロピオフェノン、
2′,4′−ジヒドロキシアセトフェノン、2′,5′
−ジヒドロキシアセトフェノン、2′,6′−ジヒドロ
キシアセトフェノン、3′,5′−ジヒドロキシアセト
フェノン、2′,3′,4′−トリヒドロキシアセトフ
ェノン、2−ヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキ
シベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクチルオキシ
ベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4′−
ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン、2,,4′−トリヒド
ロキシベンゾフェノンおよびベンゾインである。
【0048】アルデヒド化合物としては、脂肪族または
芳香族のどちらのアルデヒド化合物も用いられ得る。脂
肪族アルデヒド化合物における脂肪族基は、飽和または
不飽和のどちらでもよくそして線状または分枝状のどち
らでもよい。好ましいアルデヒド化合物の例として、ホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデ
ヒド、n−ブチルアルデヒド、i−ブチルアルデヒド、
n−バレルアルデヒド、i−バレルアルデヒド、ピバル
アルデヒド、n−カプロンアルデヒド、2−エチルヘキ
シルアルデヒド、n−ヘプトアルデヒド、n−カプリル
アルデヒド、ペラルゴンアルデヒド、n−カプリンアル
デヒド、n−ウンデシルアルデヒド、ラウリルアルデヒ
ド、トリデシルアルデヒド、ミリスチルアルデヒド、ペ
ンタデシルアルデヒド、パルミチルアルデヒド、マルガ
リルアルデヒド、ステアリルアルデヒド、グリオキサー
ル、スクシンアルデヒド、ベンズアルデヒド、o−トル
アルデヒド、m−トルアルデヒド、p−トルアルデヒ
ド、α−ナフトアルデヒド、β−ナフトアルデヒドおよ
びフェニルアセトナフトアルデヒドが挙げられる。
【0049】エステル化合物の例は、一塩基酸例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、カプロン酸、ペラルゴ
ン酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソ
ステアリン酸、シクロヘキシルプロピオン酸、シクロヘ
キシルカプロン酸、安息香酸、フェニル酪酸等、二塩基
酸例えばシュウ酸、マレイン酸、マロン酸、フマル酸、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベ
リン酸、セバシン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、アゼライン酸等、または多塩基酸
例えば1,2,3−プロパントリカルボン酸、1,3,
5−n−ペンタントリカルボン酸等と、アルコール例え
ばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルア
ルコール、tert−ブチルアルコール、アミルアルコ
ール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール、フェ
ノール、クレゾール、1,3−ブタンジオール、1,4
−ブタンジオール、ピニアコール、ペンタエリトリット
等により形成されるエステルである。
【0050】ラクトン化合物の特定の例は、β−プロピ
オラクトン、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクト
ン、Δα,β−クロトンラクトン、Δβ,γ−クロトン
ラクトン、クマリン、フタリド、α−ピロン、シドノン
およびフルオランである。
【0051】ラクタム化合物の特定の例として、β−プ
ロピオラクタム、2−ピロリドン、2−ピペリドン、ε
−カプロラクタム、n−ヘプタンラクタム、8−オクタ
ンラクタム、9−ノナンラクタム、10−デカンラクタ
ム、2−キノロン、1−イソキノロン、オキシンドー
ル、イソインジゴ、イサチン、ヒダントインおよびキノ
リジノンが与えられる。
【0052】好ましいエポキシ化合物の特定の例は、
1,3−ブタジエンモノオキシド、1,3−ブタジエン
ジオキシド、1,2−ブチレンオキシド、2,3−ブチ
レンオキシド、シクロヘキセンオキシド、1,2−エポ
キシシクロドデカン、1,2−エポキシデカン、1,2
−エポキシエイコサン、1,2−エポキシヘプタン、
1,2−エポキシヘキサデカン、1,2−エポキシオク
タデカン、1,2−エポキシオクタン、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、1,2−エポキシヘプタ
ン、1,2−エポキシテトラデカン、ヘキサメチレンオ
キシド、イソブチレンオキシド、1,7−オクタジエン
ジエポキシド、2−フェニルプロピレンオキシド、プロ
ピレンオキシド、トランス−スチルベンオキシド、スチ
レンオキシド、エポキシ化1,2−ポリブタジエン、エ
ポキシ化アマニ油、グリシジルメチルエーテル、グリシ
ジルn−ブチルエーテル、グリシジルアリルエーテル、
グリシジルメタクリレートおよびグリシジルアクリレー
トを含む。
【0053】本発明の触媒組成物により水素添加される
べきオレフィン型不飽和のポリマーに、ポリマーの主鎖
または側鎖にオレフィン型炭素−炭素不飽和二重結合を
含有するあらゆるポリマーが含まれる。典型的な例は、
共役ジエンポリマー、並びに共役ジエンおよびオレフィ
ンのランダム、ブロックまたはグラフトポリマーであ
る。
【0054】上記の共役ジエンポリマーに、共役ジエン
から、または少なくとも1種の共役ジエンとこの共役ジ
エンと共重合可能な少なくとも1種のオレフィンから製
造される、共役ジエンのホモポリマーおよびコポリマー
が含まれる。
【0055】これらの共役ジエンポリマーの製造のため
に用いられる共役ジエンの典型的な例として、4〜12
個の炭素原子を有する共役ジエンが挙げられる。特定の
例は、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメ
チル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2
−メチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ペンタジエ
ン、1,3−ヘキサジエン、4,5−ジエチル−1,3
−オクタジエン、3−ブチル−1,3−オクタジエン、
クロロプレン等である。
【0056】優れた特性および工業的利点を有するエラ
ストマーを製造する見地から、1,3−ブタジエンおよ
びイソプレンが特に好ましい。ポリブタジエン、ポリイ
ソプレン、ブタジエン/イソプレンコポリマーのような
エラストマーが、本発明において用いられる特に好まし
いポリマー物質である。ポリマーの微細構造について
は、特定の制限はない。これらのポリマーはすべて、本
発明の触媒組成物を用いる水素添加の適用において適し
た物質である。
【0057】少なくとも1種の共役ジエンおよびこの共
役ジエンと共重合可能な少なくとも1種のオレフィンか
ら製造される上記のコポリマーもまた、本発明の触媒組
成物を用いる水素添加が適用される適当なポリマー物質
である。
【0058】上記の共役ジエンモノマーは、これらのタ
イプのコポリマーの製造のために用いられ得る。これら
の共役ジエンと共重合可能ないずれのオレフィンも該コ
ポリマーの製造において用いるために適し、ビニル置換
芳香族炭化水素が特に好ましい。
【0059】共役ジエンおよびビニル置換芳香族炭化水
素のコポリマーは、工業的に有用で価値あるエラストマ
ーまたは熱可塑性エラストマーの製造のために特に重要
である。このタイプのコポリマーの製造において用いら
れるビニル置換芳香族炭化水素の特定の例として、スチ
レン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ジビ
ニルベンゼン、1,1−ジフェニルエチレン、N,N−
ジメチル−p−アミノエチルスチレン、N,N−ジエチ
ル−p−アミノエチルスチレンおよびビニルピリジンが
挙げられる。これらのうち、スチレンおよびα−メチル
スチレンが特に好ましい。工業的に価値ある水素添加コ
ポリマーをもたらす特定のコポリマーは、ブタジエン/
スチレンコポリマー、イソプレン/スチレンコポリマー
およびブタジエン/α−メチルスチレンコポリマーであ
る。
【0060】これらのコポリマーは、モノマーがポリマ
ー全体にランダムに分布しているランダムコポリマー、
漸減ブロックコポリマー、完全ブロックコポリマーおよ
びグラフトコポリマー、好ましくは線状のもしくは放射
状マルチアーム型のブタジエン−スチレンブロックコポ
リマー、イソプレン−スチレンブロックコポリマーまた
はブタジエン/イソプレン−スチレンブロックコポリマ
ーを含む。
【0061】工業的に有用な熱可塑性エラストマーを製
造するために、ビニル置換芳香族炭化水素の好ましい量
は15〜45重量%の範囲である。
【0062】総共役ジエン単位の10%またはそれ以上
の共役ジエン単位中のビニル結合の含有量が、優れた特
性を有する水素添加ポリマーを得るために望ましい。
【0063】本発明の触媒組成物を用いる水素添加方法
において用いられ得るポリマーに、線状タイプのもの並
びにカップリング剤を用いてカップリングにより製造さ
れる分枝状タイプすなわち放射状もしくは星形タイプの
もの(すべて、一般に1,000ないし1,000,0
00の範囲の分子量を有する。)も含まれる。
【0064】前記の特記したポリケトン化合物、ポリア
ルデヒド化合物、エステル化合物およびポリエポキシ化
合物はカップリング剤として用いられ得るということが
理解されよう。これらのカップリング剤は、カップリン
グ剤および本発明の触媒組成物の成分(d)の両方とし
て用いられ得る。このことにより、本発明の触媒組成物
を用いるポリマーの水素添加の経済的利点が与えられ
る。
【0065】本発明により水素添加されるべきポリマー
に、リビングアニオン重合後または他の手段により極性
基で変性された末端を有するものも含まれる。ヒドロキ
シ基、カルボキシル基、エステル基、イソシアネート
基、ウレタン基、アミド基、尿素基およびチオウレタン
基が、該極性基として用いられる。
【0066】上記のポリマーの外に、任意の重合方法例
えばアニオン重合、カチオン重合、配位重合、ラジカル
重合、溶液重合または乳化重合により製造されたいずれ
のポリマーも、本発明において用いられ得る。
【0067】加えて、モリブデンまたはタングステンの
ようなメタセシス(methathesis)触媒を用
いて開環重合により製造される環式オレフィンポリマー
も、オレフィン型不飽和結合を有するポリマーに含めら
れる。
【0068】本発明の触媒組成物を用いる水素添加反応
において、オレフィン型不飽和のポリマーはそれらが炭
化水素溶媒中に溶解される状態にて水素添加され得る
が、あるいはオレフィン型不飽和のポリマーが炭化水素
溶媒中で重合により製造され得そして引き続いて水素添
加され得る。
【0069】水素添加反応において用いられる炭化水素
溶媒は、脂肪族炭化水素(例えばペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン等)、脂環式炭化水素(例えばシク
ロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン
等)、または芳香族溶媒(例えばトルエン)であり得
る。これらの炭化水素溶媒は、20重量%以下の、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテ
ル、ジエトキシプロパンおよびジオキサンのようなエー
テルを含有し得る。
【0070】本発明の水素添加反応を行う際のポリマー
の濃度については制限はない。通常、ポリマー濃度は、
1〜30重量%の範囲、好ましくは3〜20重量%の範
囲である。水素添加反応は、不活性ガス雰囲気下で例え
ば窒素もしくはアルゴン中でまたは水素雰囲気下で水素
添加触媒組成物の添加後、所要により撹拌しながら、ポ
リマー溶液の温度を特記温度に維持しながら水素を供給
することにより遂行される。
【0071】水素添加反応のために適した温度は、0〜
150℃の範囲にある。0℃より低い温度は不経済であ
り、何故なら0℃より低い温度においては触媒活性が低
下するのみならず、水素添加の速度も遅くなるからであ
る。一方温度が150℃より高い場合は、ポリマーが分
解またはゲル化する傾向にあるのみならず、芳香族環も
同時に水素添加されて水素添加の選択性が悪くなるから
である。一層好ましい温度範囲は20〜140℃であ
り、特に50〜130℃の範囲にある。本発明の触媒組
成物を用いる水素添加反応において、反応は比較的高い
温度にて行われ得、一層高い反応速度および一層高い収
率をもたらす。
【0072】水素添加反応は、1分ないし3時間の間行
われる。用いられる触媒組成物の量が多くなればなるほ
ど並びに圧力が高くなればなるほど、反応時間は一層短
くなり得る。
【0073】
【実施例】例1 水素末端SBSブロックコポリマーの製造 分子量70,000のポリスチレン−ポリブタジエン−
ポリスチレン(SBS)ブロックコポリマーの30Lバ
ッチを、ステンレス鋼反応器中で開始剤としてsec−
ブチルリチウムを用いて逐次アニオン重合により製造し
た。該重合は、18重量%固形分において140ppm
のジエトキシプロパンが添加されていたシクロヘキサン
中で行われた。SBSポリマーの1,2−含有量は、4
0.4重量%である。
【0074】重合反応の終了時に、該反応器に水素を2
時間分散させて、リビングSBS−Liポリマーを停止
させそしてSBSおよびLiHを生成させた。このバッ
チのLiH含有量は、2.2ミリモル/リットルである
と決定された。
【0075】例2 ビス(インデニル)チタンジクロライドを用いるSBS
ブロックコポリマーの水素添加 ステンレス鋼反応器に、例1と同様にして製造された1
90グラムのSBSセメントを装填した。該反応器の温
度を70℃に設定し、そして該反応器を10バールの水
素圧に加圧して該セメントを飽和させた。その間、10
mlのシクロヘキサン中の0.04ミリモルのそれぞれ
ビス(インデニル)チタンジクロライドおよびビス(n
−ブチルシクロペンタジエニル)チタンジクロライドお
よび0.04ミリモルのそれぞれ三フッ化ホウ素、トリ
(ペンタフルオロフェニル)ホウ素およびトリ(フェニ
ル)ホウ素の懸濁液を調製した。
【0076】上記の触媒懸濁液を該反応器に添加し、そ
して水素圧を50バールに上げた。直ちに、強い発熱反
応が起こった(T=80℃)。水素添加を3時間継続さ
せ、この期にサンプルを該反応器から取り、そして 1
−NMRにより分析してオレフィン型二重結合の変換度
を決定した。
【0077】該変換度を15分後、1時間後および3時
間後決定し、その結果を第1表および第2表に記載す
る。
【0078】
【表1】
【0079】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 バート・ヘツセン オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 アドリアーン・アルベルト・フアン・デ ル・ハイゼン オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 ウオウター・ドウ・ヨング オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 アドリアヌス・ヨハンネス・フアン・デ ル・リンデン オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 バート・ヨハン・ライスフ オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 ロデウエイク・スホーン オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 ヘレーン・ヨハンナ・アウグスタ・ドウ・ スメツト オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 フレデリツク・ヘンドリツク・フアン・デ ル・ステーン オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 ヒユベルタス・コルネリス・トーマス・ル シアネス・フアン・ストリーン オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 アラン・フイレナ オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3 (72)発明者 ユーデイス・ヨハンナ・ベレンデイナ・ウ オルホフ オランダ国、1031・セー・エム・アムステ ルダム、バドハイスウエヒ・3

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エチレン型不飽和を含有するポリマーの
    水素添加のために適した触媒組成物であって、少なくと
    も(a)式 【化1】 〔式中、A1 およびA2 は同じまたは異なり、そして各
    々置換もしくは未置換のシクロペンタジエニルまたはイ
    ンデニル基を表し、X1 およびX2 は同じまたは異な
    り、そして各々水素、ハロゲン、低級アルキル、低級ア
    ルコキシ、任意に置換されたフェニルもしくはフェノキ
    シ、7〜10個の炭素原子を有するアラルキル、7〜1
    0個の炭素原子を有するフェニルアルコキシ、カルボキ
    シル、カルボニル、〜CH2 P(フェニル)2 、−CH
    2 Si(低級アルキル)3 もしくは〜P(フェニル)2
    基を表す。〕のチタン化合物、(b)そのまま添加され
    るか、またはアルカリ金属末端リビングポリマーからお
    よび/または追加的に添加されたアルカリ金属アルキル
    および水素からポリマー溶液中でその場で製造されるア
    ルカリ金属水素化物、ここでアルカリ金属:チタンのモ
    ル比は少なくとも2:1である、および(c)ホウ素化
    合物 B(R1 )(R2 )(R3 ) 〔式中、R1 、R2 およびR3 は同じでも異なっていて
    もよく、そして各々水素、ハロゲン、低級アルキル、低
    級アルコキシ、ハロゲンおよび低級アルキルから選択さ
    れた5個までの置換基により任意に置換されたフェニ
    ル、または前記した任意に置換されたフェニル環を有す
    るベンジルを表すか、あるいはRの二つは一緒になって
    それ自身1個またはそれ以上の置換基を有し得る単環式
    または二環式系を形成し得る。〕からなることを特徴と
    する上記触媒組成物。
  2. 【請求項2】 X1 およびX2 が、塩素、メチル、メト
    キシ、エチル、エトキシ、イソプロポキシ、イソプロピ
    ル、tert−ブチル、tert−ブトキシ、フェニ
    ル、フェノキシおよびベンジルから選択されることを特
    徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
  3. 【請求項3】 X1 およびX2 が両方共塩素であること
    を特徴とする請求項1または2に記載の触媒組成物。
  4. 【請求項4】 ホウ素:チタンのモル比が1/10ない
    し10の範囲にあることを特徴とする請求項1から3の
    いずれか一項に記載の触媒組成物。
  5. 【請求項5】 ホウ素:チタンのモル比が1/2ないし
    2の範囲にあることを特徴とする請求項4に記載の触媒
    組成物。
  6. 【請求項6】 ホウ素:チタンのモル比が0.9ないし
    1.1の範囲にあることを特徴とする請求項5に記載の
    触媒組成物。
  7. 【請求項7】 アルカリ金属水素化物が水素化リチウム
    であることを特徴とする請求項1に記載の触媒組成物。
  8. 【請求項8】 水素化リチウム対チタンのモル比が少な
    くとも6であることを特徴とする請求項7に記載の触媒
    組成物。
  9. 【請求項9】 水素化リチウム対チタンのモル比が6な
    いし25の範囲にあることを特徴とする請求項8に記載
    の触媒組成物。
  10. 【請求項10】 成分(a)、(b)および(c)に加
    えて、極性のケトン化合物、ヒドロキシ基含有ケトン化
    合物、アルデヒド化合物、エステル化合物、ラクトン化
    合物、ラクタム化合物およびエポキシ化合物から選択さ
    れた1種またはそれ以上の促進剤(d)を含むことを特
    徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の触媒組
    成物。
  11. 【請求項11】 ケトン化合物、ヒドロキシ基含有ケト
    ン化合物、アルデヒド化合物、エステル化合物およびエ
    ポキシ化合物から選択された促進剤を含むことを特徴と
    する請求項10に記載の触媒組成物。
  12. 【請求項12】 成分(a)対成分(d)のモル比が1
    0ないし1/2の範囲にあることを特徴とする請求項1
    0または11に記載の触媒組成物。
  13. 【請求項13】 成分(a)対成分(d)のモル比が2
    ないし1の範囲にあることを特徴とする請求項11に記
    載の触媒組成物。
  14. 【請求項14】 エチレン型不飽和を含有するポリマー
    の水素添加方法であって、ポリマー溶液を少なくとも請
    求項1から13のいずれか一項に記載の触媒組成物の存
    在下で水素と激しく接触させることからなることを特徴
    とする上記方法。
JP9092394A 1996-04-12 1997-04-10 共役ジエンポリマーの水素添加方法および該方法において用いるために適した触媒組成物 Withdrawn JPH1036421A (ja)

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NL96302600.0 1996-04-12

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