JPH1053758A - 導電膜形成用塗布液、その凍結体、導電膜の製造方法および陰極線管 - Google Patents
導電膜形成用塗布液、その凍結体、導電膜の製造方法および陰極線管Info
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- JPH1053758A JPH1053758A JP21140296A JP21140296A JPH1053758A JP H1053758 A JPH1053758 A JP H1053758A JP 21140296 A JP21140296 A JP 21140296A JP 21140296 A JP21140296 A JP 21140296A JP H1053758 A JPH1053758 A JP H1053758A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】長期間保存できる導電膜形成用塗布液の凍結
体、均一成膜と凍結が可能な導電膜形成用塗布液、該凍
結体および該塗布液を用いた導電膜の製造方法の提供。 【解決手段】導電性微粒子を含む導電膜形成用塗布液の
凍結体、特定有機溶媒、水および導電性微粒子とからな
る導電膜形成用塗布液、該凍結体および該塗布液を用い
た導電膜の製造方法。
体、均一成膜と凍結が可能な導電膜形成用塗布液、該凍
結体および該塗布液を用いた導電膜の製造方法の提供。 【解決手段】導電性微粒子を含む導電膜形成用塗布液の
凍結体、特定有機溶媒、水および導電性微粒子とからな
る導電膜形成用塗布液、該凍結体および該塗布液を用い
た導電膜の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、導電膜形成用塗布
液の凍結体、導電膜形成用塗布液、導電膜の製造方法お
よび陰極線管に関する。
液の凍結体、導電膜形成用塗布液、導電膜の製造方法お
よび陰極線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】ブラウン管は作動電圧として２５〜３２
ｋＶ程度の高電圧が印加されるため、その表面に帯電し
た静電気により粉塵が付着し画像が見難くなったり、外
表面に人体が触れた際の放電により電気ショックを受け
たりするため、その表面に導電膜を形成してこれを防止
することが広く行われている。
ｋＶ程度の高電圧が印加されるため、その表面に帯電し
た静電気により粉塵が付着し画像が見難くなったり、外
表面に人体が触れた際の放電により電気ショックを受け
たりするため、その表面に導電膜を形成してこれを防止
することが広く行われている。
【０００３】また、ブラウン管の前面ガラスであるパネ
ルの表面で外光が反射し、画像が見難くなるので、長時
間の視覚は眼精疲労を招きやすい。その防止策として、
帯電防止処理とともに可視光域での低反射処理を行うこ
とも必要となっている。加えて人体の安全性の点から、
ブラウン管のフライバックトランスと偏向ヨークコイル
から発生する電磁波の漏洩の防止が望まれてきた。
ルの表面で外光が反射し、画像が見難くなるので、長時
間の視覚は眼精疲労を招きやすい。その防止策として、
帯電防止処理とともに可視光域での低反射処理を行うこ
とも必要となっている。加えて人体の安全性の点から、
ブラウン管のフライバックトランスと偏向ヨークコイル
から発生する電磁波の漏洩の防止が望まれてきた。
【０００４】電磁波の漏洩は、ブラウン管の表面に透明
導電膜を形成することで防止できるが、一般に帯電防止
には表面抵抗１０8 〜１０10Ω／□、電磁波遮蔽には表
面抵抗１０2 〜１０8 Ω／□、特に１０2 〜１０3 Ω／
□の膜が用いられている。
導電膜を形成することで防止できるが、一般に帯電防止
には表面抵抗１０8 〜１０10Ω／□、電磁波遮蔽には表
面抵抗１０2 〜１０8 Ω／□、特に１０2 〜１０3 Ω／
□の膜が用いられている。
【０００５】従来、このような低反射帯電防止膜として
は、屈折率と膜厚を所定の値に制御した複数の薄膜をガ
ラス表面に形成する方法が一般に知られている。
は、屈折率と膜厚を所定の値に制御した複数の薄膜をガ
ラス表面に形成する方法が一般に知られている。
【０００６】具体的には、特開平１−２９９８８７記載
の湿式法（スプレー法、スピンコート法等によりガラス
表面に透明導電膜および低屈折率膜を形成する方法）の
他、乾式法（ＣＶＤ法、スパッタリング法、真空蒸着法
等で複数の薄膜を形成する方法）や、湿式法と乾式法の
両者を組み合わせた方法等があげられる。
の湿式法（スプレー法、スピンコート法等によりガラス
表面に透明導電膜および低屈折率膜を形成する方法）の
他、乾式法（ＣＶＤ法、スパッタリング法、真空蒸着法
等で複数の薄膜を形成する方法）や、湿式法と乾式法の
両者を組み合わせた方法等があげられる。
【０００７】湿式法は、乾式法に比べ、高価な真空装置
を必要としないため、大量生産や設備コスト面で有利で
ある。湿式法の場合、周囲光に対するコントラストを向
上させるため、塗膜形成用の塗布液に無機顔料、有機顔
料、有機染料等を添加し、光吸収性を付与することが比
較的容易である。
を必要としないため、大量生産や設備コスト面で有利で
ある。湿式法の場合、周囲光に対するコントラストを向
上させるため、塗膜形成用の塗布液に無機顔料、有機顔
料、有機染料等を添加し、光吸収性を付与することが比
較的容易である。
【０００８】低反射帯電防止膜としては、空気側に低屈
折率材料膜、透明基材側に高屈折率で導電性材料からな
る膜の２層膜構成、または３層以上の多層膜構成による
光干渉膜が一般的である。このような多層膜構成による
表面反射防止法には、精密な膜厚制御と塗布面全体の膜
均一性が必要である。
折率材料膜、透明基材側に高屈折率で導電性材料からな
る膜の２層膜構成、または３層以上の多層膜構成による
光干渉膜が一般的である。このような多層膜構成による
表面反射防止法には、精密な膜厚制御と塗布面全体の膜
均一性が必要である。
【０００９】スピンコートを行う際にパネル面上に異物
が存在すると、その周辺の膜厚が変化し干渉色の異なる
欠点が生じる。スピンコートの特徴として、ブラウン管
パネル表面に滴下された液は、パネルの回転によって生
じる遠心力により外周方向に広がるため、異物が存在す
るとそこを起点として外周方向に欠点が大きく拡大す
る。そこで異物付着防止のために塗布環境のクリーン化
が必要となるが、高クリーン度を維持するコストが大き
いため、異物が存在しても欠点が拡大しにくい塗布液が
求められていた。
が存在すると、その周辺の膜厚が変化し干渉色の異なる
欠点が生じる。スピンコートの特徴として、ブラウン管
パネル表面に滴下された液は、パネルの回転によって生
じる遠心力により外周方向に広がるため、異物が存在す
るとそこを起点として外周方向に欠点が大きく拡大す
る。そこで異物付着防止のために塗布環境のクリーン化
が必要となるが、高クリーン度を維持するコストが大き
いため、異物が存在しても欠点が拡大しにくい塗布液が
求められていた。
【００１０】また、膜の均一性を得るためには、導電性
微粒子が均一に塗膜形成用の塗布液中に分散しているこ
とが必要である。粒子の凝集物すなわち粗大粒子が塗布
液中に存在していると、塗布の際に膜表面に凝集物が発
生し、これが核となって欠点となることが多い。
微粒子が均一に塗膜形成用の塗布液中に分散しているこ
とが必要である。粒子の凝集物すなわち粗大粒子が塗布
液中に存在していると、塗布の際に膜表面に凝集物が発
生し、これが核となって欠点となることが多い。
【００１１】一方、塗布液を長期保管する場合、ブラウ
ン運動により衝突した塗布液中の導電性微粒子同士が合
一し、経時的に凝集が進むのは良く知られている。この
ため従来、導電膜形成用塗布液は製造後限られた日数以
内で使用する必要があった。そこで、液の保管時の粒子
の凝集を抑制し液の使用期限の延長が望まれていた。
ン運動により衝突した塗布液中の導電性微粒子同士が合
一し、経時的に凝集が進むのは良く知られている。この
ため従来、導電膜形成用塗布液は製造後限られた日数以
内で使用する必要があった。そこで、液の保管時の粒子
の凝集を抑制し液の使用期限の延長が望まれていた。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、導電
膜形成用塗布液を長期間安定に保存できる導電膜形成用
塗布液の凍結体、該凍結体から得られる導電膜形成用塗
布液を用いた導電膜の製造方法および該導電膜が形成さ
れた陰極線管を提供することである。
膜形成用塗布液を長期間安定に保存できる導電膜形成用
塗布液の凍結体、該凍結体から得られる導電膜形成用塗
布液を用いた導電膜の製造方法および該導電膜が形成さ
れた陰極線管を提供することである。
【００１３】また、本発明の目的は、ブラウン管表面等
に均一に成膜でき、異物が存在しても欠点が拡大しにく
く、また、長期間安定に保存できる導電膜形成用塗布液
および該塗布液を用いた導電膜の製造方法および該導電
膜が形成された陰極線管を提供することである。
に均一に成膜でき、異物が存在しても欠点が拡大しにく
く、また、長期間安定に保存できる導電膜形成用塗布液
および該塗布液を用いた導電膜の製造方法および該導電
膜が形成された陰極線管を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、導電性微粒子
を含む導電膜形成用塗布液の凍結体、該凍結体から得ら
れる導電膜形成用塗布液を用いた導電膜の製造方法およ
び該導電膜が形成された陰極線管を提供する。
を含む導電膜形成用塗布液の凍結体、該凍結体から得ら
れる導電膜形成用塗布液を用いた導電膜の製造方法およ
び該導電膜が形成された陰極線管を提供する。
【００１５】本発明の導電膜形成用塗布液の凍結体を用
いることで導電膜形成用塗布液を長期間安定に保存でき
る。塗布液を塗布時以外の非使用時に凍結し、使用前に
解凍して塗布液とし、それを基体に塗布することで効率
的に導電膜を形成できる。
いることで導電膜形成用塗布液を長期間安定に保存でき
る。塗布液を塗布時以外の非使用時に凍結し、使用前に
解凍して塗布液とし、それを基体に塗布することで効率
的に導電膜を形成できる。
【００１６】本発明の塗布液の凍結体においては、水を
４０重量％以上含有することが好ましい。これは０℃以
下の所定の温度で容易に凍結体が得られるからである。
４０重量％以上含有することが好ましい。これは０℃以
下の所定の温度で容易に凍結体が得られるからである。
【００１７】本発明の塗布液の凍結体は、例えば、有機
溶媒と、水と、導電性微粒子とを、水の含有割合が４０
重量％以上となるように混合し、０℃以下で凍結するこ
とにより得られる。
溶媒と、水と、導電性微粒子とを、水の含有割合が４０
重量％以上となるように混合し、０℃以下で凍結するこ
とにより得られる。
【００１８】本発明の塗布液の凍結体には、経時変化す
る成分が含まれていない。その結果、凍結貯蔵すること
により液の使用期限が大幅に延長できる。経時変化する
成分とは、シリケートの加水分解物や、遷移金属等のア
ルコキシドやその加水分解物、キレート化合物などであ
る。
る成分が含まれていない。その結果、凍結貯蔵すること
により液の使用期限が大幅に延長できる。経時変化する
成分とは、シリケートの加水分解物や、遷移金属等のア
ルコキシドやその加水分解物、キレート化合物などであ
る。
【００１９】本発明は、また、ブチルセロソルブ、Ｎ−
メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアルコー
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびジメチルスル
ホキシドからなる群から選ばれる１種以上の有機溶媒
と、水と、導電性微粒子とを含む導電膜形成用塗布液で
あって、該塗布液中の前記有機溶媒の含有割合が０．５
〜６０重量％、水の含有割合が４０〜９５重量％の割合
でることを特徴とする導電膜形成用塗布液および該塗布
液を用いた導電膜の製造方法および該導電膜が形成され
た陰極線管を提供する。
メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアルコー
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびジメチルスル
ホキシドからなる群から選ばれる１種以上の有機溶媒
と、水と、導電性微粒子とを含む導電膜形成用塗布液で
あって、該塗布液中の前記有機溶媒の含有割合が０．５
〜６０重量％、水の含有割合が４０〜９５重量％の割合
でることを特徴とする導電膜形成用塗布液および該塗布
液を用いた導電膜の製造方法および該導電膜が形成され
た陰極線管を提供する。
【００２０】本発明の塗布液においては、水を４０重量
％以上含有する。これは０℃以下の所定の温度で容易に
凍結体が得られるからである。一方、９５重量％以下と
する。９５重量％を超えると、陰極線管用パネルなど基
体に塗布した場合にハジキ等が発生し、均一に塗布する
ことが困難となるからである。
％以上含有する。これは０℃以下の所定の温度で容易に
凍結体が得られるからである。一方、９５重量％以下と
する。９５重量％を超えると、陰極線管用パネルなど基
体に塗布した場合にハジキ等が発生し、均一に塗布する
ことが困難となるからである。
【００２１】また、本発明の塗布液においては、ブチル
セロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフル
フリルアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよ
びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる１種以
上の有機溶媒を０．５〜６０重量％含む。これら有機溶
媒により、均一に成膜できる。
セロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフル
フリルアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよ
びジメチルスルホキシドからなる群から選ばれる１種以
上の有機溶媒を０．５〜６０重量％含む。これら有機溶
媒により、均一に成膜できる。
【００２２】本発明の塗布液では、水を４０重量％以上
含有するため、有機溶媒の含有割合は６０重量％以下で
あるが、０．５重量％未満では良好な結果が得られな
い。
含有するため、有機溶媒の含有割合は６０重量％以下で
あるが、０．５重量％未満では良好な結果が得られな
い。
【００２３】本発明における導電性微粒子としては、金
属酸化物微粒子または金属微粒子が用いられる。導電性
と分散性に優れることから、前記金属酸化物としては、
アンチモンドープ酸化スズ、インジウムスズ酸化物およ
び酸化ルテニウムの群から選ばれる１種以上が好まし
く、また、前記金属としては、銀、金、白金、ルテニウ
ム、パラジウム、ニッケルおよびコバルトからなる群か
ら選ばれる１種以上が好ましい。
属酸化物微粒子または金属微粒子が用いられる。導電性
と分散性に優れることから、前記金属酸化物としては、
アンチモンドープ酸化スズ、インジウムスズ酸化物およ
び酸化ルテニウムの群から選ばれる１種以上が好まし
く、また、前記金属としては、銀、金、白金、ルテニウ
ム、パラジウム、ニッケルおよびコバルトからなる群か
ら選ばれる１種以上が好ましい。
【００２４】アンチモンドーブ酸化スズ、インジウムス
ズ酸化物を用いると透明の導電膜が得られ、酸化ルテニ
ウム、銀またはルテニウムを用いた場合には、光吸収性
の低抵抗の導電膜が得られる。
ズ酸化物を用いると透明の導電膜が得られ、酸化ルテニ
ウム、銀またはルテニウムを用いた場合には、光吸収性
の低抵抗の導電膜が得られる。
【００２５】本発明の塗布液は、前記有機溶媒と水と導
電性微粒子とを上記のような割合で含むため、基体に対
する塗れ性が良く、異物が存在しても均一に成膜でき
る。
電性微粒子とを上記のような割合で含むため、基体に対
する塗れ性が良く、異物が存在しても均一に成膜でき
る。
【００２６】本発明の塗布液には、黒色顔料を添加でき
る。黒色顔料としては、カーボンブラックおよび／また
はチタンブラックが好ましい。黒色顔料としてカーボン
ブラックおよび／またはチタンブラックを含むことで、
光吸収膜が得られ、高コントラストの本発明の導電膜を
形成できる。
る。黒色顔料としては、カーボンブラックおよび／また
はチタンブラックが好ましい。黒色顔料としてカーボン
ブラックおよび／またはチタンブラックを含むことで、
光吸収膜が得られ、高コントラストの本発明の導電膜を
形成できる。
【００２７】本発明の塗布液は、凍結して貯蔵できる。
本発明の塗布液には経時変化する成分が含まれていない
ため、凍結貯蔵することにより液の使用期限が大幅に延
長できる。経時変化する成分とは、シリケートの加水分
解物や、遷移金属等のアルコキシドやその加水分解物、
キレート化合物などである。
本発明の塗布液には経時変化する成分が含まれていない
ため、凍結貯蔵することにより液の使用期限が大幅に延
長できる。経時変化する成分とは、シリケートの加水分
解物や、遷移金属等のアルコキシドやその加水分解物、
キレート化合物などである。
【００２８】本発明の塗布液を基体に塗布することによ
り導電膜を形成できる。本発明の塗布液を用いて形成さ
れる膜は、陰極線管用パネルなどの透明基体、特に、陰
極線管用パネルの画像が表示されるフェース面に好適で
ある。
り導電膜を形成できる。本発明の塗布液を用いて形成さ
れる膜は、陰極線管用パネルなどの透明基体、特に、陰
極線管用パネルの画像が表示されるフェース面に好適で
ある。
【００２９】本発明の塗布液の塗布方法は湿式法であれ
ば特に限定されない。陰極線管用パネル表面にスピンコ
ート法により膜を形成する場合、一般的には、陰極線管
用パネルフェースの外表面（以下、フェース面という）
を洗浄し乾燥した後、３０〜５０℃の温度に保ち、陰極
線管を１００〜１５０ｒｐｍの低速で回転させながらフ
ェース面に対向して配置されたノズルから塗布液を滴下
する。
ば特に限定されない。陰極線管用パネル表面にスピンコ
ート法により膜を形成する場合、一般的には、陰極線管
用パネルフェースの外表面（以下、フェース面という）
を洗浄し乾燥した後、３０〜５０℃の温度に保ち、陰極
線管を１００〜１５０ｒｐｍの低速で回転させながらフ
ェース面に対向して配置されたノズルから塗布液を滴下
する。
【００３０】フェース面にかけられた塗布液は回転によ
って生じる遠心力により、フェース面の外表面に沿って
周辺方向に流れ、周辺部から余剰の塗布液が飛散し、フ
ェース外表面には均一な塗膜が形成される。導電性微粒
子を含む塗布液が均一に塗れ広がるためには表面張力、
粘度、乾燥速度を最適に制御することを要する。そこで
塗布液を構成する溶媒の表面張力、粘度、蒸気圧等を考
慮し、本発明のように配合することにより、フェース面
での膜厚偏差の少ない均一な膜が得られる。
って生じる遠心力により、フェース面の外表面に沿って
周辺方向に流れ、周辺部から余剰の塗布液が飛散し、フ
ェース外表面には均一な塗膜が形成される。導電性微粒
子を含む塗布液が均一に塗れ広がるためには表面張力、
粘度、乾燥速度を最適に制御することを要する。そこで
塗布液を構成する溶媒の表面張力、粘度、蒸気圧等を考
慮し、本発明のように配合することにより、フェース面
での膜厚偏差の少ない均一な膜が得られる。
【００３１】本発明の塗布液は前記したように、凍結貯
蔵できるため、長期間安定であり、したがって、スピン
コート法のみならず、スプレーコート法や、ディップコ
ート等の任意の膜形成法に使用できる。
蔵できるため、長期間安定であり、したがって、スピン
コート法のみならず、スプレーコート法や、ディップコ
ート等の任意の膜形成法に使用できる。
【００３２】また、本発明の塗布液を用いて形成される
導電膜上には、低屈折率膜を形成し、低反射導電膜を構
成できる。低屈折率膜としては、シリカやフッ化マグネ
シウムなどがあげられる。
導電膜上には、低屈折率膜を形成し、低反射導電膜を構
成できる。低屈折率膜としては、シリカやフッ化マグネ
シウムなどがあげられる。
【００３３】本発明の塗布液を用いて形成される導電膜
の膜厚は１００ｎｍ程度、また、前記低屈折率膜の膜厚
は、１００ｎｍ程度が好ましい。
の膜厚は１００ｎｍ程度、また、前記低屈折率膜の膜厚
は、１００ｎｍ程度が好ましい。
【００３４】
【実施例】以下に実施例（例１〜９および１１）、比較
例（例１０および１２）を具体的に説明するが、本発明
は以下の実施例に限定されない。
例（例１０および１２）を具体的に説明するが、本発明
は以下の実施例に限定されない。
【００３５】［例１〜１０］表１の微粒子欄に示す微粒
子を、表１の水欄に示す量の水（イオン交換水）中に分
散させた後、表１の有機溶媒欄に示す有機溶媒を撹拌混
合して導電膜形成用塗布液（塗布液Ａ）を得た。なお、
表１中の数字は、原料量（単位：重量％）を示す。
子を、表１の水欄に示す量の水（イオン交換水）中に分
散させた後、表１の有機溶媒欄に示す有機溶媒を撹拌混
合して導電膜形成用塗布液（塗布液Ａ）を得た。なお、
表１中の数字は、原料量（単位：重量％）を示す。
【００３６】なお、Ｓｂ：ＳｎＯ2 はアンチモンドーブ
酸化スズ、ＩＴＯはインジウムスズ酸化物、Ａｇは銀、
Ｒｕはルテニウム、Ｃ−Ｂはカーボンブラック、Ｔｉ−
Ｂはチタンブラック、ＳｉＯ2 −Ｓはシリカゾル、を示
す。また、ＢＣはブチルセロソルブ、Ｎ−ＭＰはＮ−メ
チルピロリドン、ＴＨＦＡはテトラヒドロフルフリルア
ルコール、ＤＭＦはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｄ
ＭＳＯはジメチルスルホキシド、ＥＴＡはエタノール、
ＥＣはエチルセロソルブを示す。
酸化スズ、ＩＴＯはインジウムスズ酸化物、Ａｇは銀、
Ｒｕはルテニウム、Ｃ−Ｂはカーボンブラック、Ｔｉ−
Ｂはチタンブラック、ＳｉＯ2 −Ｓはシリカゾル、を示
す。また、ＢＣはブチルセロソルブ、Ｎ−ＭＰはＮ−メ
チルピロリドン、ＴＨＦＡはテトラヒドロフルフリルア
ルコール、ＤＭＦはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｄ
ＭＳＯはジメチルスルホキシド、ＥＴＡはエタノール、
ＥＣはエチルセロソルブを示す。
【００３７】次に正ケイ酸エチル４重量％、濃硝酸１重
量％、エタノール６０重量％、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル２５重量％、ジアセトンアルコール１
０重量％を混合、撹拌して加水分解、重合を行い低屈折
率膜形成用塗布液（塗布液Ｂ）を得た。
量％、エタノール６０重量％、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル２５重量％、ジアセトンアルコール１
０重量％を混合、撹拌して加水分解、重合を行い低屈折
率膜形成用塗布液（塗布液Ｂ）を得た。
【００３８】フェース面を洗浄、乾燥後、３０〜５０℃
の温度に保ち、陰極線管を１００〜１５０ｒｐｍの低速
で回転させながら、フェース面に対向して配置されたノ
ズルから塗布液Ａを滴下した。塗膜の乾燥後、再度陰極
線管を１００〜１５０ｒｐｍの低速で回転させながら塗
布液Ｂを滴下した。次に、フェース面を１６０℃で３０
分保持することにより、表面に低反射導電膜を形成し
た。なお、成膜は、クリーン度１０００のブースの下で
行った。
の温度に保ち、陰極線管を１００〜１５０ｒｐｍの低速
で回転させながら、フェース面に対向して配置されたノ
ズルから塗布液Ａを滴下した。塗膜の乾燥後、再度陰極
線管を１００〜１５０ｒｐｍの低速で回転させながら塗
布液Ｂを滴下した。次に、フェース面を１６０℃で３０
分保持することにより、表面に低反射導電膜を形成し
た。なお、成膜は、クリーン度１０００のブースの下で
行った。
【００３９】得られた低反射導電膜について、フェース
面内の膜厚ムラについて分光反射率測定システム（イー
ジー アンド ガンマ サイエンス社製）により評価し
た結果を表２に示す。評価方法としては、前記システム
により、フェース面内の反射特性を測定し、フェース面
内におけるボトム波長の最大値と最小値を測定し、膜厚
が厚いほどボトム波長は長波長側にシフトし、膜厚が薄
いほどボトム波長は短波長側にシフトするため、最大値
と最小値の差（すなわち膜厚ムラ）が少ないほど、均一
な膜であるとした。
面内の膜厚ムラについて分光反射率測定システム（イー
ジー アンド ガンマ サイエンス社製）により評価し
た結果を表２に示す。評価方法としては、前記システム
により、フェース面内の反射特性を測定し、フェース面
内におけるボトム波長の最大値と最小値を測定し、膜厚
が厚いほどボトム波長は長波長側にシフトし、膜厚が薄
いほどボトム波長は短波長側にシフトするため、最大値
と最小値の差（すなわち膜厚ムラ）が少ないほど、均一
な膜であるとした。
【００４０】また、外観欠点の目立ちやすさについて評
価した結果を表２に示す。評価方法としては、外観検査
を行い、２ｍｍ以上の尾引きを伴う欠点の個数を数え
た。
価した結果を表２に示す。評価方法としては、外観検査
を行い、２ｍｍ以上の尾引きを伴う欠点の個数を数え
た。
【００４１】［例１１］例２において用いた塗布液Ａに
代えて、例２の塗布液Ａを−２０℃で凍結し４カ月保管
後解凍した塗布液を用いた以外は例２と同様に成膜し、
評価した。結果を表２に示す。
代えて、例２の塗布液Ａを−２０℃で凍結し４カ月保管
後解凍した塗布液を用いた以外は例２と同様に成膜し、
評価した。結果を表２に示す。
【００４２】［例１２］例９において用いた塗布液Ａに
代えて、例９の塗布液Ａを室温（２５℃）にて４カ月保
管した後の塗布液を用いた以外は例９と同様に成膜し、
評価した。結果を表２に示す。
代えて、例９の塗布液Ａを室温（２５℃）にて４カ月保
管した後の塗布液を用いた以外は例９と同様に成膜し、
評価した。結果を表２に示す。
【００４３】
【表１】
【００４４】
【表２】
【００４５】
【発明の効果】本発明の導電膜形成用塗布液の凍結体を
用いることにより、導電膜形成用塗布液を長期間安定に
保存できる。
用いることにより、導電膜形成用塗布液を長期間安定に
保存できる。
【００４６】また、本発明の導電膜形成用塗布液によれ
ば、ブラウン管表面等に導電膜を均一に成膜でき、か
つ、基体表面に異物が存在しても、異物に起因する欠点
がきわめて少ない導電膜が得られることから、テレビジ
ョン放送等の受信に用いる陰極線管、液晶ディスプレ
イ、プラズマディスプレイ等の画像表示装置の画像表示
域外面に好ましく用いられ、帯電防止効果や電磁波遮蔽
効果を付与できる。
ば、ブラウン管表面等に導電膜を均一に成膜でき、か
つ、基体表面に異物が存在しても、異物に起因する欠点
がきわめて少ない導電膜が得られることから、テレビジ
ョン放送等の受信に用いる陰極線管、液晶ディスプレ
イ、プラズマディスプレイ等の画像表示装置の画像表示
域外面に好ましく用いられ、帯電防止効果や電磁波遮蔽
効果を付与できる。
【００４７】また、本発明の導電膜形成用塗布液は、長
期間安定に保存できる。
期間安定に保存できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｊ 9/20 Ｈ０１Ｊ 9/20 Ａ 29/88 29/88 Ｈ０５Ｆ 1/02 Ｈ０５Ｆ 1/02 Ｅ // Ｃ２３Ｃ 24/00 Ｃ２３Ｃ 24/00
Claims (10)
- 【請求項１】導電性微粒子を含む導電膜形成用塗布液の
凍結体。 - 【請求項２】請求項１の凍結体を解凍し導電膜形成用塗
布液を得て、基体上に、該塗布液を塗布して形成するこ
とを特徴とする導電膜の製造方法。 - 【請求項３】請求項１の凍結体を解凍し導電膜形成用塗
布液を得て、基体上に、該塗布液を塗布後、低屈折率膜
を形成することを特徴とする低反射導電膜の製造方法。 - 【請求項４】陰極線管用パネルの画像が表示されるフェ
ース面上に、請求項２の導電膜の製造方法により導電膜
が形成された陰極線管。 - 【請求項５】有機溶媒と、水と、導電性微粒子とを、水
の含有割合が４０重量％以上となるように混合し、０℃
以下で凍結することを特徴とする導電膜形成用塗布液の
凍結体の製造方法。 - 【請求項６】ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリド
ン、テトラヒドロフルフリルアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミドおよびジメチルスルホキシドからなる
群から選ばれる１種以上の有機溶媒と、水と、導電性微
粒子とを含む導電膜形成用塗布液であって、該塗布液中
の前記有機溶媒の含有割合が０．５〜６０重量％、水の
含有割合が４０〜９５重量％の割合であることを特徴と
する導電膜形成用塗布液。 - 【請求項７】塗布液中に黒色顔料として、カーボンブラ
ックおよび／またはチタンブラックを含むことを特徴と
する請求項６の導電膜形成用塗布液。 - 【請求項８】基体上に、請求項６または７の導電膜形成
用塗布液を塗布して形成することを特徴とする導電膜の
製造方法。 - 【請求項９】基体上に、請求項６または７の導電膜形成
用塗布液を塗布後、低屈折率膜を形成することを特徴と
する低反射導電膜の製造方法。 - 【請求項１０】陰極線管用パネルの画像が表示されるフ
ェース面上に、請求項６または７の導導電膜形成用塗布
液を塗布して形成された導電膜を有する陰極線管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21140296A JPH1053758A (ja) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | 導電膜形成用塗布液、その凍結体、導電膜の製造方法および陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21140296A JPH1053758A (ja) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | 導電膜形成用塗布液、その凍結体、導電膜の製造方法および陰極線管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1053758A true JPH1053758A (ja) | 1998-02-24 |
Family
ID=16605374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21140296A Pending JPH1053758A (ja) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | 導電膜形成用塗布液、その凍結体、導電膜の製造方法および陰極線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1053758A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001088054A1 (en) * | 2000-05-19 | 2001-11-22 | Toshio Komuro | Composition for far infrared irradiation with excellent antistatic property and fiber and textile product both containing the same |
| WO2006046431A1 (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-04 | Asahi Glass Company, Limited | 無機塗料組成物、導電性塗膜及び導電性塗膜の形成方法 |
| JP2009076949A (ja) * | 2009-01-15 | 2009-04-09 | Nichia Corp | Ｌｅｄ表示装置およびその使用方法 |
-
1996
- 1996-08-09 JP JP21140296A patent/JPH1053758A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001088054A1 (en) * | 2000-05-19 | 2001-11-22 | Toshio Komuro | Composition for far infrared irradiation with excellent antistatic property and fiber and textile product both containing the same |
| WO2006046431A1 (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-04 | Asahi Glass Company, Limited | 無機塗料組成物、導電性塗膜及び導電性塗膜の形成方法 |
| JPWO2006046431A1 (ja) * | 2004-10-26 | 2008-05-22 | 旭硝子株式会社 | 無機塗料組成物、導電性塗膜及び導電性塗膜の形成方法 |
| JP2009076949A (ja) * | 2009-01-15 | 2009-04-09 | Nichia Corp | Ｌｅｄ表示装置およびその使用方法 |
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