JPH1057864A - 浸漬塗工法および浸漬塗工装置 - Google Patents
浸漬塗工法および浸漬塗工装置Info
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- JPH1057864A JPH1057864A JP23846196A JP23846196A JPH1057864A JP H1057864 A JPH1057864 A JP H1057864A JP 23846196 A JP23846196 A JP 23846196A JP 23846196 A JP23846196 A JP 23846196A JP H1057864 A JPH1057864 A JP H1057864A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 塗布開始端でのタレ(塗工上端部に生じる薄
膜部)の発生を防止して均一な膜厚の塗膜を被塗工基体
上に形成することができる浸漬塗工法および浸漬塗工装
置を提供する。 【解決手段】 被塗工基体を塗工液槽中の塗工液に浸漬
し、次いで被塗工基体を塗工液から引き上げることによ
り、被塗工基体上に塗膜を形成する浸漬塗工法におい
て、塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く設定
し、且つ被塗工基体を塗工液に浸漬し引き上げる過程の
少なくとも一部において、少なくとも塗工液面に向けて
送気する。塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く
設定するための塗工液温度調整手段13が設けられ、被
塗工基体保持具3が少なくとも塗工液面に向けて送気す
る送気機構3Aを有する浸漬塗工装置。
膜部)の発生を防止して均一な膜厚の塗膜を被塗工基体
上に形成することができる浸漬塗工法および浸漬塗工装
置を提供する。 【解決手段】 被塗工基体を塗工液槽中の塗工液に浸漬
し、次いで被塗工基体を塗工液から引き上げることによ
り、被塗工基体上に塗膜を形成する浸漬塗工法におい
て、塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く設定
し、且つ被塗工基体を塗工液に浸漬し引き上げる過程の
少なくとも一部において、少なくとも塗工液面に向けて
送気する。塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く
設定するための塗工液温度調整手段13が設けられ、被
塗工基体保持具3が少なくとも塗工液面に向けて送気す
る送気機構3Aを有する浸漬塗工装置。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、浸漬塗工法および
浸漬塗工装置に関し、特に電子写真感光体の製造に適し
た浸漬塗工法および浸漬塗工装置に関するものである。
浸漬塗工装置に関し、特に電子写真感光体の製造に適し
た浸漬塗工法および浸漬塗工装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】円筒状の基体外周面に電子写真感光体用
塗工液を塗布する代表的な方法としては浸漬塗工法が広
く実用化されている。しかし、浸漬塗工法により塗布さ
れた感光体塗膜には、塗布開始端(塗工上端部)が薄く
なるいわゆるタレが発生する。このような塗布開始端で
のタレをなくす方法として、いくつの方法が公開特許公
報などに開示されているが、塗工装置が複雑になる、塗
膜ムラが生じ易い、タレ対策効果が充分でない等の欠点
を有している。
塗工液を塗布する代表的な方法としては浸漬塗工法が広
く実用化されている。しかし、浸漬塗工法により塗布さ
れた感光体塗膜には、塗布開始端(塗工上端部)が薄く
なるいわゆるタレが発生する。このような塗布開始端で
のタレをなくす方法として、いくつの方法が公開特許公
報などに開示されているが、塗工装置が複雑になる、塗
膜ムラが生じ易い、タレ対策効果が充分でない等の欠点
を有している。
【0003】例えば、特開昭59−127049号公報
には、基体を感光体用塗工液から引き上げる際、その塗
工液から発生する溶媒蒸気を減少させる工程を有する浸
漬塗工法が開示されているが、この方法によると、溶媒
蒸気濃度を減少させる為の気体通路を塗工液槽上部に取
り付けねばならず、塗工装置が複雑となり、また、気流
の流れ方向は被塗工基体に対して横方向であり、従って
風上側と風下側で被塗工基体に対して気流の当たり方が
異なり、塗布ムラが生じ易いという欠点がある。 特開
昭59−225771号公報には、被塗工基体引き上げ
時に塗工液槽内部の塗工液面上に配置されたリング状エ
アードクターから気流を被塗工基体に当てる方法が開示
されているが、この方法では塗工液槽内部の気流の乱れ
と、塗膜へ直接当たる気流により塗膜ムラが発生すると
いう欠点がある。
には、基体を感光体用塗工液から引き上げる際、その塗
工液から発生する溶媒蒸気を減少させる工程を有する浸
漬塗工法が開示されているが、この方法によると、溶媒
蒸気濃度を減少させる為の気体通路を塗工液槽上部に取
り付けねばならず、塗工装置が複雑となり、また、気流
の流れ方向は被塗工基体に対して横方向であり、従って
風上側と風下側で被塗工基体に対して気流の当たり方が
異なり、塗布ムラが生じ易いという欠点がある。 特開
昭59−225771号公報には、被塗工基体引き上げ
時に塗工液槽内部の塗工液面上に配置されたリング状エ
アードクターから気流を被塗工基体に当てる方法が開示
されているが、この方法では塗工液槽内部の気流の乱れ
と、塗膜へ直接当たる気流により塗膜ムラが発生すると
いう欠点がある。
【0004】特開昭63−7873号公報には、塗工液
槽上部に設けた伸縮フードにより蒸気濃度を上から下へ
減少させる方法が開示されているが、この方法では装置
が複雑になり、品種交換等の手間も多くなるという欠点
がある。特開平1−107874号公報に開示されてい
る方法では、被塗工基体を塗工液から引き上げる際に、
塗工液槽の上方に水平方向の気流を発生させ、その気流
中を通して被塗工基体を引き上げているが、これも特開
昭59−127049号公報と同様の原因により塗布ム
ラが生じ易いという欠点がある。特開平3−21317
1号公報には、被塗工基体を引き上げる時に、塗工液槽
上部で被塗工基体の周方向に回転する気流を吹き付ける
方法が開示されているが、この方法では装置が複雑にな
り、また気流が当たることによる塗布ムラが生じ易いと
いう欠点がある。特開平4−29773号公報には、被
塗工基体を引き上げる際に被塗工基体の接線方向にノズ
ルから気流を吹き付ける方法が開示されているが、この
方法ではノズルからの気流の当たった部分の液が流れ塗
膜ムラが発生するという欠点がある。また、特開平4−
94763号公報や特開平4−219169公報にも、
被塗工基体の引き上げ時に被塗工基体に気流を吹き付け
る方法が開示されているが、塗工装置が複雑になり、ま
た塗膜ムラがが生じ易いという欠点がある。
槽上部に設けた伸縮フードにより蒸気濃度を上から下へ
減少させる方法が開示されているが、この方法では装置
が複雑になり、品種交換等の手間も多くなるという欠点
がある。特開平1−107874号公報に開示されてい
る方法では、被塗工基体を塗工液から引き上げる際に、
塗工液槽の上方に水平方向の気流を発生させ、その気流
中を通して被塗工基体を引き上げているが、これも特開
昭59−127049号公報と同様の原因により塗布ム
ラが生じ易いという欠点がある。特開平3−21317
1号公報には、被塗工基体を引き上げる時に、塗工液槽
上部で被塗工基体の周方向に回転する気流を吹き付ける
方法が開示されているが、この方法では装置が複雑にな
り、また気流が当たることによる塗布ムラが生じ易いと
いう欠点がある。特開平4−29773号公報には、被
塗工基体を引き上げる際に被塗工基体の接線方向にノズ
ルから気流を吹き付ける方法が開示されているが、この
方法ではノズルからの気流の当たった部分の液が流れ塗
膜ムラが発生するという欠点がある。また、特開平4−
94763号公報や特開平4−219169公報にも、
被塗工基体の引き上げ時に被塗工基体に気流を吹き付け
る方法が開示されているが、塗工装置が複雑になり、ま
た塗膜ムラがが生じ易いという欠点がある。
【0005】また、近年、環境問題への対応から、ハロ
ゲン系溶剤の使用規制または禁止が要請されているが、
現在、塗工液に使用しているハロゲン系溶剤を非ハロケ
ン系溶剤に変更すると、塗工液の沸点が上昇する等の理
由により、塗膜上端部に膜厚の薄い部分(タレ)が発生
するという問題がある。さらに、電子写真感光体を用い
た複写機、プリンターあるいはファクシミリなどにおい
ては、電子写真感光体の繰り返し使用に伴って感光体塗
膜が摩滅して薄くなり、それが感光体の寿命を定めるこ
となっている場合がある。この問題に対して、電子写真
感光体を高耐久化するために、感光体塗膜を構成する樹
脂成分を耐摩耗性に優れた高分子化合物に変更するこ
と、或いは電荷輸送剤を高分子化して耐摩耗性を持たせ
ることなどが試みられている。電子写真感光体の高耐久
化法としてこのような方法をとった場合、従来の塗工液
処方と同じ固形分濃度では塗工液粘度が上昇するため、
固形分濃度を下げて塗工しなければならないが、この場
合には、塗工時に塗膜上端付近でのタレが多くなるとい
う問題がある。
ゲン系溶剤の使用規制または禁止が要請されているが、
現在、塗工液に使用しているハロゲン系溶剤を非ハロケ
ン系溶剤に変更すると、塗工液の沸点が上昇する等の理
由により、塗膜上端部に膜厚の薄い部分(タレ)が発生
するという問題がある。さらに、電子写真感光体を用い
た複写機、プリンターあるいはファクシミリなどにおい
ては、電子写真感光体の繰り返し使用に伴って感光体塗
膜が摩滅して薄くなり、それが感光体の寿命を定めるこ
となっている場合がある。この問題に対して、電子写真
感光体を高耐久化するために、感光体塗膜を構成する樹
脂成分を耐摩耗性に優れた高分子化合物に変更するこ
と、或いは電荷輸送剤を高分子化して耐摩耗性を持たせ
ることなどが試みられている。電子写真感光体の高耐久
化法としてこのような方法をとった場合、従来の塗工液
処方と同じ固形分濃度では塗工液粘度が上昇するため、
固形分濃度を下げて塗工しなければならないが、この場
合には、塗工時に塗膜上端付近でのタレが多くなるとい
う問題がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の第一の
課題はこのような問題点を解決し、塗布開始端でのタレ
(塗工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止して均一な
膜厚の塗膜を被塗工基体上に形成することができる浸漬
塗工法および浸漬塗工装置を提供すること、特に電子写
真感光体の製造に適した上記浸漬塗工法および浸漬塗工
装置を提供することにある。また、本発明の第二の課題
は、塗工液の溶剤として非ハロゲン系溶剤を使用した場
合に発生するタレを抑制することができる浸漬塗工法お
よび浸漬塗工装置を提供することにある。また、本発明
の第三の課題は、耐摩耗性に優れた高分子化合物を含有
する電子写真感光体用塗工液、或いは電荷輸送剤として
高分子電荷輸送剤を含有する電子写真感光体用塗工液を
塗工する時に発生するタレを抑制することができる浸漬
塗工法および浸漬塗工装置を提供することにある。
課題はこのような問題点を解決し、塗布開始端でのタレ
(塗工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止して均一な
膜厚の塗膜を被塗工基体上に形成することができる浸漬
塗工法および浸漬塗工装置を提供すること、特に電子写
真感光体の製造に適した上記浸漬塗工法および浸漬塗工
装置を提供することにある。また、本発明の第二の課題
は、塗工液の溶剤として非ハロゲン系溶剤を使用した場
合に発生するタレを抑制することができる浸漬塗工法お
よび浸漬塗工装置を提供することにある。また、本発明
の第三の課題は、耐摩耗性に優れた高分子化合物を含有
する電子写真感光体用塗工液、或いは電荷輸送剤として
高分子電荷輸送剤を含有する電子写真感光体用塗工液を
塗工する時に発生するタレを抑制することができる浸漬
塗工法および浸漬塗工装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、被
塗工基体を塗工液槽中の塗工液に浸漬し、次いで被塗工
基体を塗工液から引き上げることにより、被塗工基体上
に塗膜を形成する浸漬塗工法において、塗工液の温度を
その塗工環境の温度より高く保持し、且つ被塗工基体を
塗工液に浸漬し引き上げる過程の少なくとも一部におい
て、少なくとも塗工液面に向けて送気することを特徴と
する浸漬塗工法によって達成される。
塗工基体を塗工液槽中の塗工液に浸漬し、次いで被塗工
基体を塗工液から引き上げることにより、被塗工基体上
に塗膜を形成する浸漬塗工法において、塗工液の温度を
その塗工環境の温度より高く保持し、且つ被塗工基体を
塗工液に浸漬し引き上げる過程の少なくとも一部におい
て、少なくとも塗工液面に向けて送気することを特徴と
する浸漬塗工法によって達成される。
【0008】本発明の浸漬塗工法によれば、塗布開始端
でのタレ(塗工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止
し、均一な膜厚の塗膜を被塗工基体上に形成することが
できる。 特に、塗工液の溶剤として非ハロゲン系溶剤
を使用した場合、あるいは塗工液として電子写真感光体
形成用塗工液を用いた場合に、塗布開始端でのタレ(塗
工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止し、均一な膜厚
の塗膜を被塗工基体上に形成することができる。これ
は、塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く保持
し、且つ被塗工基体を塗工液に浸漬し引き上げる過程の
少なくとも一部において、少なくとも塗工液面に向けて
送気することにより、塗工液表面近傍における塗工液の
溶媒蒸気濃度が制御されるとともに、塗工液表面の溶媒
の蒸発が促進され、塗工液表面の固形分濃度が上昇する
ことによって塗布開始端でのタレ(塗工上端部に生じる
薄膜部)の発生が防止されるからであると考えられる。
でのタレ(塗工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止
し、均一な膜厚の塗膜を被塗工基体上に形成することが
できる。 特に、塗工液の溶剤として非ハロゲン系溶剤
を使用した場合、あるいは塗工液として電子写真感光体
形成用塗工液を用いた場合に、塗布開始端でのタレ(塗
工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止し、均一な膜厚
の塗膜を被塗工基体上に形成することができる。これ
は、塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く保持
し、且つ被塗工基体を塗工液に浸漬し引き上げる過程の
少なくとも一部において、少なくとも塗工液面に向けて
送気することにより、塗工液表面近傍における塗工液の
溶媒蒸気濃度が制御されるとともに、塗工液表面の溶媒
の蒸発が促進され、塗工液表面の固形分濃度が上昇する
ことによって塗布開始端でのタレ(塗工上端部に生じる
薄膜部)の発生が防止されるからであると考えられる。
【0009】塗工液の温度は塗工環境の温度より高く、
かつ塗工液に使用している溶剤の沸点より低ければどの
温度でもよいが、塗工液の温度は塗工環境の温度より4
℃以上高いことが、特に好ましい。塗工液面に向けて送
気する送気のタイミングとしては、被塗工基体を塗工液
に浸漬し引き上げる過程のどこで行ってもよいが、被塗
工基体を塗工液に向けて下降させて被塗工基体を塗工液
に浸漬する過程で行うのが好ましい。また、送気は被塗
工基体を隆下させ塗工液に浸漬し、被塗工基体の隆下が
停止したときに行ってもよく、あるいは被塗工基体を塗
工液からの引き上げ過程で行ってもよい。
かつ塗工液に使用している溶剤の沸点より低ければどの
温度でもよいが、塗工液の温度は塗工環境の温度より4
℃以上高いことが、特に好ましい。塗工液面に向けて送
気する送気のタイミングとしては、被塗工基体を塗工液
に浸漬し引き上げる過程のどこで行ってもよいが、被塗
工基体を塗工液に向けて下降させて被塗工基体を塗工液
に浸漬する過程で行うのが好ましい。また、送気は被塗
工基体を隆下させ塗工液に浸漬し、被塗工基体の隆下が
停止したときに行ってもよく、あるいは被塗工基体を塗
工液からの引き上げ過程で行ってもよい。
【0010】また、塗工液の溶剤として用いられる非ハ
ロゲン系溶剤としては、トルエン等の芳香族炭化水素系
溶剤、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶剤、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤な
どを挙げることができる。電子写真感光体形成用塗工液
としては、高分子化合物と低分子電荷輸送剤及び溶剤か
らなる塗工液、高分子電荷輸送剤と溶剤からなる塗工
液、高分子化合物と高分子電荷輸送剤及び溶剤からなる
塗工液、または高分子化合物と低分子電荷輸送剤と高分
子電荷輸送剤及び溶剤からなる塗工液などを挙げること
ができる。
ロゲン系溶剤としては、トルエン等の芳香族炭化水素系
溶剤、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル系溶剤、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤な
どを挙げることができる。電子写真感光体形成用塗工液
としては、高分子化合物と低分子電荷輸送剤及び溶剤か
らなる塗工液、高分子電荷輸送剤と溶剤からなる塗工
液、高分子化合物と高分子電荷輸送剤及び溶剤からなる
塗工液、または高分子化合物と低分子電荷輸送剤と高分
子電荷輸送剤及び溶剤からなる塗工液などを挙げること
ができる。
【0011】電子写真感光体形成用塗工液に用いられる
高分子化合物としては、耐摩耗性に優れた高分子化合物
が好ましく、例えばビスフェノールAタイプのポリカー
ボネート、ビスフェノールZタイプのポリカーボネート
などが挙げられ、また溶媒としては塩化メチレン等のハ
ロゲン系溶剤、トルエン等の芳香族系溶剤、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等の環状エーテル系溶剤が挙げら
れる。本発明の浸漬塗工法によれば、特に、耐摩耗性に
優れた高分子化合物を含有する電子写真感光体用塗工
液、或いは電荷輸送剤として高分子電荷輸送剤を含有す
る電子写真感光体用塗工液を塗工する場合においても、
タレの発生を抑制し均一な膜厚の感光体塗膜を被塗工基
体上に形成することができる。
高分子化合物としては、耐摩耗性に優れた高分子化合物
が好ましく、例えばビスフェノールAタイプのポリカー
ボネート、ビスフェノールZタイプのポリカーボネート
などが挙げられ、また溶媒としては塩化メチレン等のハ
ロゲン系溶剤、トルエン等の芳香族系溶剤、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等の環状エーテル系溶剤が挙げら
れる。本発明の浸漬塗工法によれば、特に、耐摩耗性に
優れた高分子化合物を含有する電子写真感光体用塗工
液、或いは電荷輸送剤として高分子電荷輸送剤を含有す
る電子写真感光体用塗工液を塗工する場合においても、
タレの発生を抑制し均一な膜厚の感光体塗膜を被塗工基
体上に形成することができる。
【0012】また、本発明の前記課題は、塗工液を保持
する塗工液槽および被塗工基体を塗工液に浸漬し引き上
げるために被塗工基体を保持する被塗工基体保持具を有
する浸漬塗工装置において、塗工液の温度をその塗工環
境の温度より高く設定するための塗工液温度調整手段が
設けられ、被塗工基体保持具が少なくとも塗工液面に向
けて送気する送気機構を有することを特徴とする浸漬塗
工装置、あるいは、塗工液の温度をその塗工環境の温度
より高く設定するための塗工液温度調整手段が設けら
れ、塗工液槽近傍に少なくとも塗工液面に向けて送気す
る送気手段が設けられていることを特徴とする浸漬塗工
装置によって達成される。
する塗工液槽および被塗工基体を塗工液に浸漬し引き上
げるために被塗工基体を保持する被塗工基体保持具を有
する浸漬塗工装置において、塗工液の温度をその塗工環
境の温度より高く設定するための塗工液温度調整手段が
設けられ、被塗工基体保持具が少なくとも塗工液面に向
けて送気する送気機構を有することを特徴とする浸漬塗
工装置、あるいは、塗工液の温度をその塗工環境の温度
より高く設定するための塗工液温度調整手段が設けら
れ、塗工液槽近傍に少なくとも塗工液面に向けて送気す
る送気手段が設けられていることを特徴とする浸漬塗工
装置によって達成される。
【0013】図1は、本発明の浸漬塗工装置の一例を示
す概略断面図である。図1における浸漬塗工装置は、塗
工液8を保持する塗工液槽9および被塗工基体7を塗工
液8に浸漬し引き上げるために被塗工基体7を保持する
被塗工基体保持具3を有しており、塗工液8は撹拌モー
ター12が設けられた塗工液撹拌タンク10から塗工液
循環ポンプ11により塗工液槽9に送られ、塗工液8の
温度は、塗工液撹拌タンク10において塗工液温度調節
コントローラー14により制御される塗工液温度調節ユ
ニット(塗工液温度調整手段)13により塗工環境の温
度より高く設定されるようになっている。
す概略断面図である。図1における浸漬塗工装置は、塗
工液8を保持する塗工液槽9および被塗工基体7を塗工
液8に浸漬し引き上げるために被塗工基体7を保持する
被塗工基体保持具3を有しており、塗工液8は撹拌モー
ター12が設けられた塗工液撹拌タンク10から塗工液
循環ポンプ11により塗工液槽9に送られ、塗工液8の
温度は、塗工液撹拌タンク10において塗工液温度調節
コントローラー14により制御される塗工液温度調節ユ
ニット(塗工液温度調整手段)13により塗工環境の温
度より高く設定されるようになっている。
【0014】被塗工基体保持具3は、少なくとも塗工液
面に向けて送気するガス放出部(送気機構)3Aを有し
ており、ガス放出部(送気機構)3Aは送気管1Aによ
り送気ガス供給弁2を介して送気ガス源1に連結されて
いる。ガス放出部(送気機構)3Aを有する被塗工基体
保持具3は、例えば図2に示すように構成することがで
きる。図2において、ガス放出部3Aはガス放出孔3B
とそれを覆うカバー3Cとから構成され、ガスの流れが
下方に向かうようになっている。図2では、分かりやす
くするため、カバー3Cの一部を切り欠いた図を示して
いる。なお、ガス放出部3Aから放出されるガスの流れ
が下方に向かうようになっていれば良く、ガス放出孔3
Bが下方に向いていれば、カバー3Cは必ずしも必要で
はない。また、被塗工基体保持具3は、被塗工基体を保
持するために、被塗工基体の内部に有って半径方向に開
閉し被塗工基体内壁に当接する爪3Dを有している。
面に向けて送気するガス放出部(送気機構)3Aを有し
ており、ガス放出部(送気機構)3Aは送気管1Aによ
り送気ガス供給弁2を介して送気ガス源1に連結されて
いる。ガス放出部(送気機構)3Aを有する被塗工基体
保持具3は、例えば図2に示すように構成することがで
きる。図2において、ガス放出部3Aはガス放出孔3B
とそれを覆うカバー3Cとから構成され、ガスの流れが
下方に向かうようになっている。図2では、分かりやす
くするため、カバー3Cの一部を切り欠いた図を示して
いる。なお、ガス放出部3Aから放出されるガスの流れ
が下方に向かうようになっていれば良く、ガス放出孔3
Bが下方に向いていれば、カバー3Cは必ずしも必要で
はない。また、被塗工基体保持具3は、被塗工基体を保
持するために、被塗工基体の内部に有って半径方向に開
閉し被塗工基体内壁に当接する爪3Dを有している。
【0015】上記のような塗工液温度調整手段により、
塗工液8の温度を塗工環境の温度より高く設定したの
ち、昇降モーター5を運転することにより、ボールネジ
6に噛み合うナット4および連結部材4Aを介して、被
塗工基体保持具3に保持された被塗工基体7を下降させ
て塗工液槽9内の塗工液8に浸漬させる。この被塗工基
体7の下降動作中に送気ガス供給弁2を開き、ガス放出
孔部(送気機構)3Aから送気ガスを放出させる。これ
により、塗工液8表面近傍の塗工液の溶媒蒸気濃度を制
御することができるとともに、塗工液8表面の溶媒の蒸
発を促進し、その固形分濃度を上昇させることができ
る。
塗工液8の温度を塗工環境の温度より高く設定したの
ち、昇降モーター5を運転することにより、ボールネジ
6に噛み合うナット4および連結部材4Aを介して、被
塗工基体保持具3に保持された被塗工基体7を下降させ
て塗工液槽9内の塗工液8に浸漬させる。この被塗工基
体7の下降動作中に送気ガス供給弁2を開き、ガス放出
孔部(送気機構)3Aから送気ガスを放出させる。これ
により、塗工液8表面近傍の塗工液の溶媒蒸気濃度を制
御することができるとともに、塗工液8表面の溶媒の蒸
発を促進し、その固形分濃度を上昇させることができ
る。
【0016】次いで、昇降モーター5を逆回転で運転
し、被塗工基体7を上昇させることにより、塗布開始端
でのタレ(塗工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止し
た均一な膜厚の塗膜を被塗工基体上に形成することがで
きる。なお、ガス放出孔部(送気機構)3Aからの送気
ガスの放出は、被塗工基体7を上昇させる動作中に行う
ことも有効である。塗工後には、循環ホンプ11を動作
させて、撹拌タンク10中の塗工液を塗工槽9へ送液
し、塗工槽9からオーバーフローさせて撹拌タンク10
に循環させることにより、塗工液の温度調整、粘度調
整、塗工液の均一化、濾過などが行われる。
し、被塗工基体7を上昇させることにより、塗布開始端
でのタレ(塗工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止し
た均一な膜厚の塗膜を被塗工基体上に形成することがで
きる。なお、ガス放出孔部(送気機構)3Aからの送気
ガスの放出は、被塗工基体7を上昇させる動作中に行う
ことも有効である。塗工後には、循環ホンプ11を動作
させて、撹拌タンク10中の塗工液を塗工槽9へ送液
し、塗工槽9からオーバーフローさせて撹拌タンク10
に循環させることにより、塗工液の温度調整、粘度調
整、塗工液の均一化、濾過などが行われる。
【0017】図3は、本発明の浸漬塗工装置の他の例を
示す概略断面図である。図3における浸漬塗工装置は、
塗工液8を保持する塗工液槽9および被塗工基体7を塗
工液8に浸漬し引き上げるために被塗工基体7を保持す
る被塗工基体保持具3を有しており、少なくとも塗工液
面に向けて送気する送気手段3Eが塗工液槽9の近傍に
設けられていること以外は図1における浸漬塗工装置と
同じである。
示す概略断面図である。図3における浸漬塗工装置は、
塗工液8を保持する塗工液槽9および被塗工基体7を塗
工液8に浸漬し引き上げるために被塗工基体7を保持す
る被塗工基体保持具3を有しており、少なくとも塗工液
面に向けて送気する送気手段3Eが塗工液槽9の近傍に
設けられていること以外は図1における浸漬塗工装置と
同じである。
【0018】図3の浸漬塗工装置の作動は、図1の浸漬
塗工装置の作動とほぼ同様であり、被塗工基体7の下降
動作中に送気ガス供給弁2を開き、送気手段3Eから送
気ガスを放出させる。これにより、塗工液8表面近傍の
塗工液の溶媒蒸気濃度を制御することができるととも
に、塗工液8表面の溶媒の蒸発を促進し、その固形分濃
度を上昇させることができる。次いで、昇降モーター5
を逆回転で運転し、被塗工基体7を上昇させることによ
り、塗布開始端でのタレ(塗工上端部に生じる薄膜部)
の発生を防止した均一な膜厚の塗膜を被塗工基体上に形
成することができる。なお、送気手段3Eからの送気ガ
スの放出は、被塗工基体7を上昇させる動作中に行うこ
とも有効である。
塗工装置の作動とほぼ同様であり、被塗工基体7の下降
動作中に送気ガス供給弁2を開き、送気手段3Eから送
気ガスを放出させる。これにより、塗工液8表面近傍の
塗工液の溶媒蒸気濃度を制御することができるととも
に、塗工液8表面の溶媒の蒸発を促進し、その固形分濃
度を上昇させることができる。次いで、昇降モーター5
を逆回転で運転し、被塗工基体7を上昇させることによ
り、塗布開始端でのタレ(塗工上端部に生じる薄膜部)
の発生を防止した均一な膜厚の塗膜を被塗工基体上に形
成することができる。なお、送気手段3Eからの送気ガ
スの放出は、被塗工基体7を上昇させる動作中に行うこ
とも有効である。
【0019】図1及び図3の浸漬塗工装置においては、
撹伴タンク10の外側に加熱または冷却を行う温度調整
ユニット13がジャケットのように設置した例を示して
いるが、温度調整ユニット13の設置位置は塗工液の温
度を所定の温度に調節できるところであれば、どの位置
でも良く、例えば、撹拌タンク10の内部、あるいは、
塗工液槽9の外部あるいは内部のいずれでもよい。塗工
液の温度は目的の温度に対して±1℃に保たれることが
好ましく、特に±0.5℃に保たれることが好ましい。
撹伴タンク10の外側に加熱または冷却を行う温度調整
ユニット13がジャケットのように設置した例を示して
いるが、温度調整ユニット13の設置位置は塗工液の温
度を所定の温度に調節できるところであれば、どの位置
でも良く、例えば、撹拌タンク10の内部、あるいは、
塗工液槽9の外部あるいは内部のいずれでもよい。塗工
液の温度は目的の温度に対して±1℃に保たれることが
好ましく、特に±0.5℃に保たれることが好ましい。
【0020】被塗工基体を保持する方法としては、図2
のように被塗工基体の内部に有って半径方向に開閉し被
塗工基体内壁に当接する爪(3D)で保持する方法のほ
かに、例えば、基体の内径より短い外径を持ったゴム状
基体保持体を用い、ゴム状基体保持体内部を加圧して膨
張させ、基体内面に当接させることにより、基体を保持
する方法などを用いることができる。また、図1及び図
3は、一つの塗工液槽で1本の被塗工基体に塗膜の形成
を行う装置の例を示しているが、複数の塗工液槽を備え
て複数の被塗工基体に塗膜の形成を行う場合、あるいは
一つの塗工液槽を備えて複数の被塗工基体に塗膜の形成
を行う場合の装置も上記と同様にすればよい。
のように被塗工基体の内部に有って半径方向に開閉し被
塗工基体内壁に当接する爪(3D)で保持する方法のほ
かに、例えば、基体の内径より短い外径を持ったゴム状
基体保持体を用い、ゴム状基体保持体内部を加圧して膨
張させ、基体内面に当接させることにより、基体を保持
する方法などを用いることができる。また、図1及び図
3は、一つの塗工液槽で1本の被塗工基体に塗膜の形成
を行う装置の例を示しているが、複数の塗工液槽を備え
て複数の被塗工基体に塗膜の形成を行う場合、あるいは
一つの塗工液槽を備えて複数の被塗工基体に塗膜の形成
を行う場合の装置も上記と同様にすればよい。
【0021】
【実施例】以下に本発明を実施例により更に具体的に説
明する。
明する。
【0022】実施例1 外径30mm、長さ250mmのアルミニウム製円筒状
基体に、可溶性ナイロン(アラミンCM−8000、東
レ社製)の5wt%メタノール溶液を浸漬塗布し、10
0℃で10分間乾燥させて厚さ0.3μmの下引き層を
形成した。次いで、下記構造式(1)で表される電荷発
生剤10重量部、ポリビニルブチラール7重量部、テト
ラヒドロフラン145重量部をボールミルに入れ、72
時間ミリングし、これにシクロヘキサノン200重量部
を加えて1時間分散を行い、更にシクロヘキサノンで希
釈した電荷発生層塗布液を上記下引き層を有するアルミ
ニウム製円筒状基体上に浸漬塗布し、100℃で10分
間乾燥させて厚さ約0.1μmの電荷発生層を形成し
た。
基体に、可溶性ナイロン(アラミンCM−8000、東
レ社製)の5wt%メタノール溶液を浸漬塗布し、10
0℃で10分間乾燥させて厚さ0.3μmの下引き層を
形成した。次いで、下記構造式(1)で表される電荷発
生剤10重量部、ポリビニルブチラール7重量部、テト
ラヒドロフラン145重量部をボールミルに入れ、72
時間ミリングし、これにシクロヘキサノン200重量部
を加えて1時間分散を行い、更にシクロヘキサノンで希
釈した電荷発生層塗布液を上記下引き層を有するアルミ
ニウム製円筒状基体上に浸漬塗布し、100℃で10分
間乾燥させて厚さ約0.1μmの電荷発生層を形成し
た。
【0023】
【化1】
【0024】次に、下記構造式(2)で表される電荷輸
送剤7重量部およびポリカーボネート(パンライトC−
1400、帝人社製)10重量部をテトラヒドロフラン
83重量部にを溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。
送剤7重量部およびポリカーボネート(パンライトC−
1400、帝人社製)10重量部をテトラヒドロフラン
83重量部にを溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。
【0025】
【化2】
【0026】この電荷輸送層塗布液を図1に示す浸漬塗
工装置の塗工液槽9および塗工液撹拌タンク10に入
れ、塗工液温度調節ユニット13により塗工液槽9中の
電荷輸送層塗布液の温度を塗工環境の温度(20℃)よ
り高い24℃に保ち、上記の電荷発生層が形成されたア
ルミニウム製円筒状基体を被塗工基体保持具3で保持し
て24℃に保った電荷輸送層塗布液中に降下させて浸漬
させた。アルミニウム製円筒状基体の降下時にガス放出
孔部3Aから窒素ガスを100cc/secの流量で放
出させた。このときの窒素ガスの温度は塗工環境の温度
と同じ20℃とした。次いで、昇降モーターを動作さ
せ、アルミニウム製円筒状基体を電荷輸送層塗布液から
引き上げ、乾燥機に入れて120℃で30分間乾燥させ
て電荷輸送層が形成されたアルミニウム製円筒状基体を
得た。これを試料1とする。
工装置の塗工液槽9および塗工液撹拌タンク10に入
れ、塗工液温度調節ユニット13により塗工液槽9中の
電荷輸送層塗布液の温度を塗工環境の温度(20℃)よ
り高い24℃に保ち、上記の電荷発生層が形成されたア
ルミニウム製円筒状基体を被塗工基体保持具3で保持し
て24℃に保った電荷輸送層塗布液中に降下させて浸漬
させた。アルミニウム製円筒状基体の降下時にガス放出
孔部3Aから窒素ガスを100cc/secの流量で放
出させた。このときの窒素ガスの温度は塗工環境の温度
と同じ20℃とした。次いで、昇降モーターを動作さ
せ、アルミニウム製円筒状基体を電荷輸送層塗布液から
引き上げ、乾燥機に入れて120℃で30分間乾燥させ
て電荷輸送層が形成されたアルミニウム製円筒状基体を
得た。これを試料1とする。
【0027】比較例1 電荷輸送層塗布液の温度を20℃に保った以外は上記実
施例1と同様にして電荷輸送層が形成されたアルミニウ
ム製円筒状基体を得た。これを試料2とする。
施例1と同様にして電荷輸送層が形成されたアルミニウ
ム製円筒状基体を得た。これを試料2とする。
【0028】上記のようにして得られた試料1および試
料2について、感光層(電荷発生層および電荷輸送層の
積層感光層)を剥離し、感光層の厚さを電子マイクロメ
ーター(HFT−50、アンリツ計器社製)によって測
定した。その測定結果を図4に示す。
料2について、感光層(電荷発生層および電荷輸送層の
積層感光層)を剥離し、感光層の厚さを電子マイクロメ
ーター(HFT−50、アンリツ計器社製)によって測
定した。その測定結果を図4に示す。
【0029】図4から明らかなように、電荷輸送層塗布
液の温度を塗工環境の温度20℃より高い24℃に保っ
た場合の試料1では感光層の膜厚が均一となっている
が、電荷輸送層塗布液の温度を塗工環境の温度20℃と
同じ温度とした試料2では、塗工上端から20mm〜4
0mm位置の膜厚が約2μm薄く、膜厚が不均一となっ
ている。なお、図4において、塗工上端から10mm付
近では膜厚が厚くなっているが、この部分は非画像部で
あり使用上特に問題とはならない。
液の温度を塗工環境の温度20℃より高い24℃に保っ
た場合の試料1では感光層の膜厚が均一となっている
が、電荷輸送層塗布液の温度を塗工環境の温度20℃と
同じ温度とした試料2では、塗工上端から20mm〜4
0mm位置の膜厚が約2μm薄く、膜厚が不均一となっ
ている。なお、図4において、塗工上端から10mm付
近では膜厚が厚くなっているが、この部分は非画像部で
あり使用上特に問題とはならない。
【0030】
【発明の効果】本発明の浸漬塗工法もしくは浸漬塗工装
置によれば、塗布開始端でのタレ(塗工上端部に生じる
薄膜部)の発生を防止して均一な膜厚の塗膜を被塗工基
体上に形成することができる。本発明の浸漬塗工法もし
くは浸漬塗工装置によれば、溶剤として非ハロゲン系溶
剤を使用した塗工液を塗工することにより、あるいは耐
摩耗性に優れた高分子化合物を含有する電子写真感光体
用塗工液、または電荷輸送剤として高分子電荷輸送剤を
含有する電子写真感光体用塗工液塗布開始端でのタレ
(塗工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止して均一な
膜厚の塗膜や感光層を被塗工基体上に形成することがで
きる。
置によれば、塗布開始端でのタレ(塗工上端部に生じる
薄膜部)の発生を防止して均一な膜厚の塗膜を被塗工基
体上に形成することができる。本発明の浸漬塗工法もし
くは浸漬塗工装置によれば、溶剤として非ハロゲン系溶
剤を使用した塗工液を塗工することにより、あるいは耐
摩耗性に優れた高分子化合物を含有する電子写真感光体
用塗工液、または電荷輸送剤として高分子電荷輸送剤を
含有する電子写真感光体用塗工液塗布開始端でのタレ
(塗工上端部に生じる薄膜部)の発生を防止して均一な
膜厚の塗膜や感光層を被塗工基体上に形成することがで
きる。
【図1】本発明の浸漬塗工装置の一例を示す概略断面図
である。
である。
【図2】本発明の浸漬塗工装置における送気機構を有す
る被塗工基体保持具の一例を示す概略断面図である。
る被塗工基体保持具の一例を示す概略断面図である。
【図3】本発明の浸漬塗工装置の他の例を示す概略断面
図である。
図である。
【図4】実施例及び比較例によって得られた感光層の膜
厚を測定した結果を示すグラフである。
厚を測定した結果を示すグラフである。
1 送気ガス源 1A 送気管 2 送気ガス供給弁 3 被塗工基体保持具 3A ガス放出部(送気機構) 3B ガス放出孔 3C カバー 3D 爪 3E 送気手段 4 ナット 4A 連結部材 5 昇降モーター 6 ボールネジ 7 被塗工基体 8 塗工液 9 塗工液槽 10 塗工液撹拌タンク 11 塗工液循環ポンプ 12 撹拌モーター 13 塗工液温度調節ユニット(塗工液温度調整手
段) 14 塗工液温度調節コントローラー(塗工液温度調
整手段)
段) 14 塗工液温度調節コントローラー(塗工液温度調
整手段)
Claims (9)
- 【請求項1】 被塗工基体を塗工液槽中の塗工液に浸漬
し、次いで被塗工基体を塗工液から引き上げることによ
り、被塗工基体上に塗膜を形成する浸漬塗工法におい
て、塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く保持
し、且つ被塗工基体を塗工液に浸漬し引き上げる過程の
少なくとも一部において、少なくとも塗工液面に向けて
送気することを特徴とする浸漬塗工法。 - 【請求項2】 塗工液の温度が塗工環境の温度より4℃
以上高いことを特徴とする請求項1記載の浸漬塗工法。 - 【請求項3】 被塗工基体を塗工液に浸漬する過程にお
いて塗工液面に向けて送気することを特徴とする請求項
1記載の浸漬塗工法。 - 【請求項4】 塗工液の溶剤が非ハロゲン系溶剤である
ことを特徴とする請求項1、2または3記載の浸漬塗工
法。 - 【請求項5】 塗工液が電子写真感光体形成用塗工液で
あることを特徴とする請求項1、2、3または4記載の
浸漬塗工法。 - 【請求項6】 電子写真感光体形成用塗工液が、高分子
化合物と低分子電荷輸送剤及び溶剤からなる塗工液、高
分子電荷輸送剤と溶剤からなる塗工液、高分子化合物と
高分子電荷輸送剤及び溶剤からなる塗工液、または高分
子化合物と低分子電荷輸送剤と高分子電荷輸送剤及び溶
剤からなる塗工液であることを特徴とする請求項5記載
の浸漬塗工法。 - 【請求項7】 高分子化合物が耐摩耗性を有する高分子
化合物であることを特徴とする請求項6記載の浸漬塗工
法。 - 【請求項8】 塗工液を保持する塗工液槽および被塗工
基体を塗工液に浸漬し引き上げるために被塗工基体を保
持する被塗工基体保持具を有する浸漬塗工装置におい
て、塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く設定す
るための塗工液温度調整手段が設けられ、被塗工基体保
持具が少なくとも塗工液面に向けて送気する送気機構を
有することを特徴とする浸漬塗工装置。 - 【請求項9】 塗工液を保持する塗工液槽および被塗工
基体を塗工液に浸漬し引き上げるために被塗工基体を保
持する被塗工基体保持具を有する浸漬塗工装置におい
て、塗工液の温度をその塗工環境の温度より高く設定す
るための塗工液温度調整手段が設けられ、塗工液槽近傍
に少なくとも塗工液面に向けて送気する送気手段が設け
らていることを特徴とする浸漬塗工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23846196A JPH1057864A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | 浸漬塗工法および浸漬塗工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23846196A JPH1057864A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | 浸漬塗工法および浸漬塗工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1057864A true JPH1057864A (ja) | 1998-03-03 |
Family
ID=17030579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23846196A Pending JPH1057864A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | 浸漬塗工法および浸漬塗工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1057864A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022025924A (ja) * | 2020-07-30 | 2022-02-10 | シチズンファインデバイス株式会社 | ワーク浸漬装置及びワーク浸漬方法 |
-
1996
- 1996-08-21 JP JP23846196A patent/JPH1057864A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022025924A (ja) * | 2020-07-30 | 2022-02-10 | シチズンファインデバイス株式会社 | ワーク浸漬装置及びワーク浸漬方法 |
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