JPH1036593A - Semiconductive rubber composition and member for electrophotographic apparatus - Google Patents
Semiconductive rubber composition and member for electrophotographic apparatusInfo
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- JPH1036593A JPH1036593A JP19640696A JP19640696A JPH1036593A JP H1036593 A JPH1036593 A JP H1036593A JP 19640696 A JP19640696 A JP 19640696A JP 19640696 A JP19640696 A JP 19640696A JP H1036593 A JPH1036593 A JP H1036593A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電気抵抗が安定した半導電性ゴム組成物およ
びそれからなる電子写真装置部材を提供する。
【解決手段】 下記(a)〜(e)の特性を有するエチ
レン/α−オレフィン/非共役ジエン共重合体ゴム10
0重量部と導電性フィラー5重量部以上50重量部以下
からなる半導電性ゴム組成物。
(a)α−オレフィンの炭素数:4以上20以下、
(b)α−オレフィンの含量:20モル%以上90モル
%以下、(c)100℃におけるムーニー粘度:30以
上200未満、(d)ヨウ素価:3以上50以下、
(e)分子量分布:3以下(57) [Problem] To provide a semiconductive rubber composition having a stable electric resistance and an electrophotographic apparatus member comprising the same. SOLUTION: An ethylene / α-olefin / non-conjugated diene copolymer rubber 10 having the following characteristics (a) to (e):
A semiconductive rubber composition comprising 0 parts by weight and 5 to 50 parts by weight of a conductive filler. (A) carbon number of α-olefin: 4 or more and 20 or less;
(B) α-olefin content: 20 mol% to 90 mol%, (c) Mooney viscosity at 100 ° C .: 30 to less than 200, (d) iodine value: 3 to 50,
(E) Molecular weight distribution: 3 or less
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電気抵抗の安定し
た半導電性ゴム組成物およびそれからなる電子写真装置
部材に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductive rubber composition having a stable electric resistance and an electrophotographic apparatus member comprising the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子写真装置において、感光ドラムなど
からなる像担持体上に形成されたトナー像を紙などの転
写材上へ転写する転写方式として種々の方式が知られて
いる。その中でも、装置の小型化に有効であり、転写に
必要な印加電圧が低くて済み、オゾンなどのコロナ生成
物が少なく、転写材の搬送安定性に優れているなどの利
点から、接触式ロールを用いた転写方式が注目されてい
る。この方式による接触式ロール(帯電ロール)には、
耐オゾン性に優れ、かつ電気抵抗が1〜1010Ω・cm
の半導電性を示す材料が望まれている。現在、この用途
にはエチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム(EP
DM)に導電性フィラーを添加した材料がしばしば用い
られている。しかしながら、EPDMに導電性フィラー
を添加した材料は、成形加工条件によって電気抵抗の変
動が大きく、その制御が極めて困難であった。さらに
は、成形条件を一定に制御しても、その電気抵抗値は安
定せず、製品間による変動のため歩留まりの悪化が避け
られなかった。この問題を回避するため、EPDMのか
わりにシリコーンゴムやウレタンゴムなどの液状ゴムを
用いる例が報告されている(特開平1−126370号
公報、特開平6−248174号公報など)ものの、
(1)架橋前のゴム成分が液状であるために取り扱いが
困難であり、製造プロセスが複雑になる(2)ウレタン
ゴムの場合には原材料に毒性がある場合が多いなど、使
用に際しての問題も多かった。2. Description of the Related Art In an electrophotographic apparatus, various methods are known as a transfer method for transferring a toner image formed on an image carrier such as a photosensitive drum onto a transfer material such as paper. Among them, contact-type rolls are effective because they are effective for downsizing the device, require low applied voltage for transfer, have low corona products such as ozone, and have excellent transfer material transfer stability. Has attracted attention. Contact type rolls (charging rolls) using this method include:
Excellent ozone resistance and electric resistance of 1 to 10 10 Ω · cm
There is a demand for a material exhibiting semiconductivity. At present, ethylene-propylene-diene copolymer rubber (EP
A material obtained by adding a conductive filler to DM) is often used. However, a material obtained by adding a conductive filler to EPDM has a large fluctuation in electric resistance depending on molding processing conditions, and it is extremely difficult to control the electric resistance. Furthermore, even if the molding conditions are controlled to be constant, the electric resistance value is not stable, and the yield is inevitable due to the variation between products. In order to avoid this problem, examples have been reported in which a liquid rubber such as silicone rubber or urethane rubber is used instead of EPDM (JP-A-1-126370, JP-A-6-248174, etc.).
(1) Since the rubber component before crosslinking is in a liquid state, handling is difficult and the manufacturing process becomes complicated. (2) In the case of urethane rubber, raw materials are often toxic, and there are also problems in use. There were many.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電気抵抗が
安定した半導電性ゴム組成物およびそれからなる電子写
真装置部材を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a semiconductive rubber composition having a stable electric resistance and an electrophotographic apparatus member comprising the same.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
達成するために鋭意検討を行った結果、本発明を完成す
るに至った。すなわち本発明は、下記(a)〜(e)の
特性を有するエチレン/α−オレフィン/非共役ジエン
共重合体ゴム100重量部と導電性フィラー5重量部以
上50重量部以下からなる半導電性ゴム組成物およびそ
れからなる電子写真装置部材に関するものである。Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, completed the present invention. That is, the present invention provides a semiconductive material comprising 100 parts by weight of an ethylene / α-olefin / non-conjugated diene copolymer rubber having the following characteristics (a) to (e) and 5 to 50 parts by weight of a conductive filler. The present invention relates to a rubber composition and an electrophotographic apparatus member made of the same.
【0005】(a)α−オレフィンの炭素数:4以上2
0以下 (b)α−オレフィンの含量:20モル%以上90モル
%以下 (c)100℃におけるムーニー粘度(ML1+4):3
0以上200未満 (d)ヨウ素価:3以上50以下 (e)ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで求め
た分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量):3以
下 以下に、その詳細について説明する。(A) carbon number of α-olefin: 4 or more 2
0 or less (b) α-olefin content: 20 to 90 mol% (c) Mooney viscosity (ML 1 + 4 ) at 100 ° C .: 3
0 to less than 200 (d) Iodine value: 3 to 50 (e) Molecular weight distribution (weight average molecular weight / number average molecular weight) determined by gel permeation chromatography: 3 or less The details will be described below.
【0006】本発明で使用するエチレン/α−オレフィ
ン/非共役ジエン共重合体ゴムに用いられるα−オレフ
ィンは炭素数4以上20以下のものであり、例えば、1
−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、4−メチル−
1−ペンテン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネ
ン、1−デセン、1−ウンデセン、1−ドデセン、1−
トリデセン、1−テトラデセン、1−ペンタデセン、1
−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセ
ン、1−ノナデセン、1−エイコセン等が挙げられ、こ
れらの1種もしくは2種以上が用いられる。なかでも1
−ヘキセン、1−オクテンを用いると本発明の半導電性
ゴムの電気抵抗の安定性は一層優れるために好ましい。The α-olefin used in the ethylene / α-olefin / non-conjugated diene copolymer rubber used in the present invention has 4 to 20 carbon atoms.
-Butene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-
1-pentene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene, 1-
Tridecene, 1-tetradecene, 1-pentadecene, 1
-Hexadecene, 1-heptadecene, 1-octadecene, 1-nonadecene, 1-eicosene and the like, and one or more of these are used. Above all, 1
The use of -hexene or 1-octene is preferred because the semiconductive rubber of the present invention has more excellent electrical resistance stability.
【0007】α−オレフィンの含量は20モル%以上9
0モル%以下、好ましくは25モル%以上50モル%以
下である。α−オレフィンの含量が20モル%未満であ
ると本発明の半導電性ゴム組成物の柔軟性が損なわれる
恐れがあり、90モル%を越えるとポリマーの生産性が
低下し、製造が困難になる。また、25モル%以上50
モル%以下であることによって、本発明の半導電性ゴム
の電気抵抗の安定性が一層優れるために好ましい。The content of α-olefin is at least 20 mol% 9
0 mol% or less, preferably 25 mol% or more and 50 mol% or less. If the content of the α-olefin is less than 20 mol%, the flexibility of the semiconductive rubber composition of the present invention may be impaired, and if it exceeds 90 mol%, the productivity of the polymer is reduced and the production becomes difficult. Become. In addition, 25 mol% or more 50
When the content is not more than mol%, the semiconductive rubber of the present invention is more preferable because the stability of electric resistance is further improved.
【0008】また、本発明で使用するエチレン/α−オ
レフィン/非共役ジエン共重合体ゴムに用いられる非共
役ジエンとしては、1,4−ペンタジエン、1,4−ヘ
キサジエン、1,5−ヘキサジエン、4−メチル−1,
4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエ
ン、4−メチル−1,5−ヘプタジエン、1,6−オク
タジエン、1,7−オクタジエン、1,8−ノナジエ
ン、1,9−デカジエン、5−メチレン−2−ノルボル
ネン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、5−イソプ
ロペニル−2−ノルボルネン、2,5−ノルボナジエ
ン、1,6−シクロオクタジエン、2−エチレン−2,
5−ノルボナジエン、2−イソプロペニル−2,5−ノ
ルボナジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペン
タジエンおよびジハイドロジシクロペンタジエニルオキ
シエチレンとアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマル酸等の不飽和カルボン酸とのエステ
ルなどが挙げられ、これらの1種または2種以上が用い
られる。The non-conjugated diene used in the ethylene / α-olefin / non-conjugated diene copolymer rubber used in the present invention includes 1,4-pentadiene, 1,4-hexadiene, 1,5-hexadiene, 4-methyl-1,
4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 4-methyl-1,5-heptadiene, 1,6-octadiene, 1,7-octadiene, 1,8-nonadiene, 1,9-decadiene, 5- Methylene-2-norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, 5-isopropenyl-2-norbornene, 2,5-norbonadiene, 1,6-cyclooctadiene, 2-ethylene-2,
5-norbonadiene, 2-isopropenyl-2,5-norbonadiene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene and dihydrodicyclopentadienyloxyethylene with acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid,
Examples thereof include esters with unsaturated carboxylic acids such as maleic acid and fumaric acid, and one or more of these are used.
【0009】非共役ジエンの含量はヨウ素価でもって表
すことが可能であり、ヨウ素価としては3以上50以
下、好ましくは5以上40以下である。ヨウ素価が3未
満であると充分な加硫効果が認められず、ヨウ素価が5
0を越えると重合時にゲルの発生を生じやすくなる。な
お、ヨウ素価は公知の方法によって測定可能である(例
えば”ゴム試験法”P.657、日本ゴム協会編、(1
963))。The content of the non-conjugated diene can be represented by an iodine value, and the iodine value is 3 to 50, preferably 5 to 40. If the iodine value is less than 3, a sufficient vulcanizing effect is not recognized, and the iodine value is 5
If it exceeds 0, gelation tends to occur during polymerization. The iodine value can be measured by a known method (for example, "Rubber Test Method", p. 657, edited by The Japan Rubber Association, (1)
963)).
【0010】本発明において用いられるエチレン/α−
オレフィン/非共役ジエン共重合体ゴムの100℃にお
けるムーニー粘度(ML1+4)は30以上200未満、
好ましくは50以上150以下である。ムーニー粘度が
30未満または200以上であると成形不良を生じる恐
れがある。また、50以上150以下であることによっ
て、本発明の半導電性ゴムの電気抵抗の安定性が一層優
れるために好ましい。The ethylene / α- used in the present invention
The Mooney viscosity (ML 1 + 4 ) at 100 ° C. of the olefin / non-conjugated diene copolymer rubber is 30 or more and less than 200,
Preferably it is 50 or more and 150 or less. If the Mooney viscosity is less than 30 or more than 200, molding failure may occur. Further, when the ratio is 50 or more and 150 or less, the stability of the electric resistance of the semiconductive rubber of the present invention is more excellent, which is preferable.
【0011】本発明において用いられるエチレン/α−
オレフィン/非共役ジエン共重合体ゴムのゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィーによって測定した分子量分
布(重量平均分子量/数平均分子量)は3以下、好まし
くは2.5以下である。分子量分布が3を越えると得ら
れる本発明の組成物のべたつきが大きくなる恐れがあ
る。The ethylene / α- used in the present invention
The molecular weight distribution (weight average molecular weight / number average molecular weight) of the olefin / non-conjugated diene copolymer rubber measured by gel permeation chromatography is 3 or less, preferably 2.5 or less. If the molecular weight distribution exceeds 3, the composition of the present invention obtained may be too sticky.
【0012】上述のエチレン/α−オレフィン/非共役
ジエン共重合体ゴムの製造方法は特に限定されず、チタ
ン系触媒、バナジウム系触媒、メタロセン系触媒など種
々の触媒を用いて製造することができる。なかでも、共
重合性に優れたメタロセン系触媒を用いて製造すること
が好ましい。この方法により高活性で、分子量分布およ
び組成分布の狭い共重合体を得ることが可能である。The method for producing the above-mentioned ethylene / α-olefin / non-conjugated diene copolymer rubber is not particularly limited, and it can be produced using various catalysts such as a titanium catalyst, a vanadium catalyst and a metallocene catalyst. . Especially, it is preferable to manufacture using a metallocene type catalyst excellent in copolymerizability. By this method, it is possible to obtain a copolymer having a high activity and a narrow molecular weight distribution and composition distribution.
【0013】メタロセン系触媒としては、メタロセン系
化合物とアルミノキサン化合物との組合せ(特開昭58
−19309号公報、同60−35006号公報、同6
1−130314号公報、特開平3−163088号公
報)、あるいはメタロセン系化合物と、これと反応して
安定なアニオンを形成するイオン化イオン性化合物との
組合せ(特表平1−502036号公報、WO91/1
4713号公報、WO92/01723号公報、特開平
5−310829号公報)が挙げられる。しかし、一般
にエチレン/α−オレフィン共重合において、α−オレ
フィンの含量の増大とともに分子量が低下することが知
られている。そこで、本発明に用いる高分子量エチレン
/α−オレフィン/非共役ジエン共重合体ゴムを効率よ
く生産するためには、以下に示す化合物からなる触媒を
用いることが好ましい。As the metallocene-based catalyst, a combination of a metallocene-based compound and an aluminoxane compound (Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-1983)
JP-A-19-19309, JP-A-60-35006, JP-A-6-30
Or a combination of a metallocene compound and an ionized ionic compound which reacts with the metallocene compound to form a stable anion (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-5020206, WO91). / 1
No. 4713, WO92 / 01723, and JP-A-5-310829). However, it is generally known that, in ethylene / α-olefin copolymerization, the molecular weight decreases as the content of α-olefin increases. Therefore, in order to efficiently produce the high molecular weight ethylene / α-olefin / non-conjugated diene copolymer rubber used in the present invention, it is preferable to use a catalyst comprising the following compound.
【0014】a)下記一般式(1)で表される遷移金属
化合物 b)下記一般式(2)、(3)、(4)、(5)で表さ
れる上記遷移金属化合物をカチオン性遷移金属化合物と
し得る成分 c)下記一般式(6)で表される有機アルミニウム化合
物 a)遷移金属化合物は、下記一般式(1)A) a transition metal compound represented by the following general formula (1) b) a cationic transition compound represented by the following general formulas (2), (3), (4) and (5) Components that can be metal compounds c) Organoaluminum compounds represented by the following general formula (6) a) Transition metal compounds are represented by the following general formula (1)
【0015】[0015]
【化1】 Embedded image
【0016】[Cp1はシクロペンタジエニル基、イン
デニル基、フルオレニル基またはそれらの置換体であ
り、Cp2は無置換または置換基(−R,−BR2,−S
iR3,−NR2,−PR2,−OR,−SR,−F,−
Cl,−Br,−I:ただし、Rは水素または炭素数1
〜20の炭化水素基である)を有するフルオレニル基で
あり、R1,R2は各々独立して水素、ハロゲンまたは炭
素数1〜12の炭化水素基、アルコキシ基またはアリー
ロキシ基であり、また、少なくとも一方がアリール基ま
たは置換アリール基であり、Mはチタン、ジルコニウム
またはハフニウムであり、R3,R4は各々独立して水
素、ハロゲンまたは炭素数1〜12の炭化水素基、アル
コキシ基もしくはアリーロキシ基である。]である。[Cp 1 is a cyclopentadienyl group, an indenyl group, a fluorenyl group or a substituted product thereof, and Cp 2 is an unsubstituted or substituted group (—R, —BR 2 , —S
iR 3, -NR 2, -PR 2 , -OR, -SR, -F, -
Cl, -Br, -I: where R is hydrogen or carbon number 1
And R 1 and R 2 are each independently hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group or an aryloxy group; At least one is an aryl group or a substituted aryl group, M is titanium, zirconium or hafnium, and R 3 and R 4 are each independently hydrogen, halogen or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group or an aryloxy group. Group. ].
【0017】一般式(1)の具体例としては、ジフェニ
ルメチレン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)
ジルコニウムジクロライド、メチルフェニルメチレン
(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウ
ムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジ
エニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレニル)ジル
コニウムジクロライド、メチルフェニルメチレン(シク
ロペンタジエニル)(2,7−ジ−t−ブチルフルオレ
ニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメチルフルオレ
ニル)ジルコニウムジクロライド、メチルフェニルメチ
レン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジメチルフル
オレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニルメチ
レン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジフェニルフ
ルオレニル)ジルコニウムジクロライド、メチルフェニ
ルメチレン(シクロペンタジエニル)(2,7−ジフェ
ニルフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェ
ニルメチレン(シクロペンタジエニル)(a,i−ジベ
ンゾフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、メチル
フェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(a,i−
ジベンゾフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジ
フェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(b,h−
ジベンゾフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、メ
チルフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(b,
h−ジペンゾフルオレニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ジ(4−トリル)メチレン(シクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジ
(4−ビフェニル)メチレン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニ
ルメチレン(シクロペンタジエニル)(2−ジメチルア
ミノフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、メチル
フェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(2−ジメ
チルアミノフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、
ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(2−メ
トキシフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、メチ
ルフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(2−メ
トキシフルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフ
ェニルメチレン(3−メチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、メチルフ
ェニルメチレン(3−メチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、ジフェニ
ルメチレン(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、メチルフ
ェニルメチレン(3,4−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライドおよび
上記化合物のジルコニウムをチタンまたはハフニウムに
置換した化合物等が挙げられるが、これらに限定される
ものではない。なかでも置換フルオレニル基を配位子に
持ち、ハフニウムを中心金属とした化合物が共重合性に
優れ、さらにより高分子量化が可能という点で好まし
い。As a specific example of the general formula (1), diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (fluorenyl)
Zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (2,7-di-t-butylfluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclopentadiene) Enyl) (2,7-di-t-butylfluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (2,7-dimethylfluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclopentadienyl) ( 2,7-dimethylfluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (2,7-diphenylfluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclo Ntajieniru) (2,7-diphenyl fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (a, i-dibenzo fluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclopentadienyl) (a, i-
Dibenzofluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (b, h-
Dibenzofluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclopentadienyl) (b,
h-dibenzofluorenyl) zirconium dichloride, di (4-tolyl) methylene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, di (4-biphenyl) methylene (cyclopentadienyl)
(Fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (2-dimethylaminofluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclopentadienyl) (2-dimethylaminofluorenyl) zirconium dichloride,
Diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (2-methoxyfluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (cyclopentadienyl) (2-methoxyfluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (3-methylcyclopentadienyl)
(Fluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (3-methylcyclopentadienyl)
(Fluorenyl) zirconium dichloride, diphenylmethylene (3,4-dimethylcyclopentadienyl)
(Fluorenyl) zirconium dichloride, methylphenylmethylene (3,4-dimethylcyclopentadienyl) (fluorenyl) zirconium dichloride, and compounds in which zirconium of the above compound is substituted with titanium or hafnium, but are not limited thereto. is not. Among them, a compound having a substituted fluorenyl group as a ligand and having hafnium as a central metal is preferable because it has excellent copolymerizability and can further increase the molecular weight.
【0018】b)上記遷移金属化合物をカチオン性遷移
金属化合物とし得る成分として、プロトン酸(2)、ル
イス酸(3)、イオン化イオン性化合物(4)、ルイス
酸性化合物(5)が挙げられる。B) Components which can convert the above transition metal compound into a cationic transition metal compound include protonic acid (2), Lewis acid (3), ionized ionic compound (4) and Lewis acidic compound (5).
【0019】プロトン酸は、下記一般式(2) [HL1 l][M1R5 4] (2) [式中、Hはプロトンであり、L1は各々独立してルイ
ス塩基であり、lは0<l≦2であり、M1はホウ素原
子、アルミニウム原子またはガリウム原子であり、R5
は各々独立して炭素数6〜20のハロゲン置換アリール
基である。]で表される化合物である。The protonic acid represented by the following formula (2) [HL 1 l] [M 1 R 5 4] (2) [ wherein, H is a proton, L 1 is a Lewis base each independently, l is 0 <l ≦ 2, M 1 is a boron atom, aluminum atom or gallium atom, R 5
Are each independently a halogen-substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. ] It is a compound represented by these.
【0020】ルイス酸は、下記一般式(3) [C][M1R5 4] (3) [式中、Cはカルボニウムカチオンまたはトロピリウム
カチオンであり、M1はホウ素原子、アルミニウム原子
またはガリウム原子であり、R5は各々独立して炭素数
6〜20のハロゲン置換アリール基である。]で表され
る化合物である。[0020] Lewis acid, [5 4 M 1 R] (3) [ wherein following general formula (3) [C], C is a carbonium cation or tropylium cation, M 1 is a boron atom, an aluminum atom Or a gallium atom, and each R 5 is independently a halogen-substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. ] It is a compound represented by these.
【0021】イオン化イオン性化合物は、下記一般式
(4) [M2L2 m][M1R5 4] (4) [式中、M2は周期表2族、8族、9族、10族、11
族または12族から選ばれる金属の陽イオンであり、L
2はルイス塩基またはシクロペンタジエニル基であり、
mは0≦m≦2であり、M1はホウ素原子、アルミニウ
ム原子またはガリウム原子であり、R5は各々独立して
炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基である。]で
表される化合物である。The ionizing ionic compound is represented by the following general formula (4) [M 2 L 2 m] [M 1 R 5 4] (4) [ wherein, M 2 of the Periodic Table Group 2, Group 8, Group 9, 10 groups, 11
A cation of a metal selected from the group consisting of
2 is a Lewis base or cyclopentadienyl group,
m is 0 ≦ m ≦ 2, M 1 is a boron atom, an aluminum atom or a gallium atom, and R 5 is each independently a halogen-substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. ] It is a compound represented by these.
【0022】ルイス酸性化合物は、下記一般式(5) [M1R5 3] (5) [式中、M1はホウ素原子、アルミニウム原子またはガ
リウム原子であり、R5は各々独立して炭素数6〜20
のハロゲン置換アリール基である。]で表される化合物
である。The Lewis acidic compound is represented by the following general formula (5) [M 1 R 5 3] (5) [ wherein, M 1 is a boron atom, aluminum atom or gallium atom, R 5 are each independently carbon Number 6-20
Is a halogen-substituted aryl group. ] It is a compound represented by these.
【0023】触媒の構成成分として用いられるプロトン
酸(2)、ルイス酸(3)、イオン化イオン性化合物
(4)、ルイス酸性化合物(5)は、上記の遷移金属化
合物と反応し、カチオン性遷移金属化合物を生成し得る
化合物であり、生成したカチオン性遷移金属化合物に対
して対アニオンを提供する化合物である。The protonic acid (2), Lewis acid (3), ionized ionic compound (4) and Lewis acidic compound (5) used as components of the catalyst react with the above-mentioned transition metal compound to form a cationic transition compound. A compound capable of forming a metal compound and providing a counter anion to the generated cationic transition metal compound.
【0024】一般式(2)で表されるプロトン酸の具体
例として、ジエチルオキソニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレート、ジメチルオキソニウムテト
ラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラメ
チレンオキソニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ−n−ブ
チルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、ジエチルオキソニウムテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)アルミネート、ジメチルオキソニ
ウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミネー
ト、テトラメチレンオキソニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)アルミネート、N,N−ジメチルアニ
リニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミ
ネート、トリ−n−ブチルアンモニウムテトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)アルミネート等を挙げることが
できるが、これらに限定されるものではない。Specific examples of the protonic acid represented by the general formula (2) include diethyloxonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dimethyloxonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetramethyleneoxonium tetrakis (pentafluorophenyl) ) Borate, N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri-n-butylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diethyloxonium tetrakis (pentafluorophenyl) aluminate, dimethyloxonium tetrakis (pentane) Fluorophenyl) aluminate, tetramethyleneoxoniumtetrakis (pentafluorophenyl) aluminate, N, N-dimethylaniliniumtetrakis Pentafluorophenyl) aluminate, but it can be exemplified tri -n- butylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) aluminate, but are not limited thereto.
【0025】一般式(3)で表されるルイス酸として
は、具体的にはトリチルテトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)ボレート、トリチルテトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)アルミネート、トロピリウムテトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トロピリウムテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミネート等を
挙げることができるが、これらに限定されるものではな
い。As the Lewis acid represented by the general formula (3), specifically, trityltetrakis (pentafluorophenyl) borate, trityltetrakis (pentafluorophenyl) aluminate, tropylium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, Examples include, but are not limited to, tropylium tetrakis (pentafluorophenyl) aluminate.
【0026】一般式(4)で表されるイオン化イオン性
化合物としては、具体的にはリチウムテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、リチウムテトラキス
(ペンタフルオロフェニル)アルミネート等のリチウム
塩、またはそのエーテル錯体、フェロセニウムテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フェロセニウ
ムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)アルミネート
等のフェロセニウム塩、シルバーテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレート、シルバーテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)アルミネート等の銀塩等を挙げる
ことができるが、これらに限定されるものではない。Specific examples of the ionized ionic compound represented by the general formula (4) include lithium salts such as lithium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and lithium tetrakis (pentafluorophenyl) aluminate, and ether complexes thereof. , Ferrocenium salts such as ferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and ferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) aluminate, and silver salts such as silver tetrakis (pentafluorophenyl) borate and silver tetrakis (pentafluorophenyl) aluminate And the like, but are not limited thereto.
【0027】一般式(5)で表されるルイス酸性化合物
の具体的な例として、トリス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボラン、トリス(2,3,5,6−テトラフルオロ
フェニル)ボラン、トリス(2,3,4,5−テトラフ
ェニルフェニル)ボラン、トリス(3,4,5−トリフ
ルオロフェニル)ボラン、フェニルビス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボラン、トリス(3,4,5−トリフルオ
ロフェニル)アルミニウム等が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。Specific examples of the Lewis acidic compound represented by the general formula (5) include tris (pentafluorophenyl) borane, tris (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) borane, tris (2 3,4,5-tetraphenylphenyl) borane, tris (3,4,5-trifluorophenyl) borane, phenylbis (pentafluorophenyl) borane, tris (3,4,5-trifluorophenyl) aluminum, etc. But are not limited to these.
【0028】c)有機金属化合物としては、周期表1
族、2族、3族、SnまたはZnを含む有機金属化合物
を挙げることができ、具体的には下記一般式(6) [M3R6 n] (6) [式中、M3は周期表1族、2族、3族、SnまたはZ
nの元素である。R6は各々独立して水素、炭素数1〜
24のアルキル基もしくはアルコキシ基、または炭素数
6〜24のアリール基、アリールオキシ基、アリールア
ルキル基、アリールアルコキシ基、アルキルアリール基
もしくはアルキルアリールオキシ基であり、少なくとも
1つのR6は水素原子、炭素数1〜24のアルキル基ま
たは炭素数6〜24のアリール基、アリールアルキル基
もしくはアルキルアリール基である。nはM3の酸化数
に等しい。]で表される有機金属化合物である。C) As the organometallic compound, Periodic Table 1
Group, Group 2, Group 3, Sn or Zn can be given an organometallic compound containing the following formula in particular (6) [M 3 R 6 n] (6) [ wherein, M 3 is the period Table 1 group, 2 group, 3 group, Sn or Z
n. R 6 is each independently hydrogen, carbon number 1 to
24 alkyl groups or alkoxy groups, or an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, an aryloxy group, an arylalkyl group, an arylalkoxy group, an alkylaryl group or an alkylaryloxy group, wherein at least one R 6 is a hydrogen atom, It is an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms or an aryl group, an arylalkyl group or an alkylaryl group having 6 to 24 carbon atoms. n is equal to the oxidation number of M 3. ] Is an organometallic compound represented by the formula:
【0029】前記一般式(6)で表される化合物として
は、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ−n−
プロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、
トリ−n−ブチルアルミニウム、トリアミルアルミニウ
ム、ジメチルアルミニウムエトキサイド、ジエチルアル
ミニウムエトキサイド、ジイソプロピルアルミニウムエ
トキサイド、ジ−n−プロピルアルミニウムエトキサイ
ド、ジイソブチルアルミニウムエトキサイド、ジ−n−
ブチルアルミニウムエトキサイド、ジメチルアルミニウ
ムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、
ジイソプロピルアルミニウムハイドライド、ジ−n−プ
ロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド、ジ−n−ブチルアルミニウムハイ
ドライド等を例示することができるが、これらに限定さ
れるものではない。The compound represented by the general formula (6) includes, for example, trimethylaluminum, triethylaluminum, triisopropylaluminum, tri-n-
Propyl aluminum, triisobutyl aluminum,
Tri-n-butylaluminum, triamylaluminum, dimethylaluminum ethoxide, diethylaluminum ethoxide, diisopropylaluminum ethoxide, di-n-propylaluminum ethoxide, diisobutylaluminum ethoxide, di-n-
Butyl aluminum ethoxide, dimethyl aluminum hydride, diethyl aluminum hydride,
Examples thereof include diisopropylaluminum hydride, di-n-propylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, and di-n-butylaluminum hydride, but are not limited thereto.
【0030】本発明において用いられる導電性フィラー
としては、導電性カーボンブラック、酸化チタン、酸化
ルテニウム、四三酸化鉄、酸化スズ、導電性ウィスカ
ー、アルカリ金属塩、炭素繊維、複酸化物などの1種ま
たは2種以上が用いられる。なかでも入手の容易さから
導電性カーボンブラックが好んで用いられる。導電性カ
ーボンブラックの種類および量は、目的とする電気抵抗
に応じて操作することが可能であるが、比表面積が50
0m2/g以上のカーボンブラックを用いることが好ま
しい。比表面積が500m2/g未満のカーボンブラッ
クでは半導電性の性質を損なう恐れがある。また、比表
面積は公知の低温窒素吸着法によって評価される。Examples of the conductive filler used in the present invention include conductive carbon black, titanium oxide, ruthenium oxide, triiron tetroxide, tin oxide, conductive whiskers, alkali metal salts, carbon fibers, and double oxides. Species or two or more species are used. Among them, conductive carbon black is preferably used because of its availability. The type and amount of the conductive carbon black can be controlled according to the intended electric resistance.
It is preferable to use carbon black of 0 m 2 / g or more. Carbon black having a specific surface area of less than 500 m 2 / g may impair the semiconductive property. The specific surface area is evaluated by a known low-temperature nitrogen adsorption method.
【0031】導電性フィラーの添加量は、エチレン/α
−オレフィン/非共役ジエン共重合体ゴム100重量部
に対して5重量部以上50重量部以下である。5重量部
未満であると本発明の半導電性ゴム組成物の電気抵抗値
が大きくなりすぎる恐れがあり、50重量部を越えると
電気抵抗の安定性が損なわれる恐れがある。The amount of the conductive filler is ethylene / α
5 parts by weight or more and 50 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the olefin / non-conjugated diene copolymer rubber. If the amount is less than 5 parts by weight, the electric resistance of the semiconductive rubber composition of the present invention may be too large, and if it exceeds 50 parts by weight, the stability of the electric resistance may be impaired.
【0032】また、本発明の半導電性ゴム組成物には電
気抵抗の安定を目的として、イオン系および非イオン系
の界面活性剤を添加することも可能である。In addition, ionic and nonionic surfactants can be added to the semiconductive rubber composition of the present invention for the purpose of stabilizing electric resistance.
【0033】また、本発明の半導電性ゴム組成物には、
補強性カーボンブラックを添加することも可能である。
補強性カーボンブラックとしては、1Ω・cm以上の比
抵抗を有するものを好適に利用できる。この補強性カー
ボンブラックとしては、例えばHAF、FEF、ISA
F、SAF、SRF、FT、EPC、MPCなどを用い
ることができる。Further, the semiconductive rubber composition of the present invention includes:
It is also possible to add reinforcing carbon black.
As the reinforcing carbon black, those having a specific resistance of 1 Ω · cm or more can be suitably used. Examples of the reinforcing carbon black include HAF, FEF, and ISA.
F, SAF, SRF, FT, EPC, MPC and the like can be used.
【0034】また、本発明の半導電性ゴムには硬度を調
整したり、電気抵抗値を安定化する目的で軟化材を添加
してもよい。この軟化材としては、パラフィン系軟化
剤、ナフテン系軟化剤、アロマ系軟化剤、アスファル
ト、ワセリン、オゾケライト、トール油、低重合度フェ
ノールホルムアルデヒド樹脂、低融点スチレン樹脂など
を用いることができる。Further, a softener may be added to the semiconductive rubber of the present invention for the purpose of adjusting the hardness or stabilizing the electric resistance value. Examples of the softener include paraffin softener, naphthene softener, aroma softener, asphalt, petrolatum, ozokerite, tall oil, low polymerization degree phenol formaldehyde resin, and low melting point styrene resin.
【0035】本発明の半導電性ゴムの架橋方法に限定は
なく、公知の加硫剤が用いられる。また、加硫剤ととも
に、加硫促進剤、共架橋剤、加硫遅延剤、分散剤、スコ
ーチ防止剤、ステアリン酸、亜鉛華などを併用すること
も可能である。さらに、本発明の半導電性ゴムの性能を
落とさない程度に、タルク、クレー、シリカ、粘着付与
剤、老化防止剤、熱安定剤、難燃剤、難燃助剤、紫外線
吸収剤、発泡剤、消泡剤、防錆剤、防黴剤等を必要に応
じて添加してもよい。The method for crosslinking the semiconductive rubber of the present invention is not limited, and a known vulcanizing agent is used. It is also possible to use a vulcanization accelerator, a co-crosslinking agent, a vulcanization retarder, a dispersant, an anti-scorch agent, stearic acid, zinc white and the like together with the vulcanizing agent. Furthermore, to the extent that the performance of the semiconductive rubber of the present invention is not deteriorated, talc, clay, silica, a tackifier, an antioxidant, a heat stabilizer, a flame retardant, a flame retardant auxiliary, an ultraviolet absorber, a foaming agent, An antifoaming agent, a rust inhibitor, a fungicide and the like may be added as necessary.
【0036】また、本発明の半導電性ゴムの性能を損な
わない程度に、他のゴムや樹脂を添加することも可能で
ある。添加できるゴムとしては、EPDM、ブチルゴ
ム、天然ゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、ブタ
ジエンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴ
ム、シリコーンゴム、ポリノルボルネンゴム、ポリヘキ
センゴムおよびクロロプレンゴムが挙げられる。また、
添加できる樹脂としては低密度ポリエチレン、高密度ポ
リエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリブテ
ン、ポリプロピレン、ポリ(4−メチル−1−ペンテ
ン)、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合
体、スチレン−エチレンブテン−スチレンブロック共重
合体、スチレン−エチレンプロピレン−スチレンブロッ
ク共重合体およびオレフィン系熱可塑性エラストマーが
挙げられる。It is also possible to add another rubber or resin to such an extent that the performance of the semiconductive rubber of the present invention is not impaired. Rubbers that can be added include EPDM, butyl rubber, natural rubber, acrylonitrile butadiene rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, styrene butadiene rubber, silicone rubber, polynorbornene rubber, polyhexene rubber, and chloroprene rubber. Also,
Examples of resins that can be added include low-density polyethylene, high-density polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polybutene, polypropylene, poly (4-methyl-1-pentene), styrene-isoprene-styrene block copolymer, and styrene-ethylene butene. -Styrene block copolymer, styrene-ethylene propylene-styrene block copolymer and olefin-based thermoplastic elastomer.
【0037】本発明の半導電性ゴム組成物の製造方法は
特に限定を受けず、公知の方法でエチレン/α−オレフ
ィン/非共役ジエン共重合体ゴムと導電性フィラーを、
必要に応じて加硫剤またはその他の副資材をブレンドし
た後、賦形および架橋することができる。The method for producing the semiconductive rubber composition of the present invention is not particularly limited, and an ethylene / α-olefin / non-conjugated diene copolymer rubber and a conductive filler are prepared by a known method.
If desired, the vulcanizing agent or other auxiliary materials can be blended and then shaped and crosslinked.
【0038】本発明の半導電性ゴム組成物は、ロール、
板などの任意の形状に賦形された後、必要に応じて研
磨、コーティングなどの表面加工、さらには、他の樹脂
およびゴムとの積層などを施され、帯電ロールなどの電
子写真装置部材に好んで用いられる。The semiconductive rubber composition of the present invention comprises a roll,
After shaping into an arbitrary shape such as a plate, it is subjected to surface processing such as polishing and coating as necessary, and further laminated with other resin and rubber, etc., and it is used for electrophotographic equipment members such as charging rolls Used favorably.
【0039】[0039]
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を説明する
が、これらは例示的なものであって、限定的なものでは
ない。実施例中の各種測定は下記の方法により行った。The present invention will now be described by way of examples, which are illustrative and not restrictive. Various measurements in the examples were performed by the following methods.
【0040】(エチレン/1−ヘキセン/5−エチリデ
ン−2−ノルボルネン共重合体ゴムの1−ヘキセン含量
の測定)o−ジクロロベンゼン/d6−ベンゼン(90
/10容量%)を溶媒に、100MHz,13C−NMR
スペクトル(日本電子(株)製 JNM GX400)
測定を行い、Macromolecules,15,1
402(1982)に従い算出した。(Measurement of 1-hexene content of ethylene / 1-hexene / 5-ethylidene-2-norbornene copolymer rubber) o-dichlorobenzene / d 6 -benzene (90
/ 10% by volume) as a solvent at 100 MHz, 13 C-NMR.
Spectrum (JNM GX400 manufactured by JEOL Ltd.)
The measurement was performed and Macromolecules, 15, 1
402 (1982).
【0041】(ムーニー粘度の測定)島津製作所製 ム
ーニー粘度計を用いて、生ゴムの100℃でのムーニー
粘度を測定した。ローターはL型、予熱時間は1分、ロ
ーターの作動時間は4分とした。(Measurement of Mooney Viscosity) The Mooney viscosity at 100 ° C. of the raw rubber was measured using a Mooney viscometer manufactured by Shimadzu Corporation. The rotor was L-shaped, the preheating time was 1 minute, and the operation time of the rotor was 4 minutes.
【0042】(分子量分布の測定)溶媒にo−ジクロロ
ベンゼンを用い、140℃におけるゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー(ミリポア(株)社製 150C
型GPC)を用いて、分子量分布(重量平均分子量/数
平均分子量)を求めた。(Measurement of molecular weight distribution) Gel permeation chromatography at 140 ° C. using o-dichlorobenzene as a solvent (150C manufactured by Millipore Co., Ltd.)
Molecular weight distribution (weight-average molecular weight / number-average molecular weight) was determined by using GPC).
【0043】(体積抵抗の測定)四端子電極型電気抵抗
測定装置(三菱化学製、ロレスタAP MCP−T40
0)を用いて、体積抵抗を測定した。(Measurement of Volume Resistance) Four-terminal electrode type electric resistance measuring device (Loresta AP MCP-T40 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
Using 0), the volume resistance was measured.
【0044】エチレン/1−ヘキセン/5−エチリデン
−2−ノルボルネン共重合体ゴムの合成例 5lのオートクレーブに、トルエン2200ml、5−
エチリデン−2−ノルボルネン 50ml、1−ヘキセ
ン 750mlを加え、撹拌させながら内温を80℃に
昇温した。さらに、全圧が8kg/cm2になるように
エチレンを導入した。次に、別の反応容器にトルエン1
0ml、公知の方法により合成したジフェニルメチレン
(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ハフニウム
ジクロライド 3マイクロモル、トリイソブチルアルミ
ニウム 3ミリモル、ジメチルアニリニウムペンタフル
オロフェニルボレート 3.6マイクロモルを加え、こ
の混合溶液を20分間撹拌した後、オートクレーブに導
入し、重合を開始した。この重合は、エチレンを連続的
に導入することで全圧を8kg/cm2に保ち、80℃
で10分間行った。Synthesis Example of Ethylene / 1-hexene / 5-ethylidene-2-norbornene copolymer rubber In a 5-liter autoclave, 2200 ml of toluene and 5-
50 ml of ethylidene-2-norbornene and 750 ml of 1-hexene were added, and the internal temperature was raised to 80 ° C. while stirring. Further, ethylene was introduced so that the total pressure became 8 kg / cm 2 . Next, toluene 1 was placed in another reaction vessel.
0 ml, 3 μmol of diphenylmethylene (cyclopentadienyl) (fluorenyl) hafnium dichloride, 3 mmol of triisobutylaluminum, 3.6 μmol of dimethylanilinium pentafluorophenylborate synthesized by a known method, and the mixed solution was added. After stirring for 20 minutes, the mixture was introduced into an autoclave and polymerization was started. In this polymerization, the total pressure was maintained at 8 kg / cm 2 by continuously introducing ethylene, and 80 ° C.
For 10 minutes.
【0045】重合終了後、多量のエタノールによりポリ
マーを洗浄し、80℃で12時間減圧乾燥を行った。そ
の結果、1−ヘキセン含量 45モル%、ヨウ素価15
のエチレン/1−ヘキセン/5−エチリデン−2−ノル
ボルネン共重合体ゴム 107gを得た。この共重合体
の100℃におけるムーニー粘度(ML1+4(100
℃))は65、分子量分布は1.8であった。After completion of the polymerization, the polymer was washed with a large amount of ethanol and dried at 80 ° C. under reduced pressure for 12 hours. As a result, the 1-hexene content was 45 mol% and the iodine value was 15
Of ethylene / 1-hexene / 5-ethylidene-2-norbornene copolymer rubber (107 g). The Mooney viscosity of this copolymer at 100 ° C. (ML 1 + 4 (100
C)) was 65 and the molecular weight distribution was 1.8.
【0046】実施例1 表面温度50℃の6インチロール混練機(関西ロール)
に、合成例で得たエチレン/1−ヘキセン/5−エチリ
デン−2−ノルボルネン共重合体ゴム 100重量部、
ステアリン酸1重量部を投入し、混練した。その後、導
電性カーボンブラック(Printer XE2、デグ
サ社製、比表面積950m2/g)10重量部、亜鉛華
5重量部、テトラメチルチウラムジスルフィド(TMT
D)1重量部、2−メルカプトベンゾチアゾール(MB
T)0.5重量部、硫黄1.5重量部をこの順で添加
し、ゴムコンパウンドを得た。Example 1 A 6-inch roll kneader having a surface temperature of 50 ° C. (Kansai roll)
In addition, 100 parts by weight of the ethylene / 1-hexene / 5-ethylidene-2-norbornene copolymer rubber obtained in the synthesis example,
One part by weight of stearic acid was charged and kneaded. Then, 10 parts by weight of conductive carbon black (Printer XE2, manufactured by Degussa, specific surface area: 950 m 2 / g), 5 parts by weight of zinc white, tetramethylthiuram disulfide (TMT)
D) 1 part by weight of 2-mercaptobenzothiazole (MB
T) 0.5 parts by weight and 1.5 parts by weight of sulfur were added in this order to obtain a rubber compound.
【0047】得られたゴムコンパウンドを50℃に設定
したラボプラストミル単軸押出機(東洋精機製作所社
製)にてロール形状に押出し加硫した。これを150℃
に設定した加硫管にて30分間放置し、二次加硫を行っ
た。得られたゴムロールの任意の12箇所について体積
抵抗を測定した。結果を表1に示す。The obtained rubber compound was extruded into a roll shape and cured by a Labo Plastomill single screw extruder (manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.) set at 50 ° C. 150 ℃
Was left in a vulcanization tube set for 30 minutes to perform secondary vulcanization. Volume resistance was measured at arbitrary 12 places of the obtained rubber roll. Table 1 shows the results.
【0048】比較例1 エチレン/1−ヘキセン/5−エチリデン−2−ノルボ
ルネン共重合体ゴムのかわりに、エチレン/プロピレン
/5−エチリデン−2−ノルボルネン共重合体ゴム(J
SREP24,ヨウ素価15、ML1+4(100℃)6
5)を用いた以外は実施例1と同様の方法でゴムロール
を得、試験を行った。結果を表1に示す。Comparative Example 1 Instead of the ethylene / 1-hexene / 5-ethylidene-2-norbornene copolymer rubber, an ethylene / propylene / 5-ethylidene-2-norbornene copolymer rubber (J
SREP24, iodine value 15, ML 1 + 4 (100 ° C) 6
A rubber roll was obtained and tested in the same manner as in Example 1, except that 5) was used. Table 1 shows the results.
【0049】比較例2 導電性カーボンブラックのかわりに、HAFカーボン
(三菱化学製、ダイヤブラックH、比表面積86m2/
g)を用いた以外は実施例1と同様の方法でゴムロール
を得、試験を行った。結果を表1に示す。Comparative Example 2 In place of conductive carbon black, HAF carbon (Diablack H, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, specific surface area: 86 m 2 /
A rubber roll was obtained and tested in the same manner as in Example 1 except that g) was used. Table 1 shows the results.
【0050】[0050]
【表1】 [Table 1]
【0051】[0051]
【発明の効果】以上述べたように、本発明の半導電性ゴ
ム組成物は安定した電気抵抗を示し、電子写真装置部材
に好んで用いることができる。As described above, the semiconductive rubber composition of the present invention exhibits a stable electric resistance and can be preferably used for a member of an electrophotographic apparatus.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 23/08 KEC C08L 23/08 KEC 47/00 LKC 47/00 LKC ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical indication location C08L 23/08 KEC C08L 23/08 KEC 47/00 LKC 47/00 LKC
Claims (2)
ン/α−オレフィン/非共役ジエン共重合体ゴム100
重量部と導電性フィラー5重量部以上50重量部以下か
らなる半導電性ゴム組成物。 (a)α−オレフィンの炭素数:4以上20以下 (b)α−オレフィンの含量:20モル%以上90モル
%以下 (c)100℃におけるムーニー粘度(ML1+4):3
0以上200未満 (d)ヨウ素価:3以上50以下 (e)ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで求め
た分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量):3以
下1. An ethylene / α-olefin / non-conjugated diene copolymer rubber 100 having the following characteristics (a) to (e):
A semiconductive rubber composition comprising parts by weight and 5 to 50 parts by weight of a conductive filler. (A) Number of carbon atoms of α-olefin: 4 or more and 20 or less (b) Content of α-olefin: 20 mol% or more and 90 mol% or less (c) Mooney viscosity (ML 1 + 4 ) at 100 ° C .: 3
0 to less than 200 (d) Iodine value: 3 to 50 (e) Molecular weight distribution (weight average molecular weight / number average molecular weight) determined by gel permeation chromatography: 3 or less
なる電子写真装置部材。2. An electrophotographic apparatus member comprising the semiconductive rubber composition according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19640696A JPH1036593A (en) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | Semiconductive rubber composition and member for electrophotographic apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19640696A JPH1036593A (en) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | Semiconductive rubber composition and member for electrophotographic apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1036593A true JPH1036593A (en) | 1998-02-10 |
Family
ID=16357338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19640696A Pending JPH1036593A (en) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | Semiconductive rubber composition and member for electrophotographic apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1036593A (en) |
-
1996
- 1996-07-25 JP JP19640696A patent/JPH1036593A/en active Pending
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