JPH1055025A - 投射型表示装置 - Google Patents

投射型表示装置

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JPH1055025A
JPH1055025A JP8229380A JP22938096A JPH1055025A JP H1055025 A JPH1055025 A JP H1055025A JP 8229380 A JP8229380 A JP 8229380A JP 22938096 A JP22938096 A JP 22938096A JP H1055025 A JPH1055025 A JP H1055025A
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JP
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light
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projection
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pixels
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Withdrawn
Application number
JP8229380A
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English (en)
Inventor
Kazuhiro Sakasai
一宏 逆井
Tsutomu Hamada
勉 浜田
Kenichi Kobayashi
健一 小林
Keiji Fujimagari
啓志 藤曲
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、1フレームの画像を複数フィールド
に分割して表示させる投射型表示装置に関し、画素数の
少ない光変調素子を用いても光の透過率やコントラスト
を低下させずに簡単な構成で時分割表示を行い、高解像
度で画像を表示できる投射型表示装置を提供することを
目的とする。 【解決手段】光変調素子3に供給するフィールド信号に
同期させてアクチュエータ5を駆動させることにより、
マイクロレンズアレイ4に入射する光の光軸に直交する
水平/垂直方向にマイクロレンズアレイ4を移動させる
ことができる。遮光板6は、マイクロレンズアレイ4か
ら投射レンズ7に至る光路上に配置され、光変調素子3
を直進して透過し凸レンズにより集光された光を透過す
る光透過領域61と、光変調素子3を散乱透過した光を
遮光する遮光部62とを有しているように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光変調素子に表示
された画像を拡大投射して大画面表示を得る投射型表示
装置に関し、特に1フレームの画像を複数フィールドに
分割して表示させる投射型表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の代表的な投射型表示装置の概略の
構成を図9に示す。図9において1は光源、3は光変調
素子、8は投射レンズ、9はスクリーンである。投射型
表示装置の光変調素子3には透過型液晶パネルが用いら
れている。光源1には可視光の領域で比較的均一なスペ
クトルを持つメタルハライドランプまたはハロゲンラン
プなどが用いられている。リフレクタなどで集光された
光源1の光に液晶パネルなどの光変調素子3を用いて画
像信号に応じた光変調を行って画像を形成している。形
成された画像は投射レンズ8でスクリーン9上に拡大投
射されて表示される。
【0003】投射型表示装置は、投射レンズにより画像
を拡大投射するので他の表示装置と比較して大面積表示
が可能であるが、反面、解像度が低いという問題を有し
ている。投射画像の解像度は光変調素子の画素数とスク
リーンの大きさによって決まる。スクリーン上に高解像
度で表示させるには、光変調素子の画素数を増やす必要
があるが、画素を高密度化すると製造歩留りが低下して
コスト高となる。例えば、SXGA(1280×102
4)の画素数の光変調素子は、VGA(640×48
0)の画素数の光変調素子に比較して10倍程度の価格
になってしまう。また、1画素当たりの開口率(1画素
に対する光を透過する有効面積の割合)は画素の高密度
化に伴い低下するので所望の明るさの画像を得ることが
困難になる。このように、画素の高密度化と画像の明る
さとは相反する条件であるので、単なる光変調素子の画
素の高密度化では高画質の画像を得ることができない。
【0004】この問題を解決するために、複数の光変調
素子を用いて投射する方法がある。複数の光変調素子を
用いる方法は、例えば表示装置にCRT(カソード・レ
イ・チューブ)を用いたマルチビジョンのように複数の
表示ユニットを用いて複数の画像を縦横に並べて表示さ
せる。しかしながらこの方法では複数の表示ユニットを
用いているため、各表示ユニットの接続部において画面
を連続にすることができず境界が目立ってしまうという
問題がある。また、複数の表示ユニットを全く同一の表
示特性で作製するのは困難であるから、表示ユニットご
との明るさにむらができてしまい、表示ユニット間の継
ぎ目が目立ってしまうという問題も有している。
【0005】この問題を解決するために、複数の表示ユ
ニットを用いて1つの画像を重畳して表示する方法が知
られている。特開平3−166536号公報に記載され
た投射型表示装置は、原画像の表示データを任意にサン
プリングして分割する画像分配機能部と、複数の表示機
能部と、各表示画像を光学的に合成して原画像を合成表
示する画像合成機能部と、合成像を投射する投射機能部
とを備えている。図10にその基本構成を示す。図10
において、8は投射レンズ、11は複数の光源からなる
光供給部、12は複数の透過型液晶パネルからなる光変
調素子群、13は光変調素子群12によって表示される
画像を合成して投射レンズ8に入射させる光学デバイス
である。例えば4つの透過型液晶パネル12を用いて重
畳表示を行う場合には、各透過型液晶パネル12の各画
素の開口率を25%程度にして水平方向と垂直方向に半
画素ピッチずつずらして投射することにより、4倍の解
像度の画像が得られるようにしている。図11(a)〜
(d)に示すような4つの画像について、図11(b)
の画像は図11(a)の画像に対して水平方向に半画素
ピッチずらし、図11(c)の画像は図11(a)の画
像に対して垂直方向に半画素ピッチずらし、図11
(d)の画像は図11(a)の画像に対して水平方向と
垂直方向に半画素ピッチずらすようにして投射すれば、
図11(e)に示すような4倍の解像度を持つ画像が得
られる。このように重畳表示を行うことにより複数の表
示ユニットの表示特性の不均一性を目立たなくさせるこ
とができる。しかし、相互に半画素ピッチずつずらして
投射させるための光学系の調整が困難である点と、複数
の表示ユニットを使うので構成が複雑でコストが高くな
るという点で問題を有している。
【0006】他の高解像度化の手段として、1つの光変
調素子を用いて時分割表示を行う方法がある。時分割表
示は複数のフィールドを時系列で表示させて1フレーム
(1画面)を形成する方法である。例えば、特開平4−
113308号公報に記載された投射型表示装置は、光
変調素子からスクリーンに至る光路の途中に透過光の偏
光方向を旋回させる素子と、複屈折効果を有する透明素
子を用いて投射画像をシフトする手段と、スクリーン上
で離散的に投射される手段を備えている。図12に投射
表示装置の基本構成を示す。図12において、1は光
源、3は表示用液晶パネルからなる光変調素子、14は
偏光方向制御用液晶パネル、15は水晶板、8は投射レ
ンズである。複屈折効果を有する透明素子として水晶板
15が用いられている。この方法では、1フレーム分の
画像データを分割してフレームメモリに格納し、投射画
像をシフトさせる手段と同期させて画像を表示すること
により時分割表示を行っている。さらに、光変調素子の
画像を離散的にする手段を用い、離散化した画像を補間
するように画像を時系列でシフトさせて高解像度の表示
を行っている。
【0007】画像を離散的にする手段には、画素の一部
を遮光して実効的な開口率を低下させる手段と、1画素
に対応したマイクロレンズを用いて集光する手段とがあ
る。画素の一部を遮光する手段は、例えば、各画素に設
けられているスイッチング素子の配線などの配置を工夫
して光の透過領域を減少させることにより、画素の光透
過領域を離散的にしている。一方、1画素に対応したマ
イクロレンズを用いて集光する手段は、画素から出射し
た光を集光することにより、光量を減少させることなく
実質的に画像を離散化している。
【0008】投射画像をシフトさせる手段には複屈折効
果が利用されている。光学異方性を有する結晶を用い、
常光と異常光の屈折角の相違により画像をスクリーン上
でシフトさせるようにする。ここではTN(ねじれネマ
ティック)液晶を用い直線偏光の光を90度回転させて
複屈折効果を持つ透明素子に対する常光と異常光を切り
替えている。複屈折効果を持つ透明素子に対して垂直に
入射した常光は直進するが、異常光は入射面で所定角度
だけ屈折し、出射面で反対側に同じ角度だけ屈折する。
この効果により、異常光は常光に対して透明素子の厚み
に応じた距離だけシフトすることになる。そこで、画素
ピッチに応じた距離(画素ピッチの1/2)だけシフト
するように透明素子の厚みを設定すれば、離散的に形成
された画像を補間するシフト量を得ることができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記の時分割表示で
は、少なくとも離散的に投射する手段と画像をシフトさ
せる手段としての偏光方向旋回素子及び複屈折効果を有
する透明素子が必要である。偏光方向旋回素子及び複屈
折効果を有する透明素子を1組使用することにより、水
平方向又は垂直方向に2つのフィールドに分割した表示
を行えるが、水平方向又は垂直方向にさらに多くのフィ
ールドに分割して表示させる場合や、水平方向、垂直方
向共に2つのフィールドに分割した表示を行う場合、或
いは水平、垂直方向共にさらに多くのフィールドに分割
して表示させる場合には、偏光方向旋回素子及び複屈折
効果を有する透明素子が複数組必要になってしまい、こ
れら複数の素子構成が複雑になってしまうという問題点
を有している。
【0010】また、画像を離散的にする手段として画素
の一部を遮光する方法は、従来の液晶パネルに若干の変
更を加えるだけで容易に作製することが可能であるため
構成が複雑になることはないが、画素の一部を遮光して
光の透過領域を減少させるのであるから、画像が従来の
液晶パネルと比較して暗くなってしまう。
【0011】また、画像をシフトさせる手段として複屈
折効果を利用しているが、複屈折効果を利用するには光
変調素子からの出射光が直線偏光でなければならない。
自然光を直線偏光に変換するには偏光板が必要である
が、光は偏光板で約60%吸収されてしまい、40%程
度しか透過されない。さらに、偏光方向の旋回手段とし
て液晶素子を用いているので、当該液晶素子での光の透
過率が問題となる。偏光方向旋回手段の液晶素子は、透
明電極が形成された2枚のガラス基板で液晶を挟んで構
成されている。透明電極の光の透過率は1枚当たり90
%程度なので、2枚で80%程度の透過率となる。さら
に、液晶自体及び、ガラス基板、水晶板などの透過率も
考慮すると、偏光方向旋回手段での光の透過率はさらに
低くなり、約65%程度になってしまう。また、水平方
向と垂直方向ともに高解像度化を行う場合には、偏光方
向旋回手段と水晶板のセットが2組必要となるため、さ
らに光の透過率は低下して約40%程度になってしま
う。従って自然光を直線偏光に変換する偏光板及び偏光
方向旋回手段を透過する光の透過率は約15〜20%程
度となってしまい、高解像度化が可能になる反面、光の
利用効率が極端に低下して暗い画像しか得られない。
【0012】また、光の旋回手段としてTN液晶を用い
ているが、その応答性が問題となる。TN液晶は電圧の
オン・オフにより分子の配向方向を切り替えており、そ
の応答性(切り替え時間)は数ミリ秒である。時分割表
示を行う場合に1フレーム(1/60〜1/30秒)を
複数フィールドで分割すると、1フィールド当たり数〜
十数ミリ秒となるので、TN液晶を用いた場合は偏光方
向の切り替え時間が1フィールド内の数十%を占めるこ
とになってしまう。結果として画像のコントラストが低
下してしまうという問題が生じる。
【0013】本発明は、上述の従来の技術が有する問題
を解決するためになされたものであって、その目的は、
画素数の少ない光変調素子を用いても光の透過率やコン
トラストを低下させずに簡単な構成で時分割表示を行
い、高解像度で画像を表示できる投射型表示装置を提供
することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的は、複数の画素
を有する光変調素子で表示される画像を投射手段により
スクリーン上に拡大投射する投射型表示装置において、
光変調素子から投射手段に至る光路上に位置し、スクリ
ーン上の画像が複数画素毎に分離されるように、光変調
素子の複数の画素のうち隣接する所定数の画素からの出
射光をそれぞれの口径内に含む複数の集光光学素子を隣
接配置した集光手段と、集光光学素子の光軸にほぼ平行
に入射した光の集光手段からの出射光を透過させる複数
の光透過領域と当該出射光以外の光を遮光する遮光領域
とを有する遮光手段と、集光手段によりスクリーン上で
分離された画像を補間するように、スクリーン上の画像
投射領域を変更して光変調素子で表示される画像を投射
させる投射領域変更手段とを備え、複数のフィールドで
1フレームを構成する時分割表示を行うことを特徴とす
る投射型表示装置によって達成される。
【0015】また上記目的は、集光手段が、光変調素子
の複数の画素のうち隣接する(i×j)画素からの出射
光をそれぞれの口径内に含む複数の凸レンズを有するマ
イクロレンズアレイであることを特徴とし、遮光手段
が、集光手段の焦点面近傍に位置し、遮光手段の光透過
領域が、光変調素子の画素ピッチにほぼ等しい間隔で2
次元状に配置されていることを特徴とする投射型表示装
置によって達成される。
【0016】また上記目的は、集光手段が、光変調素子
の複数の画素のうち隣接するiラインの画素からの出射
光をそれぞれの口径内に含む複数の断面半円形状マイク
ロレンズを有するレンチキュラーレンズアレイであり、
遮光手段が、集光手段の焦点面近傍に位置し、遮光手段
の光透過領域が、光変調素子の画素ピッチにほぼ等しい
間隔でストライプ状に配置されていることを特徴とする
投射型表示装置によって達成される。
【0017】また、光変調素子は、透過散乱モードを有
する液晶高分子複合体であることを特徴としている。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の第1の実施の形態による
投射型表示装置を図1乃至図6を用いて説明する。本実
施の形態における投射型表示装置は、表示用液晶ライト
バルブなどの光変調素子の画素数を増やすことなく投射
表示画像を高精細化させるために、スクリーン上で複数
画素ごとに画像を分離する光変調素子の隣接する複数画
素からの出射光をそれぞれの口径内に含む複数の集光光
学素子を隣接配置した集光手段と、集光光学素子の光軸
にほぼ平行に入射した光の集光手段からの出射光を透過
させる複数の光透過領域と当該出射光以外の光を遮光す
る遮光領域とを有する遮光手段と、集光手段によりスク
リーン上で分離された画像を補間するように光変調素子
による表示画像を投射する投射領域変更手段とにより、
光変調素子からの出射光を離散的に縮小し、離散的にさ
れた間隙部を補間することにより時分割表示を行うこと
を基本としている。本実施の形態による投射型表示装置
では、光源、集光光学部品、2次元状に配列された多数
の画素で構成されている表示用液晶ライトバルブなどの
光変調素子、投射レンズなどの従来の投射型表示装置に
用いられている構成部品に加え、光変調素子から投射手
段に至る光路上に、光変調素子からの出射光を複数画素
ごとに集光し離散的に縮小する集光手段を有し、離散的
に縮小された間隙部を光変調素子に供給するフィールド
信号に同期させて集光手段若しくは投射手段を入射光軸
に直交する面で移動させることにより間隙部画像の補間
をして表示画像の多画素化/高精細化を図っている。さ
らに集光手段から投射手段に至る光路上に、集光光学素
子の光軸に平行に入射した光の集光手段からの出射光を
透過させる複数の光透過領域を有する遮光手段を設けた
ので、光変調素子からの散乱光を遮光することができ
る。
【0019】本実施の形態においては、光変調素子の隣
接する複数画素のそれぞれを4画素とし、当該4画素か
らの出射光を口径内に含む複数の集光光学素子が凸レン
ズである場合について説明する。
【0020】図1は本実施の形態における投射型表示装
置の基本構成図、図2は本実施の形態において用いられ
るマイクロレンズアレイの斜視図、図3は光変調素子と
凸レンズとの位置関係を示す平面図、図4及び図5は遮
光板の作用を説明するための図3A−A’線での断面図
である。図6は1画面を4つの画像に分割した場合の投
射レンズの物体面での入射光束の位置関係を示したもの
である。
【0021】図1において、1は光源、2は光源からの
光を平行光に変換するためのコリメート変換レンズ、3
は2次元状に配列された多数の画素で構成されている光
変調素子、4はマイクロレンズアレイ、5は圧電素子か
らなるアクチュエータ、6は光透過領域を有する遮光
板、8は投射レンズ、7は投射レンズ8の物体面、9は
スクリーンである。マイクロレンズアレイ4は、光変調
素子3から投射レンズ8に至る光路上に配置され、光変
調素子3の4画素に対応して1つの凸レンズが形成され
ている。アクチュエータ5は、マイクロレンズアレイ4
を垂直方向(紙面上下方向)に振動させるアクチュエー
タ5a1、5a2と水平方向(紙面法線方向)に振動さ
せるアクチュエータ5b1、5b2(図示せず)とから
構成されている。光変調素子3に供給するフィールド信
号に同期させてアクチュエータ5を駆動させることによ
り、マイクロレンズアレイ4に入射する光の光軸に直交
する水平/垂直方向にマイクロレンズアレイ4を移動又
は振動させることができるようになっている。遮光板6
は、マイクロレンズアレイ4から投射レンズ8に至る光
路上に配置され、光変調素子3を直進して透過し凸レン
ズにより集光された光を透過する光透過領域61と、光
変調素子3を散乱透過した光を遮光する遮光部62とを
有している。
【0022】本実施の形態で用いた光変調素子3は、p
oly‐SiTFT(多結晶シリコンをチャネル層に用
いた薄膜トランジスタ)を用いたアクティブ・マトリク
ス方式の液晶ライトバルブである。液晶ライトバルブの
液晶材料には偏光板を必要としない液晶高分子複合体
(Liquid Crystal Polymer C
omposite)を用いている。光変調素子3の画素
数はm×nであり、画素ピッチpは水平、垂直ともに一
般的な値である50μmである。
【0023】図2に示すマイクロレンズアレイ4は、例
えばイオン交換法を用いて形成される。まず、ナトリウ
ムイオン(Na+)等のアルカリイオンを含むガラス基
板に、イオン交換プロセスのマスク材としての金属薄膜
をスパッタリングにより堆積する。次に金属薄膜に光変
調素子3の画素ピッチpの2倍の間隔(100μmピッ
チ)でフォトリソグラフィーによりイオン交換用の窓を
開ける。これを別の種類の金属イオンを含む溶融塩に一
定時間浸しておく。このとき、ガラス基板中のアルカリ
イオンと溶融塩中の別の種類の金属イオンとが、相互拡
散により交換され、ガラス基板中に半球状の屈折率の異
なる領域が形成され、これをレンズ効果として利用す
る。上記過程により作製された凸レンズからなるマイク
ロレンズ41は、4つの画素から出射した光束をできる
だけ多く集光するように設計されている。最後に金属マ
スクの除去を行う。マイクロレンズアレイ4の大きさは
光変調素子3とほぼ同じ大きさで形成できるので、その
重量は数グラム程度にすることができる。
【0024】アクチュエータ5は高歪率圧電セラミック
材料からなる積層型の圧電素子を用いている。アクチュ
エータ5をマイクロレンズアレイ4の側面に接着し、光
変調素子3に供給するフィールド信号に同期させて電圧
を印加することにより、マイクロレンズアレイ4に入射
する光の光軸に直交する水平/垂直方向にマイクロレン
ズアレイ4を移動変化させることができる。
【0025】遮光板6は、例えばガラス基板に遮光部を
設けて形成する。まず、ガラス基板に遮光部となる金属
薄膜をスパッタリングにより堆積する。次に金属薄膜に
光変調素子3の画素ピッチp(50μmピッチ)でフォ
トリソグラフィーにより光透過領域61となる窓を開け
る。この方法によれば微小な径の窓を精度よく作製する
ことができる。
【0026】光変調素子3とマイクロレンズアレイ4と
の相対的位置関係は、例えば図3(a)の位置にあり、
光変調素子3の隣接する4つの画素に対応するようにマ
イクロレンズ41が設けられている。遮光板6は図3A
−A’線による断面図である図4に示されているよう
に、マイクロレンズアレイ4と投射レンズ8(図示せ
ず)の間に位置している。本実施の形態では、光変調素
子3に透過散乱モードを有する液晶高分子複合体を用い
ている。この表示素子は、光変調素子3がON状態の場
合(図4(a))には、セルに電圧が印加されているの
で、液晶が電界方向に向きセルに垂直に入射した光はそ
のまま透過する。光変調素子3を直進して透過した光
は、マイクロレンズ41により集光され、遮光板6の光
透過領域61を透過し投射レンズ8に導かれる。一方、
光変調素子3がOFF状態の場合(図4(b))には、
セルに電圧が印加されていないため液晶分子はランダム
な方向を向く。よって、屈折率が不運続になり光変調素
子3に入射した光は強く散乱させられる。そのため、一
部の光は散乱光となって透過し、一部の光は散乱光とな
って入射側に反射される。このとき光変調素子3を透過
した光はマイクロレンズアレイ4のマイクロレンズ41
によりさまざまな方向に屈折される。この散乱光が、投
射レンズの物体面7に達し投射レンズ8に入射してしま
うと、スクリーン上に表示されてコントラストの低下を
招いてしまう。本実施の形態では、光透過領域61を有
する遮光板6を設けているため、光変調素子3を直進し
て透過した光はマイクロレンズ41により集光され、遮
光板6の光透過領域61を透過し、散乱光は遮光部62
によって遮光されるため明るくコントラストの高い画像
の表示が可能となる。このとき、光透過領域61を小さ
くすればするほど散乱光を遮断しコントラストの高い画
像の表示が行えるが、遮光部62により透過光量が低下
するのは望ましくない。最適な光透過領域61の面積
は、レンズ部の開口数とマイクロレンズアレイ4基板の
厚みとから求めることができる。例えば、集光光学素子
をNA=0.11(集光角6.6°)のマイクロレンズ
41としたとき、焦点距離は0.432mmであるの
で、厚さ0.432mm以下のガラス基板でマイクロレ
ンズアレイ4を作製し、遮光板6をマイクロレンズ41
の焦点距離(0.432mm)の位置に配置し、遮光板
6の光透過領域61の径を10μm程度としてやれば、
明るくかつ非常にコントラストの高い画像の表示を行う
ことができる。遮光板6は、図3(a)の場合のみ光を
透過する光透過領域61を設けるのではなく、図3
(a)〜(d)すべての場合において光を透過させるた
め、光変調素子3の各画素の頂点に対して光透過領域6
1を設けるようにする。
【0027】本実施の形態におけるマイクロレンズアレ
イ4、アクチュエータ5、及び遮光板6により画像をシ
フトさせ高精細な画像を表示する動作を図3及び図5、
図6を用いて説明する。本実施の形態においては1画面
(フレーム)を4つの画像(フィールド)に分割して表
示する。なお、各マイクロレンズの実際の平面形状は図
2で示したように4つの画素全体を口径内に含む矩形状
であるが、図3及び図6の平面図においては各マイクロ
レンズの位置を明確にするため実線或いは破線の円形状
で各マイクロレンズを示している。
【0028】さて、第1のフレームの第1のフィールド
では、光変調素子3の画素とマイクロレンズ41との相
対位置は図3(a)に示すようになっている。例えばマ
イクロレンズ41の中心軸は光変調素子3の画素1、
2、5、6の交点の位置にあり、画素1、2、5、6か
らの出射光は1つのマイクロレンズ41により集光され
る。図5(a)に示すように、光変調素子3がON状態
のときの画素5及び9からの出射光101、102は、
マイクロレンズアレイ4により集光され、遮光板6の光
透過領域61を通過した出射光101’、102’とな
り投射レンズ8に入射する。このとき、マイクロレンズ
41の光軸と平行に入射した光は遮光板6の遮光部62
により遮光されることなく投射レンズ8に入射するので
光の損失はない。一方、光変調素子3で散乱した透過光
は、図4で示したように遮光板6の遮光部62で遮光さ
れるのでスクリーン上での画像のコントラストの低下を
防止させることができる。投射レンズ8の物体面7は光
変調素子3からの光がほぼ1/4に集光される位置に設
定する。投射レンズの物体面7での表示画像は図6
(a)に示すように水平/垂直方それぞれ間引かれた状
態、即ち離散的に縮小された状態となる。
【0029】次に第2のフィールドでは、フィールド信
号に同期して垂直方向に振動するアクチュエータ5a
1、5a2により、マイクロレンズアレイ4に入射する
光の光軸に直交する面内で垂直方向にマイクロレンズア
レイ4を移動させる。マイクロレンズ41の中心軸は光
変調素子3の画素5、6、9、10の交点の位置、即ち
図3(b)の位置に移動する。ここで図3(a)の位置
から図3(b)の位置までのマイクロレンズアレイ4の
移動量は光変調素子3の画素ピッチpと同じ50μmで
ある。このとき、図5(b)に示すように光変調素子3
の画素5及び9からの、光変調素子3がON状態のとき
の出射光101、102は、マイクロレンズアレイ4に
より集光され、遮光板6の光透過領域61を透過して出
射光101”、102”となり投射レンズ8に入射す
る。このとき、第1のフィールドと同様にマイクロレン
ズ41の光軸と平行に入射した光は遮光板6の遮光部6
2により遮光されることなく投射レンズ8に入射するの
で光の損失はない。また光変調素子3がOFF状態の場
合は、第1のフィールドと同様に遮光板6の遮光部62
により遮断され、コントラストを低下させる散乱光が投
射レンズ8に入射することはない。投射レンズ8の物体
面7では図6(b)の位置に集光されており、マイクロ
レンズアレイ4により第1のフィールドで離散的に縮小
された垂直方向の間隙部が第2のフィールドで補間され
たことになる。
【0030】次に第3のフィールドでは、フィールド信
号に同期して水平方向に振動するアクチュエータ5b
1、5b2によりマイクロレンズアレイ4に入射する光
の光軸に直交する面内で水平方向にマイクロレンズアレ
イ4を移動させる。マイクロレンズ41の中心軸は光変
調素子3の画素6、7、10、11の交点の位置、即ち
図3(c)の位置に移動する。ここで図3(b)の位置
から図3(c)の位置までのマイクロレンズアレイ4の
移動量は光変調素子3の画素ピッチpと同じ50μmで
ある。この結果、光変調素子3からの出射光は、投射レ
ンズの物体面7で図6(c)の位置に集光されており、
マイクロレンズアレイ4により第2のフィールドで離散
的に縮小された水平方向の間隙部を第3のフィールドで
補間したことになる。
【0031】次に第4のフィールドでは、フィールド信
号に同期して垂直方向に振動するアクチュエータ5a
1、5a2によりマイクロレンズアレイ4に入射する光
の光軸に直交する面内で垂直方向にマイクロレンズアレ
イ4を移動させる。マイクロレンズ41の中心軸は光変
調素子3の画素2、3、6、7の交点の位置、即ち図3
(d)の位置に移動する。ここで図3(c)の位置から
図3(d)の位置までのマイクロレンズアレイ4の移動
量は光変調素子3の画素ピッチpと同じ50μmであ
る。この結果、光変調素子3からの出射光は、投射レン
ズ8の物体面7で図6(d)の位置に集光されており、
マイクロレンズアレイ4により第3のフイールドで離散
的に縮小された垂直方向の間隙部、即ち第1のフィール
ドで離散的に縮小された水平方向の間隙部を第4のフィ
ールドで補間したことになる。
【0032】以上の第1、第2、第3及び第4のフィー
ルドによって、1フレーム全ての画像情報が図6(e)
に示すように投射レンズ8の物体面7即ちスクリーン9
で形成され、精細度の低い光変調素子3を用いて精細度
の高い表示が実現できる。
【0033】次に第2のフレームの第1のフィールドで
は、フィールド信号に同期して水平方向に振動するアク
チュエータ5b1、5b2によりマイクロレンズアレイ
4に入射する光の光軸に直交する面内で水平方向にマイ
クロレンズアレイ4を移動させる。マイクロレンズ41
の中心軸は光変調素子3の画素1、2、5、6の交点の
位置即ち図3(a)の位置に移動する。ここで図3
(d)の位置から図3(a)の位置までのマイクロレン
ズアレイ4の移動量は光変調素子3の画素ピッチpと同
じ50μmである。この結果、光変調素子3からの出射
光は、投射レンズ8の物体面7で図6(a)の位置に集
光され、第1のフレームの第1のフィールドと同じ位置
に戻る。以下第1のフレームと同様に離散的に縮小され
た水平/垂直方向の間隙部を補間することにより、(m
×n)画素を持つ光変調素子3を用いて4×(m×n)
画素を持った高精細度の表示が実現される。
【0034】ここでは隣接する4つの画素を時分割で表
示することになるが、通常のテレビジョン画像の1フレ
ーム期間(1/30msec)程度の短時間内に4つの
フィールド画像を表示すれば人間の目の残像効果により
1枚の高精細な画像として見ることができる。
【0035】従来の投射型表示装置では光変調素子3の
画素数で決まる解像度でしかスクリーン9上に表示する
ことができなかったが、本実施の形態によれば水平/垂
直解像度を光変調素子3の画素数で決まる解像度のそれ
ぞれ2倍の解像度で表示することが可能となる。画像を
離散的にする手段としてマイクロレンズアレイ4を用い
ているため、光変調素子3からの出射光を遮光させる手
段のように光の利用効率を落とすことはない。また、間
隙部の補間をアクチュエータ5による機械的な振動によ
り行わせているので、偏光板や画像をシフトさせるため
の偏光方向を旋回させる液晶パネル等の光吸収を伴う光
学系が光変調素子3から投射レンズ8に至る光路上に存
在しないため、光の利用効率を低下させずに明るく高精
細な画像を表示できるようになる。また、光変調素子3
により散乱されて透過した光は、遮光板6の遮光部62
により遮光されるため、明るくコントラストの優れた高
精細な画像を表示することができる。
【0036】本実施の形態において、マイクロレンズ4
1により焦点を結んだ後で光変調素子からの出射光が1
/4に集光されている位置を投射レンズの物体面7の位
置としたが、焦点を結ぶ前の光変調素子からの出射光が
1/4に集光されている位置であってもかまわない。こ
のとき、投射レンズの物体面7での各フィールドでの画
像形成位置は異なるので、スクリーン上での画像形成位
置も異なってくる点に相違がある。
【0037】また、本実施の形態において、光変調素子
3の4画素(2×2画素)に対応した複数のマイクロレ
ンズからなるマイクロレンズアレイ4を用いて4つのフ
ィールドで1フレームを形成するような構成としたが、
9画素(3×3画素)や16画素(4×4画素)、或い
は6画素(2×3画素)や12画素(3×4画素)など
(i×j)画素に対応した複数のマイクロレンズからな
るマイクロレンズアレイ4を用いて(i×j)フィール
ドで1フレームを形成する構成としてもよい。このと
き、アクチュエータ5によるマイクロレンズアレイ4の
1つのフィールド信号に対する水平/垂直方向の移動量
Lh、Lvは、複数画素に対応するマイクロレンズの水
平方向に対応する画素数をi、垂直方向に対応する画素
数をjとし、水平方向の画素ピッチをph、垂直方向の
画素ピッチをpvとしたとき、画素ピッチph、pvの
整数倍で ph≦Lh≦(i−1)×ph pv≦Lv≦(j−1)×pv の範囲にある。
【0038】また、本実施の形態において、アクチュエ
ータ5は高歪率圧電セラミック材料からなる積層型の圧
電素子を用いたが、光変調素子3に供給するフィールド
信号の周波数に同期させてマイクロレンズアレイ4に入
射する光の光軸に直交する面内でマイクロレンズアレイ
4を光変調素子3の画素ピッチpの整数倍移動変化させ
ることができる手段であればよい。光変調素子3に供給
するフィールド信号の周波数は数10Hz〜数100H
zであるから、アクチュエータ5には電磁アクチュエー
タ、リニアアクチュエータ、ステッピングモータなどを
用いることもできる。
【0039】また、マイクロレンズアレイ4を振動させ
る代わりに投射レンズ8を移動変化させても同様の効果
を得ることができる。この場合は1つの画面(フレー
ム)を複数の画像(フィールド)に分割した際の各画像
におけるスクリーン9上での画素位置が、集光手段を移
動変化させた場合と異なる。投射レンズ8のどのレンズ
を移動変化させても同一の効果が得られるが、最軽量の
レンズを移動変化させることが望ましく、一般的には後
玉のレンズを移動変化させることが好ましい。
【0040】本実施の形態では複数画素に対応したマイ
クロレンズアレイ4を移動変化させたが、光変調素子の
隣接する複数画素からの出射光をそれぞれの口径内に含
む複数の集光光学素子を隣接配置した集光手段と、集光
手段により離散的にされた投射画像を補間するように投
射領域を変更する手段があればよいので、例えば文献
(佐藤進;液晶を利用した焦点可変レンズ,光技術コン
タクト,Vol32,No.11,p.24〜p.2
8,1994)に開示されているような液晶レンズを利
用し、フィールド信号に同期させて選択的に電圧を印加
してレンズの形成位置を変化させるようにしてもよい。
【0041】また、本実施の形態において、光変調素子
3の液晶材料は透過散乱モードを有する液晶高分子複合
体を用いたが、それに限られず他の液晶材料、例えばT
N液晶を用いることも可能である。
【0042】次に、本発明の第2の実施の形態による投
射型表示装置を図7及び図8を用いて説明する。本実施
の形態では、光変調素子の隣接する複数画素からの出射
光をそれぞれの口径内に含む複数の集光光学素子を2画
素列に対応するレンチキュラーレンズとした点に特徴を
有しており、レンチキュラーレンズアレイ及び遮光板を
除く他の基本的構成は第1の実施の形態と同様である。
【0043】図7は本実施の形態における光変調素子
3、レンチキュラーレンズアレイ、遮光板6及び投射レ
ンズ8の物体面7の位置関係を示した斜視図である。図
8は1画面を2つの画像に分割したときの投射レンズの
物体面7での入射光束の位置関係を示している。図7に
おいて42は2画素列に対応するレンチキュラーレンズ
であり、43は複数のレンチキュラーレンズ42からな
るレンチキュラーレンズアレイである。図1と同一の構
成部材には同一番号を付している。
【0044】以下、本実施の形態において上記レンチキ
ュラーレンズアレイ43と、アクチュエータ5b1、5
b2により画像をシフトさせ高精細な画像を表示する動
作を図7及び図8を用いて説明する。本実施の形態にお
いては1画面(1フレーム)を2つの画像(2フィール
ド)に分割して表示する。
【0045】第1のフィールドでは光変調素子3とレン
チキュラーレンズアレイ43、及び遮光板6との相対位
置は図7(a)の位置にある。レンチキュラーレンズア
レイ43と遮光板6とは平行であり、遮光板6はレンチ
キュラーレンズの焦点の位置に配置されている。遮光板
6に設けられた光透過領域61は画素列ピッチでストラ
イプ状に設けられ、その幅は10μm程度である。光変
調素子3がON状態のときの光変調素子3の隣接する2
列からの出射光201、211及び202、212は中
心軸を異にする別のレンチキュラーレンズにより出射光
201’、211’及び202’、212’のように集
光され投射レンズ8に入射する。このとき、レンチキュ
ラーレンズ42の光軸と平行に入射した光は遮光板6の
遮光部62で遮光されることなく投射レンズ8に入射す
るので有効な光の損失はない。一方、光変調素子3がO
FF状態のときの散乱された透過光は、第1の実施の形
態で図4を用いて説明したのと同様に遮光板6の遮光部
62によって遮光されるため、コントラストの低下を防
止することができる。投射レンズ8の物体面7は、光変
調素子3からの光が水平方向に1/2に集光される位置
に設けられている。従って投射レンズの物体面7での表
示画像は図8(a)のように水平方向に間引かれた状
態、即ち離散的に縮小された状態となる。
【0046】次に第2のフィールドでは、フィールド信
号に同期して振動するアクチュエータ5b1、5b2に
よりレンチキュラーレンズアレイ43に入射する光の光
軸に直交する面内で水平方向にレンチキュラーレンズア
レイ43を移動させて図7(b)に示す位置に移動させ
る。ここで図7(a)の位置から図7(b)の位置まで
のレンチキュラーレンズアレイ43の移動量は光変調素
子3の画素ピッチpと同じ50μmである。光変調素子
3がON状態のときの光変調素子3の隣接する2列から
の出射光201、211及び202、212はそれぞれ
中心軸を同一にするレンチキュラーレンズ42により出
射光201”、211”及び202”、212”のよう
に集光され投射レンズ8に入射する。このとき、第1フ
ィールドと同様に、レンチキュラーレンズ42の光軸に
平行に入射した光は遮光部62で遮光されずに遮光板6
を透過するので有効な光の損失はない。また、光変調素
子3がOFF状態のときは、第1のフィールドと同様に
コントラストを低下させる散乱光が遮光板6の遮光部6
2により遮断され、投射レンズ8に入射することはな
い。投射レンズの物体面7では図8(b)の位置に集光
されており、レンチキュラーレンズアレイ43により離
散的に縮小された水平方向の間隙部を第2のフィールド
で補間したことになる。
【0047】上記第1及び第2のフィールドにより、1
フレーム全ての画像情報が、図8(c)に示すように投
射レンズの物体面7即ちスクリーン9上で形成され、精
細度の低い光変調素子3を用いて精細度の高い表示が実
現できる。
【0048】次に第2のフレームの第1のフィールドで
は、フィールド信号に同期して振動するアクチュエータ
5b1、5b2によりレンチキュラーレンズアレイ43
に入射する光の光軸に直交する面内で水平方向にレンチ
キュラーレンズアレイ43を移動させて図7(a)の位
置に移動させる。ここで図7(b)の位置から図7
(a)の位置までのレンチキュラーレンズアレイ43の
移動量は光変調素子3の画素ピッチpと同じ50μmで
ある。この結果、光変調素子3からの出射光は、投射レ
ンズの物体面7で図8(a)の位置に集光され、第1の
フレームの第1のフィールドと同じ位置に戻る。以下、
第1のフレームと同様に離散的に縮小された水平方向の
間隙部を補間し、精細度の高い表示を実現する。
【0049】従来の投射表示装置では光変調素子3の画
素数で決まる解像度でしかスクリーン9上に表示するこ
とができなかったが、本実施の形態の投射型表示装置に
よると水平解像度を光変調素子3の画素数で決まる解像
度の2倍の解像度で表示することができるようになる。
画像を離散的にする手段としてレンチキュラーレンズア
レイ43を用いているので、光変調素子3からの出射光
を遮光させる手段のように光の利用効率を低下させるこ
とはなく、また、間隙部の補間をアクチュエータ5によ
る機械的な振動で行うようにしているので、偏光板や画
像をシフトするための液晶パネル等の光吸収を伴う光学
系を光変調素子3から投射レンズ8に至る光路上に配置
しなくて済み、光の利用効率を低下させずに明るく高精
細な画像を表示することが可能となる。また、光変調素
子3により散乱されて透過した光は、光学素子の投射レ
ンズ側に設けた各集光光学素子に対応する光透過領域を
有する遮光板6の遮光部62により遮光されるので、明
るくコントラストの高い高精細な画像を表示することが
できるようになる。
【0050】本実施の形態において、レンチキュラーレ
ンズ42により焦点を結んだ後で光変調素子からの出射
光が1/2に集光されている位置を投射レンズの物体面
7の位置としたが、焦点を結ぶ前の光変調素子からの出
射光が1/2に集光されている位置であってもかまわな
い。このとき、投射レンズの物体面7での各フィールド
での画像形成位置は異なるので、スクリーン上での画像
形成位置も異なってくる。
【0051】また、本実施の形態では、光変調素子3の
2画素列に対応した複数のレンチキュラーレンズ42か
らなるレンチキュラーレンズアレイ43を用いて2つの
フィールドで1フレームを形成するような構成とした
が、3画素列や4画素列などi画素列に対応した複数の
レンチキュラーレンズ42からなるレンチキュラーレン
ズアレイ43を用いてiフィールドで1フレームを形成
する構成としてもよい。このとき、アクチュエータ5に
よるレンチキュラーレンズアレイ43の1つのフィール
ド信号に対する水平方向の移動量Lhは、水平方向の画
素ピッチをphとしたとき、画素ピッチphの整数倍で ph≦Lh≦(i−1)×ph の範囲にある。
【0052】また、本実施の形態において、アクチュエ
ータ5は高歪率圧電セラミック材料からなる積層型の圧
電素子を用いたが、光変調素子3に供給するフィールド
信号の周波数に同期させてレンチキュラーレンズアレイ
43に入射する光の光軸に直交する面内でレンチキュラ
ーレンズアレイ43を光変調素子3の画素ピッチpの整
数倍移動変化させることができる手段であればよい。従
って、光変調素子3に供給するフィールド信号の周波数
が数10Hz〜数100Hzであるから、アクチュエー
タ5には電磁アクチュエータ、リニアアクチュエータ、
ステッピングモータなどを用いることができる。
【0053】本実施の形態においても、レンチキュラー
レンズアレイ43の移動の代わりに投射レンズ8を移動
させても同一の効果が得られるが、1つの画面(フレー
ム)を複数の画像(フィールド)に分割したときの各画
像におけるスクリーン上での画素位置が、集光手段若し
くは光変調素子3を移動変化させた場合と異なる。この
とき投射レンズ8を構成するレンズ群の何れを移動変化
させてもよいが、最軽量のレンズを移動変化させるのが
望ましいので、一般的には後玉のレンズを移動変化させ
るようにする。
【0054】また、本実施の形態において、レンチキュ
ラーレンズアレイ43を水平方向に振動させ高精細な画
像を得るようにしたが、レンチキュラーレンズ42の形
状を変えて垂直方向に高精細な画像を得るようにしても
かまわない。さらに、このレンチキュラーレンズアレイ
43と振動手段を2組用いて水平及び垂直方向に解像度
を高めることも可能である。このとき、遮光板6は、第
1のレンチキュラーレンズアレイの出力側に設ける第1
の遮光板と、第2のレンチキュラーレンズアレイの出力
側に設ける第2の遮光板として、レンチキュラーレンズ
アレイと遮光板との組を2組設けてもかまわない。ま
た、投射レンズ8側の第2のレンチキュラーレンズアレ
イの出力側だけに遮光板を設けたり、第2のレンチキュ
ラーレンズアレイの入射面に遮光部を設けたりすること
も可能である。この場合、2つの遮光板を設けるよりも
部品点数を少なくできるだけでなく、第1のレンチキュ
ラーレンズアレイから出力される散乱光をより多く遮光
することができるようになる。
【0055】集光手段として第1の実施の形態で使用し
たマイクロレンズアレイに対し、本実施の形態で使用し
たレンチキュラーレンズアレイでは、画素の形状を有効
に使うという点で有利であり、光の利用効率を落とすこ
となく明るく且つコントラストの高い高精細な画像を表
示することが可能である。
【0056】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、光変調素
子の画素数を増やすことなく投射表示画像の高精細化が
可能である。また、本発明においては、画像を離散的に
する手段としてマイクロレンズアレイやレンチキュラー
レンズアレイ等の集光手段を用いているため、光変調素
子からの出射光を遮光させる手段のように光の利用効率
を低下させることはなく、また、アクチュエータによる
機械的な振動で間隙部の補間をしているので、光変調素
子から投射手段に至る光路上に、偏光板や画像をシフト
するための偏光方向を旋回させる液晶パネル等の光吸収
を伴う光学系を配置する必要はなく、光の利用効率を低
下させずに明るく高精細な画像を表示することが可能と
なる。さらに、光変調素子により散乱されて透過した光
は、遮光板の遮光部により遮光されるので、明るく且つ
コントラストの優れた高精細な画像を表示することがで
きる。
【0057】また振動手段である圧電素子等のアクチュ
エータは、数μm〜数10μmの振動振幅、及び数10
Hz〜数100Hzの低い振動周波数で動作するので、
集光手段の移動の切り替え時間を1ミリ秒以下にするこ
とができる。このように十分な応答性を有しているので
画像のコントラストの低下は生じない。
【0058】さらに本発明で使用する光学部品は、ガラ
ス基板上に作成されたマイクロレンズアレイ或いはレン
チキュラーレンズアレイ、遮光板、及び圧電素子等のア
クチュエータといった簡単な構造で且つ光変調素子と同
等の大きさ(数cm程度)であるから、本発明の投射型
表示装置を従来の表示装置とほぼ同じ大きさにすること
ができる。さらに、より高精細な画像表示を行わせるた
めに画面の分割数を増やした場合でも、水晶板とTN液
晶パネルを用いた従来の表示装置のように画面分割数に
応じて部品点数が増えるようなことはなく、装置の大き
さは従来の装置とほぼ同じにすることができる。また本
発明で新たに使用する光学部品は高精度で且つ安価に製
造できるので、装置のコストも従来と殆ど変わることが
ない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態による投射型表示装
置の基本構成図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態による投射型表示装
置のマイクロレンズアレイの斜視図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態による投射型表示装
置の光変調素子と凸レンズとの位置関係を示す平面図で
ある。
【図4】本発明の第1の実施の形態による投射型表示装
置の光変調素子から投射レンズの物体面までの光軸に平
行な面の図3A−A’断面での断面図である。
【図5】本発明の第1の実施の形態による投射型表示装
置の光変調素子から投射レンズの物体面までの光軸に平
行な面の図3A−A’断面での断面図である。
【図6】本発明の第1の実施の形態による投射型表示装
置の1画面を4つの画像に分割したときの投射レンズの
物体面での入射光束の位置関係を示す平面図である。
【図7】本発明の第2の実施の形態による投射型表示装
置の光変調素子とレンチキュラーレンズアレイと投射レ
ンズの物体面との位置関係を示した斜視図である。
【図8】本発明の第2の実施の形態による投射型表示装
置の1画面を2つの画像に分割したときの投射レンズの
物体面での入射光束の位置関係を示す平面図である。
【図9】従来の投射型表示装置の構成を示す説明図であ
る。
【図10】従来の投射型表示装置の構成を示す説明図で
ある。
【図11】従来の投射型表示装置により投射された画像
の構成を示す説明図である。
【図12】従来の投射型表示装置の構成を示す説明図で
ある。
【符号の説明】
1 光源 2 コリメート変換レンズ 3 光変調素子 4 マイクロレンズアレイ 5 アクチュエータ 6 遮光板 7 投射レンズ8の物体面 8 投射レンズ 9 スクリーン 41 マイクロレンズ 42 レンチキュラーレンズ 43 レンチキュラーレンズアレイ 61 光透過領域 62 遮光部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04N 5/74 H04N 5/74 A (72)発明者 藤曲 啓志 神奈川県足柄上郡中井町境430 グリーン テクなかい 富士ゼロックス株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の画素を有する光変調素子で表示され
    る画像を投射手段によりスクリーン上に拡大投射する投
    射型表示装置において、 前記光変調素子から前記投射手段に至る光路上に位置
    し、前記スクリーン上の画像が複数画素毎に分離される
    ように、前記光変調素子の複数の画素のうち隣接する所
    定数の画素からの出射光をそれぞれの口径内に含む複数
    の集光光学素子を隣接配置した集光手段と、 前記集光光学素子の光軸にほぼ平行に入射した光の前記
    集光手段からの出射光を透過させる複数の光透過領域と
    当該出射光以外の光を遮光する遮光領域とを有する遮光
    手段と、 前記集光手段により前記スクリーン上で分離された画像
    を補間するように、前記スクリーン上の画像投射領域を
    変更して前記光変調素子で表示される画像を投射させる
    投射領域変更手段とを備え、 複数のフィールドで1フレームを構成する時分割表示を
    行うことを特徴とする投射型表示装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の投射型表示装置において、 前記集光手段は、前記光変調素子の複数の画素のうち隣
    接する(i×j)画素からの出射光をそれぞれの口径内
    に含む複数の凸レンズを有するマイクロレンズアレイで
    あることを特徴とする投射型表示装置。
  3. 【請求項3】請求項2記載の投射型表示装置において、 前記遮光手段は、前記集光手段の焦点面近傍に位置し、
    前記光透過領域は、前記光変調素子の画素ピッチにほぼ
    等しい間隔で2次元状に配置されていることを特徴とす
    る投射型表示装置。
  4. 【請求項4】請求項1記載の投射型表示装置において、 前記集光手段は、前記光変調素子の複数の画素のうち隣
    接するiラインの画素からの出射光をそれぞれの口径内
    に含む複数の断面半円形状マイクロレンズを有するレン
    チキュラーレンズアレイであることを特徴とする投射型
    表示装置。
  5. 【請求項5】請求項4記載の投射型表示装置において、 前記遮光手段は、前記集光手段の焦点面近傍に位置し、
    前記光透過領域は、前記光変調素子の画素ピッチにほぼ
    等しい間隔でストライプ状に配置されていることを特徴
    とする投射型表示装置。
  6. 【請求項6】請求項1乃至5のいずれかに記載の投射型
    表示装置において、 前記光変調素子は、透過散乱モードを有する液晶高分子
    複合体であることを特徴とする投射型表示装置。
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