JPH1048811A - マスク保護装置とペリクル枠 - Google Patents
マスク保護装置とペリクル枠Info
- Publication number
- JPH1048811A JPH1048811A JP20750396A JP20750396A JPH1048811A JP H1048811 A JPH1048811 A JP H1048811A JP 20750396 A JP20750396 A JP 20750396A JP 20750396 A JP20750396 A JP 20750396A JP H1048811 A JPH1048811 A JP H1048811A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle frame
- protection device
- mask
- hand
- handle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課 題】生産ラインの自動化のためマスク保護装置の
持ち運びをハンドによって行う場合のマスク保護装置の
把持が遠くからでも簡単に行え、汚染も生じにくゝ、ま
たハンドの構造も簡単で、コンパクトにできるようにす
る。 【解決手段】ペリクル枠５の左右両側にハンドで掴むこ
とのできる幅広な舌片状の取手６を突設する。
持ち運びをハンドによって行う場合のマスク保護装置の
把持が遠くからでも簡単に行え、汚染も生じにくゝ、ま
たハンドの構造も簡単で、コンパクトにできるようにす
る。 【解決手段】ペリクル枠５の左右両側にハンドで掴むこ
とのできる幅広な舌片状の取手６を突設する。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ等の集積回
路の製造工程におけるフォトリソグラフィ工程で用いら
れるマスクやレチクル（以下「マスク」という）上に塵
埃等が付着するのを防止する目的で用いられるマスク保
護装置、すなわちマスクパターンを囲う大きさのペリク
ル枠と、該枠の一側面に張設される透明な薄膜からな
り、マスクパターンを囲うようにしてマスクに貼着され
るマスク保護装置と該装置のペリクル枠に関する。
路の製造工程におけるフォトリソグラフィ工程で用いら
れるマスクやレチクル（以下「マスク」という）上に塵
埃等が付着するのを防止する目的で用いられるマスク保
護装置、すなわちマスクパターンを囲う大きさのペリク
ル枠と、該枠の一側面に張設される透明な薄膜からな
り、マスクパターンを囲うようにしてマスクに貼着され
るマスク保護装置と該装置のペリクル枠に関する。
【０００２】
【従来技術】マスク保護装置の生産ラインにおけるペリ
クル枠やマスク保護装置の移動は、人によるハンドリン
グを排除し、生産における自動化を進めるために治具を
取り付けたハンドによって行うか、ベルトコンベア等の
搬送によって行われている。このうち、ベルトコンベア
による搬送は、ベルトによる汚染を生じ易い問題がある
のに対し、ハンドによる持ち運びは、こうした問題を生
じにくい利点がある。
クル枠やマスク保護装置の移動は、人によるハンドリン
グを排除し、生産における自動化を進めるために治具を
取り付けたハンドによって行うか、ベルトコンベア等の
搬送によって行われている。このうち、ベルトコンベア
による搬送は、ベルトによる汚染を生じ易い問題がある
のに対し、ハンドによる持ち運びは、こうした問題を生
じにくい利点がある。
【０００３】ハンドによる持ち運びは従来、マスクに貼
着されたマスク保護装置を引剥がすときに用いるペリク
ル枠に形成の治具差込み孔、或いはペリクル枠の周囲に
形成の細溝を利用してピン状の治具を取り付けたハンド
でペリクル枠の両側より治具を差込み孔に差込んだり、
細溝に係合させてペリクル枠を把持していた。
着されたマスク保護装置を引剥がすときに用いるペリク
ル枠に形成の治具差込み孔、或いはペリクル枠の周囲に
形成の細溝を利用してピン状の治具を取り付けたハンド
でペリクル枠の両側より治具を差込み孔に差込んだり、
細溝に係合させてペリクル枠を把持していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ハンドでペリクル枠を
掴むときには、複雑な機構を持つハンドがペリクル枠の
近くを行き来するためにペリクル枠やマスク保護装置へ
異物が付着するおそれがある。異物の付着を防止するた
めに長い治具を用いて遠くから枠を把持しようとして
も、ペリクル枠の差込み孔は小さく、溝も巾が狭いため
治具を精度よく制御して差込み孔に差込んだり、細溝に
係合させるのは困難である。この問題に対処するため差
込み孔を大きくしたり、溝巾を広げるのはペリクル枠の
強度を損ない好ましくない。
掴むときには、複雑な機構を持つハンドがペリクル枠の
近くを行き来するためにペリクル枠やマスク保護装置へ
異物が付着するおそれがある。異物の付着を防止するた
めに長い治具を用いて遠くから枠を把持しようとして
も、ペリクル枠の差込み孔は小さく、溝も巾が狭いため
治具を精度よく制御して差込み孔に差込んだり、細溝に
係合させるのは困難である。この問題に対処するため差
込み孔を大きくしたり、溝巾を広げるのはペリクル枠の
強度を損ない好ましくない。
【０００５】本発明は、ペリクル枠やマスク保護装置を
ハンドを用いて移動させる際の上記の問題を解消するこ
とを目的とする。
ハンドを用いて移動させる際の上記の問題を解消するこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題の解決手段】本発明はそのため、マスク保護装置
のペリクル枠、或いはペリクル枠単体にハンドで掴むこ
とのできる取手を突設したものである。本発明の取手
は、ハンドで掴むことのできる機能を有しているもので
あればよく、舌片状や柄状その他どのような形状や構造
のものでも差し支えないが、舌片状のものが構造が簡単
で、スペースを取らないため好ましい。
のペリクル枠、或いはペリクル枠単体にハンドで掴むこ
とのできる取手を突設したものである。本発明の取手
は、ハンドで掴むことのできる機能を有しているもので
あればよく、舌片状や柄状その他どのような形状や構造
のものでも差し支えないが、舌片状のものが構造が簡単
で、スペースを取らないため好ましい。
【０００７】本発明の取手には、ハンドで掴んだときし
っかりと確実に保持できるように、凹凸を設けたり、孔
を設けておいてもよい。
っかりと確実に保持できるように、凹凸を設けたり、孔
を設けておいてもよい。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は、マスク保護装置１のペリ
クル枠２の左右両側に一対づゝ舌片状の取手３を突設し
たものであり、図２は、ペリクル枠５の左右に幅広の取
手６を突設したものである。本実施形態のマスク保護装
置は次のような効果を有する。
クル枠２の左右両側に一対づゝ舌片状の取手３を突設し
たものであり、図２は、ペリクル枠５の左右に幅広の取
手６を突設したものである。本実施形態のマスク保護装
置は次のような効果を有する。
【０００９】（１）ハンドで取手を掴むだけであるか
ら、マスク保護装置の把持が遠くからでも簡単に行え、
ペリクル枠やマスク保護装置の汚染を生じにくい。 （２）取手はハンドで掴むことのできる機能のみを有し
ていればよく、その形成には差込み孔や細溝を形成する
ときのようなペリクル枠への加工や製作上の精度を必要
とせす、また差込み孔や細溝に治具を係合させるときの
ように治具を精度よく制御する必要がない。
ら、マスク保護装置の把持が遠くからでも簡単に行え、
ペリクル枠やマスク保護装置の汚染を生じにくい。 （２）取手はハンドで掴むことのできる機能のみを有し
ていればよく、その形成には差込み孔や細溝を形成する
ときのようなペリクル枠への加工や製作上の精度を必要
とせす、また差込み孔や細溝に治具を係合させるときの
ように治具を精度よく制御する必要がない。
【００１０】（３）ペリクル枠を両側から把持すること
もできるし、片側をいづれの側からでも把持することが
できる。 （４）片持把持により任意の場所に持っていくのが容易
にできるようになり、またハンドは取手を片側から掴む
ことのできる機能のみを有していればよく、精度よく制
御する必要もないから構造が簡単で、自動化ラインをよ
りコンパクトなものとすることができる。
もできるし、片側をいづれの側からでも把持することが
できる。 （４）片持把持により任意の場所に持っていくのが容易
にできるようになり、またハンドは取手を片側から掴む
ことのできる機能のみを有していればよく、精度よく制
御する必要もないから構造が簡単で、自動化ラインをよ
りコンパクトなものとすることができる。
【００１１】（５）コンベアで搬送する場合も、コンベ
ア上に一定の間隔を存して置いた台に両側の取手を掛け
て支持することにより、ペリクル枠やマスク保護装置を
コンベアと非接触状態で搬送することができ、ベルトに
よる汚染を防止することができる。 （６）異物検査等で人が介在せざるを得ないような場合
でも、取手を片手で掴むことによりマスク保護装置やペ
リクル枠を持ち運びすることができ、枠を直接掴んで持
ち運びする必要がないため汚染を生じにくい。
ア上に一定の間隔を存して置いた台に両側の取手を掛け
て支持することにより、ペリクル枠やマスク保護装置を
コンベアと非接触状態で搬送することができ、ベルトに
よる汚染を防止することができる。 （６）異物検査等で人が介在せざるを得ないような場合
でも、取手を片手で掴むことによりマスク保護装置やペ
リクル枠を持ち運びすることができ、枠を直接掴んで持
ち運びする必要がないため汚染を生じにくい。
【００１２】
【発明の効果】本発明は以上のように構成され、次のよ
うな効果を奏する。請求項１及び２記載のペリクル及び
マスク保護装置によれば、取手を掴むことにより遠くか
らでもペリクル枠やマスク保護装置の把持を簡単に行う
ことができ、汚染も生じにくい。しかもハンドも同様、
取手を掴む機能を有していればよく、制御も精度よく行
う必要がないうえ、ペリクル枠やマスク保護装置を片側
から把持するようにすれば、構造が簡単で、コンパクト
にすることができる。
うな効果を奏する。請求項１及び２記載のペリクル及び
マスク保護装置によれば、取手を掴むことにより遠くか
らでもペリクル枠やマスク保護装置の把持を簡単に行う
ことができ、汚染も生じにくい。しかもハンドも同様、
取手を掴む機能を有していればよく、制御も精度よく行
う必要がないうえ、ペリクル枠やマスク保護装置を片側
から把持するようにすれば、構造が簡単で、コンパクト
にすることができる。
【００１３】請求項３記載のものゝように、取手を突片
状のものとすれば、取手の構造が簡単で、スペースを取
らず嵩張らない。請求項４記載のものゝように、突片に
凹凸又は孔を設ければ、ハンドで掴むとき、しっかりと
確実に把持することができる。
状のものとすれば、取手の構造が簡単で、スペースを取
らず嵩張らない。請求項４記載のものゝように、突片に
凹凸又は孔を設ければ、ハンドで掴むとき、しっかりと
確実に把持することができる。
【図１】本発明に係わるマスク保護装置の平面図。
【図２】本発明に係わるマスク保護装置の別の例の平面
図。
図。
１・・マスク保護装置 ２、５・・ペリクル枠 ３、６・・取手
Claims (4)
- 【請求項１】マスクパターンを囲う大きさのペリクル枠
と、該枠の一側面に張設される透明な薄膜からなり、マ
スクパターンを囲うようにしてマスクに貼着されるマス
ク保護装置のペリクル枠において、ハンドで掴むことの
できる取手を突設してなるペリクル枠。 - 【請求項２】マスクパターンを囲う大きさのペリクル枠
と、該枠の一側面に張設される透明な薄膜からなり、マ
スクパターンを囲うようにしてマスクに貼着されるマス
ク保護装置において、ペリクル枠にハンドで掴むことの
できる取手を突設したマスク保護装置。 - 【請求項３】請求項１記載のペリクル枠或いは請求項２
記載のマスク保護装置のペリクル枠に突設される取手
は、舌片状である。 - 【請求項４】請求項１記載のペリクル枠或いは請求項２
記載のマスク保護装置のペリクル枠に突設される取手
は、凹凸又は孔を有する舌片状である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20750396A JPH1048811A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | マスク保護装置とペリクル枠 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20750396A JPH1048811A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | マスク保護装置とペリクル枠 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1048811A true JPH1048811A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16540804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20750396A Pending JPH1048811A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | マスク保護装置とペリクル枠 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1048811A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014085433A (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル収納容器 |
| JP2014098913A (ja) * | 2007-07-06 | 2014-05-29 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 大型ペリクルの収納容器からの取り出し方法 |
| JP2017161749A (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| US10429730B2 (en) * | 2016-05-26 | 2019-10-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle |
-
1996
- 1996-08-07 JP JP20750396A patent/JPH1048811A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014098913A (ja) * | 2007-07-06 | 2014-05-29 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 大型ペリクルの収納容器からの取り出し方法 |
| JP2014085433A (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル収納容器 |
| JP2017161749A (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| US10429730B2 (en) * | 2016-05-26 | 2019-10-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle |
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