JPH1055949A5 - - Google Patents

Description

【００１４】
さらに上記目的は、上記位置合わせ方法において、第２の「判定基準」と新たな実測値で得られたその他の誤差パラメータとに基づいて、現実に露光すべきショット位置を決定する第７のステップとを備えたことを特徴とする位置合わせ方法によって達成される。
また上記目的は、複数のパターン領域が形成されたＮ枚の基板の各々について、パターン領域の位置に関する設計値と複数の誤差パラメータとに基づいて、パターン領域の各々に対して現実に露光すべきショット位置を決定して位置合わせする位置合わせ方法において、１枚目からｍ（ｍ＜Ｎ）枚目までの各基板に対しては、所定のＭｍａｘ個のパターン領域の位置を計測して得られた第１の実測値に基づいて複数の誤差パラメータを推定し、現実に露光すべきショット位置を決定する第１のステップと、推定された複数の誤差パラメータのうち、１又は２以上の所定の誤差パラメータを選択し、ｍ枚の基板の各々から求められた選択された誤差パラメータの各値をそれぞれ平均化処理して、判定基準項目に格納する第２のステップと、ｍ＋１枚目以降の基板の各々に対しては、計測点数がＭｍｉｎ（＜Ｍｍａｘ）個のパターン領域の位置を計測して得られた第２の実測値に基づいて推定した複数の誤差パラメータのうち選択された誤差パラメータの値が判定基準項目に格納された各値に対して所定の範囲内にあれば、判定基準項目に格納されている誤差パラメータと当該実測値で得られたその他の誤差パラメータとに基づいて、現実に露光すべきショット位置を決定する第３のステップと、第２の実測値に基づいて推定した複数の誤差パラメータのうち選択された誤差パラメータの値が前記所定の範囲内になければ、選択された誤差パラメータの値が所定の範囲内に入るまで計測点数を追加して再計測を行う第４のステップとを備えたことを特徴とする位置合わせ方法によって達成される。

Claims (7)

1. 複数のパターン領域が形成されたＮ枚の基板の各々について、前記パターン領域の位置に関する設計値と複数の誤差パラメータとに基づいて、前記パターン領域の各々に対して現実に露光すべきショット位置を決定して位置合わせする位置合わせ方法において、
   １枚目からｍ（ｍ＜Ｎ）枚目までの前記各基板に対しては、Ｍｍａｘ個の前記パターン領域の位置を計測して得られた第１の実測値に基づいて前記複数の誤差パラメータの全てを推定し、現実に露光すべきショット位置を決定する第１のステップと、
   推定された前記複数の誤差パラメータのうち、１又は２以上の所定の誤差パラメータを選択し、前記ｍ枚の基板の各々から求められた前記選択された誤差パラメータの各値をそれぞれ平均化処理して、登録された第１の「判定基準」内の各判定基準項目に格納する第２のステップと、
   ｍ＋１枚目以降の前記基板の各々に対しては、計測点数がＭｍｉｎ（＜Ｍｍａｘ）個のパターン領域の位置を計測して得られた第２の実測値に基づいて推定した複数の誤差パラメータの全てのうち前記選択された誤差パラメータの値が前記第１の「判定基準」に対して所定の範囲内にあれば、前記第１の「判定基準」内の各判定基準項目に格納されている誤差パラメータと当該実測値で得られたその他の誤差パラメータとに基づいて、現実に露光すべきショット位置を決定する第３のステップと、
   前記第２の実測値に基づいて推定した複数の誤差パラメータのうち前記選択された誤差パラメータの値が前記所定の範囲内になければ、前記選択された誤差パラメータの値が前記所定の範囲内に入るまで計測点数を追加して再計測を行う第４のステップとを備えたことを特徴とする位置合わせ方法。
2. 請求項１記載の位置合わせ方法において、
   前記第４のステップ中に推定された前記選択された誤差パラメータの値が前記第１の「判定基準」とは異なる傾向を示し、且つ追加する計測点数を増加させても前記選択された誤差パラメータの値の変化が減少して所定の収束傾向を示したら、前記第１の「判定基準」の各判定基準項目に選択された誤差パラメータの値を更新した新たな第２の「判定基準」を創設し、追加登録する第５のステップと、
   前記第２の「判定基準」内の各判定基準項目に格納されている誤差パラメータと前記第５のステップ中で計測された前記第２の実測値及び前記追加した計測点数による実測値から得られたその他の誤差パラメータとに基づいて、現実に露光すべきショット位置を決定する第６のステップとを備えたことを特徴とする位置合わせ方法。
3. 請求項２記載の位置合わせ方法において、
   前記第２の「判定基準」と新たな実測値で得られたその他の誤差パラメータとに基づいて、現実に露光すべきショット位置を決定する第７のステップとを備えたことを特徴とする位置合わせ方法。
4. 請求項１乃至３のいずれかに記載の位置合わせ方法において、
   前記Ｍｍａｘの値は、４乃至１０であることを特徴とする位置合わせ方法。
5. 請求項１乃至４のいずれかに記載の位置合わせ方法において、
   前記Ｍｍｉｎの値は、３であることを特徴とする位置合わせ方法。
6. 請求項１乃至５のいずれかに記載の位置合わせ方法において、
   前記複数の誤差パラメータは、前記基板の倍率誤差Ｍ及び、前記基板のシフト量Ｓ、前記パターン領域の配列座標系の回転誤差Θ、前記パターン領域の配列の直交度ωであり、
   前記判定基準項目には、前記倍率誤差Ｍ及び直交度ωが選択されていることを特徴とする位置合わせ方法。
7. 複数のパターン領域が形成されたＮ枚の基板の各々について、前記パターン領域の位置に関する設計値と複数の誤差パラメータとに基づいて、前記パターン領域の各々に対して現実に露光すべきショット位置を決定して位置合わせする位置合わせ方法において、
   １枚目からｍ（ｍ＜Ｎ）枚目までの前記各基板に対しては、所定のＭｍａｘ個の前記パタ ーン領域の位置を計測して得られた第１の実測値に基づいて前記複数の誤差パラメータを推定し、現実に露光すべきショット位置を決定する第１のステップと、
   推定された前記複数の誤差パラメータのうち、１又は２以上の所定の誤差パラメータを選択し、前記ｍ枚の基板の各々から求められた前記選択された誤差パラメータの各値をそれぞれ平均化処理して、判定基準項目に格納する第２のステップと、
   ｍ＋１枚目以降の前記基板の各々に対しては、計測点数がＭｍｉｎ（＜Ｍｍａｘ）個のパターン領域の位置を計測して得られた第２の実測値に基づいて推定した複数の誤差パラメータのうち前記選択された誤差パラメータの値が前記判定基準項目に格納された各値に対して所定の範囲内にあれば、前記判定基準項目に格納されている誤差パラメータと当該実測値で得られたその他の誤差パラメータとに基づいて、現実に露光すべきショット位置を決定する第３のステップと、
   前記第２の実測値に基づいて推定した複数の誤差パラメータのうち前記選択された誤差パラメータの値が前記所定の範囲内になければ、前記選択された誤差パラメータの値が前記所定の範囲内に入るまで計測点数を追加して再計測を行う第４のステップとを備えたことを特徴とする位置合わせ方法。