JPH10508031A - 新規フォトクロミックインデノ縮合ナフトピラン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 新規フォトクロミックインデノ縮合ナフトピラン化合物であって、その例は、ナフトピランのナフト部分の辺ｆに２、１位が縮合されている置換または非置換インデノ基、および、ピラン環の３位に、ある種の置換基、を有するナフトピラン化合物である。ある種の置換基が、化合物の炭素原子番号５、６、７、８、９、１０、１１、１２または１３番に存在してもよい。これらの化合物は、構造式（Ｉ）によって示すことができる。さらに、そのような化合物を含有または被覆されたポリマー有機ホスト材料も開示される。新規ナフトピラン化合物または、それらと補足的フォトクロミック化合物、例えば、ある種の他のナフトピラン、ベンゾピラン、およびスピロ（インドリン）型化合物との組み合わせ、を組み込んでいる眼用レンズまたは他のプラスチック透明物のような光学的に透明な物品も開示される。

Description

【発明の詳細な説明】 新規フォトクロミックインデノ縮合ナフトピラン関連出願 本出願は、１９９４年１１月３日に出願の特許出願第０８/３３３７０１号の 部分継続出願である。発明の説明 本発明は、ある種の新規ナフトピラン化合物に関する。より詳しくは、本発明 は、新規フォトクロミックインデノ縮合ナフトピラン化合物、ならびにそのよう な新規ナフトピラン化合物を含有する組成物および物品に関する。日光の紫外線 照射または水銀ランプの光のような、紫外線を含有する光照射に暴露されたとき に、多くのフォトクロミック化合物は可逆的な色の変化を示す。紫外線照射が中 止されると、そのようなフォトクロミック化合物は、その元の色または無色状態 に戻る。 種々のフォトクロミック化合物が合成され、日光に誘発される可逆的な色の変 化または暗色化が所望される用途への使用が提案されている。米国特許第３５６ ７６０５号（Becker）は、ある種のベンゾピランおよびナフトピランを包含する 一連のピラン誘導体を開示している。これらの化合物は、クロメンの誘導体とし て記載され、約−３０℃未満の温度における紫外線照射で、例えば無色から黄色 −オレンジ色に、変色することが開示されている。その化合物を可視光で照射す ることによって、または温度を約０℃よりも高い温度に上げたときに、着色状態 から無色状態に戻ることが記載されている。 米国特許第５０６６８１８号は、種々の３,３−ジアリール−３Ｈ−ナフト[２ ,１−ｂ]ピランが、眼または他の用途に対して、望ましいフォトクロミック特性 、即ち高着色性および許容できる退色、を有すると記載している。その米国特許 第５０６６８１８号において、活性後の退色に許容できない長い期間を必要とす る異性２,２−ジアリール−２Ｈ−ナフト[１,２−ｂ]ピランも比較例として開示 さ れている。 米国特許第３６２７６９０号は、塩基または弱から中の強度の酸のいずれかを 少量含有するフォトクロミック２,２−ジ置換−２Ｈ−ナフト[１,２−ｂ]ピラン 組成物を開示している。ナフトピラン組成物への酸または塩基のいずれかの添加 は、着色ナフトピランの退色速度を高め、それによって、サングラスのような眼 を保護する用途に有益なものとなると記載している。同特許は、前記添加剤を使 用しない２Ｈ−ナフト−[１,２−ｂ]ピランの退色速度が、完全に元の色に戻る までに数時間〜多日数であることを、さらに開示している。米国特許第４８１８ ０９６号は、オルトまたはパラ位に窒素含有置換基を有するフェニル基を、ピラ ン環の酸素に対してα位に有している紫色/青色着色フォトクロミックベンゾま たはナフトピランを開示している。 本発明は、２、１位がナフトピランのナフト部分の辺ｆに縮合されている置換 または非置換インデノ基、およびピラン環の３位に、ある種の置換基を有する、 新規置換ナフトピラン化合物に関する。これらの化合物は、意外にも、フォトク ロミック化合物の活性（着色）形態の最大吸収、即ちラムダマックス（lambda m ax）（Vis）、が発生する可視スペクトル中の波長に対して深色団シフト（batho chromic shift）を示し、それによって、オレンジ色〜青色/灰色の範囲の活性着 色を生じることが見い出された。さらに、これらの化合物は、紫外線中における 高いモル吸収率（またはモル吸光係数）、酸または塩基不添加での許容される退 色速度、高活性強度、および高着色率を示した。発明の詳細な説明 近年、フォトクロミックプラスチック材料、特に光学的用途のためのプラスチ ック材料が大きな関心を集めている。特に、フォトクロミック眼用プラスチック レンズがガラスレンズに対して重量的に有益であるために、それらの研究がなさ れている。さらに、車および飛行機のような乗り物のためのフォトクロミック透 明材料が、そのような透明材料によって得られる潜在的安全性によって、関心を 集めている。 本発明によって、オレンジ色〜青色/灰色の範囲の活性着色、許容される退色 速度、高活性強度、および高着色率を有するある種の新規インデノ[２,１−ｆ] ナフト[１,２−ｂ]ピランを製造し得ることが見い出された。これらの化合物は 、ピラン環の３位に、ある種の置換基を有するインデノ縮合[１,２−ｂ]ナフト ピランとして記載することができる。ある種の置換基が、化合物の炭素原子の番 号５、６、７、８、９、１０、１１、１２または１３において存在することもで きる。これらの化合物は下記構造式によって示すことができ、式中、ａ〜ｎの文 字はナフトピラン環の辺を表し、数字はナフトピランの環原子の番号を表す。 構造式Ｉにおいて、Ｒ₁およびＲ₂が一緒になって、オキソ基、酸素原子２個お よびスピロ炭素原子を含む炭素原子３〜６個を含有するスピロ複素環式基を形成 してもよく、これは式（−Ｏ−（Ｃ₂−Ｃ₅アルカンジイル）−Ｏ−）によって表 すことができ、例えば、スピロ−１,３−ジオキソラン−２、スピロ−１,３−ジ オキサン−２などであり、または、Ｒ₁およびＲ₂がそれぞれ、水素、ヒドロキシ 、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₃−Ｃ₇シクロアルキル、アリル、フェニル、モノ置換フ ェニル、ベンジル、モノ置換ベンジル、クロロ、フルオロ、基−Ｃ（Ｏ）Ｗ[式 中、Ｗは、ヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニル、モ ノ置換フェニル、アミノ、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキルアミノ、またはジ（Ｃ₁− Ｃ₆）アルキルアミノ、例えばジメチルアミノ、メチルプロピルアミノなど]であ ってもよく、または、Ｒ₁およびＲ₂がそれぞれ基−ＯＲ₅［式中、Ｒ₅は、Ｃ₁− Ｃ₆アルキル、フェニル（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキル置換 フェニル（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ置換フェニル（Ｃ₁ −Ｃ₃）アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ（Ｃ₂−Ｃ₄）アルキル、Ｃ₃−Ｃ₇シクロ アルキル、 モノ（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキル置換Ｃ₃−Ｃ₇シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆クロロアルキ ル、Ｃ₁−Ｃ₆フルオロアルキル、アリル、基−ＣＨ（Ｒ₆）Ｘ［式中、Ｒ₆は水素 またはＣ₁−Ｃ₃アルキル、およびＸはＣＮ、ＣＦ₃、またはＣＯＯＲ₇、Ｒ₇は水 素またはＣ₁−Ｃ₃アルキル］、またはＲ₅は、基−Ｃ（Ｏ）Ｙ［式中、Ｙは水素 、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、非置換、モノまたはジ置換アリール 基、フェニルまたはナフチル、フェノキシ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキル 置換フェノキシ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ置換フェノキシ、アミノ 、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキルアミノ、ジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキルアミノ、フェニル アミノ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキル置換フェニルアミノ、あるいはモノ またはジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ置換フェニルアミノ］］であってもよく、前記 フェニル、ベンジルおよびアリール基の置換基がそれぞれＣ₁−Ｃ₆アルキルまた はＣ₁−Ｃ₆アルコキシである。 より好ましくは、Ｒ₁およびＲ₂がそれぞれ、水素、ヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アル キル、Ｃ₃−Ｃ₆シクロアルキル、クロロ、フルオロおよび基−ＯＲ₅［式中、Ｒ₅ は、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、フェニル（Ｃ₁−Ｃ₂）アルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アル キル置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコキシ置換フェ ニル（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ（Ｃ₂−Ｃ₄）アルキル、Ｃ₁− Ｃ₃クロロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃フルオロアルキル、基−ＣＨ（Ｒ₆）Ｘ［式中、Ｒ₆ は、水素またはＣ₁−Ｃ₂アルキル、およびＸはＣＮまたはＣＯＯＲ₇、Ｒ₇は水 素またはＣ₁−Ｃ₂アルキル］、またはＲ₅は基−Ｃ（Ｏ）Ｙ［式中、Ｙは、水素 、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、フェニル、ナフチル、モノ置換アリ ール基、フェニルまたはナフチル、フェノキシ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アル キル置換フェノキシ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコキシ置換フェノキシ、モ ノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキルアミノ、フェニルアミノ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₃）ア ルキル置換フェニルアミノ、あるいはモノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコキシ置換 フュニルアミノ］］から成る群から選択され、前記アリール基の置換基はそれぞ れＣ₁−Ｃ₃アルキルまたはＣ₁−Ｃ₃アルコキシである。最も好ましくは、Ｒ₁お よびＲ₂がそれぞれ、水素、ヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたは基−ＯＲ₅［式 中、 Ｒ₅はＣ₁−Ｃ₃アルキル］である。 構造式ＩにおけるＲ₃およびＲ₄はそれぞれ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アル コキシ、クロロまたはフルオロであっもよく；ｍおよびｎはそれぞれ０、１また は２の整数であり；Ｒ₃はナフトピランの環原子の１０番および/または１１番に 位置してもよく；Ｒ₄は環原子の６番および/または７番に位置してもよい。ｍお よびｎが２であるとき、Ｒ₃（およびＲ₄）置換基は同じであっても異なっていて もよい。より好ましくは、Ｒ₃およびＲ₄がそれぞれ、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁− Ｃ₃アルコキシ、またはフルオロであり；ｍおよびｎがそれぞれ０または１であ り；Ｒ₃が環原子の１１番に位置し、Ｒ₄が環原子の６番に位置する。最も好まし くは、Ｒ₃およびＲ₄がそれぞれＣ₁−Ｃ₃アルキルまたはＣ₁−Ｃ₃アルコキシであ り、ｍおよびｎがそれぞれ０または１の整数である。 構造式ＩのＢおよびＢ'はそれぞれ、（ｉ）非置換、モノ、ジ、およびトリ置 換アリール基、フェニルおよびナフチル；（ii）非置換、モノおよびジ置換芳香 族複素環式基ピリジル、フラニル、ベンゾフラン−２−イル、ベンゾフラン−３ −イル、チエニル、ベンゾチエン−２−イル、ベンゾチエン−３−イルであり、 （ｉ）および（ii）の前記アリールおよび芳香族複素環式置換基はそれぞれ、ヒ ドロキシ、アミノ、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキルアミノ、ジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキル アミノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピリール（pyrryl）、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₆クロロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆フルオロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、モノ （Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキル、アクリルオキシ、メタクリルオ キシ、クロロおよびフルオロから成る群から選択される；（iii）下記構造式： ［式中、Ａは炭素または酸素であってよく、Ｄは酸素または置換窒素であってよ く、但し、Ｄが置換窒素であるとき、Ａは炭素であることを条件とし、前記窒素 置換基は、水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルおよびＣ₂−Ｃ₆アシルから成る群から選択さ れ；各Ｒ₈は、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ヒドロキシ、クロロま たはフルオロであり；Ｒ₉およびＲ₁₀はそれぞれ水素またはＣ₁−Ｃ₆アルキルで あり；ｐは０、１または２の整数である］ によって示される基；（iv）Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆クロロアルキル、Ｃ₁ −Ｃ₆フルオロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキル、Ｃ₃−Ｃ₆ シクロアルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ（Ｃ₃−Ｃ₆）シクロアルキル、モ ノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキル（Ｃ₃−Ｃ₆）シクロアルキル、クロロ（Ｃ₃−Ｃ₆）シク ロアルキル、およびフルオロ（Ｃ₃−Ｃ₆）シクロアルキル；および（ｖ）下記構 造式： ［式中、Ｘは水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキルであり、Ｚは、ナフチル、フェニル、 フラニルおよびチエニルから成る群の、非置換、モノおよびジ置換のものから選 択することができ、（ｖ）における前記基の置換基はそれぞれＣ₁−Ｃ₄アルキル 、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、フルオロ、またはクロロである］ によって示される基； から成る群から選択することができ、または（vi）ＢおよびＢ'が一緒になって 、フルオレン−９−イリデン、モノまたはジ置換フルオレン−９−イリデンを形 成するかまたは、飽和Ｃ₃−Ｃ₁₂スピロ−単環式炭化水素環、例えば、シクロピ リデン、シクロブチリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、シクロ ヘプチリデン、シクロオクチリデン、シクロノニリデン、シクロデシリデン、シ クロウンデシリデン、シクロドデシリデン、飽和Ｃ₇−Ｃ₁₂スピロ−二環式炭化 水素環、例えば、ビシクロ［２.２.１］ヘプチリデン、即ち、ノルボルニリデン 、１,７,７−トリメチルビシクロ［２.２.１］ヘプチリデン、即ち、ボルニリデ ン、ビシクロ［３.２.１］オクチリデン、ビシクロ［３.３.１］ノナン−９−イ リデン、ビシクロ［４.３.２］ウンデカン、および飽和Ｃ₇−Ｃ₁₂スピロ−三環 式炭化水素環、例えば、トリシクロ［２.２.１.０²⁶］ヘプチリデン、トリシク ロ［３ .３.１.１³⁷］デシリデン、即ち、アダマンチリデン、およびトリシクロ［５.３ .１.１²⁶］ドデシリデンから成る群から選択されるものを形成し、前記フロオレ ン−９−イリデン置換基はそれぞれ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、 フルオロおよびクロロから成る群から選択される。 より好ましくは、ＢおよびＢ'がそれぞれ、（ｉ）フェニル、好ましくはメタ および/またはパラ位で置換されたモノ置換フェニルおよびジ置換フェニル；（i i）非置換、モノおよびジ置換芳香族複素環式基フラニル、ベンゾフラン−２− イル、チエニル、およびベンゾチエン−２−イルであって、前記フェニルおよび 芳香族複素環式置換基がそれぞれ、ヒドロキシ、アミノ、モノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アル キルアミノ、ジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキルアミノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピリー ル(pyrryl)、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃クロロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃フルオロア ルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、モノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコキシ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキ ル、フルオロおよびクロロから成る群から選択される；（iii）構造式IIＡおよ びIIＢ［式中、Ａは炭素、およびＤは酸素であり、Ｒ₈はＣ₁−Ｃ₃アルキルまた はＣ₁−Ｃ₃アルコキシであり、Ｒ₉およびＲ₁₀はそれぞれ、水素またはＣ₁−Ｃ₄ アルキルであり、ｐは０または１の整数である］によって示される基であり、； （iv）Ｃ₁−Ｃ₄アルキル；および（ｖ）構造式IIＣ［式中、Ｘは水素またはメチ ルであり、Ｚはフェニルまたはモノ置換フェニルである］によって示される基で あって、前記フェニル置換基が、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、およ びフルオロから成る群から選択される；から成る群から選択され、または（vi） ＢおよびＢ'が一緒になって、フルオレン−９−イリデン、モノ置換フルオレン −９−イリデン、または飽和Ｃ₃−Ｃ₈スピロ−単環式炭化水素環、飽和Ｃ₇−Ｃ_{1 0} スピロ−二環式炭化水素環、および飽和Ｃ₇−Ｃ₁₀スピロ−三環式炭化水素環か ら成る群から選択されるものを形成し、前記フルオレン−９−イリデン置換基は 、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、フルオロおよびクロロから成る群か ら選択される。 最も好ましくは、ＢおよびＢ'がそれぞれ、（ｉ）フェニル、モノおよびジ置 換フェニル；（ii）非置換、モノおよびジ置換芳香族複素環式基フラニル、ベン ゾフラン−２−イル、チエニル、およびベンゾチエン−２−イルであり、前記フ ェニルおよび芳香族複素環式置換基はそれぞれ、ヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル 、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、フルオロおよびクロロから成る群から選択される；およ び（iii）構造式IIＡ［式中、Ａは炭素、およびＤは酸素であり、Ｒ₈はＣ₁−Ｃ₃ アルキルまたはＣ₁−Ｃ₃アルコキシであり、Ｒ₉およびＲ₁₀はそれぞれ水素また はＣ₁−Ｃ₃アルキルであり、ｐは０または１の整数である］によって示される基 ；から成る群から選択され；または（vi）ＢおよびＢ'が一緒になって、フルオ レン−９−イリデン、アダマンチリデン、ボルニリデン、ノルボルニリデン、ま たはビシクロ［３.３.１］ノナン−９−イリデンを形成する。 前記の置換基Ｒ₃、Ｒ₄、ＢおよびＢ'を有する構造式Ｉで示される化合物は、 下記反応式Ａ〜Ｅによって製造することができる。前記の置換基Ｒ₁およびＲ₂を 有する構造式Ｉで示される化合物の製造方法は、反応式ＤおよびＥに含まれる。 構造式Ｖ、ＶＡまたはＶＢで示される化合物は、購入されるかまたは、構造式II Iの商業的に入手可能な置換または非置換ベンゼン化合物と共に、構造式IVの適 切な置換または非置換塩化ベンゾイルを用いて、反応式Ａに示されるフリーデル −クラフツ法によって製造することができる。出版物Friedel-Crafts and Relat ed Reactions ，George A．Olah，Interscience Publishers，1964，Vol.3，Chap ter XXXI（Aromatic Ketone Synthesis）、およびIshihara，Yugiらによる「Reg ioselective Friedel-Crafts Acylation of 1,2,3,4-Tetrahydroquinoline and Related Nitrogen Heterocycles:Effect on NH Protective Groups and Ring Si ze」,J．Chem．Soc.，Perkin Trans．1，p.3401〜3406,1992を参照。 反応式Ａにおいて、構造式IIIおよびIVによって示される化合物が、二硫化炭 素または塩化メチレンのような溶媒中に溶解され、塩化アルミニウムまたは四塩 化錫のようなルイス酸の存在下に反応して、構造式Ｖ（反応式ＢのＶＡ、または 反応式ＣのＶＢ）で示される対応する置換ベンゾフェノンを生成する。Ｒおよび Ｒ'は、構造式Ｉに関して前記に記載した可能な置換基を表す。 反応式Ｂにおいて、構造式Ｖに示すような、構造式ＶＡ［式中、ＢおよびＢ' は置換または非置換フェニル以外の基を表してもよい］によって示される置換ま たは非置換ケトンが、無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）のような適切な溶媒中 で、ナトリウムアセチリドと反応して、構造式VIで示される対応するプロパルギ ルアルコールを生成する。置換または非置換フェニル以外のＢまたはＢ'基を有 するプロパルギルアルコールは、商業的入手可能なケトンから、またはハロゲン 化アシルと置換または非置換ベンゼン、ナフタレンまたはヘテロ芳香族化合物と の反応によって製造されるケトンから、製造することができる。構造式IIＣで示 されるＢまたはＢ'基を有するプロパルギルアルコールは、米国特許第５２７４ １３２号、第２列、第４０〜６８行に記載されている方法によって製造すること ができる。 反応式Ｃにおいて、構造式ＶＢで示される置換または非置換ベンゾフェノンが 、構造式VIIで示される琥珀酸ジメチルのような琥珀酸のエステルと反応する。 カリウムｔ−ブトキシドまたはハロゲン化ナトリウムを塩基として含有する溶媒 、例えばトルエンに、反応物を添加することによって、構造式VIIIで示されるス トッブ縮合半エステルを生成する。ベンゾフェノン上のＲ₃およびＲ₄が同じでな い場合、即ち、構造的に対照でない場合、シスおよびトランス半エステルの混合 物が 形成され、明瞭な異性体を単離するためにさらに精製が必要となる。半エステル （VIII）が、無水酢酸の存在下にシクロ脱水されて、構造式IXで示されるアセト キシナフタレンを生成する。この生成物を、水酸化ナトリウムのような塩基の水 性アルコール溶液中で加水分解し、続いて塩酸（Ｈ⁺）で処理して、構造式Ｘで 示されるカルボキシナフトールを生成する。 反応式Ｄにおいて、構造式Ｘで示されるカルボキシナフトールが、燐酸のよう な酸の存在下に、例えば約１６０℃〜約２２０℃に加熱することによって環化さ れて、構造式ＸＩで示されるヒドロキシ置換ベンズ縮合フルオレノンが生成され る。F.G．Baddarらによる、J．Chem．Soc.，p.986，1958の記事を参照。構造式 ＸＩで示される化合物を合成する別の方法が、C.F．Koelschによって、Journal of Organic Chemistry，第26巻，p2590,1961に記載されている。 酸、例えばドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＢＳＡ）の触媒量の存在下におけ る、構造式ＸＩで示される化合物と、構造式ＶＩで示されるプロパルギルアルコ ールとの結合の結果として、構造式ＩＡで示されるインデノ縮合ナフトピランが 生成される。ウォルフ−キシュナー還元によって構造式ＸＩで示される化合物を 還元し、その結果として、構造式ＸＩＡで示される化合物が生成される。構造式 ＸＩＡで示される化合物と、構造式ＶＩで示されるプロパルギルアルコールとの 結合の結果として、構造式ＩＢで示されるインデノ縮合ナフトピランが生成され る。構造式ＩＢ中の水素の、アルキル基、例えばＲ₁およびＲ₂での置換が、化合 物ＩＢとトリアルキルアルミニウムとの反応によって行われて、構造式ＩＣで示 される化合物を生成する。 Ｒ₁およびＲ₂がアルキルの代わりにアルコキシであるかまたは、Ｒ₁およびＲ₂ が一緒になって、酸素原子２個およびスピロ炭素原子を含む炭素原子を３〜６個 含むスピロ複素環式基を形成する、構造式ＩＣで示される化合物に類似した化合 物を、触媒量の酸の存在下に、構造式ＩＡで示される化合物とアルコールまたは ジオールとをそれぞれ反応させることによって製造することができる。 反応式Ｅにおいて、異なるＲ₁およびＲ₂置換基を有する、構造式Ｉで示される 化合物を製造する別の方法が記載されている。構造式ＩＡで示される化合物で出 発し、水酸化リチウムアルミニウム（ＬＡＨ）で還元して、構造式ＩＤで示され る化合物を生成する。カルボニル基を還元する他の方法が、文献The Chemistry of the Carbonyl Group ，Chapter 11、Saul Patai，Editor，1966，Interscienc e Publishersに開示されている。 構造式ＩＤで示される化合物と、可能な置換基Ｒ'を有する塩化アシルとの反 応の結果、構造式ＩＥで示される化合物力性成される。構造式ＩＡで示される化 合物上に異なるＲ₁およびＲ₂置換基を組み込む別の方法は、化合物（ＩＡ）を、 可能な置換基Ｒを有するグリニャールまたはリチウム試薬と反応させて、構造式 ＩＦで示される化合物を生成する方法である。それに続いて、塩酸のような酸の 存在下に、構造式ＩＦで示される化合物と、可能な置換基Ｒ'を有するアルコー ルとを反応させ、その結果として構造式ＩＧで示される化合物が生成される。 光学レンズ、例えば、視力修正眼用レンズおよび平面レンズ、フェースシール ド（face shields）、ゴーグル、まびさし（visors）、カメラレンズ、窓、自動 車のフロントガラス、航空機および自動車の透明物、例えば、Ｔルーフ、サイド ライトおよびバックライト、プラスチックフィルムおよびシート、織物および塗 料、例えば、ペイントのような塗料、ならびに、真正の認証または証明が所望さ れる銀行券、パスポートおよび自動車免許証のような保証書類上の証明マークの ような、有機フォトクロミック物質が使用される用途に、構造式Ｉで示される化 合物を使用することができる。構造式Ｉで示されるナフトピランは、無色からオ レンジ色〜青色/灰色の範囲の着色という色の変化を示す。 本発明の範囲に含まれるナフトピラン化合物の例は下記のものである： （ａ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（３−メチル−４−メトキシフェ ニル）−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン ； （ｂ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−１３−ヒドロキシ−１３−メチ ル−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； （ｃ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（２,３−ジヒドロベンゾフル− ５−イル）−１３−ヒドロキシ−１３−メチル−インデノ［２,１−ｆ］ナフト ［１,２−ｂ］ピラン； （ｄ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（２,３−ジヒドロベンゾフル− ５−イル）−１３−アセトキシ−６,１１−ジメトキシ−１３−メチル−インデ ノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； （ｅ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−メト キシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； （ｆ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６−メチル−１１−フルオロ− １３,１３−ジエトキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； （ｇ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−（１ −メチルエチル）−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２− ｂ］ピラン； （ｈ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（３,４−ジメトキシフェニル） −６,１１−ジメチル−１３,１３−ジプロピル−インデノ［２,１−ｆ］ナフト ［１,２−ｂ］ピラン；および （ｉ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−ブチ ル−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン。 本発明の有機フォトクロミックナフトピランは、単独で使用することもでき、 本発明の他のナフトピランとの組み合わせで使用することもでき、または、１種 またはそれ以上の他の補足的有機フォトクロミック物質、即ち、約４００〜７０ ０ナノメートルの範囲内の少なくとも１つの活性吸収極大を有する有機フォトク ロミック化合物、またはそれを含有する物質との組み合わせで使用することもで き、フォトクロミック物品を製造するのに使用され、活性化したときに適切な色 に着色するポリマー有機ホスト材料中に、組み込む、例えば溶解または分散させ ることもできる。 作業実施例を除いて、または特に記載のない場合、本明細書において使用され ている、波長、成分の量、または反応条件を表す数字は、全ての場合において、 「約」という語によって修飾されるものであると理解すべきである。 補足的有機フォトクロミック化合物の例は、他のナフトピラン、ベンゾピラン 、フェナントロピラン、スピロ（ベンズインドリン）ナフトピラン、スピロ（イ ンドリン）ベンゾピラン、スピロ（インドリン）ナフトピラン、スピロ（インド リン）キノピラン、スピロ（インドリン）ピラン、スピロ（インドリン）ナフト キサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンズオキサジン、スピロ（ベンズイン ドリン）ピリドベンズオキサジン、スピロ（ベンズインドリン）ナフトオキサジ ン、スピロ（インドリン）ベンズオキサジン、およびそのようなフォトクロミッ ク化合物の混合物を包含する。 本明細書中に記載されている各フォトクロミック物質は、フォトクロミック化 合物または化合物の混合物が被覆または組み込まれている有機ホスト材料が、結 果として生ずる所望の色、例えば、未フィルターの日光で活性化されたときに実 質的中間色(neutral colour)を示す、即ち、活性化されたフォトクロミック化合 物の色が可能な限り中間色に近い色を示すような量（または比率）で使用される 。 中間灰色は、４００〜７００ナノメートルの可視範囲において、比較的等しい 吸収を有するスペクトルを示す。中間褐色は、４００〜５５０ナノメートルの範 囲における吸収が、５５０〜７００ナノメートルの範囲におけるよりも適度に大 きいスペクトルを示す。色を記載する別の方法は色度座標によるものであり、こ れは、輝度要素に加えた色の質、即ち色度、を記載するものである。ＣＩＥシス テムにおいては、三刺激値のそれらの合計に対する比、例えばｘ＝Ｘ/（Ｘ＋Ｙ ＋Ｚ）およびｙ＝Ｙ/（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）を求めることによって、色度座標が得られ る。ＣＩＥシステムで記載される色を色度グラフにプロットすることができ、通 常、色度座標ｘおよびｙのプロットである。F.W．Billmeyer，Jr.,およびMax Sa ltzmanによるPrinciples of Color Technology，Second Edition，John Wiley a nd Sons，N.Y.(1981)のp.47-52を参照。本明細書で使用されている中間色に近い 色とは、色の「ｘ」および「ｙ」の色度座標値が下記範囲内（Ｄ６５発光体）で ある色を意味する：太陽輻射（気団１または２）への暴露により４０％の視感透 過に活性化後、ｘ＝０.２６０〜０.４００、ｙ＝０.２８０〜０.４００。 ホスト材料に被覆または組み込まれる、フォトクロミック物質またはそれを含 有する組成物の量は、活性時に裸眼で識別できるフォトクロミック効果を生じる のに充分な量が使用されることを条件として、限定されない。一般に、そのよう な量を、フォトクロミック量として記載することができる。特定の使用量は、フ ォトクロミック物質の照射時に所望される色の強度、およびそのフォトクロミッ ク物質を組み込む、または被覆するのに使用される方法に依存する場合が多い。 一般に、より多くのフォトクロミック物質が適用または組み込まれるほど、ある 限界までの色の強度がより高くなる。 使用される前記フォトクロミック化合物の相対量は、そのような化合物の活性 種の色の相対強度、および所望される最終の色によって、部分的に変化および依 存する。一般に、フォトクロミック光学ホスト材料に組み込みまたは被覆される 全フォトクロミック物質の量は、フォトクロミック物質が組み込みまたは被覆さ れる表面１平方センチメートルにつき約０.０５〜約１.０、例えば、０.１〜約 ０.４５ミリグラムである。 本発明のフォトクロミック物質を、文献に記載されている種々の方法によって 、ポリマー有機ホスト材料のようなホスト材料に、被覆または組み込むことがで きる。そのような方法は、ホスト材料中にフォトクロミック物質を溶解または分 散させることを包含し、例えば、重合の前に、モノマーホスト材料にフォトクロ ミック物質を加えることによって、それを適所に注入すること；フォトクロミッ ク物質の熱溶液にホスト材料を浸漬することによって、または熱移動によって、 ホスト材料中にフォトクロミック物質を吸収させること（imbibition）；隣接す るホスト材料の層の間に、フォトクロミック物質を、分離層として、例えばポリ マーフイルムの一部として、配置すること；およびホスト材料の表面上に配置さ れる被膜の一部として、フォトクロミック物質を被覆すること；を包含する。「 吸収（imbibition）」または「吸収する（imbibe）」という語は、フォトクロミ ック物質のみのホスト材料への透過、フォトクロミック物質の、多孔質ポリマー への溶媒補助移動、蒸気層移動、および他のそのような移動メカニズムを意味し 、包含する。 相溶性（化学的および色的に）の色材(tint)、即ち染料を、ホスト材料に被覆 して、医学的理由またはファッション的理由に対して、より審美的な結果を生じ させることができる。選択される特定の染料は、前記の要求および達成すべき結 果に依存して変化する。１つの態様においては、活性フォトクロミック物質から 生じる色を補足するために、例えば、より中間色の色を得るために、または入射 光の特定の波長を吸収するために、染料が選択される。別の態様においては、フ ォトクロミック物質が未活性状態にあるときに、主マトリックスに所望の色合い を与えるように、染料が選択される。 ホスト材料は通常、透明であるが、半透明であってもよく、さらには不透明で あってもよい。ホスト材料は、フォトフロミック物質を活性化させる電磁スペク トルの部分、即ち、物質の開放形態（open form）を生じさせる紫外線（ＵＶ） の波長に対して、および、そのＵＶ活性形態、即ち開放形態、における物質の吸 収極大波長を含む可視スペクトルの部分に対してのみ、透明である必要がある。 好ましくは、ホスト材料の色は、フォトクロミック物質の活性形態の色を遮蔽（ mask）するような色であってはならず、即ち、色の変化が観察者に用意に認識で きるような色でなければならない。より好ましくは、ホスト材料物品は、透明ま たは光学的に透明な固体物質であり、例えば、平面レンズおよび眼用レンズ、窓 、自動車の透明物、例えばフロントガラス、航空機透明物、プラスチックシート 、ポリマーフィルムなどのような光学的用途に適している物質である。 本明細書に記載のフォトクロミック物質または組成物と共に使用することがで きるポリマー有機ホスト材料の例は、以下のものを包含する：ポリマー、即ち、 ポリオール（アリルカーボネート）モノマー、ジエチレングリコールジメタクリ レートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマー、エトキシル化ビスフェノ ールＡジメタクリレートモノマー、エチレングリコールビスメタクリレートモノ マー、ポリ（エチレングリコール）ビスメタクリレートモノマー、エトキシル化 フェノールメタクリレートモノマー、およびアルコキシル化多価アルコールアク リレートモノマー、例えばエトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレー トモノマーの、ホモポリマーおよびコポリマー；ポリマー、即ち、多官能価、例 えば、モノ、ジまたはマルチ官能価の、アクリレートおよび/またはメタクリレ ートモノマー、ポリ（Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルメタクリレート）のホモポリマー及び コポリマー、例えばポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（オキシアルキレンジ メタクリレート）、ポリ（アルコキシル化フェノールメタクリレート）、セルロ ースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネ ート、セルロースアセテートブチレート、ポリ（ビニルアセテート）、ポリ（ビ ニルアルコール）、ポリ（ビニルクロリド）、ポリ（ビニリデンクロリド）、ポ リウレタン、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ（エチレンテレフ タレート）、ポリスチレン、ポリ（αメチルスチレン）、コポリ（スチレン−メ チルメタクリレート）、コポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリビニルブ チラール；およびポリマー、即ち、ジアリリデンペンタエリトリトールのホモポ リマーおよびコポリマー、特に、ポリオール（アリルカーボネート）モノマー、 例えばジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）、およびアクリレート モノマーとのコポリマー。 透明コポリマーおよび透明ポリマーのブレンドも、ホスト材料として適してい る。好ましくは、ホスト材料は、商品名LEXANとして市販されている、ビスフェ ノールＡおよびホスゲンから誘導されるカーボネート結合樹脂のような、熱可塑 性ポリカーボネート樹脂から製造される光学的に透明な重合有機物質；商品名MY LARとして市販されている物質のようなポリエステル；商品名PLEXIGLASとして市 販されている物質のようなポリ（メチルメタクリレート）；ポリオール（アリル カーボネート）モノマー、特にジエチレングリコールビス（アリルカーボネート ）（このモノマーは商品名CR-39として市販されている）の重合体、および、ポ リオール（アリルカーボネート）、例えばジエチレングリコールビス（アリルカ ーボネート）と、他の共重合性モノマー物質とのコポリマー、例えばビニルアセ テートとのコポリマー、例えば、８０〜９０％ジエチレングリコールビス（アリ ルカーボネート）と１０〜２０％ビニルアセテート、特に８０〜８５％ビス（ア リルカーボネート）と１５〜２０％ビニルアセテートとのコポリマー、および米 国特許第４３６０６５３号および第４９９４２０８号に記載の、末端ジアクリレ ート官能価を有するポリウレタンとのコポリマー、および米国特許第５２００４ ８３号に記載の、その末端部分がアリルまたはアクリリル官能基を有する脂肪族 ウレタンとのコポリマーの重合体；ポリ（ビニルアセテート）、ポリビニルブチ ラール、ポリウレタン、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、ジイ ソプロペニルベンゼンモノマー、エトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレー トモノマー、エチレングリコールビスメタクリレートモノマー、ポリ（エチレン グリコール）ビスメタクリレートモノマー、エトキシル化フェノールメタクリレ ートモノマーおよびエトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレートモノ マーから成る群のモノマーのポリマー；セルロースアセテート、セルロースプロ ピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートブチレート、ポリス チレン、ならびに、スチレンと、メチルメタクリレート、ビニルアセテートおよ びアクリロニトリルとのコポリマーである。 光学的に透明な重合体、即ち、平面レンズおよび眼用レンズ、窓、ならびに自 動車の透明物のような光学的用途に適した物質、を製造するために使用される光 学的有機樹脂モノマーと共に、本発明のフォトクロミックナフトピランを使用す ることが特に考えられる。そのような光学的に透明な重合体は、約１.４８〜約 １.７５、例えば、約１.４９５〜約１.６６の範囲の屈折率を有する。特に考え られるのは、PPG Industries，Inc.によって、商品名CR-307およびCR-407として 販売されている光学樹脂である。 下記実施例において本発明をより詳しく説明するが、それらの実施例において 多くの改質および変更が当業者に明らかであるので、それらの実施例は説明する ことのみを意図するものである。実施例１ 段階１ カリウムｔ−ブトキシド（７５ｇ、０.６７モル）を、トルエン２００ミリリ ットル（ｍＬ）を含有する反応フラスコに加えた。反応フラスコに、オーバーヘ ッド攪拌器、滴下漏斗、および窒素入口を備えた冷却器を取り付けた。反応フラ スコの内容物を還流温度に加熱し、ベンゾフェノン（９１ｇ、０.５モル）、琥 珀酸ジメチル（９０ｇ、０.６２モル）、およびトルエン（１００ｇ）の混合物 を半時間かけて加えた。得られるペースト状の混合物をさらに２時間還流し、冷 却し、約４００ｍＬの水を加え、充分に混合した。水性層を分離し、稀塩酸で酸 性にし、トルエン２００ｍＬで抽出した。溶媒、トルエンおよび残留ｔ−ブタノ ールを回転蒸発器で除去して、近似定量収量（a near quantitative yield）の 未精製半エステル、４,４−ジフェニル−３−メトキシカルボニル−３−ブテン 酸を生成した。この物質をさらに精製することなく、次の段階に直接使用した。段階２ 段階１からの未精製半エステルを、トルエン２００ｍＬを含有する反応フラス コに加えた。無水酢酸（１００ｇ）および無水酢酸ナトリウム（１５ｇ）を加え 、混合物を１７時間還流した。混合物を冷却し、溶媒、トルエンを回転蒸発器で 除去した。得られる残留物を塩化メチレン２００ｍＬに溶解し、攪拌した。水（ ２００ｍＬ）を加え、続いて、二酸化炭素の発生が止むまで固体炭酸ナトリウム を ゆっくりと加えた。塩化メチレン層を分離し、水洗した。溶媒、塩化メチレンを 回転蒸発器で除去して、主に１−フェニル−２−メトキシカルボニル−４−アセ トキシ−ナフタレンを含有する粘稠油を得た。この物質をさらに精製することな く、次の段階に直接使用した。段階３ 段階２からの１−フェニル−２−メトキシカルボニル−４−アセトキシ−ナフ タレンを含有する油を、メタノール４００ｍＬを含有する反応フラスコに加えた 。濃塩酸２ｍＬを加え、混合物を加熱還流した。約４時間後、混合物の容量を回 転蒸発器で半分に減少させた。混合物を冷却すると、生成物が結晶化を開始した 。得られる結晶を吸引濾過し、新たなメタノールで洗浄し、乾燥した。回収生成 物１００ｇは、１７４〜１７６℃の融点を有し、核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ ）は、その生成物が４−フェニル−３−メトキシカルボニル−１−ナフトールと 一致する構造を有することを示した。段階４ 段階３からの４−フェニル−３−メトキシカルボニル−１−ナフトール１００ ｇを、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液３５０ｍＬおよびメタノール５０ｍＬ を含有する反応フラスコに加えた。混合物を１時間還流し、冷却し、次に、約１ リットルの冷却（約４℃）稀塩酸を含有するビーカーにゆっくりと注いだ。２１ ０℃〜２１２℃の融点を有する得られる結晶性生成物、１−フェニル−４−ヒド ロキシ−２−ナフトエ酸、約９０ｇを、真空濾過によって集めた。段階５ 段階４からの１−フェニル−４−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸３５ｇを、８５ 重量％燐酸溶液３５ｇを含有する反応フラスコに加えた。得られる混合物を１９ ０℃〜２００℃に加熱し、この温度で１時間維持した。この間に、深い赤色の固 体生成物が形成された。混合物を冷却し、水２００ｍＬを加えた。固形物をスパ チュラで砕き、濾過し、水、５重量％重炭酸ナトリウム水溶液、および水で、連 続的に洗浄した。赤色生成物、５−ヒドロキシ−７Ｈ−ベンゾ［Ｃ］−フルオレ ン−７−オン、１８ｇを、真空濾過によって回収した。段階６ 段階５からの５−ヒドロキシ−７Ｈ−ベンゾ［Ｃ］−フルオレン−７−オン（ ６ｇ）を、１,１−ジ（４−メトキシフェニル）−２−プロピン−１−オール（ ６ｇ）およびトルエン１００ｍＬを含有する反応フラスコに加えた。得られる混 合物を攪拌し、５０℃に加熱し、ドデシルベンゼンスルホン酸を３滴加え、反応 混合物を５０℃で５時間維持した。反応混合物を室温に冷まし、濾過し、集めた 濾液を５重量％水酸化ナトリウム水溶液で３回洗浄した。溶媒、トルエンを、回 転蒸発器で除去し、残留物にアセトンを添加したときに、所望生成物が結晶化し た。固形物を真空濾過し、新たなアセトンで洗浄し、乾燥して、１９０℃〜１９ １℃の融点を有する赤色−オレンジ色の生成物６.２ｇが得られた。ＮＭＲは、 その生成物が３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−１３−オキソ−インデノ［ ２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造を有することを示した。段階７ 段階６からの３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−１３−オキソ−インデノ ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン３ｇを、無水ジエチルエーテル５０ｍ Ｌを含有する反応フラスコに加えた。赤色−オレンジ色が完全に消えるまで、水 素化リチウムアルミニウムを少量ずつ攪拌混合物に加えた。反応混合物をさらに １０分間攪拌し、少量のエタノールで急冷し、５重量％塩酸２００ｍＬに注いだ 。有機層を分離し、水洗し、濾過し、溶媒、ジエチルエーテルを、回転蒸発器で 除去した。ヘキサン：酢酸エチルの２：１混合物約１０ミリリットルを残留物に 加えることによって、所望生成物の結晶化が生じた。回収した結晶を、ヘキサン ：酢酸エチルの２：１混合物の少量で洗浄し、乾燥して、融点１２７℃〜１２９ ℃を有する生成物２.６ｇを得た。ＮＭＲスペクトルは、その生成物が、３,３− ジ−（４−メトキシフェニル）−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナ フト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造を有することを示した。実施例２ 段階７において、３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−１３−オキソ−イン デノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン３ｇを、無水テトラヒドロフラン ５０ｍＬを含有する反応フラスコに加えたことを除いては、実施例１の工程に従 った。過剰量のメチルグリニャール試薬を攪拌しながら反応に加える間、混合物 を氷浴で冷却し、窒素パッドによって湿気から保護した。さらに１０分間攪拌し た後、５重量％塩酸２００ｍＬを加え、有機層を分離し、水洗した。溶媒、テト ラヒドロフランを回転蒸発器で除去した。ヘキサン：酢酸エチルの２：１混合物 約１０ミリリットルを、残留物に添加することによって、非フォトクロミック物 質の結晶化が生じた。この物質を濾過によって分離した。ヘキサン：酢酸エチル の３：１混合物を溶離剤として用いて、濾液をシリカ上でカラムクロマトグラフ ィーに掛けた。エーテルから結晶化した所望生成物を、濾過し、乾燥して、融点 １２５℃〜１２６℃を有する生成物０.７ｇを得た。ＮＭＲスペクトルは、この 生成物が、３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−１３−ヒドロキシ−１３−メ チル−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造を有す ることを示した。実施例３ 段階６において、１−（２,３−ジヒドロベンゾフル−５−イル）−１−（４ −メトキシフェニル）−２−プロピン−１−オールが、１,１−ジ（４−メトキ シフェニル）−２−プロピン−１−オールの代わりに使用されたことを除いては 、実施例１の工程に従った。得られる生成物、３−（４−メトキシフェニル）− ３−（２,３−ジヒドロベンゾフル−５−イル）−１３−オキソ−インデノ［２, １−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランを、実施例２に記載のように、段階７にお ける３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−１３−オキソ−インデノ［２,１−ｆ ］ナフト［１,２−ｂ］ピランの代わりに使用した。得られるジアステレオマー 混合物をエーテルヘキサン混合物から結晶化し、濾過し、乾燥した。回収した結 晶３.７ｇは、１２１℃〜１３５℃の温度範囲で融解した。ＮＭＲスペクトルは 、生成物が、３−（４−メトキシフェニル）−３−（２,３−ジヒドロベンゾフ ル−５−イル）−１３−ヒドロキシ−１３−メチル−インデノ［２,１−ｆ］ナ フト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造を有することを示した。実施例４ 段階１において、ベンゾフェノンに代わって使用された４,４'−ジメチルベン ゾフェノン（１０５ｇ、０.５モル）を可溶化するために、トルエン１００ｇの 代わりに２００ｇを使用して、４,４−ジ（４−メチルフェニル）−３−メトキ シカルボニル−３−ブテン酸を生成したことを除いては、実施例１の工程に従っ た。このストッブ半エステルを段階２に使用して、融点１４４℃〜１４６℃を有 する１−（４−メチルフェニル）−２−メトキシカルボニル−４−アセトキシ− ６−メチルナフタレン１００ｇを生成した。実施例１の工程の段階３を省略した 。段階４において、４−フェニル−３−メトキシカルボニル−１−ナフトールに 代わって１−（４−メチルフェニル）−２−メトキシカルボニル−４−アセトキ シ−６−メチルナフタレンを使用して、融点２１０℃〜２１３℃を有する１−（ ４−メチルフェニル）−４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ナフトエ酸を生成し た。段階５において、この生成物１００ｇを、１−フェニル−４−ヒドロキシ− ２−ナフトエ酸の代わりに使用し、キシレン（２５０ｇ）および８５重量％燐酸 溶液２５０ｇと混合した。攪拌混合物を、ジーン−スタークトラップ（Dean-Sta rk trap）を備えた１リットルフラスコ中で、２０時間還流して、３,９−ジメチ ル−５−ヒドロキシ−７Ｈ−ベンゾ［Ｃ］−フルオレン−７−オン９０ｇを生成 し、その生成物２.０ｇを、１−（２,３−ジヒドロベンゾフラ−５−イル）−１ −（４−メトキシフェニル）−２−プロピン−１−オール３.０ｇと共に、段階 ６に使用した。得られる生成物、３−（４−メトキシフェニル）−３−（２,３ −ジヒドロベンゾフラ−５−イル）−６,１１−ジメチル−１３−オキソ−イン デノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランを段階７において、エーテルヘキ サン混合物を生成物を結晶化するために使用したことを除いては実施例２に記載 のように使用した。回収生成物１.２ｇは、１９８℃〜２００℃の融点を有した 。ＮＭＲスペクトルは、この生成物が、３−（４−メトキシフェニル）−３−（ ２,３−ジヒドロベンゾフラ−５−イル）−１３−ヒドロキシ−６,１１,１３− トリメチル−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造 を有することを示した。実施例５ 段階６において、１,１−ジ（４−メトキシフェニル）−２−プロピン−１− オール１０ｇを、３,９−ジメチル−５−ヒドロキシ−７Ｈ−ベンゾ［Ｃ］−フ ルオレン−７−オン１０ｇと反応させて、融点２２７℃〜２２９℃を有する生成 物１６ｇを生成したこと以外は、実施例４の工程に従った。ＮＭＲスペクトルは 、この生成物が、３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１ ３−オキソ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造 を有することを示した。段階７において、段階６からのピラン生成物１０ｇを、 過剰量のメチルグリニャールと反応させて、所望生成物を、エーテルヘキサン混 合物の代わりにメタノールから結晶化した。回収生成物８ｇは、２３３℃〜２３ ５℃の融点を有した。ＮＭＲスペクトルは、この生成物が、３,３−ジ（４−メ トキシフェニル）−６,１１,１３−トリメチル−１３−ヒドロキシ−インデノ［ ２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造を有することを示した。実施例６ メチルグリニャール試薬の代わりに、エチルグリニャール試薬の過剰量を、３ ,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−オキソ−インデ ノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン３ｇと反応させて、融点１５３℃〜 １５５℃を有する結晶生成物１.４ｇを生成したことを除いては、実施例５の工 程に従った。ＮＭＲスペクトルは、この生成物が、３,３−ジ（４−メトキシフ ェニル）−６,１１−ジメチル−１３−エチル−１３−ヒドロキシ−インデノ［ ２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造を有することを示した。実施例７ 段階７において、メチルグリニャールの代わりに、イソプロピルグリニャール 試薬の過剰量を、３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１ ３−オキソ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン３ｇと反応させ て、融点２０９℃〜２１０℃を有する結晶性生成物１.７ｇを生成したことを除 いては、実施例５の工程に従った。ＮＭＲスペクトルは、この生成物が、３,３ −ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−（１−メチルエチ ル）−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランと 一致する構造を有することを示した。実施例８ 段階７において、メチルグリニャールの代わりに、ｔ−ブチルグリニャール試 薬の過剰量を、３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３ −オキソ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン３ｇと反応させて 、２４０℃よりも高い融点を有する結晶性生成物１.０ｇを生成したことを除い ては、実施例５の工程に従った。ＮＭＲスペクトルは、この生成物が、３,３− ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−（１,１−ジメチルエ チル）−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン と一致する構造を有することを示した。実施例９ 段階７において、メチルグリニャールの代わりに、ｎ−ブチルリチウム試薬の 過剰量を、３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−オ キソ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン３ｇと反応させて、１ ４８℃〜１５０℃の融点を有する結晶性生成物１.０ｇを生成したことを除いて は、実施例５の工程に従った。ＮＭＲスペクトルは、この生成物が、３,３−ジ （４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−ブチル−１３−ヒドロ キシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造を有す ることを示した。比較例１ 実施例１の段階３からの４−フェニル−３−メトキシカルボニル−１−ナフト ール（２ｇ）および１,１−ジ（４−メトキシフェニル）−２−プロピン−１− オール（２ｇ）を、トルエン１００ミリリットル（ｍＬ）を含有する反応フラス コに加えた。得られる混合物を攪拌し、４０℃に加熱し、ドデシルベンゼンスル ホン酸を２滴加え、この反応混合物を４０℃で３時間維持した。反応混合物を室 温に冷ました後、同容量の水に加えた。有機層を分離し、溶媒、トルエンを、回 転蒸発器で除去した。得られる残留物を、ヘキサン：酢酸エチルの２：１混合物 を溶離剤として用いて、シリカ上でクロマトグラフィーに掛けた。フォトクロミ ッ ク画分を集め、溶媒を留去し、所望生成物をヘキサン/ジエチルエーテル混合物 から結晶化させた。回収した結晶を乾燥し、濾過して、融点１６８℃〜１６９℃ を有する生成物２ｇを得た。ＮＭＲスペクトルは、この生成物が２,２−ジ（４ −メトキシフェニル）,５−メトキシカルボニル,６−フェニル−［２Ｈ］−ナフ ト［１,２−ｂ］ピランと一致する構造を有することを示した。実施例１０ パートＡ 試験正方形重合体に吸収させた、選択されたフォトクロミックナフトピランに 関して試験を行った。試験正方形重合体は、商品名CR-307光学樹脂としてPPG In dustries，Inc.によって販売されているジエチレングリコールビス（アリルカー ボネート）組成物から製造され、１/４インチ（０.６ｃｍ）ｘ２インチ（５.１ ｃｍ）ｘ２インチ（５.１ｃｍ）の寸法であった。試験正方形は下記方法によっ て吸収させた。各ナフトピランを溶解させて、エチルセルロース：トルエンの１ ：９混合物中の１０重量％溶液を形成した。この溶液を次に、試験正方形上に回 転被覆し、乾燥させた。次に、サンプルを、熱風炉中、１３５℃〜１５５℃で、 フォトクロミックナフトピランを試験正方形に熱移動させるのに充分な期間で、 加熱した。冷却後、アセトンで洗浄することによって、試験正方形からエチルセ ルロース/トルエン樹脂フィルムを除去した。試験正方形の炉中での滞留時間を 調節して、個々の化合物のラムダマックス（ＵＶ）における比較できる吸光値を 生じるナフトピラン化合物量を吸収させた。パートＢ パートＡのフォトクロミック試験正方形を、光学ベンチ上でフォトクロミック 応答速度に関して試験した。光学ベンチ上での試験の前に、フォトクロミック試 験正方形を３６５ナノメートル紫外線に約１５分間暴露して、フォトクロミック 化合物を活性化し、次に、７６℃の炉中に約１５分間置いて、フォトクロミック 化合物をブリーチした。次に、試験正方形を室温に冷まし、蛍光室内灯に少なく とも２時間暴露し、次に、７５°Ｆ（２３.９℃）に維持された光学ベンチ上で の試験の前に、少なくとも２時間覆ったままに維持した。 光学ベンチは、１５０ワットキセノンアーク灯、タングステン灯、両灯の電源 、両灯からの平行光線を維持するのに必要な集光レンズ、遠隔コントロールシャ ッター、アーク灯の冷却用放熱器として作用する硫酸銅浴、短波長輻射線を除去 するSchott WG-320nmカットオフフィルター、無彩色濃度フィルター、試験され るサンプルが挿入されるサンプルホルダー、明所視フィルター（photopic filte r）、光検出器、ラジオメーターアセンブリ、帯記録紙レコーダー（strip chart recorder）、および試験の間に前記部材の配列を維持する手段、を有して成る 。 ブリーチされた状態のフォトクロミック試験サンプルをサンプルホルダーに挿 入し、透過率目盛を１００％に調節し、キセノン灯からシャッターを開いて紫外 線を供給してサンプルをブリーチ状態から活性化（暗色化）状態に変換し、サン プルの透過率を測定することによって、サンプルの光学濃度（Δ０Ｄ）の変化を 求めた。タングステン灯からの光線を、サンプル表面に垂直の小角で、サンプル を通過して、ならびに明所視フィルター、光検出器およびラジオメーターアセン ブリに、導くことによって、透過率を測定した。明所視フィルターは、検出器が ヒトの眼の応答をまねるような波長を通過させ、ラジオメーターによって処理さ れるアウトプット信号を発生させる。光学濃度の変化が、式Δ ０Ｄ＝log（１０ ０/％Ｔａ）［式中、％Ｔａは活性状態における％透過率であり、対数は底１０ に対する］によって計算された。 フォトクロミック化合物の紫外線への応答の感度を表すΔ ＯＤ/Minを、ＵＶ 暴露の最初の５秒に関して測定し、次に分ベースで表した。ＵＶ暴露を２０分間 継続したことを除いてはΔ ＯＤ/Minと同じ条件下で、飽和光学濃度（ＯＤ）を 求めた。ラムダマックス（Vis）は、試験正方形中のフォトクロミック化合物の 活性化（着色）形態の最大吸収が起こる可視スペクトル中の波長である。ブリー チ速度（Ｔ １/２）は、活性化光源の除去後、試験正方形中のナフトピランの活 性形態の吸光が、室温（７５°Ｆ、２３.９℃）において最も高い吸光の２分の １に達するまでの時間間隔を秒で表すものである。実施例の化合物に関する結果 を表１に示す。パートＣ 実施例化合物の主生成物をジエチレングリコールジメチルエーテルに溶解させ た。得られる溶液の濃度は、１ミリリットル当たり約０.５ミリグラムであった 。各溶液を、ＵＶ分光光度計で試験して、フォトクロミック化合物の吸収が起こ る、可視スペクトルに最も近い紫外線範囲における波長を求めた。これらの結果 を、表２においてラムダ（λ）マックス（ＵＶ）として示す。 ラムダマックス（Vis）は、試験正方形におけるフォトクロミック化合物の活 性（着色）形態の最大吸収が起こる可視スペクトルにおける波長である。表２に 示されているラムダマックス(Vis)波長は、パートＡのフォトクロミック試験正 方形重合体を、パートＢの光学ベンチ上で試験することによって求めた。 表２に示されるモル吸光率またはモル吸光係数（ε）は、式ε＝Ａ/ｂＭによ り、リットル当たりのモルで表すフォトクロミック化合物溶液の濃度（Ｍ）を掛 けた分光光度計セルの通過長さ（path length）（ｂ）で割った、ＵＶのλマッ クスにおけるジエチレングリコールジメチルエーテル溶液中のフォトクロミック 化合物の吸光に等しい。モル吸光係数は、０.１ｃｍ石英セル中の選択された実 施例化合物の２ｘ１０^-3モル溶液に関して、ＵＶ分光光度計で測定した。 表１に示されるデータは、本発明の各被験化合物が、比較例（ＣＥ）と比較し て、飽和におけるより高いΔ ＯＤ、即ち活性強度（activated intensity）、お よび，より速い着色速度、即ち感度（Δ ＯＤ/分）を有することを示す。実施例 化合物は、許容されるブリーチ速度、即ち退色速度をも示す。 表２に示されるデータは、本発明の各被験化合物が、比較例１と比較して、Ｕ Ｖおよび可視スペクトルにおける深色団シフトを示す、より高いλマックスＵＶ および主ピークのλマックスVis、ならびにＵＶスペクトルにおけるより高いモ ル吸光率またはモル吸光係数（ε）を有することを示している。 本発明を特定の態様の詳細に関して記載した。そのような詳細は、添付の請求 の範囲に含まれているものを除いては、本発明の範囲を制限することを意図する ものではない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 5/23 Ｇ０２Ｂ 5/23 Ｇ０２Ｃ 7/10 Ｇ０２Ｃ 7/10 Ｇ０２Ｆ 1/17 Ｇ０２Ｆ 1/17 Ｇ０３Ｃ 1/685 Ｇ０３Ｃ 1/685 1/73 ５０３ 1/73 ５０３ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＡＵ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，Ｈ Ｕ，ＪＰ，ＫＲ，ＭＸ，ＳＧ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １.下記構造式： ［式中： （ａ）Ｒ₁およびＲ₂が一緒になって、オキソ基、酸素原子２個およびスピロ炭 素原子を含む炭素原子３〜６個を有するスピロ複素環式基を形成し、またはＲ₁ およびＲ₂がそれぞれ、水素、ヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₃−Ｃ₇シクロ アルキル、アリル、フェニル、モノ置換フェニル、ベンジル、モノ置換ベンジル 、クロロ、フルオロ、基−Ｃ（Ｏ）Ｗ［式中、Ｗはヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキ ル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニル、モノ置換フェニル、アミノ、モノ（Ｃ₁− Ｃ₆）アルキルアミノ、またはジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキルアミノ］であり、または Ｒ₁およびＲ₂がそれぞれ、基−ＯＲ₅［式中、Ｒ₅はＣ₁−Ｃ₆アルキル、フェニル （Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキル置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₃）ア ルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₆アルコキシ（Ｃ₂−Ｃ₄）アルキル、Ｃ₃−Ｃ₇シクロアルキル、モノ（Ｃ₁− Ｃ₄）アルキル置換Ｃ₃−Ｃ₇シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆クロロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ フルオロアルキル、アリル、基−ＣＨ（Ｒ₆）Ｘ［式中、Ｒ₆は水素またはＣ₁− Ｃ₃アルキル、ＸはＣＮ、ＣＦ₃、またはＣＯＯＲ₇、Ｒ₇は水素またはＣ₁−Ｃ₃ア ルキル］、またはＲ₅は基−Ｃ（Ｏ）Ｙ［式中、Ｙは水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、 Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、非置換、モノまたはジ置換アリール基、フェニルまたはナ フチル、フェノキシ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキル置換フェノキシ、モノ またはジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ置換フェノキシ、アミノ、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）ア ルキ ルアミノ、ジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキルアミノ、フェニルアミノ、モノまたはジ（Ｃ₁ −Ｃ₆）アルキル置換フェニルアミノ、またはモノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコ キシ置換フェニルアミノ］］であり、前記フェニル、ベンジルおよびアリール基 の置換基はそれぞれＣ₁−Ｃ₆アルキルまたはＣ₁−Ｃ₆アルコキシである； （ｂ）Ｒ₃およびＲ₄はそれぞれ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ク ロロ、またはフルオロ、ならびにｍおよびｎはそれぞれ、０、１、または２の整 数である； （ｃ）ＢおよびＢ'はそれぞれ、 （i）非置換モノ、ジ、およびトリ置換アリール基、フェニルおよびナフ チル； （ii）非置換、モノ、およびジ置換芳香族複素環式基ピリジル、フラニル 、ベンゾフラン−２−イル、ベンゾフラン−３−イル、チエニル、ベンゾチエン −２−イル、ベンゾチエン−３−イルであって、（ｃ）(i)および(ii)における 前記アリールおよび芳香族複素環式置換基は、ヒドロキシ、アミノ、モノ（Ｃ₁ −Ｃ₆）アルキルアミノ、ジ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルキルアミノ、ピペリジノ、モルホ リノ、ピリール、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆クロロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆フルオ ロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ（Ｃ₁−Ｃ₄）ア ルキル、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、クロロおよびフルオロから成る群 から選択される； （iii）下記構造式： ［式中、Ａは炭素または酸素、およびＤは酸素または置換窒素であり、但し、Ｄ が置換窒素であるとき、Ａは炭素であり、窒素置換基は、水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキ ル、およびＣ₂−Ｃ₆アシルから成る群から選択され；各Ｒ₈はＣ₁−Ｃ₆アルキル 、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ヒドロキシ、クロロまたはフルオロであり；Ｒ₉および Ｒ_{1 0} はそれぞれ水素またはＣ₁−Ｃ₆アルキルであり；ｐは０、１または２の整数で ある］ によって示される基； （iv）Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆クロロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆フルオロア ルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ（Ｃ₁−Ｃ₄）アルキル、Ｃ₃−Ｃ₆シクロアルキル、 モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）アルコキシ（Ｃ₃−Ｃ₆）シクロアルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₆）ア ルキル（Ｃ₃−Ｃ₆）シクロアルキル、クロロ（Ｃ₃−Ｃ₆）シクロアルキルおよび フルオロ（Ｃ₃−Ｃ₆）シクロアルキル；および （ｖ）下記構造式： ［式中、Ｘは水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキル、およびＺは、ナフチル、フェニル、 フラニルおよびチエニルから成る群の、非置換、モノ、およびジ置換のものから 選択され、各基置換基はそれぞれ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、フ ルオロ、またはクロロである］ によって示される基； から成る群から選択されるか、または （vi）ＢおよびＢ'が一緒になって、フルオレン−９−イリデン、モノま たはジ置換フルオレン−９−イリデン、あるいは、飽和Ｃ₃−Ｃ₁₂スピロ−単環 式炭化水素環、飽和Ｃ₇−Ｃ₁₂スピロ−二環式炭化水素環、および飽和Ｃ₇−Ｃ₁₂ スピロ−三環式炭化水素環から成る群から選択されるものを形成し、各フルオレ ン−９−イリデン置換基は、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、フルオロ およびクロロから成る群から選択される］ で示されるナフトピラン化合物。 ２．（ａ）Ｒ₁およびＲ₂がそれぞれ、水素、ヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル 、Ｃ₃−Ｃ₆シクロアルキル、クロロ、フルオロ、および基−ＯＲ₅［式中、Ｒ₅は 、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、フェニル（Ｃ₁−Ｃ₂）アルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキ ル 置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、モノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコキシ置換フェニル （Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ（Ｃ₂−Ｃ₄）アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃シ クロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃フルオロアルキル、基−ＣＨ（Ｒ₆）Ｘ［式中、Ｒ₆は水 素またはＣ₁−Ｃ₂アルキル、およびＸはＣＮまたはＣＯＯＲ₇、Ｒ₇は水素または Ｃ₁−Ｃ₂アルキル］、またはＲ₅は、基−Ｃ（Ｏ）Ｙ［式中、Ｙは水素、Ｃ₁−Ｃ₃ アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、フェニル、ナフチル、モノ置換アリール基、 フェニルまたはナフチル、フェノキシ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル置換 フェノキシ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコキシ置換フェノキシ、モノ（Ｃ₁ −Ｃ₃）アルキルアミノ、フェニルアミノ、モノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル 置換フェニルアミノ、またはモノまたはジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコキシ置換フェニル アミノ］］、から成る群から選択され、前記アリール置換基はＣ₁−Ｃ₃アルキル またはＣ₁−Ｃ₃アルコキシである； （ｂ）Ｒ₃およびＲ₄がそれぞれ、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、ま たはフルオロ、ならびにｍおよびｎはそれぞれ０または１の整数である； （ｃ）ＢおよびＢ'がそれぞれ、 （i）フェニル、モノ置換フェニル、およびジ置換フェニル； （ii）非置換、モノ、およびジ置換芳香族複素環式基フラニル、ベンゾフ ラン−２−イル、チエニル、およびベンゾチエン−２−イルであって、（ｃ）(i )および(ii)における前記フェニルおよび芳香族複素環式置換基が、ヒドロキシ 、アミノ、モノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキルアミノ、ジ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキルアミノ、 ピペリジノ、モルホリノ、ピリール、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃クロロアルキ ル、Ｃ₁−Ｃ₃フルオロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、モノ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルコ キシ（Ｃ₁−Ｃ₃）アルキル、フルオロおよびクロロから成る群から選択される； （iii）下記構造式： ［式中、Ａは炭素、Ｄは酸素、Ｒ₈はＣ₁−Ｃ₃アルキルまたはＣ₁−Ｃ₃アルコキ シ、Ｒ₉およびＲ₁₀はそれぞれ水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキル、およびｐは０また は１の整数である］ によって示される基； （iv）Ｃ₁−Ｃ₄アルキル；および （ｖ）下記構造式： ［式中、Ｘは水素またはメチル、およびＺはフェニルまたはモノ置換フェニルで あり、前記フェニル置換基は、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、および フルオロである］ によって示される基； から成る群から選択されるか、または （vi）ＢおよびＢ'が一緒になって、フルオレン−９−イリデン、モノ置 換フルオレン−９−イリデン、または、飽和Ｃ₃−Ｃ₈スピロ−単環式炭化水素環 、飽和Ｃ₇−Ｃ₁₀スピロ−二環式炭化水素環、および飽和Ｃ₇−Ｃ₁₀スピロ−三環 式炭化水素環から成る群から選択されるものを形成し、前記フルオレン−９−キ シリデン(xylidene)置換基は、Ｃ₁−Ｃ₃アルキル、Ｃ₁−Ｃ₃アルコキシ、フルオ ロおよびクロロから成る群から選択される］ である請求項１に記載のナフトピラン。 ３．Ｒ₁およびＲ₂がそれぞれ、水素、ヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、また は基−ＯＲ₅［式中、Ｒ₅はＣ₁−Ｃ₃アルキル］であり；Ｒ₃およびＲ₄がそれぞれ 、Ｃ₁−Ｃ₃アルキルまたはＣ₁−Ｃ₃アルコキシであり、ｍおよびｎがそれぞれ、 ０または１の整数であり；ＢおよびＢ'がそれぞれ、フェニル、モノおよびジ置 換フェニル、非置換、モノおよびジ置換芳香族複素環式基フラニル、ベンゾフラ ン−２−イル、チエニル、およびベンゾチエン−２−イルであって、前記フェニ ルおよび芳香族複素環式置換基がそれぞれ、ヒドロキシ、Ｃ₁−₃アルキル、Ｃ₁ − Ｃ₃アルコキシ、フルオロおよびクロロから成る群から選択されるもの、および 下記構造式： ［式中、Ａは炭素、Ｄは酸素であり、Ｒ₈はＣ₁−Ｃ₃アルキルまたはＣ₁−Ｃ₃ア ルコキシであり、Ｒ₉およびＲ₁₀はそれぞれ水素またはＣ₁−Ｃ₃アルキルであり 、ｐは０または１の整数である］ によって示される基、から成る群から選択され；またはＢおよびＢ'が一緒にな って、フルオレン−９−イリデン、アダマンチリデン、ボルニリデン、ノルボル ニリデン、またはビシクロ（３.３.１）ノナン−９−イリデンを形成する、請求 項２に記載のナフトピラン化合物。 ４．（ａ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（３−メチル−４−メトキ シフェニル）−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ ピラン； （ｂ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−１３−ヒドロキシ−１３−メチ ル−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； （ｃ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（２,３−ジヒドロベンゾフル− ５−イル）−１３−ヒドロキシ−１３−メチル−インデノ［２,１−ｆ］ナフト ［１,２−ｂ］ピラン； （ｄ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（２,３−ジヒドロベンゾフル− ５−イル）−１３−アセトキシ−６,１１−ジメトキシ−１３−メチル−インデ ノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； （ｅ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−メト キシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； （ｆ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６−メチル−１１−フルオロ− １３,１３−ジエトキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； １３,１３−ジエトキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； （ｇ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−（１ −メチルエチル）−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２− ｂ］ピラン； （ｈ）３−（４−メトキシフェニル）−３−（３,４−ジメトキシフェニル） −６,１１−ジメチル−１３,１３−ジプロピル−インデノ［２,１−ｆ］ナフト ［１,２−ｂ］ピラン；および （ｉ）３,３−ジ（４−メトキシフェニル）−６,１１−ジメチル−１３−ブチ ル−１３−ヒドロキシ−インデノ［２,１−ｆ］ナフト［１,２−ｂ］ピラン； から成る群から選択されるナフトピラン化合物。 ５．ポリマー有機ホスト材料およびフォトクロミック量の請求項１のナフト ピラン化合物を含んで成るフォトクロミック物品。 ６．ポリマー有機ホスト材料が、ポリ（Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルメタクリレート ）、ポリ（オキシアルキレンジメタクリレート）、ポリ（アルコキシル化フェノ ールメタクリレート）、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セ ルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ（ ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニルクロリド）、ポ リ（ビニリデンクロリド）、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウ レタン、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリスチレン、ポリ（αメチルスチ レン）、コポリ（スチレン−メチルメタクリレート）、コポリ（スチレン−アク リロニトリル）、ポリビニルブチラール、および、ポリオール（アリルカーボネ ート）モノマー、多官能価アクリレートモノマー、多官能価メタクリレートモノ マー、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベン ゼンモノマー、エトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレートモノマー、エチ レングリコールビスメタクリレートモノマー、ポリ（エチレングリコール）ビス メタクリレートモノマー、エトキシル化フェノールメタクリレートモノマー、ア ルコキシル化多価アルコールアクリレートモノマーおよびジアリリデンペンタエ リトリトールモノマーから成る群のモノマーのポリマー、から成る群から選択さ れ る、請求項５に記載のフォトクロミック物品。 ７．ポリマー有機ホスト材料が、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（エ チレングリコールビスメタクリレート）、ポリ（エトキシル化ビスフェノールＡ ジメタクリレート）、熱可塑性ポリカーボネート、ポリ（ビニルアセテート）、 ポリビニルブチラール、ポリウレタン、および、ジエチレングリコールビス（ア リルカーボネート）モノマー、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー 、エトキシル化フェノールメタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼン モノマーおよびエトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー から成る群のモノマーのポリマー、から成る群から選択される固体透明ポリマー である、請求項６に記載のフォトクロミック物品。 ８．フォトクロミック化合物が、フォトクロミック物質が組み込まれている 、または被覆されている有機ホスト材料の表面１平方センチメートル当たり約０ .０５〜１.０ミリグラムの量で存在する、請求項７に記載のフォトクロミック物 品。 ９．物品がレンズである請求項８に記載のフォトクロミック物品。 １０．ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（エチレングリコールビスメタ クリレート）、ポリ（エトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレート）、熱可 塑性ポリカーボネート、ポリ（ビニルアセテート）、ポリビニルブチラール、ポ リウレタン、および、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）モノマ ー、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、エトキシル化フェノール メタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマーおよびエトキシル 化トリメチロールプロパントリアクリレートモノマーから成る群のモノマーのポ リマー、から成る群から選択されるポリマー有機ホスト材料、およびフォトクロ ミック量の請求項２のナフトピラン化合物を含んで成るフォトクロミック物品。 １１．ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（エチレングリコールビスメタ クリレート）、ポリ（エトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレート）、熱可 塑性ポリカーボネート、ポリ（ビニルアセテート）、ポリビニルブチラール、ポ リウレタン、および、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）モノマ ー、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、エトキシル化フェノール メタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマーおよびエトキシル 化トリメチロールプロパントリアクリレートモノマーから成る群のモノマーのポ リマー、から成る群から選択されるポリマー有機ホスト材料、およびフォトクロ ミック量の請求項３のナフトピラン化合物を含んで成るフォトクロミック物品。 １２．光学有機樹脂モノマーの重合体、およびフォトクロミック量の請求項 １のナフトピラン化合物を含んで成るフォトクロミック物品。 １３．重合体の屈折率が約１.４８〜約１.７５である請求項１２に記載のフ ォトクロミック物品。 １４．重合体の屈折率が約１.４９５〜約１.６６である請求項１３に記載の フォトクロミック物品。 １５．固体透明ポリマー有機ホスト材料、および、それぞれフォトクロミッ ク量の（ａ）少なくとも１種の請求項１のナフトピラン化合物、および（ｂ）約 ４００〜７００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの活性吸収極大を有する少 なくとも１種の他の有機フォトクロミック化合物を組み合わせて含んで成るフォ トクロミック物品。 １６．ポリマー有機ホスト材料が、ポリ（Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルメタクリレー ト）、ポリ（オキシアルキレンジメタクリレート）、ポリ（アルコキシル化フェ ノールメタクリレート）、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、 セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ （ビニルアセテート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニルクロリド）、 ポリ（ビニリデンクロリド）、熱可塑性ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ ウレタン、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリスチレン、ポリ（αメチルス チレン）、コポリ（スチレン−メチルメタクリレート）、コポリ（スチレン−ア クリロニトリル）、ポリビニルブチラール、および、ポリオール（アリルカーボ ネート）モノマー、多官能価アクリレートモノマー、多官能価メタクリレートモ ノマー、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、エトキシル化ビスフ ェノールＡジメタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマー、エ チ レングリコールビスメタクリレートモノマー、ポリ（エチレングリコール）ビス メタクリレートモノマー、エトキシル化フェノールメタクリレートモノマー、ア ルコキシル化多価アルコールアクリレートモノマーおよびジアリリデンペンタエ リトリトールモノマーから成る群のモノマーのポリマー、から成る群から選択さ れる請求項１５に記載のフォトクロミック物品。 １７．ポリマー有機ホスト材料が、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（ エチレングリコールビスメタクリレート）、ポリ（エトキシル化ビスフェノール Ａジメタクリレート）、熱可塑性ポリカーボネート、ポリ（ビニルアセテート） 、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、および、ジエチレングリコールビス（ アリルカーボネート）モノマー、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマ ー、エトキシル化フェノールメタクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼ ンモノマーおよびエトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレートモノマ ーから成る群のモノマーのポリマー、から成る群から選択される固体透明ホモポ リマーまたはコポリマーである請求項１６に記載のフォトクロミック物品。 １８．有機フォトクロミック化合物（ｂ）が、ナフトピラン、ベンゾピラン 、フェナントロピラン、スピロ（ベンズインドリン）ナフトピラン、スピロ（イ ンドリン）ベンゾピラン、スピロ（インドリン）ナフトピラン、スピロ（インド リン）キノピラン、スピロ（インドリン）ピラン、スピロ（インドリン）ナフト キサジン、スピロ（インドリン）ピリドベンズオキサジン、スピロ（ベンズイン ドリン）ピリドベンズオキサジン、スピロ（ベンズインドリン）ナフトオキサジ ン、スピロ（インドリン）ベンズオキサジン、およびそのようなフォトクロミッ ク化合物の混合物、から成る群から選択される請求項１５に記載のフォトクロミ ック物品。 １９．フォトクロミック化合物が、フォトクロミック物質が組み込まれてい る、または被覆されている有機ホスト材料表面１平方センチメートル当たりに約 ０.０５〜１.０ミリグラムの量で存在する請求項１８に記載のフォトクロミック 物品。 ２０．物品がレンズである請求項１９に記載のフォトクロミック物品。 ２１．ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（エチレングリコールビスメタ クリレート）、ポリ（エトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレート）、熱可 塑性ポリカーボネート、ポリ（ビニルアセテート）、ポリビニルブチラール、ポ リウレタン、およびジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）モノマー 、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、エトキシル化フェノールメ タクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマーおよびエトキシル化 トリメチロールプロパントリアクリレートモノマーから成る群のモノマーのポリ マーから選択されるポリマー有機ホスト材料、および、それぞれフォトクロミッ ク量の（ａ）少なくとも１種の請求項２のナフトピラン化合物、および（ｂ）約 ４００〜７００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの活性吸収極大を有する少 なくとも１種の他の有機フォトクロミック化合物を、組み合わせて含んで成るフ ォトクロミック物品。 ２２．ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（エチレングリコールビスメタ クリレート）、ポリ（エトキシル化ビスフェノールＡジメタクリレート）、熱可 塑性ポリカーボネート、ポリ（ビニルアセテート）、ポリビニルブチラール、ポ リウレタン、およびジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）モノマー 、ジエチレングリコールジメタクリレートモノマー、エトキシル化フェノールメ タクリレートモノマー、ジイソプロペニルベンゼンモノマーおよびエトキシル化 トリメチロールプロパントリアクリレートモノマーから成る群のモノマーのポリ マーから選択されるポリマー有機ホスト材料、および、それぞれフォトクロミッ ク量の（ａ）少なくとも１種の請求項３のナフトピラン化合物、および（ｂ）約 ４００〜７００ナノメートルの範囲の少なくとも１つの活性吸収極大を有する少 なくとも１種の他の有機フォトクロミック化合物を、組み合わせて含んで成るフ ォトクロミック物品。