JPH1058746A - Multi-beam scanning type image forming apparatus / scanning line pitch unevenness detecting method / scanning line pitch unevenness detecting device and scanning line pitch unevenness correcting device - Google Patents
Multi-beam scanning type image forming apparatus / scanning line pitch unevenness detecting method / scanning line pitch unevenness detecting device and scanning line pitch unevenness correcting deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】マルチビーム走査型画像形成装置において、走
査線ピッチのむらを容易に検出する。
【解決手段】複数の光源からの光束を光導電性の感光体
上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光
し、これら複数の光スポットにより上記感光体を同時に
走査するマルチビーム走査型画像形成装置において、複
数の光スポットにより同時に走査される走査線のピッチ
むらを検出する方法であって、全ての光スポットによる
同時の走査を繰り返して行なって、ピッチむら検出用の
潜像パターンを形成し、この潜像パターンの平均的な電
位を電位センサ49Bにより検出し、電位センサ49B
による検出値を、所定の比較値と比較することにより走
査線のピッチむらを検出する。
(57) Abstract: In a multi-beam scanning type image forming apparatus, unevenness in scanning line pitch is easily detected. Multi-beam scanning for converging light beams from a plurality of light sources on a photoconductive photoconductor as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction and simultaneously scanning the photoconductor with the plurality of light spots. A method for detecting pitch unevenness of a scanning line simultaneously scanned by a plurality of light spots in a mold image forming apparatus, wherein a simultaneous scanning by all light spots is repeatedly performed to detect a latent image pattern for pitch unevenness detection. Is formed, and the average potential of the latent image pattern is detected by the potential sensor 49B.
Is compared with a predetermined comparison value, thereby detecting the pitch unevenness of the scanning line.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明はマルチビーム走査
型画像形成装置・走査線ピッチむら検出方法・走査線ピ
ッチむら検出装置および走査線ピッチむら補正装置に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-beam scanning type image forming apparatus, a scanning line pitch unevenness detecting method, a scanning line pitch unevenness detecting device, and a scanning line pitch unevenness correcting device.
【0002】[0002]
【従来の技術】画像信号により強度変調させた光束を偏
向させ、被走査面を画像形成のために走査するビーム走
査型画像形成装置は、デジタル複写機や各種光プリンタ
等として広く知られている。近来、走査の高速化を目し
て、一度に複数の走査線を同時走査する「マルチビーム
走査型画像形成装置」が提案されている。2. Description of the Related Art A beam scanning type image forming apparatus that deflects a light beam whose intensity is modulated by an image signal and scans a surface to be scanned for image formation is widely known as a digital copying machine, various optical printers, and the like. . Recently, a “multi-beam scanning type image forming apparatus” that simultaneously scans a plurality of scanning lines at a time has been proposed in order to speed up scanning.
【0003】マルチビーム走査による画像形成において
留意すべき重要な点の一つは、副走査方向の記録密度を
決定する走査線ピッチが適正に設定されなければならな
いことである。走査線ピッチが適正でないと、書き込ま
れた記録画像の記録密度や画像密度が副走査方向に周期
的に変動して記録画像の像質劣化の原因となる。One of the important points to note in image formation by multi-beam scanning is that the scanning line pitch for determining the recording density in the sub-scanning direction must be properly set. If the scanning line pitch is not appropriate, the recording density or image density of the written recorded image fluctuates periodically in the sub-scanning direction, causing image quality deterioration of the recorded image.
【0004】走査線ピッチは、光源部における各光源の
相対的な位置関係や、光源部と被走査面との間にある光
学系の結像倍率等により定まる。上記結像倍率等は、個
々のマルチビーム走査装置に光学系を組付けるときの微
少な組付け誤差によっても微妙に異なる場合が多いし、
たとい設計通りの組付け調整がなされても、マルチビー
ム走査装置の実使用に伴う振動等の影響で経時的に上記
結像倍率が変化してしまうことも考えられる。また、光
源部における複数光源の相対的な位置関係も、LD(半
導体レーザ)アレイのようなモノリシックな構造のもの
はともかく、独立した複数の半導体レーザを組み合わせ
るような光源部では、光源部ごとの組付け誤差や経時的
な変化が考えられる。The scanning line pitch is determined by the relative positional relationship between the light sources in the light source unit, the imaging magnification of an optical system between the light source unit and the surface to be scanned, and the like. The imaging magnification and the like are often slightly different due to a small assembling error when assembling the optical system to each multi-beam scanning device,
Even if the assembling adjustment is performed as designed, it is conceivable that the imaging magnification changes with time due to the influence of vibrations and the like accompanying the actual use of the multi-beam scanning device. Regarding the relative positional relationship between the plurality of light sources in the light source section, aside from the monolithic structure such as an LD (semiconductor laser) array, in a light source section in which a plurality of independent semiconductor lasers are combined, An assembling error or a change with time is considered.
【0005】このような理由で、適正な走査線ピッチを
実現するには、随時に「走査線ピッチにむらがないか否
か」を検出する必要がある。[0005] For these reasons, in order to realize an appropriate scanning line pitch, it is necessary to detect "whether or not the scanning line pitch is uneven" as needed.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】この発明は、走査線ピ
ッチのむらを容易に検出できる新規な「走査線ピッチむ
ら検出方法」の提供を課題とする。この発明の別の課題
は、上記ピッチむら検出方法を実施するための「走査線
ピッチむら検出装置」の実現にある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a novel "scanning line pitch unevenness detection method" which can easily detect scanning line pitch unevenness. Another object of the present invention is to realize a “scanning line pitch unevenness detecting device” for implementing the above-described pitch unevenness detecting method.
【0007】この発明の他の課題は、上記走査線ピッチ
むら検出方法で検出された走査線ピッチむらに基づき、
走査線ピッチむらを補正する「走査線ピッチむら補正装
置」の実現にある。Another object of the present invention is to provide a method for detecting unevenness in scanning line pitch based on the method for detecting unevenness in scanning line pitch.
It is an object of the present invention to realize a “scanning line pitch unevenness correction device” that corrects scanning line pitch unevenness.
【0008】この発明のさらに他の課題は、走査線ピッ
チむら検出機能もしくは走査線ピッチむら検出機能と走
査線ピッチむら補正機能とを持った「マルチビーム走査
型画像形成装置」の実現にある。Still another object of the present invention is to realize a "multi-beam scanning type image forming apparatus" having a scanning line pitch unevenness detecting function or a scanning line pitch unevenness detecting function and a scanning line pitch unevenness correcting function.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項1,2記載の走査
線ピッチむら検出方法は「複数の光源からの光束を光導
電性の感光体上に副走査方向に分離した複数の光スポッ
トとして集光し、これら複数の光スポットにより上記感
光体を同時に走査するマルチビーム走査型画像形成装置
において、複数の光スポットにより同時に走査される走
査線のピッチむらを検出する方法」である。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for detecting unevenness in scanning line pitch, wherein a plurality of light spots obtained by separating light beams from a plurality of light sources on a photoconductive photosensitive member in a sub-scanning direction. In a multi-beam scanning type image forming apparatus that condenses light and scans the photosensitive member simultaneously with the plurality of light spots, a method for detecting uneven pitches of scanning lines simultaneously scanned by the plurality of light spots is used.
【0010】請求項1記載の走査線ピッチむら検出方法
は、以下の点を特徴とする。即ち、全ての光スポットに
よる同時の走査を繰り返して行なって「ピッチむら検出
用の潜像パターン」を形成し、この潜像パターンの「平
均的な電位」を電位センサにより検出する。そして、電
位センサによる検出値を、所定の比較値と比較すること
により走査線のピッチむらを検出する。The scanning line pitch unevenness detecting method according to the first aspect has the following features. That is, the simultaneous scanning by all the light spots is repeated to form a "latent image pattern for detecting uneven pitch", and the "average potential" of the latent image pattern is detected by a potential sensor. Then, the unevenness of the scanning line pitch is detected by comparing the value detected by the potential sensor with a predetermined comparison value.
【0011】請求項2記載の走査線ピッチむら検出方法
は、以下の点を特徴とする。即ち、全ての光スポットに
よる同時の走査を繰り返して行なって「ピッチむら検出
用の潜像パターン」を形成し、この潜像パターンを「所
定の現像条件」で現像して得られるトナーパターンの
「面積領域の反射強度」を光学センサで検出し、光学セ
ンサによる検出値を、所定の比較値と比較することによ
り走査線のピッチむらを検出する。The method for detecting uneven scanning line pitch according to claim 2 is characterized by the following points. That is, the simultaneous scanning by all the light spots is repeatedly performed to form a “latent image pattern for detecting uneven pitch”, and the toner pattern obtained by developing this latent image pattern under “predetermined development conditions” The reflection intensity of the area region is detected by the optical sensor, and the detected value of the optical sensor is compared with a predetermined comparison value to detect the scanning line pitch unevenness.
【0012】上記請求項1,2記載の発明において、全
ての光スポットによる同時の走査を繰り返して行なって
形成されるピッチむら検出用の潜像パターンは、所謂
「ベタ部」に相当するパターンであり、もし走査線ピッ
チむらが無ければ、潜像パターンの電位は絶対値におい
て、周囲より均一に低くなる。In the first and second aspects of the present invention, the latent image pattern for detecting uneven pitch formed by repeatedly performing simultaneous scanning with all the light spots is a pattern corresponding to a so-called "solid portion". If there is no scanning line pitch unevenness, the potential of the latent image pattern is uniformly lower than the surroundings in absolute value.
【0013】しかし、走査線ピッチむらがあると、形成
される潜像パターンには、走査線ピッチが大きくなると
ころと小さくなるところとが副走査方向に周期的に存在
し、潜像パターンの電位は走査線ピッチの大きいところ
で絶対値において高くなる。However, when the scanning line pitch is uneven, the formed latent image pattern periodically includes a portion where the scanning line pitch becomes large and a portion where the scanning line pitch becomes small in the sub-scanning direction. Is higher in absolute value where the scanning line pitch is large.
【0014】このため走査線ピッチむらの存在する場合
にはピッチむら検出用の潜像パターンの電位は「平均と
して」は走査線ピッチむらがない場合の電位よりも絶対
値において高くなることになる。For this reason, when the scanning line pitch unevenness exists, the potential of the latent image pattern for detecting the unevenness of the pitch becomes "in average" higher in absolute value than the potential when there is no scanning line pitch unevenness. .
【0015】「電位センサ」は、感光体表面の電位を検
出するが、一般に、検出される電位は、感光体表面上の
正確な細かい電位分布ではなく、このような電位分布を
平均化した「平均的な電位」である。従って、潜像パタ
ーンからの検出電位の大小により走査線ピッチむらの有
無とその程度を知ることができる。即ち、走査線ピッチ
むらを完全に補正した状態で形成される潜像パターンか
らの「平均的な検出電位」を「所定の比較値」とし、検
出時に検出される電位を上記比較値と比較することによ
り、走査線ピッチむらの程度(検出された電位と基準値
との差が大きいほど走査線ピッチむらが顕著である)を
知ることができる。The "potential sensor" detects the potential on the surface of the photoreceptor. In general, the detected potential is not an accurate fine potential distribution on the surface of the photoreceptor, but an average of such potential distribution. Average potential ". Therefore, the presence or absence of the scanning line pitch unevenness and the degree thereof can be known from the magnitude of the detection potential from the latent image pattern. That is, the “average detected potential” from the latent image pattern formed in a state where the scanning line pitch unevenness is completely corrected is set as a “predetermined comparison value”, and the potential detected at the time of detection is compared with the comparison value. This makes it possible to know the degree of the scanning line pitch unevenness (the larger the difference between the detected potential and the reference value, the more noticeable the scanning line pitch unevenness).
【0016】また、上記潜像パターンを(反転)現像し
て得られる「トナーパターン」は、走査線ピッチむらが
無ければ適正な「ベタ部パターン」であって、その画像
濃度は一様であるが、走査線ピッチむらがあれば、画像
の濃淡が副走査方向へ周期的に変動する。このため、ト
ナーパターンの面積領域(ある程度の2次元的広がりを
持った領域(少なくとも、数mm2程度)を光照射した
ときの「反射強度」は、適正なトナーパターンの場合に
比して、走査線ピッチむらのある場合の方が大きくなる
ので、この反射強度を光学センサにより検出することに
より走査線ピッチむらの有無を検出できる。この場合
は、走査線ピッチむらの無い適正なトナーパターンの反
射強度を光センサで検出したときの検出値を「所定の比
較値」とし、検出時に検出される検出値を上記比較値と
比較することにより、走査線ピッチむらの程度(検出さ
れた反射強度と基準値との差が大きいほど走査線ピッチ
むらが顕著である)を知ることができる。The "toner pattern" obtained by (reversing) developing the latent image pattern is an appropriate "solid pattern" if the scanning line pitch is not uneven, and its image density is uniform. However, if there is unevenness in the scanning line pitch, the shading of the image periodically fluctuates in the sub-scanning direction. For this reason, the “reflection intensity” when light is applied to the area area of the toner pattern (an area having a certain two-dimensional spread (at least about several mm 2 )) is smaller than that of a proper toner pattern. Since the reflection intensity is detected by an optical sensor, the presence or absence of the scanning line pitch unevenness can be detected because the scanning line pitch unevenness is larger. The detection value when the reflection intensity is detected by the optical sensor is defined as a “predetermined comparison value”, and the detection value detected at the time of detection is compared with the comparison value to determine the degree of the scanning line pitch unevenness (the detected reflection intensity). The greater the difference between the scanning line pitch and the reference value, the more noticeable the scanning line pitch unevenness is.)
【0017】請求項2記載の発明の場合、潜像パターン
を現像するときの現像条件を一定にしないと、形成され
るトナーパターンの濃度が現像条件により変動し、これ
が走査線ピッチむらの検出の誤差になる。従って現像条
件を一定にする必要がある。請求項2記載の発明では、
トナーパターンは中間転写ベルト等の中間転写媒体に転
写されたトナーパターンの反射強度を検出するようにし
てもよい。In the case of the second aspect of the present invention, if the developing conditions for developing the latent image pattern are not fixed, the density of the toner pattern to be formed fluctuates depending on the developing conditions. It becomes an error. Therefore, it is necessary to keep development conditions constant. In the invention according to claim 2,
The reflection intensity of the toner pattern transferred to the intermediate transfer medium such as the intermediate transfer belt may be detected.
【0018】請求項3〜9記載の走査線ピッチむら検出
方法は「複数の光源からの光束を光導電性の感光体上に
副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光し、
これら複数の光スポットにより上記感光体を同時に走査
するマルチビーム走査型画像形成装置において、互いに
隣接する任意の2光源により同時に走査される走査線の
ピッチむらを検出する方法」であり、第1および第2の
潜像パターンを形成する点において共通している。According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of detecting unevenness in scanning line pitch, comprising: condensing light beams from a plurality of light sources on a photoconductive photosensitive member as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction;
In a multi-beam scanning type image forming apparatus that simultaneously scans the photoconductor with the plurality of light spots, a method for detecting pitch unevenness of scanning lines simultaneously scanned by any two light sources adjacent to each other is described. This is common in that a second latent image pattern is formed.
【0019】この場合、光源の数は2でも3以上でもよ
い。光源の数が2であるときは、これら2つが上記「互
いに隣接する任意の2光源」そのものであるが、光源の
数が3以上のときは、これらのうちの任意の一つの光源
と、これに隣接する別の光源とが「互いに隣接する任意
の2光源」をなし、光源数が3以上の場合、上記2つの
光源以外の光源は消灯状態として走査線ピッチむら検出
を行なう。In this case, the number of light sources may be two or three or more. When the number of light sources is two, these two are the above-mentioned "arbitrary two light sources adjacent to each other", but when the number of light sources is three or more, any one of these light sources and this If another light source adjacent to the light source constitutes "arbitrary two light sources adjacent to each other" and the number of light sources is three or more, the light sources other than the two light sources are turned off and the scanning line pitch unevenness is detected.
【0020】第1および第2の潜像パターンは「ピッチ
むら検出用」である。「第1の潜像パターン」は、上記
2つの光源を同時に点灯して2つの光スポットによる同
時走査を、所定数の走査線おきに繰り返して形成され
る。The first and second latent image patterns are for "for detecting pitch unevenness". The “first latent image pattern” is formed by simultaneously turning on the two light sources and simultaneously scanning with two light spots every predetermined number of scanning lines.
【0021】「第2の潜像パターン」は、第2の光スポ
ット(2つの光スポットにより順次走査される走査線の
番号を1,2,3...とするとき、偶数番目の走査線
を走査することになる光スポット)による走査とこれに
続く第1の光スポットによる走査スポットによる走査を
所定数の走査線おきに繰り返して形成される。The “second latent image pattern” is a second light spot (an even-numbered scan line, where the numbers of the scan lines sequentially scanned by the two light spots are 1, 2, 3,...) Is formed by repeating a scan with a light spot that scans the first light spot) and a subsequent scan with a scan spot with the first light spot every predetermined number of scan lines.
【0022】例えば、上記所定数が2である場合であれ
ば、上記1,2,3,..番目の走査線を考えるとき、
第1の潜像パターンは第1,第2,第5,第6,第9,
第10,..番目の走査線の走査により形成され、第2
の潜像パターンは、第2,第3,第6,第7,第10,
第11,..番目の走査線の走査により形成される。For example, if the predetermined number is 2, the above 1, 2, 3,. . When considering the th scan line,
The first latent image pattern includes first, second, fifth, sixth, ninth,
Tenth,. . The second scan line is formed by scanning the
Are the second, third, sixth, seventh, tenth,
Eleventh,. . The scan line is formed by scanning the scan line.
【0023】請求項3記載の走査線ピッチむら検出方法
は、以下の点を特徴とする。即ち、上記第1および第2
の潜像パターンそれぞれの「平均的な電位」を電位セン
サにより検出し、得られる2つの検出値の比較により走
査線のピッチむらを検出する。According to a third aspect of the present invention, there is provided a scanning line pitch unevenness detecting method which is characterized by the following points. That is, the first and second
The "average potential" of each of the latent image patterns is detected by a potential sensor, and the unevenness of the scanning line pitch is detected by comparing two obtained detection values.
【0024】請求項4記載の走査線ピッチむら検出方法
は、以下の点を特徴とする。即ち、上記第1および第2
の潜像パターンを「所定の現像条件」で現像して得られ
る第1および第2のトナーパターンそれぞれの「面積領
域の反射強度」を光学センサにより検出し、第1および
第2のトナーパターンから得られる2つの検出値の比較
により走査線のピッチむらを検出する。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a scanning line pitch unevenness detecting method having the following features. That is, the first and second
The “reflection intensity of the area area” of each of the first and second toner patterns obtained by developing the latent image pattern of “1” under “predetermined development conditions” is detected by an optical sensor, and the first and second toner patterns are Pitch unevenness of the scanning line is detected by comparing two obtained detection values.
【0025】上記のように、第1および第2の潜像パタ
ーンは、2走査線分の幅を持った縞状で副走査方向に電
位が変化する。第1および第2の光スポットの副走査方
向の間隔が、所定の走査線ピッチに等しいときは、第
1,第2の潜像パターンは、走査線1本分だけ互いに副
走査方向にずれたものとなり、このときは、電位センサ
で検出される「平均的な電位」もしくは各潜像パターン
を現像して得られるトナーパターンの「反射強度」は、
各潜像パターンで同じになる。As described above, the potentials of the first and second latent image patterns change in the sub-scanning direction in the form of stripes having a width of two scanning lines. When the interval between the first and second light spots in the sub-scanning direction is equal to the predetermined scanning line pitch, the first and second latent image patterns are shifted from each other by one scanning line in the sub-scanning direction. In this case, the “average potential” detected by the potential sensor or the “reflection intensity” of the toner pattern obtained by developing each latent image pattern is:
It is the same for each latent image pattern.
【0026】しかるに、第1,第2の光スポットの副走
査方向の間隔が、所定の走査線ピッチよりも僅かに大き
く(小さく)なると、走査されない「所定数の走査線」
分の幅は、第1の潜像パターンでは小さく(大きく)な
り、逆に第2の潜像パターンでは大きく(小さく)な
る。従って、2つの光スポットの副走査方向の間隔が所
定の走査線ピッチからずれることにより、第1,第2の
潜像パターンの平均電位に差を生じる。従って上記平均
電位もしくは反射強度の差を検出することにより、走査
線ピッチむらの有無と「むらの程度」を知ることができ
る。However, if the interval between the first and second light spots in the sub-scanning direction is slightly larger (smaller) than the predetermined scanning line pitch, the "predetermined number of scanning lines" are not scanned.
The width of the minute becomes smaller (larger) in the first latent image pattern, and larger (smaller) in the second latent image pattern. Accordingly, when the distance between the two light spots in the sub-scanning direction deviates from the predetermined scanning line pitch, a difference is generated between the average potentials of the first and second latent image patterns. Therefore, by detecting the difference between the average potential and the reflection intensity, it is possible to know the presence or absence of the scanning line pitch unevenness and the “degree of unevenness”.
【0027】上記請求項4記載の走査線ピッチむら検出
方法において、第1および第2のトナーパターンを中間
転写媒体上に転写して反射強度を検出するようにしても
よい(請求項5)。また、請求項3または4または5記
載の走査線ピッチむら検出方法において、第1および第
2の潜像パターンは「副走査方向に並ぶように形成」し
てもよく(この場合には、電位センサもしくは光学セン
サを、第1、第2の潜像パターン用もしくはトナーパタ
ーン用に共通化できる)(請求項6)、「主走査方向に
並ぶように形成」してもよい(請求項7)。In the scanning line pitch unevenness detecting method according to the fourth aspect, the reflection intensity may be detected by transferring the first and second toner patterns onto the intermediate transfer medium (claim 5). Further, in the method for detecting uneven scanning line pitch according to claim 3, 4 or 5, the first and second latent image patterns may be “formed so as to be arranged in the sub-scanning direction” (in this case, the potential The sensor or the optical sensor can be used in common for the first and second latent image patterns or the toner pattern) (claim 6), or may be "formed so as to be arranged in the main scanning direction" (claim 7). .
【0028】上記請求項3〜7の任意の1に記載の走査
線ピッチむら検出方法において、第1および第2の潜像
パターンは、光スポットによる書込みが可能な領域のう
ち、記録走査領域(記録すべき画像が書き込まれる主走
査方向の領域)外に形成してもよい(この場合には走査
線ピッチむら検出を、画像書込み中であると否とを問わ
ず行なうことができる)が、記録走査領域内に形成して
もよい(請求項8)。請求項8記載の発明の場合は「実
際に画像形成を行なう領域」で走査線ピッチむらを検出
できる。[0028] In the scanning line pitch unevenness detecting method according to any one of claims 3 to 7, the first and second latent image patterns may include a recording scanning area (a writing area) of a writable area by a light spot. It may be formed outside the area in the main scanning direction where the image to be recorded is written (in this case, the scanning line pitch unevenness can be detected irrespective of whether or not the image is being written). It may be formed in the recording scanning area (claim 8). In the case of the invention described in claim 8, scanning line pitch unevenness can be detected in the "area where image formation is actually performed".
【0029】このように記録走査領域内に第1,第2の
潜像パターンを形成する場合、第1,第2の潜像パター
ンを複数対、主走査方向に形成することができ、このよ
うにすると、主走査方向において互いに異なる複数個所
で走査線ピッチむらを検出できる(請求項9)。When the first and second latent image patterns are formed in the recording scanning area in this manner, a plurality of pairs of the first and second latent image patterns can be formed in the main scanning direction. Accordingly, the scanning line pitch unevenness can be detected at a plurality of different positions in the main scanning direction (claim 9).
【0030】請求項10記載の「走査線ピッチむら検出
装置」は、請求項3記載の走査線ピッチむら検出方法を
実施するための装置であって、走査線ピッチむら検出用
に形成される第1及び第2の潜像パターンの平均的な電
位を検出する「1以上の電位センサ」と、電位センサの
出力に基づき走査線ピッチむらを検出する「ピッチむら
検出手段」とを有する。A "scanning line pitch unevenness detecting device" according to a tenth aspect is an apparatus for implementing the scanning line pitch unevenness detecting method according to the third aspect. It has "one or more potential sensors" for detecting an average potential of the first and second latent image patterns, and "pitch unevenness detecting means" for detecting scanning line pitch unevenness based on an output of the potential sensor.
【0031】請求項11記載の「走査線ピッチむら検出
装置」は、請求項4記載の走査線ピッチむら検出方法を
実施する装置であって、走査線ピッチむら検出用に形成
される第1及び第2のトナーパターンの各面積領域の反
射強度を検出する「1以上の光学センサ」と、光学セン
サの出力に基づき走査線ピッチむらを検出する「ピッチ
むら検出手段」とを有する。According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a scanning line pitch unevenness detecting apparatus for performing the scanning line pitch unevenness detecting method according to the fourth aspect. It has "one or more optical sensors" for detecting the reflection intensity of each area of the second toner pattern, and "pitch unevenness detecting means" for detecting scanning line pitch unevenness based on the output of the optical sensor.
【0032】請求項12記載の走査線ピッチむら補正装
置は「複数の光源からの光束を光導電性の感光体上に副
走査方向に分離した複数の光スポットとして集光し、こ
れらの光スポットにより上記感光体を同時に走査するマ
ルチビーム走査型画像形成装置において、走査線ピッチ
むらを補正する装置」であって、走査線ピッチを調整す
るピッチ調整手段と、このピッチ調整手段を制御するピ
ッチ制御手段を有し、上記請求項3〜9の任意の1に記
載の走査線ピッチむら検出方法で検出されたピッチむら
に応じて上記ピッチ制御手段によりピッチ調整手段を調
整してピッチむら補正を行なうようにしたことを特徴と
する。According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a scanning line pitch unevenness correcting apparatus, wherein: "light beams from a plurality of light sources are condensed on a photoconductive photosensitive member as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction; A multi-beam scanning type image forming apparatus that simultaneously scans the photoconductors, wherein a device for correcting scanning line pitch unevenness is provided, and a pitch control unit for adjusting the scanning line pitch and a pitch control unit for controlling the pitch adjusting unit. Means for correcting pitch unevenness by adjusting the pitch adjusting means by the pitch control means in accordance with the pitch unevenness detected by the scanning line pitch unevenness detecting method according to any one of claims 3 to 9. It is characterized by doing so.
【0033】請求項13記載のマルチビーム走査型画像
形成装置は「複数の光源からの光束を光導電性の感光体
上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光
し、これらの光スポットにより上記感光体を同時に走査
するマルチビーム走査型画像形成装置」において、請求
項10または11記載の走査線ピッチむら検出装置を有
することを特徴とする。According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided a multi-beam scanning type image forming apparatus comprising: a light beam from a plurality of light sources is condensed on a photoconductive photosensitive member as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction; A multi-beam scanning type image forming apparatus for simultaneously scanning the photoconductor with a spot has a scanning line pitch unevenness detecting device according to claim 10 or 11.
【0034】請求項14記載のマルチビーム走査型画像
形成装置は「複数の光源からの光束を光導電性の感光体
上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光
し、これらの光スポットにより上記感光体を同時に走査
するマルチビーム走査型画像形成装置」において、請求
項10または11記載の走査線ピッチむら検出装置と、
請求項12記載の走査線ピッチむら補正装置を有するこ
とを特徴とする。According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a multi-beam scanning type image forming apparatus, wherein "light beams from a plurality of light sources are condensed on a photoconductive photosensitive member as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction, and these light beams are condensed. A scanning line pitch unevenness detecting device according to claim 10 or 11, wherein:
A scanning line pitch unevenness correcting device according to claim 12 is provided.
【0035】[0035]
【発明の実施の形態】以下発明の実施の形態を、光源部
における光源の数が2である場合(2ビーム走査)を例
にとって説明する。図2(a)において、符号10で示
す「光源部」からは、2ビーム走査用の2つの光束が、
それぞれ平行光束として放射される。放射された2光束
は光スポット整形用のアパーチュア板20の開口部を通
過してシリンダレンズ43に入射し、副走査対応方向
(光源から被走査面に到る光路を直線的に展開した仮想
的な光路上で副走査方向に平行的に対応する方向を言
い、上記仮想的な光路上で主走査方向に平行的に対応す
る方向を主走査対応方向と言う)にのみ集光され、光偏
向器であるポリゴンミラー40の偏向反射面44の近傍
に「主走査対応方向に長い線像」として結像する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below by taking as an example a case where the number of light sources in a light source section is two (two-beam scanning). In FIG. 2A, two light beams for two-beam scanning are obtained from a “light source unit” indicated by reference numeral 10.
Each is emitted as a parallel beam. The two radiated light beams pass through the opening of the aperture plate 20 for shaping the light spot, enter the cylinder lens 43, and correspond to the sub-scanning direction (a virtual path obtained by linearly developing the optical path from the light source to the surface to be scanned). The direction parallel to the sub-scanning direction on the optical path, and the direction parallel to the main scanning direction on the virtual optical path is called the main scanning corresponding direction). An image is formed as a “long line image in the main scanning corresponding direction” in the vicinity of the deflecting reflection surface 44 of the polygon mirror 40 which is a container.
【0036】ポリゴンミラー40が矢印方向へ等速回転
すると、偏向反射面44により反射された2光束は偏向
光束となり、fθレンズ45と面倒れ補正用の長尺トロ
イダルレンズ46の作用により、被走査面に周面を合致
させた光導電性の感光体48上に2つの光スポットとし
て集光し、感光体48を走査する。When the polygon mirror 40 rotates at a constant speed in the direction of the arrow, the two light beams reflected by the deflecting / reflecting surface 44 become deflecting light beams, and are scanned by the action of the fθ lens 45 and the long toroidal lens 46 for correcting surface tilt. The light is condensed as two light spots on the photoconductive photoconductor 48 whose peripheral surface is matched with the surface, and the photoconductor 48 is scanned.
【0037】光源部10は、図2(b)に示すように、
ケーシング18内に、2つの半導体レーザ11,12
と、2つののコリメートレンズ13,14と、半導体レ
ーザ11からの光束の偏光面を90度旋回させる1/2
波長板15と、半導体レーザ11,12からの光束を合
成するビーム合成プリズム16と、合成された2光束の
偏光状態を「シェーディング補正」のために円偏光状態
にするための1/4波長板17とを配備したものであ
る。As shown in FIG. 2B, the light source 10
Two semiconductor lasers 11 and 12 are provided in a casing 18.
And the two collimating lenses 13 and 14 and a half that rotates the polarization plane of the light beam from the semiconductor laser 11 by 90 degrees.
A wave plate 15, a beam combining prism 16 for combining light beams from the semiconductor lasers 11 and 12, and a quarter wave plate for changing the polarization state of the combined two light beams into a circularly polarized state for "shading correction". 17 are provided.
【0038】半導体レーザ11,12から放射された各
光束は、対応するコリメートレンズ13,14で平行光
束化されたのちビーム合成プリズム16に入射する。半
導体レーザ11からの光束は、ビーム合成プリズム16
における偏光ビームスプリッタ膜162を透過してビー
ム合成プリズム16から射出する。半導体レーザ12か
らの光束はビーム合成プリズム16の斜面161で内部
反射し、偏光ビームスプリッタ膜162により反射され
てビーム合成プリズム16から射出する。Each light beam emitted from the semiconductor lasers 11 and 12 is converted into a parallel light beam by the corresponding collimator lenses 13 and 14 and then enters the beam combining prism 16. The light beam from the semiconductor laser 11 is
The light passes through the polarization beam splitter film 162 at the point, and exits from the beam combining prism 16. The light beam from the semiconductor laser 12 is internally reflected by the inclined surface 161 of the beam combining prism 16, is reflected by the polarization beam splitter film 162, and exits from the beam combining prism 16.
【0039】図2(b)において、コリメートレンズ1
3,14は共に「主走査対応方向に平行な同一面内」に
ある。半導体レーザ11,12は、その内の少なくとも
一方が、対応するコリメートレンズの光軸から主・副走
査対応方向に微小距離ずれている。図2(b)では、半
導体レーザ12のコリメートレンズ14の光軸からの副
走査対応方向へのずれが「誇張して」描かれている。即
ち、半導体レーザ11,12の発光部を結ぶ直線は主走
査対応方向と微少な角:θAをなし、角:θAの傾きによ
り、ビーム合成プリズム16から射出する2光束は互い
に副走査対応方向に微少角傾いている。In FIG. 2B, the collimating lens 1
Both 3 and 14 are “in the same plane parallel to the main scanning corresponding direction”. At least one of the semiconductor lasers 11 and 12 is slightly displaced from the optical axis of the corresponding collimator lens in the main / sub scanning corresponding direction. In FIG. 2B, the deviation of the semiconductor laser 12 from the optical axis of the collimator lens 14 in the sub-scanning corresponding direction is illustrated “exaggeratedly”. That is, the straight line in the main scanning corresponding direction and the fine angular connecting the light emitting portion of the semiconductor laser 11, 12: form a theta A, square: the slope of theta A, 2 a light beam emitted from the beam combining prism 16 is scan-corresponding to each other It is slightly inclined in the direction.
【0040】この微少角により、被走査面50上に集光
する2つの光スポット(図2(c)に符号SP1,SP
2で示す)の副走査方向の間隔:PSが定まる。また半
導体レーザ11,12の、対応するコリメートレンズの
光軸からの主走査対応方向の微少なずれにより、ビーム
合成プリズム16から射出する光束は、主走査方向にお
いて、図2(b)に示すように互いに微少な角:θBを
なす。この角:θBにより被走査面50上に集光する2
つの光スポットの主走査方向の間隔:PM(図2
(c))が定まる。Due to the small angle, two light spots condensed on the scanning surface 50 (SP1 and SP2 in FIG. 2C).
The gap in the sub-scanning direction indicated by 2): P S is determined. Due to a slight shift of the semiconductor lasers 11 and 12 from the optical axis of the corresponding collimating lens in the main scanning direction, the light beam emitted from the beam combining prism 16 in the main scanning direction is as shown in FIG. Make a small angle θ B with each other. The light is condensed on the scanned surface 50 by this angle: θ B 2
Interval between two light spots in the main scanning direction: P M (FIG. 2
(C)) is determined.
【0041】光源部10を、コリメートレンズ13の光
軸の回りに回転させることにより、被走査面50上の2
つの光スポットの間隔を一定に保ったまま、これらスポ
ットを結ぶ方向を回転させることができ、このことを利
用して、上記間隔:PS,PMの調整することが可能であ
る。By rotating the light source unit 10 around the optical axis of the collimating lens 13,
One of the spacing of the light spot while keeping constant the direction connecting these spots can be rotated, by utilizing this fact, the interval: P S, it is possible to adjust the P M.
【0042】図2(b)において、ビーム合成プリズム
16を射出した2光束は直線偏光の偏光面が互いに直交
しており、このままでは偏向反射面41の反射角変化に
よる反射率の差により「シェーディング」が生じるの
で、1/4波長板17を透過させることにより、これら
を円偏光状態にする。このようにして、合成され、シェ
ーディング補正された2光束が光源部10から射出す
る。In FIG. 2B, the two light beams emitted from the beam combining prism 16 have linearly polarized planes of polarization orthogonal to each other. Are caused to pass through the quarter-wave plate 17 to make them circularly polarized. In this manner, the two light beams that have been combined and subjected to shading correction are emitted from the light source unit 10.
【0043】光源部10から射出し、ポリゴンミラー4
0により偏向された2光束は走査領域へ向かって偏向す
るが、走査領域へ向かう途上においてfθレンズ45を
介して図示されない受光素子に入射して検出され、走査
開始の同期信号の発生に供される。The light emitted from the light source unit 10 is
The two light beams deflected by 0 are deflected toward the scanning region. On the way to the scanning region, they enter the light receiving element (not shown) via the fθ lens 45 and are detected, and are used to generate a synchronization signal for starting scanning. You.
【0044】図2(a)において符号49は「センサ」
を示し、センサ49の出力は検出部50に入力するよう
になっている。検出部50は例えばマイクロコンピュー
タである。センサ49は「電位センサあるいは光学セン
サ」とすることができる。In FIG. 2A, reference numeral 49 denotes a "sensor".
And the output of the sensor 49 is input to the detection unit 50. The detection unit 50 is, for example, a microcomputer. The sensor 49 can be a “potential sensor or an optical sensor”.
【0045】図1(a)は、図2(a)におけるセンサ
49を電位センサ49Aとして実施した場合の実施形態
を示している。符号491は電位センサ49Aのプロー
ブを示す。プローブ491の位置は、光スポットによる
走査位置と現像部(図示されず)との間に設定される。FIG. 1A shows an embodiment in which the sensor 49 in FIG. 2A is implemented as a potential sensor 49A. Reference numeral 491 indicates a probe of the potential sensor 49A. The position of the probe 491 is set between a scanning position by a light spot and a developing unit (not shown).
【0046】図1(b)は、図2(a)におけるセンサ
49を光学センサ49Bとして実施した場合の実施形態
を示している。光学センサ49Bの位置は、現像部60
の下流側に設定される。FIG. 1B shows an embodiment in which the sensor 49 in FIG. 2A is implemented as an optical sensor 49B. The position of the optical sensor 49B is determined by the developing unit 60.
Is set on the downstream side of
【0047】以下、図1(b)の実施の形態に即して請
求項2記載の発明の走査線ピッチむら検出方法を説明す
る。図2に示したマルチビーム走査型画像形成装置にお
いて、走査線のピッチむらを検出するには、感光体48
を均一帯電したのち2つの光スポットSP1,SP2に
よる同時の走査を繰り返して行なって「ピッチむら検出
用の潜像パターン」を形成し、この潜像パターンを現像
部60により「所定の現像条件」で現像してトナーパタ
ーンを得る。Hereinafter, a method of detecting uneven scanning line pitch according to the second aspect of the present invention will be described with reference to the embodiment of FIG. In the multi-beam scanning type image forming apparatus shown in FIG.
Is uniformly charged, and the simultaneous scanning by the two light spots SP1 and SP2 is repeated to form a “latent image pattern for detecting pitch unevenness”. To obtain a toner pattern.
【0048】図1(c)〜(e)に、このようにして得
られたトナーパターンを説明図的に示す。符号1,
1’,1’’は、光スポットSP1の走査により得られ
たトナー画像(線画像)、符号2,2’,2’’は光ス
ポットSP2の走査により得られたトナー画像を示す。
なお「実際に走査線ピッチむらを検出する際に形成され
るトナーパターン」は10mm×10mm程度が実際的
であり、従って、トナーパターンは100本前後の走査
線で形成されることになるが、図1(c)〜(e)は説
明図であるので走査線6本分のみを示している。FIGS. 1 (c) to 1 (e) are illustrations showing the toner patterns thus obtained. Code 1,
1 ′ and 1 ″ indicate toner images (line images) obtained by scanning the light spot SP1, and reference numerals 2, 2 ′ and 2 ″ indicate toner images obtained by scanning the light spot SP2.
Note that “the toner pattern actually formed when the scanning line pitch unevenness is detected” is practically about 10 mm × 10 mm, and therefore, the toner pattern is formed by about 100 scanning lines. FIGS. 1C to 1E are explanatory diagrams, and show only six scanning lines.
【0049】さて、走査線ピッチむらが全く無い理想的
な状態では、上記の如く形成されるトナーパターンは図
1(c)に示すように、均一なトナー画像濃度を有す
る。このような理想的なトナーパターンの面積領域に光
学センサ49Bの発光源493から光を照射し、上記面
積領域の反射強度を受光部494の受光量として検出す
る。そしてこの時の検出値を所定の「比較値」として、
予め図2(a)に示す検出部50に記憶させておく。In an ideal state where there is no scanning line pitch unevenness, the toner pattern formed as described above has a uniform toner image density as shown in FIG. Light is emitted from the light emitting source 493 of the optical sensor 49B to the area of such an ideal toner pattern, and the reflection intensity of the area is detected as the amount of light received by the light receiving unit 494. Then, the detected value at this time is defined as a predetermined “comparison value”,
It is stored in advance in the detection unit 50 shown in FIG.
【0050】2つの光スポットSP1,SP2の副走査
方向の間隔:PS(図2(c))が所定の走査線ピッチ
よりも小さくなると、光スポットSP2による走査線の
上部が光スポットSP1による走査線の下部に重なるの
で、形成されるトナーパターンは図1(d)に示す如く
なって、トナーの存在しない部分(ハッチの無い部分)
が発生する。2つの光スポットSP1,SP2の副走査
方向の間隔:PSが所定の走査線ピッチよりも大きくな
ると、光スポットSP1による走査線の上部が光スポッ
トSP2による走査線の下部に重なるので、形成される
トナーパターンは図1(e)に示す如くなって、やはり
トナーの存在しない部分が発生する。When the distance between the two light spots SP1 and SP2 in the sub-scanning direction: P S (FIG. 2C) is smaller than a predetermined scanning line pitch, the upper part of the scanning line formed by the light spot SP2 is formed by the light spot SP1. Since the toner pattern overlaps the lower part of the scanning line, the toner pattern to be formed is as shown in FIG.
Occurs. When the distance between the two light spots SP1 and SP2 in the sub-scanning direction: P S is larger than a predetermined scanning line pitch, the upper part of the scanning line formed by the light spot SP1 overlaps the lower part of the scanning line formed by the light spot SP2. As shown in FIG. 1 (e), a portion where no toner is present also occurs.
【0051】従って、走査線ピッチむらが存在すると、
得られるトナーパターンには、図1(d),(e)に示
すように、感光体表面がトナーで覆われていない部分が
存在し、この部分では反射強度が大きくなるので、光学
センサ49Bで検出される面積領域内の平均的な反射強
度は前記「比較値」よりも大きくなる。Therefore, if there is scanning line pitch unevenness,
As shown in FIGS. 1D and 1E, the obtained toner pattern includes a portion where the surface of the photoreceptor is not covered with the toner, and the reflection intensity increases in this portion. The average reflection intensity within the detected area becomes larger than the “comparison value”.
【0052】従って、光学センサ49Bによる検出値を
前記「所定の比較値」と比較することにより、検出値が
比較値よりも大きいときに走査線ピッチむらが存在する
ことを検出できる。Therefore, by comparing the value detected by the optical sensor 49B with the "predetermined comparison value", it is possible to detect the presence of scanning line pitch unevenness when the detection value is larger than the comparison value.
【0053】図2(a)の検出部50は、光学センサ4
9Bの出力から前記「比較値」を減算する演算を実行
し、演算の結果が所定の許容値を越えるとき、走査線ピ
ッチむらが実際的な許容量を越えるものと判定して、図
示されない表示部にその旨を表示する。The detection unit 50 shown in FIG.
An operation of subtracting the "comparison value" from the output of the line 9B is performed. If the result of the operation exceeds a predetermined allowable value, it is determined that the scanning line pitch unevenness exceeds the actual allowable amount, and a display (not shown) is displayed. Indicate this in the section.
【0054】上には、形成された「ピッチむら検出用の
潜像パターン」を現像して得られるトナーパターンの反
射強度をセンサで検出したが、上記潜像パターンの平均
的な電位を電位センサ49Aで検出することによって
も、走査線ピッチむらを検出できる(請求項1)。Above, the reflection intensity of the toner pattern obtained by developing the formed “latent image pattern for detecting uneven pitch” was detected by a sensor, but the average potential of the latent image pattern was detected by a potential sensor. Scanning line pitch unevenness can also be detected by detecting with 49A (claim 1).
【0055】即ち、図1(c)に示す如きトナーパター
ンが得られるような潜像パターンでは電位センサ49A
が検出する平均的な電位は絶対値において小さく、これ
を検出部50に予め「比較値」として記憶させておく。
トナーパターンが図1(d),(e)となるような場合
の潜像パターンでは、走査残り部分(例えば図1(d)
において符号2と1’とで示される部分の間の領域)の
残留電位の影響で、電位センサ49Aの検出する平均的
な電位が前記比較値よりも絶対値で大きくなる。従っ
て、検出部50により、電位センサ49Aの出力から前
記「比較値」を減算する演算を実行し、演算の結果が所
定の許容値を越えるとき、走査線ピッチむらが実際的な
許容量を越える走査線ピッチむらの存在を検出できる。
このような走査線ピッチむらが存在するときは検出部5
0は、その旨を図示されない表示部に表示する。That is, in the case of a latent image pattern such that a toner pattern as shown in FIG.
Are small in absolute value, and this is stored in the detection unit 50 in advance as a “comparison value”.
In the case of the latent image pattern in which the toner pattern is as shown in FIGS. 1D and 1E, the remaining scan portion (for example, FIG. 1D)
, The average potential detected by the potential sensor 49A becomes larger in absolute value than the comparison value due to the effect of the residual potential in the region between the portions indicated by reference numerals 2 and 1 '). Therefore, the detection unit 50 executes an operation of subtracting the “comparison value” from the output of the potential sensor 49A, and when the result of the operation exceeds a predetermined allowable value, the scanning line pitch unevenness exceeds the actual allowable amount. The presence of scanning line pitch unevenness can be detected.
When such scanning line pitch unevenness exists, the detecting unit 5
“0” indicates that fact on a display unit (not shown).
【0056】上記請求項1,2記載の発明は、ある程度
大きい走査線ピッチむらを検出するのに有効である。し
かし、これらの方法の場合、走査線ピッチむらの原因
が、光スポットSP1,SP1の間隔:PSが、大きく
なったためであるのか、小さくなったためであるのかを
知ることはできない。The inventions according to the first and second aspects are effective for detecting a somewhat large scanning line pitch unevenness. However, in these methods, the cause of the scanning line pitch unevenness, the light spot SP1, SP1 interval: P S is, whether it is because the increased, it is impossible to know in order to become small.
【0057】以下に説明する請求項3〜9記載の走査線
ピッチむら検出方法は、走査線ピッチむらの原因が、光
スポットSP1,SP1の間隔:PSが、大きくなった
ためであるのか、小さくなったためであるのかを知るこ
とができ、走査線ピッチむらが小さい場合の検出に有効
である。[0057] scan line pitch irregularity detection method according to claim 3-9, wherein to be described below, causes the scanning line pitch unevenness, spacing of the light spot SP1, SP1: whether P S is because increased, decreased This is useful for detecting when the scan line pitch unevenness is small.
【0058】以下、図2(a)で示すマルチビーム走査
型画像形成装置に即して、請求項3,4記載の発明の実
施の形態を説明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the multi-beam scanning type image forming apparatus shown in FIG.
【0059】図2(a)に示すセンサ49としては、図
1(a)に示した電位センサ49Aとすることも、光学
センサ49Bとすることもできる。As the sensor 49 shown in FIG. 2A, the potential sensor 49A shown in FIG. 1A or the optical sensor 49B can be used.
【0060】図3(a)において、符号SP11,SP
22はそれぞれ、2つの光スポットSP1,SP2の光
強度分布を示し、符号Lvは感光体48(図2(a))
の光導電性の生じる閾値を示す。なお図3(a)の左右
方向が副走査方向である。In FIG. 3A, reference numerals SP11, SP
Reference numeral 22 denotes a light intensity distribution of the two light spots SP1 and SP2, respectively, and reference numeral Lv denotes a photosensitive member 48 (FIG. 2A).
2 shows a threshold value at which the photoconductivity of the liquid crystal occurs. Note that the horizontal direction in FIG. 3A is the sub-scanning direction.
【0061】図3(a)は、2つの光スポットSP1,
SP2の副走査方向の間隔:PSが適正な場合であり、
このとき、感光体48には「2走査線分の幅:L0を持
った潜像」が形成される。FIG. 3A shows two light spots SP1 and SP1.
SP2 in the sub-scanning direction: P S is appropriate.
At this time, a “latent image having a width of two scanning lines: L 0 ” is formed on the photoconductor 48.
【0062】図3(b)に示すように、光スポットSP
1,SP2の副走査方向の間隔が正規の間隔:PSから
Δdだけ小さくなって、間隔:PS−Δdになったとす
ると、このときの光スポットSP1,SP2で同時に走
査して得られる潜像の幅:L1は正規の幅:L0よりも短
い。この場合、光スポットSP2による走査を先に行な
い、これに続いて光スポットSP1の走査を行なうと、
この走査で形成される潜像の幅:L2は正規の幅:L0よ
りも大きくなる。即ちL1<L0<L2である。As shown in FIG. 3B, the light spot SP
1, the gap in the sub-scanning direction is a regular spacing SP2: smaller from P S only [Delta] d, Interval: When becomes P S -Δd, latent obtained by scanning simultaneously with a light spot SP1, SP2 of the time image width: L 1 is normal width: less than L 0. In this case, scanning with the light spot SP2 is performed first, and then scanning with the light spot SP1 is performed.
Latent image width formed by the scanning: L 2 is regular width: greater than L 0. That is, L 1 <L 0 <L 2 .
【0063】そこで、2つの光源を同時に点灯して2つ
の光スポットSP1,SP2による同時走査を、2走査
線(所定数の走査線)おきに繰り返して得られるピッチ
むら検出用の「第1の潜像パターン」と、第2の光スポ
ットSP2による走査とこれに続く第1の光スポットS
P1による走査を2走査線おきに繰り返して得られるピ
ッチむら検出用の「第2の潜像パターン」とを形成す
る。Therefore, the "first" for detecting pitch unevenness, which is obtained by simultaneously turning on two light sources and simultaneously scanning by two light spots SP1 and SP2 every two scanning lines (a predetermined number of scanning lines), is obtained. Latent image pattern ", scanning by the second light spot SP2, and the subsequent first light spot S
A "second latent image pattern" for detecting pitch unevenness, which is obtained by repeating the scanning by P1 every two scanning lines, is formed.
【0064】即ち、第1の潜像パターンは、光スポット
SP1,SP2による走査を同時に行ない、走査線の順
序を1,2,3,...とすると、走査線1,2が走査
され、走査線3,4は走査されず、走査線5,6が走査
され、という具合に走査が繰り返され、例えば図3
(c)に示す如き潜像パターン(説明の簡単のために走
査線を6本として描いているが、実際に形成される潜像
パターンは10mm×10mm程度が適当である)。図
において走1〜走6は走査線番号1〜6を示す。That is, in the first latent image pattern, scanning by the light spots SP1 and SP2 is performed simultaneously, and the order of the scanning lines is 1, 2, 3,. . . Then, the scanning lines 1 and 2 are scanned, the scanning lines 3 and 4 are not scanned, the scanning lines 5 and 6 are scanned, and so on.
(C) A latent image pattern as shown in (c) (six scanning lines are drawn for simplicity of description, but a latent image pattern actually formed is suitably about 10 mm × 10 mm). In the figure, run 1 to run 6 indicate scanning line numbers 1 to 6.
【0065】図3(c)は、走査線ピッチむらが無い理
想的な場合の第1の潜像パターンを示し、光走査された
部分(ハッチを施した部分)と走査されない部分が正規
の2走査線分の幅:L0で交互に副走査方向(図の上下
方向)に縞状に配列する。FIG. 3C shows a first latent image pattern in an ideal case where there is no scanning line pitch unevenness, and the optically scanned portion (hatched portion) and the non-scanned portion are the regular two. The width of the scanning line: L 0 is alternately arranged in the sub-scanning direction (vertical direction in the figure) in a stripe pattern.
【0066】図3(d)は、光スポットSP1,SP2
の副走査方向の間隔:PSが適正な間隔よりも小さくな
ったときに形成される第1の潜像パターンであり、ハッ
チを施した走査される部分の幅がL1(<L0)で、走査
されない部分の幅がL2(>L0)となる。このとき、第
2の潜像パターン(光スポットSP2でまず走査を行な
い、次いで光スポットSP1で走査を行ない、2走査を
休んだのち光スポットSP2での走査を行ない、続いて
光スポットSP1による走査を行なうと言ったプロセス
を繰り返す)は図3(e)に示すように、走査された部
分(ハッチを施した部分の幅がL2で、走査されない部
分の幅がL1となる。FIG. 3D shows light spots SP1 and SP2.
Is the first latent image pattern formed when P S is smaller than the proper interval, and the width of the hatched portion to be scanned is L 1 (<L 0 ). Thus, the width of the unscanned portion is L 2 (> L 0 ). At this time, the second latent image pattern (scanning is first performed with the light spot SP2, then scanning is performed with the light spot SP1, and after scanning is stopped, scanning with the light spot SP2 is performed. repeat the process said performing), as shown in FIG. 3 (e), the width of the scanned portion (portion hatched are in L 2, the width of the scanned portion not become L 1.
【0067】感光体は先ず均一に帯電され、走査された
部分では電位の絶対値が下がるから、潜像パターンの平
均的な電位として電位センサ49Aに検出される電位の
絶対値は「走査されない部分の面積」が大きいほど大き
く、図3(d),(e)に示す状態では、図3(d)に
示す「第1の潜像パターン」の検出電位の方が、(e)
に示す第2の潜像パターンの検出電位よりも(絶対値に
おいて)大きい。The photosensitive member is first uniformly charged, and the absolute value of the potential drops in the scanned portion. Therefore, the absolute value of the potential detected by the potential sensor 49A as the average potential of the latent image pattern is calculated as "the portion not scanned". 3 (d) and 3 (e), the detected potential of the “first latent image pattern” shown in FIG.
(Absolute value) than the detected potential of the second latent image pattern shown in FIG.
【0068】以下、説明の具体性のために感光体は正帯
電され、検出電位は正電位であるとする。第1,第2の
潜像パターンから検出される電位をそれぞれ、V1,V2
とすると、上記場合にはV1>V2となる。逆に、光スポ
ットSP1,SP2の間隔:PSが適正な値よりも大き
くなった場合にはV2>V1となる。Hereinafter, it is assumed that the photosensitive member is positively charged and the detection potential is a positive potential for the sake of specificity of the description. The potentials detected from the first and second latent image patterns are denoted by V 1 and V 2 , respectively.
Then, in the above case, V 1 > V 2 . Conversely, spacing of the light spots SP1, SP2: a V 2> V 1 if P S is greater than the appropriate value.
【0069】従って、図2(a)における検出部50
で、演算:V2−V1を行なうと、その結果の正負によ
り、走査線ピッチむらが「間隔:PSが小さくなった」
ことによるものか「間隔:PSが大きくなった」ことに
よるものかを知ることができ、演算結果の大小により
「走査線ピッチむらの程度」を知ることができる。Accordingly, the detecting section 50 in FIG.
When the operation: V 2 −V 1 is performed, the scanning line pitch unevenness is “interval: P S is reduced” due to the sign of the result.
It is possible to know whether this is due to the fact or “interval: P S has increased”, and it is possible to know “the degree of scan line pitch unevenness” based on the magnitude of the calculation result.
【0070】以上が請求項3記載の発明の実施の形態の
説明である。The above is an explanation of the embodiment of the third aspect of the present invention.
【0071】上記第1および第2の静電潜像を所定の現
像条件で現像すると、光学センサ49Bで検出できる
「面積領域における平均的な反射強度」は、走査されな
い部分の面積がおきほど大きいから、光学センサ49B
による検出結果を第1および第2のトナーパターンに就
いて、それぞれP1およびP2とすれば、検出部50で演
算:P2−P1を行なうと、その結果の正負により、走査
線ピッチむらが「間隔:PSが小さくなった」ことによ
るものか「間隔:PSが大きくなった」ことによるもの
かを知ることができ、演算結果の大小により、走査線ピ
ッチむらの程度を知ることができる。以上が請求項4記
載の発明の実施の形態の説明である。なお、上記請求項
1ないし4記載の発明においては、潜像パターンあるい
は第1,第2の潜像パターンの発生パターンは走査装置
の制御部に記憶されている。When the first and second electrostatic latent images are developed under predetermined developing conditions, the “average reflection intensity in the area area” that can be detected by the optical sensor 49B is large as the area of the non-scanned portion is large. From the optical sensor 49B
The detection results of Studies on the first and second toner patterns, if respectively P 1 and P 2, calculated by the detection unit 50: Doing P 2 -P 1, the sign of the result, the scanning line pitch It is possible to know whether the unevenness is due to “interval: P S has decreased” or “interval: P S has increased”, and to know the degree of scanning line pitch unevenness according to the magnitude of the calculation result. be able to. The above is the description of the embodiment of the invention described in claim 4. In the first to fourth aspects of the present invention, the latent image pattern or the generation pattern of the first and second latent image patterns is stored in the control unit of the scanning device.
【0072】検出部50は、請求項10,11記載の発
明の走査線ピッチむら検出装置に於ける「ピッチむら検
出手段」を構成する。The detecting section 50 constitutes "pitch unevenness detecting means" in the scanning line pitch unevenness detecting apparatus according to the tenth and eleventh aspects of the present invention.
【0073】上記検出された走査線ピッチむらは、適当
な表示手段に表示しても良いし、以下に説明するように
「走査線ピッチむら補正用のデータ」として用いても良
い。The detected scanning line pitch unevenness may be displayed on a suitable display means, or may be used as “scanning line pitch unevenness correction data” as described below.
【0074】なお、上に説明した実施の形態において、
第1および第2の潜像パターンは、副走査方向に並ぶよ
うに形成される(請求項6)。従って、センサ49(電
位センサ49Aもしくは光学センサ49B)は1つで、
潜像パターンの平均的な電位もしくはトナーパターンの
平均的な反射強度を順次に検出することになる。In the above-described embodiment,
The first and second latent image patterns are formed so as to be arranged in the sub-scanning direction (claim 6). Therefore, there is one sensor 49 (potential sensor 49A or optical sensor 49B),
The average potential of the latent image pattern or the average reflection intensity of the toner pattern is sequentially detected.
【0075】また第1,第2の潜像パターンは記録走査
領域内に形成される(請求項8)。従って、現に画像記
録が行なわれる領域における走査線ピッチむらの存在を
検出できる。しかし反面、画像形成用の走査が行なわれ
るときには、走査線ピッチむら検出を行なうことができ
ない。このような場合「走査線ピッチむら検出」は、画
像形成プロセスの所定回数(例えば100回)ごとに強
制的に行なうようにするか、画像形成装置のメインスイ
ッチがオンになるたびに画像形成プロセスが行なわれる
のに先立って行なうようにするなどすればよい。Further, the first and second latent image patterns are formed in the recording scanning area (claim 8). Therefore, it is possible to detect the presence of scanning line pitch unevenness in an area where image recording is actually performed. However, on the other hand, when scanning for image formation is performed, it is not possible to detect scanning line pitch unevenness. In such a case, the "scanning line pitch unevenness detection" is forcibly performed every predetermined number of times (for example, 100 times) of the image forming process, or every time the main switch of the image forming apparatus is turned on. May be performed prior to the execution.
【0076】以下、請求項12記載の走査線ピッチむら
補正装置の実施の形態を説明する。An embodiment of the scanning line pitch unevenness correcting apparatus according to the twelfth aspect will be described below.
【0077】図2(a)において、回転機構80は、ス
テッピングモータとその回転を光源部10に伝達する回
転伝達機構(ギヤ、チェーン、ワイヤ等)により構成さ
れ、光源部10を、コリメートレンズ13の光軸の回り
に回転させるようになっている。光源部10をこのよう
に回転させると、図2(c)における光スポットSP
1,SP2の配列方向が被走査面上で回転するので、こ
のことを利用して光スポットSP1,SP2の副走査方
向の間隔:PSを調整できる。In FIG. 2A, the rotation mechanism 80 is composed of a stepping motor and a rotation transmission mechanism (gear, chain, wire, etc.) for transmitting the rotation of the stepping motor to the light source unit 10. It is designed to rotate around the optical axis. When the light source unit 10 is rotated in this manner, the light spot SP in FIG.
Since 1, the arrangement direction of SP2 is rotated on the surface to be scanned, the sub-scanning direction between the light spot SP1, SP2 By utilizing this: to adjust the P S.
【0078】従って、回転機構80は請求項12記載の
発明における「走査線ピッチを調整するピッチ調整手
段」を構成する。回転機構80はピッチ制御部70によ
り制御される。従ってピッチ制御部70は「ピッチ調整
手段である回転機構80を制御するピッチ制御手段」を
構成する。前述のように、検出部50はこれをマイクロ
コンピュータで構成できる。従って、図2(a)におい
ては別体として示した検出部30とピッチ制御部70と
を、まとめてマイクロコンピュータで構成することがで
きる。Therefore, the rotation mechanism 80 constitutes "pitch adjusting means for adjusting the scanning line pitch" in the twelfth aspect of the present invention. The rotation mechanism 80 is controlled by the pitch control unit 70. Therefore, the pitch control section 70 constitutes "pitch control means for controlling the rotation mechanism 80 as pitch adjustment means". As described above, the detection unit 50 can be constituted by a microcomputer. Therefore, the detection unit 30 and the pitch control unit 70, which are separately illustrated in FIG. 2A, can be collectively configured by a microcomputer.
【0079】走査線ピッチむら補正は、前述のようにし
て第1および第2の潜像パターンを用いる方法(請求項
3または4)により検出部30において検出された「走
査線ピッチむら」をピッチ制御部70へ入力し、ピッチ
制御部70により回転機構80を制御して、光源部10
をコリメートレンズ13の光軸の回りに回転させること
により行なわれる。The correction of the scanning line pitch unevenness is performed by correcting the “scanning line pitch unevenness” detected by the detection unit 30 by the method using the first and second latent image patterns as described above. Input to the control unit 70, the pitch control unit 70 controls the rotation mechanism 80, and the light source unit 10
Is rotated around the optical axis of the collimating lens 13.
【0080】この走査線ピッチむら補正の手順を図4の
フロー図を参照して説明する。走査線ピッチむら補正の
最初の工程は「走査線ピッチむら検出」である。走査線
ピッチむら検出は、上述した請求項3または4記載の発
明による方法で行なわれる。即ち、第1,第2の潜像パ
ターンの平均的な電位:V1,V2の差とその正負、もし
くは第1,第2のトナーパターンの平均的な反射強度:
P1,P2の差とその正負により、走査線ピッチむらの程
度と、その原因が間隔:PSが適正値より大きいことに
よるか、小さいことによるかが知られる。The procedure for correcting the scanning line pitch unevenness will be described with reference to the flowchart of FIG. The first step of the scanning line pitch unevenness correction is “scanning line pitch unevenness detection”. The detection of the scanning line pitch unevenness is performed by the method according to the third or fourth aspect of the present invention. That is, the average potential of the first and second latent image patterns: the difference between V 1 and V 2 and its sign, or the average reflection intensity of the first and second toner patterns:
The P 1, the difference between P 2 and its negative, and the degree of the scanning line pitch unevenness, the cause Interval: or P S is due to greater than the proper value, known either by small.
【0081】このように知られた検出結果のうち、間
隔:PSが適正値より大きいことによるか、小さいこと
によるかに応じて、回転機構80による光源部10の回
転の向き(左回りか右回りか)を決定し、V1,V2の
差、もしくはP1,P2の差により知られる「走査線ピッ
チむらの程度」により、光源部10の回転角(ピッチ制
御部70で決定し(この決定は、上記「差」と回転角と
を予めテーブルとして決定しておいてテーブルにより決
定しても良いし、適当な演算式で演算して決定してもよ
い)、このように決定された回転角を実現するようにピ
ッチ制御部70により回転機構80を制御して光スポッ
トSP1,SP2の副走査方向の間隔:PSが実現され
るようにする。According to whether the interval: P S is larger or smaller than the appropriate value, the direction of rotation of the light source unit 10 by the rotating mechanism 80 (counterclockwise or counterclockwise) determines clockwise or), the difference between V 1, V 2, or the "degree of scanning line pitch unevenness" which is known by the difference of P 1, P 2, determined by the rotation angle (pitch control unit 70 of the light source unit 10 (In this determination, the “difference” and the rotation angle may be determined in advance as a table and may be determined by a table, or may be determined by calculating using an appropriate arithmetic expression.) The rotation mechanism 80 is controlled by the pitch control unit 70 so as to realize the determined rotation angle so that the interval P S in the sub-scanning direction between the light spots SP1 and SP2 is realized.
【0082】なお、必要に応じて、走査線ピッチむら補
正後に再度、走査線ピッチむら検出を行ない、補正結果
が十分でない場合に上記の補正プロセスを繰り返すよう
にしてもよい。If necessary, after the correction of the scanning line pitch unevenness, the scanning line pitch unevenness may be detected again, and if the correction result is not sufficient, the above correction process may be repeated.
【0083】あるいは、図5に示すような手順で走査線
ピッチむら補正を行なっても良い。即ち、例えば上記電
位:V1,V2を検出し、その差の絶対値:|ΔV|をA
とし、Aが走査線ピッチむらの許容限界に対応する値:
Sより大きいか否かを判別する。A<Sのときは走査線
ピッチむらは許容限度内であるから「走査線ピッチむら
補正を行なう必要」がない。Alternatively, the correction of the scanning line pitch unevenness may be performed according to the procedure shown in FIG. That is, for example, the potentials: V 1 and V 2 are detected, and the absolute value of the difference: | ΔV |
And A is a value corresponding to the permissible limit of scanning line pitch unevenness:
It is determined whether or not it is larger than S. When A <S, the scanning line pitch unevenness is within the allowable limit, and there is no need to perform “scanning line pitch unevenness correction”.
【0084】A>Sのときは、光源部を予め定められた
(+)方向へ所定角回転させて、新たに|ΔV|=Bを
検出し、B<Sのときは補正を終了する。B>Sのとき
は、B<Aであるか否かを判別し、B<Aのときはルー
プ:αによりステップ:S1に戻り、光源部を(+)方
向に所定角回転させ、再度走査線ピッチむら検出を行な
う。そしてこのプロセスをB<Sとなるまで行なう。When A> S, the light source unit is rotated by a predetermined angle in a predetermined (+) direction, and | ΔV | = B is newly detected. When B <S, the correction is terminated. When B> S, it is determined whether or not B <A. When B <A, the process returns to step S1 by loop: α, rotates the light source unit by a predetermined angle in the (+) direction, and scans again. Detects line pitch unevenness. This process is repeated until B <S.
【0085】また、B>Aのときは、光源部を(−)方
向へ所定角回転させて走査線ピッチむら検出を行ない|
ΔV|=Cが「S<Cであるか否か」を判別する。そし
てS<Cのときはループβでステップ:S2へ戻り、C
<Sであるか否かを判別し、S<Cのときはループ:β
によりステップ:S2に戻り、光源部を(−)方向に所
定角回転させ、再度走査線ピッチむら検出を行なう。そ
してこのプロセスをC<Sとなるまで行なう。尚、ルー
プ:α,βでステップS1,S2に戻る度に、光源部の
回転角は適宜に小さく設定しなおす。When B> A, the light source unit is rotated by a predetermined angle in the (-) direction to detect scanning line pitch unevenness.
It is determined whether ΔV | = C is “whether or not S <C”. If S <C, the process returns to step S2 in a loop β, and C
<S is determined, and if S <C, a loop: β
To return to step S2, rotate the light source unit by a predetermined angle in the (-) direction, and detect the scanning line pitch unevenness again. This process is repeated until C <S. Each time the process returns to steps S1 and S2 in the loop α and β, the rotation angle of the light source unit is appropriately set to a smaller value.
【0086】かくして、図2(a)に示した実施の形態
は、請求項14記載の「マルチビーム走査型画像形成装
置」の実施の形態となっている。図2に即して説明した
実施の形態では、センサ49として「光学センサ」が用
いられるとき、トナーパターンの反射強度の検出は感光
体48上で検出したが、図6に示す形態のように、トナ
ーパターンを感光体48上から「中間転写媒体」である
中間転写ベルト51に転写し、転写ベルト51上におけ
るトナーパターンの反射強度を光学センサ49Bで検出
するようにしてもよい(請求項5)。図6において、符
号52は転写ローラを示す。Thus, the embodiment shown in FIG. 2A is an embodiment of the "multi-beam scanning type image forming apparatus". In the embodiment described with reference to FIG. 2, when an “optical sensor” is used as the sensor 49, the reflection intensity of the toner pattern is detected on the photoreceptor 48, but as shown in FIG. Alternatively, the toner pattern may be transferred from the photoreceptor 48 to the intermediate transfer belt 51 as an “intermediate transfer medium”, and the reflection intensity of the toner pattern on the transfer belt 51 may be detected by the optical sensor 49B. ). In FIG. 6, reference numeral 52 denotes a transfer roller.
【0087】また、図2(a)の実施の形態において、
第1,第2の潜像パターンを、主走査方向に並ぶように
形成し、これらの平均的な電位もしくはこれらを現像し
て得られるトナーパターンの平均的な反射強度を、2つ
のセンサにより検出するようにしてもよく、この場合は
「走査線ピッチむらの検出速度」を大きくできる。In the embodiment shown in FIG. 2A,
The first and second latent image patterns are formed so as to be arranged in the main scanning direction, and an average potential thereof or an average reflection intensity of a toner pattern obtained by developing them is detected by two sensors. In this case, the “scanning line pitch unevenness detection speed” can be increased.
【0088】さらに、第1および第2の潜像パターンの
「複数対」を、主走査方向に形成し、これらに対して複
数のセンサを用いることもできる。例えば、各対を、走
査記録領域内の中央部および両端部の3ヵ所にもうける
ことができる。このような場合、上記3ヵ所における走
査線ピッチの平均が所定の走査線ピッチとなるように走
査線ピッチむら補正を行なうこともできる。Further, "plural pairs" of the first and second latent image patterns may be formed in the main scanning direction, and a plurality of sensors may be used for these. For example, each pair can be provided at three positions in the center and both ends in the scan recording area. In such a case, the scanning line pitch unevenness can be corrected so that the average of the scanning line pitches at the three locations becomes a predetermined scanning line pitch.
【0089】前述のように、請求項3〜9記載の発明
は、光源の数が3以上ある場合(光源部の光源がLDア
レイ等の場合)にも拡張できる。そのような場合は、走
査線ピッチむらを検出すべき任意の「互いに隣接する2
光源」のみを点灯させ、他の光源を消灯させた状態で、
上記実施の形態で説明した方法で走査線ピッチむら検出
を行なうことができる。As described above, the inventions of claims 3 to 9 can be extended to the case where the number of light sources is three or more (when the light source of the light source unit is an LD array or the like). In such a case, an arbitrary “two adjacent to each other” for which scanning line pitch unevenness is to be detected.
With only the `` light source '' turned on and the other light sources turned off,
The scanning line pitch unevenness can be detected by the method described in the above embodiment.
【0090】[0090]
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ばマルチビーム走査型画像形成装置と、この装置におけ
る走査線ピッチむら検出方法、走査線ピッチむら検出装
置、走査線ピッチむら補正装置を提供できる。As described above, according to the present invention, a multi-beam scanning type image forming apparatus, a scanning line pitch unevenness detecting method, a scanning line pitch unevenness detecting apparatus, and a scanning line pitch unevenness correcting apparatus in this apparatus are provided. Can be provided.
【0091】この発明の走査線ピッチむら検出方法およ
び装置によえば、マルチビーム走査型画像形成装置にお
ける走査線ピッチむらを容易且つ確実に検出できる。According to the scanning line pitch unevenness detecting method and apparatus of the present invention, scanning line pitch unevenness in a multi-beam scanning type image forming apparatus can be easily and reliably detected.
【0092】走査線ピッチむら補正装置によれば、上記
の如く検出される走査線ピッチむらに基づき、走査線ピ
ッチむらを有効に補正できる。According to the scanning line pitch unevenness correction apparatus, the scanning line pitch unevenness can be effectively corrected based on the scanning line pitch unevenness detected as described above.
【0093】この発明のマルチビーム走査型画像形成装
置によれば走査線ピッチむらを的確に検出することによ
り走査線ピッチの適正な設定が可能となり、良好なマル
チビーム走査を実現できる。According to the multi-beam scanning type image forming apparatus of the present invention, it is possible to properly set the scanning line pitch by accurately detecting the scanning line pitch unevenness, thereby realizing good multi-beam scanning.
【図1】請求項1,2記載の発明の実施の形態を説明す
るための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment of the invention described in claims 1 and 2;
【図2】この発明のマルチビーム走査型画像形成装置の
実施の1形態を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining an embodiment of a multi-beam scanning type image forming apparatus according to the present invention.
【図3】請求項3,4記載の発明の実施の形態を説明す
るための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining an embodiment of the invention described in claims 3 and 4;
【図4】走査線ピッチむら補正の手順の1例を説明する
ためのフロー図である。FIG. 4 is a flowchart illustrating an example of a procedure for correcting scanning line pitch unevenness.
【図5】走査線ピッチむら補正の手順の別例を説明する
ためのフロー図である。FIG. 5 is a flowchart for explaining another example of the procedure for correcting the scanning line pitch unevenness.
【図6】請求項5記載の発明の実施の形態を説明するた
めの図である。FIG. 6 is a view for explaining an embodiment of the invention described in claim 5;
48 感光体 49A 電位センサ 49B 光学センサ 48 Photoconductor 49A Potential sensor 49B Optical sensor
Claims (14)
上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光
し、これら複数の光スポットにより上記感光体を同時に
走査するマルチビーム走査型画像形成装置において、複
数の光スポットにより同時に走査される走査線のピッチ
むらを検出する方法であって、 全ての光スポットによる同時の走査を繰り返して行なっ
て、ピッチむら検出用の潜像パターンを形成し、 この潜像パターンの平均的な電位を電位センサにより検
出し、 上記電位センサによる検出値を、所定の比較値と比較す
ることにより走査線のピッチむらを検出することを特徴
とする走査線ピッチむら検出方法。1. A multi-beam that converges light beams from a plurality of light sources onto a photoconductive photoconductor as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction and scans the photoconductor simultaneously with the plurality of light spots. In a scanning type image forming apparatus, a method for detecting pitch unevenness of a scanning line simultaneously scanned by a plurality of light spots, wherein the simultaneous scanning by all the light spots is repeatedly performed to detect a latent image for detecting pitch unevenness. Forming a pattern, detecting an average potential of the latent image pattern by a potential sensor, and comparing the detection value of the potential sensor with a predetermined comparison value to detect pitch line unevenness of a scanning line. Scanning line pitch unevenness detection method.
上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光
し、これら複数の光スポットにより上記感光体を同時に
走査するマルチビーム走査型画像形成装置において、複
数の光スポットにより同時に走査される走査線のピッチ
むらを検出する方法であって、 全ての光スポットによる同時の走査を繰り返して行なっ
て、ピッチむら検出用の潜像パターンを形成し、 この潜像パターンを所定の現像条件で現像して得られる
トナーパターンの面積領域の反射強度を光学センサで検
出し、 上記光学センサによる検出値を、所定の比較値と比較す
ることにより走査線のピッチむらを検出することを特徴
とする走査線ピッチむら検出方法。2. A multi-beam for converging light beams from a plurality of light sources on a photoconductive photoconductor as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction and scanning the photoconductor simultaneously with the plurality of light spots. In a scanning type image forming apparatus, a method for detecting pitch unevenness of a scanning line simultaneously scanned by a plurality of light spots, wherein the simultaneous scanning by all the light spots is repeatedly performed to detect a latent image for detecting pitch unevenness. A pattern is formed, and the reflection intensity of the area of the toner pattern obtained by developing the latent image pattern under predetermined development conditions is detected by an optical sensor, and the value detected by the optical sensor is compared with a predetermined comparison value. Scanning line pitch unevenness detecting method for detecting scanning line pitch unevenness.
上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光
し、これら複数の光スポットにより上記感光体を同時に
走査するマルチビーム走査型画像形成装置において、互
いに隣接する任意の2光源により同時に走査される走査
線のピッチむらを検出する方法であって、 上記2光源を同時に点灯して2つの光スポットによる同
時走査を所定数の走査線おきに繰り返して得られるピッ
チむら検出用の第1の潜像パターンと、第2の光スポッ
トによる走査とこれに続く第1の光スポットによる走査
を上記所定数の走査線おきに繰り返して得られるピッチ
むら検出用の第2の潜像パターンとを形成し、 これら第1および第2の潜像パターンそれぞれの、平均
的な電位を電位センサにより検出し、得られる2つの検
出値の比較により走査線のピッチむらを検出することを
特徴とする走査線ピッチむら検出方法。3. A multi-beam for converging light beams from a plurality of light sources on a photoconductive photoconductor as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction, and scanning the photoconductor simultaneously with the plurality of light spots. In a scanning type image forming apparatus, a method for detecting pitch unevenness of a scanning line simultaneously scanned by any two light sources adjacent to each other, comprising: A first latent image pattern for detecting pitch unevenness, which is obtained by repeating every other scanning line, a scan by the second light spot, and a subsequent scan by the first light spot are repeated every predetermined number of scanning lines. And forming a second latent image pattern for detecting pitch unevenness obtained by the above-described method. An average potential of each of the first and second latent image patterns is detected by a potential sensor. Scanning line pitch unevenness detecting method and detecting the pitch unevenness of scanning lines by comparing the two detected values is.
上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集光
し、これら複数の光スポットにより上記感光体を同時に
走査するマルチビーム走査型画像形成装置において、互
いに隣接する任意の2光源により同時に走査される走査
線のピッチむらを検出する方法であって、 上記2光源を同時に点灯して2つの光スポットによる同
時走査を所定数の走査線おきに繰り返して得られるピッ
チむら検出用の第1の潜像パターンと、第2の光スポッ
トによる走査とこれに続く第1の光スポットによる走査
を上記所定数の走査線おきに繰り返して得られるピッチ
むら検出用の第2の潜像パターンとを形成し、 これら第1および第2の潜像パターンを所定の現像条件
で現像して得られる第1および第2のトナーパターンそ
れぞれの面積領域の反射強度を光学センサにより検出
し、 第1および第2のトナーパターンから得られる2つの検
出値の比較により走査線のピッチむらを検出することを
特徴とする走査線ピッチむら検出方法。4. A multi-beam that converges light beams from a plurality of light sources onto a photoconductive photoconductor as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction, and scans the photoconductor simultaneously with the plurality of light spots. In a scanning type image forming apparatus, a method for detecting pitch unevenness of a scanning line simultaneously scanned by any two light sources adjacent to each other, comprising: A first latent image pattern for detecting pitch unevenness, which is obtained by repeating every other scanning line, a scan by the second light spot, and a subsequent scan by the first light spot are repeated every predetermined number of scanning lines. And a second latent image pattern for detecting pitch unevenness, which is obtained by developing the first and second latent image patterns under predetermined developing conditions. A scanning line pitch detecting a reflection intensity of an area area of each of the toner patterns by an optical sensor, and detecting a scanning line pitch unevenness by comparing two detection values obtained from the first and second toner patterns; Unevenness detection method.
において、 第1および第2のトナーパターンは、中間転写媒体上に
転写されて反射強度を検出されることを特徴とする走査
線ピッチむら検出方法。5. The scanning line pitch unevenness detecting method according to claim 4, wherein the first and second toner patterns are transferred onto an intermediate transfer medium and the reflection intensity is detected. Unevenness detection method.
ッチむら検出方法において、 第1および第2の潜像パターンは、副走査方向に並ぶよ
うに形成されることを特徴とする走査線ピッチむら検出
方法。6. The scanning line pitch unevenness detecting method according to claim 3, wherein the first and second latent image patterns are formed so as to be arranged in the sub-scanning direction. Pitch unevenness detection method.
ッチむら検出方法において、 第1および第2の潜像パターンは、主走査方向に並ぶよ
うに形成されることを特徴とする走査線ピッチむら検出
方法。7. A scanning line pitch unevenness detecting method according to claim 3, wherein the first and second latent image patterns are formed so as to be arranged in the main scanning direction. Pitch unevenness detection method.
ッチむら検出方法において、 第1および第2の潜像パターンは、記録走査領域内に形
成されることを特徴とする走査線ピッチむら検出方法。8. The scanning line pitch unevenness detecting method according to claim 3, wherein the first and second latent image patterns are formed in a recording scanning area. Line pitch unevenness detection method.
において、 第1および第2の潜像パターンの複数対が、主走査方向
に形成されることを特徴とする走査線ピッチむら検出方
法。9. A method according to claim 8, wherein a plurality of pairs of the first and second latent image patterns are formed in the main scanning direction. .
法を実施するための装置であって、 ピッチむら検出用に形成される第1及び第2の潜像パタ
ーンの平均的な電位を検出する1以上の電位センサと、 上記1以上の電位センサの出力に基づき走査線ピッチむ
らを検出するピッチむら検出手段とを有する走査線ピッ
チむら検出装置。10. An apparatus for implementing the scanning line pitch unevenness detecting method according to claim 3, wherein an average potential of the first and second latent image patterns formed for detecting pitch unevenness is detected. A scanning line pitch unevenness detecting device, comprising: at least one potential sensor that performs scanning; and a pitch unevenness detecting unit that detects scanning line pitch unevenness based on an output of the one or more potential sensors.
法を実施する装置であって、 ピッチむら検出用に形成される第1及び第2のトナーパ
ターンの各面積領域の反射強度を検出する1以上の光学
センサと、 上記1以上の光学センサの出力に基づき走査線ピッチむ
らを検出するピッチむら検出手段とを有する走査線ピッ
チむら検出装置。11. An apparatus for implementing the scanning line pitch unevenness detecting method according to claim 4, wherein the reflection intensity of each area of the first and second toner patterns formed for detecting the pitch unevenness is detected. A scanning line pitch unevenness detecting device, comprising: at least one optical sensor; and pitch line unevenness detecting means for detecting a scanning line pitch unevenness based on an output of the one or more optical sensors.
体上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集
光し、これらの光スポットにより上記感光体を同時に走
査するマルチビーム走査型画像形成装置において、 走査線ピッチを調整するピッチ調整手段と、 このピッチ調整手段を制御するピッチ制御手段を有し、 請求項3〜9の任意の1に記載の走査線ピッチむら検出
方法で検出された走査線ピッチむらに応じて上記ピッチ
制御手段によりピッチ調整手段を調整してピッチむら補
正を行なうようにしたことを特徴とする走査線ピッチむ
ら補正装置。12. A multi-beam scanning system in which light beams from a plurality of light sources are converged on a photoconductive photoconductor as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction, and the photoconductors are simultaneously scanned by these light spots. A type image forming apparatus, comprising: a pitch adjusting unit for adjusting a scanning line pitch; and a pitch controlling unit for controlling the pitch adjusting unit. The method according to any one of claims 3 to 9, wherein: A scanning line pitch unevenness correction apparatus, wherein the pitch adjusting means is adjusted by the pitch control means in accordance with the detected scanning line pitch unevenness to perform pitch unevenness correction.
体上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集
光し、これらの光スポットにより上記感光体を同時に走
査するマルチビーム走査型画像形成装置において、 請求項10または11記載の走査線ピッチむら検出装置
を有することを特徴とするマルチビーム走査型画像形成
装置。13. A multi-beam scanning system in which light beams from a plurality of light sources are converged on a photoconductive photoconductor as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction, and the photoconductors are simultaneously scanned by these light spots. A multi-beam scanning type image forming apparatus, comprising: the scanning line pitch unevenness detecting apparatus according to claim 10.
体上に副走査方向に分離した複数の光スポットとして集
光し、これらの光スポットにより上記感光体を同時に走
査するマルチビーム走査型画像形成装置において、 請求項10または11記載の走査線ピッチむら検出装置
と、 請求項12記載の走査線ピッチむら補正装置を有するこ
とを特徴とするマルチビーム走査型画像形成装置。14. A multi-beam scanning device for converging light beams from a plurality of light sources onto a photoconductive photoconductor as a plurality of light spots separated in a sub-scanning direction and scanning the photoconductor simultaneously with these light spots. A multi-beam scanning image forming apparatus, comprising: a scanning line pitch unevenness detecting device according to claim 10; and a scanning line pitch unevenness correcting device according to claim 12.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22511696A JPH1058746A (en) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | Multi-beam scanning type image forming apparatus / scanning line pitch unevenness detecting method / scanning line pitch unevenness detecting device and scanning line pitch unevenness correcting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22511696A JPH1058746A (en) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | Multi-beam scanning type image forming apparatus / scanning line pitch unevenness detecting method / scanning line pitch unevenness detecting device and scanning line pitch unevenness correcting device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1058746A true JPH1058746A (en) | 1998-03-03 |
Family
ID=16824227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22511696A Pending JPH1058746A (en) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | Multi-beam scanning type image forming apparatus / scanning line pitch unevenness detecting method / scanning line pitch unevenness detecting device and scanning line pitch unevenness correcting device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1058746A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7003241B1 (en) | 1998-07-31 | 2006-02-21 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Image recording device and an image recording system |
-
1996
- 1996-08-27 JP JP22511696A patent/JPH1058746A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7003241B1 (en) | 1998-07-31 | 2006-02-21 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Image recording device and an image recording system |
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