JPH10504542A - 炎症処置用の置換チアゾール化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、炎症および炎症関連障害を処置するための一群の置換チアゾール化合物に関する。特に重要な化合物は下記式IIで規定される化合物またはその医薬として許容される塩である： 式中、Ｒ⁴は、アルキルおよびアミノから選択され；Ｒ⁵は、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニルおよびヘテロ環から選択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、カルボキシル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、ハロアルキル、ヒドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよく；そしてＲ⁶は、ハロ、アミノ、アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルケニル、アルキニル、ハロアルコキシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、アルコキシカルボニルアルキル、アルキルアミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル、シアノアルキル、Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、ヘテロアリールスルホニルアルキル、ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、アリールオキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環から選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよびアルキルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい。

Description

【発明の詳細な説明】 炎症処置用の置換チアゾール化合物 発明の分野 本発明は抗炎症性医薬製剤の分野にあり、特に炎症および関節炎などの炎症を 付随する疾病を処置するための化合物、製剤および方法に関する。 発明の背景 プロスタグランジン類は炎症プロセスで重要な役割を演じ、プロスタグランジ ン類の産生、例えばＰＧＧ₂、ＰＧＨ₂およびＰＧＥ₂の産生の抑制は抗炎症性医 薬の発見に共通の目標であった。しかしながら、プロスタグランジン誘発痛みお よび炎症プロセスに付随する浮腫の軽減に活性である非ステロイド系抗炎症薬（ ＮＳＡＩＤ類）はまた、炎症プロセスに関連しない別のプロスタグランジン調節 プロセスにも影響を及ぼす点で活性である。従って、慣用のＮＳＡＩＤ類の大部 分は、これらを高用量で使用すると、それらの治療効果を制限する重篤な副作用 、例えば生命を脅かす潰瘍を生じさせることがある。ＮＳＡＩＤ類に代わるもの として、コルチコステロイド類の使用がある。これらは、特に長期間治療に用い られると、さらに激烈な副作用を有する。 従来のＮＳＡＩＤ類は、ヒトのアラキドン酸／プロスタグランジン経路で酵素 を抑制することによってプロスタグランジンの産生を阻止することが見出されて いる。このような酵素にはシクロオキシゲナーゼ（ＣＯＸ）が包含される。炎症 に関連して誘発される酵素（すなわち、「シクロオキシゲナーゼ−２（ＣＯＸ− ２）」または「プロスタグランジンＧ／ＨシンターゼII」）にかかわる最近の発 見は、炎症をさらに効果的に軽減し、かつまた激烈な副作用の種類および程度を 減少させる実行可能な抑制目標を提供するものである。 抗炎症活性を開示する下記の刊行物は安全で効果的な抗炎症薬を見出すための 継続する努力を示している。本発明により開示される新規チアゾール化合物は、 このような努力をさらに進歩させた安全で効果的な抗炎症薬である。本発明の化 合物はインビボで最低の副作用を伴う抗炎症薬として有用性を示すことが見出さ れた。本明細書に記載の置換チアゾール化合物は、シクロオキシゲナーゼ−１よ りもシクロオキシゲナーゼ−２を好ましく選択的に抑制する。 ビジエル(Biziere)等に対する米国特許第５，２３２，９２１号は、ムスカリ ン様コリン作用性レセプターに対して親和性を有するものとして２−アルキルア ミノチアゾール化合物を開示している。 １９９３年８月５日付けで発行されたＰＣＴ出願ＷＯ９３／１５０７１は、胃 酸分泌を抑制するものとして４−（２−ピリジル）チアゾール誘導体を開示して いる。特に、２−（フェニルメチル）−４−（２−ピリジル）−５−（２−メチ ルフェニル）チアゾールが記載されている。テラオ（S．Terao）およびマキ（Y ．Maki）に対する米国特許第４，６１２，３２１号は、抗炎症活性を有するもの として５−ピリジルチアゾール誘導体、特に５−ピリジル-４−（４−メトキシ フェニル）−２−チエニルチアゾールを開示している。 ヨシノ（Yoshino）等に対する米国特許第４，６５９，７２６号は、血小板凝 集抑制薬として有効なものとして、４，５−ビス（４−メトキシフェニル）−２ −（２−ピロリル）チアゾール化合物を開示している。タカスギ（Takasugi）等 に対する米国特許第５，２１７，９７１号は、抗炎症性を有するものとして、４ ，５−ジフェニルチアゾール化合物、特に４，５−ビス（４−メトキシフェニル ）−２−（４−ピリジル）チアゾールを開示している。 ラインブラント（R．Rynbrandt）およびニシザワ（E．Nishizawa）に対する米 国特許第４，１６８，３１５号は、血小板凝集抑制薬であるとして、４，５−ジ フェニルチアゾール誘導体を開示している。マツモト（K．Matsumoto）およびホ ー(P．Ho)に対する米国特許第４，３２２，４２８号は、抗炎症性であるものと して２−（４−ハロフェニル）−４，５−ビス（４−メトキシフェニル）チアゾ ール化合物を開示している。フェリーニ（P．Ferrini）およびゴーシェク(R．Go schke)に対する米国特許第４，４５１，４７１号は、抗炎症活性を有するものと して２−チオ−４，５−ジアリールチアゾール誘導体を開示している。４，５− ビス（４−メトキシフェニル）チアゾール誘導体は合成中間体として開示されて いる。１９８７年１１月５日付けで発行されたＰＣＴ出願ＷＯ８７／６４２９は 、殺虫性を有するものとしてチエニルチアゾール化合物、特に４−（４−クロ ロフェニル）−２−（５−クロロ−２−チエニル）−５−（４−メチルフェニル ）チアゾールを開示している。 ドーム（Dahm）等に対する米国特許第４，０５１，２５０号は、抗炎症薬とし て４，５−ジアリールチアゾール化合物を開示している。特に、２−クロロ４− （４−クロロフェニル）−５−（４−メチルメルカプトフェニル）チアゾールが 合成中間体として開示されている。１９９４年４月２０日付けで発行されたヨー ロッパ出願ＥＰ５９２，６６４は、抗炎症活性を有するものとして４，５−ジフ ェニルチアゾール化合物を開示しており、特に４−［４−（メチルスルホニルオ キシ）フェニル］−５−フェニル−２−［ビス（Ｎ−メチルスルホニル）アミノ ］チアゾールを開示している。セコ（Seko）等は４，５−ジフェニルチアゾール 化合物、特に４，５−ビス（４−メチルチオフェニル）−２−（１，５−ジメチ ル−２−ピロリル）チアゾールの血小板凝集抑制およびシクロオキシゲナーゼ阻 害活性を開示している［ケミ．ファーム．ブル．（Chem．Pharm．Bull.），３９ ，６５１（１９９１）］。日本国出願４，２４４，０７３には、血栓症処置用の チアゾール化合物が開示されている。 １９９５年１月５日付けで発行されたＰＣＴ出願ＷＯ９５／００５０１は、抗 炎症性薬として置換チアゾール化合物を開示している。日本国出願ＪＰ４，１７ ３，７８２は、抗炎症活性を有するものとして２−ハロアルキルスルホンアミド −４，５−ジフェニルチアゾール誘導体を開示している。 カリーニ(D．Carini)およびベクスラー(R．Wexler)に対する米国特許第４，６ ３２，９３０号は、抗高血圧症性を有するものとして、アルキルアリールチアゾ ール誘導体、特に５−フェニル−４−（メチルスルホニルフェニル）−α，α− ビス（トリフルオロメチル）チアゾール−２−メタノールを開示している。 発明の開示 炎症および炎症関連障害の処置に有用な一群の置換チアゾリル化合物は、下記 式Ｉで定義される化合物またはその医薬として許容される塩である： 式中、Ｒ¹はヒドリド、ハロ、アミノ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、ヒドロ キシル、アミノカルボニル、アシル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミ ノカルボニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルコ キシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、カルボキシル、カ ルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、ア ルキルアミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、シアノアルキル、Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、ヘ テロアリールスルホニルアルキル、ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、ア リールオキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環か ら選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、 ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアル キル、ハロアルコキシ、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカ ルボニル、アミノ、アシルおよびアルキルアミノから選択される１個または２個 以上の基を有していてもよく；そして Ｒ²およびＲ³は独立して、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル 、シクロアルケニルおよびヘテロ環から選択され、このＲ²およびＲ³は置換可能 な位置に置換基として、ハロ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル スルホニル、ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、アルキル、アルケニ ル、アルキニル、シアノ、カルボキシル、カルボキシアルキル、アルコキシカル ボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリ ールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、Ｎ−アルキル− Ｎ−アリールアミノカルボニル、ハロアルキル、ヒドロキシル、アルコキシ、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ−アルキ ルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択される１ 個または２個以上の基を有していてもよく； ただし、Ｒ²およびＲ³の一方は、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホ ニルまたはアミノスルホニルにより置換されているアリールであり；さらにまた ただし、Ｒ¹がメチルであり、そしてＲ³が４−メチルスルホニルフェニルである 場合には、Ｒ²は４−フルオロフェニルではなく；さらにまたただし、Ｒ¹がメチ ルであり、そしてＲ²が４−アミノスルホニルフェニルである場合には、Ｒ³は４ −フルオロフェニルではなく；さらにまたただし、Ｒ²およびＲ³は、α，α−ビ ス（メチル）メタノールで置換されているフェニルではなく；そしてさらにまた Ｒ¹がα，α−ビス（トリフルオロメチル）メタノールである場合には、Ｒ²は４ −（メチルスルホニル）フェニルではない。 上記記載で使用されているものとして、「さらにまたただし」の用語は、別の ただし書き条件と組合わせて考慮されるべきではないことを意味するものとして 使用されている。 式Ｉで表わされる化合物は、これらに制限されないものとして、対象の炎症の 処置におよびまた炎症関連障害の処置に、例えば痛みおよび頭痛の処置に鎮痛剤 として、あるいは発熱の処置に解熱剤として有用である。例えば、本発明の化合 物は、これらに制限されないものとして、リウマチ性関節炎、脊椎関節症、尿酸 性関節炎、変形性関節炎、全身性紅斑性狼瘡および若年性関節炎を包含する関節 炎の処置に有用である。本発明の化合物は、喘息、気管支炎、月経性痙攣、膣炎 、滑液のう炎および皮膚関連症状、例えば乾癬、湿疹、火傷および皮膚炎などの 処置に有用である。本発明の化合物はまた、胃腸疾患、例えば炎症性腸疾病、ク ローン病、胃炎、過敏性腸症候群および潰瘍性大腸炎の処置に、およびまた結腸 癌の予防に有用である。本発明の化合物はまた、血管系疾病、偏頭痛、結節性動 脈周囲炎、甲状腺炎、再生不良性貧血、ホジキン氏病、硬化症、リウマチ熱、タ イプＩ糖尿病、重症筋無力症、多発性硬化症、サルコイドーシス、ネフローゼ症 候群、ベーチェット症候群、多乳房症、歯肉炎、過敏症、結膜炎、損傷後に発症 する浮腫、心筋虚血などの病気における炎症の処置に有用である。本発明の化合 物はまた、例えば網膜炎、網膜症、ブドウ膜症などの眼病の処置におよび眼組織 に対する急性損傷の処置に有用である。本発明の化合物はまた、中枢神経系障害 、例えばアルツハイマー病および痴呆の処置に有用である。本発明の化合物はま た、格別に少ない有害な副作用を有するという追加の利点を伴う抗炎症薬として 、例 えば関節炎の処置に有用である。これらの化合物はまた、アレルギー性鼻炎、呼 吸困難症候群、内毒素ショック症候群、動脈硬化症および卒中、虚血および外傷 から発症する中枢神経系損傷の処置に有用である。 ヒトの処置に有用であることに加えて、これらの化合物はまた、ウマ、イヌ、 ネコ、ラット、マウス、ヒツジ、ブタなどの哺乳動物の処置にも有用である。 本発明の化合物はまた、部分的にまたは完全に、別種の慣用の抗炎症薬の代わ りに使用することができ、例えばばステロイド類、ＮＳＡＩＤ類、５−リポキシ ゲナーゼ抑制薬、ＬＴＢ₄拮抗薬およびＬＴＡ₄ヒドロラーゼ抑制薬などと共に、 共働治療に使用することもできる。 適当なＬＴＡ₄抑制薬には、中でも、エブセレン(ebselen)、バイエル(Bayer) のBay−ｘ−１００５、チバガイギー（Ciba Geigy）の化合物ＣＧＳ−２５０１ ９Ｃ、レオデンマーク(Leo Denmark)の化合物ＥＴＨ−６１５、リリイ(Lilly)の 化合物ＬＹ−２９３１１１、オノ(Ono)の化合物ＯＮＯ−４０５７、テルモ（Ter umo）の化合物ＴＭＫ−６８８、リリイ(Lilly)の化合物ＬＹ−２１３０２４、２ ６４０８６および２９２７２８、オノ(Ono)の化合物ＯＮＯ−ＬＢ４５７、サー ル（Searle）の化合物ＳＣ−５３２２８、カルシトロール(calcitrol)、リリイ( Lilly)の化合物ＬＹ−２１００７３、ＬＹ−２２３９８２、ＬＹ−２３３４６９ およびＬＹ−２５５２８３、オノ(Ono)の化合物ＯＮＯ−ＬＢ−４４８、サール （Searle）の化合物ＳＣ−４１９３０、ＳＣ−５０６０５およびＳＣ−５１１４ ６およびエスケイ アンド エフ（ＳＫ＆Ｆ）の化合物ＳＫＦ−１０４４９３が 包含される。好ましくは、このＬＴＡ₄抑制薬は、エブセレン、バイエルの Bay −ｘ−１００５、チバガイギーの化合物ＣＧＳ−２５０１９Ｃ、レオデンマーク の化合物ＥＴＨ−６１５、リリイの化合物ＬＹ−２９３１１１、オノの化合物Ｏ ＮＯ−４０５７およびテルモの化合物ＴＭＫ−６８８である。 適当な５−ＬＯ抑制薬には、中でも、マソプロコール（masoprocol）、テニダ ッブ(tenidap)、ジロトン（zileuton）、プランロカスト（pranlukast）、テポ サリン(tepoxalin)、リロピロックス(rilopirox)、フレゼラスチン（flezelasti ne）塩酸塩、エナザドレム(enazadrem)リン酸塩およびブナプロラ スト(bunaprolast)が包含される。 本発明は好ましくは、シクロオキシゲナーゼ−１よりもシクロオキシゲナーゼ −２を選択的に抑制する化合物を包含する。好ましくは、これらの化合物は、約 ０．２μM に等しいか、またはこれ以下であるシクロオキシゲナーゼ−２ＩＣ₅₀ を有し、かつまたシクロオキシゲナーゼ−１抑制に対するシクロオキシゲナーゼ −２抑制の選択比は少なくとも５０であり、さらに好ましくは少なくとも１００ である。さらにより好ましくは、これらの化合物は約１．０μM より大きい、さ らに好ましくは１０μM より大きいシクロオキシゲナーゼ−１ ＩＣ₅₀を有する 。このような好適な選択性は、ＮＳＡＩＤ誘発副作用の発現を減少させる能力を 示すことができる。 好適群の化合物は、式Ｉにおいて、Ｒ¹がヒドリド、ハロ、アミノ、低級アル コキシ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、低級アル キルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、低級アルキル、低級アルケ ニル、低級アルキニル、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキシ、低級アルキル アミノ、フェニルアミノ、低級アラルキルアミノ、カルボキシル、低級カルボキ シアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニルアルキル、 低級アルキルアミノアルキル、低級ヘテロシクロアルキル、低級アラルキル、低 級シアノアルキル、低級Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、低級ヘテロアリールス ルホニルアルキル、低級ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、低級アリール オキシアルキル、低級アラルキルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環から 選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、ハ ロ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィ ニル、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキシ、低級カルボキシアルキル、低級 アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよび低級アルキル アミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよく；そしてＲ² およびＲ³は独立して、低級アルキル、低級アルケニル、アリール、低級シクロ アルキル、低級シクロアルケニルおよびヘテロ環から選択され；このＲ²および Ｒ³は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低級アルキルチオ、低級アルキル スルフィニル、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、シアノ、カル ボキシル、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、アミノカルボ ニル、アシル、低級Ｎ−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボ ニル、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ ールアミノカルボニル、低級ハロアルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシ、低 級ヒドロキシアルキル、低級ハロアルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ヘ テロ環およびニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい 、化合物またはその医薬として許容される塩である。 特重要な一群の化合物は、式Ｉにおいて、Ｒ¹がフルオロ、クロロ、ブロモ、 ヨウド、アミノ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ 、ｔｅｒｔ−ブトキシ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノカルボニル、ホル ミル、アセチル、Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−フェニルアミノカルボニル 、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノカルボ ニル、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチ ル、ｔｅｒｔ−ブチル、エチレニル、プロピレニル、ブテニル、ペンテニル、イ ソプロピレニル、イソブチレニル、プロパルギル、フルオロメチル、ジフルオロ メチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ ル、ペンフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、 ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエ チル、ジクロロプロピル、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロピル アミノ、Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、Ｎ−ペンチルアミノ 、Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、カルボキシル、Ｎ−ベンジル アミノ、３，５−ジクロロフェニルアミノ、３，５−ジクロロフェノキシメチル 、３−クロロフェノキシメチル、カルボキシメチル、メトキシカルボニルメチル 、エトキシカルボニルメチル、メチルアミノメチル、モルホリノメチル、ピロリ ジニルメチル、ピペラジニルメチル、ピペリジニルメチル、ピリジルメチル、チ エニルメチル、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、シアノメチル、フェ ノキシメチル、ベンジルオキシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ ル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、プロポキシカ ルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ペントキシカルボニ ル、Ｎ−メ チルスルホニルアミノ、（２−チエニル）スルホニルメチル、（２−チエニル） スルホニルブロモメチル、フェニル（この基は置換可能な位置に置換基として、 フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イ ソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ 、ブトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メチルチオ、メチルスルフ ィニル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチ ル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオ ロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエ チル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、カルボキシメ チル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、 ホルミル、メチルアミノおよびジメチルアミノから選択される１個または２個以 上の基を有していてもよい）およびモルホリノ、ピロリジニル、ピペラジニル、 ピペリジニル、ピリジル、チエニル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル 、ピラジニル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、およびベンズイミダゾ リル、フリル、ピロリル、ピラゾリルおよびトリアゾリルから選択されるヘテロ 環基（この基は置換可能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メ チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅ ｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、 ｔｅｒｔ−ブトキシ、メチルチオ、メチルスルフィニル、フルオロメチル、ジフ ルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロ ロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロ メチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジ クロロエチル、ジクロロプロピル、カルボキシメチル、メトキシカルボニル、エ トキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、ホルミル、メチルアミノおよび ジメチルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい）か ら選択され；そしてＲ²およびＲ³は独立して、メチル、エチル、プロピル、ブチ ル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、エチレニル、プ ロピレニル、ブテニル、ペンテニル、イソプロピレニル、イソブチレニル、フェ ニル、ナフチル、ビフェニル、ピリジル、チエニル、チアゾリル、オキサゾリ ル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、ベ ンズイミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラゾリル、トリアゾリル、シクロプロ ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロペニル、シ クロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、モルホリノ、ピロリジニ ル、ピペラジニルおよびピペリジニルから選択され；そしてこのＲ²およびＲ³は 置換可能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチルチオ、メチ ルスルフィニル、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル 、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、エチレニル、プロピレニル、ブテニル、ペン テニル、イソプロピレニル、イソブチレニル、プロパルギル、シアノ、カルボキ シル、カルボキシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロ ポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブ トキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、アミノカ ルボニル、ホルミル、アセチル、Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−フェニルア ミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル、Ｎ−メチル-Ｎ−フェニ ルアミノカルボニル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル 、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、 ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、 ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、 ヒドロキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、 ｔｅｒｔ−ブトキシ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメトキシ、アミノ、Ｎ− メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、ピリジル、フリル、ピラジニル、ピロ リル、ピラゾリル、モルホリノ、ピロリジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、 トリアゾリルおよびニトロから選択される１個または２個以上の基を有していて もよい； 化合物またはその医薬として許容される塩である。 式Ｉ内に包含される特に重要な特定の化合物およびその医薬として許容される 塩の一群は下記の化合物およびその医薬として許容される塩からなる： ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−フェニルチアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メトキシフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−ヘキシルアミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−メチルアミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−エチルアミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−（４−フェノキシフェニル）アミノ）チアゾール； エチル ４−［［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フ ルオロフェニル）−２−チアゾリル］アミノ］ベンゾエート； エチル ３−［［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フ ルオロフェニル）−２−チアゾリル］アミノ］ベンゾエート； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（２−フェニルエチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−ブチルアミノ）チアゾール； ４−［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェ ニル）−２−チアゾリル］アミノ安息香酸； ３−［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェ ニル）−２−チアゾリル］アミノ安息香酸； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−エチルチアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フェニルプロピル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（２−メチル−４−チアゾリル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（２−フルオロフェニル） −２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（２，５−ジフルオロフェ ニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（２−クロロフェノキシ）メチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−ブロモフェニル）− ２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（２−フルオロフェニル） −２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（２−フルオロフェニル） −２−（（４−メトキシフェノキシ）メチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−ブロモフェニル）− ２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−メチルチオフェニル ）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（３−フルオロ−４−メト キシフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（３−クロロ−４−メトキ シフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（３−クロロ−４−メチル フェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（３−メチル−４−クロロ フェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（３，４−メチレンジオキ シフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（３，５−ジフルオロ−４ −メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（３，５−ジクロロ−４− メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（ジフルオロメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（メチルチオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（フェニルチオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−フルオロフェニル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−クロロフェニル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−ブロモフェニル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジフルオロフェニル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジクロロフェニル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−フルオロフェニル）チオ］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−クロロフェニル）チオ］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−ブロモフェニル）チオ］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−メチルフェニル）チオ］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンジルチオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−フルオロベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−クロロベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−ブロモベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジフルオロベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジクロロベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−フルオロベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−クロロベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−ブロモベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−メチルベンジル）チオ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（エチルスルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（メチルスルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（フェニルスルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−フルオロフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−クロロフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−ブロモフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジフルオロフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジクロロフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−フルオロフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−クロロフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−ブロモフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−メチルフェニル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンジルスルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−フルオロベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−クロロベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−ブロモベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジフルオロベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジクロロベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−フルオロベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−クロロベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−ブロモベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−メチルベンジル）スルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（フルオロメチルスルホニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（アセチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（トリフルオロアセチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモベンゾイル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルベンゾイル）チアゾール； メチル ［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； エチル ［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； プロピル ［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオ ロフェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； ブチル ［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（ヒドロキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（メトキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（フェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルフェノキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンジルオキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（シアノメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（２−キノリルメチルオキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（２−ナフチルメチルオキシメチル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−フェニルアミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−フルオロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−クロロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−ブロモフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（３，５−ジフルオロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（３，５−ジクロロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−フルオロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−クロロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−ブロモフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−メチルフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−フルオロベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−クロロベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−ブロモベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジフルオロベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジクロロベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−フルオロベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−クロロベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−ブロモベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−メチルベンジル）アミノカルボニル）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンゾイルアミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−フルオロベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−クロロベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３−ブロモベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジフルオロベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（３，５−ジクロロベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−フルオロベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−クロロベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−ブロモベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（（４−メチルベンゾイル）アミノ）チアゾール； ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル） −２−（フェニルアセチル）アミノチアゾール； ２−（（４−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル）− ５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−フェニル−５−［（４−メチルスルホニル ）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（３−フルオロフェニル）−５−［（４− メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ４−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−［ （４−メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（２−メチルフェニル）−５−［（４−メ チルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］− ４−（２−チエニル）チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］− ４−（３−チエニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−（４−ピリジル）チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（２−クロロフェニル）−５−［（４−メ チルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−クロロフェニル）−５−［（４−メ チルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−５−［（４− メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル） −５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（（２−チエニル）スルホニルメチル）−４−（４−フルオロフェニル） −５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（（２−チエニル）スルホニルブロモメチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］− ４−（４−メチルフェニル）チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４− メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； エチル ［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェ ニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； ２−（シアノメチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチル スルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メ チルスルホニル）フェニル］チアゾール； ［５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフェニル ）−２−チアゾリル］酢酸； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−ベンジルチアゾール； ２−（３−［４−ブロモフェニル］プロピル）−４−（４−フルオロフェニル ）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−トリフルオロメチルチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−（２−チエニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−（５−ブロモ−２−チエニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−（３−ピリジル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−メチルチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−ベンジルアミノチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−（１−ピペリジニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−メチルスルホニル）フェニル］ −２−（１−プロピルアミノ）チアゾール； ４−［４−（４−ブロモフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−フェニル−５−チアゾリル］ベン ゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メトキシフェニル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−クロロフェニル）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−ヘキシルアミノ）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−メチルアミノ）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−エチルアミノ）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−（４−フェノキシフェニル ）アミノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； エチル ４−［［５−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−（４−フ ルオロフェニル）−２−チアゾリル］アミノ］ベンゾエート； エチル ３−［［５−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−（４−フ ルオロフェニル）−２−チアゾリル］アミノ］ベンゾエート； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（２−フェニルエチル−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−（３，５−ジクロロフェニ ル）アミノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−ブチルアミノ）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［［５−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフ ェニル）−２−チアゾリル］アミノ］安息香酸； ３−［［５−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロフ ェニル）−２−チアゾリル］アミノ］安息香酸； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−エチル-５−チアゾリル］ベンゼ ンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３−フェニルプロピル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロフェノキシ）メチ ル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（２−メチル−４−チアゾリル） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（２−フルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）− ５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（２，３，４，５，６−ペンタフ ルオロフェニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（２−クロロフェノキシ）メチ ル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（２−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロフェノキシ）メチ ル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロフェノキシ ）メチル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（２−フルオロフェニル）−２−（（４−メトキシフェノキシ）メ チル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−ブロモロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−メチルチオフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（３−クロロ−４−メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェニ ル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−２−（２−クロロフェニル ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（３−メチル−４−クロロフェニル）−２−（２−クロロフェニル ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−２−（２−クロロフェニ ル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（３，５−ジフルオロ−４−メトキシフェニル）−２−（２−クロ ロフェニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（３，５−ジクロロ−４−メトキシフェニル）−２−（２−クロロ フェニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ジフルオロメチル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（メチルチオ）−５−チアゾリル ］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（フェニルチオ）−５−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロフェニル）チオ ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロフェニル）チオ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモフェニル）チオ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロフェニル ）チオ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（３，５−ジクロロフェニル） チオ］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−フルオロフェニル）チオ ］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−クロロフェニル）チオ］ −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−ブロモフェニル）チオ］ −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルフェニル）チオ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンジルチオ）−５−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロベンジル）チオ ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロベンジル）チオ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモベンジル）チオ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロベンジル ）チオ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロベンジル） チオ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロベンジル）チオ ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロベンジル）チオ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモベンジル）チオ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルベンジル）チオ） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（エチルスルホニル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（メチルスルホニル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（フェニルスルホニル）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロフェニル）スル ホニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロフェニル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモフェニル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロフェニル ）スルホニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロフェニル） スルホニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロフェニル）スル ホニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロフェニル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモフェニル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルフェニル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンジルスルホニル）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロベンジル）スル ホニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロベンジル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモベンジル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロベンジル ）スルホニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロベンジル） スルホニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロベンジル）スル ホニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロベンジル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモベンジル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルベンジル）スルホ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（フルオロメチルスルホニル）− ５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（アセチル）−５−チアゾリル］ ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（トリフルオロアセチル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンゾイル）−５−チアゾリル ］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３−フルオロベンゾイル）−５ −チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３−クロロベンゾイル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３−ブロモベンゾイル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３，５−ジフルオロベンゾイル ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３，５−ジクロロベンゾイル） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロベンゾイル）−５ −チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−クロロベンゾイル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ブロモベンゾイル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルベンゾイル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； メチル ［５−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； エチル ［５−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； プロピル ［５−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオ ロフェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； ブチル ［５−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ヒドロキシメチル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（メトキシメチル）−５−チアゾ リル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（フェノキシメチル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３−フルオロフェノキシメチル ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３−クロロフェノキシメチル） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３−ブロモフェノキシメチル） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３，５−ジフルオロフェノキシ メチル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３，５−ジクロロフェノキシメ チル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェノキシメチル ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−クロロフェノキシメチル） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ブロモフェノキシメチル） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルフェノキシメチル） −５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンジルオキシメチル）−５− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（シアノメチル）−５−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（２−キノリルメチルオキシメチ ル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（２−ナフチルメチルオキシメチ ル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−フェニルアミノカルボニル ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（３−フルオロフェニル）アミ ノカルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（３−クロロフェニル）アミノ カルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（３−ブロモフェニル）アミノ カルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（３，５−ジフルオロフェニル ）アミノカルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（３，５−ジクロロフェニル） アミノカルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−フルオロフェニル）アミ ノカルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−クロロフェニル）アミノ カルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−ブロモフェニル）アミノ カルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−メチルフェニル）アミノ カルボニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンジルアミノカルボニル）− ５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロベンジル）アミ ノカルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロベンジル）アミノ カルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモベンジル）アミノ カルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロベンジル ）アミノカルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロベンジル） アミノカルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロベンジル）アミ ノカルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロベンジル）アミノ カルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモベンジル）アミノ カルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルベンジル）アミノ カルボニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンゾイルアミノ）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロベンゾイル）ア ミノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロベンゾイル）アミ ノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモベンゾイル）アミ ノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロベンゾイ ル）アミノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロベンゾイル ）アミノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロベンゾイル）ア ミノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロベンゾイル）アミ ノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモベンゾイル）アミ ノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルベンゾイル）アミ ノ）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（フェニルアセチル）アミノ−５ −チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（（４−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニ ル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−フェニル−５−チアゾリル］ベンゼ ンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−（３−フルオロフェニル）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）− ５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−（２−メチルフェニル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−（２−チエニル）−５−チアゾリル ］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−（３−チエニル）−５−チアゾリル ］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ピリジル）−５−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−（２−クロロフェニル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−（４−クロロフェニル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（（２−チエニル）スルホニルメチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（（２−チエニル）スルホニルブロモメチル）−４−（４−フルオ ロフェニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（２−クロロフェニル）−４−（４−メチルフェニル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； エチル ［４−（４−フルオロフェニル）−５−［（４−アミノスルホニル） フェニル］−２−チアゾリル］カルボキシレート； ４−［２−（シアノメチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−ベンジル−５−チアゾリル］ベン ゼンスルホンアミド； ４−［２−（３−［４−ブロモフェニル］プロピル）−４−（４−フルオロフ ェニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンア ミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−トリフルオロメチル−５−チアゾ リル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（２−チエニル）−５−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（５−ブロモ−２−チエニル）− ５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（３−ピリジル）−５−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−５−チアゾリル］ベンゼ ンスルホンアミド； ４−［４−（４−クロロフェニル）−２−メチル−５−チアゾリル］ベンゼン スルホンアミド； ４−［４−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−２−メチル−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−フェニル−２−メチル−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド ； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−ベンジルアミノ−５−チアゾリル ］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−２−ベンジルアミノ− ５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（１−ピペリジル）−５−チアゾ リル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（１−プロピルアミノ）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾー ル−５−イル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロフェノキシ ）メチル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（トリフルオロメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−クロロフェニル）− ２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−メトキシフェニル） −２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−メチルフェニル）− ２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−ブロモフェニル）− ２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−メチルチオフェニル ）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（３−フルオロ−４−メト キシフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（３−クロロ−４−メトキ シフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（３−クロロ−４−メチル フェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（３−メチル−４−クロロ フェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（３，４−メチレンジオキ シフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（３，５−ジフルオロ−４ −メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（３，５−ジクロロ−４− メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−メチルチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（３−フルオロ−４−メト キシフェニル）−２−（２−メチル−４−チアゾリル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（ジフルオロメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（メチルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロ−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロ−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモ−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロ−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロ−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロ−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロ−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモ−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチル−フェニルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルベンジルチオ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（エチルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（メチルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（フェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルフェニルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルベンジルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（フルオロメチルスルホニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（アセチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（トリフルオロアセチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルベンゾイル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−チアゾリル］酢酸； ［４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル ）−２−チアゾリル］プロパン酸； ［４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル ）−２−チアゾリル］ブタン酸； ［４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル ）−２−チアゾリル］ペンタン酸； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（ヒドロキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（メトキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（フェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルフェニルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンジルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（シアノメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（２−キノリルメチルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（２−ナフチルメチルオキシメチル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（Ｎ−フェニルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−フルオロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−クロロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−ブロモフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３，５−ジフルオロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３，５−ジクロロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−フルオロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−クロロフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−ブロモフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−メチルフェニル）アミノカルボニル］チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルベンジルアミノカルボニル）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（ベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−フルオロベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−クロロベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３−ブロモベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジフルオロベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（３，５−ジクロロベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−フルオロベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−クロロベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−ブロモベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルベンゾイルアミノ）チアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（フェニルアセチル）アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−フルオロフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−クロロフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３−ブロモフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３，５−ジフルオロフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（３，５−ジクロロフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−フルオロフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−クロロフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−ブロモフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−［（４−メチルフェニル）アセチル］アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（フルオロメチルスルホニル）アミノチアゾール； ４−［（４−メチルスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロフェニル） −２−（メチルスルホニル）アミノチアゾール； ４−［５−（４−クロロフェニル）−２−メチル−４−チアゾリル］ベンゼン スルホンアミド； ４−［５−（４−ブロモフェニル）−２−メチル−４−チアゾリル］ベンゼン スルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（トリフルオロメチル）−４−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−４−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−メチルチオフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−４− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（３−クロロ−４−メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェニ ル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−２−（２−クロロフェニル ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（３−メチル−４−クロロフェニル）−２−（２−クロロフェニル ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−２−（２−クロロフェニ ル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（３，５−ジフルオロ−４−メトキシフェニル）−２−（２−クロ ロフェニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（３，５−ジクロロ−４−メトキシフェニル）−２−（２−クロロ フェニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−クロロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−４−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−メトキシフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−４−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−メチルフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−４−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（ジフルオロメチル）−４−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（メチルチオ）−４−チアゾリル ］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（フェニルチオ）−４−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロフェニル）チオ ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロフェニル）チオ） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモフェニル）チオ） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロフェニル ）チオ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（３，５−ジクロロフェニル） チオ］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−フルオロフェニル）チオ ］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−クロロフェニル）チオ］ −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−ブロモフェニル）チオ］ −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルフェニル）チオ） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンジルチオ）−４−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロベンジル）チオ ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロベンジル）チオ） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモベンジル）チオ） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロベンジル ）チオ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロベンジル） チオ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロベンジル）チオ ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロベンジル）チオ） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモベンジル）チオ） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルベンジル）チオ） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（エチルスルホニル）−４−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（メチルスルホニル）−４−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（フェニルスルホニル）−４−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロフェニル）スル ホニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロフェニル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモフェニル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロフェニル ）スルホニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロフェニル） スルホニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロフェニル）スル ホニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロフェニル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモフェニル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルフェニル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンジルスルホニル）−４−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロベンジル）スル ホニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロベンジル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモベンジル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロベンジル ）スルホニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロベンジル） スルホニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロベンジル）スル ホニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロベンジル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモベンジル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルベンジル）スルホ ニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（フルオロメチルスルホニル）− ４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（アセチル）−４−チアゾリル］ ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（トリフルオロアセチル）−４− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンゾイル）−４−チアゾリル ］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３−フルオロベンゾイル）−４ −チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３−クロロベンゾイル）−４− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３−ブロモベンゾイル）−４− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３，５−ジフルオロベンゾイル ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３，５−ジクロロベンゾイル） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロベンゾイル）−４ −チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（４−クロロベンゾイル）−４− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ブロモベンゾイル）−４− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルベンゾイル）−４− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； メチル ［４−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； エチル ［４−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； プロピル ［４−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオ ロフェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； ブチル ［４−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−５−（４−フルオロ フェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレート； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（ヒドロキシメチル）−４−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（メトキシメチル）−４−チアゾ リル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（フェノキシメチル）−４−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３−フルオロフェノキシメチル ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３−クロロフェノキシメチル） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３−ブロモフェノキシメチル） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３，５−ジフルオロフェノキシ メチル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（３，５−ジクロロフェノキシメ チル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（４−フルオロフェノキシメチル ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（４−クロロフェノキシメチル） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（４−ブロモフェノキシメチル） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルフェノキシメチル） −４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンジルオキシメチル）−４− チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（シアノメチル）−４−チアゾリ ル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（２−キノリルメチルオキシメチ ル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（２−ナフチルメチルオキシメチ ル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（Ｎ−フェニルアミノカルボニル ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（３−フルオロフェニル）アミ ノカルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（３−クロロフェニル）アミノ カルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（３−ブロモフェニル）アミノ カルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（３，５−ジフルオロフェニル ）アミノカルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（３，５−ジクロロフェニル） アミノカルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−フルオロフェニル）アミ ノカルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−クロロフェニル）アミノ カルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−ブロモフェニル）アミノ カルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−メチルフェニル）アミノ カルボニル］−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンジルアミノカルボニル）− ４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロベンジル）アミ ノカルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロベンジル）アミノ カルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモベンジル）アミノ カルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロベンジル ）アミノカルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロベンジル） アミノカルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロベンジル）アミ ノカルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロベンジル）アミノ カルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモベンジル）アミノ カルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルベンジル）アミノ カルボニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（ベンゾイルアミノ）−４−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−フルオロベンゾイル）ア ミノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−クロロベンゾイル）アミ ノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３−ブロモベンゾイル）アミ ノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジフルオロベンゾイ ル）アミノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（３，５−ジクロロベンゾイル ）アミノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−フルオロベンゾイル）ア ミノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−クロロベンゾイル）アミ ノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−ブロモベンゾイル）アミ ノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド； ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（（４−メチルベンゾイル）アミ ノ）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド；および ４−［５−（４−フルオロフェニル）−２−（フェニルアセチル）アミノ−４ −チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド。 式Ｉの範囲内には、下記式IIで表わされる非常に重要な化合物またはその医薬 として許容される塩からなる付属群がある： 式中、Ｒ⁴はアルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁵はアリール、シクロアルキル、シクロアルケニルおよびヘテロ環から選択 され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、アルキルチオ、アルキ ルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アミノスルホ ニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、カルボキシル、カルボキシ アルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−アルキルア ミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカ ルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、ハロアルキル、ヒド ロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ−ア ルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択され る１個または２個以上の基を有していてもよく；そして Ｒ⁶はハロ、アミノ、アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル 、アシル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルケニル 、アルキニル、ハロアルコキシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキル アミノ、アルコキシカルボニルアルキル、アルキルアミノアルキル、ヘテロシク ロアルキル、アラルキル、シアノアルキル、Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、ヘ テロアリールスルホニルアルキル、ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、ア リールオキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環か ら選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、 ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアル キ ルキル、ハロアルコキシ、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノ カルボニル、アミノ、アシルおよびアルキルアミノから選択される１個または２ 個以上の基を有していてもよい。 好適群の化合物は、式IIにおいて、Ｒ⁴が低級アルキルおよびアミノから選択 され；Ｒ⁵がアリール、低級シクロアルキル、低級シクロアルケニルおよびヘテ ロアリールから選択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低 級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級ハ ロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、低級アルキル、低級アルケニル、低 級アルキニル、シアノ、カルボキシル、低級カルボキシアルキル、低級アルコキ シカルボニル、アミノカルボニル、アシル、低級Ｎ−アルキルアミノカルボニル 、低級Ｎ−アリールアミノカルボニル、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニ ル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、低級ハロアルキル、ヒ ドロキシル、低級アルコキシ、低級ヒドロキシアルキル、低級ハロアルコキシ、 アミノ、低級Ｎ−アルキルアミノ、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環お よびニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよく；そして Ｒ⁶がハロ、アミノ、低級アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノカルボニ ル、アシル、低級アルキルアミノカルボニル、低級アリールアミノカルボニル、 低級アルケニル、低級アルキニル、低級ハロアルコキシ、低級アルキルアミノ、 フェニルアミノ、低級アラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアルキル、 低級アルキルアミノアルキル、低級ヘテロシクロアルキル、低級アラルキル、低 級シアノアルキル、低級Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、低級ヘテロアリールス ルホニルアルキル、低級ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、低級アリール オキシアルキル、低級アラルキルオキシアルキル、フェニル（この基は置換可能 な位置に置換基として、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチ オ、低級アルキルスルフィニル、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキシ、低級 カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、 アシルおよび低級アルキルアミノから選択される１個または２個以上の基を有し ていてもよい）およびヘテロ環（この基は置換可能な位置に置換基として、ハロ 、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニ ル、 低級ハロアルキルキル、低級ハロアルコキシ、低級カルボキシアルキル、低級ア ルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよび低級アルキルア ミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい）から選択され る化合物またはその医薬として許容される塩からなる。 式Ｉの範囲内には、下記式III で表わされる格別に重要な化合物またはその医 薬として許容される塩からなる第二の付属群がある： 式中、Ｒ⁴はアルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁵はアリール、シクロアルキル、シクロアルケニルおよびヘテロ環から選択 され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、アルキルチオ、アルキ ルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アミノスルホ ニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、カルボキシル、カルボキシ アルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−アルキルア ミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカ ルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、ハロアルキル、ヒド ロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ−ア ルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択され る１個または２個以上の基を有していてもよく；そして Ｒ⁷はヒドリド、アルキル、ハロアルキル、シアノ、ヒドロキシアルキル、ア ルコキシアルキル、カルボキシル、カルボキシアルキルおよびアルコキシキカル ボニルから選択され； ただし、Ｒ⁷がメチルである場合には、Ｒ⁵は４−フルオロフェニルではなく； ただしさらにまたＲ⁵はα，α−ビス（メチル）メタノールにより置換されてい るフェニルではなく；そしてただしさらにまたＲ⁷がα，α−ビス（トリフルオ ロメチル）メタノールである場合には、Ｒ⁴はメチルではない。 好適群の化合物は式III において、Ｒ⁴が低級アルキルおよびアミノから選択 され；Ｒ⁵がアリール、低級シクロアルキル、低級シクロアルケニルおよびヘテ ロアリールから選択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低 級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級ハ ロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、低級アルキル、低級アルケニル、低 級アルキニル、シアノ、カルボキシル、低級カルボキシアルキル、低級アルコキ シカルボニル、アミノカルボニル、アシル、低級Ｎ−アルキルアミノカルボニル 、低級Ｎ−アリールアミノカルボニル、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニ ル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、低級ハロアルキル、ヒ ドロキシル、低級アルコキシ、低級ヒドロキシアルキル、低級ハロアルコキシ、 アミノ、低級Ｎ−アルキルアミノ、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環お よびニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよく；そして Ｒ⁷がヒドリド、低級アルキル、低級ハロアルキル、シアノ、低級ヒドロキシア ルキル、低級アルコキシアルキル、カルボキシル、低級カルボキシアルキルおよ び低級アルコキシキカルボニルから選択される；化合物またはその医薬として許 容される塩からなる。 式Ｉの範囲内には、下記式IVで表わされる格別に重要な化合物またはその医薬 として許容される塩からなる第三の付属群がある： 式中、Ｒ¹はヒドリド、ハロ、アミノ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、ヒドロ キシル、アミノカルボニル、アシル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミ ノカルボニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルコ キシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、カルボキシル、カ ルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、ア ルキルアミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル、ヒドロキシアルキ ル、アルコキシアルキル、シアノアルキル、Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、ヘ テロアリールスルホニルアルキル、ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、ア リールオキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環か ら選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、 ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアル キル、ハロアルコキシ、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカ ルボニル、アミノ、アシルおよびアルキルアミノから選択される１個または２個 以上の基を有していてもよく； Ｒ⁴はアルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁸はヘテロ環であり；このＲ⁸基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、ア ルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シア ノ、カルボキシル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボ ニル、アシル、Ｎ−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル 、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカ ルボニル、ハロアルキル、ヒドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハ ロアルコキシ、アミノ、Ｎ−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノおよび ニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい。 好適群の化合物は式IVにおいて、Ｒ¹がヒドリド、ハロ、アミノ、低級アルコ キシ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、低級アルキ ルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、低級アルキル、低級アルケニ ル、低級アルキニル、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキシ、低級アルキルア ミノ、フェニルアミノ、低級アラルキルアミノ、カルボキシル、低級カルボキシ アルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アルコキシカルボニルアルキル、低 級アルキルアミノアルキル、低級ヘテロシクロアルキル、低級アラルキル、低級 ヒドロキシアルキル、低級アルコキシアルキル、低級シアノアルキル、低級Ｎ− アルキルスルホニルアミノ、低級ヘテロアリールスルホニルアルキル、低級ヘテ ロアリールスルホニルハロアルキル、低級アリールオキシアルキル、アラルキル オキシアルキル、アリール（このアリール基は置換可能な位置に置換基として、 ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフ ィニル、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキシ、低級カルボキシアルキル、低 級アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよび低級アルキ ルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい）およびヘ テロ環（このヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低級アルキル 、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級ハロア ルキル、低級ハロアルコキシ、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボ ニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよび低級アルキルアミノから選択さ れる１個または２個以上の基を有していてもよい）から選択され；Ｒ⁴が低級ア ルキルおよびアミノから選択され；そしてＲ⁸が窒素含有ヘテロアリール基（こ の基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキル チオ、アミノおよびアルキルアミノから選択される１個または２個以上の基を有 していてもよい）から選択される；化合物またはその医薬として許容される塩か らなる。 特に重要な化合物の一群は、式IVにおいて、Ｒ¹がヒドリド、メチル、エチル 、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル 、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジ クロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロ ピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、 ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、シアノメチル、シア ノエチル、シアノプロピル、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブ チルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、フェ ネチル、フェニルプロピル、ベンジル、フェニルアミノ、チエニルスルホニルメ チル、チエニルスルホニルブロモメチル、ベンジルアミノ、フェノキシメチル、 ３，５−ジクロロフェニルアミノ、３，５−ジクロロフェノキシメチル、３−ク ロロフェノキシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポ キシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキ シカルボニル、イソブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、フェニル（こ の基は置換可能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシ、 エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシおよびｔｅｒｔ−ブトキシか ら選 択される１個または２個以上の基を有していてもよい）およびチエニル、ピリジ ル、フリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリ ニル、イミダゾリル、チアゾリル、ピロリル、ピラゾリルおよびトリアゾリルか ら選択されるヘテロ環基（この基は置換可能な位置に置換基として、フルオロ、 クロロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル 、イソプチルおよびｔｅｒｔ−ブチルから選択される１個または２個以上の基を 有していてもよい）から選択され；Ｒ⁴がメチルまたはアミノであり；そしてＲ⁸ がピリジル、チエニル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピラジニル 、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリルおよびベンズイミダゾリルから選択 され、このＲ⁸基は置換可能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ 、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、メトキシ、 エトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソ ブトキシ、ペントキシ、メチルチオ、アミノ、Ｎ−メチルアミノおよびＮ，Ｎ− ジメチルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい；化 合物またはその医薬として許容される塩からなる。 式IVの範囲内の特に重要な特定の化合物の一群は下記の化合物およびその医薬 として許容される塩からなる： ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスル ホニルフェニル）チアゾール； ２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−４−（４−ピリジル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ５−（４−ピリジル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−メチル チアゾール； ４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−トリフ ルオロメチルチアゾール； ４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（２− チエニル）チアゾール； ４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−ベンジ ルアミノチアゾール； ４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（１− プロピルアミノ）チアゾール； ２−［（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル］−４−（４−ピリジル）−５ −［４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−ピラジニル）−５−（４−メチルス ルホニルフェニル）チアゾール； ２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−ピリジル）−５−（４ −メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ４−（４−ピリジル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］−２−（ ２−メチル−４−チアゾリル）チアゾール； ４−（４−ピリジル）−２−［（４−メトキシフェノキシ）メチル］−５−［ ４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−フェニ ルチアゾール； ４−（４−ピリジル）−２−ｎ−ヘキシルアミノ−５−（４−メチルスルホニ ルフェニル）チアゾール； ２−ブチルアミノ−４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェ ニル）チアゾール； ４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−メチル アミノチアゾール； ４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（４− メトキシフェニル）チアゾール； ２−エチルアミノ−４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェ ニル）チアゾール； ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ−４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスル ホニルフェニル）チアゾール； ２−（３，５−ジクロロフェニルアミノ）−４−（４−ピリジル）−５−（４ −メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ５−（４−ピリジル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−トリフ ルオロメチルチアゾール；および ４−（４−ピリジル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（２， ３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）チアゾール。 式IVで表わされる化合物はまた、ＴＮＦ、ＩＬ−１、ＩＬ−６およびＩＬ−８ などのサイトカイン類を抑制することができる。従って、これらの化合物は、Ｔ ＮＦ、ＩＬ−１、ＩＬ−６およびＩＬ−８などのサイトカイン類によって媒介さ れる病気の予防的処置または治療的処置の処置方法にまたは医薬の製造に使用す ることができる。 「ヒドリド」の用語は、１個の水素原子（Ｈ）を表わす。このヒドリド基は、 例えば酸素原子に結合して、ヒドロキシル基を形成することができ、あるいは２ 個のヒドリド基は炭素原子に結合して、メチレン基（−ＣＨ₂−）を形成するこ とができる。単独で、あるいは「ハロアルキル」、「アルキルスルホニル」、「 アルコキシアルキル」および「ヒドロキシアルキル」などのように、別の用語と 組み合わされて、「アルキル」の用語が使用されている場合に、このアルキル基 は炭素原子１個〜約２０個、好ましくは炭素原子１個〜約１２個を有する直鎖状 または分枝鎖状基を包含する。さらに好ましいアルキル基は炭素原子１個〜約１ ０個を有する低級アルキル基である。最も好ましいアルキル基は炭素原子１個〜 約６個を有する低級アルキル基である。このような基の例には、メチル、エチル 、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ ｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソアミル、ヘキシルなどが包含される。「アルケ ニル」の用語が使用されている場合に、この基は炭素原子２個〜約２０個または 好ましくは炭素原子２個〜約１２個を有する直鎖状または分枝鎖状の炭素−炭素 二重結合を含有する基を包含する。さらに好ましいアルケニル基は炭素原子２個 〜約６個を有する「低級アルケニル」基である。適当な「低級アルケニル」はビ ニル、アリル、イソプロペニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニルなどの直鎖 状または分枝鎖状基であることができ、好ましくはイソプロペニルである。上記 低級アルケニルはシアノにより置換されていてもよい。「アルキニル」の用語が 使用されている場合に、この基は炭素原子２個〜約２０個または好ましくは炭素 原子２個〜約１２個を有する直鎖状または分枝鎖状の炭素−炭素三重結合を含 有する基を包含する。さらに好ましいアルケニル基は炭素原子２個〜約６個を有 する「低級アルキニル」基である。適当な「低級アルキニル」はエチニル、プロ ピニル、プロパルギルなどの直鎖状または分枝鎖状基であることができ、好まし くはプロパルギルである。「ハロ」の用語はハロゲン、例えばフッ素、塩素、臭 素またはヨウ素を意味する。「ハロアルキル」の用語は、アルキル炭素原子のい ずれか１個または２個以上が前記定義のハロにより置換されている基を包含する 。詳細には、モノハロアルキル、ジハロアルキルおよびポリハロアルキル基が包 含される。一例として、モノハロアルキルはその基内にヨウド、ブロモ、クロロ またはフルオロを有することができる。ジハロアルキル基およびポリハロアルキ ル基は２個または３個以上の同一ハロ原子または相違するハロ基の組合わせを有 することができる。「低級ハロアルキル」は、炭素原子１〜６個を有する基を包 含する。ハロアルキル基の例には、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフ ルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフル オロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフル オロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチルおよびジ クロロプロピルが包含される。「ヒドロキシアルキル」の用語は、炭素原子１個 〜約１０個を有し、そのいずれか１個が１個または２個以上のヒドロキシル基に より置換されている直鎖状または分枝鎖状アルキル基を包含する。さらに好まし くは、ヒドロキシアルキル基は炭素原子１〜６個を有しかつまた１個または２個 以上のヒドロキシル基を有する「低級ヒドロキシアルキル」基である。このよう な基の例は、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒド ロキシブチルおよびヒドロキシヘキシルを包含する。「アルコキシ」および「ア ルコキシアルキル」の用語は、そのアルキル部分にそれぞれ炭素原子１個〜約１ ０個を有する直鎖状または分枝鎖状基のオキシ含有基を包含する。さらに好まし くは、アルコキシ基は炭素原子１〜６個を有する「低級アルコキシ」基である。 このような基の例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシおよびｔｅｒ ｔ−ブトキシを包含する。「アルコキシアルキル」の用語は、アルキル基に結合 している１個または２個以上のアルコキシ基を有するアルキル基、すなわちモノ アルコキシアルキルおよびジアルコキシアルキルを形成している基を包含する。 さ らに好ましくは、アルコキシアルキル基は炭素原子１〜６個を有しかつまた１個 または２個のアルコキシ基を有する「低級アルコキシアルキル」基である。この ような基の例は、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシ ブチルおよびメトキシプロピルを包含する。この「アルコキシ」または「アルコ キシアルキル」基は１個または２個以上のハロ原子、例えばフルオロ、クロロま たはブロモによりさらに置換されていて、「ハロアルコキシ」または「ハロアル コキシアルキル」基を形成することもできる。さらに好ましくは、ハロアルコキ シ基は、炭素原子１〜６個を有しかつまた１個または２個のハロ基を有する「低 級ハロアルコキシ」基である。このような基の例は、フルオロメトキシ、クロロ メトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロエトキシ、フルオロエトキシお よびフルオロプロポキシを包含する。「シクロアルキル」の用語は、炭素原子３ 個〜１２個を有する飽和炭素環状基を包含する。さらに好ましくは、シクロアル キル基は炭素原子３個〜約８個を有する「低級シクロアルキル」基である。この ような基の例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロ ヘキシルを包含する。「シクロアルケニル」の用語は、炭素原子３〜１０個を有 する不飽和環状基を包含する。さらに好ましくは、シクロアルケニル基は、炭素 原子約５個〜約８個を有する「低級シクロアルケニル」基である。このような基 の例は、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルおよびシクロヘ プテニルを包含する。「アリール」の用語は、単独でまたは組み合わされて、１ 個、２個または３個の環を含有する炭素環状芳香族系を意味し、これらの環は一 緒に側鎖状に結合しているかまたは縮合していることができる。「アリール」の 用語は、フェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インダンおよびビフェニ ルなどの芳香族基を包含する。このようなアリール基は、置換可能な位置に置換 基として、ハロ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル、シアノ、ハ ロアルキル、ヒドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキルおよびハロアルコ キシから選択される１個または２個以上の置換基を有することができる。「ヘテ ロ環」および「ヘテロシクロ」の用語は、飽和、部分的飽和および不飽和のヘテ ロ原子含有環形成基を包含し、ここでヘテロ原子は窒素、硫黄および酸素から選 択することができる。飽和ヘテロ環基の例には、１〜４個の窒素原子を含有する 飽和３〜６員ヘテロ一環状基［例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペ リジノ、ピペラジニルなど］；１〜２個の酸素原子および１〜３個の窒素原子を 含有する飽和３〜６員ヘテロ一環状基［例えば、モルホリニルなど］；１〜２個 の硫黄原子および１〜３個の窒素原子を含有する飽和３〜６員ヘテロ一環状基［ 例えば、チアゾリジニルなど］が包含される。部分的飽和ヘテロ環状基の例には 、ジヒドロチオフェン、ジヒドロピラン、ジヒドロフランおよびジヒドロチアゾ ールが包含される。「ヘテロアリール」の用語は、不飽和ヘテロ環状基を包含す る。「ヘテロアリール」基の用語でも表わされる、不飽和ヘテロ環状基の例には 、１〜４個の窒素原子を含有する不飽和３〜６員ヘテロ一環状基、例えばピロリ ル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、２−ピリジル、３−ピリジル、４ −ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル［例えば、 ４Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，３−トリアゾリル、２Ｈ−１ ，２，３−トリアゾリルなど］、テトラゾリル［例えば、１Ｈ−テトラゾリル、 ２Ｈ−テトラゾリルなど］など；１〜５個の窒素原子を含有する不飽和縮合ヘテ ロ環状基、例えばインドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベンズイミダ ゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラ ゾロピリダジニル［例えば、テトラゾロ［１，５−ｂ］ピリダジニルなど］など ；酸素原子を含有する不飽和３〜６員ヘテロ一環状基、例えばピラニル、２−フ リル、３−フリルなど；硫黄原子を含有する不飽和３〜６員ヘテロ一環状基、例 えば２−チエニル、３−チエニルなど；１〜２個の酸素原子および１〜３個の窒 素原子を含有する不飽和３〜６員ヘテロ一環状基、例えばオキサゾリル、イソオ キサゾリル、オキサジアゾリル［例えば１，２，４−オキサジアゾリル、１，３ ，４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリルなど］など；１〜２個 の酸素原子および１〜３個の窒素原子を含有する不飽和縮合ヘテロ環状基［例え ばベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリルなど］など；１〜２個の硫黄原 子および１〜３個の窒素原子を含有する不飽和３〜６員ヘテロ一環状基、例えば チアゾリル、チアジアゾリル［例えば１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４ −チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾリルなど］など；１〜２個の硫黄原 子および１〜３個の窒素原子を含有する不飽和縮合ヘテロ環状基［例えばベンゾ チ アゾリル、ベンゾチアジアゾリルなど］など；が包含される。この用語にはまた 、そのヘテロ環状基がアリール基と縮合している基が包含される。このような縮 合二環状基の例には、ベンゾフラン、ベンゾチオフェンなどが包含される。上記 「ヘテロ環状基」は、置換可能な位置に置換基として、ハロ、アルキルチオ、ア ルキルスルフィニル、アルキル、シアノ、ハロアルキル、ヒドロキシル、アルコ キシ、ヒドロキシアルキルおよびハロアルコキシから選択される１個または２個 以上の置換基を有することができる。さらに好ましくは、ヘテロアリール基は、 ５〜６員のヘテロアリール基を包含する。「ヘテロシクロアルキル」の用語は、 ヘテロ環状基−置換アルキル基を包含する。さらに好ましくは、ヘテロシクロア ルキル基は炭素原子１〜６個およびヘテロ環状基を有する「低級ヘテロシクロア ルキル」基である。このような基の例は、ピロリジニルメチルを包含する。「ア ルキルチオ」の用語は、２価の硫黄原子に結合している１個〜約１０個の炭素原 子を有する直鎖状または分枝鎖状アルキル基を有する基を包含する。さらに好ま しくは、アルキルチオ基は、炭素原子１〜６個を有するアルキル基を含む「低級 アルキルチオ」基である。このような低級アルキルチオ基の例には、メチルチオ 、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオおよびヘキシルチオが包含される。「 アルキルスルフィニル」の用語は、２価の−Ｓ（＝Ｏ）−基に結合している炭素 原子１〜１０個の直鎖状または分枝鎖状アルキル基を有する基を包含する。さら に好ましくは、アルキルスルフィニル基は、炭素原子１〜６個を有する「低級ア ルキルスルフィニル」基である。このような低級アルキルスルフィニル基の例は 、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ブチルスルフィニルおよびヘキシ ルスルフィニルを包含する。単独で、またはアルキルスルホニルなどのように他 の用語と結合して使用されている「スルホニル」の用語はそれぞれ、２価の基− ＳＯ₂を意味する。「アルキルスルホニル」は、スルホニル基に結合している前 記定義のとおりのアルキル基を包含する。さらに好ましくは、アルキルスルホニ ル基は、炭素原子１〜６個を有する「低級アルキルスルホニル」基である。この ような低級アルキルスルホニル基の例は、メチルスルホニル、エチルスルホニル およびプロピルスルホニルを包含する。この「アルキルスルホニル」基はまた、 フルオロ、クロロまたはブロモなどの１個または２個以上のハロ原子を置換基と して有し、「ハロアルキルスルホニル基」を形成していてもよい。さらに好まし くは、ハロアルキルスルホニル基は、上記定義のとおりの低級アルキルスルホニ ル基に結合している１個または２個以上のハロ原子を有する「低級ハロアルキル スルホニル」基である。このような低級ハロアルキルスルホニル基の例は、フル オロメチルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニルおよびクロロメチルスル ホニルを包含する。「スルファミル」、「アミノスルホニル」および「スルホン アミジル」の用語は、ＮＨ₂Ｏ₂Ｓ−を意味する。「アシル」の用語は、有機酸か らヒドロキシル基を除いた後の残留部分により提供される基を意味する。このよ うなアシル基の例は、アルカノイルおよびアロイル基を包含する。単独で、また は「カルボキシアルキル」などのように他の用語と組合わせて使用されている語 として、「カルボキシ」または「カルボキシル」の用語は、−ＣＯ₂Ｈを意味す る。単独で、または「アルコキシカルボニル」などのように他の用語と組合わせ て使用されている語として、「カルボニル」の用語は、−（Ｃ＝Ｏ）−を表わす 。「アルコキシカルボニル」の用語は、酸素原子を介してカルボニル基に結合し ている、前記定義のとおりのアルコキシ基を含む基を意味する。好ましくは、「 低級アルコキシカルボニル」は、炭素原子１〜６個を含有するアルコキシ基を包 含する。このような「低級アルコキシカルボニル」エステル基の例には、置換基 を有するか、または未置換のメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ キシカルボニル、ブトキシカルボニルおよびヘキシルオキシカルボニルが包含さ れる。「アルコキシカルボニルアルキル」の用語は、アルキル基に置換されてい る、前記定義のとおりの「アルコキシカルボニル」を含む基を意味する。「カル ボキシアルキル」の用語は、遊離酸残基を有するようにアルキル基に結合してい るカルボン酸基を包含する。アルカノイル基は、例えばホルミル、アセチル、プ ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、 ヘキサノイル、トリフルオロアセチルなどのような置換基を有するか、または未 置換の基であることができ、好ましくはホルミル、アセチル、プロピオニルまた はトリフルオロアセチルである。「アロイル」基は、ベンゾイル、ナフトイル、 トルオイル、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ベンゾイルなどであることができ、このア ロイル中のアリールはさらに置換されていてもよい。「アラルキル」の用語は、 アリール置換アルキル基を包含する。好ましいアラルキル基は、炭素原子１〜６ 個を有するアルキル基に結合しているアリール基を有する「低級アラルキル」基 である。このような基の例は、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチ ル、フェニルエチルおよびジフェニルエチルを包含する。上記アラルキル中のア リールは、置換可能な位置に、置換基として、ハロ、アルキルチオ、アルキルス ルフィニル、アルキル、シアノ、ハロアルキル、ヒドロキシル、アルコキシ、ヒ ドロキシアルキルおよびハロアルコキシから選択される１個または２個以上の置 換基を有することができる。ベンジルおよびフェニルメチルの用語は、相互交換 することができる。「アリールオキシ」の用語は、酸素原子を介して別の基に結 合している酸素含有アリール基を包含する。さらに好ましくは、アリールオキシ 基は、フェニル基を含有する「低級アリールオキシ」基である。このような基の 例には、フェノキシがある。「アリールオキシアルキル」の用語は、アルキル基 に結合している１個または２個以上のアルコキシ基を有するアルキル基、すなわ ちモノアリールオキシアルキル基およびジアリールオキシアルキル基を形成して いる基を包含する。「アリールオキシ」または「アリールオキシアルキル」基は 、置換可能な位置に置換基として、１個または２個以上のアルキル、アルコキシ またはハロ基をさらに有し、ハロアリールオキシアルキル基、アルキルアリール オキシ基などを形成することもできる。このような基の例には、クロロフェノキ シおよびメチルフェノキシが包含される。「アラルキルオキシ」の用語は、酸素 原子を介して別の基に結合している酸素含有アラルキル基を包含する。「アラル キルオキシアルキル」の用語は、アルキル基に結合している１個または２個以上 のアラルキルオキシ基を有するアルキル基、すなわちモノアラルキルオキシアル キル基およびジアラルキルオキシアルキル基を形成している基を包含する。この 「アラルキルオキシ」および「アラルキルオキシアルキル」基は、この基のアリ ール環部分にさらに置換基を有していてもよい。「アミノアルキル」の用語は、 アミノ基により置換されているアルキル基を包含する。さらに好ましくは、アミ ノアルキル基は、炭素原子１〜６個を有する「低級アミノアルキル」である。こ の例には、アミノメチル、アミノエチルおよびアミノブチルが包含される。「ア ルキルアミノアルキル」の用語は、少なくとも１個のアルキル基により置換され ている窒素原子を有するアミノアルキル基を表わす。さらに好ましくは、アルキ ルアミノアルキル基は、前記定義のとおりの低級アミノアルキル基に結合してい る炭素原子１〜６個を有する「低級アルキルアミノアルキル」基である。「アル キルアミノ」の用語は、１個または２個のアルキル基により置換されているアミ ノ基を意味する。さらに好ましくは、アルキルアミノ基は、炭素原子１〜６個を 有するアルキル基の１個または２個が窒素原子に結合している「低級アルキルア ミノ」基である。適当な「アルキルアミノ」は、モノまたはジアルキルアミノ基 、例えばＮ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ， Ｎ−ジエチルアミノなどであることができる。「アリールアミノ」の用語は、１ 個または２個のアリール基により置換されているアミノ基、例えばＮ−フェニル アミノを表わす。アリールアミノ基は置換可能な位置に置換基として、１個また は２個以上のアルキル、シアノ、アルコキシ、アルコキシカルボニルまたはハロ 基を有することができる。「アラルキルアミノ」の用語は、１個または２個のア ラルキル基により置換されているアミノ基、例えばＮ−ベンジルアミノ、Ｎ−フ ェネチルアミノおよびフェニルプロピルアミノを表わす。この「アラルキルアミ ノ」または「アリールアミノ」基は、この基中のアリール環部分にさらに置換基 を有することができる。それ自体で、または「Ｎ−アルキルアミノカルボニル」 、「Ｎ−アリールアミノカルボニル」、「Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル 」および「Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル」などのように別の用 語とともに使用されている語として、「アミノカルボニル」の用語は、アミノ置 換カルボニルまたは−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ₂により形成されている基を表わす。「ア ルキルアミノカルボニル」の用語は、「Ｎ−アルキルアミノカルボニル」および 「Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル」を包含し、１個のアルキル基および２ 個のアルキル基によりそれぞれ置換されているアミノカルボニル基を表わす。こ のＮ−アルキルアミノカルボニルは、ハロにより置換されていてもよく、あるい は未置換であることもでき、例えばＮ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−エチルア ミノカルボニル、Ｎ−プロピルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカル ボニル、２，２，２−トリフルオロエチルアミノカルボニルなどであることがで きる。「Ｎ−モノアリールアミノカルボニル」および 「Ｎ−アルキル−Ｎ−ア リールアミノカルボニル」の用語は、１個のアリール基により、または１個のア ルキル基と１個のアリール基とによりそれぞれ置換されているアミド基を表わす 。このＮ−アリールアミノカルボニルは、フェニルアミノカルボニル、ナフチル アミノカルボニル、トリルアミノカルボニル、キシリルアミノカルボニル、メシ チルアミノカルボニル、クメニルアミノカルボニルなどであることができ、好ま しくはフェニルアミノカルボニルである。「アルキルスルホニルアミノ」の用語 は、窒素原子に結合したアルキルスルホニル基を有する基を包含する。さらに好 ましくは、窒素原子に結合している炭素原子１〜６個を有するアルキルスルホニ ル基を有する「低級アルキルスルホニルアミノ」である。「ヘテロアリールスル ホニルアルキル」および「ヘテロアリールスルホニルハロアルキル」の用語は、 スルホニル架橋基を介してそれぞれアルキル基またはハロアルキル基に結合して いるヘテロアリール基を表わす。さらに好ましくは、ヘテロアリールスルホニル アルキルおよびヘテロアリールスルホニルハロアルキル基は、そのアルキル部分 またはハロアルキル部分に炭素原子１〜６個を有する「低級ヘテロアリールスル ホニルアルキル」基および「低級ヘテロアリールスルホニルハロアルキル」基で ある。このような基の例には、チエニルスルホニルメチルおよびチエニルスルホ ニルブチルメチルが包含される。 本発明は、治療有効量の式Ｉで表わされる化合物を少なくとも１種の医薬上で 許容される担体、助剤または希釈剤とともに含有する医薬製剤を包含する。 本発明はまた、対象における炎症または炎症付随障害の処置方法、炎症または 障害を有するか、または炎症または障害を受け易い対象に式Ｉで表わされる化合 物の治療有効量を投与する方法を包含する。 式Ｉで表わされる化合物の一族にはまた、その医薬として許容される塩が包含 される。「医薬として許容される塩」の用語は、アルカリ金属塩の形成におよび また遊離酸または遊離塩基の付加塩の形成に慣用の塩類を包含する。この塩の種 類には、それが医薬上で許容されるものであるかぎり、制限はない。式Ｉで表わ される化合物の適当な医薬として許容される酸付加塩は、無機酸または有機酸か ら製造することができる。このような無機酸の例には、塩酸、臭化水素酸、ヨウ 化水素酸、硝酸、炭酸、硫酸およびリン酸がある。適当な有機酸は、脂肪族、環 状脂肪族、芳香族、芳香族脂肪族、ヘテロ環状、炭素環状およびスルホン酸系の 有機酸の群から選択することができ、この例には、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、 コハク酸、グリコール酸、グルコン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、ア スコルビン酸、グルクロン酸、マレイン酸、フマール酸、ピルビン酸、アスパラ ギン酸、グルタミン酸、安息香酸、アントラニル酸、メシル酸、サリチル酸、ｐ −ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、マンデル酸、エンボン酸（パモ酸）、メ タンスルホン酸、エチルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パントテン酸、トル エンスルホン酸、２−ヒドロキシエタンスルホン酸、スルファニン酸、ステアリ ン酸、シクロヘキシルアミノスルホン酸、アルギン酸、β−ヒドロキシ酪酸、サ リチル酸、ガラクタル酸およびガラクツロン酸がある。式Ｉで表わされる化合物 の適当な医薬として許容される塩基付加塩には、アルミニウム、カルシウム、リ チウム、マグネシウム、カリウム、ナトリウムおよびアエンから製造される金属 塩、あるいはＮ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン、クロロプロカイン、コリ ン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、メグルミン（Ｎ−メチルグルカミ ン）およびプロカインから製造される有機塩が包含される。これらの塩はいずれ も、式Ｉで表わされる対応する化合物から慣用の手段によって製造することがで き、例えば式Ｉで表わされる化合物を相当する酸または塩基と反応させることに よって製造することができる。 一般合成経路 本発明の化合物は、下記の反応経路Ｉ〜Ｘに従い合成することができる。これ らの反応経路において、Ｒ¹〜Ｒ⁸置換基は、別段の記載がないかぎり、上記式Ｉ 〜IVについて定義されているとおりである。 反応経路Ｉ 合成反応経路Ｉは、α−ハロケトン化合物１からの本発明による抗炎症性置換 チアゾール化合物３の製造に使用される方法を示している。このα−ハロケトン 化合物１、例えば２−ブロモ−エタノンを、アセトニトリルおよびアルコール、 例えばメタノールおよびエタノール中で、チオアミド化合物２またはチオ尿素化 合物と反応させ、ハンツェッシュ(Hantzsh)合成により置換チアゾール化合物３ を生成させる［ウイレイ（R．Wiley）等によるチアゾール化合物の製造（The Pr eparation of Thiazoles），オルガニック リアクションズ（ＯＲＧＡＮＩＣ ＲＥＡＣＴＩＯＮＳ），６巻（１９５１）］。 反応経路II 合成反応経路IIは、４工程法を示しており、アルデヒド化合物４および酸化合 物５からの置換ケトン化合物７の製造に使用することができる。第一工程におい て、アルデヒド化合物４と置換酢酸化合物５とを無水酢酸およびトリエチルアミ ンの存在下に加熱して、パーキン（Perkin）縮合により２，３−ジ置換アクリル 酸化合物６を生成させる。第二工程において、水を付加して、対応する２，３− ジ置換アクリル酸化合物６を生成させる。第三工程において、このアクリル酸化 合物６をトルエン中で０℃において、次いで室温でジフェニルホスホリルアジド （ＤＰＰＡ）およびトリエチルアミンと反応させて、アシルアジド化合物を生成 させる。第四工程において、この粗製アシルアジド化合物を加熱し、クルチウス (Curtius)転移によりイソシアネート化合物を生成させる。このイソシアネート 化合物を、ｔｅｒｔ−ブタノールの添加によりＮ−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカル ボニルエナミン誘導体として捕獲する。濃ＨＣｌを使用する酸加水分解に付すと 、置換ケトン７中間体が得られる。 合成反応経路III 合成反応経路IIIは、フリーデルクラフツ(Friedel Crafts)アシル化の使用に よる置換ケトン中間体７の製造に使用することができる別法を示している。酸ク ロライドなどのアシル化剤８を不活性溶媒、例えばメチレンクロライド、クロロ ホルム、ニトロベンゼン、ジクロロベンゼンまたはクロロベンゼン中で塩化アル ミニウムで処理し、次いでＲ²と反応させて、ケトン化合物７を生成させる。 別の合成方法も、所望のケトン化合物の製造に使用することができる。これら の別法には相当するグリニヤール試薬またはリチウム試薬と置換酢酸化合物また は対応するエステル化合物との反応が包含される。 合成反応経路IV 合成反応経路IVは、置換ハロケトン化合物１の製造に使用することができる方 法を示している。合成反応経路IIまたはIIからの１，２−ジ置換ケトン中間体７ を酢酸中で臭素の添加により容易に臭素化して、２−ブロモ−１，２−ジ置換エ タノン中間体１を生成させることができる。 ２−ハロケトン化合物１を生成させるための別法には、中でも、チオニルクロ ライド、スルフリルクロライド、メチルスルホニルクロライド／リチウムクロラ イド、トリフェニルホスフィンジクロライドまたはトリフェニルホスフィンジブ ロマイドなどの反応剤を使用することによる置換２−ヒドロキシエタノン化合物 などのベンゾイン化合物の変換が包含される。単純なデソキシベンジオン化合物 のハロケトン化合物１への変換は、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−クロ ロスクシンイミドなどのハロゲン化剤の使用により容易に達成される。 合成反応経路Ｖ 合成反応経路Ｖは、反応相手のオキシゲンカルボキシアミド化合物９のチエー ト化によるチオアミド化合物２の製造方法を示している。カルボキシアミド化合 物９を溶媒、例えばジエチルエーテルに溶解し、次いで約０℃に冷却させる。チ エート化剤、例えば五硫化リン（Ｐ₂Ｓ₅またはＰ₄Ｓ₁₀）を添加し、次いで室温 以下の温度に維持する。この反応混合物を室温まで加温し、撹拌する。このチオ アミド化合物２のエーテル性溶液は反応混合物から傾斜により分離することがで き、そのままで使用することができる。 チオアミド化合物２の別の製造方法は、チエート化剤として、２，４−ビス（ ４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４− ジスルフィド［ローソンの試薬(Lawesson' reagent)］の使用が包含される。こ の反応混合物を加熱還流させる。さらにまた、チオアミド化合物２は、適当なニ トリル化合物を硫化水素と反応させることによって生成させることもできる。 合成反応経路VI 合成反応経路VIは、アルキルチオ置換ケトン化合物１０からのアルキルスルホ ニル置換チアゾール化合物１２の製造に使用することができる３工程法を示して いる。第一工程において、そのチオエーテル基がＲ³に位置しており、そしてＲ⁴ がアルキル基であるエタノンのアルキルチオエーテル化合物１０を先ず、メチレ ンクロライド中で０℃においてメタ−クロロ過酸化安息香酸（ＭＣＰＢＡ）（２ 当量）を用いてアルキルスルホンに酸化し、次いで室温に温める。第二工程にお いて、そのアルキルスルホン基がＲ³に位置しているアルキルスルホニルケトン 化合物をＨＢｒ／ＨＯＡｃ中で臭素を用いてカルボニルに対してアルファに臭素 化して、アルキルスルホニル−２−ブロモエタノン化合物１１を生成させる。こ の化合物１１を相当するチオアミド化合物またはチオ尿素２と縮合させ、対応す る置換５−（４−アルキルスルホニルフェニル）チアゾール化合物１２を得る。 別法として、この方法はアルキルスルホニル基をＲ²に有するチアゾール化合物 の製造に利用することもできる。 合成反応経路VII アルキルスルホニル置換チアゾール化合物１２の別の合成が、合成反応経路VI I に示されているとおりにして達成される。そのアルキルチオフェニル基をＲ³ に有し、Ｒ⁴がアルキル基であるチアゾール化合物１３を、メチレンクロライド 中でＭＣＰＢＡ（２当量）により酸化して、アルキルスルホン化合物１２を生成 させる。別の適当な酸化剤は、オキソン（Ｏｘｏｎｅ）（登録商品名）、過酸化 水素、過ヨウ素酸塩、過酢酸などを包含する。別様に、この方法はアルキルスル ホニルフェニル基をＲ²に有するチアゾール化合物の製造に利用することもでき る。 合成反応経路VIII 合成反応経路VIIIはスルホンアミド抗炎症薬１５の製造に使用される３工程法 およびそれらの対応するメチルスルホン化合物１４からのフルオロメチルスルホ ン抗炎症薬１６の製造に使用される２工程法を示している。第一工程において、 メチルスルホン化合物１４のＴＨＦ溶液を−７８℃でアルキルリチウムまたは有 機マグネシウム（グリニヤール）試薬（ＲＭｇＸ）、例えばメチルリチウム、ｎ −ブチルリチウムなどにより処理する。第二工程において、第一工程で生成され るアニオン化合物を−７８℃において有機ボラン、例えばトリエチルボラン、ト リブチルボランなどで処理し、次いで室温に加温した後に、還流下に撹拌する。 このボロン化学反応の代わりに、室温におけるアルキル化、、例えばトリメチル シリルメチルハライドによるアルキル化、引続くテトラブチルアンモニウムフル オライド（ＴＨＦ中１Ｍ）による処理を使用することもできる。第三工程におい て、酢酸ナトリウムおよびヒドロキシアミン−Ｏ−スルホン酸の水溶液を添加し 、本発明の対応するスルホンアミド抗炎症薬１５を得る。別法として、第一工程 で生成されたアニオン溶液を０℃に温め、次いでＮ−フルオロジベンゼンスルホ ンアミドで処理して、本発明の対応するフルオロメチルスルホン抗炎症薬１６を 得ることもできる。 合成反応経路IX 合成反応経路IXは、本発明のスルホンアミド抗炎症薬２３の製造に使用される ４工程法を示している。デオキシベンゾイン中間体の合成は、相当する「ベンジ レート」アニオンと対応するエステルとを縮合させることにより達成することが できる。反応経路IXに示されているように、フェニルアセトニトリル１７を相当 する塩基（例えば、ナトリウムメトキシド、水素化ナトリウム、リチウムジイソ プロピルアミドなど）により脱プロトン化し、相当するエステル化合物１８と反 応させて、α−シアノケトンを生成させる。このニトリルを酸触媒加水分解に付 し、次いで脱カルボキシル化させ、ケトン中間体１９を生成させる。このケトン 化合物１９をクロルスルホン化させると、スルホニルクロライド中間体が得られ る。この中間体はアンモニア（例えば、ＮＨ₄ＯＨ）と容易に反応し、ｐ−ベン ゼンスルホンアミド誘導体２０が生成される。このケトン化合物２０を触媒とし てＨＢｒを用いてＢｒ₂により臭素化して、対応するアルファ−ブロモケトン化 合物２１を得る。このブロモケトン化合物は、ハンツェッシュ（Hantzsch）反応 でチオアミド化合物およびチオ尿素化合物２２と縮合させることができ、チアゾ ール核２３を生成させることができる。 合成反応経路Ｘ 別法として、スルホンアミド部分は、チアゾール環がすでに形成された後に導 入することもできる。相当して置換されているフェニル−チアゾール化合物２４ を純粋（neat）クロロスルホン酸で処理し、次いでアンモニアと反応させると、 対応する（５−チアゾリル）ベンゼンスルホンアミド化合物２５が生成される。 その別のレジオ異性体、（４−チアゾリル）ベンゼンスルホンアミド化合物はＲ³ 置換基に依存して製造することができる。例えば、５位置に存在するフェニル 基は、そのパラ位置で置換される。 下記の例は、式Ｉ〜IV表わされる化合物の製造方法の詳細な説明を包含してい る。これらの詳細な説明は本発明の一部を構成する上記一般合成方法の範囲内に あり、これを具体的に示すものである。これらの詳細な説明は例示の目的で示す ものであって、本発明の範囲を制限しようとするものではない。別段の記載がな いかぎり、部は全部が重量によるものであり、そして温度はいずれも摂氏度であ る。 例１ ２−（（４−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル）− ５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール 工程 １ ：２−（４−フルオロフェニル）−３−（４−メチルチオフェニル）プ ロペン酸の製造 無水酢酸（５００ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（１００．２ｇ ，０．６６モル）、４−フルオロフェニル酢酸（１０１．６ｇ，０．６６モル） およびトリエチルアミン（６８．１ｇ，０．６７モル）を、１．７５時間加熱還 流させた。この反応混合物を１１０℃に冷却させ、次いで水（５００ml）を注意 して添加した。これにより、この溶液の激しい還流が生じ、温度は１３５℃に上 昇した。黄色沈殿が生成され、この沈殿を室温に冷却させた後に濾過により採取 し、水で洗滌し、次いで酢酸エチル／イソオクタンから再結晶させ、ジアリール プロペン酸を黄色針状物として得た（１３５．２ｇ，７１％）：融点：１７２〜 １７６℃。¹Ｈ ＮＭＲ（アセトン−ｄ₆）δ３００ＭＨｚ ７．８４（ｓ，１Ｈ ）７．０３〜７．２８（ｍ，１０Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ アセトン−ｄ₆）−１１６．１１（ｍ）。質量スペクトル：Ｍ⁺２８８。工程 ２ ：１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エ タノンの製造 工程１からのジアリールプロペン酸（２２６．５ｇ，０．７８モル）を無水ト ルエン（８００ml）およびトリエチルアミン（８１．２ｇ，０．８０モル）に添 加した。０℃に冷却させた後に、ジフェニルホスホリルアジド（２１７．４ｇ， ０．７９モル）を添加した。この溶液を０℃で２０分間、次いで室温で２．５時 間、撹拌した。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルで抽出し、硫酸マグ ネシウム上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。残留する トルエン溶液を加熱還流させると、激しいガスの発生が生じた。１．２５時間後 に、この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルアルコール（８０ml，０．８４モル）を 添加した。さらに２０分後に、濃塩酸（４１ml）をゆっくり添加すると、この反 応混合物は泡状物になった。この反応混合物を一夜にわたり（１４時間）９０℃ で加熱し、次いで冷却させ、白色沈殿を生成させた。この沈殿を濾過により分離 し、冷たいエーテルで洗浄し、次いで空気乾燥させて、所望のケトン化合物を得 た（１８２．７ｇ，８９％）：融点：１３４．５〜１３８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ア セトン−ｄ₆）３００ＭＨｚ ８．１６（ｍ，２Ｈ）、７．２４（ｍ，６Ｈ）、 ４．３４（ｓ，２Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（アセトン−ｄ₆ ）−１０７．８８（ｍ）。工程 ３ ：１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）− ２−ブロモエタノンの製造 工程１からのケトン化合物（５５．５ｇ，０．２１モル）を酢酸（２５０ml） および酢酸中の３３％ＨＢｒ（１２０ml）に添加した。この溶液を撹拌し、次い で臭素の色が急速に消失するような速度で、臭素（１１．１ml，０．２１モル） で処理した、約１５分間。室温でさらに１０分後に、この溶液を濾過し、濾液を 減圧で濃縮して、ブロモケトン化合物をオレンジ色固形物として得た。この粗製 ブロモケトン化合物をジクロロメタン中に溶解し、次いで１Ｎ ＮａＨＳＯ₃で 洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧でに濃縮し、１−（ ４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）−２−ブロモエタノ ン６８．８ｇを黄色固形物として得た。この生成物は次の工程で直接に使用した 。工程 ４ ：２−（（４−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 工程３からのブロモケトン化合物（２．５１ｇ，７．４ミリモル）および４− クロロフェノキシチオアセトアミド（１．２７ｇ，７．３ミリモル）のアセトニ トリル２５ml中の溶液を、４時間加熱還流させ、次いで減圧で濃縮し、残留物を 酢酸エチル中に取り、次いで飽和水性ＮａＨＣＯ₃、ブラインで順次洗浄し、無 水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、粗製チアゾール化合 物を得た。このチアゾール化合物をシリカゲル上におけるフラッシュクロマトグ ラフイにより精製し、ヘキサン中５％酢酸エチルにより溶離した。相当するフラ クションを集め、減圧で濃縮し、次いでこの粗製固形物をメタノールから再結晶 させ、純粋なチアゾール化合物を得た（１．７１ｇ，６１％）；融点：９１〜９ ５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．４９（ｍ，２Ｈ）、７．２ ２（ｍ，６Ｈ）、６．９９（ｍ，４Ｈ）、５．３７（ｓ，２Ｈ）、２．４９ （ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１３．５３（ｍ）。高分解能電 界脱離質量スペクトル：Ｃ₂₃Ｈ₁₇ＣｌＦＮＯＳ₂Ｌｉ（Ｍ⁺＋Ｌｉ）に対する計算 値：４４８．０５８４。実測値：４４８．０５５４。工程 ５ ：２−（（４−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン２０ml中の工程４からのチアゾール化合物（１．３９ｇ，３． １ミリモル）の溶液を、０℃において１時間、ｍ−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢ Ａ）（２．２２ｇ，６．４ミリモル）で処理した。この溶液を１０％水性ＮａＨ ＳＯ₃、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次い で減圧で濃縮し、白色泡状物を得た。この生成物をジクロロメタンとイソオクタ ンとの混合物から再結晶させることによって精製し、純粋な生成物を得た（１． ２４ｇ，８３％）；融点：１４０〜４３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００Ｍ Ｈｚ ７．８７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ）、７．４５（ｍ，２Ｈ）、７．２７（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，２Ｈ）、６ ．９９（ｍ，４Ｈ）、５．３８（ｓ，２Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ Ｎ ＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１２．４０（ｍ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝４７４。 例２ ２−（２−クロロフェニル）−４−フェニル-５−（４−メチルスルホニルフ ェニル）チアゾール工程 １ ：２−フェニル−３−（４−メチルチオフェニル）プロペン酸の製造 無水酢酸（５００ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（１１３．１ｇ ，０．７４３モル）、フェニル酢酸（１０１．２ｇ，０．７４３モル）およびト リ エチルアミン（７５．８ｇ，０．７５モル）の混合物を、５時間加熱還流させた 。この反応混合物を１１０℃に冷却させ、次いで水（５００ml）を添加した。黄 色沈殿が生成された。室温までさらに冷却させた後に、この固形物を濾過により 採取し、水で洗浄し、次いでイソプロピルアルコールから再結晶させ、ジアリー ルプロペン酸を白色針状物として得た（９４．２ｇ，５７％）；融点：１６７〜 １６９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ３００ＭＨｚ １２．００（広いｓ，１ Ｈ）、７．９１（ｓ，１Ｈ）、７．３８（ｍ，３Ｈ）、７．２４（ｍ，２Ｈ）、 ７．００（ｄ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ）、２．４３（ｓ，３Ｈ）。工程 ２ ：２−（４−メチルチオフェニル）−１−フェニルエタノンの製造 工程１からのジアリールプロペン酸（１２．２７ｇ，４５．４ミリモル）およ びトリエチルアミン（８．４４ｇ，８４ミリモル）を、無水トルエン１１０mlに 溶解し、０℃に冷却させ、次いでジフェニルホスホリルアジド（１２．６ｇ，８ ３．４ミリモル）で処理した。この溶液を０℃に２０分間維持し、次いで室温に ２．５時間加温した。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルにより抽出し 、硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した 。残留するトルエン溶液を、１．２５時間加熱還流させた。この溶液に、ｔｅｒ ｔ−ブチルアルコール（５ml、５３ミリモル）を添加し、さらに２０分後に、濃 塩酸（４ml）を注意して添加し、この反応混合物を９０℃で一夜にわたり（１４ 時間）保持した。この溶液を室温まで冷却させた後に、生成された白色沈殿を濾 過により採取し、冷たいエーテルで洗浄し、次いで空気乾燥させ、所望のケトン 化合物を得た。この生成物をジクロロメタンとイソオクタンとの混合物から結晶 化させた（５．１６ｇ、４７％）；融点：１２３〜１２７℃。¹Ｈ ＮＭＲ（Ｃ ＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９９（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．５６（ ｍ，１Ｈ）、７．４６（ｍ，２Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）、 ７．２０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、４．２４（ｓ，２Ｈ）、２．４６（ｓ ，３Ｈ）。工程 ３ ：２−ブロモ−２−（４−メチルチオフェニル）−１−フェニルエタノ ンの製造 工程２からのケトン化合物（２．３５ｇ，９．７ミリモル）の酢酸（５０ml） および酢酸中の３３％ＨＢｒ（４ml）の溶液を、酢酸中臭素の１．１Ｍ溶液（９ ml，９．９ミリモル）で処理し、次いで室温で１時間撹拌した。この溶液をジク ロロメタンで希釈し、次いで１Ｎ ＮａＨＳＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾 燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、ブロモケトン化合物を得た。この生成物 は次の工程で直接に使用した（２．３８ｇ、７６％）；融点：９３〜９５℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９７（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ ）、７．５７（ｍ，１Ｈ）、７．４６（ｍ，４Ｈ）、７．２４（ｄ，Ｊ＝８．５ Ｈｚ，２Ｈ）、６．３５（ｓ，１Ｈ）、２．４７（ｓ，３Ｈ）。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−４−フェニル−５−（４−メチルチオ フェニル）チアゾールの製造 工程３からのブロモケトン化合物（２．３８ｇ，７．４ミリモル）および４− クロロチオベンズアミド（１．２９ｇ，７．５ミリモル）のアセトニトリル２５ ml中の溶液を、１４時間加熱還流させた。この溶液を室温まで冷却させ、次いで メタノール２５ml中に注ぎ入れると、純粋なジアリールチアゾールの結晶が生成 された。この生成物を濾過により分離し、次いで空気乾燥させ、純粋なジアリー ルチアゾール化合物を得た（２．０１ｇ，６９％）；融点：１０７〜１０９．５ ℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３７（ｍ，１Ｈ）、７．６２ （ｍ，２Ｈ）、７．４９（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．３２（ｍ，７Ｈ） 、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）。質量スペク トルＭ＋Ｈ＝３９４。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−４−フェニル−５−（４−メチルスル ホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン１０ml中の工程４からのジアリールチアゾール化合物（１．９ ０ｇ，４．８ミリモル）の溶液を、０℃において１時間、ＭＣＰＢＡ（３．４０ ｇ，９．９ミリモル）で処理した。この溶液を１０％水性ＮａＨＳＯ₃、１０％ Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧下に濃 縮して、黄色固形物を得た。この生成物を、シリカゲル上におけるフラッシュク ロマトグラフイに付し、１：１ヘキサン：酢酸エチルにより溶離することによっ て精製し、純粋な生成物を得た（１．５ｇ，７３％）；融点：１９１．５〜１ ９５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．４０（ｍ，１Ｈ）、７． ８９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５１〜７．６２（ｍ，５Ｈ）、７．３ ５〜７．４１（ｍ，５Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ）。高分解能電界脱離質量スペ クトル：Ｃ₂₂Ｈ₁₆ＣｌＮＯ₂Ｓ₂に対する計算値：４２５．０３１１。実測値：４ ２５．０３１５。 例３ ２−（２−クロロフェニル）−４−（３−フルオロフェニル）−５−（４−メ チルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（３−フルオロフェニル）−３−（４−メチルチオフェニル）プ ロペン酸の製造 無水酢酸（６０ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（４．９９ｇ，３ ３ミリモル）、３−フルオロフェニル酢酸（５．０８ｇ，３３ミリモル）および トリエチルアミン（３．９８ｇ，３９ミリモル）の混合物を、４時間加熱還流さ せた。この反応混合物を１２０℃に冷却させ、次いで水（１２０mｌ）を添加し た。黄色沈殿が生成された。室温までさらに冷却させた後に、この生成物を濾過 により採取し、水で洗滌し、次いでトルエンから再結晶させ、所望の中間体化合 物を黄色固形物として得た（３．７２ｇ，３９％）；融点：１８４〜１８７℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９２（ｓ，１Ｈ）、７．３５（ｍ ，１Ｈ）、７．２６（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．１９（ｄ，Ｊ＝７．７ Ｈｚ，１Ｈ）、７．００（ｍ，５Ｈ）、２．４４および２．３６（ｓ，３Ｈ）；¹⁹ Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１２．６１（ｍ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ＝２ ８９。工程 ２ ：１−（３−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エ タノンの製造 工程１からの中間体（３．５７ｇ，１２．４ミリモル）およびトリエチルアミ ン（１．４１ｇ，１３．９ミリモル）を、無水トルエン３５mlに溶解し、この溶 液を０℃に冷却させ、次いでジフェニルホスホリルアジド（３．５３ｇ，１２． ８ミリモル）で処理した。この溶液を０℃に２０分間維持し、次いで室温に３時 間温めた。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルにより抽出し、硫酸マグ ネシウム上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。残留する トルエン溶液を、１時間加熱還流させた。この溶液に、ｔｅｒｔ−ブチルアルコ ール（４ml、４２ミリモル）を添加した。さらに２０分後に、濃塩酸（４ml）を 注意して添加し、この反応混合物を８０℃に一夜にわたり（１４時間）保持した 。この溶液を室温に冷却させた後に、この混合物を分離ロートに入れ、次いで水 で洗浄した。このトルエン層を無水ＭｇＳＯ₄により乾燥させ、濾過し、次いで 減圧で濃縮して、黄色粉末を得た。この粗製固形物をジクロロメタンとイソオク タンとの混合物から結晶化させ、所望のケトン化合物１．３０ｇ（４０％）を得 た；融点：１１６〜１２０℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．７ ７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）、７．６８（ｄｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，２．６Ｈ ｚ，１Ｈ）、７．４３（ｍ，１Ｈ）、７．２１〜７．２９（ｍ，３Ｈ）、７．１ ８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、４．２２（ｓ，２Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１１．８２（ｍ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ ＝２６１。工程 ３ ：２−ブロモ−１−（３−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオ フェニル）エタノンの製造 工程２からのケトン化合物（１．５３ｇ，５．９ミリモル）の酢酸（２０ml） および酢酸中の３３％ＨＢｒ（０．５ml）の溶液を、酢酸中臭素の０．９９Ｍ溶 液（６．１ml，６．０ミリモル）で処理し、次いで室温で２０分間撹拌した。こ のフラスコの内容物は固化した。この沈殿を濾過により分離した。この濾液をジ クロロメタンで希釈し、次いで１Ｎ ＮａＨＳＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で 乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、固形物を得た。この生成物を上記 沈殿と一緒に合わせ、ブロモケトン化合物１．９２ｇ（９６％）を得た；融点： １０１〜１０４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．７３（ｄ，Ｊ ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）、７．６７（ｄｔ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，２．３Ｈｚ，１Ｈ） 、７．４１（ｍ，３Ｈ）、７．２４（ｍ，３Ｈ）、６．２７（ｓ，１Ｈ）、２． ４７（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１１．１８（ｍ）。質量ス ペクトル：Ｍ＋Ｈ＝３４０。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（３−フルオロフェニル）−５− （４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 工程３からのブロモケトン中間体（０．７７ｇ，２．３ミリモル）および４− クロロチオベンズアミド（０．４０ｇ，２．３ミリモル）のアセトニトリル１０ ml中の溶液を、４時間加熱還流させた。この溶液を室温に冷却させ、次いでメタ ノール２５ml中に注ぎ入れた。生成されたチアゾール化合物の結晶を、濾過によ り分離し、次いで空気乾燥させ、純粋なチアゾール化合物を得た（０．６６ｇ， ７１％）；融点：１０６．５〜１０８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨ ｚ ８．３７（ｄｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．４９（ｄ，Ｊ ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．２１〜７．４２（ｍ，９Ｈ）、７．００（ｔ，Ｊ＝ ８．５Ｈｚ，１Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１ １３．１０（ｍ）。質量スペクトル：Ｍ⁺＝４１２。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（３−フルオロフェニル）−５− （４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン１５ml中の工程４からのチアゾール化合物（６１０mg，１．４ ８ミリモル）の溶液を、室温において７２時間、ＭＣＰＢＡ（１．０５ｇ）によ り処理した。この溶液を１０％水性ＮａＨＳＯ₃、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃により洗浄 し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧下に濃縮して、黄色油状 物を得た。この油状物を、トルエンから結晶化させ、黄色針状物を得た（３２０ mg，４８％）：融点：１３３．５〜１３５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ ＭＨｚ ８．３９（ｍ，１Ｈ）、７．９１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７． ６３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５１（ｍ，１Ｈ）、７．４０（ｍ，３ Ｈ）、７．２８（ｍ，３Ｈ）、７．１０（ｍ，１Ｈ）、３．１０(ｓ，３Ｈ)；¹⁹ Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１２．７０（ｍ）。質量スペクトル：Ｍ⁺＝４４ ４。 例４ ４−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（２，４−ジフルオロフェニル）−３−（４−メチルチオフェニ ル）プロペン酸の製造 無水酢酸（５０ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（３．７５ｇ，２ ４．６ミリモル）、２，４−ジフルオロフェニル酢酸（４．４１ｇ，２４．６ミ リモル）およびトリエチルアミン（２．８０ｇ，２７．７ミリモル）の混合物を 、３．５時間加熱還流させた。この反応混合物を９０℃に冷却させ、次いで水（ １００ml）を添加した。生成された黄色油状物は撹拌すると固化した。この固形 物を濾過により採取し、酢酸エチル中に溶解し、無水ＭｇＳＯ₄上乾燥させ、減 圧で濃縮した。このようにして得られた固形物をトルエンから再結晶させ、所望 の酸化合物を得た（３．１８ｇ，４２％）；融点：１６５〜１７１℃；¹Ｈ Ｎ ＭＲ（アセトン−ｄ₆）３００ＭＨｚ ７．９５（ｓ，１Ｈ）、７．０８〜７． １８（ｍ，７Ｈ）、２．４７および２．３１（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（アセ トン−ｄ₆）−１１０．８１（ｍ）−１１１．７５（ｍ）。質量スペクトル：Ｍ ＋Ｈ＝３０６。工程 ２ ：１−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニ ル）エタノンの製造 工程１からの酸化合物（３．１１ｇ，１０．２ミリモル）およびトリエチルア ミン（１．２３ｇ，１０．８ミリモル）を無水トルエン１５mlに溶解し、この溶 液を０℃に冷却させ、次いでジフェニルホスホリルアジド（２．９８ｇ，１０． ８ミリモル）で処理した。この溶液を０℃に２０分間維持し、次いで室温に１時 間温めた。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルで抽出し、硫酸マグネシ ウム上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。残留するトル エン溶液を追加のトルエン１０mlで希釈し、次いで９０℃で１．５時間加熱した 。この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルアルコール（４ml、４２ミリモル）を添加 した。さらに２０分後に、濃塩酸（４ml）を注意して添加し、この反応混合物を ９０℃に一夜にわたり（１６時間）保持した。この溶液を室温まで冷却させた後 に、この混合物を酢酸エチルで希釈し、次いで水で洗浄した。この有機層を無水 ＭｇＳＯ₄上乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、黄色固形物を得た。この 粗製固形物を酢酸エチルとヘキサンとの混合物から結晶化させ、所望のケトン化 合物を得た（２．１９ｇ、７７％）；融点：８２〜８８，５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９１（ｑ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．２２ （ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）、７．１５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、６． ８２〜６．９７（ｍ，２Ｈ）、４．２１（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４ ６（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１０１．７４（ｍ）。質量スペ クトル：Ｍ⁺＝２７８。工程 ３ ：１−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−ブロモ−２−（４−メチ ルチオフェニル）エタノンの製造 工程２からのケトン中間体（２．０５ｇ，７．４ミリモル）の酢酸（３０ml） および酢酸中の３３％ＨＢｒ（０．５ml）の溶液を、酢酸中の臭素の０．９９Ｍ 溶液（７．６ml，７．５ミリモル）で処理し、次いで室温で１時間撹拌した。こ の溶液を減圧で濃縮し、残留物をジクロロメタン中に取り、１Ｎ ＮａＨＳＯ₃ 、ブラインで洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮 して、茶色固形物を得た（２．３９ｇ、９０％）。この生成物は不安定であり、 さらに精製することなく、次の工程で直接に使用した。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）３００ＭＨｚ ７．９４（ｑ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．３７（ｄ，Ｊ＝ ８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．２１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、６．９７（ｍ， １ Ｈ）、６．８４（ｍ，１Ｈ）、６．２８（ｓ，１Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）；¹⁹ Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１００．３１（ｍ）−１０３．５０（ｍ）。質量 スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝３５８。工程 ４ ：４−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル） −５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 アセトニトリル５ml中の工程３からのブロモケトン中間体（０．４９ｇ，１． ３ミリモル）および４−クロロチオベンズアミド（０．２４ｇ，１．４ミリモル ）の溶液を、３時間加熱還流させた。この溶液を室温まで冷却させ、次いでメタ ノール２０ml中に注ぎ入れ、氷浴により冷却させ、生成されたチアゾール化合物 の結晶を濾過により分離し、次いで空気乾燥させた（０．３１ｇ，５２％）；融 点：１０３〜１０５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３１（ｍ ，１Ｈ）、７．５０〜７．６０（ｍ，２Ｈ）、７．３６（ｍ，２Ｈ）、７．２３ （ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．１９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、６． ９４（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ）、６．８３（ｔ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ）、 ２．４８（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１０８．５０（ｍ）、− １０９．４９（ｍ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ＝４３０。工程 ５ ：４−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル） −５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン４ml中の工程４からのチアゾール化合物（２６０mg，０．６０ ミリモル）の溶液を、室温で１．５時間、ＭＣＰＢＡ（０．４２ｇ）で処理した 。この溶液を追加のジクロロメタンで希釈し、１０％水性ＮａＨＳＯ₃、１０％ Ｎａ₂ＣＯ₃により洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で 濃縮して、白色固形物を得た。この固形物をジクロロメタンとイソオクタンとの 混合物から再結晶させ、白色針状物を得た（２５０mg，８９％）；融点：１６６ 〜１６９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３４（ｍ，１Ｈ）、 ７．８８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．６５（ｑ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ ）、７．５５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）、７．４１（ｍ，２Ｈ）、７．２６ （ｓ，１Ｈ）、６．９９（ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）、６．８３（ｔ，Ｊ＝８ ．９Ｈｚ，１Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃） −１０８．４０（ｍ）、−１０８．６９（ｍ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝４６ ２。 例５ ２−（２−クロロフェニル）−４−（２−メチルフェニル）−５−（４−メチ ルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（２−メチルフェニル）−３−（４−メチルチオフェニル）プロ ペン酸の製造 無水酢酸（１６０ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（２５．３２ｇ ，１６６ミリモル）、２−メチルフェニル酢酸（２４．９５ｇ，１６６ミリモル ）およびトリエチルアミン（１７．８９ｇ、１７６ミリモル）の混合物を、２． ６７時間加熱還流させた。この反応混合物を１００℃に冷却させ、次いで水（２ ００ml）を添加した。生成された清明な油状物は氷浴を用いて冷却すると固化し た。この固形物を濾過により採取し、酢酸エチルとイソオクタンとの混合物から 再結晶させ、２回の収穫物として、所望の酸化合物を得た（１８．６ｇ，３９％ ）：融点；１３４〜１３７℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ９．８ ０（広いｓ，１Ｈ）、７．９１（ｓ，１Ｈ）、７．２８（ｍ，３Ｈ）、７．１２ （ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．００（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、６． ９３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、２．４２（ｓ，３Ｈ）、２．１６（ｓ，３ Ｈ）。高分解能電界脱離質量スペクトル：Ｃ₁₇Ｈ₁₆Ｏ₂Ｓに対する計算値：２８ ４．０８７１。実測値：２８４．０８６３。工程 ２ ：１−（２−メチルフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エタ ノンの製造 工程１からの酸化合物（８．２９ｇ，２９．２ミリモル）およびトリエチルア ミン（３．４６ｇ，３４．２ミリモル）を無水トルエン３０mlに溶解し、この溶 液を０℃に冷却させ、次いでジフェニルホスホリルアジド（８．２３ｇ，２９． ９ミリモル）で処理した。この溶液を０℃に４５分間維持し、次いで室温に３． ７５時間加温した。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルにより抽出し、 硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。 残留するトルエン溶液を１１０℃に１時間加熱した。この反応混合物にｔｅｒｔ −ブチルアルコール（６ml、６３ミリモル）を添加し、さらに２０分後に、濃塩 酸（２．６ml）を注意して添加し、この反応混合物を９０℃で一夜にわたり（１ ６時間）保持した。この溶液を室温まで冷却させた後に、この混合物を減圧で濃 縮し、残留物を酢酸エチル中に取り、次いで水、飽和水性ＮａＨＣＯ₃およびブ ラインで順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し 、黄色固形物を得た（６．４４ｇ、８６％）；融点：５４〜６１℃。¹Ｈ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．６９（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ）、７． ３６（ｍ，１Ｈ）、７．２０〜７．２６（ｍ，４Ｈ）、７．１６（ｄ，Ｊ＝８． ５Ｈｚ，２Ｈ）、４．１７（ｓ，２Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）、２．４４（ｓ ，３Ｈ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ＝２５７。工程 ３ ：２−ブロモ−１−（２−メチルフェニル）−２−（４−メチルチオフ ェニル）エタノンの製造 工程２からのケトン化合物（５．９２ｇ，２３．１ミリモル）の酢酸（５０ml ）および酢酸中の３３％ＨＢｒ（２ml）の溶液を、酢酸中の臭素の１．１Ｍ溶液 （２１．７ml，２３．８ミリモル）で処理し、次いで室温で２時間撹拌した。こ の溶液を減圧で濃縮し、残留物をジクロロメタン中に取り、１Ｎ ＮａＨＳＯ₃ および飽和水性ＮａＨＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次 いで減圧で濃縮して、黄色固形物を得た（５．９７ｇ、７７％）。この生成物は 、さらに精製することなく、次の工程で直接に使用した；融点：８５〜８９℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．５６（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ ）、７．４１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．３７（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ， １Ｈ）、７．２２（ｍ，４Ｈ）、６．１８（ｓ，１Ｈ）、２．４７（ｓ，３Ｈ） 、２．４４（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ−３４１。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（２−メチルフェニル）−５−（ ４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 工程３からのブロモケトン中間体（０．６８ｇ，２．０３ミリモル）および４ −クロロチオベンズアミド（０．３４ｇ，１．９８ミリモル）のアセトニトリル １０ml中の溶液を、１６時間加熱還流させた。この溶液を室温に冷却させ、次い でメタノール３０ml中に注ぎ入れ、氷浴により冷却させ、生成された純粋なチア ゾール化合物の結晶を、濾過により分離し、次いで空気乾燥させ、所望のチアゾ ール化合物を得た（２２０mg，２７％）；融点：１１６〜１１９℃。¹Ｈ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３３（ｍ，１Ｈ）、７．５０（ｍ，１Ｈ） 、７．１６〜７．３６（ｍ，８Ｈ）、７．１２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、 ２．４６（ｓ，３Ｈ）、２．１８（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ⁺＝４０７ 。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（２−メチルフェニル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン５ml中の工程４からのチアゾール化合物（２２０mg，０．５４ ミリモル）の溶液を、室温で５５分間、ＭＣＰＢＡ（３９０mg、１．１３ミリモ ル）により処理した。この溶液を追加のジクロロメタンで希釈し、１０％水性Ｎ ａＨＳＯ₃および１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過 し、次いで減圧下に濃縮し、黄色粉末を得た。この生成物をジクロロメタンとイ ソオクタンとの混合物から再結晶させ、黄色固形物を得た（４４mg，１８％）； 融点：１５６．５〜１５７℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ８．３８ （ｍ，１Ｈ）、７．７９（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）、７．５２（ｍ，１Ｈ） 、７．４６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．３９（ｍ，２Ｈ）、７．２１〜 ７．３４（ｍ，４Ｈ）、３．０５（ｓ，３Ｈ）、２．１９（ｓ，３Ｈ）。高分解 能質量スペクトル：Ｃ₂₃Ｈ₁₈ＣｌＮＯ₂Ｓ₂に対する計算値：４３９．０４６８。 実測値：４３９．０４７６。 例６ ２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−４− （２−チエニル）チアゾール工程 １ ：３−（４−メチルチオフェニル）−２−（２−チエニル）プロペン酸 の製造 無水酢酸（９０ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（１３．１７ｇ， ８２．２ミリモル）、２−（２−チエニル）酢酸（１２．０９ｇ，８３．３ミリ モル）およびトリエチルアミン（８．６０ｇ、８５ミリモル）の混合物を、４時 間加熱還流させた。この反応混合物を８５℃に冷却させ、次いで水（８０ml）を 添加した。褐色固形物を濾過により分離し、空気乾燥させ、プロペン酸化合物を 得た（８．４８ｇ，３７％）；融点：２０１〜２０６℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳ Ｏ−ｄ₆）３００ＭＨｚ １２．８０（広いｓ，１Ｈ）、７．７７（ｓ，１Ｈ） 、７．６０（ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．０９（ｍ，５Ｈ）、６．９２（ ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，１Ｈ）、２．４２（ｓ，３Ｈ）。¹³Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ −ｄ₆）１６８．２４，１４１．６０，１４１．３０，１３６．８４，１３１． ０８，１２８．４６，１２７．８６，１２５．５１，１２５．２８，１４．５２ 。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝２７７。工程 ２ ：２−（４−メチルチオフェニル）−１−（２−チエニル）エタノンの 製造 工程１からのプロペン酸中間体（８．１３ｇ，２９．４ミリモル）およびトリ エチルアミン（３．３３ｇ，３２．９ミリモル）を、無水トルエン４０mlに溶解 し、この溶液を０℃に冷却させ、次いでジフェニルホスホリルアジド（８．１５ ｇ，２９．６ミリモル）で処理した。この溶液を０℃に２０分間維持し、次いで 室温に４時間温めた。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルで抽出し、硫 酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。残 留するトルエン溶液を１１０℃に１．５時間加熱した。この反応混合物にｔｅｒ ｔ−ブチルアルコール（８．５ml、８５．６ミリモル）を添加した。さらに２０ 分後に、濃塩酸（５ml）を注意して添加し、この反応混合物を９０℃で一夜にわ たり（１６時間）保持した。氷浴で冷却させた後に、分離した固形物を濾過によ り採取した。この濾液を減圧で濃縮し、水、飽和水性ＮａＨＣＯ₃およびブライ ンで洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、褐色固 形物を得た。これら２つの固形物を一緒に合わせ、ジクロロメタンとイソオクタ ンとの混合物から再結晶させ、ケトン化合物を明るい褐色の固形物として得た（ ３．０２ｇ、４１％）；融点：１００〜１０１℃。¹Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣｌ₃)３０ ０ＭＨｚ ７．７６（ｄｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，１．１Ｈｚ，１Ｈ）、７．６３（ ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１．１Ｈｚ，１Ｈ）、７．２２（ｓ，４Ｈ）、７．１２ （ｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，３．８Ｈｚ，１Ｈ）、４．１５（ｓ，２Ｈ）、２．４ ６（ｓ，３Ｈ）。¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）１９０．２８，１４３．８０，１ ３７．２２，１３４．０５，１３２．６１，１３１．１８，１２９．８９，１２ ８．１９，１２７．０８，４５．８５，１５．９９。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝ ２４９。工程 ３ ：２−ブロモ−２−（４−メチルチオフェニル）−１−（２−チエニル ）エタノンの製造 工程３からのケトン化合物（３．０２ｇ，１２ミリモル）の酢酸（７０ml）お よび酢酸中の３３％ＨＢｒ（４ml）の溶液を、酢酸中の臭素の０．９９Ｍ溶液（ １３ml，１２．８ミリモル）で処理し、次いで室温で２時間撹拌した。この溶液 を減圧で濃縮し、残留物をジクロロメタン中に取り、１Ｎ ＮａＨＳＯ₃、次い で１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減 圧で濃縮して、ブロモケトン化合物を褐色固形物として得た（２．９５ｇ、７４ ％）；融点：６０〜６４．５。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ７．７５ （ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．６６（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ）、７． ４５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ， ２Ｈ）、７．１０（ｍ，１Ｈ）、６．１９（ｓ，１Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ） 。¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ １８４．０８，１４０．６７，１ ４０．６２，１３５．３９，１３３．５３，１３２．２６，１２９．５２，１２ ８．５３，１２６．５０，５１．３０，１５．４２。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝ ３２８。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）−４ −（２−チエニル）チアゾールの製造 工程３からのブロモケトン化合物（３４０mg，１．０ミリモル）および４−ク ロロチオベンズアミド（１８０mg，１．０ミリモル）のアセトニトリル３ml中の 溶液を、５時間加熱還流させた。この溶液を室温に冷却させ、メタノール３０ml 中に注ぎ入れ、氷浴により冷却させ、生成された純粋なチアゾール化合物の結晶 を、濾過により分離し、次いで空気乾燥させ、所望のチアゾール化合物を得た（ １８０mg，４２％）。この生成物は次の工程で直接使用した。¹Ｈ ＮＭＲ（Ｃ ＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３９（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．２２〜 ７．５１（ｍ，８Ｈ）、７．１４（ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１Ｈ）、６．９４（ｍ ，１Ｈ）、２．５４（ｓ，３Ｈ）。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル ）−４−（２−チエニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン３ml中の工程４からのチアゾール化合物（１４０mg，０．３５ ミリモル）の溶液を、室温で２時間、ＭＣＰＢＡ（２５０mg、０．７２ミリモル ）により処理した。この溶液を追加のジクロロメタンで希釈し、１０％水性Ｎａ ＨＳＯ₃および１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し 、次いで減圧下に濃縮し、緑色固形物を得た。この生成物を、シリカゲル上でフ ラッシュクロマトグラフイに付し、ヘキサン−酢酸エチルにより溶離することに よって精製し、白色固形物を得た（１００mg，６７％）；融点：１７１〜１７４ ℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．４１（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ ，１．８Ｈｚ，１Ｈ）、７．９９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．７７（ｄ ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５０（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．４０ （ｍ，２Ｈ）、７．３０（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ）、７．０９（ｄ，Ｊ ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ）、６．９５（ｍ，１Ｈ）、３．１２（ｓ，３Ｈ）。高分解 能質量スペクトル：Ｃ₂₀Ｈ₁₅ＣｌＮＯ₂Ｓ₃（Ｍ＋Ｈ）に対する計算値：４３１． ９９５３。実測値：４３１．９９５４。 例７ ２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−４− （３−チエニル）チアゾール工程 １ ：３−（４−メチルチオフェニル）−２−（３−チエニル）プロペン酸 の製造 無水酢酸（１００ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（１１．０６ｇ ，７２．７ミリモル）、３−チオフェン酢酸（１０．３３ｇ、７２．７ミリモル ）およびトリエチルアミン（７．６８ｇ、７５．９ミリモル）の混合物を、３時 間加熱還流させた。この反応混合物を９０℃に冷却させ、次いで水（１００ml） を添加した。この溶液から分離した白色固形物を濾過により分離し、空気乾燥さ せ、酸化合物を得た（１１．０ｇ，５５％）；融点：１８４〜１８９℃；¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ３００ＭＨｚ １２．６１（広いｓ，１Ｈ）、７． ６９（ｓ，１Ｈ）、７．５４（ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．３１（ｓ，１ Ｈ）、７．０８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．０２（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ ，２Ｈ）、６．８９（ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ）、２．４１（ｓ，３Ｈ）。¹³ Ｃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）１６８．６３，１４０．７０，１３９．７０，１ ３６．２２，１３１．２９，１３０．８９，１２９．３５，１２７．７４，１２ ６．５７，１２５．５３，１２５．０６，１４．５７０質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ ＝２７７。工程 ２ ：２−（４−メチルチオフェニル）−１−（３−チエニル）エタノンの 製造 工程１からの酸化合物（７．２０ｇ，２６．１ミリモル）およびトリエチルア ミン（２．８３ｇ，２８ミリモル）を、無水トルエン３０mlに溶解し、この溶液 を０℃に冷却させ、次いでジフェニルホスホリルアジド（７．７２ｇ，２８．１ ミリモル）で処理した。この溶液を０℃に３０分間維持し、次いで室温に３時間 温めた。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルで抽出し、硫酸マグネシウ ム上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。残留するトルエ ン溶液を１００℃に１．５時間加熱した。この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルア ルコール（３ml、３１．８ミリモル）を添加した。さらに１５分後に、濃塩酸（ ２ml）を注意して添加し、この反応混合物を８０℃で７２時間保持した。氷浴で 冷却させた後に、分離した固形物を濾過により採取した。この濾液を減圧で濃縮 し、残留物をジクロロメタン中に取り、水、飽和水性ＮａＨＣＯ₃およびブライ ンで洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、褐色固 形物を得た。これら２つの固形物を一緒に合わせ、酢酸エチルとヘキサンとの混 合物から再結晶させ、明るい褐色の固形物を得た。この固形物をエーテルで洗浄 し、純粋な白色のケトン化合物を得た（５．０ｇ、７７％）；融点：１１９〜１ ２２℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．０８（ｍ，１Ｈ）、７． ５５（ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．３０（ｍ，１Ｈ）、７．２１（ｍ，４ Ｈ）、４．１３（ｓ，２Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ ＝２４９。工程 ３ ：２−ブロモ−２−（４−メチルチオフェニル）−１−（３−チエニル ）エタノンの製造 工程３からのケトン化合物（４．０ｇ，１６．１ミリモル）の酢酸（１００ml ）および酢酸中の３３％ＨＢｒ（５ml）の溶液を、酢酸中の臭素の０．９９Ｍ溶 液（１６．５ml，１６．３ミリモル）で処理し、次いで室温で１時間撹拌した。 この溶液を減圧で濃縮し、残留物をジクロロメタン中に取り、１Ｎ ＮａＨＳＯ₃ 、次いで１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次 いで減圧で濃縮し、得られた灰色固形物を酢酸エチルとイソオクタンとの混合物 から再結晶させ、ブロモケトン中間体を得た（４．２２ｇ、８０ ％）；融点：７４〜７６．５℃。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝３２８。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）−４ −（３−チエニル）チアゾールの製造 工程３からのブロモケトン化合物（３３０mg，１．０ミリモル）および４−ク ロロチオベンズアミド（１８０mg，１．０ミリモル）のアセトニトリル１０ml中 の溶液を、１５時間加熱還流させた。この溶液を室温に冷却させ、次いでメタノ ール３０ml中に注ぎ入れ、氷浴により冷却させ、生成された純粋なチアゾール化 合物の結晶を、濾過により分離し、次いで空気乾燥させ、チアゾール化合物を得 た（２３０mg，５８％）。この生成物は次の工程で直接使用した。融点：１０２ 〜１０３．５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３９（ｄ，１Ｈ ）、７．５７（ｍ，１Ｈ）、７．４９（ｄ，１Ｈ）、７．３９（ｍ，４Ｈ）、７ ．２６（ｍ，４Ｈ）、２．５３（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝４０１ 。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル ）−４−（３−チエニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン２ml中の工程４からのチアゾール化合物（１８０mg，０．４５ ミリモル）の溶液を、室温で４時間、ＭＣＰＢＡ（３３０mg、０．９５ミリモル ）により処理した。この溶液を追加のジクロロメタンで希釈し、１０％水性Ｎａ ＨＳＯ₃および１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し 、次いで減圧下に濃縮し、黄色固形物を得た。この生成物を、シリカゲル上でフ ラッシュクロマトグラフイに付し、ヘキサンおよび酢酸エチルにより溶離するこ とによって精製し、白色固形物を得た（６０mg，３２％）。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ Ｃｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３９（ｍ，１Ｈ）、７．９４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ）、７．７０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５６（ｍ，２Ｈ）、７ ．３９（ｍ，２Ｈ）、７．２８（ｍ，１Ｈ）、７．１７（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ， １Ｈ）、３．１１（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝４３２。 例８ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（４−ピリジル）チアゾール工程 １ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）− ２−（４−ピリジル）チアゾールの製造 例１、工程３からの中間体、１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチ ルチオフェニル）−２−ブロモエタノン（１．５８ｇ、４．６６ミリモル）およ びチオイソニコチンアミド（６７０mg、４．８４ミリモル）のアセトニトリル２ ５ml中の溶液を、２３時間、加熱還流させた。この溶液を濾過し、減圧で濃縮し 、次いで残留物をジクロロメタン中に取り入れた。このジクロロメタン溶液を、 飽和水性ＮａＨＣＯ₃およびブラインで洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾 過し、次いで減圧下に濃縮し、得られた褐色油状物を、シリカゲル上でフラッシ ュクロマトグラフイに付し、ヘキサン中２０％酢酸エチルにより溶離することに よって精製し、所望のチアゾール化合物を油状物として得た。この油状物は放置 すると固化した（６４０mg，３６％）；融点：１０７〜１０９℃。¹Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．７５（広いｓ，２Ｈ）、７．８５（ｄ，Ｊ＝ ５．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．５６（ｍ，２Ｈ）、７．２６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ， ２Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．０１（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈ ｚ，２Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１３．２ ３（ｍ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₂₁Ｈ₁₅ＦＮ₂Ｓ₂に対する計算値：３７９ ．０６６１。実測値：３７９．０６９１。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−（４−ピリジル）チアゾールの製造 ジクロロメタン１０ml中の工程１からのチアゾール化合物（４５０mg，１．１ ９ミリモル）の溶液を、室温で２．５時間、ＭＣＰＢＡ（８５０mg、２．４６ミ リモル）により処理した。この溶液を追加のジクロロメタンで希釈し、１０％水 性ＮａＨＳＯ₃および１０％Ｎａ₂ＣＯ₃により洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥さ せ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、黄色固形物を得た。この生成物を、ジクロロ メタン、エタノールおよびイソオクタンの混合物から再結晶させることによって 精製し、純粋な生成物を得た（３１０mg，６３％）；融点：１７１〜１７６℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．２５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ ）、７．９０（ｍ，４Ｈ）、７．５６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．５０ （ｍ，２Ｈ）、７．０４（ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ） 。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１１．８３（ｍ）。高分解能質量スペクトル ：Ｃ₂₁Ｈ₁₅ＦＮ₂Ｏ₂Ｓ₂に対する計算値：４１０．０５５９。実測値：４１０． ０５７６。 例９ ２−（２−クロロフェニル）−４−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチ ルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（２−クロロフェニル）−３−（４−メチルチオフェニル）プロ ペン酸の製造 無水酢酸（１７０ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（２０．９３ｇ ，１３７ミリモル）、２−クロロフェニル酢酸（２３．４３ｇ、１３７ミリモル ）およびトリエチルアミン（１４．９７ｇ、１４７ミリモル）の混合物を、２時 間加熱還流させた。この反応混合物を９０℃に冷却させ、次いで水（１８０ml） を添加した。この溶液から分離した黄色固形物を濾過により分離し、空気乾燥さ せ、 所望の酸化合物を得た。この酸生成物を酢酸エチルとイソオクタンとの混合物か ら再結晶させ、２４．６２ｇを得た（５９％）；融点：１５９〜１６４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９７（ｓ，１Ｈ）、７．４８（ｄ， Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）、７．１７〜７．３５（ｍ，３Ｈ）、７．０２（ｄ，Ｊ ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、６．９７（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、２．４３（ｓ ，３Ｈ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₁₆Ｈ₁₃ＣｌＯ₂Ｓに対する計算値：３０ ４．０３２５。実測値：３０４．０３３４。工程 ２ ：１−（２−クロロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エタ ノンの製造 工程１からの酸化合物（１７．８８ｇ，５８．７ミリモル）およびトリエチル アミン（９．５３ｇ，９４．２ミリモル）を、無水トルエン５０mlに溶解し、こ の溶液を０℃に冷却させ、次いでジフェニルホスホリルアジド（１６．４６ｇ， ５９．８ミリモル）で処理した。この溶液を０℃に３６分間維持し、次いで室温 に４時間温めた。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルにより抽出し、硫 酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮した。残留するトルエン溶液を １１０℃に１時間加熱した。この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルアルコール（７ ml、７４ミリモル）を添加した。さらに２０分後に、濃塩酸（５ml）を注意して 添加し、この反応混合物を９０℃で１６時間保持した。この溶液を減圧で濃縮し 、残留物を酢酸エチル中に取り、水、飽和水性ＮａＨＣＯ₃およびブラインで洗 浄し、無水ＭｇＳＯ₄上乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、ケトン化合物 をオレンジ色油状物として得た（１４．６２ｇ、９０％）。この生成物は、さら に精製することなく次の工程で使用した：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨ ｚ ７．４０〜７．１０（ｍ，８Ｈ）、４．２０（ｓ，２Ｈ）、２．４６（ｓ， ３Ｈ）。工程 ３ ：２−ブロモ−１−（２−クロロフェニル）−２−（４−メチルチオフ ェニル）エタノンの製造 工程２からのケトン化合物（１３．８２ｇ，４９．９ミリモル）の酢酸（８０ ml）および酢酸中の３３％ＨＢｒ（４ml）の溶液を、酢酸中の臭素の１．１Ｍ溶 液（４６．８ml，５１．３ミリモル）で処理し、次いで室温で１．５時間撹拌し た。この溶液を減圧で濃縮し、残留物をジクロロメタン中に取り、１Ｎ ＮａＨ ＳＯ₃および１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、 次いで減圧で濃縮し、ブロモケトン化合物をオレンジ色固形物として得た（６． ０７ｇ、３４％）。この生成物は、さらに精製することなく、次の工程で直接使 用するのに充分の純度を有していた；融点：９３〜９９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ Ｃｌ₃）３００ＭＨｚ ７．３７〜７．４３（ｍ，５Ｈ）、７．４１（ｍ，１Ｈ ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、６．２１（ｓ，１Ｈ）、２．４７ （ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝３５７。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（２−クロロフェニル）−５−（ ４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 工程３からのブロモケトン化合物（１．１４ｇ，３．２ミリモル）および２− クロロチオベンズアミド（５５０mg，３．２ミリモル）のアセトニトリル１０ml 中の溶液を、１６時間加熱還流させた。この溶液を室温に冷却させ、次いでメタ ノール中に注ぎ入れた。この溶液を氷浴により冷却させ、分離した黄色固形物を 濾過により採取した。この固形物を空気乾燥させ、純粋なチアゾール化合物を得 た（４４０mg，３２％）；融点：１１６〜１２０℃；¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃） ３００ＭＨｚ ８．３３（ｍ，１Ｈ）、７．２９〜７．５２（ｍ，７Ｈ）、７． １９（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．１４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、 ２．４６（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ⁺＝４２７。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（２−クロロフェニル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン５ml中の工程４からのチアゾール化合物（４４０mg，１．０２ ミリモル）の溶液を、室温で０．９時間、ＭＣＰＢＡ（７２０mg、２．０８ミリ モル）で処理した。この溶液を追加のジクロロメタンで希釈し、１０％水性Ｎａ ＨＳＯ₃および１０％Ｎａ₂ＣＯ₃により洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾 過し、次いで減圧下に濃縮し、黄色固形物を得た。この固形物を、ジクロロメタ ンとイソオクタンとの混合物から再結晶させ、純粋な生成物を得た（２７０mg， ５７％）；融点：１４３〜１４７℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３６（ｍ，１Ｈ）、７．８２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７． ５２（ｍ，１Ｈ）、７．４５（ｍ，４Ｈ）、７．３８（ｍ，４Ｈ）、３．０５（ ｓ，３Ｈ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₂₂Ｈ₁₅Ｃｌ₂ＮＯ₂Ｓ₂に対する計算値 ：４５８．９９２１。実測値：４５８．９９０３。 例１０ ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−クロロフェニル）−５−（４−メチ ルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（４−クロロフェニル）−３−（４−メチルチオフェニル）プロ ペン酸の製造 無水酢酸（８０ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（９．８１ｇ，６ １．２ミリモル）、４−クロロフェニル酢酸（１２．０３ｇ，７０．５ミリモル ）およびトリエチルアミン（７．４９ｇ，７．４２ミリモル）の混合物を、７時 間加熱還流させた。この反応混合物を９０℃に冷却させ、次いで水（１００ml） を添加した。溶液から分離した黄色固形物を濾過により採取し、空気乾燥させ、 所望の酸化合物を得た。この酸生成物はトルエンから再結晶させた（９．５９ｇ ，５１％）；融点：１８５〜１８７℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９１（ｓ，１Ｈ）、７．３５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．１７〜７ ．３５（ｍ，３Ｈ）、７．０３（ｄ，２Ｈ）、７．００（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ， ２Ｈ）、２．４４および２．３６（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ−３０ ５。工程 ２ ：１−（４−クロロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エタ ノンの製造 工程１からの酸化合物（９．０１ｇ，２９．６ミリモル）およびトリエチルア ミン（３．０３ｇ，２９．９ミリモル）を、無水トルエン４５mlに溶解し、この 溶液を０℃に冷却させ、次いでジフェニルホスホリルアジド（８．２２ｇ，２９ ． ９ミリモル）で処理した。この溶液を０℃に１０分間維持し、次いで室温に２時 間温めた。この反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルにより抽出し、無水Ｍｇ ＳＯ₄上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。残留するト ルエン溶液を、９０℃に１５分間加熱した。この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチル アルコール（１０ml）を添加した。さらに２０分後に、濃塩酸（８ml）を注意し て添加し、この反応混合物を９０℃で１５分間保持した。この溶液を室温に冷却 させ、生成された沈殿を濾過により分離し、エーテルで洗浄し、次いで空気乾燥 させ、所望のケトン化合物を白色固形物として得た（２．４３ｇ、３０％）；融 点：１４３〜１４７．５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．０８ （ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．５５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７． ２４（ｍ，４Ｈ）、４．３５（ｓ，２Ｈ）、２．０５（ｓ，３Ｈ）。質量スペク トル：Ｍ＋Ｈ＝２７７。工程 ３ ：２−ブロモ−１−（４−クロロフェニル）−２−（４−メチルチオフ ェニル）エタノンの製造 工程２からのケトン化合物（２．０４ｇ，７．３７ミリモル）の酢酸（１５ml ）および酢酸中の４８％ＨＢｒ（２ml）の溶液を、酢酸中の臭素の０．９９Ｍ溶 液（７．６ml，７．５ミリモル）で処理し、次いで室温で２．２５時間撹拌した 。この溶液から沈殿した所望の生成物を濾過により採取し、次いで空気乾燥させ 、ブロモケトン中間体を得た（０．９１ｇ、３５％）。この生成物は次の工程で 使用した：融点：１１４〜１１５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ７ ．９０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．４０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，４Ｈ） 、７．２３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、６．２８（ｓ，１Ｈ）、２．４７（ ｓ，３Ｈ）：¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ １８９．７６，１４０ ．６８，１４０．３０，１３２．４４，１３１．８８，１３０．５４，１２９． ５１，１２９．１９，１２６．５１，５０．５７，１５．３３。高分解能質量ス ペクトル：Ｃ₁₅Ｈ₁₂ＢｒＣｌＯＳに対する計算値：３５３．９４８１。実測値： ３５３．９５１６。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（４−クロロフェニル）−５−（ ４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 工程３からのブロモケトン中間体（８９０mg，２．５ミリモル）および２−ク ロロチオベンズアミド（４３０mg，２．５ミリモル）のアセトニトリル１５ml中 の溶液を、１６時間加熱還流させた。この溶液を酢酸エチルにより希釈し、飽和 水性ＮａＨＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧下 に濃縮し、白色固形物を得た。この粗製生成物を、シリカゲル上でフラッシュク ロマトグラフイに付し、ヘキサン中８％酢酸エチルにより溶離することによって 精製し、所望のチアゾール化合物を白色固形物として得た（３７０mg，３４％） ；融点：１２２〜１２４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３７ （ｍ，１Ｈ）、７．５６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５０（ｍ，１Ｈ） 、７．２０〜７．３９（ｍ，８Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル： Ｍ＋Ｈ＝４２９。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（４−クロロフェニル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン１０ml中の工程４からのチアゾール化合物（３００mg，０．７ ミリモル）の溶液を、室温で１時間、ＭＣＰＢＡ（５３０mg，１．５ミリモル） により処理した。この溶液を追加のジクロロメタンで希釈し、１０％水性ＮａＨ ＳＯ₃、および１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾 過し、次いで減圧下に濃縮し、黄色固形物を得た。この固形物をジクロロメタン とイソオクタンとの混合物から再結晶させ、純粋な生成物を得た（１８０mg，５ ６％）：融点：１７７〜１７９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ８． ３７（ｍ，１Ｈ）、７．９１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．６２（ｄ，Ｊ ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５０（ｄ，３Ｈ）、７．４０（ｍ，２Ｈ）、７．３ ４（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、３．１０（ｓ，３Ｈ）。高分解能質量スペク トル：Ｃ₂₂Ｈ₁₅Ｃｌ₂ＮＯ₂Ｓ₂に対する計算値：４５８．９９２１。実測値：４ ５８．９９２２。 例１１ ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−５−（４−メ チルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（４−メトキシフェニル）−３−（４−メチルチオフェニル）プ ロペン酸の製造 無水酢酸（３５０ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（６１．６ｇ， ０．６１モル）、４−メトキシフェニル酢酸（１００．０ｇ，０．６０モル）お よびトリエチルアミン（６８．１ｇ，０．６７モル）を、４時間加熱還流させた 。この反応混合物を１１０℃に冷却させ、次いで水（３５０ml）を添加した。こ れにより、この溶液は激しく還流され、温度は１３５℃に上昇した。生成された 黄色沈殿を、室温まで冷却させた後に濾過により採取し、水で洗浄し、次いで空 気乾燥させた。この生成物を酢酸エチル／エタノールから再結晶させ、所望の酸 化合物を、明るい黄色の針状物として得た（１２７．６ｇ，７１％）；融点：１ ７４〜１７７℃；¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．８９（ｓ，１Ｈ ）、７．１６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）、７．０２（ｓ，４Ｈ）、６．９２ （ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ）、３．８４（ｓ，３Ｈ）、２．４３（ｓ，３Ｈ） 。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝３００。工程 ２ ：１−（４−メトキシフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エ タノンの製造 工程１からの酸化合物（２３．０ｇ，７６．６ミリモル）を、トリエチルアミ ン（７．９８ｇ，７９ミリモル）および無水トルエン（１００ml）に添加した。 ０℃に冷却させた後に、ジフェニルホスホリルアジド（２１．２７ｇ，７９ミリ モル）を添加し、この溶液を０℃で２０分間、次いで室温で２時間撹拌した。こ の混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルにより抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥 させ、次いで減圧で濃縮した。残留するトルエン溶液を、１００℃に加熱すると 、激しいガスの発生が生じた。１．２５時間後に、この反応混合物にｔｅｒｔ− ブチルアルコール（８．２ml）を添加し、さらに２０分後に、濃塩酸（７ml）を 添加した。この反応混合物を７５℃で一夜にわたり（１４時間）加熱した。冷却 させた後に、白色沈殿が生成された。この沈殿を濾過により分離し、冷たいエー テルで洗浄し、空気乾燥させ、明るい黄色のケトン化合物を得た（１９．３ｇ、 ９３％）；融点：１３４．５〜１３８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨ ｚ ７．９９（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．２０（ｍ，４Ｈ）、６．９３ （ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、４．１８（ｓ，２Ｈ）、３．８４（ｓ，３Ｈ） 、２．４４（ｓ，２Ｈ）；¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ １９６． １８，１６３．６５，１３６．８７，１３１．９２，１３１．００，１２９．９ ７，１２９．６４，１２７．１５，１１３．９２，５５．５８，４４．７８，１ ６．１１。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝２７３。工程 ３ ：２−ブロモ−１−（４−メトキシフェニル）−２−（４−メチルチオ フェニル）エタノンの製造 工程２からのケトン化合物（１９．３ｇ，７１ミリモル）を、氷酢酸（１２５ ml）および酢酸中の３３％ＨＢｒ（３．４ml）の混合物に溶解し、次いで酢酸中 の臭素の０．９９Ｍ溶液（７３ml，７２ミリモル）により室温で３時間処理した 。この溶液をジクロロメタンで希釈し、水、１０％水性ＮａＨＳＯ₃で順次洗浄 し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧下に濃縮し、所望のブロ モケトン中間体を得た。この生成物を、ジクロロメタンとイソオクタンとの混合 物から結晶化させた（１４．３ｇ、５７％）；融点：９０〜９３℃。¹Ｈ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９５（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）、７． ４２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、 ６．９２（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）、６．３３（ｓ，１Ｈ）、３．８５（ｓ ，３Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝３５２。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−５− （４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 アセトニトリル（４０ml）中の工程３からのブロモケトン中間体（３．２２ｇ ，９．１７ミリモル）および２−クロロチオベンズアミド（１．６５ｇ，９．６ ２ミリモル）の混合物を、室温で２４時間撹拌した。この期間中に溶液から沈殿 が生成された。この沈殿を濾過により採取し、次いで空気乾燥させ、所望のチア ゾール化合物を得た（３．２６ｇ，８４％）；融点：１５９〜１６１℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３８（ｍ，１Ｈ）、７．５４（ｄ，Ｊ ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、７．４８（ｄ，１Ｈ）、７．３３（ｍ，４Ｈ）、７．２ ２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、６．８８（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，２Ｈ）、３ ．８２（ｓ，３Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝４２４ 。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−５− （４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 工程４からのチアゾール化合物（０．３０ｇ，０．７ミリモル）のジクロロメ タン（５ml）溶液を、ＭＣＰＢＡ（０．５３ｇ，１．５ミリモル）で処理し、室 温で２４時間撹拌した。この溶液を１０％水性ＮａＨＳＯ₃および１０％Ｎａ₂Ｃ Ｏ₃で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧下に濃縮し 、黄色固形物を得た。この固形物をジクロロメタンとイソオクタンとの混合物か ら結晶化させ、純粋な生成物を得た（１９０mg，５９％）；融点：１７１．５〜 １７３．５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３９（ｍ，１Ｈ） 、７．８８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．６３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２ Ｈ）、７．４９（ｍ，３Ｈ）、７．３８（ｍ，２Ｈ）、６．９０（ｄ，Ｊ＝８． ９Ｈｚ，２Ｈ）、３．８３（ｓ，３Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ）。高分解能質量 スペクトル：Ｃ₂₃Ｈ₁₈ＣｌＮＯ₃Ｓ₂に対する計算値：４５５．０４１７。実測値 ：４５５．０４１６。質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝４５５．０４６１。 例１２ ２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル） −５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−４−（４−フルオロフ ェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 例１）工程３からの中間体、１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチ ルチオフェニル）−２−ブロモエタノン（１．９６ｇ、５．７８ミリモル）およ び３−フルオロ−４−クロロチオベンズアミド（１．１４ｇ、６．０１ミリモル ）のアセトニトリル１５ml中の溶液を、１６時間加熱還流させた。この溶液を室 温に冷却し、メタノール５０ml中に注ぎ入れ、次いで氷浴で冷却させると、所望 の生成物が沈殿した。この粗製チアゾール化合物を、メタノールから再結晶させ 、所望のチアゾール化合物を得た（１．４４ｇ，５８％）；融点：１１３〜１１ ８℃；¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．１０（ｄｄ，Ｊ＝７．０Ｈ ｚ，２．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．８５（ｍ，１Ｈ）、７．５７（ｍ，２Ｈ）、７． ２６（ｍ，５Ｈ）、７．０２（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、２．５１（ｓ，３ Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１２．９２（ｍ）、−１１３．４４（ｍ ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ＝４２９。工程 ２ ：２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−４−（４−フルオロフ ェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン（２０ml）中の工程１からのチアゾール化合物（９１０mg，２ ．１２ミリモル）の溶液を、ＭＣＰＢＡ（１．４８ｇ、４．２９ミリモル）によ り処理し、室温で３０分間撹拌した。この溶液を、１０％水性ＮａＨＳＯ₃およ び１０％Ｎａ₂ＣＯ₃により順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、 次いで減圧下に濃縮し、黄色固形物を得た。この生成物を、ジクロロメタンとイ ソオクタンとの混合物から結晶化させ、純粋な生成物を得た（７７０mg，７９％ ）；融点：１６５〜１６７℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．１ ０（ｄ，１Ｈ）、７．９０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）、７．８５（ｍ，１Ｈ ）、７．５４（ｍ，４Ｈ）、７．２４（ｔ，１Ｈ）、７．０５（ｔ，Ｊ＝８．５ Ｈｚ，２Ｈ）、３．１０（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１２． ０６（ｍ）、−１１２．２９（ｍ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₂₂Ｈ₁₄ＣｌＦ₂ ＮＯ₂Ｓ₂に対する計算値：４６２．０２０１。実測値：４６２．０１３８。 例１３ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（（２−チエニル）スルホニルメチル）チアゾール工程 １ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）− ２−（（２−チエニル）スルホニルメチル）チアゾールの製造 例１、工程３からの中間体、１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチ ルチオフェニル）−２−ブロモエタノン（４．３３ｇ、１２．７６ミリモル）お よび（２−チエニル）スルホニルチオアセトアミド（２．５５ｇ、１１．５ミリ モル）のアセトニトリル２５ml中の溶液を、１６時間加熱還流させた。この溶液 を氷浴で冷却させ、生成した沈殿を濾過により分離した。この濾液を減圧で濃縮 し、残留物を酢酸エチルに溶解し、飽和水性ＮａＨＣＯ₃およびブラインにより 順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧下に濃縮し、褐 色油状物を得た。この生成物をシリカゲル上でフラッシュクロマトグラフイに付 し、ヘキサン中３０％酢酸エチルにより溶離することによって精製した。相当す るフラクションを集め、濃縮し、さらにジクロロメタンとイソオクタンとの混合 物から再結晶させ、純粋なチアゾール化合物２．１６ｇを得た（４１％）；融点 ：１２０〜１２１℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．７４（ｄ， Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ）、７．６７（ｍ，１Ｈ）、７．３３（ｍ，２Ｈ）、７． ２１（ｍ，５Ｈ）、６．９５（ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、４．８７（ｓ，２ Ｈ）、２．４９（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１３．３３（ｍ ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₂₁Ｈ₁₆ＦＮＯ₂Ｓ₄に対する計算値：４６１．０ ０４８。実測値：４６１．００９０。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−（（２−チエニル）スルホニルメチル）チアゾールの製造 工程１からのチアゾール化合物（１．７４ｇ，３．８ミリモル）のジクロロメ タン（１５ml）溶液を、ＭＣＰＢＡ（２．６８ｇ、７．８ミリモル）により処理 し、室温で１時間撹拌した。この溶液を、１０％水性ＮａＨＳＯ₃および１０％ Ｎａ₂ＣＯ₃により順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減 圧下に濃縮し、黄色泡状物を得た。この泡状物を、ジクロロメタンとイソオクタ ンとの混合物から結晶化させ、純粋な生成物１．５５ｇ（８６％）を白色固形物 として得た；融点：９８〜１０５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．７７（ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１ ．４Ｈｚ，１Ｈ）、７．６８（ｄｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，１．１Ｈｚ，１Ｈ）、７ ．５１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）、７．２９（ｍ，２Ｈ）、７．１７（ｔ， Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ）、６．９８（ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、４．８９（ ｓ，２Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１２．１ ３（ｍ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₂₁Ｈ₁₇ＦＮＯ₄Ｓ₄（ＭＨ⁺）に対する計 算値：４９４．００２５。実測値：４９４．０００５。 例１４ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（（２−チエニル）スルホニルメチル）チアゾール 例１３、工程２からの生成物、［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）−２−（（２−チエニル）スルホニルメチル）チア ゾール］（０．３８ｇ、０．７６ミリモル）をクロロホルム（２０ml）に溶解し た。この溶液を、酢酸中の臭素の溶液０．８０ml（０．９９Ｍ、０．７８ミリモ ル）で処理し、室温で０．５８時間撹拌し、次いで１０％ＮａＨＳＯ₃溶液で処 理した。この有機層を採取し、飽和ＮａＨＣＯ₃で洗浄し、硫酸マグネシウム上 で乾燥させ、次いで減圧で濃縮して、白色泡状物を得た（０．４６ｇ）。この生 成物は臭素化化合物と出発物質との混合物であった。この混合物をシリカゲル上 でフラッシュクロマトグラフイに付し、ヘキサン中３０％酢酸エチルにより溶離 することによって精製し、生成物を白色泡状物として得た（０．２０ｇ、４５％ ）。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ， ２Ｈ）、７．８６（ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１．１Ｈｚ，１Ｈ）、７．７９（ｄ ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，１．１Ｈｚ，ＩＨ）、７．５５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２ Ｈ）、７．３１（ｍ，２Ｈ）、７．２１（ｔ，Ｊ＝４．７Ｈｚ，１Ｈ）、６．９ ８（ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、６．２４（ｓ，２Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１１．８５（ｍ）。電界脱離質量スペクト ル：Ｍ＋Ｌｉ＝５７９。 例１５ ２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−４− （４−メチルフェニル）−チアゾール工程 １ ：３−（４−メチルチオフェニル）−２−（４−メチルフェニル）プロ ペン酸の製造 ４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（１６．４ml，１２３．７ミリモル）を 、４−メメルフェニル酢酸（２６．０ｇ，１７３．１ミリモル）、トリエチルア ミン（１７．２ml，１２３．７ミリモル）および酢酸２５０mlに添加した。この 反応混合物を還流下に温め、次いで４時間還流させた。ほぼ１１０℃まで冷却さ せ、次いで水（２５０ml）を１０分かけて添加した。これにより発泡が制御され 、反応温度は≧９０℃に維持された。この温度を１６時間維持し、生成された濃 厚な懸濁液を室温に冷却させ、次いで濾過した。この固形物を水で洗浄し、乾燥 させ、酸中間体をオレンジ色結晶として得た（３２．２ｇ，９１％）；融点：１ ４４〜１６０℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８７（ｓ，１Ｈ ）、７．１４〜７．０２（ｍ，９Ｈ）、２．４３（ｓ，３Ｈ）、２．４０（ｓ， ３Ｈ）。工程 ２ ：２−（４−メチルチオフェニル）−１−（４−メチルフェニル）エタ ノンの製造 工程１からの３−（４−メチルチオフェニル）−２−（４−メチルフェニル） プロペン酸（２５ｇ，８７．９１ミリモル）を、トリエチルアミン（１２．９ml ，９２．３１ミリモル）およびトルエン（２００ml）に添加し、０℃に冷却させ た。この反応混合物に約１０分かけて、反応温度を≦１０℃に維持しながら、ト ルエン（１００ml）に溶解したジフェニルホスホリルアジド（１９ml，８７．９ １ミ リモル）を添加した。反応温度を０℃に３０分間維持した後に、水（１００ml） を添加し、この二層状溶液をトルエン（２×２００ml）で抽出した。この有機溶 液を集め、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、次いで濾過した。この溶液を、約３０ 分間にわたり、還流下に注意して加温し、次いで１時間保持した。熱源を取り除 き、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール（９ml，９６．７ミリモル）を添加し、還流を さらに３０分間継続した。濃ＨＣｌ（８ml、９６．８ミリモル）を非常に注意し て添加した。ガスの激しい発生が生じた。さらに２０分間還流を継続した後に、 この反応混合物を室温に冷却させ、次いで１６時間保持した。溶媒の量を減圧で 減少させると、結晶が現れた。ジエチルエーテル（３００ml）を添加し、この懸 濁液を０℃に冷却させ、３０分間保持し、濾過し、次いでジエチメエーテルで洗 浄し、空気乾燥させ、純粋な２−（４−メチルチオフェニル）−１−（４−メチ ルフェニル）エタノンを得た（１１．３ｇ、５０％）；融点：１２０〜１２１℃ 。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８９（ｄ，Ｊ＝８．２６Ｈｚ， ２Ｈ）、７．２３〜７．１５（ｍ，６Ｈ）、４．２１（ｓ，２Ｈ）、２．４５（ ｓ，３Ｈ）、２．４０（ｓ，２Ｈ）。工程 ３ ：２−ブロモ−２−（４−メチルチオフェニル）−１−（４−メチルフ ェニル）エタノンの製造 工程２からの２−（４−メチルチオフェニル）−１−（４−メチルフェニル） エタノン（１０．０ｇ，３９．０ミリモル）を、氷酢酸（１００ml）および酢酸 中の３３％ＨＢｒ（７０ml）に添加した。この懸濁液に、約２０分かけて、酢酸 中臭素溶液（１Ｍ，３９ml）を添加し、この反応混合物を室温で１時間保持した 。未溶解の固形物をいずれも濾過により除去し、この反応混合物を減圧で濃縮し 、残留物を得た。この残留物をメチレンクロライド（１００ml）に溶解し、５％ Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₅（２×１００ml）で洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次い で減圧で濃縮して、無色油状物を得た。この油状物を減圧の下に１６時間保持し 、２−ブロモ−２−（４−メチルチオフェニル）−１−（４−メチルフェニル） エタノンを汚れた白色の固形物として得た（８．３８ｇ、６４％）；；融点：９ ７〜９８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８６（ｄ，Ｊ＝８． ４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．８０（ｄ，Ｊ＝８．２６Ｈｚ，２Ｈ）、７．３ ３〜７．１６（ｍ，４Ｈ）、５．８８（ｓ，１Ｈ）、２．４３（ｓ，３Ｈ）、２ ．３６（ｓ，３Ｈ）。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（４−メチルフェニル）−５−（ ４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 工程３からの２−ブロモ−２−（４−メチルチオフェニル）−１−（４−メチ ルフェニル）エタノン（０．３００ｇ，０．８９５ミリモル）を、アセトニトリ ル（２０ml）に添加した。２−クロロチオベンズアミド（０．１５４ｇ，０．８ ９５ミリモル）を添加し、この懸濁液を加熱し、３時間還流させた。この反応混 合物を室温に冷却させ、酢酸エチル（５０ml）で希釈し、次いで水（５０ml）中 に注ぎ入れた。層を分離させ、水性層は酢酸エチルで抽出した（２×３０，ml） 。有機溶液を集め、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で蒸発させた 。この残留物をフラッシュクロマトグラフイに付すことによって精製し（シリカ ゲル；ヘキサン中５％酢酸エチル）、２−（２−クロロフェニル）−４−（４− メチルフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールを白色固形物と して得た（０．２８４ｇ，７８％）；融点：１２５〜１２６℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．４０（ｍ，１Ｈ）、７．６２〜７．１１（ｍ， １１Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：Ｍ Ｈ⁺＝４０７。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル ）−４−（４−メチルフェニル）チアゾールの製造 工程４からの２−（２−クロロフェニル）−４−（４−メチルフェニル）−５ −（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０．２４３ｇ，０．５９６ミリモル ）を、水性エタノール（２５ml）に添加した。オキソン（Ｏｘｏｎｅ）（登録商 品名）（１．１０ｇ，１．７８７ミリモル）を添加し、この懸濁液を室温で１６ 時間撹拌した。水（２５ml）を添加し、生成物を沈殿させた。この懸濁液を０℃ に冷却させ、１時間保持した。この生成物を濾別し、水（２５ml）で洗浄し、次 いで乾燥させ、２−（２−クロロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェ ニル）−４−（４−メチルフェニル）チアゾールを白色固形物として得た（０． ２３６ｇ，９０％）；融点：１８５〜１８７℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３ ００ＭＨｚ ８．４０（ｍ，１Ｈ）、７．８９（ｄ，Ｊ＝８．２６Ｈｚ，２Ｈ） 、７．６１（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．５４〜７．３７（ｍ，５Ｈ） 、７．１６（ｄ，Ｊ＝７．８５Ｈｚ，２Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ）、２．３８ （ｓ，３Ｈ）。質量スペクトル：ＭＨ⁺＝４３９。 例１６ ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メ チルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５− （４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 １２５ml丸底フラスコ内のアセトニトリル（６０ml）中の２−ブロモ−１−（ ４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エタノン（２．０３ ｇ，５．９８ミリモル）（例１、工程３）の溶液に、２−クロロチオベンズアミ ド（１．０８ｇ，６．２８ミリモル）を添加し、この懸濁液を８０℃に４時間加 熱した。この反応を室温まで冷却させ、この懸濁液を濾過した。この固形物を熱 いアセトニトリル（５０ml）およびメタノール（１５０ml）から再結晶させ、２ −（２−クロロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチル チオフェニル）チアゾールを黄褐色固形物として得た（１．２３ｇ、５０％）； 融点：１３３〜１３４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ８．３７ （ｄ，Ｊ＝６．１７Ｈｚ，１Ｈ）、７．６０（ｄｄ，Ｊ＝８．６８，５．２８， ２Ｈ）、７．５１（ｄ，Ｊ＝９．４４Ｈｚ，１Ｈ）、７．３２〜７．４２（ｍ， ２Ｈ）、７．３２（ｄ，Ｊ＝８．６８Ｈｚ，２Ｈ）、７．２１（ｄ，Ｊ＝８．６ ８Ｈｚ，２Ｈ）、７．０２（ｔ，Ｊ＝８．６８，２Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ） 。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ４１２（ＭＨ⁺）。工程 ２ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５− （４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（３０ml）中の工程１からの２−（２−クロロフェニル） −４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール （１．３０ｇ，３．１６ミリモル）の溶液に、室温において、ＭＣＰＢＡ（２． ０３ｇ，６７％過酸化物含有量、７．８９ミリモル）を２部にわけて添加した（ Ｔ＝０時および１時間目）。６時間撹拌した後に、濁った反応混合物をメチレン クロライド（５０ml）で希釈し、生成する清明な黄色の溶液をＮａＨＳＯ₃溶液 （０．１Ｍ、３×２０ml）、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液（３×５０ml）およびブライ ンで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、２ −（２−クロロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチル スルホニルフェニル）チアゾールを黄色固形物として得た（１．２ｇ、８６％） ；融点：１３３〜１３４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ δ８．４ ２〜８．３８（ｍ，１Ｈ）、７．９２（ｄ，Ｊ＝８．４０Ｈｚ，２Ｈ）、７．６ １（ｄ，Ｊ＝８．４０Ｈｚ，２Ｈ）、７．５６〜７．４５（ｍ，３Ｈ）、７．３ ８（ｍ，２Ｈ）、７．０５（ｔ，Ｊ＝８．６９Ｈｚ，２Ｈ）、３．１０（ｓ，３ Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ−サーモスプレイ）：ｍ／ｚ４４３（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝ −２．５ｍｍｕ。 例１７ エチル［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−チアゾリル］カルボキシレート工程 １ ：エチル［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェ ニル）−２−チアゾリル］カルボキシレートの製造 エタノール（３０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルチオフェニル）エタノン（１．０１４ｇ，２．９９ミリモル）（例 １、工程３）の溶液に、エチルチオオキサメート（０．４２８ｇ，３．２１ミリ モル）を添加し、この懸濁液を１２時間加熱還流させた。この反応を室温に冷却 させ、次いで２日間放置した。この粗製反応混合物を減圧で濃縮し、メチレンク ロライドで希釈し、飽和ＮａＨＣＯ₃溶液で洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、 濾過し、次いで減圧で濃縮した。この残留物をフラッシュクロマトグラフイ（９ ：１ヘキサン：酢酸エチル）により精製し、次いでメチレンクロライドおよびイ ソオクタンから再結晶させ、エチル［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４ −メチルチオフェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレートを淡黄色固形物と して得た（０．３５２ｇ、３２％）；融点：１１５〜１１６℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ δ７．５４〜７．４８（ｍ，２Ｈ）、７．２５〜７ ．２０（ｍ，４Ｈ）、７．００（ｔ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ）、４．５０（ｑ ，Ｊ＝７．００Ｈｚ，２Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）、１．４６（ｔ，Ｊ＝７． ０９Ｈｚ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ３７３（Ｍ⁺）。ＨＲＭＳ△＝０．０ ００ｍｍｕ。工程 ２ ：エチル［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニ ルフェニル）−２−チアゾリル］カルボキシレートの製造 メチレンクロライド（１０ml）中の工程１からのエチル［４−（４−フルオロ フェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−チアゾリル］カルボ キシレート（０．２０３ｇ，０．５４４ミリモル）の溶液に、０℃において、Ｍ ＣＰＢＡ（６７％過酸化物含有ＭＣＰＢＡの０．２９４ｇ、１．１４ミリモル） を添加した。この反応を室温まで温め、次いで３日間放置した。この粗製反応混 合物をメチレンクロライド（５０ml）で希釈し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶 液（０．１Ｍ）、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液およびブラインで順次洗浄した。この溶 液をＮａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、白色泡状物を得た 。この泡状物をメチレンクロライドおよびイソオクタンから結晶化させ、エチル ［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −チアゾリル］カルボキシレートを淡黄色の小型針状物として得た（０．１５ ０ｇ、６９％）；融点：１７３〜１７４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００Ｍ Ｈｚ δ７．９３（ｄ，Ｊ＝８．３０Ｈｚ，２Ｈ）、７．５５（ｄ，Ｊ＝８．３ ０Ｈｚ，２Ｈ）、７．４８（ｔ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、７．０３（ｔ，Ｊ ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、４．５２（ｑ，Ｊ＝７．３２Ｈｚ，２Ｈ）、３．０９ （ｓ，３Ｈ）、１．４６（ｔ，Ｊ＝７．３３Ｈｚ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ ｚ４０５（Ｍ⁺）。ＨＲＭＳ△＝−０．５ｍｍｕ。 例１８ ２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチ ルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２，２−ジメチルチオプロピオンアミドの製造 トルエン（６０ml）中の２，２−ジメチルプロピオンアミド（２．００ｇ，１ ９．７７ミリモル）の溶液に、ローソンの試薬（４．００ｇ，９．８９ミリモル ）を添加し、この溶液を１２時間加熱還流させた。この粗製反応混合物を室温ま で冷却させ、次いで減圧で濃縮した。この粗製生成物をフラッシュクロマトグラ フイにより精製した。第一カラムには３：１ヘキサン：酢酸エチルを使用して、 強力な硫黄臭を有する白色固形物を得た。この固形物をフラッシュクロマトグラ フイによりさらに精製した（１：１メチレンクロライド：１％酢酸含有ヘキサン ）。所望のチオアミドを含有する溶離液をトルエンで希釈し、次いで減圧で濃縮 して、油状物を得た。この油状物をイソオクタンで処理し、２，２−ジメチルチ オプロピオンアミドを白色粉末として得た（０．１９０ｇ、８％）。この生成物 は直ちに使用した。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ９．４０（広い ｓ，１Ｈ）、８．６５（広いｓ，１Ｈ）、１．１９（ｓ，９Ｈ）。工程 ２ ：２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５− （４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 エタノール（６ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（ ４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（０．１９６ｇ，０．５７ ８ミリモル）の溶液に、工程１からの２，２−ジメチルチオプロピオンアミド（ ０．０７１ｇ，０．６０６ミリモル）を添加し、この混合物を一夜にわたり加熱 還流させた。反応を室温まで冷却させ、酢酸エチル（５０ml）で希釈した。この 溶液をＮａ₂ＣＯ₃（１０％溶液）およびブラインで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で 乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（４ −フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールを、淡黄色 油状物として得た（０．１６２ｇ、７８％）。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ ＭＨｚ δ７．５６〜７．５１（ｍ，２Ｈ）、７．２４（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ ，２Ｈ）、７．２０（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、６．９８（ｔ，Ｊ＝８． ８５Ｈｚ，２Ｈ）、２．４９（ｓ，３Ｈ）、１．５２（ｓ，９Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ ）：ｍ／ｅ３５７（Ｍ＋）。ＨＲＭＳ△＝０．１ｍｍｕ。工程 ３ ：２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（５ml）中の工程２からの２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４ −（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０ ．１１０ｇ，０．３１ミリモル）の溶液に、０℃において、ＭＣＰＢＡ（６７％ 過酸化物含有ＭＣＰＢＡ）（最初に、０．０８０ｇ、０．６２ミリモル）を添加 し、この反応を室温まで温めた。その日の後刻に追加のＭＣＰＢＡ（０．０２０ ｇ、０．１５ミリモル）を添加し、四日目にさらにＭＣＰＢＡ（０．０４０ｇ、 ０．３１ミリモル）を添加し、四日目の後刻に追加のＭＣＰＢＡ（０．０２０ｇ 、０．１５ミリモル）を添加した。この粗製反応混合物をメチレンクロライド（ ５０ml）で希釈し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）、ＮａＨＣＯ₃ 飽和溶液およびブラインで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次い で減圧で濃縮した。この粗製生成物をメチレンクロライドおよびイソオクタンか ら再結晶させ、２−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５ − （４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールを白色粉末として得た（０．０５ ９ｇ、４９％）；融点：１４４〜１４５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００Ｍ Ｈｚ δ７．８７（ｄ，Ｊ＝８．３０Ｈｚ，２Ｈ）、７．５１〜７．４５（ｍ， ４Ｈ）、７．００（ｔ，Ｊ＝８．７９，２Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）、１．５ ０（ｓ，９Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ３９０（ＭＨ⁺）。ＨＲＭＳ△＝１．９ ｍｍｕ。 例１９ ２−ベンジル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニル フェニル）チアゾール工程 １ ：２−ベンジル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチ オフェニル）チアゾールの製造 エタノール（９ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（ ４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（０．２５０ｇ，０．７３ ７ミリモル）の溶液に、２−フェニルチオアセトアミド（０．１１１ｇ，０．７ ３７ミリモル）を添加し、この混合物を一夜にわたり加熱還流させた。反応を室 温まで冷却させ、酢酸エチル（５０ml）で希釈し、この溶液をＮａ₂ＣＯ₃（１０ ％溶液）およびブラインで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次い で減圧で濃縮し、油状物を生成した。この油状物をメチレンクロライドおよびイ ソオクタン中に溶解し、懸濁液を生成した。固形物を濾過により分離し、濾液を 減圧で再濃縮し、２−ベンジル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メ チルチオフェニル）チアゾールを黄色油状物として得た。この生成物は、¹Ｈ ＮＭＲに基づき、さらに精製することなく使用するのに適していた。工程 ２ ：２−ベンジル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルス ルホニルフェニル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（１０ml）中の工程１からの２−（ベンジル）−４−（４ −フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０．２０ ｇ，０．５０ミリモル）の溶液に、室温において、ＭＣＰＢＡ（６７％過酸化物 含有ＭＣＰＢＡの０．２９ｇ、１．００ミリモル）を添加し、この反応を室温ま で温め、次いで２時間放置した。この粗製反応混合物をメチレンクロライド（５ ０ml）で希釈し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）、ＮａＨＣＯ₃飽 和溶液およびブラインで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで 減圧で濃縮し、固形物を得た。この固形物をメチレンクロライドおよびイソオク タンから再結晶させ、２−ベンジル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４ −メチルスルホニルフェニル）チアゾールを白色針状物として得た（０．１３０ ｇ、５６％）；融点：１１７〜１１８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨ ｚ δ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ）、７．５〜７．３（ｍ，９Ｈ） 、７．０２（ｔ，８．６７Ｈｚ，２Ｈ）、４．３８（ｓ，２Ｈ）、３．０６（ｓ ，３Ｈ）。ＭＳ（ＦＡＢ）：ｍ／ｚ４２４（ＭＨ＋）。 例２０ ５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −メチルチアゾール工程 １ ：１−（４−メチルチオフェニル）−２−（４−フルオロフェニル）エ タノンの製造 ５℃に冷却した二硫化炭素（１．２リットル）中のチオアニソール（３８０ml 、３．２モル）および４−フルオロフェニルアセチルクロライド（３００ｇ、１ ．６モル）の撹拌した溶液に、無水塩化アルミニウムを内部温度が１５℃以上に 上 昇しないようにして、少しづつ添加した。この反応混合物を室温で１６時間撹拌 した。この溶液を氷および水２リットル中に注意して注ぎ入れた。この水性溶液 をメチレンクロライド（６×１５０ml）により抽出し、抽出液を集め、無水Ｍｇ ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮した。この残留物をエーテル８ ００ml中に溶解し、０℃に冷却させ、生成された純粋な生成物の結晶を濾過によ り分離し、空気乾燥させ、ケトン化合物を得た（１９９．６ｇ、４８％）；融点 ：１３５〜１３８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＴＭＳ）３００ＭＨｚ ８．０ ０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．４０〜７．３０（ｍ，４Ｈ）、７．１３ 〜７．０３（ｍ，２Ｈ）、４．３４（ｓ，２Ｈ）、２．５６（ｓ，３Ｈ）。質量 スペクトルＭ⁺＝２６０。工程 ２ ：２−ブロモ−２−（４−フルオロフェニル）−１−（４−メチルチオ フェニル）エタノンの製造 酢酸（１００ml）中の工程１からの２−（４−フルオロフェニル）−１−（４ −メチルチオフェニル）エタノン（５．０４ｇ，１９．３６ミリモル）の溶液に 、酢酸中のＨＢｒ（４５ml、４８重量％）および臭素（１．０ml、３．０９ｇ、 １９．３６ミリモル）を添加した。生成する緑色のスラリーは３０分以内に均質 になった。４時間後に、この反応混合物を減圧で濃縮し、残留物をトルエンで希 釈し、次いで減圧で再濃縮させた。この粗製ハロケトン化合物をフラッシュクロ マトグラフイに付し（２：１ヘキサン：メチレンクロライド）、次いで酢酸エチ ルおよびイソオクタンから再結晶させることによって精製し、２−ブロモ−２− （４−フルオロフェニル）−１−（４−メチルチオフェニル）エタノンをオフホ ワイト色固形物として得た（４．５１ｇ、６９％）；融点：１０８〜１１１℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ｍＨｚ δ７．９４（ｄ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ， ２Ｈ）、７．６０〜７．５０（ｍ，２Ｈ）、７．２５（ｄ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ， ２Ｈ）、７．１０（ｔ，Ｊ＝８．６７Ｈｚ，２Ｈ）、６．３４（ｓ，１Ｈ）、２ ．５６（ｓ，３Ｈ）。工程 ３ ：５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルチオフェニル）− ２−メチルチアゾールの製造 エタノール（２０ml）中の工程２からの２−ブロモ−２−（４−フルオロフェ ニル）−１−（４−メチルチオフェニル）エタノン（０．７０ｇ，２．１０ミリ モル）の溶液に、チオアセトアミド（０．１６ｇ，２．１０ミリモル）を添加し 、この混合物を２０時間加熱還流させた。この反応を室温まで冷却し、次いで減 圧で濃縮し、次いでメチレンクロライド中に溶解した。この溶液をＮａＨＣＯ₃ 飽和溶液で洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で再濃縮し、 白色結晶固形物を得た。この固形物をフラッシュクロマトグラフイに付し（２： １メチレンクロライド：ヘキサン）、５−（４−フルオロフェニル）−４−（４ −メチルチオフェニル）−２−メチルチアゾールを白色固形物として得た（０． ４５ｇ、６８％）；融点：１０４〜１０５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ ＭＨｚ δ７．３９（ｄ，Ｊ＝８．３２，２Ｈ）、７．２８（ｄｄ，Ｊ＝８．８ ０，５．１４，２Ｈ）、７．１５（ｄ，Ｊ＝８．３２，２Ｈ）、７．００（ｔ， Ｊ＝８．８０，２Ｈ）、２．７４（ｓ，３Ｈ）、２．４７（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ ＥＩ）：ｍ／ｚ３１６（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝０．０００ｍｍｕ。工程 ４ ：５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−メチルチアゾールの製造 メチレンクロライド（１５ml）中の工程３からの２−（メチル）−５−（４− フルオロフェニル）−４−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０．４４０ ｇ，１．３９ミリモル）の溶液に、０℃において、ＭＣＰＢＡ（６７％過酸化物 含有ＭＣＰＢＡの０．９０ｇ、３．４９ミリモル）を添加し、この反応を室温ま で温め、次いで一夜にわたり放置した。この粗製反応混合物をメチレンクロライ ド（７０ml）で希釈し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）およびＮ ａＨＣＯ₃飽和溶液で順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減 圧で濃縮した。この粗製生成物をフラッシュクロマトグラフイ（１：１メチレン クロライド：ヘキサン）に付すことによって精製し、このようにして得られた生 成物をメチレンクロライドおよびイソオクタンから再結晶させ、５−（４−フル オロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−メチルチアゾー ルを清明な無色針状物として得た（０．２７４ｇ、５７％）；融点：１３４〜１ ３５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ δ７．８４（ｄ，Ｊ＝８．５ ６Ｈｚ，２Ｈ）、７．６９（ｄ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ）、７．２８ （ｍ，２Ｈ）、７．０６（ｔ，Ｊ＝８．６８Ｈｚ，２Ｈ）、３．０４（ｓ，３Ｈ ）、２．７６（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ３４８（ＭＨ＋）。ＨＲＭＳ △＝−２．５ｍｍｕ。 例２１ ２−（３−［４−ブロモフェニル］プロピル）−４−（４−フルオロフェニル ））−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：４−（４−ブロモフェニル）チオブチルアミドの製造 トルエン（３５ml）中の４−（４−ブロモフェニル）ブチルアミド（１．６５ ３ｇ，６．８２７ミリモル）の溶液に、ローソンの試薬（１．３８１ｇ，３．４ １４ミリモル）を添加した。この反応混合物を一夜にわたり加熱還流させ、室温 まで冷却させ、次いで濃縮して、オレンジ色油状物を得た。この油状物をフラッ シュクロマトグラフイに付し（１：１ヘキサン：１％酢酸含有メチレンクロライ ド）、４−（４−ブロモフェニル）チオブチルアミドをオフホワイト色針状物と して得た（０．１９６ｇ）；融点：１０４〜１０５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ −ｄ₆）３００ＭＨｚ δ９．３３（広いｓ，１Ｈ）、９．１２（広いｓ，１Ｈ ）、７．４４（ｄ，Ｊ＝８．１１Ｈｚ，２Ｈ）、７．１４（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈ ｚ，２Ｈ）、２．５６〜２．４１（ｍ，４Ｈ）、１．９５〜１．８５（ｍ，２Ｈ ）。工程 ２ ：２−（３−［４−ブロモフェニル］プロピル）−４−（４−フルオロ フェニル））−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 アセトニトリル（９０ml）およびエタノール（１０ml）中の２−ブロモ−２− （４−フルオロフェニル）−１−（４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、 工程３）（２．７０ｇ，７．９０ミリモル）の溶液に、工程１からの４−（４− ブロモフェニル）チオブチルアミド（１．４ｇ，７．９０ミリモル）を添加し、 この混合物を７時間加熱還流させた。反応を室温まで冷却させ、次いで一夜にわ たり放置した。この粗製生成物を減圧で濃縮し、得られた油状物をフラッシュク ロマトグラフイにより精製し（１：１ヘキサン：メチレンクロライド）、２−（ ３−［４−ブロモフェニル］プロピル）−４−（４−フルオロフェニル））−５ −（４−メチルチオフェニル）チアゾール（１．４ｇ、３６％）を清明な無色油 状物として得た（¹Ｈ ＮＭＲによる純度：約９０％）。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）３００ＭＨｚ δ７．５０〜７．４６（ｍ，２Ｈ）、７．４１（ｄ，Ｊ＝８ ．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．１６（ｄ ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．１０（ｄ，Ｊ＝８．２６Ｈｚ，２Ｈ）、６． ９７（ｔ，Ｊ＝８．８６Ｈｚ，２Ｈ）、３．０３（ｔ，Ｊ＝７．４５Ｈｚ，２Ｈ ）、２．７４（ｔ，Ｊ＝７．４５Ｈｚ，２Ｈ）、２．４９（ｓ，３Ｈ）、２．２ ０〜２．０９（ｍ，２Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ５２９，５３１（Ｍ＋）４９ ７，４９９。ＨＲＭＳ△＝−２．１ｍｍｕ。工程 ３ ：２−（３−［４−ブロモフェニル］プロピル）−４−（４−フルオロ フェニル））−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（５ml）中の工程２からの２−（３−［４−ブロモフェニ ル］プロピル）−４−（４−フルオロフェニル））−５−（４−メチルチオフェ ニル）チアゾール（０．２０ｇ，０．４８ミリモル）の溶液に、０℃において、 ＭＣＰＢＡ（６７％過酸化剤の０．１７ｇ、０．６５ミリモル）を添加し、この 溶液を室温まで温め、次いで一夜にわたり放置した。この反応混合物をメチレン クロライド（５０ml）で希釈し、ＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）およびＮａＨＣ Ｏ₃飽和溶液で順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃 縮した。この生成物をメチレンクロライドおよびイソオクタンから再結晶させ、 ２−（３−［４−ブロモフェニル］プロピル）−４−（４−フルオロフェニル） ）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールを白色結晶固形物として 得た（０．１１３ｇ、４４％）；融点：１３２〜１３３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ Ｃｌ₃）３００ＭＨｚ δ７．８６（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４９ 〜７．４０（ｍ，６Ｈ）、７．１１〜７．０８（ｍ，２Ｈ）、７．０１ （ｔ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、３．０８〜３．０３（ｍ，５Ｈ）、２．７５ （ｔ，Ｊ＝７．４５Ｈｚ，２Ｈ）、２．１８（ｍ，２Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ ｚ５２９，５３１１（Ｍ＋）。ＨＲＭＳ△＝−３．１１７ｍｍｕ。 例２２ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チア ゾール工程 １ ：４−（４−フルオロフェニル））−５−（４−メチルチオフェニル） チアゾールの製造 ジエチルエーテル中のホルムアミド（３．４ｇ、３．０ml、７５．５ミリモル ）の溶液に、氷浴で冷却しかつまた撹拌ながら、固形の五硫化リン（２．３５ｇ 、５．３ミリモル）を数回に分けて添加した。この反応混合物を冷蔵庫内で５℃ に７２時間冷却し、室温まで温め、次いでさらに１６時間撹拌した。生成するチ オホルムアミドのエーテル溶液を、反応混合物からデカンテーションにより分離 し、そのまま使用した。このエーテル溶液の半分を減圧で濃縮した。生成する麦 藁色油状物をアセトニトリル（１０ml）により希釈し、次いで０℃で冷却した（ 氷浴）。固形の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチル チオフェニル）エタノン（例１、工程３）（０．５１８ｇ、１．５３ミリモル） を添加し、この反応混合物を室温で８日間撹拌した。この反応混合物を減圧で濃 縮し、メチレンクロライドで希釈し、次いでＮａＨＣＯ₃飽和溶液およびブライ ンで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で再濃縮した。 この粗製チアゾール生成物をフラッシュクロマトグラフイにより精製し（１：１ ヘキサン：メチレンクロライド）、４−（４−フルオロフェニル））−５−（４ −メチルチオフェニル）チアゾールを清明な粘着性油状物として得た （０．３７ｇ、８０％）。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ８．７５ （ｓ，１Ｈ）、７．５２（ｄｄ，Ｊ＝８．８７，５．４７Ｈｚ，２Ｈ）、７．２ ２（ｄ，Ｊ＝８．６８，２Ｈ）、７．１７（ｄ，Ｊ＝８．６８，２Ｈ）、６．９ ８（ｔ，Ｊ＝８．８７Ｈｚ，２Ｈ）、２．４５（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ ／ｚ３０１（Ｍ＋）。ＨＲＭＳ△＝５．０６３ｍｍｕ。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（１２ml）中の工程１からの４−（４−フルオロフェニル ））−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０．３５ｇ、１．１６ミリ モル）の溶液に、０℃において、ＭＣＰＢＡ（６７％過酸化物含有試薬の０．７ ５ｇ、２．９０ミリモル）を添加した。この溶液を室温まで温め、次いで一夜に わたり撹拌した。この反応混合物をメチレンクロライド（４０ml）で希釈し、こ の溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）およびＮａＨＣＯ₃飽和溶液で順次洗浄し 、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮した。この生成物をメチ レンクロライドおよびイソオクタンから再結晶させ、４−（４−フルオロフェニ ル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールを淡黄色の長い針状物 として得た（０．２５３ｇ、６５％）；融点：１３８〜１３９℃。¹Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ８．８９（ｓ，１Ｈ）、７．９１（ｄ，Ｊ＝８ ．６８，２Ｈ）、７．５５（ｄ，Ｊ＝８．６８，２Ｈ）、７．４８（ｄｄ，Ｊ＝ ９．０６，５．２８Ｈｚ，２Ｈ）、７．０３（ｔ，Ｊ＝９．０６Ｈｚ，２Ｈ）、 ３．０９（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ３３３（Ｍ＋）。ＨＲＭＳ△＝− ５．３４２ｍｍｕ。 例２３ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −トリフルオロメチルチアゾール工程 １ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）− ２−トリフルオロメチルチアゾールの製造 トルエン（３０ml）中のトリフルオロアセトアミド（１３．７ｇ、１２１．２ ミリモル）の溶液に、固形の五硫化リン（５．４ｇ、１２．１ミリモル）を添加 し、この混合物を６０時間加熱還流させた。生成するオレンジ色の「粗製」懸濁 液を室温に冷却し、次いで粉砕して、細かい懸濁液を生成させた。このトルエン 懸濁液（７．５ml、理論量の約３０ミリモル）に、２−ブロモ−１−（４−フル オロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（ １．５３ｇ、４．５０ミリモル）を１度に添加した。この懸濁液を、１．５時間 加熱還流させ、５０℃に冷却し、次いで１．０Ｎ ＨＣｌ溶液（１ml）を注意し て添加した。この溶液をさらに１時間、再加熱還流させた。この反応混合物を室 温まで冷却させ、次いで一夜にわたり放置した。この溶液に、発熱が静止するま で２Ｎ ＮａＯＨ溶液を添加し、この反応混合物を１時間以上撹拌した。生成す る黒色懸濁液をメチレンクロライドで希釈し、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液で洗浄し、 Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、オレンジ色油性半固 形物を得た。この粗製中間体を、３：１ヘキサン：酢酸エチル、次いで９：１ヘ キサン：メチレンクロライドを用いるフラッシュクロマトグラフイに付すことに より精製し、４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル） −２−トリフルオロメチルチアゾールを淡褐色油状物として得た（１．１ｇ、７ ２％）。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ７．５２（ｄｄ，Ｊ＝５． ２８，９．０６，２Ｈ）、７．２４（ｍ，４Ｈ）、７．０１（ｔ，Ｊ＝８．６８ Ｈｚ，２Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ３６９（Ｍ＋Ｈ） 。ＨＲＭＳ△＝−１．４４６ｍｍｕ。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−トリフルオロメチルチアゾールの製造 メチレンクロライド（３０ml）中の工程１からの２−トリフルオロメチル−５ −（４−フルオロフェニル））−４−（４−メチルチオフェニル）チアゾール （１．１０ｇ、３．３０ミリモル）の溶液に、０℃で、ＭＣＰＢＡ（６７％過酸 化物含有試薬の２．１０ｇ、８．２０ミリモル）を、２時間かけて３回に分けて 添加した。総合して３時間の反応時間の後に、この反応混合物をメチレンクロラ イド（１５０ml）で希釈し、この溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）：ＮａＨ ＣＯ₃飽和溶液（１：１比、３×５０ml）で洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾 過し、次いで減圧で濃縮した。生成する固形物をメチレンクロライドおよびイソ オクタンから再結晶させ、４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルス ルホニルフェニル）−２−トリフルオロメチルチアゾールを不透明の白色結晶と して得た（１．１ｇ、９０％）；融点：１６８〜１７０℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ Ｃｌ₃）３００ＭＨｚ δ７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８４，２Ｈ）、７．５７（ｄ ，Ｊ＝８．８４，Ｊ＝８．８４，２Ｈ）、７．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．８５，Ｊ＝ ５．１６，２Ｈ）、７．０４（ｔ，Ｊ＝８．８５Ｈｚ，２Ｈ）、３．１１（ｓ， ３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ−６１．５５、−１１１ ．４２。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ４０２（ＭＨ⁺）。ＨＲＭＳ△＝１．９３８ｍｍ ｕ。 例２４ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（２−チエニル）チアゾール工程 １ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）− ２−（２−チエニル）チアゾールの製造 エタノール（９ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（ ４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（０．２４９ｇ、０．７３ ４ミリモル）の溶液に、チオフェン−２−チオカルボキシアミド（０．１１０ ｇ、０．７７１ミリモル）を添加し、この混合物を１４時間加熱還流させた。こ の反応混合物を室温に冷却し、酢酸エチル（５０ml）により希釈し、この溶液を Ｎａ₂ＣＯ₃（１０％溶液、３×２０ml）およびブラインで順次洗浄し、Ｎａ₂Ｓ Ｏ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、オレンジ色結晶固形物を得た 。この固形物をフラッシュクロマトグラフイに付すことにより精製し（９：１ヘ キサン：酢酸エチル）、４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオ フェニル）−２−（２−チエニル）チアゾールを粘性黄色油状物として得た（０ ．２２８ｇ、８２％）。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ７．５３〜 ７．５８（ｍ，３Ｈ）、７．４０（ｄｄ，Ｊ＝５．２９，１．１７Ｈｚ，１Ｈ） 、７．２８（ｄ，Ｊ＝８．３０Ｈｚ，２Ｈ）、７．１９（ｄ，Ｊ＝８．３０Ｈｚ ，２Ｈ）、７．０９（ｄｄ，Ｊ＝４．９１，３．７８Ｈｚ，１Ｈ）、７．００（ ｔ，Ｊ＝８．６８Ｈｚ，２Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ ３８３（Ｍ⁺）。ＨＲＭＳ△＝０．１ｍｍｕ。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−（２−チエニル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（５ml）中の工程１からの２−（２−チエニルチ）−４− （４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０． ２０ｇ、０．５２ミリモル）の溶液に、０℃で、ＭＣＰＢＡ（６７％過酸化物含 有ＭＣＰＢＡの０．２７ｇ、１．１ミリモル）を添加し、次いでこの反応混合物 を室温まで温めた。この粗製反応混合物をメチレンクロライド（５０ml）で希釈 し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液および ブラインで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し た。この粗製生成物をメチレンクロライドおよびイソオクタンから再結晶させ、 ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２− （２−チエニル）チアゾールを淡緑色固形物として得た（０．１７０ｇ、７９％ ）；融点：１９４〜１９５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）４００ＭＨｚ δ ７．９０（ｄ，Ｊ＝８．３０Ｈｚ，２Ｈ）、７．５８（ｄ，Ｊ＝３．９１Ｈｚ， １Ｈ）、７．５５〜７．５０（ｍ，４Ｈ）、７．４５（ｄ，Ｊ＝３．９１Ｈｚ， １Ｈ）、７．１３〜７．１１（ｍ，１Ｈ）、７．０４（ｔ，Ｊ＝８．７ ９Ｈｚ，２Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ４１６（ＭＨ⁺ ）。ＨＲＭＳ△＝０．９ｍｍｕ。 例２５ ２−（５−ブロモ−２−チエニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール 酢酸（２ml）およびメチレンクロライド（２．０ml）中に懸濁した、４−（４ −フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）−２−（２−チエニル ）チアゾール（例２４、工程１）（０．０５７ｇ、０．１４９ミリモル）の溶液 に、過剰量の酢酸中臭素（１．４Ｍ、０．５１ml、０．７１４ミリモル）を添加 した。この反応混合物を減圧で濃縮し、酢酸エチルにより希釈し、次いでＮａＨ ＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液およびブラインで順次洗浄し、Ｎ ａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で再濃縮した。生成する化合物をメ チレンクロライド（１ml）およびＭＣＰＢＡ（６７％過酸化物含有試薬の０．０ ６４ｇ、２．４８ミリモル）で希釈し、次いで４時間放置した。この粗製反応混 合物をメチレンクロライド（５０ml）で希釈し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶 液（０．１Ｍ）、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液およびブラインで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄ 上で乾燥させ、濾過し、次いで再度減圧で濃縮した。この粗製生成物をメチレ ンクロライドおよびイソオクタンから再結晶させ、２−（５−ブロモ−２−チエ ニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル ）チアゾールを黄色の細かい針状物として得た（０．０３９ｇ、５３％）；融点 ：１９０〜１９１℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ７．８９（ｄ ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．５４（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７． ４９（ｍ，２Ｈ）、７．３０（ｄ，Ｊ＝４．０３Ｈｚ，１Ｈ）、７． ０８（ｍ，１Ｈ）、７．０４（ｔ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、３．０９（ｓ， ３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ４９６（Ｍ＋Ｈ）。 例２６ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（３−ピリジル）チアゾール工程 １ ：１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルスルホニルフェニ ル）エタノンの製造 メチレンクロライド（５００ml）中の１−（４−フルオロフェニル）−２−（ ４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（１５．００ｇ、５７．６ ２ミリモル）の撹拌した溶液に、５℃において、ＭＣＰＢＡ（２９．６４ｇ、約 ６７％過酸化物、約１１３ミリモル）を３０分かけて少しづつ添加した。この溶 液を室温まで温めた。この反応溶液をＮａＨＳＯ₄溶液とともに１０分間激しく 撹拌し、未反応ＭＣＰＢＡを抑制した。層を分離させ、酢酸エチルを添加して、 生成を始めた沈殿を溶解させた。この部分的懸濁液を濾過し、固形物を採取した 。有機層はＮａＨＣＯ₃溶液およびブラインにより順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で 乾燥させ、次いで固形物が沈殿を始めるまでイソオクタンで希釈した。溶剤の大 部分を減圧で除去して、追加の固形物を沈殿させた。これらの沈殿の全部を集め 、１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルスルホニルフェニル）エタ ノンを得た（１４．５ｇ、８６％）；融点：１８２〜１８３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．０４（ｄｄ，Ｊ＝５．２４，８．４６，２Ｈ） 、７．９２（ｄ，Ｊ＝８．２６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４６（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ ，２Ｈ）、７．１７（ｔ，Ｊ＝８．４６，２Ｈ）、４．３７（ｓ，２Ｈ）、３． ０５（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ：ｍ／ｚ２９３（ＭＨ⁺）：ＨＲＭＳ△＝１．６ｍ ｍｕ。工程 ２ ：２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチルスル ホニルフェニル）エタノンの製造 酢酸（４０ml）中の工程１からの１−（４−フルオロフェニル）−２−（４− メチルスルホニルフェニル）エタノン（３．０３ｇ，１０．３８ミリモル）の撹 拌したスラリーに、酢酸中のＨＢｒ（２ml、４８重量％）および臭素（０．６４ ml、１．９９ｇ、１２．４５ミリモル）を添加した。生成するスラリーは数分以 内に均質になった。１時間後に、この反応混合物を減圧で濃縮し、メチレンクロ ライドで希釈し、次いで減圧で再濃縮させ、２−ブロモ−１−（４−フルオロフ ェニル）−２−（４−メチルスルホニルフェニル）エタノンを黄褐色固形物とし て得た（３．５３ｇ、９５％）。この生成物はさらに精製することなく使用する ことができた；融点：１４０〜１４１℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ｍＨ ｚ δ８．０５（ｄｄ，Ｊ＝５．１６，８．８４Ｈｚ，２Ｈ）、７．９６（ｄ， Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７．７５（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７．１ ７（ｔ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、６．２９（ｓ，１Ｈ）、３．０６（ｓ，３ Ｈ）。ＭＳ：ｍ／ｅ３７１／３７３（ＭＨ⁺）。ＨＲＭＳ△＝５．５ｍｍｕ。工程 ３ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−（３−ピリジル）チアゾールの製造 アセトニトリル（２０ml）中の工程２からの２−ブロモ−１−（４−フルオロ フェニル）−２−（４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（０．７３２ｇ， １．９７ミリモル）の溶液に、撹拌しながら、チオニコチンアミド（０．２７３ ｇ，１．９７ミリモル）を添加した。生成する溶液を１時間加熱還流させ、追加 の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−３−（メチルスルホニルフェニ ル）エタノン（０．０３１ｇ，０．０５ミリモル）を添加し、次いでさらに１時 間還流の下に撹拌した。この反応を室温まで冷却し、次いで減圧で濃縮して、オ レンジ色半固形物を生成した。この生成物をフラッシュクロマトグラフイに付す ことによって精製した（２：１ヘキサン：１％酢酸含有酢酸エチル）。生成物フ ラクションを集め、トルエンを加え、生成する溶液を減圧で再濃縮し、４−（４ −フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（３−ピ リジル）チアゾールを淡黄色結晶固形物として得た（０．３５１ｇ、４３％）； 融点：１４３〜１４６℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ δ９．２０ （ｄ，Ｊ＝１．８１Ｈｚ，１Ｈ）、８．６８（ｄｄ，Ｊ＝１．４６，４．８９Ｈ ｚ，１Ｈ）、８．３０（ｄｔ，Ｊ＝２．００，９．４２Ｈｚ，１Ｈ）、７．９１ （ｄ，Ｊ＝８．５５Ｈｚ，２Ｈ）、７．６０〜７．５２（ｍ，４Ｈ）、７．４２ （ｍ，１Ｈ）、７．０５（ｔ，Ｊ＝８．７０Ｈｚ，２Ｈ）、３．１０（ｓ，３Ｈ ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ４１０（Ｍ⁺）。ＨＲＭＳ△＝−４．３ｍｍｕ。 例２７ ２−（シアノメチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルス ルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（シアノメチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４− メチルチオフェニル）チアゾールの製造 エタノール（９ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（ ４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．２４９ｇ， ０．７３４ミリモル）の溶液に、２−シアノチオアセトアミド（０．０７７ｇ， ０．７７１ミリモル）を添加し、この溶液を１４時間加熱還流させた。この反応 を室温まで冷却させ、減圧で濃縮し、次いで残留物を酢酸エチル中に溶解した。 この溶液をＮａ₂ＣＯ₃（１０％溶液）およびブラインで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄ 上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で再濃縮し、オレンジ色結晶固形物を生成し た。この固形物をフラッシュクロマトグラフイ（４：１ヘキサン：酢酸エチル） に付すことによって精製し、２−（シアノメチル）−４−（４−フルオロフェニ ル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールを非常に細かいピンク色の結 晶として得た（０．０９０ｇ、３６％）；融点：１１８〜１１９℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ δ７．５０（ｄ，Ｊ＝５．３８，２Ｈ ）、７．４７（ｄ，Ｊ＝５．３８，２Ｈ）、７．２４〜７．１８（ｍ，４Ｈ）、 ７．００（ｔ，Ｊ＝８．８０，２Ｈ）、４．１６（ｓ，２Ｈ）、２．５０（ｓ， ３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ３４０（Ｍ⁺）。ＨＲＭＳ△＝２．７ｍｍｕ。工程 ２ ：２−（シアノメチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（３ml）中の工程１からの２−シアノメチル−４−（４− フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０．０８ｇ ,０．２４ミリモル）の溶液に、０℃において、ＭＣＰＢＡ（６７％過酸化物含 有ＭＣＰＢＡの０．１３ｇ、０．４８ミリモル）を添加し、この反応を室温まで 温めた。この粗製反応混合物をメチレンクロライド（５０ml）で希釈し、ＮａＨ ＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）およびＮａＨＣＯ₃飽和溶液およびブラインで順次洗浄し 、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮した。この粗製生成物を メチレンクロライドおよびイソオクタンから再結晶させ、２−（シアノメチル） −４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チア ゾールを明るいオレンジ色針状物として得た（０．０６４ｇ、７２％）；融点： １５１〜１５２℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ δ７．９２（ｄ， Ｊ＝８．７９，２Ｈ）、７．５２（ｄ，Ｊ＝８．７９，２Ｈ）、７．４４（ｍ， ２Ｈ）、７．０３（ｔ，Ｊ＝８．３０，２Ｈ）、４．１７（ｓ，２Ｈ）、３．０ ９（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ３７３（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝４．８ ｍｍｕ。 例２８ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −メチルチアゾール アセトニトリル（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）− ２−（４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（０．４３７ｇ，１．１８ミリ モル）（例２６、工程２）の溶液に、チオアセトアミド（０．０８８ｇ，１．１ ８ミリモル）を添加し、この溶液を、固形物の全部が溶解するまで、加熱還流さ せた（２時間）。この反応を室温まで冷却させた。アセトニトリルを減圧で除去 し、生成する生成物を、水の添加によってメタノールから沈殿させ、４−（４− フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−メチルチア ゾールを得た（０．２２６ｇ、５５％、¹Ｈ ＮＭＲによる純度：約８５％）； 融点：２２９〜２３３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ δ７．９８ （ｄ，Ｊ＝８．１１Ｈｚ，２Ｈ）、７．６６〜７．６１（ｍ，２Ｈ）、７．５２ （ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７．１３（ｔ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、 ３．３１（ｓ，１Ｈ）、３．１０（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ−サーモスプレイ） ：ｍ／ｚ３４８（Ｍ⁺）。ＨＲＭＳ△＝−２．３ｍｍｕ。 例２９ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −ベンジルアミノチアゾール イソプロパノール（１２ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．４ １５ｇ，１．１２ミリモル）の溶液に、Ｎ−ベンジルチオ尿素（０．１８６ｇ， １．１２ミリモル）を添加した。この溶液を加熱還流させ（３０時間）、室温に 冷却させ、次いで７日間放置した。生成する懸濁液を減圧で濃縮した。生成する 残留物をメチレンクロライド（１００ml）中に懸濁し、次いでＮａＨＣＯ₃飽和 溶液で洗浄し（３×１０ml）、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、次いで減 圧で再濃縮し、４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフ ェニル）−２−ベンジルアミノチアゾールを淡黄色固形物として得た（０．３４ ｇ、６９％）；融点：１１２℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ δ７ ．７４（ｄ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４３〜７．２５（ｍ，１０Ｈ）、 ６．９２（ｔ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ）、４．３３（ｓ，２Ｈ）、３．０２（ ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ−サーモスプレイ）：ｍ／ｚ４３９（ＭＨ＋）。ＨＲＭ Ｓ△＝１．６ｍｍｕ。 例３０ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（１−ピペリジニル）チアゾール エタノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（０．４６２ｇ，１．２４ミリモル ）（例２６、工程２）の溶液に、ピペリジンチオカルボキシアミド（０．１９８ ｇ，１．３７ミリモル）を添加し、この溶液を、１４時間加熱還流させた。この 反応を室温まで冷却させ、次いで減圧で濃縮し、泡状物を得た。この泡状物をメ チレンクロライド中に溶解し、次いでＮａＨＣＯ₃飽和溶液（３回）およびブラ インで順次洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で再濃縮し、 ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２− （１−ピペリジル）−チアゾールを黄−緑色のふわふわした固形物として得た（ ０．３７１ｇ、７２％）；融点：１７３〜１７５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃） ４００ＭＨｚ δ７．７７（ｄ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４６（ｄｄ， Ｊ＝５．６０，８．８０）、７．３８（ｄ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２ Ｈ）、６．９９（ｔ，Ｊ＝８．８０Ｈｚ，２Ｈ）、３．５３（ｓ（広い），４Ｈ ）、３．０５（ｓ，３Ｈ）、１．７０（ｓ（広い），６Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ ／ｚ４１７（ＭＨ⁺）。ＨＲＭＳ△＝−１．５ｍｍｕ。 例３１ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（１−プロピルアミノ）チアゾール エタノール（１５ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（０．３４６ｇ，０．９３２ミリモ ル）（例２６、工程２）の溶液に、Ｎ−プロピルチオ尿素（０．１１６ｇ，０． ９７９ミリモル）を撹拌しながら添加した。生成する溶液を２４時間加熱還流さ せた。この反応を室温まで冷却させ、次いで減圧で濃縮した。この残留物をメチ レンクロライド中に溶解し、Ｎａ₂ＣＯ₄（１０％溶液）およびブラインで順次洗 浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で再濃縮し、４−（４−フ ルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（１−プロピ ルアミノ）チアゾールを黄色結晶固形物として得た（０．２７６ｇ、７６％）； 融点：１８１〜１８２℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）４００ＭＨｚ δ７． ９７（ｔ，Ｊ＝５．３７Ｈｚ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ ）、７．４２（ｄｄ，Ｊ＝５．８６，８．７９，２Ｈ）、７．３７（ｄ，Ｊ＝８ ．７９，２Ｈ）、７．１５（ｔ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、３．２１（ｑ，Ｊ ＝６．８４，２Ｈ）、３．１８（ｓ，３Ｈ）、１．６０（ｍ，２Ｈ）、０．９１ （ｔ，Ｊ＝７．３３，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ３９０（Ｍ＋）。ＨＲＭＳ △＝２．４ｍｍｕ。 例３２ ４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−チ アゾリル］ベンゼンスルホンアミド テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（５ml）中のメチルスルホン化合物（例１６） （０．２１ｇ，０．４７ミリモル）の溶液に、０℃で窒素雰囲気の下に、ＴＨＦ 中の２Ｍ ｎ−ブチルマグネシウムクロライド（１．０ml，２．０ミリモル）を 注射器からゆっくりと添加し、この混合物を、０℃で３０分間、次いで室温（２ ５℃）で２時間、撹拌した。０℃に冷却した後に、ＴＨＦ中のトリエチルボラン の１．０Ｍ溶液（２．５ml，２．５ミリモル）を添加し、この混合物を室温まで 温め、次いで２時間撹拌し、次いで一夜にわたり（１８時間）加熱還流させた。 室温に３時間冷却させた後に、水（３ml）を加え、次いで酢酸ナトリウム（１． ２ｇ）およびヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸（０．８２ｇ）を添加した。 室温で一夜にわたり撹拌した後に、この混合物を３倍容量の酢酸エチル中に注ぎ 入れ、次いでその有機層を水およびブラインで洗浄し、次いでＭｇＳＯ₄上で乾 燥させた。溶媒を除去した後に、白色固形物（生成物と出発物質との混合物）を 酢酸エチル／ヘキサンから再結晶させ、白色固形物０．１１ｇを得た。分析：Ｃ₂₁ Ｈ₁₄Ｎ₂Ｏ₂Ｓ₂ＦＣｌについて計算値：Ｃ，５６．６９；Ｈ，３．１７；Ｎ， ６．３０。実測値：Ｃ，５５．９９；Ｈ，２．９７；Ｎ，６．１５。 例３３ ２−（（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニ ル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール工程 １ ：２−（（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオ ロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 ： アセトニトリル２０mlおよびエタノール１０ml中の１−（４−フルオロフェニ ル）−２−（４−メチルチオフェニル）−２−ブロモエタノン（例１、工程３） （４．０１ｇ、１１．８ミリモル）および３，５−ジクロロフェノキシチオアセ トアミド（２．８０ｇ、１１．９ミリモル）の溶液を１．２時間加熱還流させた 。この溶液をメタノールで希釈し、氷浴中で０℃に冷却し、生成された沈殿を濾 過により分離し、純粋な４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオ フェニル）−２−（（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル）チアゾールを得た （４．１９ｇ、７４％）。この生成物は次の工程で直接に使用した；融点：１０ ４．５〜１０５．０℃：質量スペクトル：Ｍ＋Ｈ＝４７６。工程 ２ ：２−（（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオ ロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ： 工程１からのチアゾール化合物（４．０６ｇ、８．５２ミリモル）のジクロロ メタン（３０ml）溶液を、ｍ−クロロ過酸化安息香酸（５．９８ｇ、１７．０６ ミリモル）で処理し、室温で０．７５時間撹拌した。この溶液を１０％水性Ｎａ ＨＳＯ₃、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃により順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾 過し、次いで減圧で濃縮して、白色固形物を得た。ジクロロメタンとイソオクタ ンとの混合物から再結晶させ、純粋な２−（（３，５−ジクロロフェノキシ）メ チル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニル フェニル）チアゾール２．５０ｇ（５８％）を白色固形物として得た；融点：１ ７１〜１７３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８８（ｄ，Ｊ＝ ８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５０〜７． ４０（ｍ，２Ｈ）、７．０７〜６．９０（ｍ，５Ｈ）、５．３７（ｓ，２Ｈ）、 ３．０８（ｓ，３Ｈ）；¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）１１２．５３（ｍ）。高分 解能質量スペクトル：Ｃ₂₃Ｈ₁₆ＣｌＦＮＯ₃Ｓ₂（ＭＨ⁺）に対する計算値：５０ ６．９９３３。実測値：５０６．９９３２。 例３４ ４−［２−（（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロ フェニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド ＴＨＦ（５ml）中の２−（（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル）−４−（ ４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール（ 例３３）（０．５０８ｇ，１．０ミリモル）の溶液に、０℃で窒素雰囲気の下に 、ＴＨＦ中の２．０Ｍ ｎ−ブチルマグネシウムクロライド（１．６ml，３．２ ミリモル）を注射器からゆっくりと添加し、この混合物を、０℃で３０分間、次 いで室温（２５℃）で２時間、撹拌した。０℃に冷却した後に、ＴＨＦ中のトリ エチルボランの１．０Ｍ溶液（５ml，５ミリモル）を添加し、この混合物を室温 まで温め、次いで２時間撹拌し、次いで３６時間加熱還流させた。室温に冷却し 、３時間撹拌した後に、水（３ml）を、次いで酢酸ナトリウム（１．２ｇ）およ びヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸（０．８２ｇ）を添加した。室温で一夜 にわたり撹拌した後に、この混合物を３倍容量の酢酸エチル中に注ぎ入れ、次い でその有機層を水およびブラインで洗浄し、次いでＭｇＳＯ₄上で乾燥させた。 溶媒を除去した後に、白色固形物（生成物と出発物質との混合物）を、３０％酢 酸エチル／７０％ヘキサンを使用して、シリカゲル上でフラッシュクロマトグラ フイに付すことによって精製し、４−［４−（４−フルオロフェニル）−２−（ （３，５−ジクロロフェノキシ）メチル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホン アミドを白色固形物として得た（０．１４７ｇ）；分析： Ｃ₂₂Ｈ₁₅Ｎ₂Ｏ₃Ｓ₂ＦＣｌ₂について計算値：Ｃ，５１．８７；Ｈ，２．９７；Ｎ ，５．５０。実測値：Ｃ，５２．１９；Ｈ，２．８４：Ｎ，５．４０。 例３５ ２−（２−クロロフェニル）−４−（２−フルオロフェニル）−５−（４−メ チルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（２−フルオロフェニル）−３−（４−メチルチオフェニル）プ ロペン酸の製造 無水酢酸（６０ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（７．０５ｇ，４ ４ミリモル）、２−フルオロフェニル酢酸（７．７９ｇ，５０．５ミリモル）お よびトリエチルアミン（５．５０ｇ，５４．５ミリモル）を、１．７５時間加熱 還流させた。この反応を９０℃に冷却させ、次いで水（１００ml）を注意して添 加した。この溶液を激しく還流させると、温度は１３５℃に上昇した。黄色沈殿 が生成された。室温まで冷却させた後に、この固形物を濾過により採取し、水で 洗滌し、次いでトルエンから再結晶させ、２−（２−フルオロフェニル）−３− （４−メチルチオフェニル）プロペン酸を黄色針状物として得た（７．９８ｇ， ６３％）；融点：１５１．５〜１５６．０℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ ＭＨｚ ８．０１（ｓ，１Ｈ）、７．４１〜７．００（ｍ，８Ｈ）、２．４３（ ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１３．４０（ｍ）。質量スペクト ルＭ＋Ｈ⁺＝２８９。工程 ２ ：１−（２−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エ タノンの製造 無水トルエン２２ml中の工程１からの２−（２−フルオロフェニル）−３−（ ４−メチルチオフェニル）プロペン酸（７．８６ｇ，２７．３ミリモル）および トリエチルアミン（２．８０ｇ，２７．７ミリモル）の溶液を、０℃に冷却させ 、次いでジフェニルホスホリルアジド（７．７３ｇ，２８．１ミリモル）で処理 した。この溶液を０℃で２０分間、次いで室温で３．５０時間、撹拌した。この 反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルで抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥さ せ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。残留するトルエン溶液を加熱 還流させると、激しいガスの発生が生じた。０．７５時間後に、この反応混合物 にｔｅｒｔ−ブチルアルコール１１mlを添加した。さらに２０分後に、濃塩酸（ ５ml）をゆっくり添加し、この反応混合物を一夜にわたり（１４時間）９０℃で 加熱した。この溶液を室温まで冷却させ、次いで酢酸で希釈し、飽和水性ＮａＨ ＣＯ₃、ブラインで洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧下 に濃縮し、褐色固形物を得た。この生成物をエーテルから結晶化させることによ って精製し、１−（２−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル） エタノンを黄色固形物として得た（４．６０ｇ，６５％）；融点：５８〜５９． ５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８４（ｍ，１Ｈ）、７．５ ２（ｍ，１Ｈ）、７．２３〜７．０８（ｍ，６Ｈ）、４．２５（ｄ，Ｊ＝２．６ Ｈｚ，２Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１０８． ５１（ｍ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ⁺＝２６１。工程 ３ ：１−（２−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）− ２−ブロモ−エタノンの製造 工程２からの１−（２−フルオロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル ）エタノン（４．３６ｇ，１６．７ミリモル）を、酢酸（３０ml）および酢酸中 の３３％ＨＢｒ（０．５ml）に添加した。この溶液を撹拌し、臭素の色が急速に 消失するような速度で、臭素（１７ml，１６．８ミリモル、酢酸中の１．０Ｍ） を添加ロートから添加することによって処理した（約１５分間）。室温でさらに ５０分後に、この溶液を減圧で濃縮して、褐色油状物を得た。この粗製ハロ ケトン生成物をジクロロメタン中に溶解し、次いで１Ｎ ＮａＨＳＯ₃で洗浄し 、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、１−（２−フル オロフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）−２−ブロモ−エタノンを油 状物として得た。この油状物は放置すると固化した（４．８３ｇ、８５％）；融 点：５８〜６３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８７（ｔｄ， Ｊ＝７．６，１．８Ｈｚ，１Ｈ）、７．５２（ｍ，１Ｈ）、７．３９（ｄ，Ｊ＝ ８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．２７〜７．０３（ｍ，４Ｈ）、６．３４（ｓ，１Ｈ） 、２．４５（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１０８．５１（ｍ）。 質量スペクトルＭ⁺＝３３８。工程 ４ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（２−フルオロフェニル）−５− （４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 エタノール１０ml中の工程３からの１−（２−フルオロフェニル）−２−（４ −メチルチオフェニル）−２−ブロモ−エタノン（１．３９ｇ，４．１ミリモル ）および２−クロロチオベンズアミド（０．７１ｇ，４．１ミリモル）の溶液を 、４．４時間加熱還流させた。この溶液を室温まで冷却し、次いでメタノール２ ５ml中に注ぎ入れ、次いで氷浴で冷却させると、純粋な生成物の結晶が生成され た。この生成物を濾過により分離し、空気乾燥させ、チアゾール化合物を得た（ １．３４ｇ，７９％）；融点：１１７〜１１９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３ ００ＭＨｚ ８．３７（ｍ，１Ｈ）、７．６２（ｍ，２Ｈ）、７．４９（ｄ，Ｊ ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ）、７．３２（ｍ，７Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ ，２Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトルＭ⁺＋Ｈ＝４１２。工程 ５ ：２−（２−クロロフェニル）−４−（２−フルオロフェニル）−５− （４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン２０ml中の２−（２−クロロフェニル）−４−（２−フルオロ フェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（１．１２ｇ，２．７ ２ミリモル）の溶液を、０℃で２０分間、ｍ−クロロ過酸化安息香酸（１．９１ ｇ，５．５３ミリモル）で処理した。この溶液を１０％水性ＮａＨＳＯ₃、１０ ％Ｎａ₂ＣＯ₃により洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧 で濃縮し、黄色固形物を得た。この生成物をジクロロメタンとイソオクタンと の混合物から再結晶させることにより精製し、純粋な生成物６６０mgを得た（５ ５％）；融点：１６３〜１６６℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８ ．３７（ｍ，１Ｈ）、７．８６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．６３（ｔｄ ，Ｊ＝７．７，１．８Ｈｚ，２Ｈ）、７．５３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、 ７．５３（ｍ，１Ｈ）、７．３８（ｍ，３Ｈ）、７．２６（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ ，１Ｈ）、７．０５（ｔ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ）、３．０６（ｓ，３Ｈ）。¹⁹ Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１３．３３（ｍ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ_{2 2} Ｈ₁₅ＣｌＦＮＯ₂Ｓ₂に対する計算値：４４３．０２１７。実測値：４４３．０ １７６。 例３６ ２−（３−クロロフェノキシ）メチル−４−（２−フルオロフェニル）−５− ［４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール工程 １ ：２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（２−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 アセトニトリル２５ml中の１−（２−フルオロフェニル）−２−（４−メチル チオフェニル）−２−ブロモエタノン（１．６４ｇ，４．８ミリモル）（例３４ 、工程３）および３−クロロフェノキシチオアセトアミド（０．９８ｇ，４．８ ミリモル）の溶液を１４時間加熱還流させた。この溶液をメタノールで希釈し、 氷浴で０℃まで冷却させ、生成された沈殿を濾過により採取し、純粋な２−（（ ３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（２−フルオロフェニル）−５−（４− メチルチオフェニル）チアゾールを得た（０．６９ｇ、３２％）。濾液は減圧で 濃縮し、残留物を酢酸エチル中に溶解し、水およびブラインで洗浄し、無水Ｍｇ ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で再濃縮して、追加の生成物を得 た。この生成物をジクロロメタンとイソオクタンとの混合物から結晶化させ、追 加の生成物２００mg（４２％）を得た。総合収量：８９０mg（４２％）；融点： １１５〜１１８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．５２〜６．６ ９（ｍ，１２Ｈ）、５．３８（ｓ，２Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ₃）−１１３．６１（ｍ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₂₃Ｈ₁₇Ｃ ｌＦＮＯＳ₂（Ｍ⁺）に対する計算値：４４１．０４２４。実測値：４４１．０４ ７６。工程 ２ ：２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（２−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 工程１からの２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（２−フルオロ フェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０．８５ｇ，１．９ ミリモル）のジクロロメタン（５ml）溶液を、ｍ−クロロ過酸化安息香酸（１． ３３ｇ、３．９ミリモル）で処理し、次いで室温で１５時間撹拌した。この溶液 を１０％ＮａＨＳＯ₃水溶液、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾 燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、白色固形物を得た。この生成物をジク ロロメタンとイソオクタンとの混合物から再結晶させ、純粋な４−（２−フルオ ロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（（３−クロロフ ェノキシ）メチル）チアゾール０．７１ｇ（７８％）を白色固形物として得た； 融点：１５１．５〜１５３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８ ４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．５０（ｍ，１Ｈ）、７．４６（ｄ，Ｊ＝ ８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．３９（ｍ，１Ｈ）、７．２４（ｍ，２Ｈ）、７．０６ （ｍ，３Ｈ）、６．９２（ｍ，１Ｈ）、５．４１（ｓ，２Ｈ）、３．０６（ｓ， ３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１３．６４（ｍ）。高分解能質量スペ クトル：Ｃ₂₃Ｈ₁₇ＣｌＦＮＯ₃Ｓ₂（ＭＨ⁺）に対する計算値：４７３．０３２２ 。実測値：４７３．０３４６。 例３７ ２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル）− ５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（（３−クロロフエノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 アセトニトリル１５mlおよびエタノール１０ml中の１−（４−フルオロフェニ ル）−２−（４−メチルチオフェニル）−２−ブロモ−エタノン（１．９８ｇ， ５．８４ミリモル）（例１、工程３）および３−クロロフェノキシチオアセトア ミド（１．１８ｇ，５．８５ミリモル）の溶液を１６時間加熱還流させた。この 溶液をメタノールで希釈し、氷浴中で０℃に冷却させ、生成された沈殿を濾過に より採取した。この固形物を空気乾燥させ、次いでメタノールから再結晶させ、 純粋な２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル ）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールを得た（１．６７ｇ、６５％） ；融点：１０６〜１１０℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．５０ （ｍ，２Ｈ）、７．３０〜７．１５（ｍ，５Ｈ）、７．０９〜６．８７（ｍ，５ Ｈ）、５．３８（ｓ，２Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）−１１３．５８（ｍ）。質量スペクトルＭ⁺＝４４１。工程 ２ ：２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル）− ５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０．６５ｇ，１．４７ミリモル） のジクロロメタン（１０ml）溶液を、ｍ−クロロ過酸化安息香酸（１．０３ｇ、 ２．９８リモル）で処理し、次いで室温で１．２時間撹拌した。この溶液を１０ ％ＮａＨＳＯ₃水溶液、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ 、濾過し、次いで減圧で濃縮して、白色固形物を得た。この生成物をジクロロメ タンから再結晶させ、純粋な２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（ ４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール０ ．５０ｇ（７２％）を白色固形物として得た；融点：１２８．５〜１３１℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ ）、７．５２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）、７．４６（ｍ，１Ｈ）、７．２５ （ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．０３（ｍ，３Ｈ）、６．９５（ｍ，１Ｈ） 、５．３９（ｓ，２Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃） −１１２．４３（ｍ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ⁺＝４７４。 例３８ ２−（（２−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル）− ５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール工程 １ ：２−（（２−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 アセトニトリル３０ml中の１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチル チオフェニル）−２−ブロモ−エタノン（２．０５ｇ，６．０４ミリモル）（例 １、工程３）および２−クロロフェノキシチオアセトアミド（１．２１ｇ，６． ０ミリモル）の溶液を３時間加熱還流させた。この溶液をメタノールで希釈し、 氷浴中で０℃に冷却させ、生成された沈殿を濾過により採取した。この粗製固形 物をシリカゲル上でフラッシュクロマトグラフイに付すことによって精製し、相 当するフラクションを集め、減圧で濃縮し、次いでメタノールから結晶化させ、 純粋な４−２−（（２−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール２．６０ｇ（９８％）を得 た；融点：１２６〜１２９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．５ ５〜７．３９（ｍ，４Ｈ）、７．２８〜６．９０（ｍ，８Ｈ）、５．４４（ｓ， ２Ｈ）、２．４９（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１４．００（ ｍ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ⁺＝４４２。工程 ２ ：２−（（２−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 工程１からの２−（（２−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロ フェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（２．６５ｇ，６．０ ミリモル）のジクロロメタン（５０ml）溶液を、ｍ−クロロ過酸化安息香酸（４ ．１９ｇ、１２．１ミリモル）で処理し、室温で３時間撹拌した。この溶液を１ ０％ＮａＨＳＯ₃水溶液、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥さ せ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、白色固形物を得た。この生成物をフラッシ ュクロマトグラフイ（シリカゲル）に付し、ヘキサン／酢酸エチルにより溶離す ることによって精製し、相当するフラクションを濃縮した後に、純粋な２−（（ ２−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）チアゾール２．０８ｇ（７３％）を白色固形物とし て得た；融点：１８９〜１９１℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７ ．８９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５３（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ） 、７．５０〜７．４７（ｍ，３Ｈ）、７．２３（ｍ，１Ｈ）、７．１０〜６．９ ５（ｍ，４Ｈ）、５．４７（ｓ，２Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）。¹⁹ＦＮＭＲ（ ＣＤＣｌ₃）−１１２．７５（ｍ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₂₃Ｈ₁₇ＣｌＦ ＮＯ₃Ｓ₂に対する計算値：４７３．０３２２。実測値：４７３．０３７４。 例３９ ４−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］ −２−（２−メチル−４−チアゾリル）チアゾール工程 １ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）− ２−［２−（メチル）−４−チアゾリル］チアゾールの製造 アセトニトリル３５mlおよびエタノール２０ml中の１−（４−フルオロフェニ ル）−２−（４−メチルチオフェニル）−２−ブロモエタノン（９．６９ｇ，２ ８．６ミリモル）（例１、工程３）および２−メチルチアゾール−４−チオカル ボキシアミド（３．９０ｇ，２４．７ミリモル）の溶液を１時間加熱還流させた 。この溶液を減圧で濃縮し、残留物を酢酸エチル中に溶解し、飽和水性ＮａＨＣ Ｏ₃、ブラインで洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃 縮して、黄色固形物を得た。この粗製固形物をシリカゲル上でフラッシュクロマ トグラフイに付し、１：１ヘキサン：酢酸エチルにより溶離することによって精 製した。相当するフラクションを集め、溶剤を減圧で除去し、純粋な４−（４− フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）−２−［２−（メチル） −４−チアゾリル］チアゾールを得た（４．７９ｇ、４９％）；融点：１３２． ５〜１３５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８９（ｓ，１Ｈ） 、７．５５（ｍ，２Ｈ）、７．２５（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．１７（ ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．０１（ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、２．７ ８（ｓ，３Ｈ）、２．４９（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１３ ．８０（ｍ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ⁺＝３９９。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−［２−（メチル）−４−チアゾリル］チアゾールの製造 工程１からの４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル ）−２−［２−（メチル）−４−チアゾリル］チアゾール（０．７１ｇ，１．７ ８ミリモル）のジクロロメタン（１５ml）溶液を、ｍ−クロロ過酸化安息香酸（ １．２５ｇ、３．６２ミリモル）で処理し、室温で２時間撹拌した。この溶液を １０％ＮａＨＳＯ₃水溶液、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥 させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、白色固形物を得た。この生成物をジクロ ロメタンとイソオクタンとの混合物からの結晶化により精製し、純粋な４−（４ −フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−［２−（ メチル）チアゾール−４−イル］チアゾールを白色固形物として得た（０．３７ ｇ、４８％）；融点：１８４〜１８５．５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ ＭＨｚ ７．９３（ｓ，１Ｈ）、７．８８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７． ５４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５３（ｍ，２Ｈ）、７．０４（ｔ，Ｊ ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）、２．７９（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）−１１２．６１（ｍ）。質量スペクトルＭ⁺＝４３０。 例４０ ４−（４−ブロモフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−［４−（メ チルスルホニル）フェニル］チアゾール工程 １ ：２−（４−ブロモフェニル）−３−（４−メチルチオフェニル）プロ ペン酸の製造 無水酢酸（１００ml）、４−（メチルチオ）ベンズアルデヒド（１２．６１ｇ ，８２．８ミリモル）、４−ブロモフェニル酢酸（１７．７９ｇ，８２．７ミリ モル）およびトリエチルアミン（８．４８ｇ，８３．８ミリモル）の混合物を、 ４． ２５時間加熱還流させた。この反応を９０℃に冷却させ、次いで水（１００ml） を添加した。この溶液から黄色固形物が分離した。この固形物を濾過により分離 し、空気乾燥させ、次いで酢酸エチルとイソオクタンとの混合物から再結晶させ 、酸化合物を得た（１２．８３ｇ，４４％）；融点：１８７〜１９０℃。¹Ｈ ＮＭＲ（アセトン−ｄ⁶）３００ＭＨｚ ７．８３（ｓ，１Ｈ）、７．５７（ｄ ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ）、７．２０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．１０ （ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）、７．０８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）、２． ４６（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトルＭ⁺＋Ｈ＝３５０。工程 ２ ：１−（４−ブロモフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エタ ノンの製造 工程１からの３−（４−メチルチオフェニル）−２−（４−ブロモフェニル） プロペン酸（１２．６６ｇ，３６ミリモル）およびトリエチルアミン（４．２７ ｇ，４２ミリモル）の溶液を無水トルエン６０ml中に溶解し、０℃に冷却させ、 次いでジフェニルホスホリルアジド（１０．０４ｇ，３６ミリモル）で処理した 。この溶液を０℃に０．５時間維持し、次いで３．３３時間、室温に温めた。こ の反応混合物を水中に注ぎ入れ、エーテルで抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥 させ、次いで減圧で濃縮して、エーテルを除去した。残留するトルエン溶液を１ ００℃に１時間加熱した。この反応混合物にｔｅｒｔ−ブチルアルコール（６． ５ml）を添加した。さらに１０分後に、濃塩酸（４ml）を注意して添加し、この 反応を７２時間、８０℃に保持した。氷浴で冷却させた後に、分離した固形物を 濾過により分離し、水で洗浄し、次いで空気乾燥させて、純粋な白色ケトン化合 物を得た（８．４１ｇ，７２％）；融点：１５８．５〜１６３℃。¹Ｈ ＮＭＲ （アセトン−ｄ⁶）３００ＭＨｚ ８．００（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７ ．７１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．２４（ｓ，４Ｈ）、４．３５（ｓ， ２Ｈ）、２．４７（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトルＭ⁺＋Ｈ＝３２１および３２３ 。工程 ３ ：２−ブロモ−１−（４−ブロモフェニル）−２−（４−メチルチオフ ェニル）エタノンの製造 酢酸（１３５ml）および酢酸中３３％ＨＢｒ（１．５ml）中の工程２からの１ −（４−ブロモフェニル）−２−（４−メチルチオフェニル）エタノン（８．４ ０ｇ，２６ミリモル）の溶液を、酢酸中の臭素の０．９９Ｍ溶液（２７ml、２６ ．６ミリモル）で処理し、室温で１０分間撹拌した。この溶液を減圧で濃縮し、 残留物をジクロロメタン中に取り入れ、１Ｎ ＮａＨＳＯ₃、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃ で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、灰色 固形物を得た。この生成物をジクロロメタンとイソオクタンとの混合物から再結 晶させ、ブロモケトン化合物を得た（８．５０ｇ、８１％）；融点：１０７〜１ １１℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈ ｚ，２Ｈ）、７．５８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．４１（ｄ，Ｊ＝８． ３Ｈｚ，２Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、６．２７（ｓ，１Ｈ ）、２．４７（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトルＭ⁺＋Ｈ＝３９９、４０１および４ ０３。工程 ４ ：４−（４−ブロモフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−（ ４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 アセトニトリル４０ml中の工程３からの２−ブロモ−１−（４−ブロモフェニ ル）−２−（４−メチルチオフェニル）エタノン（１．１８ｇ，２．９ミリモル ）および４−クロロチオベンズアミド（５２０mg，３．０ミリモル）の溶液を、 １．７５時間加熱還流させた。この溶液を室温まで冷却し、メタノール１００ml 中に注ぎ入れ、次いで氷浴で冷却させ、純粋な生成物の白色結晶を生成させた。 この生成物を濾過により分離し、空気乾燥させた。この生成物をシリカゲル上で フラッシュクロマトグラフイに付し、ヘキサン中８％エーテルにより溶離するこ とによってさらに精製し、純粋なチアゾール化合物を得た（１．１０ｇ，７９％ ）。この生成物は次の工程で直接に使用した：融点；１３３〜１３５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３５（ｍ，１Ｈ）、７．５２〜７．２ １（ｍ，１１Ｈ）、２．５１（ｓ，３Ｈ）。質量スペクトルＭ⁺＋Ｈ＝４７４。工程 ５ ：４−（４−ブロモフェニル）−２−（２−クロロフェニル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 ジクロロメタン１５ml中の工程４からの４−（４−ブロモフェニル）−２−（ ２−クロロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（１．０６ ｇ，２．２ミリモル）の溶液を、室温で０．０８時間、ｍ−クロロ過酸化安息 香酸（１．６０ｇ，４．６ミリモル）で処理した。この溶液を追加のジクロロメ タンで希釈し、１０％水性ＮａＨＳＯ₃、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃により洗浄し、無水 ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、白色固形物を得た。 この生成物をジクロロメタンとイソオクタンとの混合物から再結晶させることに より精製し、生成物を得た（８５０mg、７５％）；融点：１６８〜１８４℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．３８（ｍ，１Ｈ）、７．９２（ｄ ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．６０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５４ 〜７．３８（ｍ，７Ｈ）、３．１０（ｓ，３Ｈ）。高分解能質量スペクトル：Ｃ₂₂ Ｈ₁₅ＢｒＣｌＮＯ₂Ｓに対する計算値：５０２．９４１６。実測値：５０２． ９４３６。 例４１ ４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−メトキシフェノキシ）メチル］ −５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール工程 １ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）− ２−（（４−メトキシフェノキシ）メチル）チアゾールの製造 アセトニトリル２０ml中の１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−メチル チオフェニル）−２−ブロモ−エタノン（例１、工程３）（２．３０ｇ，６．８ ミリモル）および４−メトキシフェノキシチオアセトアミド（１．３５ｇ，６． ８ミリモル）の溶液を、１．１時間加熱還流させた。この溶液を減圧で濃縮し、 残留物を酢酸エチル中に溶解した。この酢酸エチル溶液を、飽和水性ＮａＨＣＯ₃ 、ブラインで洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮 して、固形物を得た。この固形物を酢酸エチルとイソオクタンとの混合物から再 結晶させ、純粋な４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチ ルチオフェニル）−２−（（４−メトキシフェノキシ）メチル）チアゾールを得 た（１．６０ｇ、５４％）；融点：８９〜９２℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３ ００ＭＨｚ ７．４７（ｄｄ，Ｊ＝３．２，８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．２３（ｄ ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、７．１７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ）、６．９８ （ｍ，４Ｈ）、６．８６（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）、５．３３（ｓ，２Ｈ） 、３．７８（ｓ，３Ｈ）、２．４９（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃） −１１４．０７（ｍ）。質量スペクトルＭ＋Ｈ⁺＝４３８。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−（（４−メトキシフェノキシ）メチル）チアゾールの製造 工程１からの４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル ）−２−（（４−メトキシフェノキシ）メチル）チアゾール（１．４５ｇ，３． ３ミリモル）のジクロロメタン（２０ml）溶液を、ｍ−クロロ過酸化安息香酸（ ２．３２ｇ、６．７ミリモル）で処理し、室温で０．４２時間撹拌した。この溶 液を１０％ＮａＨＳＯ₃水溶液、１０％Ｎａ₂ＣＯ₃で洗浄し、無水ＭｇＳＯ₄上で 乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、黄褐色固形物を得た。この生成物を ジクロロメタンとイソオクタンとの混合物から再結晶させ、純粋な４−（４−フ ルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（（４−メト キシフェノキシ）メチル）チアゾール０．９３ｇ（６０％）を、明るい黄褐色固 形物として得た；融点：１６０〜１６４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００Ｍ Ｈｚ ７．８８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）、７．７１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ ，２Ｈ）、７．４５（ｄｄ，Ｊ＝５．４，８．７Ｈｚ，２Ｈ）、７．０３（ｄ， Ｊ＝８．７Ｈｚ，５Ｈ）、６．９８（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）、８．６８（ ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）、５．３５（ｓ，２Ｈ）、３．７７（ｓ，３Ｈ）、 ３．０８（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）１１２．８０（ｍ）。高分 解能質量スペクトル：Ｃ₂₄Ｈ₂₀ＦＮＯ₄Ｓ₂に対する計算値：４６９．０８１８。 実測値：４６９．０８５４。 例４２ ２−エチル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフ ェニル）チアゾール工程 １ ：２−エチル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオ フェニル）チアゾールの製造 エタノール（９ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（ ４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（０．２５０ｇ，０．７３ ７ミリモル）の溶液に、チオプロピオンアミド（０．０６６ｇ，０．７３７ミリ モル）を添加し、この混合物を一夜にわたり加熱還流させた。この反応を室温に 冷却させ、酢酸エチル（５０ml）で希釈し、ＮａＨＣＯ₃（１０％溶液）、ブラ インで洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮した。この 粗製チアゾール化合物を、メチレンクロライドおよびイソオクタンから再結晶さ せ、２−エチル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニ ル）チアゾールを得た（０．１４ｇ、５７％）；融点：７３〜７４℃。¹Ｈ Ｎ ＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．５５（ｍ，２Ｈ）、７．２６（ｄ，Ｊ＝ ７．８５，２Ｈ）、７．２１（ｄ，Ｊ＝７．８５，２Ｈ）、７．０３（ｄ，Ｊ＝ ７．８５，２Ｈ）、３．１２（ｑ，Ｊ＝７．５０Ｈｚ，２Ｈ）、２．５４（ｓ， ３Ｈ）、１．４７（ｔ，Ｊ＝７．５０Ｈｚ，３Ｈ）。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ３３ ０．０８（ＭＨ＋）、ＨＲＭＳ（ＥＩ）△＝−４．２ｍｍｕ。工程 ２ ：２−エチル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスル ホニルフェニル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（５ml）中の工程１からの２−エチル−４−（４−フルオ ロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０．１０５ｇ，０ ． ３２ミリモル）の溶液に、室温において、ＭＣＰＢＡ（６７％過酸化物含有ＭＣ ＰＢＡの０．２１ｇ、０．８０ミリモル）で処理し、この反応を室温に温め、次 いで２時間放置した。この粗製反応混合物をメチレンクロライド（５０ml）で希 釈し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液およ びブラインで洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して 、固形物を得た。この固形物をフラッシュクロマトグラフイ（ヘキサン：酢酸エ チル１：１、２％酢酸含有）により精製し、４−（４−フルオロフェニル）−５ −（４−メチルスルホニルフェニル）−２−エチルチアゾールを白色泡状物とし て得た（０．０８０ｇ、６９％）；融点：１５６〜１５７℃。¹Ｈ ＮＭＲ（Ｃ ＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８６（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７．４５ （ｍ，４Ｈ）、７．００（ｔ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、３．１３〜３．０５ （ｍ，５Ｈ）、１．４４（ｔ，Ｊ＝７．３７Ｈｚ，３Ｈ）。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ ｚ３６２．０７（ＭＨ＋）、ＨＲＭＳ（ＭＨ＋）△＝−２．６ｍｍｕ。 例４３ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（３−フェニルプロピル）チアゾール工程 １ ：４−フェニルチオブチルアミドの製造 トルエン（１５ml）中の４−フェニルブチルアミド（０．３７３ｇ，２．２８ ミリモル）の溶液に、ローソンの試薬（０．４６１ｇ，１．１４ミリモル）を添 加した。この反応混合物を一夜にわたり加熱還流し、室温まで冷却させ、次いで 減圧で濃縮し、オレンジ色油状物を得た。この油状物をフラッシュクロマトグラ フイに付し（１：１ヘキサン：１％酢酸含有メチレンクロライド）、４−フェニ ルチオブチルアミドを白色固形物として得た（０．１８４ｇ）。¹Ｈ ＮＭＲ （ＤＭＳＯ ｄ₆）４００ＭＨｚ ９．３３（ｓ，１Ｈ）、９．１３（ｓ，１Ｈ ）、７．２９〜７．２３（ｍ，２Ｈ）、７．２０〜７．１５（ｍ，３Ｈ）、２． ５６（ｔ，Ｊ＝７．５８Ｈｚ，２Ｈ）、２．５０〜２．４２（ｍ，２Ｈ）、２． ００〜１．８５（ｍ，２Ｈ）。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）− ２−（３−フェニルプロピル）チアゾールの製造 エタノール（３ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（ ４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（０．１００ｇ，０．２９ ５ミリモル）の溶液に、工程１からの４−フェニルチオブチルアミド（０．０５ ５ｇ，０．３１０ミリモル）を添加し、この混合物を一夜にわたり加熱還流させ た。反応を室温まで冷却させ、酢酸エチル（５０ml）で希釈し、Ｎａ₂ＣＯ₃（１ ０％溶液）、ブラインで洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧 で濃縮した。この粗製チアゾール化合物をフラッシュクロマトグラフイ（９：１ ヘキサン：酢酸エチル）により精製し、４−（４−フルオロフェニル）−５−（ ４−メチルチオフェニル）−２−（３−フェニルプロピル）チアゾールを、結晶 固形物として得た（０．１１８ｇ、９５％）；融点：６２〜６３℃。¹Ｈ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．４９（ｄのｄ，Ｊ＝５．５２および８．８ ５，２Ｈ）、７．３３〜７．１４（ｍ，９Ｈ）、６．９８（ｔ，Ｊ＝８．８５， ２Ｈ）、３．０５（ｔ，Ｊ＝７．７４，２Ｈ）、２．８２（ｔ，Ｊ＝７．７４Ｈ ｚ，２Ｈ）、２．４９（ｓ，３Ｈ）、２．１８（ｍ，２Ｈ）。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ ／ｚ４２０（ＭＨ＋）。工程 ３ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−（３−フェニルプロピル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（３ml）中の工程２からの４−（４−フルオロフェニル） −５−（４−メチルチオフェニル）−２−（３−フェニルプロピル）チアゾール （０．１１ｇ，０．２６ミリモル）の溶液に、室温において、ＭＣＰＢＡ（６７ ％過酸化物含有ＭＣＰＢＡの０．２０ｇ、０．７９ミリモル）を添加し、この反 応を室温まで温め、次いで２日間放置した。この粗製反応混合物をメチレンクロ ライド（５０ml）で希釈し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）、 ＮａＨＣＯ₃飽和溶液およびブラインで洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過 し、次いで減圧で濃縮した。この生成物をフラッシュクロマトグラフイ（１：１ ヘキサン：２％酢酸含有酢酸エチル）により精製し、４−（４−フルオロフェニ ル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（３−フェニルプロピル） チアゾールを油性オフホワイト泡状物として得た（０．０４０ｇ、３４％）。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８７（ｄ，Ｊ＝８．３１Ｈｚ，２ Ｈ）、７．５２〜７．４２（ｍ，２Ｈ）、７．３８（ｄ，８．６８Ｈｚ，２Ｈ） 、７．７６〜７．１８（ｍ，５Ｈ）、７．１１（ｔ，Ｊ＝８．６８Ｈｚ，２Ｈ） 、３．１５（ｔ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，２Ｈ）、３．０５（ｓ，３Ｈ）、２．８３ （ｔ，Ｊ＝７．５５Ｈｚ，２Ｈ）、２．１９（ｍ，２Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ４５２．１２（ＭＨ＋）。ＨＲＭＳ（ＭＨ＋）△＝−３．１ｍｍｕ。 例４４ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（２−フェニルエチル）チアゾール工程 １ ：３−フェニルチオプロピオンアミドの製造 トルエン（２０ml）中の３−フェニルプロピオンアミド（１．６５３ｇ，６． ８２７ミリモル）の溶液に、ローソンの試薬（０．７１６ｇ，１．７７ミリモル ）を添加した。この反応混合物を一夜にわたり加熱還流し、室温まで冷却させ、 次いで減圧で濃縮し、オレンジ色油状物を得た。この油状物をフラッシュクロマ トグラフイに付し（１：１ヘキサン：１％酢酸含有メチレンクロライド）、３− フェニルチオプロピオンアミドを白色固形物として得た（０．０７０ｇ）；融点 ：８２〜８３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ ｄ₆）３００ＭＨｚ ９．３５（広い ｓ，１Ｈ）、９．１５（広いｓ，１Ｈ）、７．３４〜７．１０（ｍ，２ Ｈ）、２．９５（ｔ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、２．７２（ｔ，Ｊ＝８．４８ Ｈｚ，２Ｈ）。工程 ２ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）− ２−（２−フェニルエチル）チアゾールの製造 エタノール（４ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２−（ ４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（０．１１５ｇ，０．３４ ０ミリモル）の溶液に、工程１からの３−フェニルチオプロピオンアミド（０. ０５９ｇ，０．３５７ミリモル）を添加し、この混合物を一夜にわたり加熱還流 させた。反応を室温まで冷却させ、酢酸エチル（５０ml）で希釈し、Ｎａ₂ＣＯ₃ （１０％溶液）、ブラインで洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₃上で乾燥させ、濾過し、次いで 減圧で濃縮し、４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル ）−２−（２−フェニルエチル）チアゾールを油性結晶として得た（０．０９０ ｇ、６５％）；融点：９７〜９９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．５０（ｄのｄ，Ｊ＝５．３８および８．８０，２Ｈ）、７．３５〜７．１５ （ｍ，９Ｈ）、６．９９（ｔ，Ｊ＝８．８０，２Ｈ）、３．３５（ｔ，Ｊ＝８． ８０，２Ｈ）、３．１９（ｔ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４９（ｓ，３Ｈ ）。ＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ４０５．１０（ＭＨ＋）。ＨＲＭＳ（Ｍ＋）△＝０．０ ｍｍｕ。工程 ３ ：４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−（２−フェニルエチル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（３ml）中の工程２からの４−（４−フルオロフェニル） 一５−（４−メチルチオフェニル）−２−（２−フェニルエチル）チアゾール（ ０．０８０ｇ，０．２１ミリモル）の溶液に、室温において、ＭＣＰＢＡ（６７ ％過酸化物含有ＭＣＰＢＡの０．１１０ｇ、０．４２ミリモル）を添加し、この 反応を室温まで温め、次いで２日間放置した。この粗製反応混合物をメチレンク ロライド（５０ml）で希釈し、生成する溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）、 ＮａＨＣＯ₃飽和溶液およびブラインで洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過 し、次いで減圧で濃縮した。この生成物をメチレンクロライドおよびイソオクタ ンから再結晶させ、４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホ ニルフェニル）−２−（２−フェニルエチル）チアゾールをふわふわした白色固 形物として得た（０．１１１ｇ、１００％）；融点：１５３〜１５４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）４００ＭＨｚ ７．８６（ｄ，Ｊ＝８．３０Ｈｚ，２Ｈ） 、７．４８〜７．４２（ｍ，４Ｈ）、７．３７〜７．２２（ｍ，５Ｈ）、７．０ ２（ｔ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、、５Ｈ）、３．３９（ｔ，Ｊ＝６．８４Ｈ ｚ，２Ｈ）、３．１９（ｔ，Ｊ＝７．３２，２Ｈ）、３．０８（ｓ，３Ｈ）。Ｍ Ｓ（ＣＩ）ｍ／ｚ４３８（ＭＨ＋）、ＨＲＭＳ（ＭＨ＋）△＝２．４ｍｍｕ。 例４５ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −フェニルチアゾール アセトニトリル（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）− ２−（４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．４６ ８ｇ，１．２６ミリモル）の溶液に、チオベンズアミド（０．１６４ｇ，１．２ ０ミリモル）を添加し、この溶液を加熱還流させた（１９時間）。この反応混合 物を室温まで冷却させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチレンクロライド （１００ml）中に懸濁し、次いでＮａＨＣＯ₃飽和溶液で洗浄し（３×１０ml） 、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮して、４−（４−フルオロ フェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−フェニルチアゾール を細かい白色粉末として得た（０．０８５ｇ、１６％）；融点：１８８〜１８９ ℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ８．０１（ｍ，２Ｈ）、７．９０ （ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７．６２〜７．５５（ｍ，４Ｈ）、７．５５ 〜７．４４（ｍ，３Ｈ）、７．０４（ｔ，Ｊ＝８．８５Ｈｚ，２Ｈ）、３．０９ （ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ−サーモスプレイ）ｍ／ｚ４１０（ＭＨ＋）。ＨＲＭ Ｓ（ＥＩ）△＝−２．０ｍｍｕ。 例４６ ４−（４−フルオロフェニル）−２−ｎ−ヘキシルアミノ−５−（４−メチル スルホニルフェニル）チアゾール エタノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．５０３ｇ ，１．３５ミリモル）の溶液に、Ｎ−ヘキシルチオ尿素（０．２３９，１．４９ ミリモル）を添加した。この溶液を１４時間加熱還流させ、次いで室温まで冷却 させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチレンクロライド（１００ml）中に 懸濁し、次いでＮａＨＣＯ₃飽和溶液で洗浄し（３×１０ml）、硫酸ナトリウム 上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮して、４−（４−フルオロフェニル）−２− ｎ−ヘキシルアミノ−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールを白色 粉末として得た（０．４２０ｇ、７２％）；融点：１６１〜１６２℃。¹Ｈ Ｎ ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）４００ＭＨｚ ７．９５（ｔ，Ｊ＝５．３８Ｈｚ，１Ｈ ）、７．７７（ｄ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、７．４４〜７．３６（ｍ，４Ｈ ）、７．１５（ｔ，Ｊ＝９．２８，２Ｈ）、３．２４（ｑ，Ｊ＝５．８６，２Ｈ ）、３．１８（ｓ，３Ｈ）、１．６１〜１．５２（ｍ，２Ｈ）、１．３８〜１． ２０（ｍ，６Ｈ）、０．８５（ｔ，Ｊ＝６．８４Ｈｚ，３Ｈ）。ＭＳ（ＦＡＢ） ｍ／ｚ４３３（ＭＨ＋）。ＨＲＭＳ△＝−０．９ｍｍｕ。 例４７ ２−ブチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホ ニルフェニル）チアゾール エタノール（１５ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．３８４ｇ ，１．０３ミリモル）の溶液に、Ｎ−ブチルチオ尿素（０．１４４ｇ，１．０９ ミリモル）を添加した。この溶液を１４時間加熱還流させ、次いで室温に冷却さ せた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチレンクロライド（１００ml）中に懸 濁し、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液で洗浄し（３×１００ml）で洗浄し、硫酸ナトリウ ム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮して、２−ブチルアミノ−４−（４−フル オロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールをオフホワ イト色のふわふわした固形物として得た（０．３１９ｇ、７７％）；融点：１３ ４〜１３５℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆）７．９４（ｔ，Ｊ＝５．３７Ｈｚ ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，Ｊ＝８．７９，２Ｈ）、７．４５〜７．３６（ｍ，４ Ｈ）、７．１５（ｔ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、３．２５（ｑ，Ｊ＝５．３７ Ｈｚ，２Ｈ）、３．１８（ｓ，３Ｈ）、１．５８〜１．５０（ｍ，２Ｈ）、１． ４１〜１．３２（ｍ，２Ｈ）、０．９０（ｔ，Ｊ＝７．３３Ｈｚ，３Ｈ）。ＭＳ （ＥＩ）ｍ／ｚ４０４（Ｍ＋）。ＨＲＭＳ△＝１．１ｍｍｕ。 例４８ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −メチルアミノチアゾール エタノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．３５５ｇ ，０．９５９ミリモル）の溶液に、Ｎ−メチルチオ尿素（０．０８６ｇ，０．９ ５９ミリモル）を添加した。この溶液を１４時間加熱還流させ、次いで室温に冷 却させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、酢酸エチル（１００ml）中に懸濁し 、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液で洗浄し（３×１０ml）、硫酸ナトリウム上で乾燥させ 、濾過した。この濾液に、溶液が濁るまでイソオクタンを加え、淡黄色のふわふ わした固形物を得た。この固形物を減圧濾過により採取した。この固形物をメチ レンクロライドに溶解し、次いで炭酸ナトリウム溶液（１０％溶液）で洗浄し、 硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで濃縮し、固形物を生成させた。この固形物 をメチレンクロライド−イソオクタンから再結晶させて、４−（４−フルオロフ ェニル）−２−メチルアミノ−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾー ルを淡黄色粉末として得た（０．１３５ｇ、３９％）；融点：２４３〜２４４℃ 。¹Ｈ ＮＭＲ ４００ＭＨｚ ７．９０（ｑ，Ｊ＝４．７６Ｈｚ，１Ｈ）、７ ．８１（ｄ，Ｊ＝８．５０Ｈｚ，２Ｈ）、７．４９〜７．４３（ｍ，２Ｈ）、７ ．４１（ｔ，Ｊ＝８．７０Ｈｚ，２Ｈ）、７．１９（ｔ，Ｊ＝８．９５Ｈｚ，２ Ｈ）、３．２２（ｍ，３Ｈ）、２．９０（ｄ，Ｊ＝４．８０Ｈｚ，３Ｈ）。ＭＳ （ＦＡＢ）ｍ／ｚ３６３（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝−０．２ｍｍｕ。 例４９ ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −（４−メトキシフェニル）チアゾール イソプロパノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル） −２−（４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．５ ００ｇ，１．３５ミリモル）の溶液に、ｐ−メトキシチオベンズアミド（０．２ ３０ｇ，１．３５ミリモル）を添加した。この溶液を３０時間加熱還流させ、次 いで室温に冷却させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチレンクロライド（ １００ml）中に懸濁し、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液で洗浄し（３×１０ml）、硫酸ナ トリウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮して、４−（４−フルオロフェニル ）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−（４−メトキシフェニル）チ アゾールを結晶固形物として得た（０．３６０ｇ、６１％）：融点：１８７〜１ ８９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９９（ｄ，Ｊ＝８．８２ Ｈｚ，２Ｈ）、７．９３（ｄ，Ｊ＝８．５０Ｈｚ，２Ｈ）、７．６３〜７．５３ （ｍ，４Ｈ）、７．０９（ｔ，Ｊ＝８．６３Ｈｚ，２Ｈ）、７．０３（ｄ，Ｊ＝ ８．８２Ｈｚ，２Ｈ）、３．９２（ｓ，３Ｈ）、３．１３（ｓ，３Ｈ）。ＭＳｍ ／ｚ４４０（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝２．０ｍｍｕ。 例５０ ２−エチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホ ニルフェニル）チアゾール エタノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．４０５ｇ ，１．０９ミリモル）の溶液に、Ｎ−エチルチオ尿素（０．１１４ｇ，１．０９ ミリモル）を添加し、この溶液を１４時間加熱還流させた。この反応混合物を室 温に冷却させ、生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチレンクロライド（１００ml ）中に懸濁し、次いでＮａＨＣＯ₃飽和溶液（３×１０ml）、炭酸ナトリウム溶 液 （１０％、３×２０ml）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、次い で濃縮した。この粗製生成物をメチレンクロライドおよびイソオクタンから再結 晶させ、２−エチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチル スルホニルフェニル）チアゾールを粉末状結晶として得た（０．２１８ｇ、５３ ％）；融点：２１８〜２１９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ ｄ₆）４００ＭＨｚ ７．９４（ｔ，５．３８Ｈｚ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ ）、７．４５〜７．４０（ｍ，２Ｈ）、７．３７（ｄ，Ｊ＝８．５６Ｈｚ，２Ｈ ）、７．１５（ｔ，Ｊ＝９．０５Ｈｚ，２Ｈ）、３．３１（ｑ，Ｊ＝７．１０Ｈ ｚ，２Ｈ）、３．１８（ｓ，３Ｈ）、１．１８（ｔ，Ｊ＝７．１０Ｈｚ，３Ｈ） 。ＭＳｍ／ｚ３７７（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝０．５ｍｍｕ。 例５１ ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メ チルスルホニルフェニル）チアゾール エタノール（１１ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．４０６ｇ ，１．０９ミリモル）の溶液に、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブチル）チオ尿素（０．１４ ４ｇ，１．０９ミリモル）を添加し、この溶液を加熱還流させた（１４時間）。 この反応混合物を室温に冷却させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチレン クロライド（１００ml）中に懸濁し、次いでＮａＨＣＯ₃飽和溶液（３×１０ml ）、炭酸ナトリウム溶液（１０％、３×２０ml）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で 乾燥させ、濾過し、次いで濃縮した。この粗製生成物をメチレンクロライドおよ びイソオクタンから再結晶させ、４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メ チルスルホニルフェニル）−２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノチアゾールを黄色結晶 板状 物として得た（０．２２６ｇ、５１％）；融点：２５０〜２５３℃。¹Ｈ ＮＭ Ｒ（ＤＭＳＯ ｄ₆）４００ＭＨｚ ７．７８（ｄ，Ｊ＝８．３２Ｈｚ，２Ｈ） 、７．７０（ｓ，１Ｈ）、７．４６〜７．３５（ｍ，４Ｈ）、７．１５（ｔ，Ｊ ＝９．０５Ｈｚ，２Ｈ）、３．１９（ｓ，３Ｈ）、１．４０（ｓ，９Ｈ）。ＭＳ ｍ／ｚ４０５（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝４．７８ｍｍｕ。 例５２ ２−（３，５−ジクロロフェニルアミノ）−４−（４−フルオロフェニル）− ５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール エタノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．３１２， ０．８４１ミリモル）の溶液に、Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）チオ尿素（ ０．１９５ｇ，０．８８２ミリモル）を添加した。この溶液を加熱還流させ（１ ４時間）、次いで室温に冷却させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、酢酸エチ ル（１００ml）中に懸濁し、次いで炭酸ナトリウム溶液（１０％、３×２０ml） 、ブライン（２０ml）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、次いで 濃縮し、粉末状固形物を得た。この固形物を酢酸エチル／メチレンクロライドに 溶解した。イソオクタンを添加し、２−（３，５−ジクロロフェニルアミノ）− ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾ ールを淡黄色粉末として沈殿させた（０．２６１ｇ、６３％）；融点：２８７〜 ２８８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ ｄ₆）４００ＭＨｚ １０．８４（ｓ，１Ｈ ）、７．８６（ｄ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、７．７３（ｓ，２Ｈ）、７．５ ４〜７．４５（ｍ，４Ｈ）、７．２２（ｔ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、７．１ ５（ｓ，１Ｈ）、３．２２（ｓ，３Ｈ）。ＭＳｍ／ｚ４９２（Ｍ ＋）。ＨＲＭＳ△＝４．８ｍｍｕ。 例５３ ２−（４−シアノフェニルアミノ）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（ ４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール エタノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．４１３， １．１１ミリモル）の溶液に、Ｎ−（４−シアノフェニル）チオ尿素（０．２０ ７ｇ，１．１７ミリモル）を添加した。この溶液を加熱還流させ（２４時間）、 次いで室温に冷却させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチレンクロライド （１００ml）中に懸濁し、次いで炭酸ナトリウム溶液（１０％、３×２０ml）、 ブライン（２０ml）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、次いで濃 縮し、固形物を得た。この固形物をフラッシュクロマトグラフイ（１：１、ヘキ サン：１％酢酸含有酢酸エチル）によって精製した。生成する生成物をメチレン クロライドおよびイソオクタンから再結晶させて、２−（４−シアノフェニルア ミノ）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル ）チアゾールを淡黄色固形物として得た（０．２６６ｇ、５３％）；融点：２７ ３〜２７４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ ｄ₆）４００ＭＨｚ １０．９８（ｓ， １Ｈ）、７．８６（ｄ，Ｊ＝８．３２Ｈｚ，２Ｈ）、７．８３（ｄ，Ｊ＝９．０ ５Ｈｚ，２Ｈ）、７．７６（ｄ，Ｊ＝８．８０Ｈｚ，２Ｈ）、７．５５〜７．４ ７（ｍ，４Ｈ）、７．２１（ｔ，Ｊ＝８．８０Ｈｚ，２Ｈ）、３．２２（ｓ，３ Ｈ）。ＭＳｍ／ｚ４５０（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝２．６ｍｍｕ。 例５４ エチル−［３−［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニ ルフェニル）−２−チアゾリル］アミノ］ベンゾエート エタノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．４４４， １．２０ミリモル）の溶液に、Ｎ−（３−エトキシカルボニルフェニル）チオ尿 素（０．２８２ｇ，１．２６ミリモル）を添加した。この溶液を加熱還流させ（ ２４時間）、次いで室温に冷却させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチレ ンクロライド（１００ml）中に懸濁し、次いで炭酸ナトリウム溶液（１０％、３ ×２０ml）、ブライン（２０ml）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過 し、次いで濃縮して、固形物を得た。生成する生成物をメチレンクロライドおよ びイソオクタンから再結晶させて、エチル［３−［４−（４−フルオロフェニル ）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−チアゾリル］アミノ］ベンゾ エートを淡黄色のふわふわした固形物として得た（０．３９３ｇ、６６％）；融 点：２０８〜２０９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ ｄ₆）４００ＭＨｚ １０．６ ８（ｓ，１Ｈ）、８．４５（ｓ，１Ｈ）、７．９１〜７．８４（ｍ，３Ｈ）、７ ．５８〜７．４４（ｍ，６Ｈ）、７．１９（ｔ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、４ ．３０（ｑ，Ｊ＝６．８４Ｈｚ，２Ｈ）、３．２１（ｓ，３Ｈ）。Ｍｓｍ／ｚ４ ９６（Ｍ＋）。ＨＲＭＳ△＝０．０３ｍｍｕ。 例５５ エチル［４−［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニル フェニル）−２−チアゾリル］アミノ］ベンゾエート エタノール（１０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）−２− （４−メチルスルホニルフェニル）エタノン（例２６、工程２）（０．３６１， ０．９７２ミリモル）の溶液に、Ｎ−（４−エトキシカルボニルフェニル）チオ 尿素（０．２２９ｇ，１．０２ミリモル）を添加した。この溶液を加熱還流させ （２４時間）、次いで室温に冷却させた。生成する懸濁液を減圧で濃縮し、メチ レンクロライド（１００ml）中に懸濁し、次いで炭酸ナトリウム溶液（１０％、 ３×２０ml）、ブライン（２０ml）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾 過し、次いで濃縮して、固形物を得た。生成する生成物をメチレンクロライドお よびイソオクタンから再結晶させて、エチル［４−［４−（４−フルオロフェニ ル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−チアゾリル］アミノ］ベン ゾエートを細かい淡黄色の結晶として得た（０．２７７ｇ、５７％）；融点：２ ０７〜２０８℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ ｄ₆）４００ＭＨｚ １０．８７（ｓ ，１Ｈ）、７．９３（ｄ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ，２Ｈ）、７．８７（ｄ，Ｊ＝８． ３０Ｈｚ，２Ｈ）、７．７８（ｄ，Ｊ＝８．７９，２Ｈ）、７．５７〜７．４９ （ｍ，４Ｈ）、７．２０（ｔ，Ｊ＝９．２８Ｈｚ，２Ｈ）、４．２６（ｑ，Ｊ＝ ７．３２Ｈｚ，２Ｈ）、３．２１（ｓ，３Ｈ）、１．２９（ｔ，Ｊ＝７．３２Ｈ ｚ，３Ｈ）。ＭＳｍ／ｚ４９６（Ｍ＋）。ＨＲＭＳ△＝０．２ｍｍｕ。 例５６ ５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）−２ −トリフルオロメチルチアゾール工程 １ ：５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルチオフェニル）− ２−トリフルオロメチルチアゾールの製造 トルエン（３０ml）中のトリフルオロアセトアミド（１３．７ｇ，１２１．２ ミリモル）の溶液に、固形Ｐ₄Ｓ₁₀（５．４ｇ、１２．１ミリモル）を添加し、 この混合物を６０時間加熱還流させた。生成するオレンジ色懸濁液を室温に冷却 し、固形物を粉砕させて細かい懸濁液を生成させた。このトルエン懸濁液の１／ ４（７．５ml、理論量の約３０ミリモル）を移し、次いで２−ブロモ−２−（４ −フルオロフェニル）−１−（４−メチルチオフェニル）エタノン（１．２４ｇ ，３．６６ミリモル）（例２０、工程２）を一度に添加した。この懸濁液を１． ５時間加熱還流させ、５０℃に冷却させ、次いで１．０Ｎ ＮＣｌ溶液（１ml） を注意して加え、さらに１時間加熱還流を継続した。この反応混合物を室温に冷 却し、一夜にわたり放置した。この溶液に、２Ｎ ＮａＯＨ溶液を、発熱が静ま るまで添加し、この反応混合物を１時間以上撹拌した。生成する黒色懸濁液をメ チレンクロライドで希釈し、次いでＮａＨＣＯ₃飽和溶液で洗浄し、Ｎａ₂ＳＯ₄ 上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、褐色半固形物を得た。フラッシ ュクロマトグラフイ（９：１、ヘキサン：メチレンクロライド）に付し、５−（ ４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルチオフェニル）−２−トリフルオロ メチルチアゾールを黄色油状物として得た（０．２８ｇ、２３％）。この油状物 はゆっくりと固化した；融点：５９〜６０℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ ＭＨｚ ７．４３（ｄ，Ｊ＝８．４８，２Ｈ）、７．４０〜７．３２（ｍ，２Ｈ ）、７．１７（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７．０８（ｔ，Ｊ＝８．４ ８，２Ｈ）、２．４６（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ３６９（Ｍ＋Ｈ）。Ｈ ＲＭＳ△＝−３．１７ｍｍｕ。工程 ２ ：５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニ ル）−２−トリフルオロメチルチアゾールの製造 メチレンクロライド（１０ml）中の工程１からの２−トリフルオロメチル−５ −（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルチオフェニル）チアゾール（０ ．２５ｇ，０．７４リモル）の溶液に、０℃において、ＭＣＰＢＡ（６７％過酸 化物含有試薬の０．５０ｇ、１．９ミリモル）を２時間かけて３部に分けて添加 した。全体で３時間の反応時間の後に、この反応混合物をメチレンクロライド（ １５０ml）で希釈し、この溶液をＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）／ＮａＨＣＯ₃飽 和溶液（１：１比、３×５０ml）で洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、 次いで減圧で濃縮した。生成する固形物をメチレンクロライドおよびイソオクタ ンから再結晶させて、５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホ ニルフェニル）−２−トリフルオロメチルチアゾールを不透明な白色結晶として 得た（０．１９ｇ、７０％）；融点：１５０〜１５１℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ ｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８９（ｄ，Ｊ＝８．４８，２Ｈ）、７．７１（ｄ，Ｊ ＝８．８５，２Ｈ）、７．４０〜７．３０（ｍ，２Ｈ）、７．１３（ｔ，Ｊ＝８ ．４８Ｈｚ，２Ｈ）、３．０６（ｓ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３０ ０ＭＨｚ −６１．５３，−１０９．９８。ＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ４０２（ＭＨ＋ ）。ＨＲＭＳ△＝−１．１６１ｍｍｕ。 例５７ ４−（４−フルオロフェニル））−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）チアゾール工程 １ ：ペンタフルオロチオベンズアミドの製造 トルエン（６０ml）中のペンタフルオロベンズアミド（５．００ｇ，２３．６ ９ミリモル）の溶液に、ローソンの試薬（５．７０ｇ，１４．２０ミリモル）を 添加した。この反応混合物を一夜にわたり加熱還流させ、室温に冷却させ、次い でイソオクタン（２００ml）を添加して、沈殿を生成させた。この懸濁液を濾過 し、この濾液を濃縮して、オレンジ色油状物を得た。この油状物は固化した。こ の油状物をフラッシュクロマトグラフイに付し（１：１ヘキサン：２０％酢酸含 有メチレンクロライド）、粗製ペンタフルオロチオベンズアミドを白色固形物（ 融点：９２〜９３℃）として得た。この固形物はさらに精製することなく使用し た。工程 ２ ：２−ペンタフルオロフェニル−４−（４−フルオロフェニル）−５− （４−メチルチオフェニル）チアゾールの製造 アセトニトリル（９０ml）中の２−ブロモ−１−（４−フルオロフェニル）− ２−（４−メチルチオフェニル）エタノン（例１、工程３）（３．１３ｇ，９． ２２ミリモル）の溶液に、工程１からのペンタフルオロチオベンズアミド（２． ２ｇ，９．６９ミリモル）を添加し、この混合物を１６時間加熱還流させた。生 成するブルゴーニュワイン色の反応溶液を熱いメタノール（４００ml）中に注ぎ 入れ、生成する溶液を室温に冷却させ、結晶生成物を得た。この結晶を減圧濾過 により採取し、熱いアセトニトリルおよびメタノール中に再溶解し、ダルコ(Dar co)（登録商品名）脱色炭素を添加し、この混合物を水蒸気浴上で、２分間加熱 還流させた。生成する黒色懸濁液を濾過した。この濾液をメタノールで希釈し、 再結晶を助長し、２−ペンタフルオロフェニル−４−（４−フルオロフェニル） −５−（４−メチルチオフェニル）チアゾールを、紙様の淡い灰色の結晶として 得た（０．５９ｇ、１４％）；融点：１３１〜１３２℃¹。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ ｌ₃）３００ＭＨｚ ７．６０〜７．５０（ｍ，２Ｈ）、７．３１（ｄ，Ｊ＝８ ．１１Ｈｚ，２Ｈ）、７．２３（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７．０２（ｔ ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、２．５２（ｓ，３Ｈ）。ＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ４６ ８（Ｍ＋Ｈ）。ＨＲＭＳ△＝１．６６ｍｍｕ。工程 ３ ：２−ペンタフルオロフェニル−４−（４−フルオロフェニル）−５− （４−メチルスルホニルフェニル）チアゾールの製造 メチレンクロライド（１５ml）中の工程２からの２−ペンタフルオロフェニル −４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル）チアゾール （０．５５ｇ，１．１８ミリモル）の溶液に、０℃において、ＭＣＰＢＡ（６７ ％過酸化物含有試薬の０．５１ｇ、２．９４ミリモル）を添加し、この溶液を室 温に温め、一夜にわたり放置した。この反応混合物をメチレンクロライド（１０ ０ml）で希釈し、ＮａＨＳＯ₃溶液（０．１Ｍ）、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液で洗浄し 、Ｎａ₂ＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮した。この生成物をメチ レンクロライドおよびイソオクタンから再結晶させ、２−ペンタフルオロフェニ ル−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チ アゾールを得た（０．４８ｇ、９３％）；融点：１７３〜１７４℃。¹Ｈ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．９５（ｄ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７ ．６１（ｄ，Ｊ＝８．４８，２Ｈ）、７．５２（ｄのｄ，Ｊ＝５．１６および８ ．４８Ｈｚ，２Ｈ）、７．０５（ｔ，Ｊ＝８．４８Ｈｚ，２Ｈ）、３．１１（ｓ ，３Ｈ）。¹⁹Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ −１１１．９，−１３８ ．８，−１５０．５，−１６０．７。ＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ４９９（Ｍ＋Ｈ）。Ｈ ＲＭＳ△＝５．１４６ｍｍｕ。 例５８ ［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−チアゾリル］酢酸工程 １ ：［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルチオフェニル） −２−チアゾリル］酢酸の製造 乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（１０ml）中の４−［４−フルオロフェニ ル］−２−メチル−５−［４−メチルチオフェニル］チアゾール（例２０、工程 ３）（０．９９３ｇ、３．１５ミリモル）の撹拌した溶液に、ドライアイス−イ ソプロパノール浴中で窒素雰囲気下に、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中２．５ Ｍの１．４ml）を注射器から添加した。この反応混合物はほとんど不透明な暗赤 色になった。１０分後に、この反応混合物を、窒素雰囲気下にドライアイス／Ｔ ＨＦのスラリー中に注ぎ入れた。過剰のＣＯ₂を静まるままにし、生成する黄色 溶液を減圧で濃縮して、黄色半固形物を生成した。この半固形物をＨ₂Ｏ（８０m l）に溶解し、ヘキサンで洗浄し、層を分離させた。この水性層を０．０５Ｍ ＨＣｌ溶液中に注ぎ入れ、オレンジ色固形物を得た。エタノール／ジクロロメタ ン／イソオクタンから再結晶させ、［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４ −メチルチオフェニル）−２−チアゾリル］酢酸を固形物として得た（０．２９ ４ｇ、２６％）；融点：１３４℃（分解）。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００Ｍ Ｈｚ ７．５０〜７．４２（ｍ，２Ｈ）、７．２２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ ）、７．１７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）、６．９８（ｔ，Ｊ＝８．７Ｈｚ， ２Ｈ）、４．０９（ｓ，２Ｈ）、２．４９（ｓ，２Ｈ）。ＬＲＭＳ：Ｍ＋Ｈ実測 値３６０。ＨＲＭＳ：Ｍ＋Ｈ：計算値ｍ／ｚ３６０．０５２８、実測値ｍ／ｚ３ ６０．０５２１。元素分析：Ｃ₁₈Ｈ₁₄ＦＮＯ₂Ｓ₂に対する計算値：Ｃ，６０．１ ６；Ｈ，３．９３；Ｎ，３．９０。実測値：Ｃ，５９．９３；Ｈ，３．９５；Ｎ ，３．８８。工程 ２ ：［４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェ ニル）−２−チアゾリル］酢酸の製造 エタノール（６ml）およびＴＨＦ（３ml）中の［４−（４−フルオロフェニル ）−５−（４−メチルチオフェニル）−２−チアゾリル］酢酸（工程２）の溶液 に、Ｈ₂Ｏ（１．５ml）中のオキソン(Oxone)（登録商品名）（０．５７５ｇ，１ ．８６９ミリモル）を添加し、２時間反応させた。この混合物をＨ₂Ｏ（１００m l）で希釈し、生成した細かい黄色の懸濁液を減圧濾過により採取し、［４− （４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−チア ゾリル］酢酸を黄色粉末として得た（０．１９９ｇ、８２％）；融点：１４９〜 １５１℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ｍＨｚ ７．８５（ｄ，Ｊ＝８．６ ６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４９（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４７〜７．３ ６（ｍ，２Ｈ）、６．９８（ｔ，Ｊ＝８．７０Ｈｚ，２Ｈ）、４．０８（ｓ，２ ｈ）、３．０６（ｓ，３Ｈ）。ＬＲＭＳ：Ｍ＋Ｈ実測値ｍ／ｚ３９２；ＨＲＭＳ ：Ｍ＋Ｈ：計算値ｍ／ｚ３９２．０４２７；実測値Ｍ＋Ｈｍ／ｚ３９２．０４１ ９。元素分析：Ｃ₁₈Ｈ₁₄ＦＮＯ₄Ｓ₂に対する計算値：Ｃ，５５．２４；Ｈ，３． ６１；Ｎ，３．５８。実測値：Ｃ，５５．２４；Ｈ，３．７０；Ｎ，３．６２。 例５９ ４−［５−（４−クロロフェニル）−２−メチル−４−チアゾリル］ベンゼン スルホンアミド工程 １ ：２−（４−クロロフェニル）−１−フェニルエタノンの製造 ジクロロメタン（３００ml）中のｐ−クロロフェニル酢酸（１４．８７ｇ、８ ７．１６ミリモル）の溶液に、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（０．５ml）を 添加し、引続いてオキザリルクロライド（８．０ml、１１．６１ｇ、９１．５２ ミリモル）を注意して滴下して添加して、ガスの発生を中程度に維持した。この 反応混合物を２時間撹拌し、減圧で濃縮し、ベンゼン（１５０ml）で希釈し、次 いでＡｌＣｌ₃を少しづつ添加した。この反応混合物を一夜にわたり加熱還流さ せた。この反応を室温に冷却させ、ジクロロメタン（１５０ml）で希釈し、撹拌 しながら氷上に注ぎ入れた。層を分離させ、ジクロロメタン相を濾別し、水、Ｎ ａＨＣＯ₃飽和溶液、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次い で減圧で濃縮して、ケトン化合物をオフホワイト色板状物として得た（１６．７ ２ｇ、８３％）；融点：１３２〜１３３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００Ｍ Ｈｚ ８．０１（ｄ，ｊ＝７．０５Ｈｚ，２Ｈ）、７．５８（ｔ，Ｊ＝７．８６ ｚ，１Ｈ）、７．４７（ｔ，Ｊ＝７．８６Ｈｚ，２Ｈ）、７．３１（ｄ，Ｊ＝８ ．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．１９（ｄ，８．２６Ｈｚ，２Ｈ）、４．２６（ｓ，２ Ｈ）。工程 ２ ：２−ブロモ−２−（４−クロロフェニル）−１−フェニルエタノンの 製造 ＨＯＡｃ（２００ml）およびＨＢｒ／ＨＯＡｃ（３５０ml、３３重量％）中の ２−（４−クロロフェニル）−１−フェニルエタノン（工程１）の撹拌した懸濁 液に、Ｂｒ₂（２．３ml、７．１６ｇ、４５ミリモル）を添加した。この反応混 合物を２時間撹拌すると、均質になった。水およびエチルエーテルを加え、混合 し、次いで層を分離させた。生成する有機層を水、ＮａＨＣＯ₃飽和溶液、ブラ インで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、イソオクタンで希釈し、次い で減圧で部分的に濃縮して、沈殿を生成させた。この懸濁液を濾過し、ブロモケ トン化合物を白色固形物として得た（１０．３８ｇ、７８％）。この生成物はさ らに精製しなくても次の工程で使用するのに適していた；融点：５７〜５９℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ｍＨｚ ７．９９（ｄ，Ｊ＝７．２５Ｈｚ，２ ＨＯ、７．５９（ｄ，Ｊ＝７．２０Ｈｚ，１Ｈ）、７．４６〜７．４１（ｍ，４ Ｈ）、７．３５（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、６．３１（ｓ，１Ｈ）。工程 ３ ：５−（４−クロロフェニル）−２−メチル−４−フェニルチアゾール の製造 ２−ブロモ−２−（４−クロロフェニル）−１−フェニルエタノン（工程２） （１．１０ｇ、３．５５ミリモル）およびチオアセトアミド（０．２７ｇ、３． ５５ミリモル）を、エタノール（２５ml）中で混合し、４８時間撹拌した。この 反応混合物を、Ｈ₂Ｏで希釈し、酢酸エチルにより抽出した。酢酸エチル相を集 め、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し て、チアゾール化合物を清明な無色油状物として得た（０．７５ｇ、７４％）。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．５０〜７．４４（ｍ，２Ｈ）、７ ．３３〜７．２３（ｍ，７Ｈ）、２．７５（ｓ，３Ｈ）。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ実測 値２８６。元素分析：Ｃ₁₆Ｈ₁₂ＣｌＮＳに対する計算値：Ｃ，６７．２４；Ｈ， ４．２３；Ｎ，４．９０。実測値：Ｃ，６６．７７；Ｈ，４．２３；Ｎ，４．９ ０。工程 ４ ：４−［２−メチル−４−（５−クロロフェニル）−４−チアゾリル］ ベンゼンスルホンアミドの製造 氷浴中で冷却した５−（４−クロロフェニル）−２−メチル−４−フェニルチ アゾール（工程３）（０．２ｇ，０．７０ミリモル）に、純粋なクロロスルホン 酸（４ml）を添加した。この反応混合物を室温に温め、次いで２時間反応させた 。この粗製反応混合物をジクロロメタン（５０ml）で希釈し、次いで激しく撹拌 しながら、氷上に注意して注ぎ入れた。層を分離させ、そのジクロロメタン層を ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、次いで濾過した。この濾液を室温 で、撹拌されている濃ＮＨ₄ＯＨ（過剰）中に迅速に注ぎ入れ、一夜にわたり撹 拌した。層を分離させ、その水性層を追加のジクロロメタンで抽出した。この有 機層を集め、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮し て、固形物を得た。この固形物をジクロロメタンおよびイソオクタンから再結晶 させ、４−［２−メチル−４−（５−クロロフェニル）−４−チアゾリル］ベン ゼンスルホンアミドを白色板状物として得た（０．０７２ｇ、２８％）；融点： ２２１〜２２３℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ｍＨｚ ７．８４（ｄ，Ｊ ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．６４（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．３２ （ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．２３（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、 ４．７６（広いｓ，２Ｈ）、２．７６（ｓ，３Ｈ）。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ実測値ｍ ／ｚ３６５。元素分析：Ｃ₁₆Ｈ₁₃ＣｌＮ₂Ｏ₂Ｓ₂に対する計算値：Ｃ，５２．６ ７；Ｈ，３．５９；Ｎ，７．６８。実測値：Ｃ，５２．５１；Ｈ，３．６３；Ｎ ，７．６２。 例６０ ４−［４−（４−クロロフェニル）−２−メチル−５−チアゾリル］ベンゼン スルホンアミド工程 １ ：４−（４−クロロフェニル）−２−メチル−５−フェニルチアゾール ＨＢｒ塩の製造 エタノール（１００ml）およびＣＨ₃ＣＮ（１５ml）中の２−ブロモ−１−（ ４−クロロフェニル）−２−フェニルエタノン［メイブリッジ(Maybridge)］（ ４．５８ｇ、１５．０４ミリモル）の撹拌した溶液に、チオアセトアミド（１． １８６ｇ、１５．７９ミリモル）を添加し、この混合物を室温で６０時間撹拌し た。この反応混合物を減圧で濃縮し、黄色油状物を生成した。この油状物は放置 すると固化した。この固形物を酢酸エチルとすり混ぜ、次いで減圧濾過により採 取し、２−メチル−４−（４−クロロフェニル）−５−フェニルチアゾールＨＢ ｒ塩を白色粉末として得た（４．４８１ｇ、８１％）；融点：１９２〜１９３℃ 。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．４３（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ， ２Ｈ）、７．３１（ｓ，５Ｈ）、７．２４（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、２ ．７５（ｓ，３Ｈ）。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈｍ／ｚ実測値２８６。ＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ 計算値ｍ／ｚ２８６．０４５７；実測値Ｍ＋Ｈｍ／ｚ２８６．０４４８。元素分 析：Ｃ₁₆Ｈ₁₂ＣｌＮＳ・ＨＢｒ・１．５Ｈ₂Ｏに対する計算値：Ｃ，４８．４１ ；Ｈ，３．８４；Ｎ，３．５５。実測値：Ｃ，４８．９６；Ｈ，３．８１；Ｎ， ４．００。工程 ２ ：４−［４−（４−クロロフェニル）−２−メチル−５−チアゾリル］ ベンゼンスルホンアミドの製造 激しく撹拌されている純粋クロロスルホン酸（５ml）に、４−（４−クロロフ ェニル）−２−メチル−５−フェニルチアゾール（工程１）（０．５６ｇ，１． ３７ミリモル）を添加した。５０分間撹拌した後に、この粗製反応混合物をジク ロロメタン（４０ml）で希釈し、次いで氷上に注意して注ぎ入れた。層を分離さ せ、そのジクロロメタン層を室温で濃ＮＨ₄ＯＨ（過剰量）中に注ぎ入れ、一夜 にわたり撹拌した。生成する生成物を水性ＮａＨＣＯ₃で希釈し、次いでジクロ ロメタンにより、次いで酢酸エチルにより抽出した。この有機相を集め、ブライ ンで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、次いで減圧で濃縮し、４−［２−メチル −４−（４−クロロフェニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミドを白 色粉末として得た（０．２７５ｇ、３８％）；融点：２０４〜２０６℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ｍＨｚ ７．８６（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ） 、７．４５（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４１（ｄ，Ｊ＝８．４６，２ Ｈ）、７．２９（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、４．８１（広いｓ，２Ｈ）、 ２．７７（ｓ，３Ｈ）。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ実測値３６５。ＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ計算 値ｍ／ｚ３６５．０１８５：実測値Ｍ＋Ｈｍ／ｚ３６５．０１９８。元素分析： Ｃ₁₆Ｈ₁₃ＣｌＮ₂ＯＳ₂・０．５Ｈ₂Ｏに対する計算値：Ｃ，５１．５１；Ｈ，３ ．５１。実測値：Ｃ，５１．７４；Ｈ，３．６７。 例６１ ４−［５−（４−ブロモフェニル）−２−メチル−４−チアゾリル］ベンゼン スルホンアミド工程 １ ：３−（４−ブロモフェニル）−２−フェニルプロペン酸の製造 フェニル酢酸（５３．５０ｇ，３９３ミリモル）、４−ブロモベンズアルデヒ ド（７２．７６ｇ，３９３ミリモル）、トリエチルアミン（４３．１１ｇ，４２ ６ミリモル）および無水酢酸（３５０ml）を一緒に合わせ、１５０℃に２時間加 熱し、次いで１００℃に冷却させた。水（１２０ml）をゆっくり加えると、発熱 が生じ、次いで黄色固形物が沈殿した。この固形物を減圧濾過により採取し、次 いでトルエン（４００ml）から再結晶させた。生成する固形物をヘキサンで洗浄 し、３−（４−ブロモフェニル）−２−フェニルプロペン酸を明るい黄色固形物 として得た（７５．０７ｇ，６３％）；融点：２０３〜２０６℃；¹Ｈ ＮＭＲ （アセトン−ｄ₆）７．８０（ｓ，１Ｈ）、７．４８〜７．３０（ｍ，５Ｈ）、 ７．２８〜７．２２（ｍ，２Ｈ）、７．１０〜７．０２（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ ，２Ｈ）。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ実測値ｍ／ｚ３０１および３０３。工程 ２ ：２−（４−ブロモフェニル）−１−フェニルエタノンの製造 冷却し（氷−浴）、撹拌したトルエン（３００ml）中の３−［４−ブロモフェ ニル］−２−フェニルプロペン酸（工程１）（６５．１１ｇ，２１５ミリモル） の溶液に、Ｅｔ₃Ｎ（２１．９８ｇ，２１７ミリモル）およびＤＰＰＡ（５９． ５０ｇ，２１６ミリモル）を添加した。この反応混合物を室温に温め、２時間撹 拌した。この反応混合物を水（４００ml）中に注ぎ入れ、層を分離させた。この 水性層はＥｔ₂Ｏで抽出し、有機相を集め、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾 燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮して、Ｅｔ₂Ｏを除去した。生成する懸濁液 を１．３時間加熱還流させると、ガスが発生した。次いで、ｔｅｒｔ−ブチルア ルコール（２１ml、１８．７５ｇ、２５３ミリモル）を迅速に添加し、４０分後 に、濃ＨＣｌ（３０ml、３６０ミリモル）を、２０分間かけてコンデンサーを経 て滴下して添加した。この反応混合物を１１０℃で１時間撹拌し、次いで室温に 冷却させ、沈殿を生成させた。この沈殿を減圧濾過により採取し、２−（４−ブ ロモフェニル）−１−フェニルエタノンを白色固形物として得た（２０．７４ｇ 、３５％）。上記濾液を減圧で濃縮し、残留物を酢酸エチル／ヘキサンから再 結晶させることによって、第二の生成物をさらに１２．０７ｇ（２０％）得た； 融点：１４１〜１４４℃。¹Ｈ ＮＭＲ（アセトン−ｄ₆）８．０７（ｄ，Ｊ＝７ ．２５Ｈｚ，２Ｈ）、７．７１〜７．４５（ｍ，５Ｈ）、７．２８（ｄ，Ｊ＝８ ．４６Ｈｚ，２Ｈ）、４．４０（ｓ，２Ｈ）。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｌｉ実測値ｍ／ｚ ２８１。工程 ３ ：２−ブロモ−２−（４−ブロモフェニル）−１−フェニルエタノンの 製造 ２−（４−ブロモフェニル）−１−フェニルエタノン（工程２）（２０．５９ ｇ，７４．８ミリモル）のＨＯＡｃ（１５０ml）およびＨＢｒ／ＨＯＡｃ（３０ 重量％、２５ml）中の撹拌した懸濁液に、Ｂｒ₂（４ml、７７．６ミリモル）を 添加した。１時間以内に、反応混合物は均質になった。１．７５時間後に、この 反応懸濁液を濾過し、生成した白色固形物を濾別した。この濾液を１０％ＮａＨ ＳＯ₃により処理し、Ｂｒ₂色を消滅させ、沈殿を生成させた。この沈殿を採取し 、上記固形物と一緒に合わせた。この固形物を酢酸エチルに溶解し、水、１０％ ＮａＨＳＯ₃、飽和ＮａＨＣＯ₃、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、 濾過し、次いで減圧で濃縮して、白色固形物を得た（２０．４２ｇ、７７％）：¹ Ｈ ＮＭＲ（アセトン−ｄ₆） ８．１３（ｄ，Ｊ＝８．２６Ｈｚ，２Ｈ）、７ ．７５〜７．５０（ｍ，７Ｈ）、６．９４（ｓ，１Ｈ）。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｌｉ実 測値ｍ／ｚ３５９／３６１／３６３。工程 ４ ：５−［４−ブロモフェニル］−２−メチル−４−フェニルチアゾール の製造 ＥｔＯＨ（４０ml）中の２−ブロモ−２−（４−ブロモフェニル）−１−フェ ニルエタノン（工程３）（２．０４ｇ，５．８０ミリモル）の撹拌した溶液に、 チオアセトアミド（０．４６ｇ，６．０９ミリモル）を添加し、この溶液を２４ 時間撹拌した。この反応混合物を減圧で濃縮し、残留物をジクロロメタン（１２ ５ml）中に溶解し、飽和ＮａＨＣＯ₃溶液（３×２５ml）およびブライン（５０m l）で洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧で濃縮し、油状物を 得た。この油状物を、フラッシュクロマトグラフイ（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ、１ ０：１）に付すことによって精製し、５−（４−ブロモフェニル）−２−メチ ル−４−フェニルチアゾールを清明な無色油状物として得た（１．２６２ｇ，６ ６％）。この油状物は次の工程で使用するのに充分に純粋であった：¹Ｈ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ₃）７．５０〜７．４５（ｍ，２Ｈ）、７．４３（ｄ，Ｊ＝８．６ ６Ｈｚ，２Ｈ）、７．３３〜７．２６（ｍ，３Ｈ）、７．１８（ｄ，Ｊ＝８．４ ６Ｈｚ，２Ｈ）、２．７５（ｓ，３Ｈ）。工程 ５ ：４−［５−（４−ブロモフェニル）−２−メチル−４−チアゾリル］ ベンゼンスルホンアミドの製造 ＮａＣｌ／氷浴中で−１２℃に冷却させた純粋なクロロスルホン酸（１０ml） に、窒素雰囲気下に、５−［４−ブロモフェニル］−２−メチル−４−フェニル チアゾール（工程４）（１．００ｇ，３．０３ミリモル）を温かく中程度に粘性 の油状物として滴下して添加した。−１０℃で２時間後に、この反応混合物を０ ℃に温め、１．５時間撹拌した。この清明な緑色反応溶液を氷上に注ぎ入れ、沈 殿を生成させた。この沈殿を減圧濾過により採取した。この固形物をジクロロメ タン（７５ml）中に溶解し、０℃において濃ＮＨ₄ＯＨ（８ml）と混合し、次い で２時間撹拌した。この反応混合物をジクロロメタン（５０ml）およびブライン （５０ml）で希釈した。層を分離させ、この有機相を１Ｎ ＨＣｌ、ＮａＨＣＯ₃ （飽和水溶液）、ブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで 減圧下に濃縮し、淡黄色固形物を得た。この固形物を酢酸エチル／ヘキサンから 再結晶させ、４−［２−メチル−５−（４−ブロモフェニル）−４−チアゾリル ］ベンゼンスルホンアミドを白色粉末として得た（０．２３２ｇ，１９％）；融 点：２０７〜２０９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８３（ｄ ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．６３（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７． ４７（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．１７（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ ）、４．８５（広いｓ，２Ｈ）、２．７７（ｓ，３Ｈ）。ＬＲＭＳＭ＋Ｈ実測値 ｍ／ｚ４０９。ＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ計算値ｍ／ｚ４０８．９６８；実測値Ｍ＋Ｈｍ ／ｚ４０８．９６８１。元素分析：Ｃ₁₆Ｈ₁₃ＢｒＮ₂Ｏ₂Ｓ₂・１．５Ｈ₂Ｏに対す る計算値：Ｃ，４４．０４；Ｈ，３．００；Ｎ，６．４２。実測値：Ｃ，４４． ２０；Ｈ，３．４０；Ｎ，６．５３。 例６２ ４−（２−メチル−５−フェニル−４−チアゾリル）ベンゼンスルホンアミド メタノール（１０ml）、ＴＨＦ（２ml）およびＨＯＡｃ（０．５ml）中の４−［ ２−メチル−５−（４−ブロモフェニル）−４−チアゾリル］ベンゼンスルホン アミド（例６１）の溶液に、５％Ｐｄ／Ｃ（０．０６０ｇ）を添加した。この反 応混合物にＨ₂を吹き込み（５０ｐｓｉ）、次いで一夜にわたり撹拌した。この 懸濁液をケイソウ土を通して濾過した。この濾液を減圧で濃縮し、４−（２−メ チル−５−フェニル−４−チアゾリル）ベンゼンスルホンアミドを固形物として 得た（０．１３４ｇ、５２％）；融点：２３８〜２３９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ ＯＤ）３００ＭＨｚ ７．８６（ｄ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．６１（ｄ ，Ｊ＝８．４６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４６〜７．２７（ｍ，５Ｈ）、２．８５（ｓ ，３Ｈ）。ＬＲＭＳ（Ｍ＋Ｈ実測値ｍ／ｚ３３１）。ＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ計算値ｍ ／ｚ３３１．０５７５、実測値Ｍ＋Ｈｍ／ｚ３３１．０５６６。 例６３ ４−［２−ベンジルアミノ−４−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）− ５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド工程 １ ：１−（４−メトキシ−３−フルオロフェニル）−２−フェニルエタノ ンの製造 冷却した（氷浴）、クロロホルム（ＣＨＣｌ₃）（５００ml）中の２−フルオ ロアニソール（３５．９０ｇ，０．２８５モル）およびＡｌＣｌ₃（３７．９５ ｇ，０．２８５モル）の懸濁液に、温度を５℃以下に維持しながら、フェニルア セチルクロライドを滴下して添加した。２時間撹拌した後に、この反応混合物を 氷上に注ぎ入れ、層を分離させ、有機相を、１Ｎ ＨＣｌ、ブラインおよび水で 洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮した。この粗製生成物を 酢酸エチル／ヘキサンから再結晶させて、１−（４−メトキシ−３−フルオロフ ェニル）−２−フェニルエタノンを白色固形物として得た（６５ｇ、９３％）。 この生成物はさらに精製することなく使用した。工程 ２ ：１−（４−メトキシ−３−フルオロフェニル）−２−（４−アミノス ルホニルフェニル）エタノンの製造 １−（４−メトキシ−３−フルオロフェニル）−２−フェニルエタノン（工程 １）（６５ｇ，０．２６６モル）に、クロロスルホン酸（１５０ml、２６３ｇ， ２．２５ミリモル）を添加し、この溶液を３時間撹拌した。この溶液を氷上に注 意して滴下して注ぎ入れ、この水性相をジクロロメタンにより抽出した。このジ クロロメタン相を、急速撹拌されているＮＨ₄ＯＨ（濃縮されている２００ml） に添加し、この混合物を一夜にわたり撹拌した。生成する懸濁液を濾過し、この 固形物を熱いアセトンとすり混ぜ、スルホンアミド化合物を明るい黄色の固形物 として得た（１２．０ｇ、１４％）。この生成物はさらに精製することなく使用 した。工程 ３ ：２−ブロモ−１−（４−メトキシ−３−フルオロフェニル）−２−（ ４−アミノスルホニルフェニル）エタノンの製造 ＨＯＡｃ（２００ml）中の１−［４−メトキシ−３−フルオロフェニル］−２ −（４−アミノスルホニルフェニル）エタノン（１１．４ｇ，０．０３５モル） およびＨＯＡｃ中ＨＢｒ（３３％溶液、５０ml）の混合物に、Ｂｒ₂（５．６ｇ ， ０．０３５モル）を添加した。この混合物を４時間加熱還流させ、室温まで冷却 し、次いで水中に注ぎ入れ、粗製ブロモケトン化合物を白色沈殿として得た（１ ２．１ｇ，９０％）。この生成物はさらに精製することなく使用した；融点：１ ３７〜１４１℃。工程 ４ ：４−［２−ベンジルアミノ−４−（３−フルオロ−４−メトキシフェ ニル）−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミドの製造 ＣＨ₃ＣＮ（５ml）中の２−ブロモ−１−（４−メトキシ−３−フルオロフェ ニル）−２−（４−アミノスルホニルフェニル）エタノン（工程３）（０．３８ ３ｇ，０．９５２ミリモル）の撹拌溶液に、Ｎ−ベンジルチオ尿素（０．１５８ ｇ，０．９５２ミリモル）を一度に添加し、この反応混合物を室温で６０時間撹 拌した。この反応混合物を減圧で濃縮し、次いで酢酸エチルとＨ₂Ｏとに分配し た。酢酸エチル相をＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで減圧下に濃縮した 。この粗製生成物をフラッシュクロマトグラフイに付し、ヘキサン：酢酸エチル （２：１）により溶離することによって精製し、４−［２−ベンジルアミノ−４ −［３−フルオロ−４−メトキシフェニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホ ンアミドを固形物として得た（０．１６１ｇ，３６％）；融点：１９９〜２００ ℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＤＭＳＯ−ｄ₆）３００ＭＨｚ ７．７６（ｄ， Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４２〜７．２８（ｍ，７Ｈ）、７．２６〜７． ２１（ｍ，１Ｈ）、７．１６〜７．０９（ｍ，１Ｈ）、６．８２（ｔ，Ｊ＝８． ９８Ｈｚ，１Ｈ）、５．８９（広いｔ，Ｊ＝５．６４，１Ｈ）、５．６２（ｓ， ２Ｈ）、４．５１（ｄ，Ｊ＝５．６４Ｈｚ，２Ｈ）、３．８７（ｓ，３Ｈ）。Ｌ ＲＭＳ Ｍ＋Ｈ実測値ｍ／ｚ４７０。ＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ計算値ｍ／ｚ４７０．１ ００８；実測値ｍ／ｚ４７０．１０２２。 例６４ ４−［２−［２−クロロフェニル］−４−［３−フルオロ−４−メトキシフェ ニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンアミド ＣＨ₃ＣＮ（５ml）中の２−ブロモ−１−（４−メトキシ−３−フルオロフェ ニル）−２−（４−アミノスルホニルフェニル）エタノン（０．３８７ｇ，０． ９６２ミリモル）（例６３、工程３）の撹拌溶液に、ｏ−クロロチオベンズアミ ド（０．１６５ｇ，０．９６２ミリモル）を一度に添加し、この反応混合物を室 温で６０時間撹拌した。この黄色懸濁液を減圧で濃縮した。この固形物をエタノ ール中に懸濁し、次いで減圧濾過により採取して、４−［２−（２−クロロフェ ニル）−４−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−５−チアゾリル］ベン ゼンスルホンアミドを淡黄色固形物として得た（０．１４７ｇ、３２％）；融点 ：２１４〜２１６℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＤＭＳＯ−ｄ₆）３００ＭＨｚ ７．８５（ｄ，Ｊ＝８．２６Ｈｚ，２Ｈ）、７．７５〜７．７２（ｍ，１Ｈ） 、７．７１〜７．６４（ｍ，１Ｈ）、７．５２〜７．４２（ｍ，２Ｈ）、７．３ ８〜７．３０（ｍ，４Ｈ）、６．９７（ｔ，Ｊ＝８．２４Ｈｚ，１Ｈ）、５．８ ５（広いｓ，２Ｈ）、３．９２（ｓ，３Ｈ）。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ実測値ｍ／ｚ４ ７５。ＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ計算値ｍ／ｚ４７５．０３５３；実測値Ｍ＋Ｈｍ／ｚ４ ７５．０３５２。 例６５ ４−［４−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−２−メチル−５−チア ゾリル］ベンゼンスルホンアミド ＣＨ₃ＣＮ（５ml）中の２−ブロモ−１−（４−メトキシ−３−フルオロフェ ニル）−２−（４−アミノスルホニルフェニル）エタノン（０．４４０ｇ，０． １．０９４ミリモル）（例６３、工程３）の撹拌溶液に、チオアセトアミド（０ ．０８２ｇ，１．０９４ミリモル）を一度に添加し、この反応混合物を室温で６ ０時間撹拌した。この反応混合物を減圧で濃縮し、次いで酢酸エチルとＨ₂Ｏと に分配した。この酢酸エチル相をＭｇＳＯ₄上で乾燥させ、濾過し、次いで濃縮 した。この粗製生成物をフラッシュクロマトグラフイに付し、ヘキサン：酢酸エ チル（１：１）により溶離することによって精製し、４−［２−メチル−４−［ ３−フルオロ−４−メトキシフェニル］−５−チアゾリル］ベンゼンスルホンア ミドを固形物として得た（０．０６１ｇ、１５％）；融点：１６８〜１７５℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７．８７（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２ Ｈ）、７．４６（ｄ，Ｊ＝８．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．２９〜７．２２（ｍ，１ Ｈ）、７．１７〜７．１２（ｍ，１Ｈ）、６．８７（ｔ，Ｊ＝９．０７，１Ｈ） 、４．８２（広いｓ，２Ｈ）、３．９０（ｓ，３Ｈ）、２．７６（ｓ，３Ｈ）。 ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ実測値ｍ／ｚ３７９。ＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ計算値ｍ／ｚ３７９． ０５８６；実測値Ｍ＋Ｈｍ／ｚ３７９．０６０５。元素分析：Ｃ₁₇Ｈ₁₅Ｆ Ｎ₂Ｏ₃Ｓ₂に対する計算値：Ｃ，５３．９６；Ｈ，４．００；実測値：Ｃ，５３ ．６９；Ｈ，４．１７。 例６６ ４−（２−メチル−４−フェニル−５−チアゾリル）ベンゼンスルホンアミド工程 １ ：２−メチル−３，４−ジフェニルチアゾールの製造 ＤＭＦ（１００ml）中のリチウムクロライド（１２．５６ｇ、２９６．３５ミ リモル）およびベンゾイン（１２．５８ｇ、５９．２７ミリモル）の懸濁液に、 Ｅｔ₃Ｎ（９．０ｇ、８８．９０ミリモル）を添加した。この反応混合物を水浴 により冷却させ、次いでメタンスルホニルクロライド（６．９ml、１０．１８ｇ 、８８．９ミリモル）を０．０８時間かけて添加した。この反応混合物は淡黄色 懸濁液になった。２時間撹拌した後に、追加のＥｔ₃Ｎ（９．０ｇ、８８．９０ ミリモル）およびメタンスルホニルクロライド（６．９ml、１０．１８ｇ、８８ ．９ミリモル）を添加した。２時間で、この反応は完了した。この反応混合物を Ｅｔ₂Ｏ（５００ml）で希釈し、ブラインで洗浄し、ＮａＳＯ₄上で乾燥させ、濾 過し、次いで濃縮して、オレンジ色油状物を得た。この油状物をエタノール（１ ２０ml）中に溶解し、チオアセトアミドを添加し、この反応混合物を室温で５日 間撹拌し、次いで２時間加熱還流させた。この反応混合物を室温に冷却させ、Ｈ₂ Ｏで希釈し、油状生成物を生成した。この油状物をフラッシュクロマトグラフ イにより精製し、ゆっくり結晶化してオレンジ色固形物を生成する油状物を得 た（１．８１ｇ、１２％）。この生成物はさらに精製することなく使用するのに 適していた；融点：４５〜４９℃。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）３００ＭＨｚ ７ ．５７〜７．４８（ｍ，２Ｈ）、７．３５〜７．２６（ｍ，８Ｈ）、２．７６（ ｓ，３Ｈ）。工程 ２ ：４−（２−メチル−４−フェニル−５−チアゾリル）ベンゼンスルホ ンアミドの製造 ＮａＣｌ／氷浴中で冷却させた、撹拌したクロロスルホン酸（１．３ml、１９ ．８９ミリモル）に、３，４−ジフェニル−２−メチルチアゾール（工程１）（ １．００ｇ，３．９８ミリモル）を添加した。この反応混合物を室温に温め、２ 時間撹拌した。追加のクロロスルホン酸（４ml）を加え、反応を室温で０．５時 間進行させた。この暗色の混合物を氷上に注意して注ぎ入れた。この水性相は油 性相から分離し、ジクロロメタンにより抽出した。この有機相を油性残留物と一 緒に集め、濃ＮＨ₄ＯＨ中に注ぎ入れた。４時間後に、この混合物をジクロロメ タンで希釈し、層を分離させ、ジクロロメタン相をＫＨＳＯ₄水溶液、ＮａＨＣ Ｏ₃水溶液、ブラインで洗浄し、濾過し、次いで減圧で濃縮し、オレンジ色固形 物を得た。この固形物をジクロロメタンとすり混ぜ、減圧濾過により採取して、 ４−（２−メチル−４−フェニル−５−チアゾリル）ベンゼンスルホンアミドを 黄褐色固形物として得た（０．４３２ｇ、３３％）；融点：２１２〜２１４℃。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ含有ＣＤＣｌ₃）３００ｍＨｚ ７．８１（ｄ，Ｊ＝８ ．６６Ｈｚ，２Ｈ）、７．４６〜７．３８（ｍ，４Ｈ）、７．３３〜７．２７（ ｍ，３Ｈ）、５．４２（広いｓ，＜１／部分的に交換）、２．７６（ｓ，３Ｈ） 。ＬＲＭＳ Ｍ＋Ｈ実測値ｍ／ｚ３３１。ＨＲＭＳ Ｍ＋Ｈ計算値ｍ／ｚ３３１ ．０５７５；実測値Ｍ＋Ｈｍ／ｚ３３１．０５６１。 生物学的評価 ラットカラゲニン足蹠浮腫試験 基本的に、ウインター（Winter）等により開示された材料、試薬および方法 ［プロク．ソシ．エクスプ．バイオール．メド（Proc．Soc．Exp．Biol．Med.） ，１１１，５４４（１９６２）］を使用して、カラゲニン足蹠浮腫試験を行った 。雄スプラギュー−ダウレイ（Sprague-Dawley）ラットを、各群毎に平均体重を で きるだけ近くして選択した。これらのラットは、試験前の１６時間にわたり水に 自由に接近できるようにして飼育した。これらのラットに、０．５％メチルセル ロースおよび０．０２５％界面活性剤を含有する媒質中に懸濁した被験物質また は媒質単独を経口投与した（１ml）。１時間後に、カラゲニン／無菌０．９％塩 類溶液の１％溶液０．１mlを足蹠注射により投与し、注射した方の足の容積を、 デジタルインジケーターを備えた圧力変換器に連結されている置換肢体容積計(d isplacement plethysmometer)により測定した。カラゲニンを注射して３時間後 に、足の容積を再度測定した。薬物処置動物群における平均足膨潤をプラセボ処 置動物群における平均足膨潤と比較し、浮腫の抑制パーセンテージを決定した［ オッターネス(Otterness)およびブリベン（Bliven）による非ステロイド系抗炎 症薬、ＮＳＡＩＤＳ類を試験するための実験室モデル（Laboratory Models for Testing ＮＳＡＩＤＳ，in Non-Steroidal Anti-Inflammatory Drugs）、ロンバ ルジノ（J．Lombardino）編集、１９８５］。この抑制％はこの方法で測定され た対照足容積からの減少％を示すものであり、本発明の選択された化合物に関す るデータを表Ｉにまとめて示す。 ラットカラゲニン−誘発鎮痛試験 このラットカラゲニン−誘発鎮痛試験は、基本的にハーグリーブス（Hargreav es）等により開示された材料、試薬および方法［ペイン（Pein），３２，７７（ １９８８）］を使用して行った。雄スプラギュー−ダウレイ(Sprague-Dawley)ラ ットを、ラットカラゲニン足蹠浮腫試験に関して上記したとおりに処置した。カ ラゲニン注射後の３時間の時点で、床下から位置が変えられる照射熱源として高 強度ランプを備えた透明な床を有する特製のプレキシガラス製容器にラットを入 れた。最初の２０分間の後に、注射した方の足または対側の注射していない方の 足のどちらかに対して熱刺激を開始した。足の引込み挙動により光が中断される と、光電子電池がランプを消し、かつまたタイマーを止めた。ラットがその足を 引込めるまでの時間を、対照群および薬物処置群について測定し、痛覚過敏によ る足引込み挙動の抑制パーセントを測定した。この結果を表Ｉに示す。 インビトロＣＯＸ ＩおよびＣＯＸ II活性の評価 本発明の化合物は、ＣＯＸ IIのインビトロ抑制を示した。例に示されている 本発明の化合物のＣＯＸ II抑制活性を下記の方法により測定した。 ａ．組換えＣＯＸバクロウイルス(baculoviruses)の調製 組換えＣＯＸ−１およびＣＯＸ−２は、ギエルス（Gierse）等により開示され たとおりに調製した［ジェイ．バイオケミ（J．Biochem.），３０５，４７９〜 ８４（１９９５）］。オライリイ（Ｄ．Ｒ．Ｏ´Reilly）等の方法［バクロウイ ルス発現ベクター（Baculovirus Expression Vectors）：実験室マニュアル（Ａ Laboratory Manual），（１９９２）］と同様の方法で、ヒトまたはマウスのＣ ＯＸ−１あるいはヒトまたはマウスのＣＯＸ−２のどちらかのコード領域を含む ２．０kb断片を、バクロウイルストランスファーベクターｐＶＬ１３９３［イン ビトロゲン（Invitrogen）］のＢａｍＨ１部位中にクローン形成して、ＣＯＸ− １およびＣＯＸ−２にかかわるバクロウイルストランスファーベクターを発現さ せた。バクロウイルストランスファーベクターＤＮＡ ４μｇを、リン酸カルシ ウム法により、線状バクロウイルスプラスミドＤＮＡ２００ngとともにＳＦ９昆 虫細胞（２×１０⁸）中にトランスフェクションすることによって単離した。こ の方法については、サマース(Ｍ．Ｄ．Summers)およびスミス(Ｇ．Ｅ．Smith)に よるバクロウイルスベクターおよび昆虫細胞培養法に関わる方法の手引き（Ａ M anual of Methods for Baculovirus Vectors and Insect Cell Culture Precedu res），テキサス アグリック．エクスプ．ステーション ブル．（Texas Agric ．Exp．Station Bull.），１５５５（１９８７）を参照することができる。組換 えウイルスは、３ラウンドのプラーク精製によって精製し、高力価（１０⁷〜１ ０⁸ｐｆｕ／ml）のウイルスストックを調製した。大規模生産の場合に、ＳＦ９ 昆虫細胞は、感染多重度(multiplicity of infection)が０．１であるように、 組換えバクロウイルス ストックを用いて、１０リットル発酵槽（０．５×１０⁶ ／ml）で感染させた。７２時間後に、これらの細胞を遠心分離し、この細胞ペ レットを、１％３−［（３−クロラミドプロピル）ジメチルアンモニオ］−１− プロパンスルホネート（ＣＨＡＰＳ）含有トリス（Tris）／ショ糖（５０mM：２ ５％、pH８）中でホモジネート化した。このホモジネートを、１０，０００ｘＧ で３０分間遠心分離し、生成した上清を−８０℃で保存し、その後にＣＯＸ活性 について評価した。 ｂ．ＣＯＸ−ＩおよびＣＯＸ−II活性の評価 ＣＯＸ活性は、放出されたプロスタグランジンを検出するためのＥＬＩＳＡを 用いて、生成ＰＧＥ₂／μｇ蛋白質／時間として評価した。相当するＣＯＸ酵素 を含有するＣＨＡＰＳ−可溶化昆虫細胞膜を、エピネフィリン、フェノールおよ びヘムを含有するリン酸カリウム緩衝液（５０mM、pH８．０）中でアラキドン酸 （１０μＭ）の添加の下に、インキュベートした。被験化合物は、アラキドン酸 を添加する前の１０〜２０分間、酵素とともに予備インキュベートした。このア ラキドン酸と酵素との間の反応はいずれも、３７℃／室温で１０分後に、この反 応混合物４０μｌを１６０μｌ ＥＬＩＳＡ緩衝液および２５μＭインドメタシ ン中に移すことによって停止させた。生成されたＰＧＥ₂は、標準ＥＬＩＳＡ技 法［カイマンケミカル(Cayman Chemical)］によって測定した。この結果を表II に示す。 これらの化合物のサイトカイン抑制活性を試験するための生物学的範例は、１ ９９５年５月１８日付けで発行されたＷＯ９５／１３０６７に見出される。 この組合わせ治療の活性化合物を、１種または２種以上の無毒性で医薬上で許 容される担体および（または）希釈剤および（または）助剤（ここで、これらを 総合して、「担体」材料と記す）および所望により、別の活性成分とともに含有 する一群の医薬製剤がまた、本発明の範囲内に包含される。本発明の活性化合物 は、いずれか適当な経路で、好ましくは投与経路に適する医薬製剤の形態でかつ また意図する処置に有効な用量で投与することができる。本発明の化合物および 製剤は、例えば経口投与、血管内投与、腹腔内投与、皮下投与、筋肉内投与また は局所投与することができる。 経口投与の場合に、この医薬製剤は、例えば錠剤、カプセル剤、懸濁液または 液体の形態であることができる。この医薬製剤は好ましくは、特定量の活性成分 を含有する一回薬用量単位の形態に調製することができる。このような用量単位 の例には、錠剤またはカプセル剤がある。活性成分はまた、製剤として注射によ り投与することができ、この場合には、例えば塩類溶液、デキストロースまたは 水を適当な担体として使用することができる。 治療活性の化合物の投与量および本発明の化合物および（または）製剤による 疾病症状を処置するための投与量計画は、対象の年齢、体重、性別および医療状 態、病気の重篤度、投与の経路および頻度、およびまた使用される特定の化合物 を包含する種々の因子に依存し、従って広く変えることができる。本発明の医薬 製剤は、約０．１〜２０００mgの範囲、好ましくは約０．５〜５００mgの範囲、 最も好ましくは約１〜１００mgの範囲で活性成分を含有することができる。一日 薬用量は、約０．０１〜１００mg／体重kg、好ましくは約０．５〜約２０mg／体 重kg、最も好ましくは約０．１〜１０mg／体重kgが適当である。この一日薬用量 は、一日のうち１〜４回の投薬量で投与することができる。 乾癬およびその他の皮膚疾患の場合には、本発明の化合物の局所用製剤を、一 日あたり２〜４回、被患領域に好ましく施用することができる。 眼または他の外部組織、例えば口および皮膚の炎症の場合には、活性成分を総 量で、例えば０．０７５〜３０重量／重量％、好ましくは０．２〜２０重量／重 量％、最も好ましくは０．４〜１５重量／重量％の量で含有する本発明の製剤を 、好ましくは局所用軟膏またはクリームとして、あるいは座薬として施用する。 軟膏を調製する場合に、活性成分はパラフィン軟膏基剤または水混和性軟膏基剤 とともに使用することができる。別法として、活性成分はまた、水中油型クリー ム基剤とともにクリームとして調剤することができる。所望により、このクリー ム基剤の水性相は、例えば少なくとも３０重量／重量％の多価アルコール、例え ばプロピレングリコール、ブタン−１，３−ジオール、マンニトール、ソルビト ール、グリセロール、ポリエチレングリコールおよびその混合物を含有すること ができる。局所用製剤は、活性成分の皮膚またはその他の被患領域を通る吸収ま たは浸透を強める化合物を含有していると好ましい。このような皮膚浸透強化剤 の例には、ジメチルスルホキシドおよび関連類縁体が包含される。本発明の化合 物はまた、経皮用具によって投与することもできる。好ましくは、局所投与は、 貯蔵体および有孔膜型または各種固形マトリックス型の貼付剤を用いて達成する ことができる。どちらの場合も、活性成分は、貯蔵体またはマイクロカプセルか ら膜を通して摂取者の皮膚または粘膜と接触している活性剤浸透性接着剤中に連 続的に放出される。活性成分が皮膚を通して吸収されると、この活性成分は制御 されている既定の流速で摂取者に投与される。マイクロカプセルの場合に、カプ セル封入剤がまた、膜として機能することができる。 本発明のエマルジョンの油相は、公知成分から公知方法に従い構成することが できる。この相は単に乳化剤からなることもできるが、脂肪またはオイルと少な くとも１種の乳化剤との混合物、または脂肪およびオイルの両方と少なくとも１ 種の乳化剤との混合物からなることもできる。安定剤としても作用する親油性乳 化剤とともに、親水性乳化剤を含有していると好ましい。オイルおよび脂肪の両 方を含有しているものもまた好ましい。同時に、乳化剤（１種または２種以上） は安定剤と一緒になって、または安定剤を伴わずにいわゆる乳化性ワックスを構 成しており、またワックスがオイルおよび脂肪と一緒になって、クリーム製剤の 油性分散相を形成している、いわゆる乳化性軟膏基剤を構成している。本発明の 製剤で使用するのに適する乳化剤およびエマルジョン安定剤には、中でも、ツイ ーン(Tween)６０、スパン（Span）８０、セトステアリルアルコール、ミリスチ ルアルコール、グリセリルモノステアレートおよびラウリル硫酸ナトリウムが包 含される。 本発明の製剤に適するオイルまたは脂肪の選択は、所望の化粧品的性質の獲得 に基づいている。この理由は、本発明の化合物がエマルジョン型医薬製剤に使用 されるオイル類の大部分に対して非常に小さい溶解性を有するからである。従っ て、本発明によるクリームは好ましくは、チューブまたはその他の容器からの漏 出を回避するのに適する粘ちょう度を有する、脂っぽくなく、無着色性であるべ きである。直鎖状または分枝鎖状の一塩基性または二塩基性アルキルエステル、 例えばジイソアジペート、イソセチルステアレート、ココナツ脂肪酸のプロピレ ングリコールジエステル、イソプロピルミリステート、デシルオレエート、イソ プロピルパルミテート、ブチルステアレート、２−エチルヘキシルパルミテート または分枝鎖状エステルの配合物を使用することができる。これらは要求される 性質に依存して、単独でまたは組合わせて使用することができる。別様では、高 融点を有する脂質、例えば白色軟質パラフィンおよび（または）液状パラフィン 、あるいはその他の鉱油を使用することもできる。 眼に局所投与するのに適する製剤には、活性成分が適当な担体中に、特に活性 成分用の水性溶剤中に溶解または懸濁されている点眼剤が包含される。このよう な製剤において、本発明の抗炎症活性成分は、０．５〜２０重量／重量％、有利 には０．５〜１０重量／重量％、特に約１．５重量／重量％の濃度で存在させる と好ましい。 治療の目的に対しては、この組合わせ発明の活性化合物は通常、指示投与経路 に適する１種または２種以上の助剤と組合わせることができる。経口投与の場合 には、化合物を乳糖、ショ糖、デンプン粉末、アルカン酸のセルロースエステル 、セルロースアルキルエステル、タルク、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシ ウム、酸化マグネシウム、リン酸および硫酸のナトリウムおよびカルシウム塩、 ゼラチン、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、およ び（または）ポリビニルアルコールと混合し、次いで投与に都合が良いように錠 剤またはカプセル剤に形成することができる。このようなカプセル剤または錠剤 は、制御放出剤を含有することができ、例えばヒドロキシプロピルメチルセルロ ース 中に活性化合物を分散させて、制御放出性を得ることができる。非経口投与用の 製剤は、水性または非水性の等張無菌注射溶液または懸濁液の形態であることが できる。これらの溶液および懸濁液は、経口投与用製剤における使用について前 記されている１種または２種以上の担体または希釈剤を含有する無菌の粉末また は顆粒から調製することができる。本発明の化合物は、水、ポリエチレングリコ ール、プロピレングリコール、エタノール、トウモロコシ油、綿実油、落花生油 、ゴマ油、ベンジルアルコーメ、塩化ナトリウム、および（または）各種緩衝液 中に溶解することができる。その他の助剤および投与形式は、調剤技術で充分に 、かつまた広く知られている。 本発明を特定の態様について説明したが、これらの詳細な説明は制限しようと するものであると解釈されるべきではない。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９６年８月１４日 【補正内容】 請求の範囲 １．下記式Ｉで表わされる化合物またはその医薬として許容される塩： 式中、Ｒ¹は、ヒドリド、ハロ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、シアノ、ニ トロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ カルボニル、アリールアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−ア ルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハ ロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、アリールアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アラ ルキルアミノ、カルボキシル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ア ルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル 、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノアルキル、ヘテロシクロ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、 アリール−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀ −アルコキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−シアノアルキル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル スルホニルアミノ、ヘテロアリールスルホニル−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、ヘテロ アリールスルホニル−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、アリールオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀− アルキル、アリール−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルオキシアルキル、アリールおよびヘ テロ環から選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基 として、ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ア ルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₀−ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アル コキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよびＣ₁〜Ｃ₂₀−アル キルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよく；そして Ｒ²およびＲ³は独立して、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルケニル、ア リール、Ｃ₃〜Ｃ₁₂−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₀−シクロアルケニルおよびヘテ ロ環から選択され、このＲ²およびＲ³は置換可能な位置に置換基として、 ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ_{2 0} −アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニ ル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルキニル、 シアノ、カルボキシル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキ シカルボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノカ ルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル アミノカルボニル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル 、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、ヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ_{1 0} −アルコキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロア ルコキシ、アミノ、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀− アルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択される１個または２個以上の基 を有していてもよく； 上記アリールは、側鎖としてまたは縮合して結合している１個、２個または３ 個の環を有する炭素環状芳香族環系を意味し； 上記ヘテロ環／ヘテロシクロは、ヘテロ原子が窒素、硫黄および酸素から選択 される、飽和、部分的飽和または不飽和のヘテロ原子含有環形態の基を意味し； 上記ヘテロアリールは、不飽和ヘテロ環基を意味する； ただしＲ²およびＲ³の一方は、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル またはアミノスルホニルにより置換されているアリールであり；さらにまたただ しＲ¹がメチルであり、そしてＲ³が４−メチルスルホニルフェニルである場合に は、Ｒ²は４−フルオロフェニルではなく；さらにまたただしＲ¹がメチルであり 、そしてＲ²が４−アミノスルホニルフェニルである場合には、Ｒ³は４−フルオ ロフェニルではなく；さらにまたただしＲ²およびＲ³は、α，α−ビス（メチル ）メタノールで置換されているフェニルではなく；そしてさらにまたただしＲ¹ がα，α−ビス（トリフルオロメチル）メタノールである場合には、Ｒ²は４− （メチルスルホニル）フェニルではない。 ２．Ｒ¹が、ヒドリド、ハロ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシ、シアノ、ニト ロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノカル ボニル、フェニルアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆− アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロ アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノ、フェニルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アラルキ ルアミノ、カルボキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコ キシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキ ルアミノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヘテロシクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アラルキル、 Ｃ₁〜Ｃ₆−シアノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、Ｃ₁〜 Ｃ₆−ヘテロアリールスルホニルアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヘテロアリールスルホニ ルハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アリールオキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アラルキルオ キシアルキル、アリールおよびヘテロ環から選択され、このアリールおよびヘテ ロ環基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ −アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルスルフィニル、 Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシア ルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシル およびＣ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノから選択される１個または２個以上の基を有し ていてもよく；そしてＲ²およびＲ³は独立して、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆ −アルケニル、アリール、Ｃ₃〜Ｃ₈−シクロアルキル、Ｃ₅〜Ｃ₈−シクロアル ケニルおよびヘテロ環から選択され；このＲ²およびＲ³は置換可能な位置に置換 基として、ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルスルフィニル、 Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルキニル、シアノ 、カルボキシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボ ニル、アミノカルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アルキルアミノカルボニル、 Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニ ル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロ アルキル、ヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヒドロキシアルキ ル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルコキシ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノ、ヘテロ環 およびニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい； 上記アリールは、側鎖としてまたは縮合して結合している１個、２個または３ 個の環を有する炭素環状芳香族環系を意味し； 上記ヘテロ環／ヘテロシクロは、ヘテロ原子が窒素、硫黄および酸素から選択 される、飽和、部分的飽和または不飽和のヘテロ原子含有環形態の基を意味し； 上記ヘテロアリールは、不飽和ヘテロ環基を意味する； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項１に記載の化合物。 ３．Ｒ¹が、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨウド、アミノ、メトキシ、エトキ シ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、シアノ、ニ トロ、ヒドロキシ、アミノカルボニル、ホルミル、アセチル、Ｎ−メチルアミノ カルボニル、Ｎ−フェニルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニ ル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノカルボニル、メチル、エチル、プロピル、 ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、エチレニル 、プロピレニル、ブテニル、ペンテニル、イソプロピレニル、イソブチレニル、 プロパルギル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロ ロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンフルオロエチル、ヘプタフ ルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオ ロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、Ｎ−メチ ルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−ｔ ｅｒｔ−ブチルアミノ、Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ メチルアミノ、カルボキシル、Ｎ−ベンジルアミノ、３，５−ジクロロフェニル アミノ、３，５−ジクロロフェノキシメチル、３−クロロフェノキシメチル、カ ルボキシメチル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、メチ ルアミノメチル、モルホリノメチル、ピロリジニルメチル、ピペラジニルメチル 、ピペリジニルメチル、ピリジルメチル、チエニルメチル、ベンジル、フェネチ ル、フェニルプロピル、シアノメチル、フェノキシメチル、ベンジルオキシメチ ル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ ｅｒｔ−ブトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イ ソブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、Ｎ−メチルスルホニルアミノ、 （２−チエニル）スルホニルメチル、（２−チエニル）スルホニルブロモメチル 、フェニル（この基は置換可能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロ モ、 メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔ ｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ 、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メチルチオ、メチルスルフィニル、フルオロメチル、ジ フルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリク ロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロ ロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、 ジクロロエチル、ジクロロプロピル、カルボキシメチル、メトキシカルボニル、 エトキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、ホルミル、メチルアミノおよ びジメチルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい） およびモルホリノ、ピロリジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピリジル、チ エニル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリル、イ ソキノリル、イミダゾリル、およびベンズイミダゾリル、フリル、ピロリル、ピ ラゾリルおよびトリアゾリルから選択されるヘテロ環基（この基は置換可能な位 置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、ブ チル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エ トキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メチル チオ、メチルスルフィニル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロ メチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエ チル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメ チル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロ ピル、カルボキシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アミノカ ルボニル、アミノ、ホルミル、メチルアミノおよびジメチルアミノから選択され る１個または２個以上の基を有していてもよい）から選択され；そしてＲ²およ びＲ³は独立して、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピ ル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、エチレニル、プロピレニル、ブテニル、ペ ンテニル、イソプロピレニル、イソブチレニル、フェニル、ナフチル、ビフェニ ル、ピリジル、チエニル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピラジニ ル、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、フリル、 ピロリル、ピラゾリル、トリアゾリル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ ペンチル、シクロヘキシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテ ニル、シクロヘキセニル、モルホリノ、ピロリジニル、ピペラジニルおよびピペ リジニルから選択され；そしてこのＲ²およびＲ³は置換可能な位置に置換基とし て、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチルチオ、メチルスルフィニル、メチル、エ チル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブ チル、エチレニル、プロピレニル、ブテニル、ペンテニル、イソプロピレニル、 イソブチレニル、プロパルギル、シアノ、カルボキシル、カルボキシメチル、メ トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ −ブトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブト キシカルボニル、ペントキシカルボニル、アミノカルボニル、ホルミル、アセチ ル、Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−フェニルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ メチルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノカルボニル、フルオ ロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメ チル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジ フルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオ ロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、ヒドロキシル、メトキシ、エ トキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ヒドロ キシメチル、トリフルオロメトキシ、アミノ、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメ チルアミノ、ピリジル、フリル、ピラジニル、ピロリル、ピラゾリル、モルホリ ノ、ピロリジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、トリアゾリルおよびニトロか ら選択される１個または２個以上の基を有していてもよい； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項２に記載の化合物。 ４．４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル） −２−（４−ピリジル）チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−クロロフェニル）−５−（４−メ チルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル ）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−メチルチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−トリフルオロメチルチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（２−チエニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−ベンジルアミノチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（１−プロピルアミノ）チアゾール； ２−［（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル］−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（２−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル） −５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル ］−２−（２−メチル−４−チアゾリル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−メトキシフェノキシ）メチル ］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−フェニルチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−２−ｎ−ヘキシルアミノ−５−（４−メチ ルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−ブチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスル ホニルフェニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−メチルアミノチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（４−メトキシフェニル）チアゾール； ２−エチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスル ホニルフェニル）チアゾール； ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−（３，５−ジクロロフェニルアミノ）−４−（４−フルオロフェニル） −５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−トリフルオロメチルチアゾール；および ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）チアゾール； からなる群の化合物およびそれらの医薬として許容される塩、あるいはプロドラ ッグから選択される請求項３に記載の化合物。 ５．下記式IIで表わされる化合物またはその医薬として許容される塩： 式中、Ｒ⁴は、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁵は、アリール、Ｃ₃〜Ｃ₁₂−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₀−シクロアルケニ ルおよびヘテロ環から選択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハ ロ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀ −アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニ ル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルキニル、 シアノ、カルボキシル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキ シカルボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノカ ルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀− アルキルアミノカルボニル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル−Ｎ−アリールアミノカ ルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、ヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、 Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ−Ｃ₁ 〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、ヘテロ環 およびニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよく；そし て Ｒ⁶は、ハロ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシル、アミ ノカルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノカルボニル、アリールアミ ノカルボニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀− ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、アリールアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ア ラルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₂₀−アルキルアミノアルキル、ヘテロシクロ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、アリ ール−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−シアノアルキル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ア ルキルスルホニルアミノ、ヘテロアリールスルホニル−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、 ヘテロアリールスルホニル−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アリールオ キシアルキル、アリール−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルオキシアルキル、アリールおよ びヘテロ環から選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置 換基として、ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀ −アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル 、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀− アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよびＣ₁〜Ｃ₂₀− アルキルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい； 上記アリールは、側鎖としてまたは縮合して結合している１個、２個または３ 個の環を有する炭素環状芳香族環系を意味し； 上記ヘテロ環／ヘテロシクロは、ヘテロ原子が窒素、硫黄および酸素から選択 される、飽和、部分的飽和または不飽和のヘテロ原子含有環形態の基を意味し； 上記ヘテロアリールは、不飽和ヘテロ環基を意味する。 ６．Ｒ⁴が、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルおよびアミノから選択され；Ｒ⁵が、アリ ール、Ｃ₃〜Ｃ₁₀−シクロアルキル、Ｃ₅〜Ｃ₈−シクロアルケニルおよびヘテロ アリールから選択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、Ｃ₁〜 Ｃ₆−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルス ルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀ −アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルキニル、シアノ、カルボキ シル、Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボニル、アミ ノカルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリー ルアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、Ｃ₁〜 Ｃ₆−Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキル 、ヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₆−ハロアルコキシ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆− Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択される１個または２ 個以上の基を有していてもよく；そしてＲ⁶が、ハロ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アル コキシ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキ ルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルケニル、Ｃ₂ 〜Ｃ₆−アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノ、 フェニルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アラルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボニ ルアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヘテロシクロアル キル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アラルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−シアノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アル キルスルホニルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヘテロアリールスルホニルアルキル、Ｃ₁〜 Ｃ₆−ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アリールオキシアル キル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アラルキルオキシアルキル、フェニル（この基は置換可能な位 置に置換基として、ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシ、Ｃ₁〜 Ｃ₆−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキ ル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ア ルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよびＣ₁〜Ｃ₆−アル キルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい）および ヘテロ環（この基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、Ｃ₁〜 Ｃ₁₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆− アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルコキシ、 Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボニル、アミノカル ボニル、アミノ、アシルおよびＣ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノから選択される１個ま たは２個以上の基を有していてもよい）から選択される； 上記アリールは、側鎖としてまたは縮合して結合している１個、２個または３ 個の環を有する炭素環状芳香族環系を意味し； 上記ヘテロ環／ヘテロシクロは、ヘテロ原子が窒素、硫黄および酸素から選択 される、飽和、部分的飽和または不飽和のヘテロ原子含有環形態の基を意味し； 上記ヘテロアリールは、不飽和ヘテロ環基を意味する； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項５に記載の化合物。 ７．下記式III で表わされる化合物またはその医薬として許容される塩： 式中、Ｒ⁴は、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁵は、アリール、Ｃ₃〜Ｃ₁₂−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₀−シクロアルケニ ルおよびヘテロ環から選択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハ ロ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀ −アルキルスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニ ル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルキニル、 シアノ、カルボキシル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキ シカルボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノカ ルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル アミノカルボニル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル 、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、ヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ_{2 0} −ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ− Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、ヘテロ 環およびニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよく；そ して Ｒ⁷は、ヒドリド、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、シアノ 、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシアルキル、カルボキ シル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキルおよびＣ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシカルボニル から選択され； 上記アリールは、側鎖としてまたは縮合して結合している１個、２個または３ 個の環を有する炭素環状芳香族環系を意味し； 上記ヘテロ環／ヘテロシクロは、ヘテロ原子が窒素、硫黄および酸素から選択 される、飽和、部分的飽和または不飽和のヘテロ原子含有環形態の基を意味し； 上記ヘテロアリールは、不飽和ヘテロ環基を意味する； ただしＲ⁷がメチルである場合には、Ｒ⁵は４−フルオロフェニルではなく；さ らにまたただしＲ⁵はα，α−ビス（メチル）メタノールにより置換されている フェニルではなく；そしてさらにまたただしＲ⁷がα，α−ビス（トリフルオロ メチル）メタノールである場合には、Ｒ⁴はメチルではない。 ８．Ｒ⁴が、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルおよびアミノから選択され；Ｒ⁵が、アリー ル、Ｃ₃〜Ｃ₁₀−シクロアルキル、Ｃ₅〜Ｃ₈−シクロアルケニルおよびヘテロア リールから選択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₆ −アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルスル ホニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀− アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルキニル、シアノ、カルボキシ ル、Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボニル、アミノ カルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリール アミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆ −Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキル、ヒ ドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ −ハロアルコキシ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アルキルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ，Ｎ −ジアルキルアミノ、ヘテロ環およ びニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよく；そしてＲ⁷ が、ヒドリド、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキル、シアノ、Ｃ₁ 〜Ｃ₆−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシアルキル、カルボキシル、 Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキルおよびＣ₁〜Ｃ₆−アルコキシキカルボニルから選 択され； 上記アリールは、側鎖としてまたは縮合して結合している１個、２個または３ 個の環を有する炭素環状芳香族環系を意味し； 上記ヘテロ環／ヘテロシクロは、ヘテロ原子が窒素、硫黄および酸素から選択 される、飽和、部分的飽和または不飽和のヘテロ原子含有環形態の基を意味し； 上記ヘテロアリールは、不飽和ヘテロ環基を意味する； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項７に記載の化合物。 ９．下記式IVで表わされる化合物またはその医薬として許容される塩： 式中、Ｒ¹は、ヒドリド、ハロ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、シアノ、ニ トロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ カルボニル、アリールアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−ア ルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハ ロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、アリールアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アラ ルキルアミノ、カルボキシル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ア ルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシカルボニル−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル 、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノアルキル、ヘテロシクロ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、 アリール−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀ −アルコキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−シアノアルキル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル スルホニルアミノ、ヘテロアリールスルホニル−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、ヘテロ アリールスルホニルハロ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、アリ ールオキシ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、アリール−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルオキシ−Ｃ₁ 〜Ｃ₂₀−アルキル、アリールおよびヘテロ環から選択され、このアリールおよ びヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、 Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルスル フィニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀ −カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル 、アミノ、アシルおよびＣ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノから選択される１個または ２個以上の基を有していてもよく； Ｒ⁴は、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁸は、ヘテロ環であり；このＲ⁸は置換可能な位置に置換基として、ハロ、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₀−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アル キル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₂₀−アルキニル、シアノ、カルボキシル 、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシカルボニル、アミノ カルボニル、アシル、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリー ルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノカルボニル、Ｎ −Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ハロアル キル、ヒドロキシル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−ヒドロキシアルキル 、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノ、Ｎ， Ｎ−ジ−Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノおよびニトロから選択される１個または２ 個以上の基を有していてもよく； 上記アリールは、側鎖としてまたは縮合して結合している１個、２個または３ 個の環を有する炭素環状芳香族環系を意味し； 上記ヘテロ環／ヘテロシクロは、ヘテロ原子が窒素、硫黄および酸素から選択 される、飽和、部分的飽和または不飽和のヘテロ原子含有環形態の基を意味し； 上記ヘテロアリールは、不飽和ヘテロ環基を意味する。 10．Ｒ¹が、ヒドリド、ハロ、アミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシ、シアノ、ニト ロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノカル ボニル、フェニルアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルケニ ル、Ｃ₂〜Ｃ₆−アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ −ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノ、フェニルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−ア ラルキルアミノ、カルボキシル、Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ア ルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ア ルキルアミノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヘテロシクロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アラルキ ル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヒドロキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆ −シアノアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヘテ ロアリールスルホニルアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ヘテロアリールスルホニルハロアル キル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アリールオキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アラルキルオキシアル キル、アリール（このアリール基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆ −アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルコキシ 、Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコキシカルボニル、アミノカ ルボニル、アミノ、アシルおよびＣ₁〜Ｃ₆−アルキルアミノから選択される１個 または２個以上の基を有していてもよい）およびヘテロ環（このヘテロ環基は置 換可能な位置に置換基として、ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルコ キシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルチオ、Ｃ₁〜Ｃ₆−アルキルスルフィニル、Ｃ₁〜Ｃ₆− ハロアルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆−ハロアルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₆−カルボキシアルキル、Ｃ₁ 〜Ｃ₆−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよびＣ₁ 〜Ｃ₆−アルキルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していても よい）から選択され； Ｒ⁴が、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルおよびアミノから選択され；そして Ｒ⁸が窒素含有ヘテロアリール基（この基は置換可能な位置に置換基として、 ハロ、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルコキシ、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキルチ オ、アミノおよびＣ₁〜Ｃ₂₀−アルキルアミノから選択される１個または２個以 上の基を有していてもよい）であり； 上記アリールは、側鎖としてまたは縮合して結合している１個、２個または３ 個の環を有する炭素環状芳香族環系を意味し； 上記ヘテロ環／ヘテロシクロは、ヘテロ原子が窒素、硫黄および酸素から選択 される、飽和、部分的飽和または不飽和のヘテロ原子含有環形態の基を意味し； 上記ヘテロアリールは、不飽和ヘテロ環基を意味する； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項９に記載の化合物。 11．Ｒ¹が、ヒドリド、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソ プロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル 、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペ ンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジク ロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル 、ジクロロプロピル、シアノメチル、シアノエチル、シアノプロピル、メチルア ミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ 、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、フェネチル、フェニルプロピル、ベンジル 、フェニルアミノ、チエニルスルホニルメチル、チエニルスルホニルブロモメチ ル、ベンジルアミノ、フェノキシメチル、３，５−ジクロロフェニルアミノ、３ ，５−ジクロロフェノキシメチル、３−クロロフェノキシメチル、メトキシカル ボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシ カルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ ニル、ペントキシカルボニル、フェニル（この基は置換可能な位置に置換基とし て、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、 イソプロポキシおよびtｅｒｔ−ブトキシから選択される１個または２個以上の 基を有していてもよい）およびチエニル、ピリジル、フリル、オキサゾリル、ピ リミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、チアゾリ ル、ピロリル、ピラゾリルおよびトリアゾリルから選択されるヘテロ環基（この 基は置換可能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチ ル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチルおよびｔｅｒｔ− ブチルから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい）から選択さ れ；Ｒ⁴が、メチルまたはアミノであり；そしてＲ⁸がピリジル、チエニル、チア ゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリニル 、イミダゾリルおよびベンズイミダゾリルから選択され、このＲ⁸は置換可能な 位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピ ル、 ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒ ｔ−ブトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、メチルチオ 、アミノ、Ｎ−メチルアミノおよびＮ，Ｎ−ジメチルアミノから選択される１個 または２個以上の基を有していてもよい； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項１０に記載の化合物。 12．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項１に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 13．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項２に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 14．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項３に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 15．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項４に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 16．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項５に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 17．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項６に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 18．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項７に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 19．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項８に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 20．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項９に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 21．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項１０に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 22．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項１１に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬組成物。 23．対象における炎症または炎症付随障害を処置するための医薬の製造におけ る、請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０または１１項のいずれか 一項に記載の化合物またはその医薬として許容される塩の使用。 24．炎症の処置に使用する、請求項２３に記載の使用。 25．炎症付随障害の処置に使用する、請求項２３に記載の使用。 26．炎症付随障害が関節炎である、請求項２５に記載の使用。 27．炎症付随障害が痛みである、請求項２５に記載の使用。 28．炎症付随障害が発熱である、請求項２５に記載の使用。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 277/28 Ｃ０７Ｄ 277/28 277/30 277/30 277/32 277/32 277/34 277/34 277/40 277/40 277/42 277/42 277/50 277/50 277/52 277/52 417/04 ２１３ 417/04 ２１３ ３３３ ３３３ 417/12 ３３３ 417/12 ３３３ 277/30 277/32 277/34 277/40 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)， ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，Ｃ Ｈ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ， ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＴ， ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 カーター，ジェフリー エス. アメリカ合衆国 63017 ミズーリ州チェ スターフィールド グラントレイ ドライ ブ 15321 (72)発明者 コリンズ，ポール ダブリュ. アメリカ合衆国 60015 イリノイ州ディ アーフィールド，ホーソーン プレイス 1557 (72)発明者 クラマー，スチーブン ダブリュ. アメリカ合衆国 60016 イリノイ州デス プレインズ，ケネス ドライブ 8832, アパートメント １エイ (72)発明者 ペニング，トマス ディー. アメリカ合衆国 60126 イリノイ州エル ムハースト，ラーチ 374 (72)発明者 ロジャー，ドナルド ジェイ．ジュニア アメリカ合衆国 63114 ミズーリ州セン ト ルイス，ハーフムーン ドライブ 2346，アパートメント アイ (72)発明者 ロジャーズ，ローランド エス. アメリカ合衆国 63117 ミズーリ州リッ チモンド ハイツ，アーリントン ドライ ブ 7431 【要約の続き】 を有していてもよい。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．下記式Ｉで表わされる化合物またはその医薬として許容される塩： 式中、Ｒ¹は、ヒドリド、ハロ、アミノ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、ヒド ロキシル、アミノカルボニル、アシル、アルキルアミノカルボニル、アリールア ミノカルボニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアル コキシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、カルボキシル、 カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、 アルキルアミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル、ヒドロキシアル キル、アルコキシアルキル、シアノアルキル、Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、 ヘテロアリールスルホニルアルキル、ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、 アリールオキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環 から選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として 、ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロア ルキル、ハロアルコキシ、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノ カルボニル、アミノ、アシルおよびアルキルアミノから選択される１個または２ 個以上の基を有していてもよく；そして Ｒ²およびＲ³は独立して、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル 、シクロアルケニルおよびヘテロ環から選択され；このＲ²およびＲ³は置換可能 な位置に置換基として、ハロ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル スルホニル、ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、アルキル、アルケニ ル、アルキニル、シアノ、カルボキシル、カルボキシアルキル、アルコキシカル ボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリ ールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、Ｎ−アルキル− Ｎ−アリールアミノカルボニル、ハロアルキル、ヒドロキシル、アルコキシ、ア ルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ−アル キルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択される １個または２個以上の基を有していてもよい； ただし、Ｒ²およびＲ³の一方は、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニ ルまたはアミノスルホニルにより置換されているアリールであり；さらにまたた だしＲ¹がメチルであり、そしてＲ³が４−アミノスルホニルフェニルである場合 には、Ｒ²は４−フルオロフェニルではなく；さらにまたただしＲ¹がメチルであ り、そしてＲ²が４−アミノスルホニルフェニルである場合には、Ｒ³は４−フル オロフェニルではなく；さらにまたただしＲ²およびＲ³は、α，α−ビス（メチ ル）メタノールで置換されているフェニルではなく；そしてさらにまたただしＲ¹ がα，α−ビス（トリフルオロメチル）メタノールである場合には、Ｒ²は４− （メチルスルホニル）フェニルではない。 ２．Ｒ¹が、ヒドリド、ハロ、アミノ、低級アルコキシ、シアノ、ニトロ、ヒ ドロキシル、アミノカルボニル、アシル、低級アルキルアミノカルボニル、フェ ニルアミノカルボニル、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級 ハロアルキル、低級ハロアルコキシ、低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、低 級アラルキルアミノ、カルボキシル、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシ カルボニル、低級アルコキシカルボニルアルキル、低級アルキルアミノアルキル 、低級ヘテロシクロアルキル、低級アラルキル、低級シアノアルキル、低級Ｎ− アルキルスルホニルアミノ、低級ヘテロアリールスルホニルアルキル、低級ヘテ ロアリールスルホニルハロアルキル、低級アリールオキシアルキル、低級アラル キルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環から選択され、このアリールおよ びヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低級アルキル、低級アル コキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級ハロアルキル、低 級ハロアルコキシ、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、アミ ノカルボニル、アミノ、アシルおよび低級アルキルアミノから選択される１個ま たは２個以上の基を有していてもよく；そしてＲ²およびＲ³は独立して、低級ア ルキル、低級アルケニル、アリール、低級シクロアルキル、低級シクロアルケニ ルおよびヘテロ環から選択され；このＲ²およびＲ³は置換可能な位置に置換基と して、ハロ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキル、 低級アルケニル、低級アルキニル、シアノ、カルボキシル、低級カルボキシアル キル、低級アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アシル、低級Ｎ−アルキ ルアミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキル アミノカルボニル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、低級ハ ロアルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシ、低級ヒドロキシアルキル、低級ハ ロアルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択さ れる１個または２個以上の基を有していてもよい； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項１に記載の化合物。 ３．Ｒ¹が、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨウド、アミノ、メトキシ、エトキ シ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、シアノ、ニ トロ、ヒドロキシ、アミノカルボニル、ホルミル、アセチル、Ｎ−メチルアミノ カルボニル、Ｎ−フェニルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニ ル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノカルボニル、メチル、エチル、プロピル、 ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、エチレニル 、プロピレニル、ブテニル、ペンテニル、イソプロピレニル、イソブチレニル、 プロパルギル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロ ロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンフルオロエチル、ヘプタフ ルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオ ロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、Ｎ−メチ ルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ−ｔ ｅｒｔ−ブチルアミノ、Ｎ−ペンチルアミノ、Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ メチルアミノ、カルボキシル、Ｎ−ベンジルアミノ、３，５−ジクロロフェニル アミノ、３，５−ジクロロフェノキシメチル、３−クロロフェノキシメチル、カ ルボキシメチル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、メチ ルアミノメチル、モルホリノメチル、ピロリジニルメチル、ピペラジニルメチル 、ピペリジニルメチル、ピリジルメチル、チエニルメチル、ベンジル、フェネチ ル、フェニルプロピル、シアノメチル、フェノキシメチル、ベンジルオキシメチ ル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ ｅｒｔ−ブトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、 イソブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、Ｎ−メチルスルホニルアミノ 、（２−チエニル）スルホニルメチル、（２−チエニル）スルホニルブロモメチ ル、フェニル（この基は置換可能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブ ロモ、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチ ル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロ ポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メチルチオ、メチルスルフィニル、フルオロメチ ル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、 トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオ ロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロ ピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、カルボキシメチル、メトキシカルボ ニル、エトキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、ホルミル、メチルアミ ノおよびジメチルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していても よい）およびモルホリノ、ピロリジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、ピリジ ル、チエニル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリ ル、イソキノリル、イミダゾリル、およびベンズイミダゾリル、フリル、ピロリ ル、ピラゾリルおよびトリアゾリルから選択されるヘテロ環基（この基は置換可 能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピ ル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキ シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、 メチルチオ、メチルスルフィニル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフ ルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフル オロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフル オロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロ ロプロピル、カルボキシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ア ミノカルボニル、アミノ、ホルミル、メチルアミノおよびジメチルアミノから選 択される１個または２個以上の基を有していてもよい）から選択され；そしてＲ² およびＲ³は独立して、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプ ロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、エチレニル、プロピレニル、ブテニル 、ペンテニル、イソプロピレニル、イソブチレニル、フェニル、ナフチル、ビフ ェニ ル、ピリジル、チエニル、チアゾリル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピラジニ ル、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、ベンズイミダゾリル、フリル、 ピロリル、ピラゾリル、トリアゾリル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロ ペンチル、シクロヘキシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテ ニル、シクロヘキセニル、モルホリノ、ピロリジニル、ピペラジニルおよびピペ リジニルから選択され；そしてこのＲ²およびＲ³は置換可能な位置に置換基とし て、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチルチオ、メチルスルフィニル、メチル、エ チル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブ チル、エチレニル、プロピレニル、ブテニル、ペンテニル、イソプロピレニル、 イソブチレニル、プロパルギル、シアノ、カルボキシル、カルボキシメチル、メ トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ −ブトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブト キシカルボニル、ペントキシカルボニル、アミノカルボニル、ホルミル、アセチ ル、Ｎ−メチルアミノカルボニル、Ｎ−フェニルアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジ メチルアミノカルボニル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノカルボニル、フルオ ロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメ チル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジ フルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオ ロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、ヒドロキシル、メトキシ、エ トキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ヒドロ キシメチル、トリフルオロメトキシ、アミノ、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメ チルアミノ、ピリジル、フリル、ピラジニル、ピロリル、ピラゾリル、モルホリ ノ、ピロリジニル、ピペラジニル、ピペリジニル、トリアゾリルおよびニトロか ら選択される１個または２個以上の基を有していてもよい； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項２に記載の化合物。 ４．４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル） −２−（４−ピリジル）チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−クロロフェニル）−５−（４−メ チルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル ）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−メチルチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−トリフルオロメチルチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（２−チエニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−ベンジルアミノチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（１−プロピルアミノ）チアゾール； ２−［（３，５−ジクロロフェノキシ）メチル］−４−（４−フルオロフェ ニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ２−（２−クロロフェニル）−４−（２−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−（（３−クロロフェノキシ）メチル）−４−（４−フルオロフェニル） −５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル ］−２−（２−メチル−４−チアゾリル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−２−［（４−メトキシフェノキシ）メチル ］−５−［４−（メチルスルホニル）フェニル］チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−フェニルチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−２−ｎ−ヘキシルアミノ−５−（４−メチ ルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−ブチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスル ホニルフェニル）チアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−メチルアミノチアゾール； ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（４−メトキシフェニル）チアゾール； ２−エチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスル ホニルフェニル）チアゾール； ２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ−４−（４−フルオロフェニル）−５−（４− メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ２−（３，５−ジクロロフェニルアミノ）−４−（４−フルオロフェニル） −５−（４−メチルスルホニルフェニル）チアゾール； ５−（４−フルオロフェニル）−４−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−トリフルオロメチルチアゾール；および ４−（４−フルオロフェニル）−５−（４−メチルスルホニルフェニル）− ２−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）チアゾール； からなる群の化合物およびそれらの医薬として許容される塩あるいはプロドラッ グから選択される請求項３に記載の化合物。 ５．下記式IIで表わされる化合物またはその医薬として許容される塩： 式中、Ｒ⁴は、アルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁵は、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニルおよびヘテロ環から選 択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、アルキルチオ、アル キルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アミノスル ホニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、カルボキシル、カルボキ シアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−アルキル アミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ カルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、ハロアルキル、ヒ ドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ− アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択さ れる１個または２個以上の基を有していてもよく；そして Ｒ⁶、ハロ、アミノ、アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル 、アシル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルケニル 、アルキニル、ハロアルコキシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキル アミノ、アルコキシカルボニルアルキル、アルキルアミノアルキル、ヘテロシク ロアルキル、アラルキル、シアノアルキル、Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、ヘ テロアリールスルホニルアルキル、ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、ア リールオキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環か ら選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として、 ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロアル キル、ハロアルコキシ、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカ ルボニル、アミノ、アシルおよびアルキルアミノから選択される１個または２個 以上の基を有していてもよい。 ６．Ｒ⁴が、低級アルキルおよびアミノから選択され；Ｒ⁵が、アリール、低級 シクロアルキル、低級シクロアルケニルおよびヘテロアリールから選択され；こ のＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低級アルキルチオ、低級アルキ ルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級ハロアルキルスルホニル、アミ ノスルホニル、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、シアノ、カル ボキシル、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、アミノカルボ ニル、アシル、低級Ｎ−アルキルアミノカルボニル、低級Ｎ−アリールアミノカ ルボニル、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ− アリールアミノカルボニル、低級ハロアルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシ 、低級ヒドロキシアルキル、低級ハロアルコキシ、アミノ、低級Ｎ−アルキルア ミノ、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択される１ 個または２個以上の基を有していてもよく；そしてＲ⁶が、ハロ、アミノ、低 級アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノカルボニル、アシル、低級アルキ ルアミノカルボニル、低級アリールアミノカルボニル、低級アルケニル、低級ア ルキニル、低級ハロアルコキシ、低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、低級ア ラルキルアミノ、低級アルコキシカルボニルアルキル、低級アルキルアミノアル キル、低級ヘテロシクロアルキル、低級アラルキル、低級シアノアルキル、低級 Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、低級ヘテロアリールスルホニルアルキル、低級 ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、低級アリールオキシアルキル、低級ア ラルキルオキシアルキル、フェニル（この基は置換可能な位置に置換基として、 ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフ ィニル、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキシ、低級カルボキシアルキル、低 級アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アミノ、アシルおよび低級アルキ ルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい）およびヘ テロ環（この基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低級アルキル、低級ア ルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級ハロアルキル、 低級ハロアルコキシ、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、ア ミノカルボニル、アミノアシルおよび低級アルキルアミノから選択される１個ま たは２個以上の基を有していてもよい）から選択される； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項５に記載の化合物。 ７．下記式III で表わされる化合物またはその医薬として許容される塩： 式中、Ｒ⁴は、アルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁵は、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニルおよびヘテロ環から選 択され；このＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、アルキルチオ、アル キルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アミノスル ホニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シアノ、カルボキシル、カルボキ シアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アシル、Ｎ−アルキル アミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ カルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、ハロアルキル、ヒ ドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、Ｎ− アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択さ れる１個または２個以上の基を有していてもよく；そして Ｒ⁷は、ヒドリド、アルキル、ハロアルキル、シアノ、ヒドロキシアルキル、 アルコキシアルキル、カルボキシル、カルボキシアルキルおよびアルコキシカル ボニルから選択され； ただしＲ⁷がメチルである場合には、Ｒ⁵は４−フルオロフェニルではなく；さ らにまたただしＲ⁵はα，α−ビス（メチル）メタノールにより置換されている フェニルではなく；そしてさらにまたただしＲ⁷がα，α−ビス（トリフルオロ メチル）メタノールである場合には、Ｒ⁴はメチルではない。 ８．Ｒ⁴が、低級アルキルおよびアミノから選択され；Ｒ⁵が、アリール、低級 シクロアルキル、低級シクロアルケニルおよびヘテロアリールから選択され；こ のＲ⁵は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低級アルキルチオ、低級アルキ ルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、低級ハロアルキルスルホニル、アミ ノスルホニル、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、シアノ、カル ボキシル、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、アミノカルボ ニル、アシル、低級Ｎ−アルキルアミノカルボニル、低級Ｎ−アリールアミノカ ルボニル、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ− アリールアミノカルボニル、低級ハロアルキル、ヒドロキシル、低級アルコキシ 、低級ヒドロキシアルキル、低級ハロアルコキシ、アミノ、低級Ｎ−アルキルア ミノ、低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ、ヘテロ環およびニトロから選択される１ 個または２個以上の基を有していてもよく；そしてＲ⁷が、ヒドリド、低級アル キル、低級ハロアルキル、シアノ、低級ヒドロキシアルキル、低級アルコキシア ルキル、カルボキシル、低級カルボキシアルキルおよび低級アルコキシキカルボ ニルから選択される； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項７に記載の化合物。 ９．下記式IVで表わされる化合物またはその医薬として許容される塩： 式中、Ｒ¹は、ヒドリド、ハロ、アミノ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、ヒド ロキシル、アミノカルボニル、アシル、アルキルアミノカルボニル、アリールア ミノカルボニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアル コキシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、カルボキシル、 カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、 アルキルアミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル、ヒドロキシアル キル、アルコキシアルキル、シアノアルキル、Ｎ−アルキルスルホニルアミノ、 ヘテロアリールスルホニルアルキル、ヘテロアリールスルホニルハロアルキル、 アリールオキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、アリールおよびヘテロ環 から選択され、このアリールおよびヘテロ環基は置換可能な位置に置換基として 、ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、ハロア ルキル、ハロアルコキシ、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノ カルボニル、アミノ、アシルおよびアルキルアミノから選択される１個または２ 個以上の基を有していてもよく； Ｒ⁴は、アルキルおよびアミノから選択され； Ｒ⁸は、ヘテロ環であり；このＲ⁸は置換可能な位置に置換基として、ハロ、ア ルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シア ノ、カルボキシル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニル、アミノカルボ ニル、アシル、Ｎ−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル 、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカ ルボニル、ハロアルキル、ヒドロキシル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、ハ ロアルコキシ、アミノ、Ｎ−アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノおよび ニトロから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい。 10．Ｒ¹が、ヒドリド、ハロ、アミノ、低級アルコキシ、シアノ、ニトロ、ヒ ドロキシル、アミノカルボニル、アシル、低級アルキルアミノカルボニル、フェ ニルアミノカルボニル、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、低級 ハロアルキル、低級ハロアルコキシ、低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、低 級アラルキルアミノ、カルボキシル、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシ カルボニル、低級アルコキシカルボニルアルキル、低級アルキルアミノアルキル 、低級ヘテロシクロアルキル、低級アラルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級 アルコキシアルキル、低級シアノアルキル、低級Ｎ−アルキルスルホニルアミノ 、低級ヘテロアリールスルホニルアルキル、低級ヘテロアリールスルホニルハロ アルキル、低級アリールオキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、アリール （このアリール基は置換可能な位置に置換基として、ハロ、低級アルキル、低級 アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級ハロアルキル 、低級ハロアルコキシ、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、 アミノカルボニル、アミノ、アシルおよび低級アルキルアミノから選択される１ 個または２個以上の基を有していてもよい）およびヘテロ環（このヘテロ環基は 置換可能な位置に置換基として、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級ア ルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキ シ、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、 アミノ、アシルおよび低級アルキルアミノから選択される１個または２個以上の 基を有していてもよい）から選択され；Ｒ⁴が、低級アルキルおよびアミノから 選択され；そしてＲ⁸が窒素含有ヘテロアリール基（この基は置換可能な位置に 置換基として、ハロ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アミノおよびアル キルアミノから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい）である ； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項９に記載の化合物。 11．Ｒ¹が、ヒドリド、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソ プロピル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル 、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペ ンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジク ロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル 、 ジクロロプロピル、シアノメチル、シアノエチル、シアノプロピル、メチルアミ ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、 ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、フェネチル、フェニルプロピル、ベンジル、 フェニルアミノ、チエニルスルホニルメチル、チエニルスルホニルブロモメチル 、ベンジルアミノ、フェノキシメチル、３，５−ジクロロフェニルアミノ、３， ５−ジクロロフェノキシメチル、３−クロロフェノキシメチル、メトキシカルボ ニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカ ルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ ル、ペントキシカルボニル、フェニル（この基は置換可能な位置に置換基として 、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イ ソプロポキシおよびｔｅｒｔ−ブトキシから選択される１個または２個以上の基 を有していてもよい）およびチエニル、ピリジル、フリル、オキサゾリル、ピリ ミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリニル、イミダゾリル、チアゾリル 、ピロリル、ピラゾリルおよびトリアゾリルから選択されるヘテロ環基（この基 は置換可能な位置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル 、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、イソブチルおよびｔｅｒｔ−ブ チルから選択される１個または２個以上の基を有していてもよい）から選択され ； Ｒ⁴が、メチルまたはアミノであり；そしてＲ⁸が、ピリジル、チエニル、チアゾ リル、オキサゾリル、ピリミジニル、ピラジニル、キノリル、イソキノリニル、 イミダゾリルおよびベンズイミダゾリルから選択され、このＲ⁸は置換可能な位 置に置換基として、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、イソプロピル 、ｔｅｒｔ−ブチル、イソブチル、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔｅ ｒｔ−ブトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、メチルチ オ、アミノ、Ｎ−メチルアミノおよびＮ，Ｎ−ジメチルアミノから選択される１ 個または２個以上の基を有していてもよい； 化合物またはその医薬として許容される塩である請求項１０に記載の化合物。 12．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項１に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 13．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項２に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 14．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項３に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 15．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項４に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 16．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項５に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 17．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項６に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 18．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項７に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 19．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項８に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 20．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項９に記載の化合 物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 21．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項１０に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 22．治療有効量の化合物を含有しており、この化合物が請求項１１に記載の化 合物の一族またはその医薬として許容される塩から選択される医薬製剤。 23．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項１に記載の化合 物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 24．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項２に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 25．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項３に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 26．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項４に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 27．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項５に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 28．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項６に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 29．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項７に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 30．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項８に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 31．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項９に記 載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 32．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項１０に 記載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 33．対象における炎症または炎症付随障害の処置方法であって、上記障害を有 するか、または上記障害を受ける可能性がある対象に治療有効量の請求項１１に 記載の化合物またはその医薬として許容される塩を投与することからなる方法。 34．炎症の処置に使用する、請求項２３に記載の方法。 35．炎症付随障害の処置に使用する、請求項２３に記載の方法。 36．炎症付随障害が関節炎である、請求項３５に記載の方法。 37．炎症付随障害が痛みである、請求項３５に記載の方法。 38．炎症付随障害が発熱である、請求項３５に記載の方法。