JPH1059904A - ジアリールカーボネート−含有反応混合物からのメルト結晶化法による触媒系の回収 - Google Patents
ジアリールカーボネート−含有反応混合物からのメルト結晶化法による触媒系の回収Info
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- JPH1059904A JPH1059904A JP9103941A JP10394197A JPH1059904A JP H1059904 A JPH1059904 A JP H1059904A JP 9103941 A JP9103941 A JP 9103941A JP 10394197 A JP10394197 A JP 10394197A JP H1059904 A JPH1059904 A JP H1059904A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C68/00—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
- C07C68/08—Purification; Separation; Stabilisation
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 触媒の不活性化無しに、かつ経済的、技術的
に実現可能な、そして再生可能な条件下で、種々のジア
リールカーボネート含量を含むジアリールカーボネート
−含有反応溶液から、高い空間−時間収量で触媒系を分
離および回収するための穏和な方法を見いだすことであ
る。 【解決手段】 芳香族ヒドロキシ化合物の対応するジア
リールカーボネートへの酸化的カルボニル化のための白
金族−金属触媒、共触媒、四級塩および塩基含量を有す
る触媒系が、メルト結晶化により残存融成物として本発
明に従い得られ、そしてカルボニル化反応へと戻すか、
または価値ある物質に処理できる。主にジアリールカー
ボネートおよび元の芳香族ヒドロキシ化合物から成る融
成結晶物を、純粋なジアリールカーボネートおよび純粋
なヒドロキシ化合物に処理する。
に実現可能な、そして再生可能な条件下で、種々のジア
リールカーボネート含量を含むジアリールカーボネート
−含有反応溶液から、高い空間−時間収量で触媒系を分
離および回収するための穏和な方法を見いだすことであ
る。 【解決手段】 芳香族ヒドロキシ化合物の対応するジア
リールカーボネートへの酸化的カルボニル化のための白
金族−金属触媒、共触媒、四級塩および塩基含量を有す
る触媒系が、メルト結晶化により残存融成物として本発
明に従い得られ、そしてカルボニル化反応へと戻すか、
または価値ある物質に処理できる。主にジアリールカー
ボネートおよび元の芳香族ヒドロキシ化合物から成る融
成結晶物を、純粋なジアリールカーボネートおよび純粋
なヒドロキシ化合物に処理する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、触媒系をジアリー
ルカーボネート−含有反応混合物からメルト結晶化(mel
t crystallization)法により回収する方法に関し、ここ
で融成結晶物(melt crystallizate)および触媒系を含有
する残りの融成物が得られる。残りの融成物は、ジアリ
ールカーボネートを製造するために反応槽に戻すことが
でき、あるいは価値ある物質に処理できる。メルト結晶
化法は純粋なジアリールカーボネートおよび純粋なヒド
ロキシ化合物に処理される。
ルカーボネート−含有反応混合物からメルト結晶化(mel
t crystallization)法により回収する方法に関し、ここ
で融成結晶物(melt crystallizate)および触媒系を含有
する残りの融成物が得られる。残りの融成物は、ジアリ
ールカーボネートを製造するために反応槽に戻すことが
でき、あるいは価値ある物質に処理できる。メルト結晶
化法は純粋なジアリールカーボネートおよび純粋なヒド
ロキシ化合物に処理される。
【0002】
【従来の技術】米国特許第5 239 106号明細書は、ジフ
ェニルカーボネートを触媒含有反応溶液から、30.5重量
%のフェノールおよび69.5重量%のジフェニルカーボネ
ートから成るフェノールとの1:1の付加生成物を、反
応混合物から懸濁結晶化を用いて結晶化することにより
分離することを述べている。この方法の欠点は、1:1
の付加生成物を十分に高収量で単離できるようにするに
は、狭い濃度範囲に限定されることであり、すなわち少
なくとも50重量%−70重量%濃度のジフェニルカーボネ
ートである。生成する懸濁液が濾過により尚、処理でき
るためには、洗練された装置が関与する少なくとも2段
階の方法が必要である。さらに濾過された結晶は未だに
接着している母液および包含母液を有するので、触媒系
はこの方法で完全に分離できない。蒸留によるその後の
1:1の付加生成物の処理中に、これらの非分離触媒成
分は、副産物の生成の触媒作用およびDPC分解を通し
て、悪い影響を受ける。提案された9%水および91%フ
ェノールの混合物を用いる結晶物の洗浄は、1:1付加
生成物の大部分を溶解することにより収量を低下させ
る。さらにこの処理は付加生成物結晶の水含量を増加さ
せ、これはその後の蒸留カラム中(すなわちその中でD
PC単離および使用する洗浄溶液から水を分離するため
に)で加水分解のためにDPCの損失を生じる。さらに
米国特許第5 239106号明細書の記載は、そこに重要なパ
ラメーターが掲げられていないので、個人の努力無しで
は理解できない。例えば、接種系または接種材料の性質
および量、撹拌容器、回転晶出装置等のような晶出装置
の種類について、撹拌の種類、撹拌のジオメトリー、特
別な撹拌速度のような撹拌系について、冷却工程の冷却
速度、出発温度および最終温度のような冷却系につい
て、あるいは例えば最終冷却温度での保持時間および撹
拌後の時間等についての詳細は与えられていない。
ェニルカーボネートを触媒含有反応溶液から、30.5重量
%のフェノールおよび69.5重量%のジフェニルカーボネ
ートから成るフェノールとの1:1の付加生成物を、反
応混合物から懸濁結晶化を用いて結晶化することにより
分離することを述べている。この方法の欠点は、1:1
の付加生成物を十分に高収量で単離できるようにするに
は、狭い濃度範囲に限定されることであり、すなわち少
なくとも50重量%−70重量%濃度のジフェニルカーボネ
ートである。生成する懸濁液が濾過により尚、処理でき
るためには、洗練された装置が関与する少なくとも2段
階の方法が必要である。さらに濾過された結晶は未だに
接着している母液および包含母液を有するので、触媒系
はこの方法で完全に分離できない。蒸留によるその後の
1:1の付加生成物の処理中に、これらの非分離触媒成
分は、副産物の生成の触媒作用およびDPC分解を通し
て、悪い影響を受ける。提案された9%水および91%フ
ェノールの混合物を用いる結晶物の洗浄は、1:1付加
生成物の大部分を溶解することにより収量を低下させ
る。さらにこの処理は付加生成物結晶の水含量を増加さ
せ、これはその後の蒸留カラム中(すなわちその中でD
PC単離および使用する洗浄溶液から水を分離するため
に)で加水分解のためにDPCの損失を生じる。さらに
米国特許第5 239106号明細書の記載は、そこに重要なパ
ラメーターが掲げられていないので、個人の努力無しで
は理解できない。例えば、接種系または接種材料の性質
および量、撹拌容器、回転晶出装置等のような晶出装置
の種類について、撹拌の種類、撹拌のジオメトリー、特
別な撹拌速度のような撹拌系について、冷却工程の冷却
速度、出発温度および最終温度のような冷却系につい
て、あるいは例えば最終冷却温度での保持時間および撹
拌後の時間等についての詳細は与えられていない。
【0003】50重量%未満のDPC含量を含む反応溶液
も、処理できるようにするために、触媒成分の存在下で
上記記載の蒸留の欠陥がある蒸留による濃縮を回避する
ことができない。加えて、反応溶液の熱的ストレスが触
媒系の不活性化を導き、これは高価な新しい触媒成分を
工程へ供給することを必要とする。記載したこれらすべ
ての不利益は、この方法の柔軟性および魅力を無くし、
そして技術の実現を妨げる。
も、処理できるようにするために、触媒成分の存在下で
上記記載の蒸留の欠陥がある蒸留による濃縮を回避する
ことができない。加えて、反応溶液の熱的ストレスが触
媒系の不活性化を導き、これは高価な新しい触媒成分を
工程へ供給することを必要とする。記載したこれらすべ
ての不利益は、この方法の柔軟性および魅力を無くし、
そして技術の実現を妨げる。
【0004】欧州特許出願公開第687 666号明細書は、4
5-85℃の温度範囲の高濃度反応混合物の分別メルト結晶
化法によるジフェニルカーボネートの精製法を記載す
る。97.5および99.5%のジフェニルカーボネート純度が
得られる。この方法の欠点は、70重量%より高いジアリ
ールカーボネート含量の反応混合物に限定されることで
ある。70重量%未満のジアリールカーボネート含量の反
応溶液は、この方法では処理できない。これらは要求さ
れる含量に、例えば蒸留により濃縮されなければならな
い。この熱的ストレスの間に触媒系が副反応を起こし、
そして方法を不活性化する。したがって、この方法は70
重量%未満のジフェニルカーボネート含量の反応溶液に
は非経済的であり、かつ繁雑である。
5-85℃の温度範囲の高濃度反応混合物の分別メルト結晶
化法によるジフェニルカーボネートの精製法を記載す
る。97.5および99.5%のジフェニルカーボネート純度が
得られる。この方法の欠点は、70重量%より高いジアリ
ールカーボネート含量の反応混合物に限定されることで
ある。70重量%未満のジアリールカーボネート含量の反
応溶液は、この方法では処理できない。これらは要求さ
れる含量に、例えば蒸留により濃縮されなければならな
い。この熱的ストレスの間に触媒系が副反応を起こし、
そして方法を不活性化する。したがって、この方法は70
重量%未満のジフェニルカーボネート含量の反応溶液に
は非経済的であり、かつ繁雑である。
【0005】目的は、触媒系の不活性化無しに、かつ経
済的、技術的に実現可能な、そして再生可能な条件下
で、種々のジアリールカーボネート含量を含むジアリー
ルカーボネート−含有反応溶液から、高い空間−時間収
量で触媒系を分離および回収するための穏和な方法を見
いだすことである。
済的、技術的に実現可能な、そして再生可能な条件下
で、種々のジアリールカーボネート含量を含むジアリー
ルカーボネート−含有反応溶液から、高い空間−時間収
量で触媒系を分離および回収するための穏和な方法を見
いだすことである。
【0006】
【発明の構成】今回、反応混合物を反応槽から取り出
し、触媒−含有融成物を反応溶液の温度低下および接種
により分別メルト結晶化法で得、触媒系の残渣を結晶物
から結露(Sweating)により分離し、ジアリールカーボ
ネートおよび芳香族ヒドロキシ化合物の混合物から成る
結晶物を高純度なジアリールカーボネートに結晶化およ
び蒸留で処理し、そしてその後、触媒系を含有する反応
溶液を反応槽に戻すことにより、記載の欠点を克服でき
ることが判明した。驚くべきことには、ジアリールカー
ボネート/フェノール系の場合には、結晶物の組成が反
応溶液中のジフェニルカーボネート含量の関数として変
動することが分かった。1:1付加生成物は、大変狭い
濃度範囲で生じた。得られた結晶物の洗浄は必要ではな
い。さらに触媒系の熱的損害は起こらず、したがって触
媒の不活性化は最小に減少する。本発明の方法の特別な
利点は、濾過工程無く1段階で行うことができるという
事実から成る。20−70%のジアリールカーボネート含量
を有する反応溶液を使用できる。さらに、種々のジアリ
ールカーボネートを、使用可能な反応溶液中に含むこと
ができる。
し、触媒−含有融成物を反応溶液の温度低下および接種
により分別メルト結晶化法で得、触媒系の残渣を結晶物
から結露(Sweating)により分離し、ジアリールカーボ
ネートおよび芳香族ヒドロキシ化合物の混合物から成る
結晶物を高純度なジアリールカーボネートに結晶化およ
び蒸留で処理し、そしてその後、触媒系を含有する反応
溶液を反応槽に戻すことにより、記載の欠点を克服でき
ることが判明した。驚くべきことには、ジアリールカー
ボネート/フェノール系の場合には、結晶物の組成が反
応溶液中のジフェニルカーボネート含量の関数として変
動することが分かった。1:1付加生成物は、大変狭い
濃度範囲で生じた。得られた結晶物の洗浄は必要ではな
い。さらに触媒系の熱的損害は起こらず、したがって触
媒の不活性化は最小に減少する。本発明の方法の特別な
利点は、濾過工程無く1段階で行うことができるという
事実から成る。20−70%のジアリールカーボネート含量
を有する反応溶液を使用できる。さらに、種々のジアリ
ールカーボネートを、使用可能な反応溶液中に含むこと
ができる。
【0007】その結果、本発明は式(I) R−O−CO−O−R (I) のジアリールカーボネートを式(II) R−O−H (II) 式中、Rは置換または非置換C6−C15アリール、好ま
しくは置換また は非置換フェニル、特に好ましくは非
置換フェニルを表す、の芳香族ヒドロキシ化合物を酸化
的にカルボニル化することにより製造するための、そし
て反応混合物の総重量に対して少なくとも15かつ70重量
%未満のジアリールカーボネート含量を有する反応混合
物から、白金族金属触媒、共触媒、四級塩および塩基を
含む触媒系を回収する方法に関し、ここで、 a)反応混合物がジアリールカーボネートを製造するた
めの反応槽からメルト結晶化に適する装置へ移され、 b)メルト結晶化が温度低下および接種により適当な装
置中で開始され、c)主にジアリールカーボネートおよ
び元の芳香族ヒドロキシ化合物から成る融成結晶物が、
残存する触媒含有融成物から分離され、 d)融成結晶物が、純粋なジアリールカーボネートおよ
び純粋な芳香族ヒドロキシ化合物に処理され、そして e)残りの触媒含有融成物をジアリールカーボネートを
製造するために反応槽に再循環させるか、または価値あ
る物質を得ために処理する、ことを特徴とする。
しくは置換また は非置換フェニル、特に好ましくは非
置換フェニルを表す、の芳香族ヒドロキシ化合物を酸化
的にカルボニル化することにより製造するための、そし
て反応混合物の総重量に対して少なくとも15かつ70重量
%未満のジアリールカーボネート含量を有する反応混合
物から、白金族金属触媒、共触媒、四級塩および塩基を
含む触媒系を回収する方法に関し、ここで、 a)反応混合物がジアリールカーボネートを製造するた
めの反応槽からメルト結晶化に適する装置へ移され、 b)メルト結晶化が温度低下および接種により適当な装
置中で開始され、c)主にジアリールカーボネートおよ
び元の芳香族ヒドロキシ化合物から成る融成結晶物が、
残存する触媒含有融成物から分離され、 d)融成結晶物が、純粋なジアリールカーボネートおよ
び純粋な芳香族ヒドロキシ化合物に処理され、そして e)残りの触媒含有融成物をジアリールカーボネートを
製造するために反応槽に再循環させるか、または価値あ
る物質を得ために処理する、ことを特徴とする。
【0008】Rは、フェニル、ビフェニリル、ナフチ
ル、アントリルまたはHO-C6H4-(C(CH3)2-C6H4-(すなわ
ちROHはビスフェノールAである)のようなC6-C15-アリー
ル-、好ましくはフェニルである。芳香族環は、それぞ
れ-CH3、-C2H5、-Cl、-Brまたは-Fにより1または2回
置換されることができ;特に好ましくはRは非置換フェ
ニルである。
ル、アントリルまたはHO-C6H4-(C(CH3)2-C6H4-(すなわ
ちROHはビスフェノールAである)のようなC6-C15-アリー
ル-、好ましくはフェニルである。芳香族環は、それぞ
れ-CH3、-C2H5、-Cl、-Brまたは-Fにより1または2回
置換されることができ;特に好ましくはRは非置換フェ
ニルである。
【0009】本発明の方法を行うために、例えば束管晶
出装置あるいは融成物を分配する、またはしない、脈動
の適用を含む、または含まない、そして別れた排出口を
持つセグメントに管を再分割する、またはしない変化す
る構造の改良された板熱交換器を使用することができ
る。例えば欧州特許出願公開第218 545号明細書で既知
の、変化する設計の落フィルム晶出装置(Falling-film
crystallizer)も使用できる。他の有用な装置は、気泡
カラム晶出装置、円筒およびベルト晶出装置である。す
べてのユニットが熱交換面および冷媒回路を有し;以下
に与えられる温度は、熱交換面から逆流している冷媒の
温度である。連続操作、適切な晶出装置の詳細は、欧州
特許出願公開第521 499号明細書に含まれている。
出装置あるいは融成物を分配する、またはしない、脈動
の適用を含む、または含まない、そして別れた排出口を
持つセグメントに管を再分割する、またはしない変化す
る構造の改良された板熱交換器を使用することができ
る。例えば欧州特許出願公開第218 545号明細書で既知
の、変化する設計の落フィルム晶出装置(Falling-film
crystallizer)も使用できる。他の有用な装置は、気泡
カラム晶出装置、円筒およびベルト晶出装置である。す
べてのユニットが熱交換面および冷媒回路を有し;以下
に与えられる温度は、熱交換面から逆流している冷媒の
温度である。連続操作、適切な晶出装置の詳細は、欧州
特許出願公開第521 499号明細書に含まれている。
【0010】本発明に従い、束管晶出装置、融成物を再
循環する、もしくはしない変化する構造の板熱交換器、
または落フィルム晶出装置が好ましくは本方法に使用さ
れる。
循環する、もしくはしない変化する構造の板熱交換器、
または落フィルム晶出装置が好ましくは本方法に使用さ
れる。
【0011】上記で与えられた方法に従い、本発明の方
法の結晶化操作は自然な核形成により、および定めた種
結晶の供給(接種)により開始することができる。好ま
しくは結晶生成は播種により開始される。
法の結晶化操作は自然な核形成により、および定めた種
結晶の供給(接種)により開始することができる。好ま
しくは結晶生成は播種により開始される。
【0012】本発明の方法を、蒸留を採用する精製法と
組み合わせることができる。すなわちメルト結晶化の後
に、ジフェニルカーボネートの蒸留を行うことが可能で
ある。本発明の方法は、例えば米国特許第5 239 106号
明細書に記載のような他の単純な結晶化法とも組み合わ
せることができる。
組み合わせることができる。すなわちメルト結晶化の後
に、ジフェニルカーボネートの蒸留を行うことが可能で
ある。本発明の方法は、例えば米国特許第5 239 106号
明細書に記載のような他の単純な結晶化法とも組み合わ
せることができる。
【0013】以下の記載はジフェニルカーボネート(D
PC)を例として述べる。しかし、当業者は他のジアリ
ールカーボネートの物理データを説明するために、容易
にこの方法のパラメーターを調整できる。
PC)を例として述べる。しかし、当業者は他のジアリ
ールカーボネートの物理データを説明するために、容易
にこの方法のパラメーターを調整できる。
【0014】本発明の方法が束管晶出装置または板熱交
換器で行われる場合には、融成物が53−29℃の範囲に、
20−0.1K/時間、好ましくは10−0.5K/時間の冷却速度
で冷却される。この冷却期間中、結晶化操作は定めた種
結晶の供給(接種)により53−29℃の接種温度で開始さ
れる。使用する種結晶の量は、0.02−1重量%(使用す
るジフェニルカーボネートに対して)である。最終的な
冷却温度は、20−48℃の範囲である。場合によっては、
残存する融成物の分離前に、融成物はこの温度に最高10
0分間までの保持時間で維持されてもよい。したがって
両方の変更態様を考慮すると、保持時間は1−5時間で
ある。その後に残存する融成物の分離が起こり、そして
結晶物は最終温度が最高29−75℃まで、20−0.1K/時
間、好ましくは10−0.5K/時間の加熱速度で加熱するこ
とにより、さらに精製される。
換器で行われる場合には、融成物が53−29℃の範囲に、
20−0.1K/時間、好ましくは10−0.5K/時間の冷却速度
で冷却される。この冷却期間中、結晶化操作は定めた種
結晶の供給(接種)により53−29℃の接種温度で開始さ
れる。使用する種結晶の量は、0.02−1重量%(使用す
るジフェニルカーボネートに対して)である。最終的な
冷却温度は、20−48℃の範囲である。場合によっては、
残存する融成物の分離前に、融成物はこの温度に最高10
0分間までの保持時間で維持されてもよい。したがって
両方の変更態様を考慮すると、保持時間は1−5時間で
ある。その後に残存する融成物の分離が起こり、そして
結晶物は最終温度が最高29−75℃まで、20−0.1K/時
間、好ましくは10−0.5K/時間の加熱速度で加熱するこ
とにより、さらに精製される。
【0015】精製の程度を向上させるために、加熱相中
にさらなる残存融成物部分を分離するためのさらなる保
持点を場合によっては供することができ、そしてこれら
の保持点で溶融する不純物を残存する融成物と一緒に除
去する。さらなる態様では、溶融した残存不純物を含有
する第一残存融成物を、加熱を妨害することなく加熱操
作中に分離でき、したがって結晶物の溶融後、高温で得
られた純粋なDPC残存融成物から分離できる。
にさらなる残存融成物部分を分離するためのさらなる保
持点を場合によっては供することができ、そしてこれら
の保持点で溶融する不純物を残存する融成物と一緒に除
去する。さらなる態様では、溶融した残存不純物を含有
する第一残存融成物を、加熱を妨害することなく加熱操
作中に分離でき、したがって結晶物の溶融後、高温で得
られた純粋なDPC残存融成物から分離できる。
【0016】純粋な融成物は、例えば蒸留、溶液結晶
化、抽出および他の既知の方法により、純粋なジアリー
ルカーボネートおよび純粋な芳香族ヒドロキシ化合物に
処理される。分離した(残存)融成物は、“結露”中に
得たさらなる融成物と一緒に、ジアリールカーボネート
を製造するために触媒系として反応槽に戻されるか、ま
たは例えば白金族金属のような価値ある物質を得るため
に処理される。
化、抽出および他の既知の方法により、純粋なジアリー
ルカーボネートおよび純粋な芳香族ヒドロキシ化合物に
処理される。分離した(残存)融成物は、“結露”中に
得たさらなる融成物と一緒に、ジアリールカーボネート
を製造するために触媒系として反応槽に戻されるか、ま
たは例えば白金族金属のような価値ある物質を得るため
に処理される。
【0017】以下の実施例は、限定することなく本発明
の方法を明らかに示すことを意図している。分別メルト
結晶化での実験は、層結晶化法として静置して操作する
カラム(直径:30mm;高さ:900mm)内で行った。テトラ
ブチルアンモニウムブロミド(TBAB)は、この実施例で
は主な混入物と考えられる。TBABは、供給液中に最高濃
度で生じる微量物質を表し、そして結晶物中の精製因子
として最も容易に測定できる。反応混合物は、例えばDE
-A 19 605 167号明細書に従い、ジアリールカーボネー
ト製造のための既知の方法により得られる。しかし関連
のある成分DPC、フェノールおよびTBABのみを、以下
の実施例では言及する。
の方法を明らかに示すことを意図している。分別メルト
結晶化での実験は、層結晶化法として静置して操作する
カラム(直径:30mm;高さ:900mm)内で行った。テトラ
ブチルアンモニウムブロミド(TBAB)は、この実施例で
は主な混入物と考えられる。TBABは、供給液中に最高濃
度で生じる微量物質を表し、そして結晶物中の精製因子
として最も容易に測定できる。反応混合物は、例えばDE
-A 19 605 167号明細書に従い、ジアリールカーボネー
ト製造のための既知の方法により得られる。しかし関連
のある成分DPC、フェノールおよびTBABのみを、以下
の実施例では言及する。
【0018】
【実施例】以下の表に与えるように、(実施例1では:
106.2gのDPC、489gのフェノールおよび4.8gのTBAB)、全
部で600gの各々、DPC、フェノールおよびTBABの反応混
合物を供給液として束管晶出装置に導入した:準連続的
な操作様式は、交互にいくつかの晶出装置に投入するこ
とにより行った。出発時の温度は53℃であり;接種中の
温度、したがって結晶化の開始温度は、それぞれの場合
で与えられている。保持時間の後、残存融成物(“融成
物”=母液/モリ:moli)を、引いた。その後、結晶物
の融解が始まった(”純粋な融成物”);加熱速度、加
熱時間および最終加熱温度を、それぞれの場合で掲載す
る。融解中に初めに得た部分の量を、母液(モリ)と合
わせる。量的平衡が得られる。全触媒系を含有する母液
を、さらなる反応混合物の調製に使用した。母液の反復
再循環中に、再循環の流れの数パーセントが取り出さ
れ、そして補充された。純粋な融成物は蒸留により調製
された。
106.2gのDPC、489gのフェノールおよび4.8gのTBAB)、全
部で600gの各々、DPC、フェノールおよびTBABの反応混
合物を供給液として束管晶出装置に導入した:準連続的
な操作様式は、交互にいくつかの晶出装置に投入するこ
とにより行った。出発時の温度は53℃であり;接種中の
温度、したがって結晶化の開始温度は、それぞれの場合
で与えられている。保持時間の後、残存融成物(“融成
物”=母液/モリ:moli)を、引いた。その後、結晶物
の融解が始まった(”純粋な融成物”);加熱速度、加
熱時間および最終加熱温度を、それぞれの場合で掲載す
る。融解中に初めに得た部分の量を、母液(モリ)と合
わせる。量的平衡が得られる。全触媒系を含有する母液
を、さらなる反応混合物の調製に使用した。母液の反復
再循環中に、再循環の流れの数パーセントが取り出さ
れ、そして補充された。純粋な融成物は蒸留により調製
された。
【0019】
【数1】
【0020】実施例1:DPC濃度=17.7%
【0021】
【表1】
【0022】実施例2:DPC濃度=48.2%
【0023】
【表2】
【0024】実施例3:DPC濃度=69.0%
【0025】
【表3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨハン・レヒナー ドイツ47906ケンペン・フリードリヒ−ク ラマー−シユトラーセ2 (72)発明者 ハンス−ペーター・ビルゲス ドイツ47800クレーフエルト・シヤイブラ ーシユトラーセ93
Claims (9)
- 【請求項1】 式(I) R−O−CO−O−R (I) のジアリールカーボネートを、式(II) R−O−H (II) 式中、Rは置換または非置換C6−C15アリールを意味
する、の芳香族ヒドロキシ化合物を酸化的にカルボニル
化して製造するための、そして反応混合物の総重量に対
して少なくとも15かつ70重量%未満のジアリールカーボ
ネート含量を有する反応混合物から、白金族金属触媒、
共触媒、四級塩および塩基を含有する触媒系を回収する
方法であって、 a)反応混合物がジアリールカーボネートを製造するた
めの反応槽からメルト結晶化に適する装置へ移され、 b)メルト結晶化が温度低下および接種により適当な装
置中で開始され、 c)主にジアリールカーボネートおよび元の芳香族ヒド
ロキシ化合物から成る融成結晶物が、残存する触媒含有
融成物から分離され、 d)融成結晶物が、純粋なジアリールカーボネートおよ
び純粋な芳香族ヒドロキシ化合物に処理され、そして e)残りの触媒含有融成物を、ジアリールカーボネート
を製造するために反応槽に再循環させるか、または価値
ある物質を得るために処理する、ことを特徴とする上記
方法。 - 【請求項2】 メルト結晶化の装置が、束管晶出装置ま
たは板熱交換晶出装置である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 反応混合物の温度が、53−29℃の範囲の
出発温度から20−0.1K/時間の冷却速度で20−48℃の温
度範囲の最終温度に下げられる、請求項1に記載の方
法。 - 【請求項4】 工程b)において、結晶化が温度低下な
らびに固体ジアリールカーボネート、固体芳香族ヒドロ
キシ化合物またはその両混合物を種材料とする接種によ
り開始される、請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 前の反応ランからの融成結晶物が接種に
使用される、請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 反応混合物中に存在するジアリールカー
ボネートに関して、0.02−1重量%の接種材料が使用さ
れる、請求項4に記載の方法。 - 【請求項7】 工程c)において、融成物が残存する融
成物の分離に先立ち、1−5時間の1つ以上の保持時間
で一定温度にて維持される、請求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 工程d)において、融成結晶物が“結
露”により操作前に処理され、ここで温度が20−0.1K/
時間の加熱速度で29−75℃の範囲に上げられ、そしてさ
らに得られた残存融成物が分離され、そして初めに得ら
れた残存融成物と合わせらせる、請求項1に記載の方
法。 - 【請求項9】 融成物が“結露”の進行中に、1−5時
間の1つ以上の保持時間で一定温度にて維持される、請
求項8に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19613973.2 | 1996-04-09 | ||
| DE19613973A DE19613973A1 (de) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | Rückgewinnung von Katalysatorsystemen aus diarylcarbonathaltigen Reaktionsgemischen durch Schmelzkristallisation |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1059904A true JPH1059904A (ja) | 1998-03-03 |
Family
ID=7790775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9103941A Pending JPH1059904A (ja) | 1996-04-09 | 1997-04-07 | ジアリールカーボネート−含有反応混合物からのメルト結晶化法による触媒系の回収 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5824816A (ja) |
| EP (1) | EP0801052B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1059904A (ja) |
| CN (1) | CN1078883C (ja) |
| DE (2) | DE19613973A1 (ja) |
| ES (1) | ES2145530T3 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6191060B1 (en) * | 1998-12-18 | 2001-02-20 | General Electric Company | Reclamation of metal catalysts used in the production of diaryl carbonates |
| DE19859296A1 (de) | 1998-12-22 | 2000-06-29 | Bayer Ag | Verfahren zur Aufarbeitung von diarylcarbonhaltigen Reaktionsmischungen |
| JP6605588B2 (ja) * | 2014-05-09 | 2019-11-13 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフト | ジアリールカーボネート類の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH667816A5 (de) * | 1985-10-09 | 1988-11-15 | Sulzer Ag | Kristallisationsvorrichtung und deren verwendung. |
| EP0521499A1 (de) * | 1991-07-05 | 1993-01-07 | Hoechst Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zum Trennen und Reinigen von Stoffen durch fraktionierende Schmelzkristallisation |
| US5413310A (en) * | 1991-07-12 | 1995-05-09 | Den Norske Stats Oljeselskap A.S | Valve arrangement |
| US5239106A (en) * | 1992-08-17 | 1993-08-24 | General Electric Company | Method of recovering and purifying diphenylcarbonate from phenolic solutions thereof |
| DE4420778A1 (de) * | 1994-06-15 | 1995-12-21 | Bayer Ag | Verfahren zur Reinigung von Diphenylcarbonat |
-
1996
- 1996-04-09 DE DE19613973A patent/DE19613973A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-03-27 EP EP97105175A patent/EP0801052B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-27 ES ES97105175T patent/ES2145530T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-03-27 DE DE59701124T patent/DE59701124D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-01 US US08/825,602 patent/US5824816A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-07 JP JP9103941A patent/JPH1059904A/ja active Pending
- 1997-04-09 CN CN97110536A patent/CN1078883C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2145530T3 (es) | 2000-07-01 |
| DE59701124D1 (de) | 2000-03-23 |
| CN1168880A (zh) | 1997-12-31 |
| CN1078883C (zh) | 2002-02-06 |
| EP0801052A1 (de) | 1997-10-15 |
| DE19613973A1 (de) | 1997-10-16 |
| EP0801052B1 (de) | 2000-02-16 |
| US5824816A (en) | 1998-10-20 |
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|
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