JPH10501604A - シール/ベアリング・アセンブリ - Google Patents
シール/ベアリング・アセンブリInfo
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- JPH10501604A JPH10501604A JP8501433A JP50143396A JPH10501604A JP H10501604 A JPH10501604 A JP H10501604A JP 8501433 A JP8501433 A JP 8501433A JP 50143396 A JP50143396 A JP 50143396A JP H10501604 A JPH10501604 A JP H10501604A
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. シール及びベアリングが組み合わされたアセンブリ装置であって、 ある軸線の周囲で回転するようになされたステータ及びロータを備え、 前記ロータ及びステータの要素には、補完的な形状の軸受面が形成されており 、 前記ロータ及びステータの前記軸受面は、軸受領域と称する領域にわたって、 ハイドロダイナミック軸受の関係で互いに掃除するように配列されており、 前記軸受面の一方には、溝が形成されており、該溝は、前記軸受面に沿って且 つ該軸受面の周囲で、前記軸受領域にわたって螺旋状に伸長しており、 前記螺旋溝は、前記軸受面にわたって伸長する複数の回旋部を有しており、こ れら回旋部は、前記螺旋溝の隣接する回旋部の間に実質的な幅を有するランドを 残すように配列されており、 当該装置は、前記螺旋溝が入口マウス及び出口マウスを有するように構成され ており、 当該装置は、入口チャンバ及び出口チャンバを形成し、これらチャンバが、前 記入口マウス及び前記出口マウスとそれぞれ流体を搬送する関係で連通されるよ うに構成されており、 当該装置は、バリア液体を前記入口チャンバに搬送する手段、及び、前記バリ ア液体を前記出口チャンバから離れる方向に搬送する手段を備えており、 当該装置は、前記ロータが回転すると、前記バリア液体が前記螺旋溝に沿って 前記入口マウスから前記出口マウスへ流れるように構成されており、 当該装置は、前記ロータが回転すると、前記軸受面の嵌合が緊密な運転隙間と なり、前記軸受面の間の隙間すなわちギャップが十分に小さくなり、また、前記 回旋部の間のランドの幅が十分に広くなって、これにより、前記軸受面の間にハ イドロダイナミック膜が連続的に確実に形成されるように構成されていることを 特徴とするシール及びベアリングが組み合わされたアセンブリ装置。 2. 請求項1の装置において、前記補完的な形状の軸受面は、前記軸受領域 にわたって、雄型/雌型の形態で互いに嵌合していることを特徴とする装置。 3. 請求項2の装置において、前記軸受面は、円錐形のテーパ形状になされ ていることを特徴とする装置。 4. 請求項3の装置において、当該装置は、ロータ要素及びステータ要素の 一方を軸方向に運動するようにガイドするための手段と、前記テーパ面を互いに 押圧するように前記一方の要素を軸方向に押圧するための手段とを備えることを 特徴とする装置。 5. 請求項1の装置において、当該装置は、プロセス流体搬送機械に装着さ れるのに適しており、前記プロセス流体搬送機械は、加圧されたプロセス流体を 収容するプロセスチャンバを形成しており、該機械の回転シャフトが、当該装置 を貫通し、前記ロータ及びステータは、前記回転シャフトの周囲に嵌合するのに 適するように構成されていることを特徴とする装置。 6. 請求項4又は5の装置において、前記運動可能な要素を軸方向に押圧す るための前記手段は、該要素のある領域であり、この領域は、当該装置が前記機 械に装着された時に、プロセス流体の圧力に露呈されるように配列されており、 また、前記領域は、前記プロセス流体の圧力が高くなると、前記テーパ面を互い に押圧する力が大きくなるように構成されていることを特徴とする装置。 7. 請求項4又は5の装置において、前記運動可能な要素を軸方向に押圧す るための前記手段は、バリア液体の圧力に露呈される前記要素のある領域である ことを特徴とする装置。 8. 請求項4又は5の装置において、前記運動可能な要素を軸方向に押圧す るための前記手段は、機械的なバネであることを特徴とする装置。 9. 請求項1の装置において、 当該装置は、第1のシールを備えており、この第1のシールは、前記面を擦る タイプのシールであって、前記シールのシール面を弾性的に押圧して互いに擦り 合わせてシール接触させる手段を含んでおり、 前記第1のシールは、前記入口チャンバを外部環境からシールして分離するよ うな位置に設けられていることを特徴とする装置。 10. 請求項5又は9の装置において、 当該装置は、第2のシールを備えており、この第2のシールは、前記面を擦る タイプのシールであり、 前記第2のシールは、当該装置が前記機械に装着された時に、前記出口チャン バを前記プロセスチャンバからシールして分離するような位置に設けられている ことを特徴とする装置。 11. 請求項10の装置において、前記第1のシールは、可撓性を有するリッ プ型のシールであり、前記第2のシールは、メカニカルシールであり、比較的硬 質の材料の面が弾性的に互いに擦れ合うことを特徴とする装置。 12. 請求項5の装置において、 前記機械は、前記シャフトに取り付けられたインペラを有する遠心ポンプであ り、 当該装置は、前記軸受面が前記インペラから前記シャフトの直径を超えない距 離だけ軸方向に隔置されるように、前記機械に関して位置決めされていることを 特徴とする装置。 13. 請求項4の装置において、前記テーパ面の挟角であるテーパ角度は、7 °と30°との間にあることを特徴とする装置。 14. 請求項1の装置において、前記螺旋溝は、前記軸受面にわたって、連続 的及び規則的に、間断なく、螺旋状に伸長し、両端部が開放されていることを特 徴とする装置。 15. 請求項1の装置において、前記螺旋溝は、一条型の溝であることを特徴 とする装置。 16. 請求項1の装置において、前記螺旋溝の全長は、少なくとも30cmで あることを特徴とする装置。 17. 請求項1の装置において、前記螺旋溝の隣接する回旋部の間の平坦なラ ンドの幅が、少なくとも2mmであることを特徴とする装置。 18. 請求項1の装置において、前記軸受領域にある総てのランドの幅の合計 が、前記軸受面の総ての直径の平均の少なくとも半分であることを特徴とする装 置。 19. 請求項1の装置において、前記螺旋溝の断面積が、1平方ミリメートル よりも小さいことを特徴とする装置。 20. 請求項1の装置において、前記螺旋溝の断面積が、0.3平方ミリメー トルよりも大きいことを特徴とする装置。 21. 請求項1の装置において、前記螺旋溝は、前記ロータに設けられており 、前記ステータの面は、平坦であって溝が形成されていないことを特徴とする装 置。 22. 請求項21の装置において、前記ロータが雄型であることを特徴とする 装置。 23. 請求項1の装置において、当該装置は、圧力調節装置を備えており、該 圧力調節装置は、前記出口チャンバの中の圧力、及び、前記入口チャンバの中の 圧力を調節することができることを特徴とする装置。 24. 請求項5又は23の装置において、当該装置は、前記プロセス流体の圧 力を測定するための手段を備えており、前記圧力調節装置は、前記出口チャンバ の圧力を前記プロセス流体の圧力に近い比例値に調節することができることを特 徴とする装置。
Applications Claiming Priority (9)
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