【発明の詳細な説明】
光学的記録テープ
技術分野
本発明は、フレキシブルなテープの形式の読み出し専用光学的記録媒体を製造
する方法に関する。
本発明はまた、層構造を持つフレキシブルなテープの形式の読み出し専用光学
的記録媒体にも関する。
本発明はさらに、二つのスプールの組み合わせでこのような光学的記録テープ
を含むハウジングを有するカセットにも関し、このテープは前記スプールの一つ
の周りに部分的に巻き付けられ、もう一つのスプールに接続されている。
光学的記録媒体では、記録されたバイナリデータが、当該媒体の反射記録表面
に沿って合焦された光ビームをスキャンすることにより読み出せる。この記録表
面の各データビットは、「１」を表すデータビットと「０」を表すデータビット
とに対して相互に異なる、特別な反射特性を持つ局地的領域により表される。例
えば、コンパクトディスクにおいては、データビットは、一連のピット（さもな
ければ平坦な記録表面）により表される。これらのピットの深さは、値λ/4nを
持つように選ばれ、このことにより掃引光ビームは、偏光され単色波長λ（空気
中で）を持つと見なされる。前記記録表面は、屈折率ｎの保護フィルムにより被
覆されているとみなされる。結果として、ピット−ボトムから反射された光は、
前記記録表面のピット化されてない部分からの反射光に関してλ/２ｎの路長差
（位相差π）を示すだろう。この位相シフトは、干渉効果を基にして順に検出で
きる。このやり方で、前記記録表面の地形、したがってこの地形に対応するバイ
ナリのビットストリームを光学的に「読む」ことができる。
背景技術
冒頭に述べられた方法は、独特許出願第３５２０１１１号から知られていて、
スクリーン印刷工程がテープの反射記録表面に小さな彩色した領域を作るのに用
いられる。これら領域の反射係数は、周囲の彩色されてない表面のとはとても異
なるので、当該テープ上に記録されたデータは前記記録表面からの反射後の掃引
光ビームの強度をモニタすることで光学的に読み出せる。
光学的記録テープを製造する他の方法においては、局部的に熱せられると結晶
的に（例えば非結晶から結晶へ）不可逆的変化を受けられるいわゆる相変化材料
が付随する反射係数の変化により用いられる。テープ形式の基板上のこのような
材料の層は、所与のバイナリのビットストリームに従って変調された強度を持つ
合焦されたレーザビームを用いて書かれる。上述の媒体から類推して、情報は、
前記相変化層から反射した光ビームの強度をモニタすることによりこの相変化層
から取り出せる。
冒頭で特定された方法の他の方法は、１９８９年２月の「Byte」の２７４頁か
ら２８０頁にあるD.Pountainの記事で論じられている。この方法は、テープ状基
板に金属フィルムを被覆するダイポリマー層に局地化するピットをブラストする
ためにレーザー融蝕を利用する。合焦した光ビームがピット化されたダイポリマ
ー層に直射されるとき、当該光強度の一部分は、当該層の表面からすぐに反射さ
れるだろう。一方、残りの光強度は下にある金属フィルムに向かって通り抜け、
そこで反射を受けるだろう。前記金属フィルムから反射された光及びピット化さ
れた表面は、表面のビームがピットから現れるか、前記ダイポリマー層のピット
化されてない領域から現れるかに依存する程度にまで、互いに続けて干渉しあう
。このやり方で、前記ピット化された表面の地形は、光学的に読みとることがで
きる。
これら既知の方法の全て及びこれらの方法に従って生産された媒体は、ある不
具合を有する。例えば、
− 第１の媒体においては、スクリーン印刷工程を使って作られる最小の彩色領
域は、20-50μｍ程度の直径を通常持つ。対照的に、コンパクトディスク上のピ
ットの幅は、１μｍ程度である。したがって、このような彩色されたテープの記
録密度は、ディスク媒体で達成可能なレベルにはとても足りない。加えて、読み
出し工程の自然な振る舞いでは、前記彩色された領域を非常に強いレーザー光に
曝し、褪色及びこれに関連するノイズレベルの増大の長い期間における危険
性が伴う。
− 第２の媒体の場合では、相変化材料のインヒーレントな不具合は、これら材
料が実時間で書き込まれなければならないことである。すなわち、書き込まれる
速度がこれらの再生速度の大きさと同じ程度である。これは、合焦されたレーザ
ービームを使って、局地化した相変化領域が一つづつを基本として書き込まなけ
ればならないという事実による。他の不具合は、いくつかの領域で自然発生的な
逆位相変化のインヒーレントな統計的危険性である。この危険性は相対的に小さ
いけれども、それにもかかわらず、長い実行においてはノイズレベルの増大を招
く。
− 第３の媒体の不具合は、レーザー融蝕により作られたピットが、イレギュラ
ーな深さ及び盛り上がりの壁で、どちらかというと悪く規定されることである。
加えて、最初の場所のピットを作るために除去される材料は、当該媒体の他のど
こかに不所望のくずを凝結する。その上、前の場合のように、このような媒体は
実時間で書き込まれなければならず、冗長的（且つコスト高）である。
発明の開示
本発明の目的は、フレキシブルなテープの形式における読み出し専用光学的記
録媒体を製造する他の方法を提供することである。特に、本発明の目的は、この
ような方法が上述したような問題をうまく処理することである。特定的には、本
発明の目的は、問題となるくずの凝結なしに、記録層でのよく規定されたデータ
領域を作ることが可能である方法を提供することである。さらに、本発明の目的
は、所望ならばこのような領域が僅か１μｍ程度の幅を持つべきことである。加
えて、本発明の目的は、新しい方法が前記記録層の速い書き込みを許容すべきこ
とである。
これら及び他の目的は、下記の工程を含んで特徴づけられる方法で達成される
。
（ａ） テープの形式であるフレキシブルな基板を供給すること、
（ｂ） 前記基板上に型押し可能な記録層を供給すること、
（ｃ） バイナリのデータの集合を表す低い及び高い表面領域のパターンを作る
ために、スタンパの補助により圧して前記記録層を型押しすること、
（ｄ） 前記型押しされた記録層にわたって保護フィルムを供給することである
。この発明性ある方法は、以下に明らかにされるように、驚くべき発見を利用し
ている。
記録テープは、記録中はそれ自身の周りに必然的に巻かれていて、通常の再生
装置における読み出し中は各種のホイール及びキャプスタンと通常接触する。こ
のテープが、それ自身又は他の表面にくっつくのを防止するために、ある表面的
な荒さを示すべきことは重要である。他方、光学的記録テープは、その記録表面
が読まれる側で好ましくは光学的に平坦である。これら二つの要件は、前記記録
表面から離れたこのテープの側が充分に荒いことを保証することにより、通常満
足される。磁気テープからの類推で、このような要件は、いわゆるフィラ、すな
わち埋め込まれた極微の粒子を含む基板材料上に前記記録層を堆積することによ
り、経済性よく達成できる。この目的のため広く用いられる基板材料の例は、ポ
リエセーネテレフタレート（ＰＥＴ）である。
型押し中前記記録表面へ通ってほぼ基板の荒さを圧してしまう危険性の面から
、このような荒い基板材料の型押し工程と矛盾すると考えるかもしれない。しか
しながら、発明者らは、いまだ発見されていないような考え方を見い出し、驚く
べきことには、よく規定されたミクロンサイズのピットを、荒い基板を被覆する
記録層（例えば、フィラを含むＰＥＴ基板フォイルに直接堆積される光硬化的樹
脂層）にうまく型押しできることを示した。前記基板と前記記録層との間のいわ
ゆる補充層（緩衝層）の使用は、本質的ではない。
本発明の多方面の有利性は、明らかである。例えば、データ書き込みがレーザ
ー融蝕の代わりにスタンパで型押しすることを含むので、前記記録表面の凝結し
たくずの問題がなく、この型押しされた形態（各種の長さを持つ以外は通常は一
定の幅のピット）は、コンパクトディスクの場合のように小さく且つシャープに
規定できる。その上、スタンパでの型押しは、高速度で書き込むことを許容する
。
この発明性ある方法によると、前記スタンパ自体は、例えば、ヘリカル路に沿
って設けられた微小の突起を含む円筒形表面を持つ（ハードな）ドラムの形式を
とってもよく、この路の幅は、テープの幅と等しい。当該ドラムと前記テープと
の間の接触領域が前記ヘリカル路に沿って動くやり方で、このようなスタンパが
テープの記録層に沿って巻かれるならば、そのとき前記記録層は前記突起に対応
するピットで書き込まれるだろう。
本発明による他のシナリオでは、スタンパは微小の突起の長手方向の列を具備
するマスタ側を持つ（ハードな）テープの形式をとる。このようなスタンパテー
プが一つのスプールからもう一つのスプールへ巻かれ、従ってこのマスタ表面が
光学的テープの前記記録層に対してあるポイントでロールされ、同じ速度且つ同
じ方向での二つの異なるスプール間で同時に巻かれるならば、このとき前記記録
層は、前記マスタ表面の前記突起に対応するピットが与えられるだろう。
前記発明性ある方法で採用された前記フレキシブルな基板は、その中にあるフ
ィラ（例えば微少なシリカ又はアルミナの粒子）の存在により、又はその上にあ
る支持層の適用により荒くされてもよい。第１のカテゴリにおける適切な基板材
料の例は、約８μｍの厚さを持ち４００ｎｍ程度の直径を持つフィラを含む透明
なＰＥＴフォイルである、ＬＵＭＩＲＲＯＲ（東レ製）である。他方、第２のカ
テゴリにおける適切な基板材料は、カーボンブラック、クロム３酸化物又はカル
シウムカーボネート（理想的には50-300nmの直径を持つ）の分散粒子を含むバイ
ンダ（例えば樹脂）で片側を塗布したＰＥＴフォイルであり、この荒い支持層の
厚さは１μｍ程度でだけある必要がある。
本発明による方法の特別な実施例においては、型押し可能な記録層は、光硬化
的有機重合体的材料を有するように選ばれ、前記型押し工程（ｃ）の間、前記ス
タンパと前記記録層との接触面が化学線硬化するように曝される。このカテゴリ
の適切な材料の例は、標準な厚さ（ミクロン範囲）の薄いシートの形式で利用可
能なドライＵＶ硬化材料である、ＳＵＲＰＨＥＸ（Ｄｕ Ｐｏｎｔ製）である。
このようなシートは、例えば熱してロールすることにより、基板フォイルに直接
積層できる。他の例として、揮発性溶剤に溶解し、それからこの結果の溶解液を
前記フォイルにローラーコーティング、スプレー又はブラッシングすることによ
り、基板フォイルに適用できるドライな光硬化樹脂（例えばアクリル酸エステル
）が利用できる。
前記発明性ある方法の他の実施例では、型押し可能な記録層が、前記型押し工
程（ｃ）において最初熱的に柔らかくされ、それから前記スタンパにより型押し
された後で冷却され硬化される加熱可塑性物を有するように選ばれることを特徴
とする。採用されたこの加熱可塑性物は、前記基板材料よりも低い軟化温度を持
つべきであり、このやり方で、前記記録層は、基板の好ましくない軟化なしに（
基板の荒さを低減するという危険性を伴って）軟化できる。この目的のための適
切な加熱可塑性物の例は、ポリ塩化ビニル及びポリプロペネ(polypropene)であ
る。
前記発明性ある方法のさらに他の実施例では、前記記録層が、化学溶剤をその
曝された表面に適用することにより、型押しされる前に化学的に軟化される。こ
の目的のための溶剤の候補は、例えば各種のクロロアルカネ(chloroalkane)溶液
、エーテル及びエステル同様にアセトン及びイソプロパノール(isopropanol)を
含み、この正確な選択は前記記録層に採用される特定の材料に依存する。型押し
された後で、軟化された記録層は、採用された溶剤をそこから除去することによ
り硬化される。これは、例えば前記記録層を熱することにより達成できる。
前記記録層は、通常1-10μｍ程度の厚さを持つだろう。しかしながら、より厚
いか又は薄い記録層も前記発明性ある方法とコンパチブルではある。
前記発明性ある方法の工程（ｄ）で供給される保護フィルムは、有機でも有機
でなくてもよい。SiO2,TiO2,AlN,Si3N4等のような適切な非有機材料は、反応性
スパッタ堆積又は蒸着により例えば供給できる。他方、ポリウレタン又はポリア
クリル酸エステル樹脂のような適切な有機材料は、ローラーコーティングを使っ
て又はスプレー又はブラッシング工程を使って例えば供給できる。前記保護フィ
ルムは通常、有機フィルムの場合2-10μｍ程度の厚さ、非有機フィルムの場合20
-500ｎｍ程度の厚さであり、所望ならばもっと厚くてもよい。
前記保護フィルムの曝された表面は、好ましくは光学的に平坦である。ここで
採用されているように、「光学的に平坦」という用語は、最大５０ｎｍ、好まし
くは２０ｎｍを越えない、理想的には５ｎｍであるＲＭＳでの表面的荒さを示し
ている。このような仕上がりは、その形成中保護フィルムにおける表面張力効果
の結果として、通常自動的に達成される。
本発明による方法の特別な実施例は、工程（ｃ）と（ｄ）との間で、金属反射
層が前記記録層の前記型押しされた表面に堆積されることを特徴とする。このよ
うな反射層は、純粋な金属又は合金を有してもよく、スパッタ堆積、蒸着又はレ
ーザー融蝕堆積を使って例えば供給されてもよい。この目的のための好適な材料
は、アルミニウム、金、銅、銀及びこれらの合金を含む。このような反射層の使
用は、前記媒体の前記記録側が合焦した光ビームで掃引するとき、充分な光強度
が受容できる出力信号レベルを生じるように反射されることを保証する。
前記発明性ある方法の他の実施例は、少なくとも一つのダイが、前記記録層の
屈折率と前記保護フィルムの屈折率との間の大きな差（読み出し光ビームの波長
での）を達成するために、前記記録層及び／又は前記保護フィルムに加えられる
ことを特徴とする。このやり方では、前記保護フィルムと前記記録層との間の前
記接触面での前記反射係数（前記保護フィルムを通って入射する光に対して）を
増大することは可能である。特には、屈折率の充分な差のために、トータルの内
部反射（Total Internal Reflection）は、相対的に小さな関連する前記保護フ
ィルムでのブリュースター角により、この接触面に誘導できる。ここで用いられ
た
る。しかしながら、前記保護フィルムに加えられたダイの場合には、そのダイに
対するｋの値は、入力した及び反射した光ビームの好ましくない吸収を避けるた
めに、好ましくは相対的に小さくあるべきである。
前の段落で議論された適切なダイの例は、ピリリウム(pyrylium)−４、４’−
シアニン及びブチル−ベンゾ−インド−カルボシアニン(butyl-benzo-indo-carb
ocyanine)を含む。これらのダイは、それぞれ３．２７０及び３．０５０のｎ値
と０．５７０及び０．０５８のｋ値（全ての値は７８０ｎｍの波長のときである
）を持つ。他に、例えばスクアリウム(squarylium)ダイが用いられる。
要求又は所望されるならば、各種他の層が、前記発明性ある方法の工程（ａ）
，（ｂ），（ｃ）及び（ｄ）で供給されるものの間に適用されてもよい。例えば
、
− 接着層又は定着層が前記基板と前記記録層との間に堆積されてもよい。
− 誘電層が前記記録層と前記保護層との間に適用されてもよい。
− 荒い支持層が前記記録層から離れた側の前記基板側に適用されてもよい。
このリストは、単なる例であり、全てではない。
本発明による方法は、優れた特性を持つ新規な読み出し専用光学的記録テープ
を製造するために用いることができる。このようなテープは、後続する下記のも
の、
− 基板、
− 記録層、
− バイナリデータが局部のレベル変化により表されている反射記録表面、及び
− 透明な光学的に平坦な保護フィルム、
を有する層構造を持つこと、前記基板と前記記録層との間に金属反射層がないこ
と、及び前記記録層から離れた前記基板の片側が前記保護フィルムの曝されてい
る表面より荒いことを特徴とする。
上記「反射記録表面」は、下記の中の何れか一つと解釈されてもよい。
− 前記基板から離れた前記書き込み記録層の片側に適用された、金属反射層、
− 前記書き込まれた記録層と前記保護フィルムとの接触面（この接触面での反
射係数を強調するためにダイが使われるならば）
上記「局部のレベル変化」は、例えばピット又は突起のパターンを持つ前記記録
層を与えることにより達成されてもよい。例えば、ある所与の路に沿って、「１
」がピットにより表され、一方「０」がピットが作られるところの表面Ｓのレベ
ル（即ちまだピット化されていない）領域により表されてもよい。このようなピ
ット又はレベル領域の長さは、シングルビットを表すある基本ユニットの整数倍
である。各ピットの前記表面Ｓ及び底部とも反射的であり、前記記録表面の読み
出しは、前記表面Ｓから反射された（偏光した）光ビームとピットの前記底部か
ら反射されたものとの位相差を基にして達成できる。このため、前記記録表面の
レベル差の大きさは、波長λの（偏光した）光及び実屈折率ｎの保護フィルムに
対して好ましくはλ／４ｎである。
各種他の層は、（既に述べたように）前記発明性ある媒体の層構造に組み込ま
れてもよい。これらは、例えば接着層、定着層、誘電層、支持層等を含む。
本発明は、二つのスプール及び前記発明性ある読み出し専用光学的記録テープ
を含むハウジングを有するカセットにも関し、このテープは、前記スプールの（
少なくとも）一つの周りに部分的に巻かれていて、もう一つのスプールに接続さ
れている。このようなカセットの特別な実施例においては、このテープは、前記
テープの前記記録表面へ開口を通って光学的にもとの場所でアクセスすることを
許容するために、前記ハウジングの前記開口の後方の前記テープを位置づけるの
に役立つガイド手段を介して一方のスプールから他方のスプールへ行く。しかし
ながら、このようなガイド手段は、厳密には必要ではない。所望ならば、テープ
は前記カセットハウジングの外にループされ、違う場所で読み出せる。
図面の簡単な説明
本発明及びそこに存在する有利性が、全てが単一の寸法というわけではない図
と好実施例とでさらに説明されるだろう。
第１図は、型押し可能な記録層が具備されたテープ形式のフレキシブルな基板
の断面図であり、
第２図は、型押し工程で前記記録層の低い及び高い表面領域のパターンを形成
した第１図のものを示し、
第３図は、前記型押し記録層に金属反射層を施した第２図のものを示し、
第４図は、前記金属反射層にわたって保護フィルムを施した第３図のものを示
し、これにより本発明に従う光学的記録テープを作り、
第５図は、本発明の方法の特別な実施例をなすための製造装置を示し、
第６図は、本発明によるカセットを示す。
発明を実施するための最良の形態
実施例１
第１図から第４図は、本発明による方法の特別な実施例の、及び前記発明性あ
る光学的記録テープの特別の実施例の各段階を示す。各図において対応する部分
は、同じ参照符号により示される。
第１図は、テープ形式のフレキシブルな基板１の一部の断面図である。基板１
は、二つの主表面１ａ，１ｂを持ち略８μｍの厚さである。基板１ａ，１ｂが１
０から２０ｎｍ程度のＲＭＳ荒さであるために、（図示しない）埋め込まれた極
微のフィラを含む。このような基板１の適切な例は、４００ｎｍ程度の直径を持
つシリカ粒子が分散された透明なＰＥＴフォイルである。このような基板１は、
東レ株式会社製ＬＵＭＩＲＲＯＲ（タイプＮ９９７）というブランドネームで商
業的に売り出されている。
型押し可能な記録層３は、基板１の表面１ｂに供給される。この層３は、１０
μｍ程度の厚さを持ち、例えばドライ光硬化樹脂を有する。この特別な実施例に
おいては、使用される樹脂は、６μｍの厚さでシート形式で用いられる、２５０
ｋＰａのローリング圧力及び１２０度の温度で基板１に直接積層される、ＳＵＲ
ＰＨＥＸ Ｐ−６（デュポン製）である。この層３は、基板１から離れた側の表
面Ｓを有する。
第２図では、この層３は、本発明による（図示しない）スタンパの補助により
圧力をかけて型押しされた。この特別な実施例においては、これは、表面Ｓに浅
いピット５の生成を伴う。このピット５は、深さほぼ１５０ｎｍ、（図の平面に
鉛直の）幅ほぼ０．５μｍ及び可変の長さを持つ。適切な型押し工程は、下記の
実施例２に述べられる。
第３図では、層３の前記型押し表面は、薄い金属反射層７で塗布される。この
場合では、層７は、Ａｌを有し、厚さ１００ｎｍであり、真空蒸着を使って堆積
される。記録層３のもとの型押し表面の輪郭を押さえるので、反射層７は、鋭く
規定された一連のピット５’を示し、さもなければ平坦に曝された表面になって
しまう。
第４図は、その上に保護フィルム９を施した第３図のものを示す。フィルム９
の材料は、この場合、ポリアクリル酸エステル樹脂であり、ほぼ５μｍの厚さま
で反射層７にロール塗布される。フィルム９の曝された表面１１は、５ｎｍのＲ
ＭＳ荒さで光学的に平坦である。この仕上げは、下層の反射層７上に形成中に、
フィルム９の表面張力効果の結果として自然に達成される。実施例２
第５図は、前記発明性ある方法の特別な実施例をなすための製造装置を示す。
採用されたスタンパ５１は、直径１５０ｍｍ、長さ１６５ｍｍを持つ円柱のアル
ミニウムドラムの形状を持ち、この円柱の表面５１ａに極微の突起の浮き彫りパ
ターンを持つ。このような突起が作られるやり方は、下記の実施例３に述べられ
ている。
この図では、ドラム５１と類似の直径であってその円柱表面５３ａに厚さ５ｍ
ｍのハードペーパー層を持つローラ５３をも示す。ドラム５１及びローラ５３は
、互いに平行な円柱軸と、まだ型押しされてない、挿入された光学的記録テープ
５５の両反対側に抗して押されるこれら円柱表面５１ａ，５３ａとを伴う。この
テープ５５は、その（硬化性）記録層が表面５１ａ上の浮き彫りパターンと接触
するやり方で、前記円柱軸に略鉛直に延在する。
ドラム５１は、５０００ニュートンの力でローラ５３に抗して押され、結果と
してテープ５５に１５Ｎ／ｍｍ2程度の圧力がかかる。互いに抗してドラム５１
及びローラ５３を回転させることにより、挿入されたテープ５５はこれらの間か
ら引っぱり出され、この記録層は、表面５１ａの突起に対応する一連のピットを
持つその長さに沿って型押しされる。
テープ５５ａの前記記録層は、化学線Ｒ（例えば紫外線）を、どの与えられた
時間においても表面５１ａと接触するテープ５５の領域５５ａに直射することに
より硬化される。所望ならば、補充の硬化が第２ビームの化学線Ｒ’を使って続
けて実施される。
硬化が実施されると、テープ５５は、テープ５５の前記型押し表面に真空上着
金属反射層が設けられるオンライン堆積室（チャンバ）５７を通る。他のシナリ
オにおいては、テープ５５は、最初バッファスプールＡに巻かれ、後に真空室（
チャンバ）へ転送される。そのときテープ５５は、前記スプールＡから巻きとら
れそのテープの型押し側がメタライズされる。
テープ５５は、次にその型押し側に保護フィルムを設ける。これは、ここでは
ローラ塗布機５９でテープ５５をローラ塗布することにより達成される。必要な
らば、新しく塗布されたテープ５５は次に、熱源又は空気流Ｈを使って乾かされ
る。他に、用いられる樹脂質の液体が光硬化できるならば、手段Ｈは前記新しく
用いられたフィルムを硬化するために、化学線を有してなされる。
他の処理工程においては、テープ５５は、バッファスプールＢに巻かれるか、
カセットハウジング５１１に直接巻かれる。必要ならば、テープ５５は、最初に
切断ホイール５１３の補助で適当な（単一の）横幅（例えば８ｍｍ）に切断され
てもよい。実施例３
スタンパドラム５１の円柱表面５１ａの極微な突起は、今から説明するように
、直接又は間接の処理を使って作ることができる。
適切な直接処理においては、円柱表面５１ａは、フォトレジストの層で塗布さ
れる。適当な挿入されるマスクを使って、フォトレジストのこの層は、突起の所
望の表面パターンに従って照射され、続いて現像され架橋される。
適当な間接処理においては、先行する段落に述べられた前記処理が、シート又
はリボンの片側に実施され、それから当該シート又はリボンの突起側が外側に面
し且つ表面５１ａを形成するようなやり方でドラム５１の周りに巻かれる。実施例４
第６図は、本発明による二つのスプール６４及び読み出し専用光学的記録テー
プ６６を含むハウジング６２を有する、本発明にしたがうカセット６０の特別な
実施例を示す。ハウジング６２の壁にある開口６８も示される。テープ６６は、
一方のスプールから他方へ前後に巻くことができ、その記録表面が開口６８に面
して配される。このやり方で、テープ６６の反射記録表面は、開口６８を通って
ハウジング６２に入射及び去る光ビームによりもとの所でアクセスできる。テー
プ６６にこのような光ビームの正確な合焦をなすために、ハウジング６２は、（
図示しない）ガイド手段を含んでもよく、開口６８からの定距離でのテープ６６
の所与の長さを維持するのに役立つ。このようなガイド手段は、例えば開口６８
の後方に位置し、前記テープが広がる基準ブロックを有してもよい。
前記発明性あるカセット６０の他の実施例においては、上述の前記ガイド手段
は、ハウジング６２から省略されてもよく、テープ６６は、例えばＶＨＳビデオ
カセットのように、開口６６を通ってテープ６６の所与の長さのループを作り、
それから外で読み出す、再生装置を使って読み出されてもよい。この目的のため
、開口６８は、テープ６６への機械的アクセスをなすために、ここで述べられて
いるよりも好ましくはもっと広い。
これら両方の実施例においては、開口６８は、ほこり及びかき傷からテープ６
６を保護するために、（図示しない）機械的シャッタの後方に好ましくは位置す
る。