JPH10461A - 排水処理方法 - Google Patents
排水処理方法Info
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- JPH10461A JPH10461A JP15105396A JP15105396A JPH10461A JP H10461 A JPH10461 A JP H10461A JP 15105396 A JP15105396 A JP 15105396A JP 15105396 A JP15105396 A JP 15105396A JP H10461 A JPH10461 A JP H10461A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＣＯＤ含有排水をＵＶ酸化処理してＣＯＤ成
分を分解除去するに当り、脱炭酸処理のための酸注入量
を減少させることができると共に、系内のバクテリアの
繁殖を防止できる排水処理方法を提供する。 【解決手段】 ＣＯＤ含有排水に過酸化水素を添加しＵ
Ｖ酸化した後、脱炭酸処理し、その後活性炭処理する。 【効果】 ＵＶ酸化後の比較的ｐＨの低い水を脱炭酸処
理するため、脱炭酸のためのｐＨ調整に必要な酸の注入
量を低減することができる。脱炭酸塔には過酸化水素が
残留する水が流入するため、脱炭酸塔内はこの過酸化水
素により殺菌状態に保たれ、バクテリアの繁殖が防止さ
れる。
分を分解除去するに当り、脱炭酸処理のための酸注入量
を減少させることができると共に、系内のバクテリアの
繁殖を防止できる排水処理方法を提供する。 【解決手段】 ＣＯＤ含有排水に過酸化水素を添加しＵ
Ｖ酸化した後、脱炭酸処理し、その後活性炭処理する。 【効果】 ＵＶ酸化後の比較的ｐＨの低い水を脱炭酸処
理するため、脱炭酸のためのｐＨ調整に必要な酸の注入
量を低減することができる。脱炭酸塔には過酸化水素が
残留する水が流入するため、脱炭酸塔内はこの過酸化水
素により殺菌状態に保たれ、バクテリアの繁殖が防止さ
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は排水処理方法に係
り、特に、半導体製造工程からの排水や燃料電池排水の
回収・再利用に好適な排水処理方法に関する。さらに詳
しくは、ＣＯＤ含有排水を紫外線（ＵＶ）酸化処理して
ＣＯＤ成分を分解除去する方法に関する。
り、特に、半導体製造工程からの排水や燃料電池排水の
回収・再利用に好適な排水処理方法に関する。さらに詳
しくは、ＣＯＤ含有排水を紫外線（ＵＶ）酸化処理して
ＣＯＤ成分を分解除去する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程から排出される有機物含
有排水や燃料電池から排出されるメタノール等を含有す
る排水（燃料極凝縮水）等のＣＯＤ含有排水に過酸化水
素を添加した後ＵＶ酸化槽でＵＶ照射してＣＯＤ成分を
炭酸ガスと水とに分解し、次いで活性炭塔に通水してこ
のＵＶ酸化処理水中に残留する過剰分の過酸化水素を分
解除去する排水処理方法（図２）が公知である。
有排水や燃料電池から排出されるメタノール等を含有す
る排水（燃料極凝縮水）等のＣＯＤ含有排水に過酸化水
素を添加した後ＵＶ酸化槽でＵＶ照射してＣＯＤ成分を
炭酸ガスと水とに分解し、次いで活性炭塔に通水してこ
のＵＶ酸化処理水中に残留する過剰分の過酸化水素を分
解除去する排水処理方法（図２）が公知である。
【０００３】半導体製造工程からの排水処理において
は、このようにして得られる処理水は、通常の場合、回
収水として１次純水装置を経て更に２次純水製造装置で
処理され、超純水が製造される。
は、このようにして得られる処理水は、通常の場合、回
収水として１次純水装置を経て更に２次純水製造装置で
処理され、超純水が製造される。
【０００４】なお、ＵＶ酸化処理水のｐＨは、溶存して
いる全炭酸（ＵＶ酸化で生成した炭酸ガス及び炭酸ガス
から生成した炭酸水素イオン、炭酸イオン）のために
５．５程度となっている。そして、活性炭塔出口におい
ては、イオンバランスの変化でｐＨは６．７程度に上昇
する。
いる全炭酸（ＵＶ酸化で生成した炭酸ガス及び炭酸ガス
から生成した炭酸水素イオン、炭酸イオン）のために
５．５程度となっている。そして、活性炭塔出口におい
ては、イオンバランスの変化でｐＨは６．７程度に上昇
する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の処理方法で
は、ＵＶ酸化により生成した炭酸ガス及び炭酸ガスから
生成した炭酸水素イオンや炭酸イオンがそのまま回収水
処理水槽に流入し、これらは、後段の１次純水装置のイ
オン交換装置のイオン負荷になるという問題があった。
は、ＵＶ酸化により生成した炭酸ガス及び炭酸ガスから
生成した炭酸水素イオンや炭酸イオンがそのまま回収水
処理水槽に流入し、これらは、後段の１次純水装置のイ
オン交換装置のイオン負荷になるという問題があった。
【０００６】なお、ＵＶ酸化槽内部では、液の混合のた
めに曝気が行われることもあり、この曝気で炭酸ガスの
一部が大気へ放出されるが、炭酸成分の大部分は除去さ
れることなく１次純水槽に流入する。
めに曝気が行われることもあり、この曝気で炭酸ガスの
一部が大気へ放出されるが、炭酸成分の大部分は除去さ
れることなく１次純水槽に流入する。
【０００７】１次純水製造装置のイオン交換装置の負荷
を軽減するために、活性炭塔の後段に脱炭酸塔を設けて
全炭酸分を低減することも考えられるが、この場合に
は、次のような問題が生じる。
を軽減するために、活性炭塔の後段に脱炭酸塔を設けて
全炭酸分を低減することも考えられるが、この場合に
は、次のような問題が生じる。
【０００８】即ち、前述の如く、ＵＶ酸化処理水のｐＨ
は比較的低いにもかかわらず、１次純水槽に流入する活
性炭塔の流出水のｐＨは中性付近に上昇しているため、
脱炭酸処理のためには酸を添加してｐＨを再び低下させ
る必要がある。従って、この酸の添加のためにイオン負
荷が増大するという問題が生じる。
は比較的低いにもかかわらず、１次純水槽に流入する活
性炭塔の流出水のｐＨは中性付近に上昇しているため、
脱炭酸処理のためには酸を添加してｐＨを再び低下させ
る必要がある。従って、この酸の添加のためにイオン負
荷が増大するという問題が生じる。
【０００９】また、脱炭酸塔内が殺菌されていないため
に、バクテリアが繁殖し易いという問題もあった。特
に、脱炭酸塔内は、ファンで多量の空気が導入されるた
め、バクテリアが繁殖し易い。
に、バクテリアが繁殖し易いという問題もあった。特
に、脱炭酸塔内は、ファンで多量の空気が導入されるた
め、バクテリアが繁殖し易い。
【００１０】本発明は上記従来の問題点を解決し、ＣＯ
Ｄ含有排水をＵＶ酸化処理してＣＯＤ成分を分解除去す
るに当り、脱炭酸処理のための酸注入量を減少させるこ
とができると共に、系内のバクテリアの繁殖を防止でき
る排水処理方法を提供することを目的とする。
Ｄ含有排水をＵＶ酸化処理してＣＯＤ成分を分解除去す
るに当り、脱炭酸処理のための酸注入量を減少させるこ
とができると共に、系内のバクテリアの繁殖を防止でき
る排水処理方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の排水処理方法
は、ＣＯＤ含有排水に過酸化水素を添加した後、紫外線
照射による酸化処理を行い、次いで脱炭酸処理し、さら
に活性炭処理することを特徴とする。
は、ＣＯＤ含有排水に過酸化水素を添加した後、紫外線
照射による酸化処理を行い、次いで脱炭酸処理し、さら
に活性炭処理することを特徴とする。
【００１２】本発明においては、ＵＶ酸化処理水を、活
性炭処理する前に脱炭酸処理する。このようにＵＶ酸化
後の比較的ｐＨの低い水を脱炭酸処理するため、脱炭酸
のためのｐＨ調整に必要な酸の注入量を減少させること
ができる。
性炭処理する前に脱炭酸処理する。このようにＵＶ酸化
後の比較的ｐＨの低い水を脱炭酸処理するため、脱炭酸
のためのｐＨ調整に必要な酸の注入量を減少させること
ができる。
【００１３】また、この脱炭酸塔に流入するＵＶ酸化処
理水には過酸化水素が残留しているため、脱炭酸塔内は
この過酸化水素により殺菌状態に保たれ、バクテリアの
繁殖が防止される。
理水には過酸化水素が残留しているため、脱炭酸塔内は
この過酸化水素により殺菌状態に保たれ、バクテリアの
繁殖が防止される。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１は本発明の排水処理方法を示
す系統図である。
す系統図である。
【００１５】図示の如く、本発明の方法においては、Ｃ
ＯＤ含有排水に過酸化水素を注入した後、ＵＶ照射して
ＣＯＤ成分を酸化分解する。そして、ＵＶ酸化処理水に
酸を注入した後、脱炭酸処理する。次いで、脱炭酸処理
水を活性炭と接触させ、残留過酸化水素を除去する。
ＯＤ含有排水に過酸化水素を注入した後、ＵＶ照射して
ＣＯＤ成分を酸化分解する。そして、ＵＶ酸化処理水に
酸を注入した後、脱炭酸処理する。次いで、脱炭酸処理
水を活性炭と接触させ、残留過酸化水素を除去する。
【００１６】ＵＶ酸化処理、脱炭酸処理及び活性炭処理
により、ＣＯＤ成分、ＣＯＤの分解で生成した炭酸成分
及び残留過酸化水素が除去された水は、必要に応じて１
次純水装置等へ送給され、更に処理される。
により、ＣＯＤ成分、ＣＯＤの分解で生成した炭酸成分
及び残留過酸化水素が除去された水は、必要に応じて１
次純水装置等へ送給され、更に処理される。
【００１７】本発明方法が処理対象とする排水は、半導
体洗浄排水などの低ＴＯＣ（例えばＴＯＣが２．０ｐｐ
ｍ以下）排水や燃料電池の燃料極凝縮水などの高ＴＯＣ
（例えばＴＯＣ３００ｐｐｍ程度）排水が挙げられる。
体洗浄排水などの低ＴＯＣ（例えばＴＯＣが２．０ｐｐ
ｍ以下）排水や燃料電池の燃料極凝縮水などの高ＴＯＣ
（例えばＴＯＣ３００ｐｐｍ程度）排水が挙げられる。
【００１８】この排水に対する過酸化水素の添加量はＴ
ＯＣ１ｐｐｍに対し８．５ｐｐｍ以上とくに１０〜１２
ｐｐｍとなるようにするのが好ましい。
ＯＣ１ｐｐｍに対し８．５ｐｐｍ以上とくに１０〜１２
ｐｐｍとなるようにするのが好ましい。
【００１９】過酸化水素添加後の排水に照射するＵＶの
照射光量は、除去するメタノール態のＴＯＣ１ｐｐｍ当
り０．１ｗｈ以上とりわけ０．１５〜０．３ｗｈ程度が
好ましい。
照射光量は、除去するメタノール態のＴＯＣ１ｐｐｍ当
り０．１ｗｈ以上とりわけ０．１５〜０．３ｗｈ程度が
好ましい。
【００２０】脱炭酸手段としては、脱炭酸塔、脱気膜装
置などを用いることができる。
置などを用いることができる。
【００２１】余剰の過酸化水素処理は、活性炭塔に通水
することにより行われるのが好ましい。
することにより行われるのが好ましい。
【００２２】なお、ＵＶ酸化槽と脱炭酸塔との間に１次
純水原水槽を設けても良い。また、この場合、この１次
純水原水槽に市水、工水等を導入し、ＵＶ酸化処理水と
混合して処理するようにしても良い。
純水原水槽を設けても良い。また、この場合、この１次
純水原水槽に市水、工水等を導入し、ＵＶ酸化処理水と
混合して処理するようにしても良い。
【００２３】このような本発明の排水処理方法によれ
ば、半導体洗浄排水、燃料電池の燃料極凝縮水等のＣＯ
Ｄ含有排水の脱炭酸処理に要する酸添加量を減少させる
ことができると共に、後段の装置のイオン負荷やバクテ
リア負荷を大幅に低減することができる。
ば、半導体洗浄排水、燃料電池の燃料極凝縮水等のＣＯ
Ｄ含有排水の脱炭酸処理に要する酸添加量を減少させる
ことができると共に、後段の装置のイオン負荷やバクテ
リア負荷を大幅に低減することができる。
【００２４】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００２５】実施例１ メタノールを８１０ｐｐｍ含み、ＴＯＣ３１０ｐｐｍ、
ｐＨ４．０のリン酸型燃料電池の燃料極凝縮水を原水と
し、これを図１の手順に従って処理した。
ｐＨ４．０のリン酸型燃料電池の燃料極凝縮水を原水と
し、これを図１の手順に従って処理した。
【００２６】まず、この燃料極凝縮水に過酸化水素を、
添加後の燃料極凝縮水における過酸化水素濃度が３４０
０ｐｐｍとなるように添加した。
添加後の燃料極凝縮水における過酸化水素濃度が３４０
０ｐｐｍとなるように添加した。
【００２７】次いで、ＵＶ酸化槽に導入し、メタノール
態ＴＯＣ１ｍｇ当り０．１７ｗｈにてＵＶを照射した。
態ＴＯＣ１ｍｇ当り０．１７ｗｈにてＵＶを照射した。
【００２８】次いで、この水のｐＨが５．５よりも高い
ときにはｐＨが５．５となるようにＨ2 ＳＯ4 を添加し
た後、脱炭酸塔に導入し、脱炭酸した。その後、この水
を活性炭塔に導入し、活性炭と接触させ、残留過酸化水
素を分解した。原水及び各部で採水した水の水質（経時
的な平均値）を表１に示す。なお、脱炭酸塔の入口側で
は、脱炭酸のためのｐＨ調整のために、必要に応じてＨ
2 ＳＯ4 を注入して脱炭酸塔入口のｐＨを５．５以下と
するように構成しているが、本実施例では、Ｈ2 ＳＯ4
は添加された被処理水中におけるＨ2 ＳＯ4 濃度が１ｐ
ｐｍ或いはそれ以下の濃度となるように注入することに
よりｐＨが５．５以下となったため、酸の消費量はきわ
めて微量であった。
ときにはｐＨが５．５となるようにＨ2 ＳＯ4 を添加し
た後、脱炭酸塔に導入し、脱炭酸した。その後、この水
を活性炭塔に導入し、活性炭と接触させ、残留過酸化水
素を分解した。原水及び各部で採水した水の水質（経時
的な平均値）を表１に示す。なお、脱炭酸塔の入口側で
は、脱炭酸のためのｐＨ調整のために、必要に応じてＨ
2 ＳＯ4 を注入して脱炭酸塔入口のｐＨを５．５以下と
するように構成しているが、本実施例では、Ｈ2 ＳＯ4
は添加された被処理水中におけるＨ2 ＳＯ4 濃度が１ｐ
ｐｍ或いはそれ以下の濃度となるように注入することに
よりｐＨが５．５以下となったため、酸の消費量はきわ
めて微量であった。
【００２９】
【表１】
【００３０】比較例１ 実施例１と同じ燃料極凝縮水に図２の如く過酸化水素を
実施例１と同一割合にて添加した後、実施例１と同一の
ＵＶ酸化槽でＵＶ酸化した。その後、活性炭塔に通水し
た後、Ｈ2 ＳＯ4 を注入して脱炭酸塔で脱炭酸処理し
た。各部で採水した水の水質を表２に示す。なお、活性
炭塔及び脱炭酸塔とも実施例１と同じものを用いた。
実施例１と同一割合にて添加した後、実施例１と同一の
ＵＶ酸化槽でＵＶ酸化した。その後、活性炭塔に通水し
た後、Ｈ2 ＳＯ4 を注入して脱炭酸塔で脱炭酸処理し
た。各部で採水した水の水質を表２に示す。なお、活性
炭塔及び脱炭酸塔とも実施例１と同じものを用いた。
【００３１】この比較例２においては、脱炭酸塔の入口
側で脱炭酸に好適なｐＨ５．５以下に調整するために、
Ｈ2 ＳＯ4 を１８ｐｐｍとなるように注入する必要があ
った。
側で脱炭酸に好適なｐＨ５．５以下に調整するために、
Ｈ2 ＳＯ4 を１８ｐｐｍとなるように注入する必要があ
った。
【００３２】
【表２】
【００３３】実施例２ 原水としてＴＯＣ１．２ｐｐｍ、ｐＨ４．８の半導体洗
浄排水を用い、過酸化水素添加量を１３ｐｐｍ、ＵＶ照
射量をＴＯＣ１ｍｇ当り０．２５ｗｈとした他は実施例
１と同一条件にて処理した。
浄排水を用い、過酸化水素添加量を１３ｐｐｍ、ＵＶ照
射量をＴＯＣ１ｍｇ当り０．２５ｗｈとした他は実施例
１と同一条件にて処理した。
【００３４】処理水水質、脱炭酸塔入口でのＨ2 ＳＯ4
添加量及び活性炭塔流出水中の菌数を表３に示す。
添加量及び活性炭塔流出水中の菌数を表３に示す。
【００３５】比較例２ 実施例２と同じ原水に実施例２と同じく過酸化水素を１
３ｐｐｍ添加してＵＶ照射した後、図２の如くまず活性
炭塔に通水し、その後、Ｈ2 ＳＯ4 を添加してｐＨ５．
５以下とし、次いで、脱炭酸塔に通水した。
３ｐｐｍ添加してＵＶ照射した後、図２の如くまず活性
炭塔に通水し、その後、Ｈ2 ＳＯ4 を添加してｐＨ５．
５以下とし、次いで、脱炭酸塔に通水した。
【００３６】処理水水質、脱炭酸塔入口でのＨ2 ＳＯ4
添加量及び活性炭塔流出水中の菌数を表３に示す。
添加量及び活性炭塔流出水中の菌数を表３に示す。
【００３７】
【表３】
【００３８】以上の結果から明らかなように、本発明の
方法によれば脱炭酸に必要な酸注入量を大幅に低減する
ことができ、また、系内のバクテリアの繁殖を防止する
ことができることから、後段の１次純水装置のイオン負
荷、菌負荷を低減することができる。
方法によれば脱炭酸に必要な酸注入量を大幅に低減する
ことができ、また、系内のバクテリアの繁殖を防止する
ことができることから、後段の１次純水装置のイオン負
荷、菌負荷を低減することができる。
【００３９】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の排水処理方
法は、ＣＯＤ含有排水に過酸化水素を添加してＵＶ酸化
処理後、脱炭酸処理し、次いで活性炭処理するようにし
たものであり、脱炭酸のために必要な酸添加量を著しく
減少できる。また、このため、本発明プロセスの後段に
設置される２次純水装置のイオン負荷が低減される。さ
らに、脱炭酸設備内が残留過酸化水素により殺菌状態に
保たれるため、該脱炭酸設備内におけるバクテリアの繁
殖が防止され、後段の２次純水装置に対する菌負荷も低
減される。
法は、ＣＯＤ含有排水に過酸化水素を添加してＵＶ酸化
処理後、脱炭酸処理し、次いで活性炭処理するようにし
たものであり、脱炭酸のために必要な酸添加量を著しく
減少できる。また、このため、本発明プロセスの後段に
設置される２次純水装置のイオン負荷が低減される。さ
らに、脱炭酸設備内が残留過酸化水素により殺菌状態に
保たれるため、該脱炭酸設備内におけるバクテリアの繁
殖が防止され、後段の２次純水装置に対する菌負荷も低
減される。
【図１】本発明の排水処理方法を示す系統図である。
【図２】従来例を示す系統図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 ＣＯＤ含有排水に過酸化水素を添加した
後、紫外線照射による酸化処理を行い、次いで脱炭酸処
理し、さらに活性炭処理することを特徴とする排水処理
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15105396A JPH10461A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 排水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15105396A JPH10461A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 排水処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10461A true JPH10461A (ja) | 1998-01-06 |
Family
ID=15510276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15105396A Pending JPH10461A (ja) | 1996-06-12 | 1996-06-12 | 排水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10461A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10272455A (ja) * | 1997-03-31 | 1998-10-13 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造方法 |
-
1996
- 1996-06-12 JP JP15105396A patent/JPH10461A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10272455A (ja) * | 1997-03-31 | 1998-10-13 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造方法 |
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