JPH1052876A - 透明導電性積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐溶剤性、ガスバリアー性に優れ、しかも透
明性、光学等方性、平面性に優れ、層間の密着性が良好
なガスバリアー性積層体を提供すること 【解決手段】 透明樹脂基板と、そのいずれかの面に設
けられた、金属酸化物層、バリアー層、耐溶剤性を有す
る保護層、透明導電層の各層からなる透明導電性積層体
において、バリアー層がエポキシ基、並びにアミノ基及
びイミノ基を有する一般式（１） Ｒ¹ _n −Ｓｉ（ＯＲ² ）_4-n ・・・（１） で示されるアルコキシシランの（部分）加水分解物、そ
の（部分）縮合物もしくはこれらの混合物またはそれら
により架橋されたポリビニルアルコール系高分子からな
り、透明導電性層が保護層上に形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、耐久性、耐溶剤
性、ガスバリアー性に優れた透明導電性積層体に関し、
更に詳しくは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、タッチパ
ネル、光導電性感光体、面発光体、有機エレクトロルミ
ネッセンス等の透明電極基板に好適な透明導電性積層体
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ペイジャー、携帯電話、電子手
帳、携帯情報端末等の携帯して移動できる情報機器が普
及し始め、ビジネス或いはライフスタイルの変革期を迎
えようとしている。

【０００３】これらの情報機器の携帯性を向上させるた
め、より一層の薄型化・軽量化、耐破損性が求められて
いる。従来、ＬＣＤ、タッチパネルの透明導電基板とし
て、重く、厚く、割れやすいガラス基板が用いられてき
たが、これに代わる材料として、透明樹脂基板が提案さ
れている。しかし、樹脂基板は、耐久性、耐溶剤性、ガ
スバリアー性等の基本特性がガラス基板より劣ってい
る。

【０００４】例えば、透明樹脂基板を、ＬＣＤ用電極基
板として利用しようとした場合、金属酸化物層を設ける
ことにより、ガスバリアー性は付与される。しかし、透
明電極パターニング後のレジスト剥離工程で、アルカリ
水溶液にさらされるため金属酸化物層が溶解する問題
や、液晶配向膜形成過程で、液晶配向膜の前駆材料をＮ
−メチルピロリドン等の溶剤に溶解した塗工液をコーテ
ィングする際に、上記溶剤に透明樹脂基板が、白化、膨
潤等の損傷を受ける問題があった。そこで、上記欠点を
改善する目的で、耐薬品性、ガスバリアー性を持つ剤を
透明樹脂基板上に積層するいくつかの提案がなされてい
る。

【０００５】特公平５−５２００２号公報や特公平５−
５２００３号公報には、高分子フィルムとポリビニルア
ルコール系高分子系樹脂からなる酸素ガスバリアー層と
の接着性を改善し、さらには、水蒸気ガスバリアー性を
有した透明基板が記載されている。

【０００６】しかし、これらは、ポリビニルアルコール
系高分子が最外層に積層されているため、耐薬品性が不
十分であり、液晶セル製作工程で不都合が生じてしま
う。耐薬品性を持たせるために、上記透明基板において
は、耐薬品性を有する層をさらに設ける必要がありコス
トが割高になる。

【０００７】特開平２−１３７９２２号公報や特開平５
−３０９７９４号公報等には、透明高分子フィルムにア
ンカーコート層、そしてガスバリアー層としてエチレン
−ビニルアルコール共重合体層、更に耐溶剤層として硬
化性樹脂層を順次両面に積層した透明基板が記載されて
いる。しかし、これらは、耐薬品性は満足するものの、
ガスバリアー剤の特性から高湿度でのガスバリアー性の
低下の問題がある。更に、６層ものコーティングはコス
トが割高となる。

【０００８】さらに、液晶表示素子の透明基板において
は、上記耐薬品性、ガスバリアー性に対する要求のほ
か、特性に関し、下記のような要求または問題がある。

【０００９】基板の透明性が低い場合や複屈折がある場
合、表示の着色・コントラストの低下等の問題が生じ
る。

【００１０】また、平面性が低い場合、液晶層のギャッ
プが均一でなくなる上、液晶配向にもムラが生じたり、
基板自体も光学的なムラが発生するために、表示色にム
ラが生じる。

【００１１】さらには、機械的、熱的影響や溶剤に曝さ
れた時に、容易にこれらの平面性、透明性、ガスバリア
ー性が悪化してしまうのでは、軽薄、形状の自由、曲面
表示という特徴を生かした実用性が低下し、ペイジャ
ー、携帯電話、電子手帳、ペン入力機器などの外的影響
が大きく作用する用途への適応は困難となってしまう。
特に機械的影響に対して、この様な特性を維持するため
には、特性発現のために積層された各層間の良好な密着
性も要求される。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題を解決しようとするものであり、耐溶剤性、ガスバ
リアー性に優れ、しかも上記のような透明性、光学等方
性、平面性に優れ、層間の密着性が良好な透明ガスバリ
アー性積層体を提供することを目的とし、さらに、積層
数を少なくし、製造コストを抑えることを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の目的は、金属酸化
物層を有する透明樹脂基板のすくなくとも片面の金属酸
化物層に接して、特定のアルコキシシランの（部分）加
水分解物、その（部分）縮合物若しくはそれらの混合
物、またはそれらにより架橋されたポリビニルアルコー
ル系高分子を含むバリアー層を形成した基板のすなくと
も片面にさらに保護層を形成し、その保護層の上に透明
導電層を形成した積層フィルムにより達成されることを
見出し、本発明を完成した。

【００１４】すなわち、本発明は、透明樹脂基板と、そ
の何れかの面に設けられた、金属酸化物層、バリアー
層、耐溶剤性を有する保護層、透明導電層の各層とから
なる透明導電性積層体において、該バリアー層が、下記
一般式（１）

【００１５】

【化４】Ｒ¹ _n −Ｓｉ（ＯＲ² ）_4-n ・・・・（１） ［ここで、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキル基、ビニル
基、又はメタクリロキシ基、アミノ基、エポキシ基およ
びメルカプト基からなる群から選ばれる１以上の基を有
する有機基であり、Ｒ² は炭素数１〜４のアルキル基で
あり、ｎは０〜２の整数である。］で示されるアルコキ
シシランの（部分）加水分解物、その（部分）縮合物ま
たはこれらの混合物、または上記一般式（１）で示され
るアルコキシシランの（部分）加水分解物、その（部
分）縮合物またはこれらの混合物により架橋されたポリ
ビニルアルコール系高分子からなる層からなり、透明導
電層が保護層上に形成されていることを特徴とする透明
導電性積層体である。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。

【００１７】本発明の透明樹脂基板を構成する材料とし
ては、透明性、耐熱性が良い透明樹脂であれば特に限定
しない。本発明の透明導電性積層体をＬＣＤの電極基板
として用いる場合やＬＣＤ電極基板と偏光板との間に設
置されたタッチパネルの電極基板として用いる場合に
は、透明樹脂基板は、公知の測定装置を用いて測定した
波長５９０ｎｍにおける複屈折の屈折率の差△ｎと膜厚
ｄとの積△ｎ・ｄで表されるリターデーション値が３０
ｎｍ以下、かつ、遅相軸のバラツキが±３０度以内の光
学等方性を有するもの、さらに好ましくはリターデーシ
ョンが２０ｎｍ以下、かつ、遅相軸のバラツキが±１５
度以内の高度の光学等方性を有するものが良い。このよ
うな透明樹脂基板としては、ポリエステル系、ポリカー
ボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリアリルスルホン等のポリスルホン
系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、セルローストリアセテ
ート等のアセテート系樹脂、各種熱硬化樹脂等のフィル
ム又はシートであることが好ましい。なかでも、上記透
明性、及び光学異方性が少ないという光学特性の観点か
ら、ポリカーボネート樹脂を主成分とする基板がよりふ
さわしい。透明樹脂基板の厚みは通常、３０μｍ〜８０
０μｍとする。

【００１８】本発明に用いられる金属酸化物層として
は、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛等の透
明な絶縁金属酸化物層が挙げられ、これら透明な金属酸
化物層は、公知のスパッタ法、真空蒸着法、イオンプレ
ーティング法、プラズマＣＶＤ法等により作製される。
なかでも、水蒸気バリアー層の金属酸化物としては、透
明性、表面平坦性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から
特にケイ素酸化物が好ましい。

【００１９】ケイ素酸化物の組成は、Ｘ線光電子分光
法、Ｘ線マイクロ分光法、オージェ電子分光法、ラザホ
ード後方散乱法などにより分析、決定されるが、可視光
線領域での透過率、屈曲性などの面からＳｉＯｘで表し
た平均組成において、ｘは１．５≦ｘ≦２の範囲が好ま
しい。ｘ値が１．５よりも小さければ屈曲性、透明性が
悪くなる。

【００２０】金属酸化物層の厚さとしては、２ｎｍ〜２
００ｎｍの範囲が好ましい。金属酸化物層の厚みが２ｎ
ｍ未満では均一に膜を形成することは困難であり、膜が
形成されない部分が発生し、この部分からガスが浸透
し、ガスバリアー性が悪くなる。一方、２００ｎｍより
も厚くなると透明性を欠くだけでなく、屈曲性が悪く、
クラックが発生してガスバリアー性を損なう。

【００２１】本発明のバリアー層は、成分（ａ）ポリビ
ニルアルコール系高分子、及び／又は成分（ｂ）アルコ
キシシランの（部分）加水分解物、その部分縮合物また
はこれらの混合物が、成分（ｃ）ポリビニルアルコール
系高分子可溶性溶剤を含有する溶剤に溶解しているコー
ティング用組成物を塗工して得られる。

【００２２】ここで、（ａ）ポリビニルアルコール系高
分子とは、公知の市販のものが適用でき、具体的にはビ
ニルアルコール成分、ビニルアルコール共重合体成分よ
りなる群から選ばれた少なくとも１種を５０モル％以上
含有する高分子樹脂が好ましい。なお、このビニルアル
コール共重合体としては、ビニルアルコール−酢酸ビニ
ル共重合体、ビニルアルコールビニルブチラール共重合
体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、あるいは分
子内にシリル基を有するポリビニルアルコール系高分子
等が挙げられる。なかでも、耐溶剤性、密着性の点で、
エチレン−ビニルアルコール共重合体、ならびに分子内
にシリル基を有するポリビニルアルコール系高分子が好
ましい。ここで、エチレン−ビニルアルコール共重合体
のエチレン共重合比は５０モル％以下であるものが好適
である。エチレンの共重合比が５０モル％を越えると硬
化させたときに、満足されるガスバリアー性が得られな
い。また、分子内にシリル基を有するポリビニルアルコ
ール系高分子とは、下式（４）で表される反応性のシリ
ル基を有するものである。

【００２３】

【化５】 ここにＲ¹¹は水素または炭素数１〜１０のアルキル基、
アシル基、またはアルカリ金属、アルカリ土類金属を表
し、Ｒ¹²は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｒは１
〜３の整数を表す。

【００２４】シリル基の含量は好ましくは５モル％以
下、より好ましくは１モル％以下が好ましい。シリル基
の含量が多くなると、コーティング用組成物が増粘、ゲ
ル化しやすい傾向となり好ましくない。

【００２５】本発明において用いられる分子内にシリル
基を含有するポリビニルアルコール系高分子に関し、分
子内とは重合体の末端をも含むものであり、シリル基と
ポリビニルアルコール系高分子とが加水分解性でない結
合によってポリビニルアルコール系高分子と結合してい
れば、その位置、分布状態等に特に制限はない。

【００２６】本発明において用いられるポリビニルアル
コール系高分子の重合度、ケン化度に特に制限はない
が、好ましくは平均重合度１００〜５０００、ケン化度
７０％以上が良い。重合度が低すぎると、密着性が低下
して、コーティング膜がもろくなり、逆に高すぎると粘
度が高くなり過ぎて、塗工性が悪化する。また、ケン化
度が低すぎると十分なガスバリアー性が得られない。

【００２７】成分（ｂ）アルコキシシランの（部分）加
水分解物、その部分縮合物またはこれらの混合物を与え
るアルコキシシランとしては、一般式（１）

【００２８】

【化６】Ｒ¹ _n −Ｓｉ（ＯＲ² ）_4-n ・・・・（１） で示されるテトラ、トリ又はジアルコキシシランである
ことが好ましい。式中、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキル
基、ビニル基、又はメタクリロキシ基、アミノ基、イミ
ノ基、エポキシ基、メルカプト基の群から選ばれる１以
上の基を有する有機基であり、Ｒ² は炭素数１〜４のア
ルキル基であり、ｎは０〜２の整数である。かかる有機
基とは、環式構造を含むことができる炭素数１〜１０の
脂肪族炭化水素基であり、該炭化水素基はその炭素原子
の一部が酸素原子又は窒素原子等のヘテロ原子に置換さ
れていても良い。

【００２９】かかるアルコキシシランとして、例えばテ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライ
ソプロピロキシシラン、テトラブトキシシラン、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ビニルメチル
ジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシ
ラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、グリシ
ドキシメチルトリプロポキシシラン、グリシドキシメチ
ルトリブトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリメ
トキシシラン、２−グリシドキシエチルトリエトキシシ
ラン、２−グリシドキシエチルトリプロポキシシラン、
２−グリシドキシエチルトリブトキシシラン、Ｎ−グリ
シドキシエチルトリメトキシシラン、Ｎ−グリシドキシ
エチルトリエトキシシラン、Ｎ−グリシドキシエチルト
リプロポキシシラン、Ｎ−グリシドキシエチルトリブト
キシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、３−
グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、２−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、２−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、２−グリシドキシプロピ
ルトリプロポキシシラン、２−グリシドキシプロピルト
リブトキシシラン、Ｎ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、Ｎ−グリシドキシプロピルトリエトキシシ
ラン、Ｎ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラ
ン、Ｎ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、
（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキ
シシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル
トリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）メチルトリプロポキシシラン、（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）メチルトリブトキシシラン、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエ
トキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリプロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリブトキシシラン、（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、
（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエト
キシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロ
ピルトリプロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）プロピルトリブトキシシラン、（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、
（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキ
シシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチル
トリプロポキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）ブチルトリブトキシシラン、アミノメチルトリエ
トキシシラン、２−アミノエチルトリメトキシシラン、
２−アミノエチルトリエトキシシラン、２−アミノエチ
ルトリプロポキシシラン、２−アミノエチルトリブトキ
シシラン、Ｎ−アミノエチルトリメトキシシラン、Ｎ−
アミノエチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピル
トリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、３−アミノプロピルトリプロポキシシラン、３
−アミノプロピルトリブトキシシラン、２−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエト
キシシラン、２−アミノプロピルトリプロポキシシラ
ン、２−アミノプロピルトリブトキシシラン、Ｎ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、Ｎ−アミノプロピルトリプロポキシ
シラン、Ｎ−アミノプロピルトリブトキシシラン、Ｎ−
アミノメチルアミノエチルトリメトキシシラン、Ｎ−ア
ミノメチルアミノメチルトリプロポキシシラン、Ｎ−ア
ミノメチル−２−アミノエチルトリメトキシシラン、Ｎ
−アミノメチル−２−アミノエチルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−アミノメチル−２−アミノエチルトリプロポキ
シシラン、Ｎ−アミノメチル−３−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、Ｎ−アミノメチル−３−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、Ｎ−アミノメチル−３−アミノ
プロピルトリプロポキシシラン、Ｎ−アミノメチル−２
−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノメチ
ル−２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−アミ
ノメチル−２−アミノプロピルトリプロポキシシラン、
Ｎ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−２−アミノエチルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）−２−アミノエチルトリエトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−２−アミノエチルトリプロ
ポキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−アミノ
エチルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−Ｎ−アミノエチルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）−Ｎ−アミノエチルトリプロポキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−２−アミノエチルトリ
メトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−２−アミ
ノエチルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）−２−アミノエチルトリプロポキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルルトリプロポキシシラン、Ｎ−（３
−アミノエチル）−２−アミノエチルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−（３−アミノエチル）−２−アミノエチルトリ
エトキシシラン、Ｎ−（３−アミノエチル）−２−アミ
ノエチルトリプロポキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロ
ピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジ
エトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ジエチレント
リアミンプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
これらの化合物は単独で又は２種以上を併せて用いるこ
とができる。

【００３０】就中、得られる塗膜のガスバリアー性、耐
久性の点でテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン等のテトラアルコキシシランが好ましい。

【００３１】また、得られる塗膜の耐溶剤性、透明樹脂
基板との密着性がさらに改善されるという点で、アルコ
キシシランとしてエポキシ基を有するアルコキシシラ
ン、とアミノ基を有するアルコキシシランを併用するこ
とがより好ましい。ここで、特に好ましいエポキシ基を
有するアルコキシシランは、３−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシランである。また、特に好ま
しいアミノ基及び／またはイミノ基を有するアルコキシ
シランは３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピ
ルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−
アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシ
シランである。これらの化合物は単独で又は２種以上を
併せて用いることができる。

【００３２】アルコキシシランの（部分）加水分解物及
びその部分縮合物は、該アルコキシシランの一部または
全部が加水分解したもの、該加水分解物の一部又は全部
が縮合反応した縮合物、及び該縮合物と加水分解してい
ない原料のアルコキシシランとが縮合したものであり、
これらはいわゆるゾルゲル反応させることにより得られ
るものである。

【００３３】該アルコキシシランの使用に際しては、そ
のまま成分として添加することもできるし、あらかじめ
加水分解を行った後、該アルコキシシランの（部分）加
水分解物及びその部分縮合物を添加して使用することも
可能である。

【００３４】また加水分解に際しては通常の方法、例え
ば塩酸等の無機酸、酢酸等の有機酸またはカセイソーダ
のようなアルカリによってあるいは水のみを用いて加水
分解する方法を利用することができる。また、加水分解
を均一に行う目的でアルコキシシランと該アルコキシシ
ラン可溶性溶剤を混合した後、加水分解を行うことも可
能である。目的に応じて、加水分解に際しては冷却また
は加熱することも可能である。また、加水分解後、反応
で生成したアルコール等を加熱及び／または減圧下に適
当量除去して使用することも可能であるし、その後に適
当な溶媒を添加することも可能である。

【００３５】また、必要に応じて硬化触媒を添加するこ
とも可能である。硬化触媒としては例えば、アルミニウ
ムアセチルアセトナート、アルミニウムエチルアセトア
セテートビスアセチルアセトナート、アルミニウムビス
アセトアセテートアセチルアセトナート、アルミニウム
ジ−ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテート、アル
ミニウムジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセトアセテ
ート等のアルミニウムキレート化合物、酢酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、ギ酸カリウム等のカルボン酸のアル
カリ金属塩、ジメチルアミンアセテート、エタノールア
セトエート、ジメチルアニリンホルメート等のアミンカ
ルボキシレート、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウ
ム、酢酸テトラメチルアンモニウム、酢酸ベンジルトリ
メチルアンモニウムのような第四級アンモニウム塩、オ
クタン酸スズのような金属カルボン酸塩、及びトリエチ
ルアミン、トリエタノールアミン、ピリジンのようなア
ミン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウ
ンデセンが用いられる。これらの化合物は単独で又は２
種以上を併せて用いることができる。

【００３６】上記成分（ｃ）の溶剤は、ポリビニルアル
コール系高分子可溶性溶剤を含有する溶剤である。ここ
で、ポリビニルアルコール系高分子可溶性溶剤として
は、水、ジメチルイミダゾリン等が挙げられる。また、
ポリビニルアルコール系高分子としてエチレン−ビニル
アルコール共重合体を用いる場合は、この可溶性溶剤と
しては、水／プロパノールの混合溶媒が挙げられる。水
とプロパノールの混合比率は重量比で水／プロパノール
＝３／７〜７／３が好ましい。また、併用可能な溶媒と
して、ポリビニルアルコール系高分子可溶性溶剤と均一
に混合し、さらに成分（ａ）、及び／又は成分（ｂ）が
均一に溶解可能であれば使用でき、アルコール系、セロ
ソルブ系、ケトン系、アミド系等が挙げられる。これら
の併用可能な溶媒の中で、特にブタノール等のアルコー
ル系、１−メトキシ−２−プロパノール等のセロソルブ
系、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒は、バリアー層
の平滑性を良好にするために好適に用いられる。これら
併用可能な溶媒は、１種のみならず、２種以上混合して
用いることも可能である。

【００３７】成分（ａ）〜（ｃ）は各々次のような割合
で用いるのが好ましい。即ち成分（ａ）と成分（ｂ）の
重量比（ａ）／（ｂ）が９／１〜１／９の範囲で用い
る。ここで成分（ｂ）はＲ¹ _n−ＳｉＯ_(4-n)/2 による重
量基準である。（ａ）／（ｂ）が９／１を超えると耐水
性、耐薬品性に劣る傾向となり、逆に１／９未満ではコ
ーティング用組成物の保存安定性が悪化する傾向とな
る。（ａ）／（ｂ）の、より好ましい範囲は４／１〜１
／４である。

【００３８】また、成分（ａ）として、シリル基含有ポ
リビニルアルコールを、成分（ｂ）としてエポキシ基を
有するアルコキシシラン、及びアミノ基および／または
イミノ基を有するアルコキシシランの（部分）加水分解
物、その部分縮合物またはこれらの混合物を用いる場
合、重量比（ａ）／（ｂ）は、２／１〜０／１の範囲で
用いることができる。さらに、成分（ａ）としてエチレ
ン−ビニルアルコール共重合体、成分（ｂ）としてエポ
キシ基を有するアルコキシシラン、およびアミノ基およ
び／またはイミノ基を有するアルコキシシランの（部
分）加水分解物、その部分縮合物またはこれらの混合物
を用いる場合、重量比（ａ）／（ｂ）は、９／１〜０／
１の範囲で用いることができる。ここで、エポキシ基を
有するアルコキシシラン、およびアミノ基および／また
はイミノ基を有するアルコキシシランの（部分）加水分
解物、その部分縮合物またはこれらの混合物を用いる場
合、（エポキシ）基／（アミノ基とイミノ基の総和）の
配合比率は、得られる塗膜の性能に影響し、モル当量換
算で６／１〜１／６のときに密着性、耐熱性、耐薬品
性、耐水性、耐久性に優れるコーティング膜が得られ
る。エポキシ基またはアミノ基のどちらかの成分が他方
に対して過剰になり、上記範囲からはずれるにともない
コーティング膜の性能が低下する。

【００３９】アミノ基及び／またはイミノ基は、エポキ
シ基を有するアルコキシシランの加水分解物の縮合触媒
であり、同時にエポキシ基と反応するため、アルコキシ
シランの加水分解物にアミノ基及び／またはイミノ基を
有するアルコキシシランを加えると反応が急速におこ
り、コーティング用組成物がゲル化しやすくなる。その
ためアミノ基及び／又はイミノ基を有するアルコキシシ
ランを使用する場合は、カルボン酸を用いて弱酸性の有
機酸塩としポットライフを調整することが好ましい。こ
こでカルボン酸とは、例として蟻酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸等が挙げられるが、その酸性度、揮発性からみ
て酢酸が最も好ましい。

【００４０】また、カルボン酸の添加量は成分（ｂ）の
アミノ基およびイミノ基の総和１モルあたり０．１〜１
０モル量の範囲、好ましくは０．５〜５．０モルの範囲
であり、この量が０．５モルよりも少ないと、これから
調整されるコーティング用組成物のポットライフが短く
なりゲル化しやすくなる。一方１０モル量より多いとコ
ーティング用組成物の硬化が不十分となる。

【００４１】さらに成分（ｃ）は、成分（ａ）、及び／
又は（ｂ）の合計固形分量１００重量部に対し、２００
重量部以上、９９９００重量部以下の範囲が好ましく用
いられる。２００重量部未満では組成物の保存安定性が
悪化し、一方９９９００重量部を越えると組成物自体の
保存安定性は良好化するが、組成物中の固形分が少なく
なり、コーティングに供して得られる塗工膜の膜厚が制
限される。

【００４２】また、添加剤としては、表面平滑性を改良
する目的で各種界面活性剤が使用可能であり、例として
はシリコーン系化合物、フッ素系界面活性剤、有機界面
活性剤などが使用できる。さらに改質剤として、前記コ
ーティング用組成物と相溶性のある各種エポキシ樹脂、
メラミン樹脂、アミド樹脂、コロイダルシリカ等を添加
してもよい。このような成分（ａ）、（ｂ）および
（ｃ）以外の添加成分は本発明の硬化樹脂層の特性、例
えば、耐熱性、耐候性、耐水性、耐久性、密着性、ある
いは耐薬品性など、本発明の積層フィルムが適用される
用途に応じて種々の実用特性を改良しうるものである。

【００４３】本発明において、バリアー層を与えるコー
ティング用組成物は、透明高分子フィルムの少なくとも
片面に金属酸化物層を有する場合には、少なくとも該金
属酸化物層に接するように積層される。その方法として
はディップコート、スプレーコート、フローコート、ロ
ールコート、バーコート、スピンコート等通常使われて
いる塗布方法が用いられる。バリアー性を有するバリア
ー層の膜厚としては０．０１から１００μｍが好まし
い。１００μｍを超えると膜の硬化に時間がかかり経済
的に好ましくない。

【００４４】塗布された高分子フィルムは、通常常温か
ら該フィルムの熱変形温度以下の温度下で溶媒を蒸発除
去する。次いで５０から１５０℃の温度で１分間以上加
熱硬化する。この工程でバリアー層は硬化し、バリアー
層を与えるコーテイング組成物が前記一般式（１）のア
ルコキシシランの（部分）加水分解物、その（部分）縮
合物またはこれらの混合物およびポリビニルアルコール
系高分子を含む場合、アルコキシシランの（部分）加水
分解物、その（部分）縮合物またはこれらの混合物によ
り架橋されたポリビニルアルコール系高分子の硬化皮膜
であうバリアー層が形成される。

【００４５】このバリアー層は、特に金属酸化物層とし
てＳｉＯｘ（１．５≦ｘ≦２）薄膜が設けられた基材の
表面に良好に密着するが、必要に応じて、金属酸化物の
表面を、コロナ処理、アンカーコート処理等の表面改質
を行い、層間の密着性をさらに向上させることが可能で
ある。

【００４６】本発明において、耐溶剤性を有する保護層
は透明導電層と基板との接着性を十分考慮して選択する
必要がある。このような保護層としては、放射線硬化型
樹脂や熱硬化型樹脂が挙げられる。放射線硬化型樹脂と
は、紫外線又は電子線等の放射線を照射することにより
硬化する樹脂をしめす。例えば、分子あるいは単位構造
内にアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基等の
不飽和二重結合を含む樹脂を挙げることができる。中で
も反応性の点から、アクリロイル基を含む樹脂が好まし
い。

【００４７】これらの放射線硬化型樹脂は、単一組成で
も、数種の混合組成でも構わないが、耐溶剤性の点から
分子或いは単位構造内に２個以上のアクリロイル基を有
する多官能アクリレート成分が樹脂成分中に含まれるこ
とが好ましい。かかる多官能アクリレート成分として
は、例えばジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ペタエリスリト
ールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート等のアクリレートモノマーやポリエステル変
成もしくはウレタン変成の多官能アクリレートオリゴマ
ーが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【００４８】これらのなかでも、透明導電膜の機械的特
性、耐アルカリ水溶液性の点から、ポリエステル変成ア
クリレートオリゴマーが好ましく、特に下記一般式
（２）で表される化合物を固形分比で５０重量％以上含
有する放射線硬化型樹脂が好ましい。

【００４９】

【化７】

【００５０】ここで、Ｒ³ は水素原子、ハロゲン原子、
メチル基またはエチル基を示す。ｍは平均値として、
０．５〜２の範囲の数である。

【００５１】これらの放射線硬化型樹脂組成物は、これ
に必要に応じて光開始剤、および重合禁止剤、レベリン
グ剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤、熱可塑性樹脂、可
塑剤等の改質剤を添加して塗工液とする。塗工液の濃
度、粘度調整のため必要に応じて適当な有機溶剤で希釈
する。該塗工液を公知の塗工法、例えば、ディップコー
ト、スプレーコート、フローコート、ロールコート、バ
ーコート、スピンコート等で、基板上またはバリアー性
を有するバリアー層上に塗工し、必要に応じて予備乾燥
を行った後、放射線照射により硬化させる。

【００５２】紫外線照射で硬化させる場合、光開始剤は
必須成分である。かかる開始剤としては、例えば、ジエ
トキシアセトフェノン、２−メチル−１−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１，
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンジル
ジメチルケタール等のベンゾイン系化合物；チオキサン
ソン、２，４−ジクロロチオキサンソン等のチオキサン
系化合物等が挙げられる。

【００５３】又、より硬化性を向上させるためには、ト
リエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４−
ジメチルアミン安息香酸エチル等の公知の光開始助剤を
適量添加することも効果的である。放射線硬化型樹脂組
成物の保護層の膜厚は、２〜８μｍが好ましく、特に２
〜６μｍが好ましい。２μｍ未満では、耐溶剤性が不十
分であり、又８μｍを超えると、硬化収縮に伴うカール
が発生するため共に好ましくない。

【００５４】熱硬化型樹脂としては、エポキシ樹脂やイ
ソシアネート架橋ウレタン樹脂等が代表的であり、なか
でも、下記一般式（３）で示されるフェノキシ樹脂、フ
ェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂を多官
能イソシアネート化合物で硬化させたフェノキシ樹脂硬
化物、フェノキシエーテル樹脂硬化物、フェノキシエス
テル樹脂硬化物が好ましい。

【００５５】

【化８】

【００５６】ここでＲ⁴ からＲ⁹ は、同一または異なる
水素または炭素数１から３のアルキル基、Ｒ¹⁰は炭素数
２から５のアルキレン基、Ｙはエーテル基、エステル
基、ｐは０から３の整数、ｑは２０から３００の整数を
それぞれ意味する。

【００５７】該熱硬化型樹脂の保護層の膜厚については
特に限定するものではないが、３μｍよりも低い場合に
は耐溶剤性が不十分である。また、膜厚の上限は製膜性
と経済性、耐溶剤性のバランスで決定される。好ましく
は２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下が良い。

【００５８】これらの熱硬化型樹脂組成物は、これに必
要に応じて反応性希釈剤、微粒子、レベリング剤等の各
種添加剤、熱可塑性樹脂、可塑剤等の改質剤を添加して
塗工液とする。塗工液の濃度、粘度調整のため必要に応
じて適当な有機溶剤で希釈する。該塗工液を公知の塗工
法、例えば、ディップコート、スプレーコート、フロー
コート、ロールコート、バーコート、スピンコート等
で、基板上またはバリアー性を有するバリアー層上に塗
工し、１２０℃以上の温度で３分以上、より好ましくは
１３０℃以上の温度で５分以上の熱処理により硬化させ
る。

【００５９】本発明の透明導電層としては、透明性、導
電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましい。
例えば、不純物としてスズ、テルル、カドミウム、モリ
ブテン、タングステン、フッ素等を添加した酸化インジ
ウム、酸化カドミウム及び酸化スズ、不純物としてアル
ミニウムを添加した酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化
物薄膜層が挙げられる。中でも酸化スズを２〜１５重量
％含有した酸化インジウム（ＩＴＯ）の薄膜層が、透明
性、導電性が優れており、好ましく用いられる。

【００６０】透明導電層の形成方法としては、真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンビームスパッタリング
法、イオンプレーティング法等の方法が挙げられる。

【００６１】透明導電層の膜厚は、１５〜１８０ｎｍが
好ましい。１５ｎｍ未満では、不連続な膜となり導電性
が不十分となる。一方、１８０ｎｍを超えると透明性が
低下したり、耐屈曲性が悪くなる。

【００６２】本発明の透明導電積層体において、耐溶剤
性を有する保護層を透明樹脂基板の両面に積層したり、
該保護層を片面に設け、その他方の面に、金属酸化物
層、バリアー層を設けることができる。また、透明導電
層は何れか一方の耐溶剤性を有する保護層の表面に積層
形成するとよい。

【００６３】本発明の透明導電性積層体の好ましい層構
成としては、透明樹脂基板の一方の面上に、金属酸化
物層、バリアー層がこの順で積層され、他方の面に耐溶
剤性を有する保護層、透明導電層がこの順で積層された
構成、透明樹脂基板の一方の面上に、金属酸化物層、
バリアー層、耐溶剤性を有する保護層がこの順で積層さ
れ、他方の面に耐溶剤性を有する保護層、透明導電層が
この順で積層された構成、透明樹脂基板の一方の面上
に、金属酸化物層、バリアー層、耐溶剤性を有する保護
層、透明導電性層がこの順で積層され、他方の面に耐溶
剤性を有する保護層が積層された構成、透明樹脂基板
の一方の面上に、金属酸化物層、バリアー層、耐溶剤性
を有する保護層、透明導電層がこの順で積層され、他方
の面に耐溶剤性を有する保護層、透明導電層がこの順で
積層された構成、透明樹脂基板の一方の面上に、金属
酸化物層、バリアー層、耐溶剤性を有する保護層、透明
導電層がこの順で積層され、他方の面に金属酸化物層、
バリアー層がこの順で積層された構成、透明樹脂基板
の両方の面上に、金属酸化物層、バリアー層、耐溶剤性
を有する保護層がこの順で積層され、どちらか一方の保
護層上に透明導電層が積層された構成、透明樹脂基板
の両方の面上に、金属酸化物層、バリアー層、耐溶剤性
を有する保護層、透明導電層がこの順で積層された構成
が挙げられる。

【００６４】また、シランカップリング剤の添加やプラ
イマーとなる接着層やコロナ処理を用いて、各層間なら
びに基板と各層の接着信頼性を向上させることも可能で
ある。

【００６５】

【実施例】以下、実施例を挙げ本発明をさらに具体的に
説明するが、以下の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例中、部および％は、特に断らない限り重量
基準である。また、実施例中における各種の測定を下記
のとおり行った。

【００６６】透明性：通常の分光光度計を用い波長５５
０ｎｍの平行光線の光線透過率を測定した。また、日本
電色製ＣＯＨ−３００Ａを用いてヘイズ値（△Ｈ％）を
測定した。 光学等方性：日本分光製の多波長複屈折率測定装置Ｍ−
１５０を用い、波長５９０ｎｍの光に対するリタデーシ
ョン値を測定した。 耐溶剤性：２５℃の３．０％ＮａＯＨ水溶液に１０分
間浸漬し、流水にて十分洗浄を行った後、乾燥させ、外
観を目視して観察した。 耐溶剤性：２５℃の５．０％ＨＣｌ水溶液に１０分間
浸漬し、流水にて十分洗浄を行った後、乾燥させ、外観
を目視して観察した。 耐溶剤性：８０℃のＮ−メチルピロリドンを透明導電
層の上に数滴滴下し５分間放置して、流水にて十分洗浄
を行った後、外観を目視にて観察した。

【００６７】ガスバリアー性：ガスバリアー性は透明導
電層を設けない状態で、評価した。酸素透過度は、モダ
ンコントロール（ＭＯＣＯＮ）社製オキシトラン２／２
０ＭＬを用いて、３０℃、５０％ＲＨの低湿度環境下
と、３０℃、９０％ＲＨの高湿度環境下で測定した。
又、水蒸気透過度は、ＭＯＣＯＮ社製パーマトランＷ１
Ａを用いて、４０℃、９０％ＲＨ雰囲気下における水蒸
気透過性を測定した。 密着性：ＪＩＳ Ｋ５４００ ８．５．２碁盤目テープ
法に準拠して塗膜の密着性を評価した。 耐屈曲性：透明導電層が内側になるように、直径１０ｍ
ｍのガラス管の周囲に沿わせて変形させ１分間保持した
後元に戻し、透明導電層のクラックを観察する。長さ５
ｍｍ以上のクラックがある場合を不良とする。

【００６８】［実施例１］厚さ１００μｍのポリカーボ
ネートフィルムのロールを、真空蒸着装置の所定位置に
セットした後１．３ｍＰａの圧力まで排気した。Ｓｉと
ＳｉＯ₂ の混合物よりなる蒸着材料を電子ビーム加熱に
より蒸発させ、ポリカーボネートフィルムの片面に、厚
さ２０ｎｍのＳｉＯｘ膜（ｘの値は約１．７）を形成し
た。

【００６９】次に、本発明のバリアー層を与えるコーテ
ィング用組成物Ａを調製し、ＳｉＯｘが積層されたポリ
カーボネートフィルムのＳｉＯｘ層の上にコーティング
用組成物Ａをマイクログラビア方式により塗工し、１３
０℃、３分間加熱乾燥し、厚さ２μｍのバリアー層を形
成した。ここで、コーティング用組成物Ａの調製にあた
っては、ポリビニルアルコール系高分子（日本合成化学
（株）製、ゴーセノールＮＭ−１１Ｑ、（ａ））５部と
蒸留水９５部からなる溶液に、テトラメトキシシラン
（ｂ）６．３部を混合して溶液が均一になってから、４
０％水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム水溶液を
０．５部を添加し、２４時間熟成を行った。コーテイン
グ組成物Ａにおいては、（ａ）／（ｂ）＝２／１であっ
た。

【００７０】さらに、本発明の耐溶剤性を有する保護層
を与えるコーティング用組成物Ｂを調整し、ポリカーボ
ネートフィルムのＳｉＯｘ層及びバリアー層を形成した
積層体の両面に、コーティング用組成物Ｂをマイクログ
ラビア方式により塗工し、５０℃で１分間予備乾燥し、
次に１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプを用いて、積算光
量８００ｍＪ／ｃｍ² の条件で紫外線を照射して塗工膜
を硬化させることにより、厚さ４μｍの保護層を形成し
た。ここで、コーティング用組成物Ｂの調整にあたって
は、トリメチロールプロパントリアクリレート（東亜合
成化学（株）製、アロニックスＭ−３０９）１００部、
光開始剤１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
（チバガイギー社製、イルガキュア−１８４）７部及び
レベリング剤としてシリコンオイル（東レ・ダウコーニ
ング社製、ＳＨ２８ＰＡ）０．０２部を混合した後、１
−メトキシ−２−プロパノール及びメタノールで固形分
３５ｗｔ％にした。

【００７１】次に、この様にして得られたポリカーボネ
ートフィルムを基板とする積層体のロールを、スパッタ
リング装置にセットした後１．３ｍＰａの圧力まで排気
した。引き続いてＡｒ・Ｏ₂ 混合ガス（Ｏ₂ 濃度１．４
ｖｏｌ％）を導入し、圧力が０．２７Ｐａになるように
調整した。ＩＴＯターゲット（ＳｎＯ₂ 濃度５ｗｔ％）
を用い、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ² の条件でＤＣスパッ
タリングを行い、ポリカーボネートフィルムに接する耐
溶剤性を有する保護層上に、厚さ１３０ｎｍのＩＴＯ膜
からなる透明導電層を設けることにより透明導電性積層
体を得た。得られた透明導電積層体の評価結果を表１に
示す。

【００７２】［実施例２］バリアー層を与えるコーティ
ング用組成物Ａに変えてコーティング用組成物Ｃを用
い、耐溶剤性を有する保護層をポリカーボネートフィル
ムのＳｉＯｘ層及びバリアー層を形成した面と反対の面
にのみ積層する以外は実施例１と同様にして透明導電性
積層体を得た。得られた結果を表１に示す。ここで、コ
ーティング用組成物Ｃの調整にあたっては、エチレン−
ビニルアルコール共重合体（クラレ（株）製エバール−
Ｆ（エチレン共重合比３２％）、（ａ））１００部を、
水７２０部、ｎ−プロパノール１０８０部、ｎ−ブタノ
ール１００部の混合溶液に加熱溶解させ均一溶液にしこ
れを室温まで放冷した後、これにレベリング剤として東
レダウコーニング社製ＳＨ３０ＰＡを０．１部、酢酸６
２．４部を加え、その後、２−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（ｂ）８５．８
部を加え１０分間攪拌し、更にこの溶液に３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン（ｂ）６２．４部を加えて３
時間攪拌した。コーテイング組成物Ｃにおいては（ａ）
／（ｂ）＝１／１であり、（エポキシ）基／（アミノ基
とイミノ基の総和）＝１／１であった。

【００７３】［実施例３］バリアー層を与えるコーティ
ング用組成物Ｃに変えてコーティング用組成物Ｄを用い
る以外は、実施例２と同様にして透明導電性積層体を得
た。得られた結果を表１に示す。ここで、コーティング
用組成物Ｄの調整にあたっては、シリル基含有ポリビニ
ルアルコール系高分子（クラレ製Ｒ１１３０（シリル基
含有率１％未満））１００部、水１３００部、ｎ−プロ
パノール６００部の混合溶液に加熱溶解させ均一溶液に
しこれを室温まで放冷した後、これにレベリング剤とし
て東レダウコーニング社製ＳＨ３０ＰＡを０．１部、酢
酸１２４．８部を加え、その後、３−アミノプロピルト
リメトキシシラン１２４．８部を加え３時間攪拌し、更
にこの溶液に２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）
エチルトリメトキシシラン１７１．６部を加えて３時間
攪拌した。コーテイング組成物Ｄにおいては、（ａ）／
（ｂ）＝１／２であり、（エポキシ）基／（アミノ基と
イミノ基の総和）＝１／１であった。

【００７４】［実施例４］耐溶剤性を有する保護層を与
えるコーティング用組成物Ｂに変えてコーティング用組
成物Ｅを用い、８０℃５分及び１３０℃５分熱処理して
５μｍの保護層を形成した以外は、実施例２と同様にし
て透明導電性積層体を得た。得られた結果を表１に示
す。ここで、コーティング用組成物Ｅの調整にあたって
は、フェノキシエステル樹脂としてユニオンカーバイド
コーポレーション製のＰＫＨＭ−３０を２０部とメチル
エチルケトン４０部と２−エトキシエチルアセテート２
０部を混合した物に、更に多官能イソシアネートとして
日本ポリウレタン（株）製のコロネートＬを２０部混合
した。

【００７５】［実施例５］バリアー層を与えるコーティ
ング用組成物Ｃに変えてコーティング用組成物Ｆを用い
る以外は、実施例２と同様にして透明導電性積層体を得
た。得られた結果を表１に示す。ここで、コーティング
用組成物Ｆの調整にあたっては、水１３００部、ｎ−プ
ロパノール６５０部の混合溶液に、レベリング剤として
東レダウコーニング社製ＳＨ３０ＰＡを０．２部、酢酸
２３０部を加え、その後、３−アミノプロピルトリメト
キシシラン２３３部を加え３時間攪拌し、更にこの溶液
に２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリ
メトキシシラン６４０部を加えて２４時間攪拌した。な
お、コーテイング組成物Ｆにおいて、（エポキシ）基／
（アミノ基とイミノ基の総和）＝２／１であった。

【００７６】［比較例１］バリアー層を積層しない以外
は、実施例２と同様にして透明導電性積層体を得た。得
られた結果を表１に示す。

【００７７】［比較例２］バリアー層に変えて、ポリビ
ニルアルコール系高分子（日本合成化学（株）製、ゴー
セノールＮＭ−１１Ｑ）を２μｍを積層した以外は、実
施例１と同様にして透明導電性積層体を得た。得られた
結果を表１に示す。

【００７８】

【表１】

【００７９】

【発明の効果】本発明は耐溶剤性、ガスバリアー性に優
れ、しかも透明性、光学等方性、平面性に優れ、層間の
密着性が良好なガスバリアー性積層体を提供する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｃ２３Ｃ 14/08 Ｄ

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明樹脂基板と、その何れかの面に設け
   られた、金属酸化物層、バリアー層、耐溶剤性を有する
   保護層、透明導電層の各層とからなる透明導電性積層体
   において、該バリアー層が、下記一般式（１） 【化１】Ｒ¹ _n −Ｓｉ（ＯＲ² ）_4-n ・・・・（１） ［ここで、Ｒ¹ は炭素数１〜４のアルキル基、ビニル
   基、又はメタクリロキシ基、アミノ基、エポキシ基およ
   びメルカプト基からなる群から選ばれる１以上の基を有
   する有機基であり、Ｒ² は炭素数１〜４のアルキル基で
   あり、ｎは０〜２の整数である。］で示されるアルコキ
   シシランの（部分）加水分解物、その（部分）縮合物も
   しくはこれらの混合物、または上記一般式（１）で示さ
   れるアルコキシシランの（部分）加水分解物、その（部
   分）縮合物もしくはこれらの混合物により架橋されたポ
   リビニルアルコール系高分子からなる層からなり、透明
   導電層が保護層上に形成されていることを特徴とする透
   明導電性積層体。
2. 【請求項２】 前記保護層、透明導電層がこの順で透明
   樹脂基板の片方の面に積層され、その他方の面に、金属
   酸化物層、バリアー層がこの順で積層されている請求項
   １記載の透明導電性積層体。
3. 【請求項３】 前記金属酸化物層が厚さ２ｎｍ〜２００
   ｎｍのＳｉＯｘ（ただし、１．５≦ｘ≦２）で表される
   平均組成のケイ素酸化物からなる請求項１または２項記
   載の透明導電性積層体。
4. 【請求項４】 前記アルコキシシランが、エポキシ基を
   有するアルコキシシラン、及びアミノ基及び／またはイ
   ミノ基を有するアルコキシシランである請求項１〜３の
   いずれか１項記載の透明導電性積層体。
5. 【請求項５】 前記ポリビニルアルコール系高分子が、
   シリル基含有ポリビニルアルコール、及び／又はエチレ
   ン−ビニルアルコール共重合体である請求項１〜４のい
   ずれか１項記載の透明導電性積層体。
6. 【請求項６】透明樹脂基板が、ポリカーボネート樹脂を
   主成分とする請求項１〜５のいずれか１項記載の透明導
   電性積層体。
7. 【請求項７】 耐溶剤性を有する保護層が、下記一般式
   （２） 【化２】 （ここで、Ｒ³ は水素原子、ハロゲン原子、メチル基ま
   たはエチル基を示す。ｍは平均値として、０．５〜２の
   範囲の数である。）で示されるポリエステル変成アクリ
   レートオリゴマーを固形分率で５０重量％以上含有する
   放射線硬化性樹脂の硬化物である請求項１〜６のいずれ
   か１項記載の透明導電性積層体。
8. 【請求項８】 耐溶剤性を有する保護層が、下記一般式
   （３） 【化３】 （ここでＲ⁴ からＲ⁹ は、同一または異なる水素または
   炭素数１から３のアルキル基、Ｒ¹⁰は炭素数２から５の
   アルキレン基、Ｙはエーテル基、エステル基、ｐは０か
   ら３の整数、ｑは２０から３００の整数をそれぞれ意味
   する。）で示されるフェノキシ樹脂、フェノキシエーテ
   ル樹脂、フェノキシエステル樹脂を多官能イソシアネー
   ト化合物で硬化させたフェノキシ樹脂硬化物、フェノキ
   シエーテル樹脂硬化物、フェノキシエステル樹脂硬化物
   である請求項１〜６のいずれか１項記載の透明導電性積
   層体。