JPH1080656A

JPH1080656A - 円筒体の垂直方向塗布装置および塗布方法並びに電子写真感光体の作製方法

Info

Publication number: JPH1080656A
Application number: JP23757596A
Authority: JP
Inventors: Kazuyuki Tada; 一幸多田; Mamoru Fujita; 護藤田; Tomomasa Sato; 智正佐藤
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1996-09-09
Filing date: 1996-09-09
Publication date: 1998-03-31

Abstract

(57)【要約】【課題】効果的に自動調芯を行うことにより、膜厚ム
ラの少ない平滑な塗膜を高速で形成することができる小
型化された垂直方向塗布装置および塗布方法を提供す
る。【解決手段】塗液供給機構６と円形開口部を有する塗
液保持部材２とを有し、前記開口部に円筒体１を挿入
し、円筒体を前記塗液保持部材に対して相対的に鉛直下
方に移動させることにより、円筒体の外周面に塗液を塗
布する塗布装置において、前記塗液保持部材２が前記円
筒体１の半径方向に移動可能に保持され、かつ、前記円
形開口部が塗液かきとり部２１よりなることを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗液内に、電子写
真感光体ドラムに用いられるような円筒体を通過させる
ことにより、円筒体外周面に塗膜を形成する垂直方向塗
布装置およびその方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より円筒体に塗布を行う方法として
は、浸漬塗布法、および垂直型塗布方法が知られてい
る。浸漬塗布法は、操作が簡便であるという利点を有す
るが、浸漬槽上部の液面の安定化や浸漬槽内部の塗液の
流れの安定化のために、円筒体をゆっくり浸漬する必要
があり、そのために浸漬時間がかかること、被塗布表面
以外の円筒体内部に塗液が塗布されるのを防ぐために、
円筒体内部を気密に保つ機構が必要となること、たとえ
円筒体内部を気密に保ったとしても、円筒体内部の一部
に塗液が付着することは避けられないため、これを除去
する工程が必要となること、膜厚は粘度および塗布速度
に依存するため、膜厚の制御に厳しい粘度管理が必要で
あること、塗布速度が非常に遅くなり生産性が悪いこ
と、また、円筒体全体を浸漬するため、多量の塗液が必
要となること等の欠点を有している。

【０００３】これに対して、従来の垂直方向塗布方法
は、開口部を有するリング状液漏れ防止用弾性体パッキ
ングを保持するリング状塗液容器を設け、その弾性体パ
ッキングの開口部に円筒体を挿入し、円筒体をリング状
塗液容器に対し、相対的に鉛直上方に移動させることに
より、円筒体の外周面に塗布する方法であり、浸漬塗布
方法と比較して浸漬時間がかからないため、生産速度が
幾分速くなること、円筒体内面に付着した塗液の除去工
程が不要であること、少量の塗液で塗布が可能となるこ
と、また、連続的に円筒体をリング状塗液容器に供給す
ることにより、連続塗布が可能となること等の利点を有
している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな垂直方向塗布方法においても、浸漬塗布方法と同様
に、膜厚は粘度および塗布速度に依存するため、膜厚の
調整に厳しい粘度管理が必要であり、また、塗布速度が
非常に遅く、生産性が悪いという不具合点は解消しな
い。

【０００５】このような不具合を解消するものとして、
特開昭５６−１５８６５号公報、特開昭５６−１５８６
６号公報には、塗布容器上部にリング状塗材かきとり刃
（ブレード）を有する塗布装置を用いた垂直方向塗布方
法が開示されている。このようないわゆるブレード塗布
方法では、湿潤膜厚は被塗布基体とブレード間のギャッ
プによって決まり、塗液物性や操作条件にあまり依存せ
ず、高速塗布が可能になる。ただし、均一な膜厚を得る
ためには、被塗布基体とブレード間のギャップの制御が
不可欠である。特開昭５６−１５８６５号公報、特開昭
５６−１５８６６号公報に開示された方法では、このギ
ャップの制御を目的として、ブレードを円筒体に対して
半径方向に移動自在に保持し、塗布時に円筒体を回転さ
せると同時に塗布容器に対し相対的に引き上げることに
より、持ち上げられる塗液がギャップを通過する際の応
力を利用してギャップを一定に保つという、いわゆる自
動調芯機構を採用している。

【０００６】しかしながら、このような垂直方向塗布方
法においては、塗液保持容器と塗液かきとり部材とが一
体になっているので、液圧のみの調芯では自動調芯機構
が効果的に働かず、膜厚ムラが顕著になる場合があるこ
と、円筒体が塗液保持容器に対して相対的に上方に移動
するために比較的大きな塗液だめを必要とすること等の
不具合がある。

【０００７】本発明は、従来の技術における上記のよう
な欠点を改良することを目的としてなされたものであ
る。すなわち、本発明の目的は、効果的に自動調芯を行
うことにより、膜厚ムラの少ない平滑な塗膜を高速で形
成することができる小型化された垂直方向塗布装置およ
び塗布方法を提供することにある。本発明の他の目的
は、その垂直方向塗布装置および塗布方法を利用した電
子写真感光体製造用塗布装置および電子写真感光体の作
製方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、開
口部を有する水平方向に移動可能な塗布保持部材に、前
記開口部に円筒体を挿入し、円筒体を前記塗液保持部材
に対し相対的に鉛直下方に移動させる際に、前記円筒体
が、前記円筒体の半径方向に移動可能に設けた前記塗液
保持部材の一部である、前記円筒体の外径よりも僅かに
大きな内径部を有する前記かきとり部の中心と前記円筒
体の中心とを略等しくするように、前記塗液の重量およ
び液圧により調芯しながら前記かきとり部と接触するこ
となく移動し、円筒体の外周面に塗液を塗布することに
より達成させる。

【０００９】すなわち、本発明の塗布装置は、塗液供給
機構と円形開口部を有する塗液保持部材とを有し、前記
開口部に円筒体を挿入し、円筒体を前記塗液保持部材に
対して相対的に鉛直下方に移動させることにより、円筒
体の外周面に塗液を塗布するものであって、前記塗液保
持部材が前記円筒体の半径方向に移動可能に保持され、
かつ、前記円形開口部が塗液かきとり部よりなることを
特徴とする。

【００１０】また、本発明の塗布方法は、円形開口部を
有する塗液保持部材に塗液を供給し、前記円形開口部に
円筒体を挿入し、円筒体を前記塗液保持部材に対し相対
的に鉛直下方に移動させることにより、円筒体の外周面
に塗液を塗布するものであって、前記塗液保持部材を前
記円筒の半径方向に移動可能に設け、その円形開口部を
形成する塗液かきとり部に、該塗液かきとり部の内径よ
りも僅かに小さい外径を有する円筒体を挿入して、該塗
液かきとり部の中心と前記円筒体の中心とが略等しくな
るように、前記塗液の重量および液圧の作用によって前
記塗液保持部材を調芯させながら、前記円筒体を前記か
きとり部と接触することなく移動させることを特徴とす
る。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の塗布装置は、塗布液を塗布するための塗布ユニ
ットと、それを上下に移動可能に支持する塗布ユニット
支持装置と、被塗布物を支持する被塗布物支持装置とに
よって構成される。図１〜図４は、それらを説明するた
めのものであって、図１は本発明の塗布装置の要部をな
す塗布ユニットの断面図であり、図２はその平面図であ
る。図３は、塗布ユニット支持装置の概略構成図であ
り、また、図４は、被塗布物を支持し、回転を与えるた
めの被塗布物支持装置の一部断面を示す概略構成図であ
る。

【００１２】図１および２において、１は被塗布物であ
る円筒体、２は塗液保持部材、２１は円筒状塗液かきと
り部、３は塗液、４は塗液保持部材（かきとり部）の調
芯機構、４１は塗液保持部材保持部、５は台座、６は塗
液供給機構、６１は塗液供給口、６２は塗液だめ、６３
は塗液量調整用の堰、６４は溶剤揮発防止用蓋をそれぞ
れを示している。また、図３において、１０１は基台、
１０２はモーター、１０３はボールネジ、１０４はガイ
ド、１０５は昇降台である。また、図４において、１は
円筒体、２０１は支持部材、２０２はＡＣサーボモータ
ー、２０３はプーリ、２０４はロータリジョイント、２
０５はプーリ、２０６はベルト、２０７は回転部材、２
０８は支持部材、２０９は回転部材である。

【００１３】本発明の塗布装置において、図１の塗布ユ
ニットが図３に示す塗布ユニット支持装置に支持され
る。すなわち、基台１０１に設けたボールネジ１０３に
昇降台１０５が取り付けられており、この昇降台の上
に、図１に示される塗布ユニットが載置される。昇降台
は、モーター１０２によってボールネジ１０３を回転さ
せることにより一対のガイド１０４に沿って上下に移動
可能になっている。一方、図３には示されていないが、
被塗布物支持装置が別に設けられており、被塗布物であ
る円筒体が、上記昇降台の上に載置された塗布ユニット
の中央にあけられた開口を通るように配置されている。
したがって、モーター１０２を駆動することによって昇
降台を上方に移動させると、その上に載置された塗布ユ
ニットによって円筒体の周囲に塗布液が塗布されるよう
になる。

【００１４】図４は被塗布物支持装置の一例であるが、
この支持装置には、被塗布物である円筒体を回転させる
機構が設けられている。この支持装置において、上部の
回転部材２０９はベアリングを介して支持部材２０１に
軸支されており、下部の回転部材は、ベアリングを介し
て支持部材２０８に軸支されている。また、下部の回転
部材２０７は、ＡＣサーボモーター２０２を駆動するこ
とによって回転するように構成されている。すなわち、
モーターに装着されたプーリ２０３、ロータリジョイン
トに装着されたプーリ２０５、およびその間に懸架され
たベルト２０６によってＡＣサーボモーター２０２の回
転が回転部材に伝達されるように構成されている。した
がって、この支持装置の回転部材２０９および２０７の
間に円筒体１を装着し、ＡＣサーボモーター２０２を駆
動することにより、円筒体１を回転させることができ
る。

【００１５】次に、本発明の塗布装置における塗布ユニ
ットについて説明する。台座５には、塗液保持部材２、
調芯機構４および塗液供給機構６が設けられ、塗布ユニ
ットが構成されている。塗液保持部材２は、上部がフラ
ンジ部２２、下部が円筒状塗液かきとり部２１になって
おり、そして円筒体１の半径方向に移動可能に保持され
ている。塗液保持部材の調芯機構４について説明する
と、塗液保持部材２の上部フランジ部２２が、調芯機構
４内の塗液保持部材保持部４１に設けられた凹部と塗液
供給機構６の底面との間に摺動可能に挟まれており、す
き間ａの分だけ塗液保持部材２が円筒体の半径方向に移
動できるようになっている。塗液保持部材２を挟む凹部
の寸法ｂは、塗液保持部材の厚さより僅かに大きく、か
つ塗液保持部材の厚さ＋０．２ｍｍ以下になるように設
定するのが好ましい。

【００１６】上記図１および図２に示す塗布ユニット
は、その台座５が、上記塗布ユニット支持装置の昇降台
１０５に載置される。そして、塗液３は、黒矢印で示さ
れたように塗液供給口６１より供給され、塗液だめ６２
で一次貯留された後、堰６３を乗り越えて内側にオーバ
ーフローし、堰６３の傾斜面に沿って流れて塗液保持部
材２に均一に供給される。一方、被塗布物である円筒体
１は、台座５の上昇または円筒体１の下降（図３の場合
は、台座５の上昇）によって、塗液保持部材２に対し相
対的に鉛直下方に移動させる。それにより、塗液保持部
材２に保持された塗液３が、円筒体表面に塗布される。
すなわち、円筒体１の相対的な移動により、塗液３が塗
液保持部材２と円筒体１間へ流れるが、この時、円筒状
塗液かきとり部２１と円筒体１の間のギャップの不均一
に起因する液圧分布により、塗液保持部材２は円筒体の
半径方向に動かされ、その結果、塗液かきとり部の中心
と前記円筒体の中心とが略等しくなるように塗液保持部
材が移動し、ギャップの分布が解消されて均一な塗膜が
得られるようになる。

【００１７】円筒体１の塗液保持部材２に対する相対的
な移動速度は、調芯に有効な剪断応力を塗液３に与える
ために、１ｃｍ／ｓｅｃ以上であることが望ましい。ま
た、さらに高速にした場合の機械の振動が増加すること
により、移動速度は２ｍ／ｓｅｃ以下であることが望ま
しい。

【００１８】調芯を促進するために、円筒体１を塗液保
持部材２に対して回転させてもよい。この場合の方法と
して、以下の２つの方法が考えられる。すなわち、
（１）円筒体１を回転させた後停止し、その直後に円筒
体１を塗液保持部材２に対し下方に移動させる方法、
（２）円筒体１の相対的な移動中、円筒体１を回転させ
る方法の２つである。（１）の場合、回転させない場合
と比較して、塗液保持部材２のかきとり部２１がすでに
調芯されているため、塗布開始直後から平滑な塗膜が得
られる。この場合の回転速度は５０ｒｐｍ〜５００ｒｐ
ｍが好ましく、さらに好ましくは、５０ｒｐｍ〜３００
ｒｐｍの範囲である。（２）の場合、円筒体１の相対的
な回転速度は、前記の円筒体１の相対的な移動速度によ
り決まるが、スパイラル状の表面故障の発生を抑えるた
めには５ｒｐｍ〜５００ｒｐｍが好ましく、さらに好ま
しくは、１０ｒｐｍ〜３００ｒｐｍの範囲である。

【００１９】塗液保持部材２の塗液かきとり部２１は、
図１に示したような円筒体１の表面と平行な円筒面を有
する円筒の形状のものが望ましい。また、塗液保持部材
２は、塗液を効果的に保持し、流動させるために、図１
に示したようなテーパー構造を有する形状にしてもよ
い。

【００２０】塗液保持部材２を構成する材料としては、
金属、樹脂、セラミック、ガラス等が用いられるが、特
に、加工性に優れ、加工精度を出しやすい剛性体、例え
ば、ステンレス鋼やアルミニウム等の金属を用いること
が望ましい。また、調芯を滑らかに行うために、塗液保
持部材２には、陽極酸化や無電解めっきによるテフロン
処理を施すことが好ましい。

【００２１】また、塗液保持部材保持部４１の材質とし
ては、加工精度が良く、表面の摩擦係数が小さいものが
好ましく、例えば陽極酸化や無電解メッキによるテフロ
ン処理を施したステンレス鋼やアルミニウムのような金
属が利用できる。

【００２２】塗液供給機構６には、塗液３内の溶剤蒸発
を極力抑えるために溶剤揮発防止蓋６４を設けるのが好
ましい。なお、塗液供給機構６としては、図１に示すも
のに限定されるものではなく、塗液保持部材２に塗液３
が円周方向に均一に供給されるような機構のものであれ
ば如何なる構造のものでもよい。

【００２３】塗液３は、塗布の目的により公知の樹脂、
顔料、溶剤等を調合したものが適宜選択されるが、電子
写真感光体に用いられる公知の感光層形成用塗布液を用
いてもよい。その際、塗布液の粘度は、０．５Ｐａ．ｓ
以上が好ましく、さらに好ましくは、扱い易さを考慮し
て、１Ｐａ．ｓ〜５Ｐａ．ｓの範囲に調整される。溶剤
としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、ブタノール等のアルコール類、ヘキサン、オ
クタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコール等
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチ
ルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、水等があげられる。

【００２４】また、被塗布物である円筒体１の材質とし
ては、ステンレス鋼、アルミニウム、ニッケル等の金
属、ポリエチレン、ポリプロピレン、テフロン、ＡＢＳ
等の樹脂、ガラス、紙管等が用いられるが、形状精度の
よい剛性体であれば如何なるものを用いてもよい。ま
た、円筒体１は、塗液かきとり部の内径よりも僅かに小
さい外径を有するものが使用されるが、塗液かきとり部
の内径と円筒体の外径との差は、０．１〜２μｍの範囲
にあるのが好ましい。

【００２５】

【実施例】本発明の効果を一層明確にするために、以下
に実施例によって具体的に説明する。実施例１被塗布物である円筒体１として、３０ｍｍφ×３４０ｍ
ｍのアルミパイプを用い、図１〜図４に示す装置により
構成された塗布装置を用いて塗布を行った。塗液保持部
材調芯機構４内の間隔ｂは、塗液保持部材２よりも０．
１ｍｍ大きくした。塗布保持部材２として、表面にポリ
テトラフルオロエチレン処理を施したアルミニウム製
で、内径が３０．３ｍｍφで、３０．３ｍｍφから４０
ｍｍφの６０°のテーパー構造を有し、塗液かきとり部
２１として高さ６ｍｍの円筒体１面と平行な面を有する
円筒形状のものを使用した。塗液３としては、ポリカー
ボネート（商品名：ユーピロンＺ、Ｚ−２００、三菱瓦
斯化学社製）１００重量部をモノクロロベンゼン（関東
化学製、特級）３００重量部に溶解した溶液を使用し
た。塗液３の液温２５℃における粘度は約３．５Ｐａ．
ｓであった。

【００２６】まず、図１に示すように、円筒体１を塗液
保持部材２に対し相対的に下方に移動させ、塗液保持部
材２内に挿入した。次に、塗液供給機構６を用いて塗液
３を塗液保持部材２のテーパー部分に溢れない程度に送
り、円筒体１外面を塗液３に浸した。この状態から、円
筒体１をリング状塗液容器２に対し相対的に下方に２０
ｃｍ／ｓｅｃの速さで移動させた。結果として、円筒体
１の外周面には、目視上表面欠陥がなく、均一な塗膜が
形成できた。円筒体１外周面に塗布された塗膜の膜厚分
布をβ線膜厚計（フィッシャー社製）にて測定した。そ
の結果を表１に示す。表中のすべての膜厚データの平均
に対する標準偏差の割合（以後、この特性値を膜厚ムラ
と呼ぶ）は、約８．２％でかなり均一な膜厚分布を示し
ている。

【００２７】

【表１】平均膜厚：１９．６８６μｍ標準偏差：１．６１３５２μｍ膜厚ムラ＝（標準偏差）／（平均膜厚）：８．１９６５
％

【００２８】実施例２円筒体を３００ｒｐｍで回転させた後回転を中止し、そ
の直後に実施例１と同様な条件で塗布を行った。結果と
して、円筒体の外周面には、目視上表面欠陥がなく、均
一な塗膜が形成できた。表２に、円筒体外周面に塗布さ
れた塗膜の膜厚分布を示す。膜厚ムラは、約４．７％で
非常に均一な膜厚分布を示している。

【００２９】

【表２】平均膜厚：１９．４５７μｍ標準偏差：０．９１７７８μｍ膜厚ムラ＝（標準偏差）／（平均膜厚）：４．７１７１
％

【００３０】実施例３円筒体を１００ｒｐｍで回転させた以外は、実施例１と
同様な条件で塗布を行った。結果として、円筒体の外周
面には、目視上表面欠陥がなく、均一な塗膜が形成でき
た。表３に、円筒体外周面に塗布された塗膜の膜厚分布
を示す。膜厚ムラは、約３．３％で非常に均一な膜厚分
布を示している。

【００３１】

【表３】平均膜厚：２０．４４４μｍ標準偏差：０．６８１６１μｍ膜厚ムラ＝（標準偏差）／（平均膜厚）：３．３３４１
％

【００３２】実施例４塗液として、ポリカーボネート（商品名：ユーピロン
Ｚ、Ｚ−２００、三菱瓦斯化学社製）１８重量部と電荷
輸送剤（Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−
メチルフェニル）−４，４′−ジアミン）１２重量部を
モノクロロベンゼン（関東化学社製、特級）７０重量部
に溶解した溶液を使用した以外は、実施例２と同じ条件
で塗布を行った。この時、塗液３１の液温２５℃におけ
る粘度は約１．０Ｐａ．ｓであった。結果として、円筒
体の外周面には、目視上表面欠陥がなく、均一な塗膜が
形成できた。表４に、円筒体１外周面に塗布された塗膜
の膜厚分布を示す。膜厚ムラは、約２．６％でかなり均
一な膜厚分布を示している。

【００３３】

【表４】平均膜厚：２４．５７８μｍ標準偏差：０．６５０２３μｍ膜厚ムラ＝（標準偏差）／（平均膜厚）：２．６４５５
５％

【００３４】

【発明の効果】本発明の塗布装置は、上記の構成を有す
るから、塗布ユニットを小型化することができ、また、
この塗布装置を用いることによって、少量の塗布液を用
いて被塗布物である円筒体の外周面に膜厚ムラの少ない
平滑な塗膜を高速で形成する可能になる。したがって本
発明の塗布装置は、電子写真感光体の製造のために好適
である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の塗布装置の要部の塗布ユニットの断
面図であって、円筒体を塗布する状態を説明する図であ
る。

【図２】図１の塗布ユニットの平面図である。

【図３】本発明の塗布装置における塗布ユニット支持
装置の概略の構成図である。

【図４】本発明の塗布装置における被塗布物支持装置
の一部断面を示す概略構成図である。

【符号の説明】

１…円筒体、２…塗液保持部材、２１…塗液かきとり
部、２２…フランジ部、３…塗液、４…調芯機構、４１
…塗液保持部材保持部、５…台座、６…塗液供給機構、
６１…塗液供給口、６２…塗液だめ、６３…堰、６４…
溶剤揮発防止用蓋、１０１…基台、１０２…モーター、
１０３…ボールネジ、１０４…ガイド、１０５…昇降
台、２０１…支持部材、２０２…ＡＣサーボモーター、
２０３…プーリ、２０４…ロータリジョイント、２０５
…プーリ、２０６…ベルト、２０７…回転部材、２０８
…支持部材、２０９…回転部材。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】塗液供給機構と円形開口部を有する塗液
保持部材とを有し、前記開口部に円筒体を挿入し、円筒
体を前記塗液保持部材に対して相対的に鉛直下方に移動
させることにより、円筒体の外周面に塗液を塗布する塗
布装置において、前記塗液保持部材が前記円筒体の半径
方向に移動可能に保持され、かつ、前記円形開口部が塗
液かきとり部よりなることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】前記塗液保持部材の上部に前記塗液保持
部材に塗液を供給する塗液供給機構を設けたことを特徴
とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】前記塗液保持部材が塗液を送るテーパー
部を有することを特徴とする請求項１に記載の塗布装
置。
【請求項４】前記塗液保持部材が剛性体からなること
を特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項５】前記塗液保持部材が滑りを向上させる処
理を施した表面を有することを特徴とする請求項１に記
載の塗布装置。
【請求項６】前記塗液かきとり部が円筒面を有するこ
とを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項７】前記円筒体を回転させる回転装置を有す
ることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項８】円形開口部を有する塗液保持部材に塗液
を供給し、前記円形開口部に円筒体を挿入し、円筒体を
前記塗液保持部材に対し相対的に鉛直下方に移動させる
ことにより、円筒体の外周面に塗液を塗布する塗布方法
において、前記塗液保持部材を前記円筒体の半径方向に
移動可能に設け、その円形開口部を形成する塗液かきと
り部に、該塗液かきとり部の内径よりも僅かに小さい外
径を有する円筒体を挿入して、該塗液かきとり部の中心
と前記円筒体の中心とが略等しくなるように、前記塗液
の重量および液圧の作用によって前記塗液保持部材を調
芯させながら、前記円筒体を前記かきとり部と接触する
ことなく移動させることを特徴とする塗布方法。
【請求項９】前記円筒体と前記塗液保持部材との相対
移動速度が１ｃｍ／ｓｅｃ以上であることを特徴とする
請求項８に記載の塗布方法。
【請求項１０】前記円筒体を、移動前に５０ｒｐｍ〜
５００ｒｐｍで回転させ、回転を停止した後、相対的に
鉛直下方に移動させることを特徴とする請求項８に記載
の塗布方法。
【請求項１１】前記円筒体を、移動中に５ｒｐｍ〜５
００ｒｐｍで回転させることを特徴とする請求項８に記
載の塗布方法。
【請求項１２】前記塗液の粘度が０．５Ｐａ．ｓ以上
であることを特徴とする請求項８に記載の塗布方法。
【請求項１３】塗液供給機構と円形開口部を有する塗
液保持部材とを有し、円形開口部に円筒体を挿入し、円
筒体を前記塗液保持部材に対し相対的に鉛直下方に移動
させることにより、円筒体の外周面に感光体形成用塗液
を塗布する電子写真感光体製造用塗布装置において、前
記塗液保持部材が前記円筒体の半径方向に移動可能に保
持され、かつ、前記円形開口部が塗液かきとり部よりな
ることを特徴とする電子写真感光体製造用塗布装置。
【請求項１４】円形開口部を有する塗液保持部材に感
光層形成用塗布液を供給し、前記円形開口部に円筒体を
挿入し、円筒体を前記塗液保持部材に対し相対的に鉛直
下方に移動させることにより、円筒体の外周面に感光層
形成用塗布液を塗布する塗布方法において、前記塗液保
持部材を前記円筒体の半径方向に移動可能に設け、その
円形開口部を形成する塗液かきとり部に、該塗液かきと
り部の内径よりも僅かに小さい外径を有する円筒体を挿
入して、該塗液かきとり部の中心と前記円筒体の中心と
が略等しくなるように、前記感光層形成用塗布液の重量
および液圧の作用によって前記塗液保持部材を調芯させ
ながら、前記円筒体を前記かきとり部と接触することな
く移動させることを特徴とする電子写真感光体の作製方
法。