JPH10507111A - 多孔性の微細製作されたポリマー膜構造物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ポリマー膜構造物がリソグラフィー又はエッチングによってポリイミドフィルムから微細製作される。微細製作された構造物は、ホスト組織中への埋込みと埋込まれた際に新しい血管構造の促進とに寄与する体系的に変化させた寸法と幾何学を有する。

Description

【発明の詳細な説明】 多孔性の微細製作されたポリマー膜構造物 本発明の分野 本発明は、一般的には体組織中へと材料を移植するためのシステムと方法に関 する。より具体的な意味においては、本発明は、所望の治療効果（例えば糖尿病 の治療等のような）を達成するために、生存細胞を多孔性膜構造物内に入れてホ スト組織中に移植するための構造物と方法に関する。 本発明の背景 もし下等の動物からの組織がヒト中へと移植されることができるならば、多く の病気が一層生理学的な仕方で治療されることができよう。しかしながら、不一 致の異種移植に伴う問題は、移植された組織の超急性拒否反応である。 免疫隔離は、その名が意味するように、ホストの免疫システムによる攻撃から の、移植された器官、組織、細胞、その他の保護である。ホストの免疫システム からの隔離は半透膜の使用によって達成される。従って、免疫隔離の利用で、異 種移植を実行することが理論的に可能である。しかしながら、主として移植され たポリマー膜への異物組織応答のために、この方法はうまく行っていない。 免疫隔離の概念は、３０年近く前にChang によって提案された（Chang，T.M.S .:Semipermeable microcapsules．Science，146，524〜527(1964)を見よ）。そ れ以来、多くの研究グループが隔離された組織、特に膵島の移植のために免疫隔 離膜を用いてきた。「生物 人工的」という語は生物学的に活性な、しかし人工的な半多孔性膜によって免疫 学的又は他の攻撃から保護された、細胞又は細胞器官の使用を意味する。この膜 は、免疫担当細胞、免疫グロブリン類等のような高分子量蛋白質及び他の移植片 排除奏効細胞メカニズム等の通過を排除する一方で、栄養、電解質、酸素、そし て生物活性の分泌性産成物等のような低分子量物質の通過を許容すべきである。 免疫隔離と生物人工的器官の概念は、糖尿病の治療のための膵臓移植の使用の ため特に重要である。糖尿病は、合衆国内で第７番目に多い死因であり、約35,0 00の年間死亡者を伴う。成人人口の１〜２％が糖尿病を有すると推定される。 生物人工的膵臓（免疫隔離されたランゲルハンス島）が、全膵臓と保護されて いないヒトランゲルハンス島の移植の問題にたとえ対処してきたとしても、それ は別の問題、即ち、ランゲルハンス島を取り囲む人工膜への組織反応を生じた。 これらの装置の失敗の主な理由は、移植片の周りの繊維状異物カプセルの発達で ある。 異物反応は、組織−膜界面における炎症性の巨細胞とマクロファージによって 特徴付けられる。一次のマクロファージ層は、埋込み物の表面に平行に配向され た、コラーゲンマトリックス中の繊維芽細胞の多くの層によって通常覆い被せら れる。繊維形成は数百μｍの厚さになる可能性があり、そして典型的には無血管 である。これが栄養と分泌性産成物に対する拡散障壁をつくりだす。包囲された 組織は本質的に「飢え」、そして壊死し、生物人工的器官の失敗に至る。 生体材料研究の大きな領域が、埋込まれた材料への組織応答に対 処することに関心を持っている。特に、埋込まれたポリマー膜に対して発達した 繊維形成反応は、多くの移植可能な装置に関する主たる懸念である。幾つかの証 拠が、材料の表面の化学的性質は決定因子ではなく、むしろ組織応答に影響する のは界面の微細構造であることを示してきた。 最近、Brauker らによる免疫隔離膜を用いた研究が、それらの血管化特性は膜 の微細構造に依存することを示してきた（Brauker，J.,Martinson，L.，Young， S.，Johnson，R．C.: Neovascularization at a membrane-tissue interface is dependent on microarchitecture．Transactions of the Fourth World Biomat erials Congress April 24〜28，1992 p.685 ; Brauker，J.,Martinson，L.，Ca rr-Brendel，V.E.，and Johnson，R．C.: Neovascularization of a PTFE membr ane for use as the outer layer of an immunoisolation device．Transaction s of the Fourth World Biomaterials Congress April 24〜28，1992 p.676 ; B rauker，J.,Martinson，L.，Hill，R.，and Young，S．: Neovascularization o f immunoisolation membranes : The effect of membrane architecture and en capsulated tissue．Transplantation 1:163,1992; and Brauker，J.,Martinson ，L．A.，Hill，R．S.，Young，S．K.，Carr-Brendel，V.E.，and Johnson，R． C.: Neovascularization of immunoisolation membranes : The effect of memb rane architecture and encapsulated tissue．Transplantation Proceedings 2 4:2924,1992を見よ）。 Brauker らは、同じタイプの材料の膜（それらの微細構造のみ異なる）が、移 植されたときホスト組織−材料界面の近くの血管構造 の数において、生物学的応答に著しい相違を生じることを観察してきた。 Brauker らは、該相違を次のように特徴付けてきた。 密接した血管構造を発達しなかった膜が５μｍより大きな直径を有する「 板状の」特性を有する窪みを持っていたのに対して、密接した血管構造を有した 膜は、細胞浸潤を許容し、そして５μｍより小さい直径を有する膜構造（ストラ ンドまたは繊維）によって形成された孔を有した。血管化された膜の組織学的検 査が、侵入している炎症性細胞（ホストの）が丸まった形態を有している一方、 密な血管構造を有しない膜中では該細胞が平らになっていることを明らかにした 。 Brauker らの仮説は、膜構造が細胞形態を決定し、そして丸まった細胞は、次 いで血管構造の形成を促進するまだ知られていない何らかの走性因子を分泌する ことである。 発明の要約 本発明は微細製作によって形成される層状になった多孔性ポリマー膜構造物を 提供する。その微細製作された構造は、ホスト組織中に埋込むのに適した化学的 不活性性と頑丈な機械的特性とを有する、精密に規定された３次元的多孔性構造 を有する。 本発明の一つの面は、ホスト組織中に埋込むための多孔性構造を提供する。該 構造は微細製作されたポリマーフィルムの複数層（各層は、孔と、ストランドを 規定する中間の空間所定の幾何学的パターンを有する。）を含む。 好ましい一具体例においては、多孔性構造は、ホスト組織中に埋込まれている 間生存細胞を保持するためのチャンバーを形成する。 好ましい一実施例においては、層のうちのあるものの幾何学的パターンは層のう ちの別のものの幾何学的パターンと異なる。 本発明者は、異なった幾何学的パターンを有する微細製作されたポリマーフィ ルムの個々の層を積み重ねることによって、３次元的内部構造がつくられること を見出した。該構造は、ホスト組織と多孔性構造物の間の界面の近くに血管構造 の成長を促進するためのBrauker らによって同定された幾何学を真似る。 好ましい一具体例において、膜構造物は、孔と中間ストランドの微細製作され た幾何学的パターンを有するポリイミドフィルムの層を含む。該構造物は、当該 第一の幾何学的パターンとは異なった微細製作された幾何学的パターンを有する 二つの他の層の間に挟まれた、微細製作された第一の幾何学的パターンを有する 一つの層を含む。第一の幾何学的パターンは、約５μｍよりも小さなストランド によって間隔をあけられた、約２０μｍよりも大きい断面直径を有する孔を含む 。他の幾何学的パターンは、約２μｍ以下の一層小さなストランドによって間隔 をあけられた、約２０μｍ以下の断面寸法を有する一層小さい孔を含む。 本発明の他の一面は、ホスト組織中に生存細胞を埋込む方法を提供する。該方 法は生存細胞を保持するためのチャンバーを形成する。チャンバーは、微細製作 されたフィルムの複数層（各層は、孔と、ストランドを規定する中間の空間との 所定の幾何学的パターンを有する）を含む壁構造を有する。該方法は、該チャン バー内に生存細胞を配置し、そして該室とそれが含む生存細胞をホスト組織内へ 埋込む。 図面の簡単な記述 図１Ａと１Ｂは、本発明の特徴を具体化したポリマーフィルム材料の複数層を 含む多孔性膜構造物を含む埋込みアセンブリーの透視図（図１Ａは人の手に対し て縮尺され、そして図１Ｂは拡大されている）である。 図１Ｃは、図１Ｂ中の線１Ｃ−１Ｃに一般的に沿ってとった埋込みアセンブリ ーの側方断面図である。 図２は、図１中に示された膜構造の外側多孔性層が有する孔とストランドの幾 何学的パターンの上面図である。 図３Ａと３Ｂは、図１中に示された多孔性膜構造物の一次フィルム層を微細製 作するために用いられることができる代表的マスクデザインである。 図４は、図１中に示された多孔性膜構造物のスペーサーフィルム層を微細製作 するために用いることができる代表的マスクデザインである。 図５Ａ／Ｂ／Ｃは、光感受性ポリイミドフィルムを用いた多孔性膜構造物の一 次層及びスペーサー層を微細製作するプロセスの概要的な図である。 図６Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅは、エッチング可能なポリイミドフィルムを用いた多 孔性膜構造物の一次層及びスペーサー層を微細製作するプロセスの概要的な図で ある。 図７Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄは、6.2 μm の開口と2.8 μm のストランドを有する、パ ターニングされた一次フィルム層(U7501，U4212,及びHTR3-100ポリイミド)の走 査型電子顕微鏡写真を示す（フィルムを微細製作する中で用いたシリコン基板へ とまだ取り付けられている）。 図８Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄは、10μm の空間と2 μm のストランドによって、パター ニングされた一次フィルム層(U7501，U4212,及びHTR3-100ポリイミド)の走査型 電子顕微鏡写真を示す（フィルムを製作する中で用いたシリコン基板へとまだ取 り付けられている）。 図９Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄは、50μm の孔と4.5 μm のストランドによって、パター ニングされたスペーサーフィルム層(U7501，U4212,及びHTR3-100ポリイミド)の 走査型電子顕微鏡写真を示す(4 μm の厚みを有する)(フィルムを製作する中で 用いたシリコン基板へとまだ取り付けられている)。 図10Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄは、図１中に示された複数層多孔性膜構造物を形成するた めの一次層及びスペーサー層を積み重ねるプロセスの概要的な図である。 図11Ａ／Ｂは、本発明の特徴を具体化した複数３層積み重ね膜構造物(U4212及 びHTR3-100ポリイミド)の走査型電子顕微鏡写真を示す。 図12Ａ／Ｂ／Ｃは、本発明の特徴を具体化した複数５層積み重ね膜構造物(U75 01，U4212,及びHTR3-100ポリイミド)の走査型顕微鏡写真を示す。そして 図13Ａ／Ｂは、本発明の特徴を具体化した他の複数層積み重ね膜構造物(U4212 ポリイミド)の走査型電子顕微鏡写真を示す。 本発明は、その精神または本質的特徴から逸脱することなく、幾つかの形にお いて具体化されてよい。本発明の範囲は、請求の範囲に先行する具体的記述にお いて規定されるよりもむしろ、添付の請求の範囲において規定される。従って、 請求の範囲と等価の意義および範囲に入る全ての具体例が、請求の範囲によって 包含されるこ とが意図されている。 好ましい具体例の記述 図１Ａ／Ｂ／Ｃは、本発明の特徴を具体化した埋込みアセンブリー１０を示す 。 アセンブリー１０は、ホスト組織中に埋込まれている間生存細胞１４を保持す るためのチャンバー１２（図１Ｃを見よ）を形成する。埋込まれた細胞１４は、 ホストが病気又は傷害のためにそれ自身では産生できない生物学的産生物を生み 出す。例えば、チャンバー１２は、糖尿病ホスト中へと放出されて利用されるた めのインシュリンを生み出す、膵臓細胞（「島」と呼ばれる）のクラスターを担 持することができる。 図１中に示された具体例中では、アセンブリー１０は輪状のハウジング２４内 に担持されている（図１Ｂ／Ｃを見よ）。輪状のハウジングの構成の詳細は米国 特許5,344,454 中に開示されており、それは参照によってここに導入される。 アセンブリー１０は、埋込まれた細胞１４とホストとの間に、多孔性の生命維 持境界１６を形成する。多孔性境界１６は、チャンバー１２を直接に取り囲む第 一の多孔性領域１８を含む。第一の領域１８はホスト血管構造によるチャンバー １２の管腔内への侵入を阻止するのに十分な孔径を有する。この浸入は境界１６ の完全性を破り、埋込まれた細胞１４をホストの完全な免疫応答へ暴露する。一 般的に言えば、約２μｍ（即ち、２マイクロメーター）よりも一層小さな孔径が 、血管構造の侵入を阻止するであろう。（この明細書中に用いるものとして、「 孔径」は材料の最大の孔径をいう。医者は、Pharmaceutical Technology，May 1 983，pages 36 〜42中に記 述されたように、慣用のバブルポイント法を用いて孔径を測定する。） 埋込まれた細胞１４が他の動物種からである場合（即ち、異種移植片）、第一 の領域１８の孔径は、ホストから埋込物細胞チャンバー内への炎症性細胞と分子 性免疫因子の両方の通過を防止するのにも十分でなければならない。この明細書 中に用いられるものとして、「炎症性細胞」はマクロファージ、異物巨細胞、そ して繊維芽細胞を含み、そして「分子性免疫因子」は抗体及び補体等の様な分子 をいう。ヒトにおける炎症性細胞と分子性免疫因子の両方の通過阻止に十分な孔 径は、約0.015 μm の範囲内にある。もちろん、これらの孔径は血管構造に対し て非通過性でもある。 埋込まれる細胞が同動物種からではあるが異なる遺伝型を有する場合（即ち、 同種移植片）には、第一の領域１８の孔径は、ホストから埋込物細胞チャンバー 内への炎症性細胞の通過を防止するのに通常十分でなければならないだけである 。同種埋込物においては、分子性免疫因子は埋込まれた細胞の生存性に不利な影 響を与えないと思われる。更に、ある程度の組織適合性が完全な保護のために要 求されるかもしれない。ヒトにおける炎症性細胞の通過阻止に十分な孔径は、約 0.8 μm より下の範囲にある。これらの孔径もまた、血管構造に対して非通過性 である。 埋込まれた細胞が同系移植片である場合（遺伝子工学的に製造された細胞の自 己埋込み物）、孔径は、チャンバー１２中の血管構造の侵入をも防止しつつ、同 系移植片がホストへ侵入することを防止するのに十分でなければならないだけで ある。 境界１６は、第一の領域１８の少なくとも一部に覆いかぶさる第 二の多孔性領域２０をも含む。第二の領域２０はホスト組織との界面を構成する 。第二の領域２０は、界面の近くのホスト組織中の血管構造の成長を促進する構 造を有する。好ましくは、近くの血管構造の少なくとも幾らかが、界面の１細胞 厚内に存在する。 この方法によって、多孔性の境界１６は、埋込まれた細胞１４の生物学的プロ セスを支持する栄養と老廃物を移転するために十分密接にホストの生物学的シス テムと連係する。多孔性領域１６はまた、埋込まれた細胞１４によって作りださ れた治療的産生物をホストへと移転もする。 本発明によれば、第二の領域２０は、ポリマーフィルム２６の複数の微細製作 された層によって形成された多孔性膜構造物を含む。 図解された好ましい具体例中において、各ポリマーフィルム層２６（図２を見 よ）は光結像性ポリイミド材料からつくられる。フィルム２６は、孔２８とスト ランド３０を規定する中間の空間との所定の幾何学的パターンをつくりだすため に（図２を見よ）、ネガ型フォトレジスト技術又はエッチング可能な膜製作技術 の何れかを用いて処理される。 その幾何学的パターンは、間隔の一層接近した一層小さい孔のパターン（約20 μm 以下の孔断面寸法と典型的には約２〜３μm のストランド寸法を有する）か ら、間隔の接近の度合いの低いパターンを有する一層大きい孔（20μm を超えそ して約50μm までの孔断面寸法と典型的には約4 〜5 μm のストランド寸法を有 する）までフィルム層２６の間で交互になっている。異なった幾何学的パターン の積み重ねが、約５μm 未満の最小寸法を有する相互連結されたス トランドによって形成された、約５μm よりも大きな最小内部寸法を有する相互 連結された空洞を有する、開放した、ランダムに配置された多孔性膜構造物を作 りだす。 好ましい具体例は、生存細胞を埋込むためのチャンバーと連係して使用されつ つある多孔性膜構造物を示す。やはり、本発明の特徴を具体化する多孔性構造が 、カテーテル、生体感知装置その他のような、他の埋込まれた物体と連係して用 いられることができることが認識されなければならない。 Ｉ．ポリマーフィルム材料の選択 第二の領域２２のための膜構造とその製造が、生体適合性、製造の容易性、同 定可能な３次元的幾何学形状を作りだす能力、化学的不活性物、そして頑丈な機 械的性質を含む、多数の特性を要求する。ポリイミドは、これらの要求を満たす 一つの材料である。ポリイミド（超小形電子技術中でプレーナ誘電体層として一 般に用いられる）は、生体適合性であり、機械的に強く、そしてリソグラフ技術 を用いて精密な幾何学のパターンへと日常的に微細製作されることができる。 ポリイミドは環状鎖ポリマーである。それらはイミド官能性（それは二つのカ ルボニル基へと結合させた環状第２級アミンであり、そしてそれは主鎖中に芳香 族又は脂肪族基のいずれを含んでもよい）によって特徴付けられる。 ポリイミドは前駆体ポリ（アミド酸）を経由した二ステップの方法を用いて合 成されることができる（Sroog，C．E.: Polyimides．Progress in polymer scie nce 16:561〜694，1991 を見よ）。この方法においては、イミド部分の前駆体ポ リ（アミド酸）は、酸二無 水物のジアミンとの重縮合（付加重合）反応によって形成される。用いられるこ とができるジアミンは4,4'- ジアミノジフェニルエーテル(DADPE)を含み、オキ シジアニリン(ODA)、4,4-メチレンジアニリン(MDA)、そして4,4'- ジアミノベン ゾフェノン(DABP)としても知られる。用いられることができる二無水物は、ピロ メリット酸二無水物(PMDA)、3,3',4,4'- ベンゾフェノン四酢酸二無水物(BTDA) 、そして3,3'4,4'-ビフェニル四酢酸二無水物(BPDA)を含む。 ポリ（アミド酸）はN-メチル-2- ピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DM F)、そしてジメチルスルホキシド(DMSO)等のような極性有機溶媒中に可溶である 。イミド基へ連結された基の構造によって、ポリイミドは脂肪族、脂環族、又は 芳香族であることができ、そして鎖構造によって線状又は３次元であることがで きる。芳香族、線状ポリイミドが、広い温度範囲にわたってのそれらの高レベル の性能のためそれらが広い実際的適用を見出してきたため、最も一般的である。 該方法の第二のステップの間、ポリ（アミド酸）は溶媒を除去し、水の分子内 排除によって閉環を始めるのに十分高い温度においてポリイミドに変換される。 記述された熱処理は、「硬化」として知られ、そして300 〜500 °Ｃの最終温度 範囲を典型的に有する。イミド化反応の完了は、ＲとＲ’基の性質並びにイミド 化又は硬化の具体的条件に依存する。 完全な硬化の後、ポリイミドはフォトレジスト剥離剤を含む全ての一般に知れ た溶媒に実際的に不溶である。しかしながら、ヒドラジン、三塩化アンチモン、 三塩化砒素、濃硫酸そして発煙硝酸等のような幾つかの熱い塩基がポリイミドフ ィルムを溶解するであろう 。 異なったポリイミドの生体適合性が蝸牛埋込物において用いられるために検討 されてきた。研究されたポリイミドはHughes HR610、Dupont 2555、Hitachi PIQ そしてM.&T．2056/5000 を含んでいた。全てが、非常に限られた有害な組織応 答しかもたらさなかった(Haggerty，H．S．and Lusted，H．S.: Histological R eaction to polyimide films in the cochlea．Acta Otolaryngol（Stockh）107 :13〜22，1989を見よ）。 II．膜の微細構造のデザイン 図３Ａ／Ｂそして４が、知られたリソグラフィー印刷又はエッチング技術を用 いた、ポリイミドフィルム上に所望の幾何学的パターンを作りだすための代表的 なマスクプレートデザイン32P と32N を示す。いわゆる「ネガ型マスク」プレー ト32N(図3A/Bが示す)は、光感受性ポリイミドフィルム（ネガ型フォトレジスト 材料によってコートされた）と共に使用できる。いわゆる「ポジ型マスク」プレ ート32P(図4 が示す)は、エッチング可能なポリイミドフィルムのために使用さ れることができる。 図３Ａ／Ｂそして４が示すように、マスクプレートデザイン32P と32N は「蜂 の巣」パターンを好ましくは用いる。パターンは６角形の孔２８を有する。６角 形の幾何学が高充填密度そして、従って、高多孔性膜を達成する。 マスクプレートパターン３２それ自身が平面的表面幾何学、即ち微細構造の２ 次元の水平ｘ−ｙ平面、を画定する。微細構造のｚ−次元（垂直面）がポリイミ ドフィルム２６の厚みによって画定される。図解されたそして好ましい具体例中 では、約２μｍの厚みを有 する個々のフィルム２６は、ｚ−方向の垂直高さ〔約４μｍ（即ち、２層）から １４μｍ（即ち、５層または一層多い層）へとわたることができる。〕をつくる ために互いの上面上に積層される。 図３Ａは、約６μｍある断面寸法を有する６角形の孔（矢印Ｃによって示され る）を有するマスクプレートデザインを示す。ストランド（即ち、孔の間の間隔 ）は約2.8 μｍある。このパターンは、6 μｍ/2.8μｍ（孔寸法／ストランド寸 法）構造として同定されることができるフィルムを作りだす。基準寸法は図３Ａ 中に示されている（μｍで）。 図３Ｂは、１０μｍの断面寸法を有する孔（再び矢印Ｃによって示される）と ２μｍのストランドを有するこの幾何学に基づく他の一のマスクプレートデザイ ンを示す。このパターンは、先行する段落の命名法を用いて、10μｍ/2μｍ構造 を有するフィルムを作りだす。基準寸法は図３Ｂ中に示されている（μｍで）。 図３Ａと３Ｂ中に示される各デザインは、１cm平方の面積に合うように意図さ れている。従って、６角形間のストランド間隔は2.8 μｍと2 μｍよりも実際は 若干小さいが、差(即ち、0.01μｍよりも小さい)は無視しうる。達成されうる最 小のストランド寸法は、約1.5 μｍであり、接触印刷リソグラフ工程と紫外光の 波長によって制限される。ポリイミドフィルムの固有の収縮が（下記のように） 処理中に発生する可能性があり、それは有益である。なぜなら接触リソグラフ工 程によって厳密に達成しうるものより下に、ストランドサイズを減少させること ができるからである。 図３ＡとＢ中に示される６角形のマスクプレートデザインを写すフィルムの層 が互いの上面上に積み重ねられるとき、微細構造中の ストランドと孔の垂直パターンが、互いに連結された内部窪み（即ら、垂直に積 み重ねられた孔のかぶさり）を形成する、互いに連結された繊維（即ち、積み重 ねられたストランドの垂直的整合）の３次元的繊維膜構造を真似る。 本発明によれば、Brauker らの教示に従って作られる開放した膜構造（５μｍ よりも小さいｙ方向寸法を有する互いに連結されたストランドによって形成され る、５μｍよりも一層大きなｘ，ｙ及びｚ方向寸法を有する互いに連結された空 洞を持つ）が、既に記述された6 μｍ/2.8μｍと10μｍ/2μｍ一次フィルム層よ りも大きな直径の孔（即ち、約20μｍを越えそして約50μｍへと大きくなる）を 有するスペーサーフィルム層を含めることによって、積み重ねられた微細製作さ れたフィルム構造において真似られる。 図４は、50μｍの孔と 2μｍのストランドを有するスペーサー層のためのマス クプレートデザイン32を示す。基準寸法が図４中に示される（μｍで）。 図３Ａ／Ｂ中に示されるデザインと同様、図４中に示されるデザインは１cm平 方の面積に合うことが意図される。このパターンは、50μｍ/2μｍ構造を有する スペーサーフィルムを作りだす。 本発明によれば、一層大きい直径の孔を有する、図４中に示されるデザインを 有するスペーサー層が、一層小さい直径の孔を有する図３Ａ又は３Ｂ中に示され るデザインを有するポリイミドフィルムと交互に置かれる。一次ポリイミドフィ ルムとポリイミドフィルムスペーサーの層が、後で一層詳細に記述されるであろ うように、開放した膜構造を作りだすためにランダムな整列で積み重ねられる。 好ましい実施例においては、図３と４中に示されたマスクデザインはAutoCAD^{T M} システムによって層をなして配列された。各1cm²面積が10倍、即ち、最終装置 の約0.1cm ×0.1cm の面積に拡大された。ファイル変換の後、焦点板がGCA MANN 3600Fパターン発生機によってつくられた。焦点(5''板)は、10倍に像を縮小す る光学系有するGCA MANN 3696 ステッパー内に配置され、９個の1cm²パターンを つくるような方法でマスク（4'' 板）を通してステップされた。 プレートは、5000Åの低反射クロームと5000ÅののShipley^TM Microposit^TM A Z1350J フォトレジスト(Nanofilm Inc.によって供給される)によって覆われた ソーダ石灰ガラスプレートであった。現像の後、露光されたプレートは、40秒間 CEN-300 ミクロクロームエッチング剤(Microchrome Technology Inc.)によって エッチングされた。この工程はフォトレジストの除去によって完了された。 ネガ型活性ポリイミドとポジ型活性フォトレジストの両方が微細構造を作りだ すために使用されることができるように、マスクプレートの明領域型と暗領域型 の両方がつくられた。 III．ポリイミド構造の調製 Ａ．フィルム層の微細製作 好ましい実施例中に、次のポリイミドフィルム材料が、本発明の特徴を具体化 する微細製作された膜構造の製造において用いられた。 光感受性フィルム Amoco Ultradel^TM 7501(U7501): Amoco Chemical Company(Naperville，IL)か らのこれらのポリイミドの正確な化学構造は所有権 に帰属する。しかしながら、それは本質的に光感受性の、予備イミド化された、 ベンゾフェノン(BTDA)系のフッソ化されたポリイミドである。このポリイミドの ための溶媒系はブチロラクトンである。 OCG Selectiplast^TM HTR3-100(HTR3-100): OCG Microelectronics(West Pate rson，NJ)からのポリイミドのHTR3シリーズは、光感受性を提供する増感剤分子 を有する、PMDA/ODA系のポリイミドである。増感剤分子の正確な化学組成は所有 権に帰属する。このポリイミドのために用いられる溶媒系はシクロペンタノンで ある。 エッチング可能なフィルム Amoco Ultradel^TM 4212(U4212): これは、4,4'−ヘキサフルオロ−イソプロ ピリデン−ビスフタル酸無水物(HFDA)そして4,4'- ビス（4-アミノフェノキシ） ビフェニル(APBP)の化学構造を有するエッチング可能な材料である。このポリイ ミドのために用いられる溶媒系は2-メトキシエチルエーテルである。 図５Ａ／Ｂ／Ｃは、光感受性ポリイミドフィルムのための製作プロセスのステ ップを示し、そのためには所望の微細構造を作りだすためにネガ型マスクが用い られる。図６Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅは、エッチング可能なポリイミドフィルムのた めの製作プロセスのステップを示し、そのためにはポジ型マスクが所望の微細構 造を作りだすために用いられる。 各製作プロセスの好ましい実施例においては、２インチ直径のシリコンウエハ からなる基板３４が３０°Ｃの超音波バス中、Summa^TM洗剤中で10分間清浄化さ れ、その後５分間脱イオン水（ＤＩ）ですすがれそして窒素中でブロー乾燥され た。蒸気酸化物が約0.5 μ m の厚さまで1100°Ｃにおいて成長された。これは、後の基板ウエハからポリイ ミドフィルムの除去のために使用される犠牲層36を形成する（図5Aと図6Aを見よ ）。 酸化された基板ウエハは、濾過されたイソプロパノールによって清浄化され、 そして次いで希釈された接着促進剤によって被覆される。 光感受性フィルムのためには、接着促進剤はAmoc，Ultradel^TM A200（3-アミ ノプロピルトリエトキシシラン）であった。接着促進剤はメタノールと水で1:20 00に希釈された。接着促進剤は、酸化された基板ウエハ上に毎分5000回転でスピ ンコートされ、水分を除去するために100 °Ｃで30秒ホットプレート焼付けされ た。 エッチング可能なフィルムのためには、OCG 接着促進剤（アミノシランのある タイプ）が、1:9(QZ3289:QZ3290)(QZ3290 はエタノールである)に希釈された。 接着促進剤は、酸化された基板ウエハ上に毎分4000回転で同様にスピンコートさ れ、110 °Ｃで20秒ホットプレート焼付けされた。 次いで、ポリイミド38が基板上にスピンコートされた。コートされた基板は、 硬質接触焼付けのための真空ポートと連結されたホットプレート(Fairweather I nc.，Thermal Ace，SantaClara，CA)上で予備焼付けされた（図5Bと図6Bを見よ ）。 予備焼付け後、エッチング可能なサンプル（図6Bを見よ）は、Shipley 11400- 31 ポジ型フォトレジストのような、ポジ型フォトレジスト40によって覆われた 。所定位置のポジ型マスク32P(図4 中に示されるように)と共に（図6Cを見よ） 、ポリイミドフィルム38はウエットエッチングされる(50 秒 E422)。エッチン グはポジ型マス ク32P の開口領域においてはフィルム38を除去する一方、マスク32P の閉鎖領域 においてはフィルム38を残す。これは、ポリイミド38中に孔28とストランド30を 形成する（図6Dが示すように）。エッチングされたフィルムはすすぎされ(15 秒 脱イオン水(DI))、そしてスピン乾燥(30 秒 窒素)され、そしてフォトレジス トがはぎ取られた(2分 S420)（図6Eが示すように）。 光感受性ポリイミドサンプル（図5Bを見よ）が、所定位置のネガ型マスク32N( 図3A/B中に示される)と共に、Karl Suss MJB 3 マスクアライナー上でポリイミ ドリソグラフィーに暴露され、そして次いでスプレー現像され、重ねられ（現像 剤とすすぎ剤の同時スプレーを含む）、そしてすすがれた（図5Cを見よ）。 ポリイミド（エッチング可能と光感受性の両方）の硬化が窒素パージされたプ ログラム可能な炉(Fisher，Model 495A，Pittsburgh，PA)中で実行された。約50 SCFHでの窒素流れが炉の酸素含有量を約5%へと減少させ、それによりフィルムの 酸化を減少させる。サンプルは、炉からの除去の前に100 °Ｃへと冷却が許容さ れた。 もし、パージされていない炉中で硬化されないなら、フィルムの強度が相当に 減少される。これは、硬化間のポリイミドの酸化による。もし、通常の大気の酸 素濃度中で硬化されたならば、全てのポリイミドは定性的に「もろく」なる。 HTR3-100が、硬化の間に最大の収縮を有し、それは一層狭いストランドをもた らす。一層小さいストランドによって理想的なフィラメント構造が一層密接に近 似されるので、これには利点がある。 今記述したように、リソグラフ処理と硬化に続いて、次いでフィルム38は基板 34から除去される（図10A が示すように）。これは、 膜の下から、熱的に成長させた二酸化シリコン層をエッチングすることによって 達成される。フィルム38は、ウエハをTransistar^TM緩衝された酸化エッチング剤 中に浸すことによって、基板から解放される〔６部 フッ化アンモニウム：１部 フッ化水素酸（ＨＦ）〕。濃縮ＨＦ(49%)の1ml 又は2ml が解放プロセスを迅 速化するのに加えられる（加えられたHFによって、プロセスは約30秒から1 分か かる。）。解放されたフィルムがTeflon^TMピンセットによって、脱イオン水のペ トリ皿へと移され、そして５分間すすがれた。 50μm 直径の孔と4.5 μm ストランドを有する、二種の異なった厚み〔薄い（ ２μm の基準厚を有する）及び厚い（４μm の基準厚を有する）という〕のスペ ーシング層が、製作された。これらの構造は50μm/4.5 μm/2 μm（孔寸法／ス トランド寸法／厚み）構造と50μm/4.5 μm/4 μm 構造として同定できる。 約100 Åの金が、シリコン基板へと取り付けられた単層サンプル上へと電子線 蒸発された。走査型電子顕微鏡観察(SEM)がJEOL JSM-35 走査型電子顕微鏡内で 実行された。 後に続く表１が、Tencor P1 ロングスキャンプロファイラー(Mountain View， California)とSEM 断面を用いて、単層構造上で行われた測定をまとめる。 図７Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄは、6.2 μm 開口と2.8 μm ストランドを有するマスクに よってパターニングされた層フィルムの上面の走査型電子顕微鏡写真を示す（シ リコン基板へまだ取り付けられている）。図７ＡはU7501 材料から作られた単一 の微細製作されたフィルム層を示す。図７ＢはU4212 材料から作られた単一の微 細製作されたフィルム層を示す。図７ＣはHTR3-100材料から作られた単一の微細 製作されたフィルム層を示す。図７ＤはU7501 材料の単層のフィルム中に形成さ れた孔の、拡大された、若干角度がつけられた写真を示す。 図８Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄは、10μm の空間と2 μm ストランドを有するパターニン グされたフィルムの上面の走査型電子顕微鏡写真を示す（シリコン基板へまだ取 り付けられている）。図８ＡはU7501 材 料から作られた単一の微細製作されたフィルム層を示す。図８ＢはU4212 材料か ら作られた単一の微細製作されたフィルム層を示す。図８ＣはHTR3-100材料から 作られた単一の微細製作されたフィルム層を示す。図８ＤはHTR3-100材料の単層 のフィルム中に形成された孔の拡大された、若干角度がつけられた写真を示す。 図９Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄは、50μm の孔と4.5 μm ストランド（4 μm の厚みを有 する）を有するマスクによってパターニングされた単層フィルムの上面の走査型 電子顕微鏡写真を示す（シリコン基板へまだ取り付けられている）。図９ＡはU7 501 材料から作られた単一の微細製作されたフィルム層を示す（若干角度がつけ られた眺めにおける）。図９ＢはU4212 材料から作られた単一の微細製作された フィルム層を示す（若干角度がつけられた眺めにおける）。図９ＣはHTR3-100材 料から作られた単一の微細製作されたフィルム層を示す（若干角度がつけられた 眺めにおける）。図９ＤはU7501 材料から作られた４μm 厚のフィルムの断面を 示す。 顕微鏡写真から、フィルムは全く均一であると見られることができ、即ち、特 徴が、ある孔からその隣まで一致している。特徴の「丸まり」と他のパターンの 変則がおこっているが、それらは大部分はフィルムタイプに従って変化しており フィルムの収縮、マスクプレートと基板との間の不完全な接触のための光学的効 果、そしてエッチング過剰等のような工程変数のためであろう。 接触印刷マスクアライナー（Karl Suss MJB 3 のような）を用いた良好なパタ ーン転写のためには、マスクと基板との間の密接な接触が不可欠である。完全な 接触が可能でない以上、マスクの縁の周りに幾らかの光の回折があり、そして露 光領域は、この重なりが減 少され、そしてパターン転写が改善される場合は更に離される。マスクの基板へ の接触は、予備焼成されたフィルムの均一性、縁のビード、微粒子、基板とマス クの接触圧力、そしてウエハ平坦度を含む幾つもの変数によって影響される。ウ エハ平坦度は良好な収率（即ち、完全に多孔性である膜）を達成するための最も 重要な因子の一つであるように思われた。平坦でなかったウエハは、ウエハの中 央で不完全な現像を有した。ウエハは光干渉によって検査され、そしてこの問題 は均一な干渉縁を有したウエハを選択することによって治癒された。 厚いフィルムの上面による紫外(UV)光の吸収がフィルムの底部を現像において 一層可溶性にするため、薄いスペーシング層は、厚いスペーシング層よりも一層 良いパターン転写を示した。 更に、全般的に、走査型電子顕微鏡写真中に見られる寸法は、マスクデザイン 中で特定されたものに近い。 Ｂ． 微細製作されたフィルム層の積み重ね 大きいそして小さい寸法を交互にしたフィルムまたは全て同じ寸法のフィルム よりなる複数層微細構造膜が作られる。全ての場合において、同様の材料が組み 立てられた。 複数構造膜の製造において、同様のポリイミド材料の遊離された膜が一つに積 み重ねられ、そして膜の良好な機械的完全性を提供するためにポリエステルウエ ブへとラミネートされた。図１０が該方法を示し、これは次の様に要約できる。 (1)一滴の水が未遊離フィルムの上面上に配置された。 (2)次いで遊離膜が、Teflonチップと嵌合された真空ピックアップを用いて該 一滴の水の上へと移された。 (3)該フィルムは、シリコン基板３４上に該真空ピックアップによって配置さ れ（図１０Ｂが示すような、酸化物被覆３６を有して記述される前の通り）、そ してフィルムの角に吸引を同時に適用しつつ、窒素ガンによる穏やかな吹きつけ によって平にされた。 (4)Ultrasonic Wire Bonder(West Bond，Model 7700A-45-66，Anaheim，CA)が 、もし必要なら、フィルムの複数層（図10B 中の指示されたL1,L2,等）を周囲に おいて基板34へ一つに留めるために用いられた。U7501 は時にこのステップを必 要とし、U4212 は、常に接着を必要とし、そしてHTR3-100は決して接着を必要と しなかった。層L1,L3 そしてL5が、一層小さい直径の孔28と一層小さいストラン ド30を有するフィルムを構成する（例えば、既に記述された、10μm/2 μm フィ ルム構造）。他の層によって挟まれる交互の層L2とL4が、一層大きい直径の孔と 一層大きいストランドを有するスペーサー層を構成する（例えば、既に記述され た、50μm/4.5 μm/2 μm 又は50μm/4.5 μm/4 μm 構造）。 (5)フィルムは、前に記述された条件下で再び硬化された。 (6)融解エチレンビニルアセテート(EVA)の相互侵入する、ストランド状の網状 組織４０が、１インチ当たり40〜50ストランドで（図10C が示すように）、サン プルの表面上に形成された。 (7)次いで、ポリエステルウエブ42の層が外部表面へと固定された（図10C が 同じく示すように）。 (8)サンプルは、EVA から溶媒（トルエン）を除去するために80°Ｃで10分間 焼成された。 (9)最後に、前に記述されたと同じ酸化エッチング工程がラミネートされた膜 を除去するために実行された（図10D が示すように）。 (10)膜は直径が0.5 インチのチタンリング内に固定された（図1A/B/C中に示さ れたもののように）。 (11)組み立てられた複数層膜構造が、それらの滅菌のために70% エチルアルコ ール中に貯蔵された。 この工程は同じ寸法を有するフィルム並びに異なった寸法の積み重なった交互 の層について実行された。更に、単層フィルムが5 μm Goretex^TM膜へラミネー トされ、それらは対照として使用された。 次の表２は、製造された複数層構造のタイプを掲げている。 図11A はU4212 膜の３層積み重ね構造の代表例の走査型電子顕微鏡写真を示す 。特徴部の過度の丸まりは若干のオーバーエッチングによる。更に、２層の接触 の幾つかの点では、積み重ね後の硬化の間に一つに「融解された」ように思われ る。図11B はHTR3-100膜の６層積み重ね構造の走査型電子顕微鏡写真を示す。あ る層から隣の層への整列は殆ど見られない。フィルムの手による積み重ねと硬化 は、層間のランダムな整列をもたらす。 図12A/B/Cが、用いられた３つのポリイミドの各々についての、フィルム層と 厚いスペーサー層(4μm)の交互の５層を含む膜の顕微鏡写真を示す。図12A はス ペーサーを積み重ねたU7501 構造を示す。図12B はスペーサーを積み重ねたU421 2 構造を示す。図12C はスペーサーを積み重ねたHTR3-100構造を示す。各場合に おいて、全ての５層を見ることができる。再び、ランダムな整列が層間に観察さ れる。スペーサー層中のストランドが、膜表面内の孔を部分的にふさいでいるの を見ることができる。 図13A/B が、上に記述された仕方で製造された他の複数層膜構造の走査型電子 顕微鏡写真を示す。図13A/B において構造物は、15μm ６角形孔と２μm のスト ランドを有する微細製作されたあるポリ イミドフィルム層(U44212材料)(2 μm 厚)とスペーシング層として用いられた、 50μm ６角形孔と4.5 μm のストランドを有する微細製作された第二のポリイミ ドフィルム層(同じくU4212 材料)(3.5 μm 厚)とが交互になっている。図13A は 、二の15μm/2 μm/2 μm 層の間に挟まれた一つの50μm/4.5 μm/3.5 μm スペ ーシング層の存在を示す。図13B は、三の15μm 層と二の50μm スペーシング層 の交互の層形成を示す。前の様に、孔とストランドのランダムな整列が示される 。50μm の中間スペーシング層が、図13A とB 中に、最も上の15μm 層の下に明 瞭に見られることができる。 従って、層の手による積み重ねは特に均一な整列を作りださず、そしてそのよ うな均一な整列は好ましくないと信じられる。スペーシング層の孔は一次層の孔 よりも一層大きいので、一次層中の一層小さな孔はスペーシング層のストランド によって完全には塞がれず、それによって炎症性細胞の侵入を許容しそしてホス ト組織との界面の近くで所望の血管化効果を促進する開放した内部構造を提供す る。 スペーサー層の付加によって、高度に多孔性の構造がもたらされる。フィルム の空孔率が50% から85% までわたる。 フィルム接着が、交互の層膜として全ての３つのポリイミドについて定性的に 分析された。３つの試験、(1)ＤＩ水を流す、(2)窒素を流す(20PSI)、そして(3) ウエハの破壊、が実行された。これらの試験の結果が合格又は不合格のいずれか であり、これは層剥離によって示された。全ての複数層構造が最初の二つの試験 に合格した。スペーサーが積み重ねられたU4212 が第三の試験に合格した。埋込 み中における、スペーサーが積み重ねられたU7501 構造物のいくつか とスペーサーが積み重ねられたHTR3-100構造物の全ての層剥離も観察された。こ れは、接着がU4212 材料に対して幾分に一層良かったことを示す。 膜が反復可能な幾何学配置を示していることは明白である。取扱い工程の全て において、それらが約1.75〜6.8 μm 厚と50〜95% の範囲の空孔率を有すること を考慮すれは全ての膜は卓越した機械的安定性を示した。 光結像性ポリイミドの処理は、ネガ型フォトレジストのためのものと同じ方法 で単一のリソグラフィーステップにおいて行われることができる。エッチング可 能なポリイミド製作は、幾分一層複雑であるが、やはり単一のマスキングステッ プしか必要としない。ポリイミドフィルムをパターニングした後、いかなる平坦 表面の領域も走査型電子顕微鏡観察を用いて容易に同定されることができ、そし てフィルム厚みはプロファイラーによって測定されることができる。完全に硬化 されたポリイミドは、高引張り強さ、大きな弾性ヤング率、大きな破断延びパー セント、高ガラス転移点温度、そして多くの酸や有機溶媒に対する耐性を含む、 優秀な物理的そして温度的性質を有する。 Brauker らは、密接した血管構造を発達しなかった膜が5 μm よりも大きな直 径の「板様の」性質を有する窪みを持っていたのに対し、密接した血管構造を有 する膜が細胞の透過を許容しそして5 μm よりも一層小さな直径を有する膜構造 （ストランド又は繊維）によって形成された孔を有していたことを示した。血管 化膜の組織学的検査は、侵入細胞は丸まった形態を有していたが、密接した血管 構造を有しない膜中では細胞が平になっていることを明らかにした 。細胞は「捕獲され」、そしていかなる表面上でも平になることを許容されてい ないように見え、これは血管化膜へ侵入する細胞の一層丸まった形態をもたらす ように見える。仮説は、膜構造が細胞形態を決定づけ、そして丸まった細胞次い で、血管構造の形成を促進するまだ知られていないような何らかの走性因子を分 泌するということである。 本発明により製造された、複数層の、積み重ねられたポリイミド微細製作され た膜構造が、Brauker らによって特徴付けられたタイプの構造を提供する。一次 層及びスペーサー層よりなる交互の層がフィルムの空孔率を増加し、二つのスト ランドの垂直面内での一致の機会を減少し、そして膜の内部体積を増加させた。 丸まった形態の細胞侵入と密接した血管構造とが、これらスペーサーを積み重ね た膜構造について顕著に増加できる。 本発明のさなざまな特徴が、以上の請求の範囲において提示されている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スターンバーグ，シュミュエル アメリカ合衆国60062イリノイ、ノースブ ルック、ヨークシャーレーン 4240 (72)発明者 ベラミー，ディビッド アメリカ合衆国60043イリノイ、ケニルワ ース、ロブサートロード 92

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． ホスト組織中に埋込むための多孔性構造物であって、 微細製作されたポリマーフィルムよりなる複数の層を含み、 各層が、層状に積み上げられたときに内部空洞を形成するための、孔と、ス トランドを規定する中間の間隔との前もって規定された幾何学的パターンを有す るものである、 多孔性構造物。 ２． ホスト組織中に埋込まれている間生存細胞を保持するためのチャンバー を形成する多孔性構造物であって、 微細製作されたポリマーフィルムよりなる複数の層を含み、 各層が、層状に積み上げられたときに内部空洞を形成するための、孔と、ス トランドを規定する中間の間隔との前もって規定された幾何学的パターンを有す るものである、 多孔性構造物。 ３． 該微細製作されたポリマーフィルムがポリイミド材料である、請求項１ 又は２に記載の多孔性構造物。 ４． 該幾何学的パターン中の該孔が、ほぼ６角形の形状である、請求項１又 は２に記載の多孔性構造物。 ５． 該層のうちの一つにおける幾何学的パターンが、該層の他の一つにおけ る幾何学的パターンと異なるものである、請求項１又は２に記載の多孔性構造物 。 ６． 該チャンバー中に生きた細胞を更に含む、請求項２に記載 の多孔性構造物。 ７． ホスト組織中に生存細胞を埋込む方法であって、 生存細胞を保持するためのチャンバーであって、該チャンバーが微細製 作されたフィルムよりなる複数の層を含む壁構造を有し、各層が層状に積み上げ られたときに内部空洞を形成するための、孔と、ストランドを規定する中間の間 隔との前もって規定された幾何学的パターンを有するものである、チャンバーを 形成するステップと、 該チャンバー内に生存細胞を配置するステップと、そして、 該チャンバーとそれが含む生存細胞とをホスト組織中に埋込むステップ と、 を含む方法。 ８． ホスト組織中に埋込まれている間生存細胞を保持するためのチャンバー を形成する多孔性構造物であって、 埋込まれたとき、当該血管構造と該チャンバー内の該細胞との間で該多 孔性構造物を通して分子を輸送するために当該界面に十分近く該ホスト組織中に 成長してきた該血管構造を有する該ホスト組織との該界面を形成しており、 該構造が、第一の微細製作された幾何学的パターンを有する一のポリマ ーフィルム層と、それらの間に一のフィルム層を挟む二の他のポリマーフィルム 層を含んでおり、そして、 該二の他のポリマーフィルム層が該第一の幾何学的パターンとは異なる 微細製作された幾何学的パターンを有するものである、 多孔性構造物。 ９． 該第一の微細製作された幾何学パターンが、孔と、ストランドを規定す る中間の間隔を含む、請求項８に記載の多孔性構造物。 １０． 該他の二の微細製作された幾何学的パターンが、孔と、ストランドを規 定する中間の間隔を含み、 該他の二のパターンの孔が、該第一の幾何学的パターンの孔よりも小さ な直径のものである、 請求項９に記載の多孔性構造物。 １１． 該第一の微細製作された幾何学的パターンの該孔が、約２０μｍよりも 大きな横断直径を有するものである、請求項９に記載の多孔性構造物。 １２． 該他の二の微細製作された幾何学的パターンが、孔と、ストランドを規 定する中間の間隔を含み、 該他の二のパターンの該孔が、約２０μｍ以下の横断直径を有するもの である、 請求項１１に記載の多孔性構造物。 １３． 該第一の微細製作された幾何学的パターンの該孔が、約２０μｍよりも 大きな横断直径を有し、そして該第一の微細製作された幾何学的パターンの該ス トランドが、約５μｍよりも小さな寸法を有するものである、 請求項９に記載の多孔性構造物。 １４． 該他の二の微細製作された幾何学的パターンが、孔と、ストランドを規 定する中間の間隔を含み、 該他の二のパターンの該孔が約２０μｍ以下の横断直径を 有し、そして該他の二のパターンの該ストランドが該第一のパターンの該ストラ ンドの寸法よりも小さい寸法を有するものである、 請求項１３に記載の多孔性構造物。 １５． 該チャンバー内に更に、生存細胞を含む、請求項８に記載の多孔性構造 物。 １６． 該層の該ポリマーがポリイミド材料である、請求項８に記載の多孔性構 造物。 １７． ホスト組織中に生存細胞を埋込む方法であって、 生存細胞を保持するためのチャンバーであって、挟まれた第一の微細製 作された幾何学的パターンを有する一のフィルム層と、それらの間に該一のフィ ルム層を挟む二つの他の層であって、該二つの他の層が、該第一の幾何学的パタ ーンとは異なる微細製作された幾何学的パターンを有する二つの他の層を含む壁 構造を有するものである、チャンバーを形成するステップと、 該チャンバー中に生存細胞を配置するステップと、そして、 該チャンバーとそれが含む生存細胞とをホスト組織中に埋込むステップ と、 を含む方法。 １８． ホスト組織中に埋込まれている間生存細胞を保持するためのチャンバー を形成する多孔性構造物であって、 微細製作されたポリイミドフィルムよりなる複数の層を含み、 一のフィルム層が、約２０μｍよりも大きな断面を有する孔と約５μｍ よりも一層小さな寸法を有する中間ストランドを含む 、第一の微細製作された幾何学的パターンを有し、そして、 二の他の層が、それらの間に該一のフィルム層を挟み、約２０μｍ以下 の断面を有する孔と約５μｍよりも小さな寸法を有する中間ストランドを含む微 細製作された幾何学的パターンを有するものである、 多孔性構造物。 １９． 該チャンバー中に生存細胞を更に含む、請求項１８に記載の多孔性構造 。 ２０． ホスト組織中に生存細胞を埋込む方法であって、 生存細胞を保持するためのチャンバーであって、該チャンバーが、微細 製作されたポリイミドフィルムよりなる複数の層を含む壁構造を有し、一のフィ ルム層が、約２０μｍより大きな断面を有する孔と約５μｍよりも一層小さな寸 法を有する中間ストランドを含む第一の微細製作された幾何学的パターンを有し 、そして二つの他の層が、それらの間に該一のフィルム層を挟み、約２０μｍ以 下の断面を有する孔と約５μｍよりも一層小さな寸法を有する中間ストランドを 含む微細製作された幾何学的パターンを有するものである、チャンバーを形成す るステップと、 該チャンバー中に生存細胞を配置するステップと、そして、 該チャンバーとそれが含む生存細胞とをホスト組織中に埋込むステップ と、 を含む方法。 ２１． 多孔性構造物を製造する方法であって、 第一の微細製作された幾何学的パターンを持つ一のフィ ルム層を形成するステップと、 該第一の幾何学的パターンと異なる微細製作された幾何学的パターン を持つ二つの他の層を形成するステップと、そして 該多孔性構造物を作りだすために該二つの他の層の間に該一のフィル ム層を挟むステップと、 を含む方法。 ２２． 該層の少なくとも一つにおける幾何学的パターンがリソグラフィー又 はエッチングによって微細製作されるものである、請求項２１に記載の方法。 ２３． 該幾何学的パターンが孔と、ストランドを含んだ中間の間隔を含むも のである、請求項２１に記載の方法。