JPH10414A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 余剰塗布液の貯留部に貯留された塗布液を効
率よく排出することのできる塗布装置を提供することを
目的とする。 【解決手段】 この塗布装置は、基板１を支持して回転
する回転台２と、外周リング３を介して回転台２と連結
する上部回転板４と、回転台２の外側に配設された余剰
塗布液の貯留部５と、貯留部５より余剰塗布液を吸引し
て排出する吸引ノズル６と、回転台２に支持されて回転
する基板１の回転中心に塗布液を供給する塗布液供給ノ
ズル７とを備える。貯留部５は、上部回転板４の外周位
置より外側に配設され、その上部に円周状の開口部２３
が形成されており、この開口部２３から吸引ノズル６に
よって余剰塗布液を排出するように構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示パネル
用のガラス基板、半導体ウエハ、半導体素子製造用のマ
スク基板等の基板の表面に、フォトレジスト等の塗布液
を塗布する塗布装置および塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の塗布装置は、回転台により支持
された基板の表面における回転中心付近に塗布液を供給
した後、基板を回転台とともに回転させ、塗布液を遠心
力によって外方へ向け均一に拡げて基板表面全域に塗布
するように構成されている。そして、基板の上方に回転
台とともに回転する上部回転板を設けることにより、基
板表面に塗布される塗布液の膜圧が均一になるようにし
ている。

【０００３】このような塗布装置においては、基板の回
転に伴い、基板の表面に供給された塗布液のうち、余剰
な塗布液が基板の端縁から外側に飛散する。このため、
回転台の外周部には回収ケースが設けられており、基板
から飛散した余剰な塗布液（以下「余剰塗布液」とい
う）はこの回収ケースにより捕獲され、回収ケースの下
端部から流出して回収されるように構成されている。

【０００４】しかしながら、このような装置において、
塗布液として、例えば液晶表示パネルのカラーフィルタ
ー製造用のレジストを使用した場合、このレジストは粒
子が大きく溶媒に溶けにくく流動性が低いことから、回
収ケースの内側に付着したままとなりその回収が困難と
なる場合がある。塗布液が回収ケースの内側に付着した
まま乾燥固化すると、装置の振動等によりパーティクル
が発生し、基板に付着して歩留まりを低下させる等の問
題が発生する。

【０００５】一方、特開平７−１３６５７２号公報に
は、余剰塗布液を回収するため、上述した回転台や上部
回転板等から構成されるインナーカップの内周部に余剰
塗布液の貯留部を設けるとともに、この貯留部に貯留さ
れた余剰塗布液を吸引排出するノズルを移動可能に配置
した塗布装置が開示されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】特開平７−１３６５７
２号公報に記載された塗布装置においては、余剰塗布液
の回収部が、回転台や上部回転板等から構成されるイン
ナーカップの内周部に設けられている。従って、この回
収部は上部回転板の下方に位置することになり、基板へ
の塗布工程の終了後にノズルにより余剰塗布液を吸引排
出するためには、一旦上部回転板を開いて貯留部の上方
を開放した上で、ノズルを移動させて貯留部の上方から
貯留部内に進入させ、余剰塗布液の吸引排出動作を行う
必要がある。

【０００７】このため、余剰塗布液の吸引排出作業は上
部回転板が解放された状態でしか実行することはできな
い。すなわち、特開平７−１３６５７２号公報に記載さ
れた塗布装置においては、基板に対する塗布液の回転塗
布時のみならず、上部回転板の開放動作時および閉鎖動
作時においても、貯留部に貯留された余剰塗布液の吸引
排出動作を実行することはできないことになる。

【０００８】一方、近年の基板の大型化に伴い、余剰塗
布液の吸引排出に比較的長い時間が必要となる場合があ
る。また、上部回転板を高速で開閉すると塗布液等によ
るパーティクルが発生することから、上部回転板の開放
動作および閉鎖動作にも一定の時間が必要となる。この
ため、特開平７−１３６５７２号公報に記載された塗布
装置においては、上部回転板の開放動作時および閉鎖動
作時に貯留部に貯留された余剰塗布液の吸引排出動作を
実行することはできないことに起因して、余剰塗布液の
吸引排出動作を効率的に実行することが不可能となり、
これにより塗布装置全体の処理時間が長くなるという問
題が生じる。

【０００９】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたものであり、貯留部に貯留された余剰塗布液を効
率よく排出することのできる塗布装置を提供することを
目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板を支持して鉛直方向を向く回転軸を中心に回転
する回転台と、回転台に支持された基板の表面に塗布液
を供給する供給手段と、回転台に支持された基板と所定
間隔を隔てた上方位置に前記基板と平行に配設された上
部回転板と、回転台に支持されて回転する基板から飛散
する余剰塗布液を捕獲して貯留する貯留部と、貯留部に
貯留された余剰塗布液を吸引して排出する吸引ノズルと
を有する塗布装置において、貯留部は、回転軸に対して
上部回転板の外周位置より外側に配設され、その上部に
開口部が形成されており、当該開口部から吸引ノズルに
よって余剰塗布液を排出することを特徴とする。

【００１１】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、吸引ノズルは、回転軸に対して上部回
転板の外周位置より外側に複数個配設されている。

【００１２】請求項３に記載の発明は、請求項１または
２いずれかに記載の発明において、吸引ノズルを、当該
吸引ノズルにより余剰塗布液を吸引して排出する排出位
置と、排出位置より上方の退避位置との間で昇降させる
昇降手段をさらに備えている。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明の第１実施形態
に係る塗布装置の断面図であり、図２は塗布装置の一部
拡大断面図である。

【００１４】この塗布装置は、角形のガラス基板１の表
面にレジスト剤からなる塗布液を塗布するものであり、
基板１を支持して回転する回転台２と、外周リング３を
介して回転台２と接離する上部回転板４と、回転台２の
外側に配設された余剰塗布液の貯留部５と、貯留部５よ
り余剰塗布液を吸引して排出する吸引ノズル６と、回転
台２に支持されて回転する基板１の回転中心に塗布液を
供給する塗布液供給ノズル７と、回転台２を囲うように
配設された外装カバー１０とを備える。

【００１５】回転台２は、連結ボス１２を介して図示し
ないモータに連結された回転軸８を有し、鉛直方向を向
く回転軸８の軸芯を中心に回転する。この回転台２の上
面には、複数の支持ピン１３が立設されており、基板１
はこの支持ピン１３によりその下面を支持される。ま
た、支持ピン１３に支持された基板１の各角部に対応す
る位置には、複数の係合ピン１４が立設されており、基
板１はこの係合ピンと係合することにより固定される。
回転台２の上面には、支持ピン１３により支持された基
板１の裏面に洗浄液を供給することにより、塗布液が基
板１の裏面へ付着することを防止するための裏面洗浄用
ノズル１５が配設されている。この裏面洗浄用ノズル１
５は、連結管１６を介して、回転軸８の中空部内に配設
された洗浄液供給管１７に接続されている。

【００１６】上記回転台２は、平面視において略円形の
形状を成しており、その外周部には、略円形の形状を成
す余剰塗布液の貯留部５が配設されている。この貯留部
５は、遠心力により基板１の表面から飛散する余剰塗布
液を捕獲して貯留するためのものであり、図２に示すよ
うに、余剰塗布液を捕獲するための壁部２１と、余剰塗
布液の貯留用の凹部２２と、当該凹部２２の上方に設け
られた開口部２３とを有する。これらの壁部２１、凹部
２２および開口部２３は、回転軸８を中心とする円周状
に形成されている。

【００１７】上記貯留部５の上方には、外周リング３が
配設されている。この外周リング３は、回転台２や貯留
部５と同様、回転軸８を中心とした略円形の形状を有す
る。外周リング３は、回転軸８を中心とする円周上の十
数カ所において、それぞれスペーサを介して貯留部５に
ネジ止めされている。このため、外周リング３の下面
と、この下面に対向する貯留部５の表面との間には、隙
間２４が複数形成されている。また、外周リング３の内
側は、回転台２の半径方向の内側に向かって高くなる傾
斜面２５となっている。

【００１８】外周リング３の上方には、上部回転板４
が、回転台２に支持された基板１と所定間隔を隔てて平
行に設置されている。この上部回転板４は、図示しない
昇降機構により、図１において実線で示す下降位置と一
点鎖線で示す上昇位置との間を昇降可能に構成されてい
る。そして、上部回転板４は、下降位置においては外周
リング３と嵌合し、回転台２および外周リング３と一体
となって回転軸８を中心に回転する。また、図１におい
て一点鎖線で示すように、上部回転板４が上昇した状態
において、塗布液供給ノズル７は基板１に塗布液を供給
する。

【００１９】吸引ノズル６は、連結具２６を介してエア
シリンダ２７と連結されている。これにより、吸引ノズ
ル６は、図２において実線で示す排出位置と二点鎖線で
示す退避位置との間を昇降する。ここで、前記排出位置
は、吸引ノズル６の先端部が貯留部５における開口部２
３を通過して凹部２２の最下端部とわずかな距離だけ離
隔した状態で対向し、そこに貯留された余剰塗布液を吸
引して排出する位置である。また、前記退避位置は、吸
引ノズル６の先端部が貯留部５の上面より上方に移動し
た位置である。なお、吸引ノズル６は、例えば真空ポン
プ等の吸引ポンプ３２により負圧にされた排液タンク３
３に電磁弁３４を介して連結されている。

【００２０】外装カバー１０は、回転台２の側方および
下部を覆うように構成されている。そして、外装カバー
１０の下部には、図示しない排気装置に接続された排気
孔２８が設けられており、この排気孔２８を介して外装
カバー１０内のミストや塵埃が外部に排出される。

【００２１】次に、この塗布装置の動作について説明す
る。

【００２２】先ず、図１において一点鎖線で示すように
上部回転板４を上昇させ、図示しない搬送手段により搬
送した基板１を回転台２の支持ピン１３上に載置する。
続いて、塗布液供給ノズル７を、図１において一点鎖線
で示すように、その先端部が回転台２によって支持され
た基板１の中央に対向する位置まで移動させた後、適当
な高さまで下降させる。そして、この塗布液供給ノズル
７より基板１の表面中央部に塗布液を滴下する。塗布液
の滴下が終了すれば、塗布液供給ノズル７は、上部回転
板４の昇降に支障がない位置まで退避する。

【００２３】続いて、図１において実線で示すように、
上部回転板４をその下面が外周リング３の上面に当接す
る位置まで下降させる。そして、回転台２を上部回転板
４等とともに、例えば１０００ｒｐｍ程度の回転数で回
転させる。この回転によって、基板１の表面に供給され
た塗布液は、遠心力によって外方に向かって均一に拡が
り、基板１の表面全域に薄膜上の塗布液層が形成され
る。特にこの実施の形態においては、基板１を、回転台
２と外周リング３と上部回転板４とにより形成される半
密閉空間内において回転させることから、基板１の表面
に生ずる空気の流れ等により塗布液の膜圧が不均一とな
ることを防止することができる。なお、必要に応じ、こ
の塗布工程と並行して、裏面洗浄用ノズル１５から基板
１の裏面に洗浄液を供給することにより、塗布液の基板
１の裏面への付着を防止する。

【００２４】この塗布工程においては、基板１の表面に
供給された塗布液のうちの一部の余剰塗布液が、遠心力
により基板１の端縁等から飛散し、外周リング３に到達
する。そして、この余剰塗布液は、遠心力の作用により
外周リング３の傾斜面２５に沿って外側に移動し、外周
リング３の下面と貯留部５の表面との間に形成された隙
間２４を通過して貯留部５の壁部２１に捕獲され、凹部
２２に貯留される。

【００２５】この実施の形態においては、特に外周リン
グ３の内側に傾斜面２５が形成されていることから、余
剰塗布液は、遠心力の作用によりこの傾斜面に沿って隙
間２４方向に誘導される。このため、余剰塗布液を有効
に回収することが可能となる。なお、この状態において
は、吸引ノズル６は待機位置において待機している。こ
のため、吸引ノズル６に隙間２４を通過して飛散する塗
布液が付着することはない。

【００２６】また、この実施の形態においては、隙間２
４は、回転台２と、外周リング３と、上部回転板４とに
より形成される半密閉空間の内側と外側とを連通する連
通部として機能する。そして、この隙間２４の外側には
貯留部５の壁部２１が配置されており、かつ、この壁部
２１の上端は隙間２４より十分高い位置に配置されてい
る。このため、隙間２４を通過して外側に飛散しようと
する余剰塗布液は、貯留部５の壁部２１により確実に捕
獲され、貯留部５より外部に飛散することはない。な
お、貯留部５の壁部２１の上端は、少なくとも、連通部
として機能する隙間２４より上方にあればよい。また、
外周リング３の下面と貯留部５の表面との間に設けられ
た隙間２４の換わりに、外周リング３に複数の開口部を
設け、この開口部を連通部として機能させてもよい。

【００２７】基板１の表面に塗布液の薄膜が形成されて
塗布工程が完了すれば、モータの駆動を停止し、高速で
回転する回転台２を減速させる。そして、回転台２の回
転数が例えば２０ｒｐｍ程度となれば、回転速度をこの
状態のまま維持する。

【００２８】この状態において、吸引ノズル６を排出位
置まで下降させることにより、吸引ノズル６の先端部を
貯留部５における円周状の開口部２３を通過させて凹部
２２の最下端部とわずかな距離だけ離隔した位置に配置
する。そして、吸引ポンプ３２により負圧状態となって
いる排液タンク３３と吸引ノズル６との間に設けられた
電磁弁３４を開くことにより、凹部２２に貯留された余
剰塗布液を吸引して、排液タンク３３に回収する。

【００２９】この排出工程における回転台２の回転速度
が２０ｒｐｍであれば、回転台は３秒で１回転する。従
って、３秒以上排出動作を維持すれば、円周状の凹部２
２に貯留された全ての余剰塗布液を排出することができ
る。この回転台２の回転速度が速いほど、排出動作に要
する時間を短時間とすることができるが、回転速度を過
度に高速とした場合には、吸引ノズル６による余剰塗布
液の吸引動作に支障を来す。この回転速度は、基板１の
大きさや吸引ノズル６の吸引力および余剰塗布液の粘度
等によって左右されるが、５ｒｐｍ〜６０ｒｐｍ程度と
することが好ましい。

【００３０】なお、この実施の形態に係る塗布装置にお
いては、貯留部５が上部回転板４の外周位置より外側に
配設されているため、吸引ノズル６を上下移動させるの
みで、上記吸引動作を行うことができる。従って、従来
のように吸引ノズル６を上部回転板４の下方位置まで移
動させる移動機構を省略することが可能となり、装置を
簡易化することができる。

【００３１】吸引ノズル６により貯留部５に貯留された
余剰塗布液の排出作業が終了すれば、回転台２の回転を
停止する。そして、上部回転板４を上昇させた後、図示
しない搬送手段により、処理済の基板１を回転台２から
搬出すると共に、次に処理を行う基板１を回転台２に搬
入する。

【００３２】なお、上述した実施の形態においては、基
板１を回転台２とともに回転させながら吸引ノズル６に
より余剰塗布液を吸引する構成であることから、吸引ノ
ズル６の先端部が凹部２２と摺動することによるパーテ
ィクルの発生を防止するため、吸引ノズル６の先端部を
凹部２２の最下端部からわずかな距離だけ離隔させた状
態で余剰塗布液を吸引している。しかしながら、基板１
を回転させることなく、貯留部５に貯留された余剰塗布
液を一箇所から吸引ノズル６により吸引して排出する構
成とした場合においては、吸引ノズル６の先端部を凹部
２２の最下端部と当接させた状態で余剰塗布液を吸引し
てもよい。

【００３３】このとき、余剰塗布液の吸引のための開口
部を形成する吸引ノズル６の円形の先端部を含む平面と
凹部２２の最下端部表面とが平行となり、吸引ノズル６
の円形の先端部がその全面で凹部２２の最下端部表面と
当接した場合には、吸引ノズル６により凹部２２に貯留
された余剰塗布液を有効に吸引できなくなる。このた
め、吸引ノズル６の先端部を、当該先端部が斜めに切断
された形状とすることにより、吸引ノズル６の先端部を
含む平面と凹部２２の最下端部表面とが平行とはならな
い構成とし、吸引ノズル６の先端部と凹部２２の表面と
の間に、常に余剰塗布液が通過するための隙間が形成さ
れるようにすることが好ましい。

【００３４】上記の実施形態においては、塗布液の塗布
工程が終了した後、基板１の回転を停止させることなく
余剰塗布液の排出工程を実行する場合について述べた
が、基板１の回転を一旦停止させた後に再度基板１を低
速で回転させて余剰塗布液を排出するようにしてもよ
い。すなわち、角形の基板１に対して塗布を行った後に
は、基板１の回転角度位置を制御するため、基板１の回
転を一旦停止させた後、一定の角度だけ回転させて基板
１を一定の方向に向けているが、この基板１の回転角度
位置の制御時に基板１を一回転以上回転させて余剰塗布
液の排出を行ってもよい。

【００３５】また、上記の実施形態においては、単一の
吸引ノズル６を使用して余剰塗布液を排出する場合につ
いて説明したが、吸引ノズル６を互いに１８０度離隔し
た位置に２本配設することにより、排出効率を２倍と
し、余剰塗布液の排出に要する時間短くするようにして
もよい。なお、この場合においては、回転台２を少なく
とも１８０度回転させることにより、貯留部５の全域か
ら余剰塗布液を効率よく排出することができる。

【００３６】次に、この発明の他の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図３および図４はこの発明の第２実
施形態に係る塗布装置の断面図であり、図５は塗布装置
の一部拡大断面図、また、図６は塗布装置の平面概要図
である。なお、図１および図２に示す塗布装置と同様の
部材については同一の符号を付している。

【００３７】この塗布装置は、図１および図２に示す塗
布装置と同様、角形のガラス基板１の表面に塗布液を塗
布するものであり、基板１を支持して回転する回転台２
と、外周リング３を介して回転台２と接離する上部回転
板４と、回転台２の外側に配設された余剰塗布液の貯留
部５と、貯留部５より余剰塗布液を吸引して排出する複
数の吸引ノズル６と、回転台２に支持された基板１の表
面にスリット状の吐出口３８から塗布液を供給する塗布
液供給ノズル３７（図４参照）と、回転台２を囲うよう
に配設された外装カバー１０とを備える。

【００３８】回転台２は、連結ボス１２を介して図示し
ないモータに連結された回転軸８を有し、鉛直方向を向
く回転軸８の軸芯を中心に回転する。また、この回転軸
８の内部には、回転軸８と同期して回転すると共に、図
示しない昇降駆動手段の駆動により昇降動作を行う昇降
軸３９が挿設されており、この昇降軸３９の上端部には
真空チャック４２が配設されている。基板１は、回転台
２の真空チャック４２によりその下面を吸着支持され、
図３に示す下降位置と図４に示す上昇位置の間を昇降さ
れる。

【００３９】回転台２は、平面視において略円形の形状
を成しており、その外周部には、図６に示すように、略
円形の形状を成す余剰塗布液の貯留部５が配設されてい
る。この貯留部５は、遠心力により基板１の表面から飛
散する余剰塗布液を捕獲して貯留するためのものであ
り、図５に示すように、余剰塗布液を捕獲するための壁
部２１と、余剰塗布液の貯留用の凹部２２と、当該凹部
２２の上方に設けられた開口部２３とを有する。これら
の壁部２１、凹部２２および開口部２３は、回転軸８を
中心とする円周状に形成されている。

【００４０】上記貯留部５の上方には、外周リング３が
配設されている。この外周リング３は、回転台２や貯留
部５と同様、回転軸８を中心とした略円形の形状を有す
る。外周リング３は、回転軸８を中心とする円周上の十
数カ所において、それぞれスペーサを介して貯留部５に
ネジ止めされている。このため、外周リング３の下面
と、この下面に対向する貯留部５の表面との間には、隙
間２４が複数形成されている。また、外周リング３の内
側は、回転台２の半径方向の内側に向かって高くなる傾
斜面２５となっている。

【００４１】外周リング３の上方には、上部回転板４
が、回転台２に支持された基板１と所定間隔を隔てて平
行に設置されている。この上部回転板４は、図示しない
昇降機構により、図３に示す下降位置と図４に示す上昇
位置との間を昇降可能に構成されている。そして、上部
回転板４は、下降位置においては外周リング３と嵌合
し、回転台２および外周リング３と一体となって回転軸
８を中心に回転する。

【００４２】吸引ノズル６は、図６に示すように、貯留
部５の外周に沿って等間隔に４個配設されている。そし
て、各吸引ノズル６は、図１および図２に示す実施形態
の場合と同様、それぞれ連結具２６を介してエアシリン
ダ２７と連結されている。これにより、各吸引ノズル６
は、図５において実線で示す排出位置と二点鎖線で示す
退避位置との間を昇降する。ここで、前記排出位置は、
吸引ノズル６の先端部が貯留部５における開口部２３を
通過して凹部２２の最下端部とわずかな距離だけ離隔し
た状態で対向し、そこに貯留された余剰塗布液を吸引し
て排出する位置である。また、前記退避位置は、吸引ノ
ズル６の先端部が貯留部５の上面より上方に移動した位
置である。なお、各吸引ノズル６は、例えば真空ポンプ
等の吸引ポンプ３２により負圧にされた排液タンク３３
に電磁弁３４を介してそれぞれ連結されている。

【００４３】塗布液供給ノズル３７は、例えば特開平７
−２８４７１５号公報に記載されたように、スリット状
の吐出口３８から基板１の表面に塗布液を塗布するもの
である。すなわち、この塗布液供給ノズル３７は、図４
に示すように、上昇位置にある基板１の表面に対向する
ように配置された吐出口３８を備える。この吐出口３８
は、図４における紙面に垂直な方向に延びるスリット形
状を有する。また、この塗布液供給ノズル３７は、図示
しない移動手段に連結されており、図４に示す左右方向
に往復移動するよう構成されている。

【００４４】この塗布液供給ノズル３７により基板１の
表面に塗布液を供給する際には、移動手段により塗布液
供給ノズル３７を移動させながら吐出口３８から基板１
の表面に塗布液を吐出することにより、基板１の表面の
所定範囲に塗布液を効率的に供給することができる。

【００４５】外装カバー１０は、回転台２の側方および
下部を覆うように構成されている。そして、外装カバー
１０の下部には、図示しない排気装置に接続された排気
孔２８が設けられており、この排気孔２８を介して外装
カバー１０内のミストや塵埃が外部に排出される。

【００４６】次に、この塗布装置の動作について説明す
る。

【００４７】先ず、図４に示すように上部回転板４を上
昇させる。そして、回転台２の真空チャック４２を上昇
位置に移動させた後、図示しない基板搬送手段により搬
送した基板１を真空チャック４２により吸着支持させ
る。

【００４８】続いて、塗布液供給ノズル３７を、図４に
おいて一点鎖線で示す位置から側方に平行移動させると
共に、吐出口３８から塗布液を吐出する。これにより、
基板１の表面の所定範囲に塗布液が供給される。塗布液
の供給が終了すれば、塗布液供給ノズル３７は、上部回
転板４の昇降に支障がない位置まで退避する。

【００４９】続いて、図３に示すように、真空チャック
４２を基板１と共に下降位置まで下降させる。また、上
部回転板４をその下面が外周リング３の上面に当接する
位置まで下降させる。そして、回転台２および真空チャ
ック４２を上部回転板４等とともに、例えば１０００ｒ
ｐｍ程度の回転数で回転させる。この回転によって、基
板１の表面に供給された塗布液は、遠心力によって外方
に向かって均一に拡がり、基板１の表面全域に薄膜上の
塗布液層が形成される。特にこの実施の形態において
は、基板１を、回転台２と外周リング３と上部回転板４
とにより形成される半密閉空間内において回転させるこ
とから、基板１の表面に生ずる空気の流れ等により塗布
液の膜圧が不均一となることを防止することができる。

【００５０】この塗布工程においては、基板１の表面に
供給された塗布液のうちの一部の余剰塗布液が、遠心力
により基板１の端縁等から飛散し、外周リング３に到達
する。そして、この余剰塗布液は、遠心力の作用により
外周リング３の傾斜面２５に沿って外側に移動し、外周
リング３の下面と貯留部５の表面との間に形成された隙
間２４を通過して貯留部５の壁部２１に捕獲され、凹部
２２に貯留される。

【００５１】この実施の形態においては、特に外周リン
グ３の内側に傾斜面２５が形成されていることから、余
剰塗布液は、遠心力の作用によりこの傾斜面に沿って隙
間２４方向に誘導される。このため、余剰塗布液を有効
に回収することが可能となる。なお、この状態において
は、４個の吸引ノズル６は待機位置において待機してい
る。このため、吸引ノズル６に隙間２４を通過して飛散
する塗布液が付着することはない。

【００５２】また、この実施の形態においては、隙間２
４は、回転台２と、外周リング３と、上部回転板４とに
より形成される半密閉空間の内側と外側とを連通する連
通部として機能する。そして、この隙間２４の外側には
貯留部５の壁部２１が配置されており、かつ、この壁部
２１の上端は隙間２４より十分高い位置に配置されてい
る。このため、隙間２４を通過して外側に飛散しようと
する余剰塗布液は、貯留部５の壁部２１により確実に捕
獲され、貯留部５より外部に飛散することはない。な
お、貯留部５の壁部２１の上端は、少なくとも、連通部
として機能する隙間２４より上方にあればよい。また、
外周リング３の下面と貯留部５の表面との間に設けられ
た隙間２４の換わりに、外周リング３に複数の開口部を
設け、この開口部を連通部として機能させてもよい。

【００５３】基板１の表面に塗布液の薄膜が形成されて
塗布工程が完了すれば、回転台２の回転を停止させる。
そして、４個の吸引ノズル６を排出位置まで下降させる
ことにより、各吸引ノズル６の先端部を貯留部５におけ
る円周状の開口部２３を通過させて凹部２２の最下端部
とわずかな距離だけ離隔した位置に配置する。そして、
吸引ポンプ３２により負圧状態となっている排液タンク
３３と吸引ノズル６との間に設けられた電磁弁３４を開
くことにより、凹部２２に貯留された余剰塗布液を吸引
して、排液タンク３３に回収する。

【００５４】このとき、円周状の凹部２２に貯留された
余剰塗布液を等間隔に配置された４個の吸引ノズル６に
より吸引除去することから、回転台２の回転を停止した
状態においても、凹部２２全域に貯留された余剰塗布液
を効率的に吸引除去することができる。

【００５５】吸引ノズル６による余剰塗布液の吸引除去
動作と並行して、上部回転板４を上昇させる。そして、
図示しない搬送手段により、処理済の基板１を回転台２
から搬出すると共に、次に処理を行う基板１を回転台２
に搬入する。

【００５６】なお、この実施の形態においては、回転台
２の回転を停止させた状態で、吸引ノズル６により凹部
２２に貯留された余剰塗布液を吸引する構成であること
から、吸引ノズル６の先端部を凹部２２の最下端部と当
接させた状態で余剰塗布液を吸引してもよい。この場合
においては、上述した第１実施形態の場合と同様、吸引
ノズル６の先端部を、当該先端部が斜めに切断された形
状とすることにより、吸引ノズル６の先端部を含む平面
と凹部２２の最下端部表面とが平行とはならない構成と
し、吸引ノズル６の先端部と凹部２２の表面との間に、
常に余剰塗布液が通過するための隙間が形成されるよう
にすることが好ましい。

【００５７】この実施の形態に係る塗布装置において
は、吸引ノズル６による余剰塗布液の吸引除去動作と上
部回転板４の開閉動作を含む基板１の搬出搬入動作とを
並行して実行することが可能となる。このため、余剰塗
布液の排出を含む全体の処理時間を短縮することが可能
となる。

【００５８】また、この実施の形態に係る塗布装置にお
いては、貯留部５が上部回転板４の外周位置より外側に
配設されているため、吸引ノズル６を上下移動させるの
みで、上記吸引動作を行うことができる。従って、従来
のように吸引ノズル６を上部回転板４の下方位置まで移
動させる移動機構を省略することが可能となり、装置を
簡易化することができる。

【００５９】次に、この発明のさらに他の実施の形態を
図面に基づいて説明する。図７はこの発明の第３実施形
態に係る塗布装置の平面概要図である。なお、図１乃至
図６に示す塗布装置と同様の部材については同一の符号
を付している。

【００６０】上述した第２実施形態においては、回転軸
８を中心とする円周状の貯留部５に設けられた円周状の
凹部２２に余剰塗布液を貯留する構成としているが、こ
の第３実施例に係る塗布装置においては、４個の吸引ノ
ズル６と対応する位置に設けられた４個の凹部４５に余
剰塗布液を貯留するよう構成されている。

【００６１】この凹部４５は、回転台２における真空チ
ャック４２に吸着支持された基板１の角部と対向する位
置（すなわち基板１における対角線の略延長線上）にの
み設けられている。そして、この４個の凹部４５と対応
する位置に、吸引ノズル６がそれぞれ配設されている。
また、上述した第１、第２実施形態においては、外周リ
ング３の下面と貯留部５の表面との間に隙間２４を設
け、これを連通部として機能させていたが、この第３実
施形態においては、この隙間２４に換えて外周リング３
における凹部４５に対向する位置に４個の連通孔４６を
穿設し、この連通孔４６を連通部として機能させてい
る。

【００６２】この第３実施形態においては、塗布工程に
おいて遠心力により基板１の端縁等から飛散した余剰塗
布液は、遠心力の作用により外周リング３の傾斜面２５
に沿って外側に移動し、外周リング３に穿設された４個
の連通孔４６を通過して貯留部５の壁部２１に捕獲さ
れ、４個の凹部４５に貯留される。

【００６３】この第３実施例に係る塗布装置において
は、基板１の端縁等から外周リング３の全域に飛散した
余剰塗布液が４個の吸引ノズル６と対応する位置に設け
られた４個の凹部４５に貯留されることから、吸引ノズ
ル６による余剰塗布液の吸引排出動作をより効率的に行
うことが可能となる。

【００６４】また、特にこの実施の形態においては、余
剰塗布液の基板１からの最終的な離間位置となりやすい
ことから余剰塗布液の飛散量が最も多くなる基板１の角
部と対向する位置に、連通孔４６および凹部４５を配置
していることから、凹部４５への余剰塗布液の貯留動作
をより有効に行うことが可能となる。

【００６５】上記第１、第２実施形態において、吸引ノ
ズル６の先端部を凹部２２の最下端部に当接させず、吸
引ノズル６の先端部と凹部２２の最下端部とを離隔した
状態で余剰塗布液を吸引する構成とした場合において
は、吸引ノズル６の上下機構を省略して常に吸引位置に
固定ようにしてもよい。

【００６６】また、上記第１、第２、第３実施形態にお
いては、いずれも、吸引ノズル６によって貯留部５から
排出した余剰塗布液を、排液タンク３３に排出する場合
について述べたが、塗布液として高価なものを使用する
場合等においては、吸引ノズル６により回収した余剰塗
布液を再使用するようにしてもよい。なお、その際は、
図１における洗浄液供給管１７からの基板１の裏面側に
対する洗浄液の供給は行わない。

【００６７】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、貯留部
が回転軸に対して上部回転板の外周位置より外側に配設
され、この貯留部の上部に形成された開口部から吸引ノ
ズルによって余剰塗布液を排出することから、上部回転
板の状態の如何にかかわらず、余剰塗布液を必要なとき
にすぐに排出することが可能となる。従って、余剰塗布
液の排出を含む全体の処理時間を短縮することが可能と
なる。

【００６８】請求項２に記載の発明によれば、吸引ノズ
ルが回転軸に対し上部回転板の外周位置より外側に複数
個配設されていることから、余剰塗布液をより効率的に
排出することが可能となる。

【００６９】請求項３に記載の発明によれば、吸引ノズ
ルが排出位置と退避位置との間で昇降するため、塗布工
程において吸引ノズルを退避位置に退避させておくこと
により、基板より飛散する余剰塗布液が吸引ノズルに付
着することを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１実施形態に係る塗布装置の断面
図である。

【図２】この発明の第１実施形態に係る塗布装置の一部
拡大断面図である。

【図３】この発明の第２実施形態に係る塗布装置の断面
図である。

【図４】この発明の第２実施形態に係る塗布装置の断面
図である。

【図５】この発明の第２実施形態に係る塗布装置の一部
拡大断面図である。

【図６】この発明の第２実施形態に係る塗布装置の平面
概要図である。

【図７】この発明の第３実施形態に係る塗布装置の平面
概要図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 回転台 ３ 外周リング ４ 上部回転板 ５ 貯留部 ６ 吸引ノズル ７ 塗布液供給ノズル ８ 回転軸 １３ 支持ピン １４ 係合ピン ２１ 壁部 ２２ 凹部 ２３ 開口部 ２４ 隙間 ２５ 傾斜面 ２６ 連結具 ２７ エアシリンダ ３３ 廃液タンク ３２ 吸引ポンプ ３７ 塗布液供給ノズル ３８ 吐出口 ３９ 昇降軸 ４２ 真空チャック ４５ 凹部 ４６ 連通孔

フロントページの続き (72)発明者 木瀬 一夫 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を支持して鉛直方向を向く回転軸を
   中心に回転する回転台と、前記回転台に支持された基板
   の表面に塗布液を供給する供給手段と、前記回転台に支
   持された基板と所定間隔を隔てた上方位置に前記基板と
   平行に配設された上部回転板と、前記回転台に支持され
   て回転する基板から飛散する余剰塗布液を捕獲して貯留
   する貯留部と、前記貯留部に貯留された余剰塗布液を吸
   引して排出する吸引ノズルとを有する塗布装置におい
   て、 前記貯留部は、前記回転軸に対して前記上部回転板の外
   周位置より外側に配設され、その上部に開口部が形成さ
   れており、当該開口部から前記吸引ノズルによって余剰
   塗布液を排出することを特徴とする塗布装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の塗布装置において、 前記吸引ノズルは、前記回転軸に対して前記上部回転板
   の外周位置より外側に複数個配設される塗布装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２いずれかに記載の塗布
   装置において、 前記吸引ノズルを、当該吸引ノズルにより余剰塗布液を
   吸引して排出する排出位置と、前記排出位置より上方の
   退避位置との間で昇降させる昇降手段をさらに備えた塗
   布装置。