JPH1051141A - Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents

Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same

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JPH1051141A
JPH1051141A JP22065996A JP22065996A JPH1051141A JP H1051141 A JPH1051141 A JP H1051141A JP 22065996 A JP22065996 A JP 22065996A JP 22065996 A JP22065996 A JP 22065996A JP H1051141 A JPH1051141 A JP H1051141A
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JP
Japan
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layer
wiring pattern
insulating
substrate
multilayer printed
Prior art date
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Application number
JP22065996A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroto Yoshinuma
吉沼  洋人
Kiyoshi Iwasaki
清 岩崎
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 配線パターン層同士が重なり合う箇所におけ
る絶縁が確実で、極めて信頼性に優れた多層プリント配
線板及びその製造方法を提供すること。を提供するこ
と。 【解決手段】 基板、該基板上に順次転写された複数の
配線パターン層を備え、該配線パターン層は導電性層と
その下部に形成された絶縁性接着層を有するとともに該
配線パターン層が相互に交差もしくは多層に重なり合う
部位では上下の配線パターン層間に硬化樹脂からなる絶
縁層が形成されていることを特徴とする多層プリント配
線板及びその製造方法。
(57) [Problem] To provide a multilayer printed wiring board having reliable insulation at a portion where wiring pattern layers overlap with each other and having extremely excellent reliability, and a method of manufacturing the same. To provide. The substrate includes a substrate, and a plurality of wiring pattern layers sequentially transferred onto the substrate. The wiring pattern layer has a conductive layer and an insulating adhesive layer formed thereunder. A multilayer printed wiring board and a method of manufacturing the same, wherein an insulating layer made of a cured resin is formed between upper and lower wiring pattern layers at a portion which crosses or overlaps in a multilayer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は多層プリント配線板
及びその製造方法に関し、特に高精細なパターンを有す
る多層プリント配線板を低コストで製造することができ
る該配線板及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer printed wiring board and a method for manufacturing the same, and more particularly to a wiring board and a method for manufacturing the same, which can manufacture a multilayer printed wiring board having a high-definition pattern at low cost.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体技術の飛躍的な発展により、半導
体パッケージの小型化、多ピン化、ファインピッチ化、
電子部品の極小化などが急速に進み、いわゆる高密度実
装の時代に突入した。それに伴って、プリント配線板も
片面配線から両面配線へ、さらに多層化、薄型化が進め
られている。
2. Description of the Related Art Due to the rapid development of semiconductor technology, semiconductor packages have been reduced in size, the number of pins has been increased, the fine pitch has been increased.
The miniaturization of electronic components has rapidly progressed, and the era of so-called high-density mounting has entered. Along with this, printed wiring boards have been further multilayered and thinned from single-sided wiring to double-sided wiring.

【0003】現在、プリント配線板の銅パターンの形成
には、主としてサブトラクティブ法と、アディティブ法
が用いられている。
At present, a subtractive method and an additive method are mainly used for forming a copper pattern on a printed wiring board.

【0004】サブトラクティブ法は、銅張り積層板に穴
を開けた後に、穴の内部と表面に銅メッキを行い、フォ
トエッチングによりパターンを形成する方法である。こ
のサブトラクティブ法は技術的に完成度が高く、またコ
ストも安いが、銅箔の厚さ等による制約から微細パター
ンの形成は困難である。
[0004] The subtractive method is a method in which a hole is formed in a copper-clad laminate, and then the inside and the surface of the hole are plated with copper, and a pattern is formed by photoetching. Although this subtractive method is technically highly complete and inexpensive, it is difficult to form a fine pattern due to restrictions such as the thickness of the copper foil.

【0005】一方、アディティブ法は無電解メッキ用の
触媒を含有した積層板上の回路パターン形成部以外の部
分にレジストを形成し、積層板の露出している部分に無
電解銅メッキ等により回路パターンを形成する方法であ
る。このアディティブ法は、微細パターンの形成が可能
であるが、コスト、信頼性の面で難がある。
On the other hand, in the additive method, a resist is formed in a portion other than a circuit pattern forming portion on a laminate containing an electroless plating catalyst, and a circuit is formed on an exposed portion of the laminate by electroless copper plating or the like. This is a method of forming a pattern. Although the additive method can form a fine pattern, it is difficult in terms of cost and reliability.

【0006】多層基板の場合には、上記の方法等で作製
した片面あるいは両面のプリント配線板を、ガラス布に
エポキシ樹脂等を含浸させた半硬化状態のプリプレグと
一緒に加圧積層する方法が用いられている。この場合、
プリプレグは各層の接着剤の役割をなし、層間の接続は
スルーホールを作成し、内部に無電解メッキ等を施して
行っている。
In the case of a multi-layer substrate, a method of laminating a single-sided or double-sided printed wiring board produced by the above method or the like together with a semi-cured prepreg obtained by impregnating a glass cloth with an epoxy resin or the like is used. Used. in this case,
The prepreg serves as an adhesive for each layer, and a connection between the layers is made by forming a through-hole and applying an electroless plating or the like to the inside.

【0007】また、高密度実装の進展により、多層基板
においては薄型、軽量化と、その一方で単位面積当りの
高い配線能力が要求され、一層当たりの基板の薄型化、
層間の接続や部品の搭載方法等に工夫がなされている。
Further, with the progress of high-density mounting, a multilayer substrate is required to be thin and light, and on the other hand, a high wiring capacity per unit area is required.
The connection between layers, the mounting method of components, and the like are devised.

【0008】しかしながら、上記のサブトラクティブ法
により作製された両面プリント配線板を用いた多層基板
の作製は、両面プリント配線板の穴形成のためのドリル
加工の精度と、微細化限界の面から高密度化に限界があ
り、製造コストの低減も困難であった。
However, the production of a multilayer substrate using the double-sided printed wiring board manufactured by the above-described subtractive method requires high precision in drilling for forming holes in the double-sided printed wiring board and the limit of miniaturization. There is a limit in increasing the density, and it has been difficult to reduce the manufacturing cost.

【0009】一方、近年では上述のような要求を満たす
ものとして、基材上に導体パターン層と絶縁層とを順次
積層して作製される多層配線板が開発されている。この
多層配線板は、銅メッキ層のフォトエッチングと感光性
樹脂のパターニングを交互に行って作製されるため、高
精細な配線と任意の位置での層間接続が可能となってい
る。
On the other hand, in recent years, a multilayer wiring board manufactured by sequentially laminating a conductor pattern layer and an insulating layer on a base material has been developed to satisfy the above-mentioned requirements. Since this multilayer wiring board is manufactured by alternately performing photoetching of the copper plating layer and patterning of the photosensitive resin, high-definition wiring and interlayer connection at an arbitrary position are possible.

【0010】しかしながら、この方式では銅メッキとフ
ォトエッチングを交互に複数回行うため、工程が煩雑と
なり、また、基板上に1層づつ積み上げる直列プロセス
のため、中間工程でトラブルが発生すると、製品の再生
が困難となり、製造コストの低減に支障を来していた。
However, in this method, copper plating and photo-etching are performed alternately a plurality of times, which complicates the process. In addition, if a trouble occurs in an intermediate process due to a series process of stacking one layer on a substrate, Reproduction becomes difficult, which hinders reduction in manufacturing cost.

【0011】さらに、従来の多層配線板においては、層
間の接続がバイアホールを作成することにより行われて
いたため、煩雑なフォトリソグラフィー工程が必要であ
り、製造コスト低減の妨げとなっていた。
Further, in the conventional multilayer wiring board, since the connection between the layers is made by forming via holes, a complicated photolithography step is required, which hinders a reduction in manufacturing cost.

【0012】このような問題を解決するために、本出願
人は、すでに、基板と、該基板上に順次転写される複数
の配線パターン層を備え、該配線パターン層は導電層と
該導電層の下部に形成された絶縁樹脂層を有するととも
に、該絶縁樹脂層によって前記基板あるいは下層の配線
パターン層に固着されているような構成の多層プリント
配線板およびその製造方法を提案した(特願平6−22
0962号)。
In order to solve such a problem, the present applicant has already provided a substrate and a plurality of wiring pattern layers sequentially transferred onto the substrate, wherein the wiring pattern layer is a conductive layer and the conductive layer. A multilayer printed wiring board having an insulating resin layer formed below the substrate and being fixed to the substrate or the lower wiring pattern layer by the insulating resin layer, and a method of manufacturing the same. 6-22
0962).

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この提
案では、配線パターン層が重なり合う箇所における絶縁
を確実なものとするという観点からの配慮は十分とは言
えず、信頼性向上の面からさらなる改良が必要である。
また、提案の多層プリント配線基板では、各配線パター
ン層は配線パターン層が重なる部位以外は導電層は絶縁
性層で被覆されておらず、配線パターン層の側面からの
リーク電流や多層プリント配線板をエポキシ樹脂等で被
覆する(封止する)する際の気泡の巻き込み等から絶縁
性が不安定となったり、導電性層が酸化され易い状態に
あり、この点の改良も必要である。このような実情のも
とに本発明はなされたものであって、本発明の目的は、
配線パターン層同士が重なり合う箇所における絶縁が確
実で、極めて信頼性に優れた多層プリント配線板及びそ
の製造方法を提供することにある。
However, in this proposal, it cannot be said that sufficient consideration is taken from the viewpoint of ensuring insulation at a portion where the wiring pattern layers overlap, and further improvement is required from the viewpoint of improving reliability. is necessary.
Also, in the proposed multilayer printed wiring board, each wiring pattern layer is not covered with an insulating layer except for the portion where the wiring pattern layer overlaps, and the leakage current from the side of the wiring pattern layer and the multilayer printed wiring board Insulation becomes unstable due to entrapment of air bubbles when coating (sealing) with epoxy resin or the like, or the conductive layer is easily oxidized, and this point needs to be improved. The present invention has been made under such circumstances, the object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a multilayer printed wiring board in which insulation at a portion where wiring pattern layers overlap with each other and which is extremely excellent in reliability and a method for manufacturing the same.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は以
下の本発明によって達成される。即ち、本発明は、基
板、該基板上に順次転写された複数の配線パターン層を
備え、該配線パターン層は導電性層とその下部に形成さ
れた絶縁性接着層を有するとともに配線パターン層が相
互に交差もしくは多層に重なり合う部位では上下の配線
パターン層間に硬化樹脂からなる絶縁層が形成されてい
ることを特徴とする多層プリント配線板である。
The above object of the present invention is achieved by the following present invention. That is, the present invention includes a substrate, a plurality of wiring pattern layers sequentially transferred on the substrate, the wiring pattern layer has a conductive layer and an insulating adhesive layer formed thereunder, and the wiring pattern layer has A multilayer printed wiring board characterized in that an insulating layer made of a cured resin is formed between upper and lower wiring pattern layers at portions where they cross each other or overlap in multiple layers.

【0015】また本発明は、導電性基板上に導電性層と
その上に積層された粘着性あるいは接着性の絶縁樹脂層
とを有する配線パターン層を設けた転写用原版を複数作
製し、次に、多層プリント配線板用の基板の一方の面に
前記転写用原版を圧着し、前記転写用原版を剥離するこ
とにより前記配線パターン層を転写する操作を順次繰り
返して該配線板用の基板上に複数の前記配線パターン層
を積層する多層プリント配線板の製造方法であって、配
線パターン層同士を積層する前に、配線パターン層の重
なりが予定される転写された配線パターン層上に硬化樹
脂からなる絶縁層を形成し、その後に前記の転写操作を
行うことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法で
ある。
Further, according to the present invention, a plurality of transfer masters having a wiring pattern layer having a conductive layer and an adhesive or adhesive insulating resin layer laminated thereon on a conductive substrate are prepared. Then, the operation of transferring the wiring pattern layer by sequentially pressing the transfer master on one surface of a substrate for a multilayer printed wiring board and peeling the transfer master is repeated on the substrate for the wiring board. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising laminating a plurality of said wiring pattern layers, wherein before the wiring pattern layers are laminated, the cured resin is placed on the transferred wiring pattern layer where the wiring pattern layers are expected to overlap. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising: forming an insulating layer made of the following; and performing the transfer operation thereafter.

【0016】[0016]

【作用】特に、配線パターン層同士が重なり合う配線パ
ターン層の導電性層上には、別途、硬化樹脂からなる絶
縁層が形成されているので、配線パターン層が重なり合
う箇所における絶縁は確実となり、さらに、前記箇所に
おける配線パターン層は該層が覆われるように該絶縁層
を形成することにより、絶縁性の不安定性も解消され、
信頼性に優れた多層プリント配線板が提供できる。ま
た、本発明の多層プリント配線板を用いることによっ
て、高電圧に耐えられるデバイスも製作可能となる。
In particular, since an insulating layer made of a cured resin is separately formed on the conductive layer of the wiring pattern layer where the wiring pattern layers overlap, insulation at the place where the wiring pattern layers overlap is assured. Insulation instability is also eliminated by forming the insulating layer such that the wiring pattern layer at the location is covered with the insulating layer,
A multilayer printed wiring board with excellent reliability can be provided. Further, by using the multilayer printed wiring board of the present invention, a device that can withstand high voltage can be manufactured.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】次に好ましい発明の実施形態を挙
げて本発明をさらに詳細に説明する。以下では図面を参
照しながら本発明を説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, the present invention will be described in more detail by way of preferred embodiments. Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0018】図1は本発明方法で得られる多層プリント
配線板の一例を示す3層からなるプリント配線板の概略
断面図である。図1において、多層プリント配線板1
は、基板2と、基板2上に設けられた第1層目の配線パ
ターン層3と、この配線パターン層3上に積層された第
2層目の配線パターン層4と、更に配線パターン層4上
に積層された第3層目の配線パターン層5とを備えた3
層構成の多層プリント配線板である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a three-layer printed wiring board showing an example of a multilayer printed wiring board obtained by the method of the present invention. In FIG. 1, a multilayer printed wiring board 1
A substrate 2, a first wiring pattern layer 3 provided on the substrate 2, a second wiring pattern layer 4 laminated on the wiring pattern layer 3, and a wiring pattern layer 4 3 having a third wiring pattern layer 5 laminated thereon
It is a multilayer printed wiring board having a layer configuration.

【0019】図1に示されるように、第1層目の配線パ
ターン層3と、この配線パターン層3上に積層される第
2層目の配線パターン層4とが重なり合う箇所には、硬
化樹脂からなる絶縁層6が形成されている。さらに、第
2層目の配線パターン層4とこの層上に積層された第3
層目の配線パターン層5とが重なり合う箇所には、該絶
縁層6′が形成されている。これらの絶縁層は、いずれ
も該箇所における配線パターン層を覆うように形成され
ている。
As shown in FIG. 1, when the first wiring pattern layer 3 and the second wiring pattern layer 4 laminated on the first wiring pattern layer 3 overlap, Is formed. Further, the second wiring pattern layer 4 and the third
The insulating layer 6 'is formed in a portion where the wiring pattern layer 5 of the layer overlaps. Each of these insulating layers is formed so as to cover the wiring pattern layer at the location.

【0020】なお、第1層目の配線パターン層3と、第
3層目の配線パターン層5とが重なりを生じる場合も当
然想定でき、この場合にも重なり合う箇所には同様に該
絶縁層が形成される。
It should be noted that a case where the first wiring pattern layer 3 and the third wiring pattern layer 5 may overlap with each other can be naturally assumed. It is formed.

【0021】前記多層プリント配線板1を構成する各配
線パターン層3,4,5は、それぞれ導電性層3a,4
a,5aと、この導電性層の下部に形成された絶縁性接
着層3b,4b,5bとを有している。そして、多層プ
リント配線板1は、各配線パターン層3,4,5を基板
2の上、あるいは下層の配線パターン層の上に順次転写
積層した重ね刷り型の構造であり、各配線パターン層が
相互に重なり合う箇所には、上述のごとく該絶縁層6,
6′が形成されており、上下の配線パターン層間の絶縁
は上層の配線パターン層を構成する絶縁性接着層によっ
ても可能ではあるものの、本発明においては、これとは
別途に、新たな硬化樹脂からなる絶縁層6,6′を設け
て、さらに図示のように絶縁層を配線パターン層の重な
り合う箇所に該層よりも大きく、該層を覆って形成する
ことにより、多層プリント配線板の信頼性を向上させて
いるのである。第1層目の配線パターン層3と第2層目
の配線パターン層4とが重なり合う箇所の絶縁層6の形
成状態を図5に斜視図で示す。
Each of the wiring pattern layers 3, 4 and 5 constituting the multilayer printed wiring board 1 has conductive layers 3a and 4 respectively.
a, 5a and insulating adhesive layers 3b, 4b, 5b formed below the conductive layer. The multilayer printed wiring board 1 has an overprinted structure in which the wiring pattern layers 3, 4, and 5 are sequentially transferred and laminated on the substrate 2 or the lower wiring pattern layer. As described above, the insulating layers 6, 6
6 'is formed, and insulation between the upper and lower wiring pattern layers can be achieved by the insulating adhesive layer constituting the upper wiring pattern layer. However, in the present invention, a new cured resin is separately provided. Insulating layers 6 and 6 'made of, and as shown, the insulating layer is formed at a portion where the wiring pattern layer overlaps and is formed to cover the layer, so that the reliability of the multilayer printed wiring board is improved. It is improving. FIG. 5 is a perspective view showing a state in which the insulating layer 6 is formed at a position where the first wiring pattern layer 3 and the second wiring pattern layer 4 overlap with each other.

【0022】このように、本発明の多層プリント配線板
1は、各配線パターン層が相互に重なり合う箇所(交差
部)に積極的に該絶縁層を設けた構造をとっているの
で、その他の場所では配線パターン層3,4,5の導電
層3a,4a,5aは部分的に裸出しており、配線パタ
ーン層の交差部あるいは各配線パターン層が相互に近接
する部位(近接部)における各配線パターン層相互の接
続を容易に行うことができる。
As described above, the multilayer printed wiring board 1 of the present invention has a structure in which the insulating layer is positively provided at places (intersections) where the respective wiring pattern layers overlap with each other. In FIG. 2, the conductive layers 3a, 4a, and 5a of the wiring pattern layers 3, 4, and 5 are partially exposed, and each wiring is formed at an intersection of the wiring pattern layers or at a portion where each wiring pattern layer is close to each other (proximal portion). The connection between the pattern layers can be easily performed.

【0023】本発明の多層プリント配線板1を構成する
基板2は、ガラスエポキシ基板、ポリイミド基板、アル
ミナセラミック基板、ガラスエポキシとポリイミドの複
合基板等、多層プリント配線板用の基板として公知の基
板を使用することができる。この基板2の厚さは5〜1
000μmの範囲であることが好ましい。尚、導電性の
基板を使用する場合には、一方の表面に絶縁層を形成し
て使用する。その際、図4(D)に示されているよう
に、該基板に形成される配線パターン層の大きささより
も大きく形成することにより、転写時のアラインメント
に余裕ができる(精度的に)とともに、絶縁性をより確
実にすることができる。
The substrate 2 constituting the multilayer printed wiring board 1 of the present invention may be a substrate known as a substrate for a multilayer printed wiring board, such as a glass epoxy substrate, a polyimide substrate, an alumina ceramic substrate, a composite substrate of glass epoxy and polyimide. Can be used. The thickness of the substrate 2 is 5 to 1
It is preferably in the range of 000 μm. When a conductive substrate is used, an insulating layer is formed on one surface before use. At this time, as shown in FIG. 4D, by forming the wiring pattern layer larger than the size of the wiring pattern layer formed on the substrate, the alignment at the time of transfer can be given a margin (accurately). In addition, the insulation property can be further ensured.

【0024】各配線パターン層3,4,5の厚みは、後
述する積層転写における下層の配線パターン層の乗り越
えを欠陥なく行うために、100μm以下、好ましくは
10〜60μmの範囲とする。また、各配線パターン層
3,4,5を構成する導電性層3a,4a,5aの厚み
は、配線パターン層の電気抵抗を低く抑えるため1μm
以上、好ましくは5〜40μmの範囲とする。さらに、
絶縁性接着層3b,4b,5bの厚みは、使用する絶縁
性の粘着性あるいは接着性樹脂にもよるが、交差部にお
いて上下の配線パターン層間の絶縁を保つために少なく
とも1μm以上、好ましくは5〜30μmの範囲とす
る。このような配線パターン層3,4,5の線幅は、最
小幅10μm程度まで任意に設定することができる。
The thickness of each of the wiring pattern layers 3, 4, and 5 is set to 100 μm or less, preferably 10 to 60 μm, so that the lower wiring pattern layer can be passed over without any defect in the lamination transfer described later. The thickness of the conductive layers 3a, 4a, 5a constituting each of the wiring pattern layers 3, 4, 5 is 1 μm in order to keep the electric resistance of the wiring pattern layers low.
As described above, the thickness is preferably in the range of 5 to 40 μm. further,
The thickness of the insulating adhesive layers 3b, 4b, 5b is at least 1 μm or more, preferably 5 μm or more, in order to maintain insulation between the upper and lower wiring pattern layers at the intersection, although it depends on the insulating adhesive or adhesive resin used. To 30 μm. The line width of such wiring pattern layers 3, 4, 5 can be arbitrarily set up to a minimum width of about 10 μm.

【0025】導電性層3a,4a,5aの材料は、後述
するようにメッキにより薄膜形成が可能なものであれば
特に制限はなく、例えば、銅、銀、金、ニッケル、クロ
ム、亜鉛、すず、白金等を用いることができる。
The material of the conductive layers 3a, 4a and 5a is not particularly limited as long as a thin film can be formed by plating, as described later. For example, copper, silver, gold, nickel, chromium, zinc, tin, and tin , Platinum or the like can be used.

【0026】また、絶縁性接着層3b,4b,5bの材
料は 常温もしくは加熱により粘着性あるいは接着性を
示す電着性絶縁物質であって、電着によって薄膜を形成
するものであればよい。このような電着性絶縁物質とし
ては、例えば、常温或いは加熱によって粘着性あるいは
接着性を示すアニオン性、またはカチオン性の合成高分
子樹脂を挙げることができる。
The material of the insulating adhesive layers 3b, 4b, 5b may be an electrodepositable insulating material exhibiting tackiness or adhesiveness at room temperature or by heating, as long as it forms a thin film by electrodeposition. Examples of such an electrodepositable insulating material include, for example, an anionic or cationic synthetic polymer resin which exhibits tackiness or adhesiveness at normal temperature or when heated.

【0027】具体的には、アニオン性合成高分子樹脂と
して、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン化油
樹脂、ポリブタジエン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリイミド樹脂等を単独で、あるいは、これらの
樹脂の任意の組み合わせによる混合物として使用でき
る。さらに、上記のアニオン性合成高分子樹脂とメラミ
ン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等の架橋性樹脂
とを併用してもよい。
Specifically, as the anionic synthetic polymer resin, acrylic resin, polyester resin, maleated oil resin, polybutadiene resin, epoxy resin, polyamide resin, polyimide resin or the like alone or any of these resins can be used. Can be used as a mixture. Further, the above-mentioned anionic synthetic polymer resin may be used in combination with a crosslinkable resin such as a melamine resin, a phenol resin and a urethane resin.

【0028】また、カチオン性合成高分子樹脂として、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタ
ジエン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等を単独
で、あるいは、これらの任意の組み合わせによる混合物
として使用できる。さらに、上記のカチオン性合成高分
子樹脂とポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等の架橋性樹
脂とを併用してもよい。また、上記のイオン性高分子樹
脂に粘着性を付与するためにロジン系、テルペン系、石
油樹脂系等の粘着付与樹脂を必要に応じて添加すること
も可能である。
As the cationic synthetic polymer resin,
Acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, polybutadiene resin, polyamide resin, polyimide resin and the like can be used alone or as a mixture of any combination thereof. Further, the above cationic synthetic polymer resin may be used in combination with a crosslinkable resin such as a polyester resin and a urethane resin. It is also possible to add a rosin-based, terpene-based, petroleum resin-based tackifier resin or the like as needed to impart tackiness to the ionic polymer resin.

【0029】上記のイオン性高分子樹脂は、後述する電
着によって絶縁性被膜を形成させるために、アルカリ性
または酸性物質により中和して水に可溶化された状態、
または水分散状態で電着液中に含有される。すなわち、
アニオン性合成高分子樹脂は、トリメチルアミン、ジエ
チルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジイソプロパ
ノールアミン等のアミン類、アンモニア、苛性カリ等の
無機アルカリで中和する。また、カチオン性合成高分子
樹脂は、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、乳酸等の酸で中和
する。そして、中和され水に可溶化された高分子樹脂
は、水分散型または溶解型として水に希釈された状態で
使用される。
The ionic polymer resin is neutralized with an alkaline or acidic substance and solubilized in water in order to form an insulating film by electrodeposition as described below.
Alternatively, it is contained in the electrodeposition liquid in a water-dispersed state. That is,
The anionic synthetic polymer resin is neutralized with amines such as trimethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine and diisopropanolamine, and with inorganic alkalis such as ammonia and potassium hydroxide. Further, the cationic synthetic polymer resin is neutralized with an acid such as acetic acid, formic acid, propionic acid, lactic acid and the like. Then, the polymer resin neutralized and solubilized in water is used in a state of being diluted with water as an aqueous dispersion type or a solution type.

【0030】また、上記の粘着性あるいは接着性を示す
イオン性高分子樹脂の絶縁性、耐熱性等の信頼性を高め
る目的で、上記の該高分子樹脂にブロックイソシアネー
ト等の熱重合性不飽和結合を有する公知の熱硬化性樹脂
を添加し、多層プリント配線板の全層を転写形成後、熱
処理によってすべての絶縁性接着層を硬化させてもよ
い。勿論、熱硬化性樹脂以外にも、重合性不飽和結合
(例えば、アクリル基、ビニル基、アリル基等)を有す
る樹脂をイオン性高分子樹脂に添加しておけば、多層プ
リント配線板の全層を転写形成後、電子線照射によって
すべての絶縁性接着層を硬化させることができる。
In order to enhance the reliability of the ionic polymer resin exhibiting tackiness or adhesiveness, such as insulation and heat resistance, the polymer resin may be heat-polymerizable unsaturated such as blocked isocyanate. A known thermosetting resin having a bond may be added, and all the layers of the multilayer printed wiring board may be transferred and formed, and then all the insulating adhesive layers may be cured by heat treatment. Of course, if a resin having a polymerizable unsaturated bond (for example, an acrylic group, a vinyl group, an allyl group, etc.) is added to the ionic polymer resin in addition to the thermosetting resin, the entirety of the multilayer printed wiring board can be improved. After the transfer of the layers, all the insulating adhesive layers can be cured by electron beam irradiation.

【0031】絶縁性接着層3b,4b,5bを形成する
他の材料としては、常温もしくは加熱により粘着性を示
すものであれば、熱可塑性樹脂はもちろんのこと、熱硬
化性樹脂で硬化後は粘着性を失うような粘着性樹脂でも
よい。また、塗膜の強度を出すために有機あるいは無機
のフィラーを含むものでもよい。また、絶縁樹脂層3
b,4b,5bの材料は 常温もしくは加熱により流動
性を示す電着性の接着剤であってもよい。
Other materials for forming the insulating adhesive layers 3b, 4b, 5b include not only thermoplastic resins but also thermosetting resins as long as they exhibit tackiness at room temperature or by heating. An adhesive resin that loses adhesiveness may be used. Further, those containing an organic or inorganic filler for increasing the strength of the coating film may be used. Also, the insulating resin layer 3
The materials b, 4b and 5b may be electrodepositable adhesives which exhibit fluidity at room temperature or when heated.

【0032】前記配線パターン層同士が重なり合う部分
に設ける硬化樹脂からなる絶縁層6,6′は、図1に示
されるように、重なり合う部分における配線パターン層
の上面および側面部の全体を完全に覆うような形態とす
ることが、絶縁性を完全に担保するために望ましい。こ
のような絶縁層の材質や形成方法については後述する。
As shown in FIG. 1, the insulating layers 6, 6 'made of a cured resin provided at the portions where the wiring pattern layers overlap each other completely cover the entire upper surface and side surfaces of the wiring pattern layers at the overlapping portions. Such a form is desirable in order to completely secure insulation. The material and forming method of such an insulating layer will be described later.

【0033】次に、図1に示される本発明の多層プリン
ト配線板の一例である3層の多層プリント配線板を例に
して図2および図3を参照しながら本発明の多層プリン
ト配線板の製造方法を説明する。まず、本発明で用いる
転写用原版を作成するために、転写基板としての導電性
基板11上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト
層12を形成(図2(1))する。そして、所定のフォ
トマスクを用いてフォトレジスト層12を密着露光し現
像して絶縁層12′(転写用原版に配線パターン層を形
成する時に必要であり、これ自体は転写はされない)を
形成し、導電性基板11上に配線パターン部分11aを
露出させる(図2(2))。
Next, referring to FIGS. 2 and 3, a three-layer multilayer printed wiring board, which is an example of the multilayer printed wiring board of the present invention shown in FIG. 1, will be described. The manufacturing method will be described. First, in order to prepare a transfer master used in the present invention, a photoresist is applied on a conductive substrate 11 as a transfer substrate to form a photoresist layer 12 (FIG. 2A). Then, the photoresist layer 12 is contact-exposed and developed using a predetermined photomask and developed to form an insulating layer 12 '(necessary when forming a wiring pattern layer on a transfer master, which is not itself transferred). Then, the wiring pattern portion 11a is exposed on the conductive substrate 11 (FIG. 2 (2)).

【0034】次いで、導電性基板11の配線パターン部
分11a上にメッキ法により導電性層3aを形成する
(図2(3))。その後、導電性層3a上に電着法によ
り粘着性あるいは接着性の絶縁性接着層3bを形成する
(図2(4))。これにより、導電性層3aと絶縁性接
着層3bとを有する第1層目の配線パターン層3を設け
た配線パターン層形成用の転写用原版10が得られる。
第2層目以降の配線パターン層を設けた転写用原版は上
記と同様にして製造される。
Next, a conductive layer 3a is formed on the wiring pattern portion 11a of the conductive substrate 11 by plating (FIG. 2 (3)). Thereafter, an adhesive or adhesive insulating adhesive layer 3b is formed on the conductive layer 3a by an electrodeposition method (FIG. 2 (4)). As a result, a transfer master 10 for forming a wiring pattern layer provided with the first wiring pattern layer 3 having the conductive layer 3a and the insulating adhesive layer 3b is obtained.
The transfer original plate provided with the second and subsequent wiring pattern layers is manufactured in the same manner as described above.

【0035】次に、基板2上に、上記の配線パターン層
形成用の転写用原版10を絶縁性接着層3bが基板2に
当接するように圧着する(図2(5))。この圧着は、
ローラ圧着、プレート圧着、真空圧着等、いずれの方法
にしたがってもよい。また、絶縁性接着層が加熱により
粘着性あるいは接着性を発現する絶縁性樹脂からなる場
合には、熱圧着を行うこともできる。その後、導電性基
板11を剥離して配線パターン層3を基板2上に転写す
ることにより、図3(A)に示されるように導電性層3
aと絶縁性接着層3bとを有する第1層目の配線パター
ン層3が基板2上に形成される。
Next, the transfer original plate 10 for forming a wiring pattern layer is pressed on the substrate 2 so that the insulating adhesive layer 3b contacts the substrate 2 (FIG. 2 (5)). This crimp is
Any method such as roller pressing, plate pressing, and vacuum pressing may be used. When the insulating adhesive layer is made of an insulating resin that exhibits tackiness or adhesiveness when heated, thermocompression bonding can be performed. Thereafter, the conductive substrate 11 is peeled off and the wiring pattern layer 3 is transferred onto the substrate 2 to thereby form the conductive layer 3 as shown in FIG.
a and a first wiring pattern layer 3 having an insulating adhesive layer 3b are formed on the substrate 2.

【0036】このように形成された第1層目の配線パタ
ーン層3上の、次の転写で積層される第2層目の配線パ
ターン層4とが重なり合う予定の部分に以下に記す方法
によって図3(C)に示される硬化樹脂からなる絶縁層
6を該部分の配線パターン層よりも大きく、該層が覆わ
れるように形成する。重なり合う予定の部分とは、次工
程で積層される配線パターン層が転写されれば、必然的
に重なりを生じる箇所をいう。
The portion on the first wiring pattern layer 3 thus formed, which is to be overlapped with the second wiring pattern layer 4 to be laminated in the next transfer, will be described by a method described below. The insulating layer 6 made of the cured resin shown in FIG. 3 (C) is formed so as to be larger than the wiring pattern layer in the portion and to cover the layer. The portion to be overlapped means a portion that inevitably overlaps when the wiring pattern layer to be laminated in the next step is transferred.

【0037】硬化樹脂からなる絶縁層は、感光性を有し
パターン形成可能な絶縁性樹脂(感光性絶縁性樹脂)又
はエッチング性を有しパターン形成可能な硬化性絶縁性
樹脂(エッチング性絶縁性樹脂)から形成される。多層
プリント配線基板が導電性の基板である場合、この基板
と配線パターン層との間に設ける絶縁層も同様に上記の
樹脂を用いて形成する。感光性絶縁性樹脂としては、例
えば、絶縁性を有する公知のポジ型およびネガ型のフォ
トレジストはいずれも使用可能である。また、エッチン
グ性絶縁性樹脂としては、例えば、ポリイミド樹脂、エ
ポキシ樹脂等が挙げられる。
The insulating layer made of a cured resin is made of a photosensitive and patternable insulating resin (photosensitive insulating resin) or an etching and patternable curable insulating resin (etchable insulating resin). Resin). When the multilayer printed wiring board is a conductive board, an insulating layer provided between the board and the wiring pattern layer is similarly formed using the above resin. As the photosensitive insulating resin, for example, any of known positive and negative photoresists having insulating properties can be used. In addition, examples of the etching insulating resin include a polyimide resin and an epoxy resin.

【0038】感光性絶縁性樹脂として、例えば、フォト
レジストを用いて該絶縁層を形成する場合には、転写さ
れた配線パターン層を覆うようにフォトレジストからな
る層を導電性基板上に形成させ、この層上に転写された
配線パターン層上の次の転写操作で重なりが予定される
部分に該絶縁層が形成されるようにパターン化されたマ
スクを密着させ、フォトレジストにおける通常の露光、
現像操作を行って、配線パターン層上の重なりが予定さ
れる部分にフォトレジスト層をが形成されるように他の
部分のフォトレジスト層を除去する。その後にフォトレ
ジスト層を硬化させることによって硬化樹脂からなる絶
縁層が形成される(図3(B)、(C))。後述の実施
例1はこの例である。
When the insulating layer is formed using, for example, a photoresist as a photosensitive insulating resin, a layer made of a photoresist is formed on the conductive substrate so as to cover the transferred wiring pattern layer. A mask that has been patterned so that the insulating layer is formed on a portion of the wiring pattern layer that has been transferred onto the wiring pattern layer that is to be overlapped in the next transfer operation is formed, and normal exposure on photoresist is performed.
A developing operation is performed to remove the photoresist layer in other portions so that the photoresist layer is formed in portions where the overlap on the wiring pattern layer is expected. Thereafter, by curing the photoresist layer, an insulating layer made of a cured resin is formed (FIGS. 3B and 3C). Example 1 described below is this example.

【0039】上記の方法で硬化樹脂からなる絶縁層6を
形成した後(図3(C))、第1層目の配線パターン層
3が転写形成された基板2上に、第2層目の配線パター
ン層用の転写用原版を用いて第1層目の配線パターン層
に対する位置合わせを行ったうえで同様に配線パターン
層の転写を行い、導電性層4aと絶縁性接着層4bとを
有する第2層目の配線パターン層4を形成する(図3
(D))。かくして、第1層目の配線パターン層3と第
2層目の配線パターン層4との重なり部分に該絶縁層6
が形成されることとなる。
After the insulating layer 6 made of the cured resin is formed by the above method (FIG. 3C), the second layer of the second layer is transferred onto the substrate 2 on which the first layer of the wiring pattern 3 has been transferred. Using the transfer master for the wiring pattern layer, the wiring pattern layer is transferred to the first wiring pattern layer in the same manner as above, and has a conductive layer 4a and an insulating adhesive layer 4b. A second wiring pattern layer 4 is formed (FIG. 3
(D)). In this manner, the insulating layer 6 is formed at the overlapping portion between the first wiring pattern layer 3 and the second wiring pattern layer 4.
Is formed.

【0040】、次に、第2層目の配線パターン層4上に
第3層目の配線パターン層5を転写する前に、第2層目
の配線パターン層4と第3層目の配線パターン層5とが
重なり合う予定の部分に該絶縁層6′を上記の方法によ
って形成する(図3(E))。図1に示される実施例で
は、理解を容易にするために第1層目の配線パターン層
3に対しては、第2層目の配線パターン層4のみが重な
り合うことを想定している(実際には、第3層目の配線
パターン層5にも重なり合うことが多々ある)。図1で
は、第2層目の配線パターン層4に対しては第3層目の
配線パターン層5のみが重なり合うことを想定してい
る。
Next, before transferring the third wiring pattern layer 5 onto the second wiring pattern layer 4, the second wiring pattern layer 4 and the third wiring pattern The insulating layer 6 'is formed in a portion where the layer 5 is to be overlapped by the above-mentioned method (FIG. 3E). In the embodiment shown in FIG. 1, it is assumed that only the second wiring pattern layer 4 overlaps with the first wiring pattern layer 3 for easy understanding (actually, Often overlaps with the third wiring pattern layer 5). In FIG. 1, it is assumed that only the third wiring pattern layer 5 overlaps with the second wiring pattern layer 4.

【0041】最後に、積層された第2層目の配線パター
ン層4に、第3層目の配線パターン層形成用の転写原版
を用いて位置合わせを行って配線パターン層の転写を行
い、導電性層5aと絶縁樹脂層5bを有する第3層目の
配線パターン層5を形成する(図3(F))。この場合
には、第2層目の配線パターン層4と第3層目の配線パ
ターン層5の重なる部分に絶縁層6′が形成されている なお、以上の図3に示した例は、理解を容易にするため
に、配線パターン層同士の重なり合う部分の数を極力少
なくした例であり、もちろんこの数に限定されないこと
はいうまでもない。
Lastly, the wiring pattern layer is transferred by performing positioning using the transfer master for forming the third wiring pattern layer on the stacked second wiring pattern layer 4 to transfer the wiring pattern layer. A third wiring pattern layer 5 having a conductive layer 5a and an insulating resin layer 5b is formed (FIG. 3F). In this case, the insulating layer 6 'is formed at the portion where the second wiring pattern layer 4 and the third wiring pattern layer 5 overlap. The example shown in FIG. This is an example in which the number of overlapping portions of the wiring pattern layers is reduced as much as possible in order to facilitate the above, and it goes without saying that the number is not limited to this number.

【0042】尚、上述の例では、配線パターン層用の転
写用原版10等は、基板11上に直接導電性層とその上
に形成された粘着性あるいは接着性の絶縁性接着層とが
形成されているが、第1層目の配線パターン層用の転写
用原版10については、フォトレジストからなる絶縁性
樹脂層が予め形成されていてもよい。絶縁性樹脂層が予
め形成されていない場合には、予め基板2上に絶縁性の
粘着剤層あるいは接着剤層を設けておけば、第1層目の
配線パターン層を基板2上に転写することができる。
In the above-described example, the transfer master 10 for the wiring pattern layer and the like have a conductive layer directly on the substrate 11 and an adhesive or adhesive insulating adhesive layer formed thereon. However, with respect to the transfer original plate 10 for the first wiring pattern layer, an insulating resin layer made of a photoresist may be formed in advance. If the insulating resin layer is not formed beforehand, the first wiring pattern layer is transferred onto the substrate 2 by providing an insulating pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer on the substrate 2 in advance. be able to.

【0043】硬化樹脂からなる絶縁層を形成する他の方
法は、図4(A)〜(F)に示されるように(この例は
多層プリント配線板の基板2が導電性であり、該基板に
硬化感光性樹脂からなる絶縁層7も形成されている(図
4(C)))、エッチング性絶縁性樹脂を用いる方法で
ある。この方法も感光性樹脂を用いた場合と同様に、転
写された配線パターン層3(図4(D))を覆うように
基板上に被膜6を形成させ、その上に上記のフォトレジ
ストからなる層8を形成させ(図4(E))、所定のマ
スクを用いてエッチング性絶縁性樹脂層上にマスクパタ
ーンを形成させた後にエッチングによって該絶縁層を形
成すべき層を形成させ(図4(F))、マスクパターン
を除去し(図3(C)参照)、残存するエッチング性絶
縁性樹脂層6を硬化させる。次いで第2層目以降の配線
パターン層を上記と同様にして形成する。この方法では
感光性樹脂を用いる方法に比べて材料コストが安い、ポ
ジ型・ネガ型の選択の必要がないという利点がある。後
述する実施例2はこの例である。
Another method of forming an insulating layer made of a cured resin is as shown in FIGS. 4A to 4F (in this example, the substrate 2 of the multilayer printed wiring board is electrically conductive, and In this method, an insulating layer 7 made of a cured photosensitive resin is also formed (FIG. 4C). In this method, similarly to the case where a photosensitive resin is used, a film 6 is formed on a substrate so as to cover the transferred wiring pattern layer 3 (FIG. 4D), and the above-mentioned photoresist is formed thereon. The layer 8 is formed (FIG. 4E), a mask pattern is formed on the etchable insulating resin layer using a predetermined mask, and then a layer on which the insulating layer is to be formed is formed by etching (FIG. 4E). (F), the mask pattern is removed (see FIG. 3 (C)), and the remaining etchable insulating resin layer 6 is cured. Next, the second and subsequent wiring pattern layers are formed in the same manner as described above. This method has the advantages that the material cost is lower than the method using a photosensitive resin, and there is no need to select a positive type or a negative type. Example 2 described below is this example.

【0044】以上のようにして、各配線パターン層間で
重なり合う部分に硬化樹脂からなる絶縁層が形成され、
また、多層プリント配線板用基板が導電性の場合には、
同様に該絶縁層を該基板と配線パターン層との間に設け
ることによって、絶縁性が確実となる本発明の多層プリ
ント配線板が製造される。
As described above, the insulating layer made of the cured resin is formed at the portion where the wiring patterns overlap each other,
Also, when the multilayer printed wiring board substrate is conductive,
Similarly, by providing the insulating layer between the substrate and the wiring pattern layer, the multilayer printed wiring board of the present invention in which the insulating property is ensured is manufactured.

【0045】[0045]

【実施例】次に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に
説明する。以下においては、特に断りのない限り部及び
%は重量基準である。 実施例1
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In the following, parts and percentages are by weight unless otherwise specified. Example 1

【0046】(1) 転写用原版における導電性層の形
成 導電性基板として、表面を研磨した厚さ0.2mmのス
テンレス板を準備し、このステンレス板上に市販のメッ
キ用フォトレジスト(東京応化工業(株)製PMER P-AR9
00)を厚さ10μmに塗布乾燥し、所定の配線パターン
が形成されているフォトマスクを用いてそれぞれ密着露
光を行った後、現像・水洗・乾燥し、所定の配線パター
ンを有するフォトレジスト層を形成して第1層目の配線
パターン層形成用の転写用原版を得た。同様にして第
2、3層目配線パターン層形成用の転写用原版を作製し
た。
(1) Formation of conductive layer on transfer master A stainless steel plate having a polished surface and a thickness of 0.2 mm was prepared as a conductive substrate, and a commercially available plating photoresist (Tokyo Ohka Chemical Co., Ltd.) was placed on the stainless steel plate. Industrial PMER P-AR9
00) is applied to a thickness of 10 μm and dried, and is subjected to contact exposure using a photomask on which a predetermined wiring pattern is formed, followed by development, washing and drying to form a photoresist layer having a predetermined wiring pattern. Thus, a transfer master for forming a first wiring pattern layer was obtained. Similarly, a transfer master for forming the second and third wiring pattern layers was prepared.

【0047】上記の各転写用原版と無酸素銅電極とを対
向させて下記の組成のピロ燐酸銅メッキ浴(pH=8,
液温=55℃)中に浸漬し、直流電源の陽極に白金電極
を、陰極に上記の転写原版を接続し、電流密度10A/
dm2 で5分間の通電を行い、フォトレジストで被覆さ
れていない導電性基板の裸出部に厚さ10μmの銅メッ
キ膜を形成し導電性層とした。
Each of the transfer masters and the oxygen-free copper electrode were opposed to each other, and a copper pyrophosphate plating bath having the following composition (pH = 8,
Solution temperature = 55 ° C.), a platinum electrode was connected to the anode of the DC power supply, and the above-mentioned transfer master was connected to the cathode, and the current density was 10 A /
A current of dm 2 was applied for 5 minutes, and a 10 μm-thick copper plating film was formed on the bare portion of the conductive substrate that was not covered with the photoresist, thereby forming a conductive layer.

【0048】ピロ燐酸銅メッキ浴の組成 ピロ燐酸銅 94g/リットル ピロ燐酸カリウム 340g/リットル アンモニア水 3g/リットル Composition of copper pyrophosphate plating bath Copper pyrophosphate 94 g / liter Potassium pyrophosphate 340 g / liter ammonia water 3 g / liter

【0049】(2)転写用原版における絶縁性接着層の
形成 導電層を形成した各転写用原版と白金電極とを対向させ
て下記の絶縁性接着層形成用の電着液に浸漬し、直流電
源の陰極に転写用原版を、陰極に白金電極をそれぞれ接
続し、50Vの電圧で1分間の電着を行い、150℃で
30分間乾燥・熱処理を行い、導電層上に厚さ20μm
の接着剤層を形成させた。このようにして3種の転写用
原版A1、A2及びA3を得た。
(2) Formation of Insulating Adhesive Layer on Transfer Master The transfer master on which the conductive layer was formed and the platinum electrode were opposed to each other and immersed in the following electrodeposition solution for forming an insulating adhesive layer. The transfer master was connected to the cathode of the power supply, and the platinum electrode was connected to the cathode. Electrodeposition was performed at a voltage of 50 V for 1 minute, drying and heat treatment were performed at 150 ° C. for 30 minutes, and a thickness of 20 μm was formed on the conductive layer.
Was formed. Thus, three types of transfer masters A1, A2 and A3 were obtained.

【0050】絶縁性接着層形成用電着液の調製:アクリ
ル酸ブチル13.2部、メタクリル酸メチル1.6部、
ジビニルベンゼン0.2部および過硫酸カリウム1%水
溶液85部を混合し、80℃、5時間の無乳化剤の乳化
重合を行って、アクリル酸ブチル/ポリメタクリル酸メ
チル共重合体のエマルジョンを調整した。次に、このエ
マルジョン65部、電着担体としてカルボキシル基を有
するアクリル系共重合体樹脂2量部、ヘキサメトキシメ
ラニン0.85部、中和剤としてトリメチルアミン0.
35部、エタノール3部、ブチルセルソルブ3部及びイ
オン交換水18.8部を混合撹拌してアニオン型の絶縁
性接着層形成用の電着液を調整した。
Preparation of electrodeposition solution for forming insulating adhesive layer: 13.2 parts of butyl acrylate, 1.6 parts of methyl methacrylate,
0.2 parts of divinylbenzene and 85 parts of a 1% aqueous solution of potassium persulfate were mixed, and emulsion polymerization of an emulsifier was performed at 80 ° C. for 5 hours to prepare an emulsion of a butyl acrylate / poly (methyl methacrylate) copolymer. . Next, 65 parts of this emulsion, 2 parts of an acrylic copolymer resin having a carboxyl group as an electrodeposition carrier, 0.85 parts of hexamethoxymelanin, and 0.1% of trimethylamine as a neutralizing agent.
35 parts of ethanol, 3 parts of ethanol, 3 parts of butyl cellosolve and 18.8 parts of ion-exchanged water were mixed and stirred to prepare an electrodeposition solution for forming an anionic insulating adhesive layer.

【0051】(3)多層プリント配線板の作製 (導電性基板への絶縁性樹脂層の形成)厚さ25μmの
SUS304薄板上に感光性絶縁性樹脂(日産化学
(株)製、RN−902)溶液をスピンコート法で10
μmの厚さに塗布し、露光・現像を行った後、170℃
60分、350℃30分硬化を行って絶縁性薄膜を形成
させた。
(3) Fabrication of Multilayer Printed Wiring Board (Formation of Insulating Resin Layer on Conductive Substrate) Photosensitive insulating resin (RN-902, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) on a SUS304 thin plate having a thickness of 25 μm. The solution was spin-coated to 10
After applying to a thickness of μm and performing exposure and development, 170 ° C
Curing was performed for 60 minutes at 350 ° C. for 30 minutes to form an insulating thin film.

【0052】(第1層目の配線パターン層の転写)この
導電性基板と上記(2)で作製した配線パターン層用の
転写用原版A1を、圧力10kgf/cm、80℃で
圧着して導電性層とその下部に絶縁性接着層を有する第
1層目の配線パターン層を転写し、その後、180℃で
30分間の条件で該接着層を硬化させて第1層目の配線
パターン層の形成を完了した。
(Transfer of the First Wiring Pattern Layer) The conductive substrate and the transfer master A1 for the wiring pattern layer prepared in the above (2) are pressure-bonded at a pressure of 10 kgf / cm 2 and 80 ° C. The first wiring pattern layer having a conductive layer and an insulating adhesive layer thereunder is transferred, and then the adhesive layer is cured at 180 ° C. for 30 minutes to form the first wiring pattern layer. Was completed.

【0053】(硬化樹脂からなる絶縁層の形成)次に第
1層目の配線パターン層が形成された基板上に上記の感
光性絶縁性樹脂をスピンコート法により10μmの厚さ
に塗布し、所望のマスクにより下記の条件で露光・現像
を行った後、170℃60分、350℃30分の硬化を
行い硬化樹脂からなる絶縁層の形成を行った。
(Formation of Insulating Layer Made of Cured Resin) Next, the above photosensitive insulating resin was applied to a thickness of 10 μm on the substrate on which the first wiring pattern layer was formed by spin coating. After performing exposure and development under the following conditions using a desired mask, curing was performed at 170 ° C. for 60 minutes and at 350 ° C. for 30 minutes to form an insulating layer made of a cured resin.

【0054】密着露光機:大日本スクリーン製造〓製
P−202−G 真空引き:60秒 露光時間:400カウント
Contact exposure machine: manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.
P-202-G Vacuum evacuation: 60 seconds Exposure time: 400 counts

【0055】(第2層目の配線パターン層の転写)その
後、この該絶縁層が形成された基板上に、上記(2)で
作製した配線パターン層形成用の転写用原版A2を圧力
10kgf/cm、温度80℃の条件で圧着して第2
層目の配線パターン層を転写し、その後、180℃3で
0分間の条件で接着層を硬化させて第2層目の配線パタ
ーン層の形成を完了した。
(Transfer of Second Wiring Pattern Layer) Thereafter, the transfer master A2 for forming a wiring pattern layer prepared in the above (2) was applied onto the substrate on which the insulating layer was formed at a pressure of 10 kgf / cm 2 at a temperature of 80 ° C.
The second wiring pattern layer was transferred, and then the adhesive layer was cured at 180 ° C. for 3 minutes to complete the formation of the second wiring pattern layer.

【0056】(硬化樹脂からなる絶縁層の形成及び第3
層目の配線パターン層の転写)上記と同様にして、第2
層目の配線パターン層が形成された基板上に上記と同じ
感光性絶縁性樹脂の薄膜を同条件で形成、硬化させた
後、上記(2)で作製した配線パターン層形成用の転写
用原版A3を転写用原版A2と同条件で圧着して導電性
層と絶縁性接着層からなる第3層目の配線パターン層を
転写し、その後、180℃30分間の条件で接着層を硬
化させて第3層目の配線パターン層の形成を完了した。
以上の操作によって3種類の配線パターン層が積層され
た本発明の多層プリント配線板が得られた。本実施例は
図3に示される製造工程に対応するが、図3では多層プ
リント配線板用の基板には、予め絶縁性樹脂層は形成さ
れていない点が本実施例とは相違する。
(Formation of Insulating Layer Made of Cured Resin and Third
Transfer of the wiring pattern layer of the layer)
After a thin film of the same photosensitive insulating resin as described above is formed and cured on the substrate on which the wiring pattern layer of the layer is formed under the same conditions, a transfer master for forming a wiring pattern layer prepared in (2) above A3 is pressed under the same conditions as the transfer master A2 to transfer the third wiring pattern layer including the conductive layer and the insulating adhesive layer, and then the adhesive layer is cured at 180 ° C. for 30 minutes. The formation of the third wiring pattern layer was completed.
By the above operation, a multilayer printed wiring board of the present invention in which three types of wiring pattern layers were laminated was obtained. This embodiment corresponds to the manufacturing process shown in FIG. 3, but is different from this embodiment in that the insulating resin layer is not formed in advance on the substrate for the multilayer printed wiring board in FIG.

【0057】実施例2 実施例1で作製した転写用原版A1、A2およびA3を
用いて下記の方法により3層の配線パターン層が積層さ
れた多層プリント配線板を作製した。製造過程の一部を
図4に示す。
Example 2 Using the transfer masters A1, A2 and A3 prepared in Example 1, a multilayer printed wiring board having three wiring pattern layers laminated was prepared by the following method. FIG. 4 shows a part of the manufacturing process.

【0058】多層プリント配線板の作製 (導電性基板への絶縁性樹脂層の形成)厚さ25μmの
SUS304薄板上にエッチングタイプ絶縁性樹脂(東
レ(株)製 SP−341)溶液をスピンコート法によ
り塗布し、ホットプレート上で95℃で1.5分、次い
で120℃で1.5分乾燥させ、厚さ約11μmの絶縁
性樹脂薄膜を形成させた。その後、ポジ型レジスト(東
京応化工業(株)製 OFPR−800)の溶液を同じ
くスピンコート法により塗布、乾燥(ホットプレート上
105℃で25分)し(図4(A))、下記条件におい
て所望のマスクを用い露光・現像を行い、ポジ型レジス
ト層と絶縁性樹脂層のパターニングを同時に行った(図
4(B))。その後、酢酸−n−ブチルによりポジ型レ
ジストを剥離し(図4(C))、パターン化絶縁性樹脂
層のみを硬化させた(オーブン中で140℃で5分、次
いで350℃で20分の条件)。
Preparation of Multilayer Printed Wiring Board (Formation of Insulating Resin Layer on Conductive Substrate) A 25 μm-thick SUS304 thin plate is spin-coated with an etching-type insulating resin (SP-341 manufactured by Toray Industries, Inc.) solution. And dried at 95 ° C. for 1.5 minutes and then at 120 ° C. for 1.5 minutes on a hot plate to form an insulating resin thin film having a thickness of about 11 μm. Thereafter, a solution of a positive resist (OFPR-800 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied by the same spin coating method and dried (on a hot plate at 105 ° C. for 25 minutes) (FIG. 4A) under the following conditions. Exposure and development were performed using a desired mask to simultaneously pattern the positive resist layer and the insulating resin layer (FIG. 4B). Thereafter, the positive resist was peeled off with n-butyl acetate (FIG. 4C), and only the patterned insulating resin layer was cured (140 ° C. for 5 minutes in an oven, then 350 ° C. for 20 minutes). conditions).

【0059】ポジ型レジスト露光条件 密着濾光機:大日本スクリーン製造〓製 P−202−
G 真空引き:60秒 露光時間:30カウント
Exposure conditions for positive resist: Contact filter: P-202- manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.
G Vacuum: 60 seconds Exposure time: 30 counts

【0060】(第1層目の配線パターン層の転写)上記
の基板上に配線パターン層用形成の転写用原版A1を圧
力10kgf/cm、温度80℃の条件で圧着して導
電性層と絶縁性接着層とからなる第1層目の配線パター
ン層を転写し、その後、180℃30分間の条件で接着
硬化させて第1層目の配線パターン層の形成を完了した
(図4(D))。
(Transfer of First Layer Wiring Pattern Layer) The transfer original plate A1 for forming a wiring pattern layer is pressure-bonded to the above-mentioned substrate under the conditions of a pressure of 10 kgf / cm 2 and a temperature of 80 ° C. The first wiring pattern layer composed of the insulating adhesive layer was transferred, and then the adhesive was cured at 180 ° C. for 30 minutes to complete the formation of the first wiring pattern layer (FIG. 4D )).

【0061】(硬化樹脂からなる絶縁層の形成)次に、
第1層目の配線パターン層が形成された基板上に、上記
の絶縁性樹脂溶液をスピンコート法により11μmの厚
さに塗布し、その上にさらにポジ型レジスト(東京応化
工業〓製 OFPR−800)溶液を同じくスピンコー
ト法により塗布、乾燥(ホットプレート上で105℃で
2.5分)し(図4(E))、上記と同条件で所望のマ
スクを用い露光、現像を行いポジ型レジストと絶縁樹脂
とを同時にパターニングを行った(図4(F))。その
後、酢酸−n−ブチルによりポジ型レジストを剥離し、
絶縁樹脂のみを硬化させた(オーブン中で140℃、5
分、200℃で30分、次いで350℃で20分)(図
3(C)参照)。
(Formation of Insulating Layer Made of Cured Resin)
The above-mentioned insulating resin solution is applied to a thickness of 11 μm on the substrate on which the first wiring pattern layer is formed by spin coating, and a positive resist (OFPR- manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is further applied thereon. 800) Similarly, the solution is applied by a spin coating method, dried (on a hot plate at 105 ° C. for 2.5 minutes) (FIG. 4E), exposed and developed using a desired mask under the same conditions as described above, and subjected to positive The pattern resist and the insulating resin were simultaneously patterned (FIG. 4F). After that, the positive resist was peeled off with n-butyl acetate,
Only the insulating resin was cured (140 ° C, 5
Minutes, 200 ° C. for 30 minutes, and then 350 ° C. for 20 minutes) (see FIG. 3C).

【0062】(第2層目の配線パターン層の転写)上記
の基板上に、配線パターン層用の転写用原版A2を下記
の条件で圧着して導電性層を接着層からなる第2層目の
配線パターン層を転写し、その後、180℃30分間の
条件で接着層を硬化させて第2層目の配線パターン層の
形成を完了した(図3(D)参照)。
(Transfer of the Second Layer Wiring Pattern Layer) The transfer original plate A2 for the wiring pattern layer is pressed on the above substrate under the following conditions to form a conductive layer of the second layer consisting of an adhesive layer. Was transferred, and then the adhesive layer was cured at 180 ° C. for 30 minutes to complete the formation of the second wiring pattern layer (see FIG. 3D).

【0063】(硬化樹脂からなる絶縁層の形成及び第3
層目の配線パターン層の転写)同様に、第2層目の配線
パターンが形成された基板上に上記と同様に該絶縁層を
形成し、配線パターン層形成用の転写用原版A3を転写
用原版A2の圧着と同じ条件で圧着して導電性層と該接
着層とからなる第3層目の配線パターン層を転写し、そ
の後、180℃30分間の条件で該接着層を硬化させて
第3層目の配線パターン層の形成を完了した(図3
(F)参照)。以上により、3層の配線パターン層を備
えた本発明の多層プリント配線板を作製した。
(Formation of Insulating Layer Made of Cured Resin and Third
Similarly, the insulating layer is formed on the substrate on which the second-layer wiring pattern is formed in the same manner as described above, and the transfer master A3 for forming the wiring pattern layer is transferred. The third wiring pattern layer including the conductive layer and the adhesive layer was transferred by pressing under the same conditions as the pressing of the original A2, and then the adhesive layer was cured at 180 ° C. for 30 minutes. The formation of the third wiring pattern layer is completed (FIG.
(F)). As described above, a multilayer printed wiring board of the present invention including three wiring pattern layers was manufactured.

【0064】[0064]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば転
写用原版上に設けた導電性層と絶縁性接着層とからなる
配線パターン層を基板上に転写することにより、上部に
導電性層を下部に絶縁性接着層を備えた配線パターン層
を基板上に多層に積層することができ、この多層積層
は、所定の配線パターン層を形成した転写用原版を並行
して複数作製し、これらの転写用原版を用いて順次転写
する並直列プロセスであるため、転写前の検査により不
良品を排除することができ、製造歩留が向上するととも
に、スループットが高く、さらに、従来基板上で行って
いた配線層の形成やパターニングのためのメッキ、およ
びフォトエッチング工程は不要となり、製造工程の簡略
化が可能となるとともに転写原版用の基板の再利用によ
ってコスト低減が可能である。また、多層プリント配線
板には、各配線パターン層を構成する導電性層は、配線
パターン層間の接続等に必要な部分は常に裸出されてお
り、各配線パターン層の交差部は硬化樹脂からなる絶縁
層によって確実に絶縁されている。また、各配線パター
ン層が相互に近接する部位における各配線パターン層相
互の接続を容易に行うことができ、汎用性の極めて高い
多層プリント配線板の製造が可能となる。さらに、配線
パターン層の上記の部分の配線パターン層を、絶縁層で
覆うことにより絶縁性はさらに確実となる。
As described above in detail, according to the present invention, the wiring pattern layer comprising the conductive layer and the insulating adhesive layer provided on the transfer master is transferred onto the substrate, whereby the conductive A wiring pattern layer having an insulating adhesive layer beneath a conductive layer can be laminated in multiple layers on a substrate. In this multilayer lamination, a plurality of transfer masters on which a predetermined wiring pattern layer is formed are produced in parallel. Because of the parallel-serial process in which these transfer originals are sequentially transferred, defective products can be eliminated by inspection before transfer, the production yield is improved, the throughput is high, and the conventional substrate The plating and photo-etching steps for forming and patterning the wiring layer, which were performed in the previous step, are no longer necessary, which simplifies the manufacturing process and reduces costs by reusing the transfer master substrate. It is. Also, in the multilayer printed wiring board, the conductive layer constituting each wiring pattern layer is always exposed at a portion necessary for connection between the wiring pattern layers, and the intersection of each wiring pattern layer is made of a cured resin. Insulation is ensured by the insulating layer. Further, it is possible to easily connect the respective wiring pattern layers to each other at a portion where the respective wiring pattern layers are close to each other, and it is possible to manufacture a multilayer printed wiring board having extremely high versatility. Further, by covering the wiring pattern layer in the above-mentioned portion of the wiring pattern layer with an insulating layer, the insulation is further ensured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の多層プリント配線板の一例を示す概略
断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a multilayer printed wiring board according to the present invention.

【図2】本発明の転写用原版の製造方法をに説明するた
めの図面である。
FIG. 2 is a drawing for explaining a method of manufacturing a transfer master according to the present invention.

【図3】図1に示される多層プリント配線板の製造方法
を説明するためのするための概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing the multilayer printed wiring board shown in FIG.

【図4】図1に示される多層プリント配線板の製造方法
を説明するためのするための概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing the multilayer printed wiring board shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…多層プリント配線板 2…基板 3,4,5…配線パターン層 3a,4a,5a…導電性層 3b,4b,5b…絶縁性接着層 10…転写用原版 11…導電性基板 6,6′…硬化性樹脂からなる絶縁層 7…エッチング性絶縁性樹脂層 8…感光性絶縁性樹脂層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer printed wiring board 2 ... Substrate 3,4,5 ... Wiring pattern layer 3a, 4a, 5a ... Conducting layer 3b, 4b, 5b ... Insulating adhesive layer 10 ... Transfer original plate 11 ... Conducting substrate 6,6 '... an insulating layer made of a curable resin 7 ... an etching insulating resin layer 8 ... a photosensitive insulating resin layer

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成8年9月13日[Submission date] September 13, 1996

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Correction target item name] Brief description of drawings

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の多層プリント配線板の一例を示す概略
断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a multilayer printed wiring board according to the present invention.

【図2】本発明の転写用原版の製造方法を説明するため
の図面である。
FIG. 2 is a drawing for explaining a method for producing a transfer master according to the present invention.

【図3】図1に示される多層プリント配線板の製造方法
を説明するための概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing the multilayer printed wiring board shown in FIG.

【図4】図1に示される多層プリント配線板の製造方法
を説明するための概略図である。
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing the multilayer printed wiring board shown in FIG.

【図5】図1に示される多層プリント配線板の配線パタ
ーン層が重なり合う箇所の絶縁層の形成状態を示す概略
斜視図である。
FIG. 5 is a schematic perspective view showing a state of formation of an insulating layer at a portion where wiring pattern layers of the multilayer printed wiring board shown in FIG. 1 overlap.

【符号の説明】 1…多層プリント配線板 2…基板 3,4,5…配線パターン層 3a,4a,5a…導電性層 3b,4b,5b…絶縁性接着層 10…転写用原版 11…導電性基板 6,6′…硬化性樹脂からなる絶縁層 7…エッチング性絶縁性樹脂層 8…感光性絶縁性樹脂層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer printed wiring board 2 ... Substrate 3,4,5 ... Wiring pattern layer 3a, 4a, 5a ... Conductive layer 3b, 4b, 5b ... Insulating adhesive layer 10 ... Transfer original plate 11 ... Conductivity Substrates 6, 6 '... Insulating layer made of curable resin 7 ... Etching insulating resin layer 8 ... Photosensitive insulating resin layer

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板、該基板上に順次転写された複数の
配線パターン層を備え、該配線パターン層は導電性層と
その下部に形成された絶縁性接着層を有するとともに該
配線パターン層が相互に交差もしくは多層に重なり合う
部位では上下の配線パターン層間に硬化樹脂からなる絶
縁層が形成されていることを特徴とする多層プリント配
線板。
A substrate, a plurality of wiring pattern layers sequentially transferred onto the substrate, the wiring pattern layer having a conductive layer and an insulating adhesive layer formed thereunder; A multilayer printed wiring board, wherein an insulating layer made of a cured resin is formed between upper and lower wiring pattern layers at portions where they cross each other or overlap in multiple layers.
【請求項2】 基板が導電性基板であり、該基板と前記
配線パターン層の間に前記絶縁層が形成されている請求
項1に記載の多層プリント配線板。
2. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the substrate is a conductive substrate, and the insulating layer is formed between the substrate and the wiring pattern layer.
【請求項3】 前記絶縁層が該配線パターン層より大き
い請求項1又は2に記載の多層プリント配線板。
3. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the insulating layer is larger than the wiring pattern layer.
【請求項4】 前記絶縁層は、感光性を有しパターン形
成可能な絶縁性樹脂をからなる層を硬化して形成された
ものである請求項1〜3のいずれか1項に記載の多層プ
リント配線板。
4. The multilayer according to claim 1, wherein the insulating layer is formed by curing a layer made of an insulating resin having photosensitivity and capable of forming a pattern. Printed wiring board.
【請求項5】 前記絶縁層は、エッチング性を有しパタ
ーン形成可能な絶縁性樹脂を硬化して形成されたもので
ある請求項1〜3のいずれか1項に記載の多層プリント
配線板。
5. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the insulating layer is formed by curing an insulating resin having an etching property and capable of forming a pattern.
【請求項6】 前記配線パターン層が相互に交差する部
分及び/又は前記配線パターン層が相互に近接する部分
の必要箇所において配線パターン層相互間の接続がなさ
れていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項
に記載の多層プリント配線板。
6. The wiring pattern layers are connected to each other at a necessary portion of a portion where the wiring pattern layers cross each other and / or a portion where the wiring pattern layers are close to each other. The multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 5.
【請求項7】 導電性基板上に導電性層とその上に積層
された絶縁性接着層とを有する配線パターン層を設けた
転写用原版を複数作製し、次に、多層プリント配線板用
の基板の一方の面に前記転写用原版を圧着し、前記転写
用原版を剥離することにより多層プリント配線板用の基
板に前記配線パターン層を転写する操作を順次繰り返
し、多層プリント配線板用の基板上に複数の前記配線パ
ターン層を積層する多層プリント配線板の製造方法であ
って、配線パターン層同士を積層する前に、配線パター
ン層の重なりが予定される転写された配線パターン層上
に硬化樹脂からなる絶縁層を形成し、その後に前記の転
写操作を行うことを特徴とする多層プリント配線板の製
造方法。
7. A plurality of transfer masters provided with a wiring pattern layer having a conductive layer and an insulating adhesive layer laminated thereon on a conductive substrate are produced, and then a transfer master for a multilayer printed wiring board is prepared. The operation of transferring the wiring pattern layer onto a substrate for a multilayer printed wiring board by sequentially pressing the transfer master on one surface of the substrate and peeling the transfer master is repeated to obtain a substrate for the multilayer printed wiring board. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising laminating a plurality of said wiring pattern layers on the wiring pattern layers, wherein the wiring pattern layers are cured before being stacked on the transferred wiring pattern layers. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising forming an insulating layer made of a resin, and thereafter performing the transfer operation.
【請求項8】 多層プリント配線板の基板が導電性基板
であり、該基板と前記配線パターン層の間に前記絶縁層
を前記配線パターン層の大きさより大きく形成する請求
項7に記載の多層プリント配線板の製造方法。
8. The multilayer printed circuit according to claim 7, wherein the substrate of the multilayer printed wiring board is a conductive substrate, and the insulating layer is formed between the substrate and the wiring pattern layer to be larger than the size of the wiring pattern layer. Manufacturing method of wiring board.
【請求項9】 硬化樹脂からなる絶縁層を、感光性絶縁
性樹脂又はエッチング性を有する絶縁性樹脂から形成す
る請求項7又は8に記載の多層プリント配線板の製造方
法。
9. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 7, wherein the insulating layer made of the cured resin is formed of a photosensitive insulating resin or an insulating resin having an etching property.
【請求項10】 硬化樹脂からなる絶縁層は、前記転写
された配線パターン層を覆うように前記基板上に感光性
絶縁性樹脂からなる層を形成し、該層を所定のマスクに
より露光・現像した後に硬化させて形成させる請求項9
に記載の多層プリント配線板の製造方法。
10. An insulating layer made of a cured resin is formed by forming a layer made of a photosensitive insulating resin on the substrate so as to cover the transferred wiring pattern layer, and exposing and developing the layer with a predetermined mask. 10. The composition is formed by curing after forming.
3. The method for producing a multilayer printed wiring board according to item 1.
【請求項11】 硬化樹脂からなる絶縁層は、前記転写
された配線パターン層を覆うように前記基板上にエッチ
ング性を有する絶縁性樹脂からなる層を形成し、次いで
その上に感光性樹脂からなる所定のマスクパターンを形
成した後、該絶縁性樹脂からなる層のエッチングを行
い、該マスクパターンを除去した後、エッチングされた
該絶縁性樹脂からなる層を硬化させて形成させる請求項
9記載の多層プリント配線板の製造方法。
11. An insulating layer made of a cured resin, a layer made of an insulating resin having an etching property is formed on the substrate so as to cover the transferred wiring pattern layer, and then a layer of a photosensitive resin is formed thereon. 10. The method according to claim 9, wherein after forming a predetermined mask pattern, the layer made of the insulating resin is etched, and after removing the mask pattern, the etched layer made of the insulating resin is cured and formed. Of manufacturing a multilayer printed wiring board.
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