JPH1060693A

JPH1060693A - めっき液自動管理装置

Info

Publication number: JPH1060693A
Application number: JP23150596A
Authority: JP
Inventors: Mitsuaki Yoshizawa; 光章吉沢; Kiyohiko Saito; 清彦斎藤
Original assignee: NE Chemcat Corp
Current assignee: NE Chemcat Corp
Priority date: 1996-08-13
Filing date: 1996-08-13
Publication date: 1998-03-03

Abstract

(57)【要約】要約【課題】めっき操業中の自動めっき装置において、め
っき液中の一種又は二種以上の成分の濃度やｐＨなどの
特性値を自動的に測定し、測定値が所定範囲から外れて
いる場合には補正するために補正試薬の補充量を自動的
に算出し、そして自動的に補充するめっき液自動管理方
法及び装置の提供。【解決手段】めっき作業が行われるめっき槽内のめっき
液の特性値が目標値に保たれるように管理するために自
動的に補正試薬を補充する、めっき液の自動管理方法で
あって、前記めっき液から測定用試料液を一定時間間隔
で採取し；該試料液について前記特性値を測定し；得ら
れた測定値を予め設定された目標値と比較し、(i) 測定
値が設定値の範囲内である場合には処理を終了し、(ii)
測定値が設定値の範囲外である場合には、補正データを
演算し；該補正データに応じて、めっき槽内のめっき液
の該特性値が設定値となるように補正試薬を補充する、
工程を有する、めっき液の自動管理方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、銀の部分
めつき、銀または銅のストライクめつきにおいて、めっ
き液中のめつき被膜成分濃度、遊離シアン濃度およびｐ
Ｈを自動測定し、それらの測定値に基づいて、めつき被
膜成分や遊離シアンの濃度および／又はｐＨを所定値に
補正するのに必要な補充量の算出および補充を自動的に
行う、めっき液自動管理方法および自動管理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ＩＣ、ＬＥＤ、トランジスターなどの電
子部品において、回路を形成するリードフレームには、
半導体チップを搭載するパッド部とワイヤーボンディン
グを行うリード部に銀の部分めつきが施される。これら
の銀の部分めつきを施すに先立って、部分めっき被膜の
外観を均一にするためとリードフレームへのめっき被膜
の密着性を向上させるために、部分めつき被膜の下地と
して、銅または銀のストライクめつきが施される。

【０００３】銀の部分めっきや銅または銀のストライク
めっきを施す場合は、自動めっき装置が用いられる。こ
れらの自動めっき装置においては、操業とともに、めっ
き液中の銀または銅などのめつき被膜成分濃度、遊離シ
アン濃度、ｐＨが連続的に変化する。

【０００４】めっき被膜の品質を良好な範囲に保つため
には、めっき液の組成やｐＨを所定の範囲に維持する必
要がある。このため従来より、定期的にめつき被膜成分
濃度、遊離シアン濃度およびｐＨを測定し、これら特性
の測定値が所定の範囲から逸脱する場合にはその測定結
果に基づいて所定の薬品の補充量を算出し、補充して補
正することが行われている。

【０００５】他のめつき処理においてもほぼ同様の操作
が行われている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記の濃度やｐＨを測
定し、その測定結果に基づいてそれぞれの薬品の補充量
を算出し、補充する作業は従来より人手により行われて
いるので多大の労力と時間を費やしている。特に、複数
の自動めっき装置が稼動している場合には、熟練した者
により迅速な測定が行われなければ、めっき液に大きな
変動を生じ、その結果めっき被膜の品質が大きく低下す
るという問題を招く。

【０００７】本発明は上記従来の問題を解決するために
なされたものであり、その目的は、めっき操業中の自動
めっき装置において、めっき液中のー種又はニ種以上の
成分の濃度やｐＨなどの特性値を自動的に測定し、測定
値が所定範囲から外れている場合には該特性値を所定範
囲に補正するために補正試薬の補充量を自動的に算出
し、そして自動的に補充する、めつき液自動管理方法お
よび装置装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、めっき
作業が行われるめっき槽内のめっき液の特性値が目標値
に保たれるように管理するために自動的に補正試薬を補
充する、めっき液の自動管理方法であって、前記めつき
液から測定用試料液をー定時間間隔で採取し；該試料液
について前記特性値を測定し；得られた測定値を予め設
定された目標値と比較し、（ｉ）測定値が設定値の範囲
内である場合には処理を終了し、（ｉｉ）測定値が設定
値の範囲外である場合には、補正データを演算し；該補
正データに応じて、めっき槽内のめっき液の該特性値が
設定値となるように補正試薬を補充する、工程を有す
る、めっき液の自動管理方法を提供する。この方法は、
図１に示すように、前記めっき槽から測定用試料液を採
取する手段（Ａ）と；該試料液について前記特性値を測
定する手段（Ｂ）と；得られた測定値を予め設定された
目標値と比較し、測定値が設定値の範囲外である場合に
は補正データを演算する手段（Ｃ）と；めっき液の当該
特性値が設定値（範囲）となるように、前記演算手段に
より得られた補正データに応じて次の補充手段（Ｅ）制
御し、補充される補正試薬の補充量を調節する、制御手
段（Ｄ）と；補正試薬をめっき槽内のめっき液に補充す
る手段（Ｅ）と、を有してなり、めっき液の特性値が目
標値に保たれるように自動的に補正試薬を補充するめっ
き液の自動管理装置を用いて実施することができる。

【０００９】この発明は、基本的にすべてのめっき処理
に適用することができ、代表的なものとして以下に例示
する銀の部分めっき、銅又は銀のストライクめっきが挙
げられるが、その他銅めっき等のめっき液の管理にも適
用することができる。

【００１０】

【発明の実施の形態】測定対象であるめっき液中の特性
値としては、めっき被膜成分の濃度、例えば銀や銅の濃
度、めっき性能に影響する遊離シアンの濃度、めつき液
のｐＨが挙げられる。

【００１１】めっき槽から試料液を採取する手段は、通
常、試料液を採取し測定手段まで輸送する配管、輸送動
力を与えるポンプ、適切に配置されたバルブ等から構成
される。好ましくは、貯液槽を途中に設け、めっき槽か
ら採取した試料液をー旦貯液槽に貯め、そこからめつき
被膜成分濃度、遊離シアン濃度およびｐＨの各測定手段
へ必要量輸送する。このように貯液槽を設けた場合に
は、貯液槽に残る余剰の試料液をめっき槽に回収する手
段が設けられることが好ましい。

【００１２】測定手段は、基本的に測定用試料液を入れ
る測定槽と特性値を測定するための電極とから構成され
る。測定用の電極はそれ自体公知のものを使用すること
ができる。例えば、ｐＨ測定用の電極としては所謂ｐＨ
メータとして知られるガラス電極が使用できる。銀濃
度、銅濃度および遊離シアン濃度の測定に使用される電
極としては、公知の固体模型イオン電極を使用すること
ができ、例えば東亜電波工業（株）、電気化学計器
（株）などから市販されているものを使用することもで
きる。

【００１３】また、めっき液の濃度は電極による測定に
はー般に高すぎるので必要に応じて希釈する。そのた
め、各測定槽に適した希釈液を供給する手段が設けられ
る。

【００１４】ｐＨ測定槽には試料液を１〜１０倍程度に
希釈するために希釈水の供給手段が備わる。

【００１５】遊離シアン濃度測定槽には、試料液を１０
００倍程度に希釈し遊離シアン濃度をｐｐｍオーダーに
するために、希釈用の緩衝液および／または希釈水の供
給手段が備わる。通常、試料液のｐＨを９〜１２に保つ
ために緩衝液、例えば、ＮａＯＨ／Ｎａ₂Ｃ０₃系、り
ん酸系の緩衝液が使用される。希釈水は必要に応じて用
いられる。

【００１６】めっき被膜成分濃度測定槽には、やはり試
料液を１０００倍程度に希釈するためにｐＨ６程度の緩
衝液の供給手段が備わる。緩衝液としては、例えばりん
酸系の緩衝液が用いられる。

【００１７】さらに、めっき液中において銀や銅は安定
なシアン錯塩（ＫＡｇ（ＣＮ）₂またはＫ₂Ｃｕ（Ｃ
Ｎ）₃）を形成しているのでこのままでは上記の電極で
濃度を測定することができない。したがって、銀濃度や
銅濃度の測定槽にはシアン錯塩を分解させるために酸
（硝酸および硫酸）供給手段とヒーターのような加熱手
段が備わる。測定の手順としては、めっき槽から採取さ
れた試料液にまず硝酸と硫酸の混合物が２〜３ｍＬ程度
添加され、ヒーターで８０〜２００℃程度に加熱され
る。こうして銀や銅は電極で感知可能な形態になるが、
電極による測定の前に常温に冷却され、前記緩衝液で適
正濃度に希釈される。したがって、被膜成分濃度測定槽
には冷却手段が備わる。

【００１８】上記の希釈用の水および緩衝液、並びに酸
などの供給手段は、これらの水や試薬を貯蔵するタンク
と、該タンクから水または試薬を所定の測定槽へ供給す
る装置とから構成されている。

【００１９】演算手段（Ｃ）および制御手段（Ｄ）はコ
ンピュータを構成する。

【００２０】演算手段（Ｃ）には、制御の対象である特
性値、濃度やｐＨ値の目標値が予め設定されている。あ
るいは特性値設定手段（Ｆ）から各測定毎に目標値を設
定できるようにしてもよい。

【００２１】種々のめっき液の適正な成分濃度やｐＨは
当業者には公知である。例えば、目標値は概略次の範囲
に設定される。

【００２２】（イ）銀のストライクめつき液：ＫＡｇ（ＣＮ）₂ 銀分として１〜３ｇ／ＬＫＣＮ１００〜１５０ｇ／ＬｐＨ１０以上（ロ）銅のストライクめっき液：Ｋ₂Ｃｕ（ＣＮ）₃ 銅分として２０〜５０ｇ／ＬＫＣＮ１０〜５０ｇ／ＬｐＨ１０以上（ハ）銀の部分めつき液：ＫＡｇ（ＣＮ）₂ 銀分として５０〜９０ｇ／ＬＫＣＮ１〜５ｇ／ＬｐＨ８〜１０測定手段（Ｂ）から送られて来た測定値は該設定値と比
較される。被膜成分濃度および遊離シアン濃度は希釈さ
れた状態で測定されたものであるので、測定値に希釈倍
率が乗されたものが設定値と比較される。こうして、設
定値と測定値との差に対応した補正データが演算され、
該データは制御手段（Ｄ）に送られる。制御手段（Ｄ）
は演算手段（Ｃ）から送られてきた補正データに基づい
て補正試薬補充手段を制御し、補正に必要な量の試薬が
めっき槽に供給されるようにする。

【００２３】補充手段（Ｅ）は、例えば、補充すべきめ
っき被膜成分濃度、遊離シアン濃度およびｐＨの補正液
をそれぞれ貯蔵する補充液槽、補充液槽から補正液をめ
っき槽に移送する配管、および該配管上に設けられた開
閉が制御可能な弁とから構成され、この弁の開閉が制御
手段（Ｄ）により制御される。

【００２４】補充手段（Ｅ）により添加される試薬は従
来行われているものと同様であり、例えば次のようなも
のである。・ｐＨの補正：銀、銅のストライクめつき液では、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム。この場合、ｐＨが所定
値以上を保つように添加される。

【００２５】銀の部分めっき液では、燐酸、硝酸、クエ
ン酸等。ｐＨをー定の範囲に保持する必要があるが、め
つき作業中、ｐＨは通常上昇するのでー定ｐＨを越えな
いように酸が添加される。・被膜成分濃度の補正：めっき作業の進行にともない、
被膜成分濃度は当然低下する。前記のシアン錯塩が添加
される。・遊離シアン濃度の補正：めっき作業中めっき液中の遊
離シアンは失われる。ＫＣＮやＮａＣＮが添加される。

【００２６】補正のために添加される試薬は溶液状態で
もよいし、粉末状態でもよいが、補充量を制御し易い点
では溶液状態が有利である。その場合、補充を効率良く
行うために高濃度の補正液として添加することができ
る。めっき被膜成分を高濃度の補正液として添加するに
は、補正液貯液槽液にヒーター等の加熱手段を設ける。

【００２７】以下、めっき被膜成分濃度を管理する場合
を例に、図３に即してより詳しく説明する。

【００２８】本発明の装置は、予め設定された時間毎に
起動するように運転される。設定された時間になると、
制御装置（Ｄ）からの命令によりめっき槽１からめっき
液２がラインＡ１を介して採取され、試料液貯液槽Ａ２
へ送られる。さらに、該めっき液は３つの測定槽へ送ら
れ、それぞれの槽へタンクから水または試薬が供給され
て必要な処理を行った後、めっき被膜成分濃度、遊離シ
アン濃度、ｐＨの特性値が測定される。

【００２９】

【実施例】以下、めつき被膜成分濃度を管理する場合を
例こ、図２に即してより詳しく説明する。

【００３０】試料液採取手段（Ａ）は、めつき槽１から
めっき糟液２を採取する。めっき槽１の試料を移送する
ラインＡ１と、一旦貯蔵するための試料液貯液槽Ａ２
と、めっき槽１から試料液を貯液槽Ａ２に供給する電磁
定量ポンプＡ３と、試料液をさらに測定装置（Ｂ）へ移
送するラインＡ４と、該ラインに設けられた電磁弁Ａ５
とから構成されている。この例では、さらに試料液貯液
槽Ａ２に残った余分の試料液をめっき糟１に戻すポンプ
Ａ６とラインＡ７を有する。ラインＡ１に設けられた弁
Ａ８、Ａ９およびラインＡ７に設けられた弁Ａ１０、Ａ
１１は、通常は開かれている。また、ラインＡ４に設け
られた弁Ａｌ２、Ａ１３も通常は開かれている。

【００３１】めっき被膜成分濃度測定装置（Ｂ）は、め
っき被膜成分濃度測定槽Ｂ１と、測定槽Ｂ１内の試料液
へ挿入し、引き上げできる電極Ｂ２と、撹袢装置Ｂ３
と、シアン化合物を分解させるためのヒーターＢ４、シ
アン化合物が分解した試料液を冷却するための冷却管Ｂ
５と、試料液の温度測定用の熱電対Ｂ６を備えている。
また、測定終了後の試料液および後記する洗浄液を測定
槽Ｂ１から排出するためのラインＢ７と、ポンプＢ８
と、排出された液を貯蔵する廃液槽Ｂ９とを有する。

【００３２】該測定手段（Ｂ）には、純水を貯蔵する純
水タンクＢ１０と、酸タンクＢ１１と、緩衝液（ｐＨ４
〜８）タンクＢｌ２が設けられ、各タンクから測定槽Ｂ
１へ、電磁定量ポンプＢ１３、Ｂ１４、Ｂ１５をそれぞ
れ備えたラインＢ１６、Ｂ１７およびＢ１８が延びてい
る。各ラインに設けられた図示の弁は通常は開かれてい
る。

【００３３】補正試薬補充手段（Ｅ）は、めっき被膜成
分の補正液（シアン化合物溶液）Ｅ１を収容する補充液
槽Ｅ２と、ヒーターＥ３、熱電対Ｅ４、レベルセンサー
Ｅ５と、Ｅ１をめっき槽１へ供給するラインＥ６、電磁
定量ポンプＥ７からなる。電磁定量ポンプＥ７は制御装
置（Ｄ）により制御される。ラインＥ６に設けられた弁
Ｅ８、Ｅ９は通常は開かれている。

【００３４】図２では、めっき被膜成分を当該成分の溶
液を補充することで補正しているが、補充される物質が
粉末で補充するのに適している場合は、粉末状態で補充
する装置に交換することができる。

【００３５】図２の装置を用いてめっき被膜成分濃度の
自動管理は次のようにして行われる。

【００３６】本発明の装置は、予め設定された所定の時
間間隔で作動を開始する。設定された時刻になると、制
御装置（Ｄ）の命令により電磁定量ポンプＡ３が作動し
て、操業中のめっき槽から所定量の測定すべきめつき液
を採取し、試料液貯液槽Ａ２に移送しー旦貯蔵する。次
に、電磁定量ポンプＡ５が作動し、試料液貯液槽Ａ２の
試料液の所定量を、めっき被膜成分濃度測定槽Ｂ１へ供
給する。ｐＨの管理、遊離シアン濃度の管理が同時に行
われる場合には、電磁定量ポンプＡ１４およびＡ１５に
よりそれぞれの測定槽（図２に図示略、図３参照）へも
供給される。各測定槽への試料液の供給が終了したら、
ポンプＡ６が作動し、試料液貯液槽Ａ２に残っている試
料液をめっき槽１へ戻す。

【００３７】めっき被膜成分濃度の自動管理は以下次の
ように進行する。

【００３８】（１）試料液が供給されためっき被膜成分
濃度測定槽Ｂ１へ、醗タンクＢ１１から電磁定量ポンプ
Ｂ１４により、シアン化合物を分解するため、硫酸と硝
酸の混合物の所定量が供給される。

【００３９】（２）ヒーターＢ４により、測定槽Ｂ１内
の試料液が加熱され、シアン化合物が分解して遊離シア
ンが発生する。加熱は通常８０〜２００℃で１〜２０分
であり、好ましくは１００〜１５０℃で３〜１０分であ
る。

【００４０】（３）分解が完了したら、ヒーターへの通
電が止められ、冷却管Ｂ５に冷却水が供給され、測定槽
Ｂ１内の液は室温まで冷却される。

【００４１】（４）緩衝液タンクＢｌ２から、電磁定量
ポンプＢ１５により、緩衝液（ｐＨ４〜８）が測定槽Ｂ
１に供給される。

【００４２】（５）電極Ｂ６が、測定槽Ｂ１内の液中に
挿入され、めっき被膜成分濃度が測定される。

【００４３】（６）測定値は、図４のフロー図に示すよ
うに、演算装置（Ｃ）へ送られ入力される。また、必要
に応じてディスプレイやプリンターへ出力される。

【００４４】（７）測定値は演算装置（Ｃ）において設
定値と比較され、測定値が設定値の範囲内であると補正
の必要はないので処理は終了する。しかし、測定値が設
定値の範囲外である場合には補正データを演算する。

【００４５】具体的には、めっき被膜成分濃度はめっき
作業の進行とともに低下して行くので、実用上はある下
限以下にならないように管理することが考えられる。こ
の場合、制御の指標として下限値（Ｘｍｉｎ）を設定し
ておき、測定値（Ｘ）がＸｍｉｎより高い場合には処理
を終了する。ＸがＸｍｉｎ以下である場合には、目標値
Ｘｏと測定値Ｘとの差（Ｘｏ−Ｘ）に応じた修正データ
が演算される。即ち、濃度差（Ｘｏ−Ｘ）に、めっき槽
内のめっき液の容量（一定に制御されるので定数）、後
記補充液Ｅ１の濃度（定数）を考慮し、めっき液の被膜
成分濃度をＸｏに高めるのに必要な補充液Ｅ１の容量
（補正データ）を演算する。該補正データが制御装置
（Ｄ）に出力される。

【００４６】（８）制御装置（Ｄ）は、補正データに基
づいて、電磁定量ポンプＥ７を作動させて、補充液Ｅ１
を補正に必要な量だけめっき槽１へ補充する。こうして
必須のステップはー応処理は終了するが、さらに次の処
理が行われることが望ましい。

【００４７】（９）該補充液量は制御装置（Ｄ）に送ら
れ、記憶装置（図示略）に記録される。

【００４８】（１０）測定が終了した測定槽Ｂ１内の液
は、ポンプＢ８により廃液槽Ｂ９へ送られる。

【００４９】（１１）電磁定量ポンプＢ１３が作動し
て、純水タンクＢ１０の純水の所定量が測定槽Ｂ１へ供
給され、測定槽Ｂ１内および電極Ｂ２が洗浄される。

【００５０】（１２）洗浄終了後、洗浄液はポンプＢ８
により廃液槽Ｂ９へ送られる。

【００５１】（１３）電極Ｂ２が測定槽Ｂ１内より引き
上げられ、所定の位置に戻される。試料液のｐＨの自動
管理および遊離シアン濃度の自動管理も、測定手段およ
び補充手段の具体的構成が以下に示す点でいくぶん異な
る以外は上記の同様にして行われる。

【００５２】ｐＨの自動管理においては、図３に示すよ
うに、（イ）ラインＡ１７を介してｐＨ測定槽Ｂ１９に試料液
が供給され、純水タンクＢ１０から電磁定量ポンプＢ２
０、ラインＢ２１により、希釈に用いる所定量の純水が
供給される。

【００５３】（ロ）電極Ｂ２２が希釈されためっき液中
に挿人され、ｐＨが測定される。

【００５４】（ハ）補充される補正液としては前述のよ
うにめっき液の種類に応じてＫＯＨ，ＮａＯＨあるいは
酸の水溶液が使用される。この補充液槽には加熱手段は
必要ない。

【００５５】ｐＨは、銀、銅のストライクめっきの場合
には、ｐＨが１０以上になることが求められるので下限
を設定し管理を行えばよいので、めっき被膜成分濃度の
管理と類似する。銀の部分めっきの場合には、ｐＨはー
般に上昇するので、実用上は一定の上限を設定しそれを
越えないように管理すればよい。前記のＸｍｉｎの代わ
りに上限値を設定する以外は、めっき被膜成分濃度の管
理と同様でよい。

【００５６】遊離シアン濃度の自動管理においては、図
３に示すように、（イ）ラインＡ１６を介して試料液が供給された遊離シ
アン濃度測定槽Ｂ２３へ、緩衝液タンクＢ２４から電磁
定量ポンプＢ２５、ラインＢ２６により、１モルＮａＯ
Ｈ水溶液の所定量が供給され、希釈される。

【００５７】（ロ）必要に応じ、純水タンクＢ１０から
電磁定量ポンプＢ２７、ラインＢ２８により、希釈に用
いる所定量の純水が供給される。

【００５８】（ハ）電極Ｂ２９が測定槽Ｂ２３内の液中
へ挿入され、遊離シアン濃度が測定される。

【００５９】（ニ）演算された補正データに基づいて制
御装置（Ｄ）が補正液の補充を行うが、補正液としては
ＫＣＮまたはＮａＣＮの水溶液が使用される。この補充
液槽には加熱手段は必要ない。

【００６０】遊離シアンはめっき作業中減少する場合が
あるので、めっき被膜成分濃度と同様にー定の下限を設
定し管理を行えばよい。

【００６１】

【発明の効果】本発明のめつき液自動管理装置によれ
ば、銀の部分めつき、銀ストライクめっき、銅ストライ
クめっきを初めとする各種のめっき操業中において、め
っき液中のめっき被膜成分濃度、遊離シアン濃度および
ｐＨを、人手を必要とせず、自動的に管理することがで
きる。したがって、めっき液の組成が常に所定の範囲に
維持され、得られためっき被膜の品質は常に良好な範囲
に保たれる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のめっき液自動管理装置の構成を示すプ
ロック図である。

【図２】本発明のめっき液自動管理装置において、めっ
き被膜成分濃度を管理する場合の構成を模式的に示した
図である。

【図３】本発明のめっき液自動管理装置において、ｐＨ
および遊離シアン濃度の測定段の構成を模式的に示した
図である。

【図４】本発明の方法によりめっき被膜成分濃度を管理
する場合の手順を示すフロー図である。

【符号の説明】

（Ａ）試料液採取手段（Ｂ）特性値測定手段（Ｃ）演算手段（Ｄ）制御手段（Ｅ）補正試薬補充手段１めつき槽Ａ２試料液貯液槽Ａ３電磁定量ポンプＢ２被膜成分濃度測定用電極Ｂ４ヒーターＢ５冷却管Ｂ１３電磁定量ポンプＢ１４電磁定量ポンプＢ１５電磁定量ポンプＥ１補正液Ｅ２補充液槽Ｅ３ヒーターＥ７電磁定量ポンプ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】めっき作業が行われるめっき槽内のめっ
き液の特性値が目標値に保たれるように管理するために
自動的に補正試薬を補充する、めっき液の自動管理方法
であって、前記めっき液から測定用試料液をー定時間間隔で採取
し；該試料液について前記特性値を測定し；得られた測
定値を予め設定された目標値と比較し、（ｉ）測定値が設定値の範囲内である場合には処理を終
了し、（ｉｉ）測定値が設定値の範囲外である場合には、補正
データを演算し；該補正データに応じて、めっき槽内の
めっき液の該特性値が設定値となるように補正試薬を補
充する、工程を有する、めっき液の自動管理方法。
【請求項２】前記めっき液が銀の部分めっき、銀又は
銅ストライクめっき用のめっき液であって、前記の管理
される特性値が、めっき被膜成分濃度、遊離シアン濃
度、およびｐＨの１又は２以上である、請求項１に記載
の自動管理方法。
【請求項３】めっき作業が行われるめっき槽内のめっ
き液の特性値が目標値に保たれるように管理するために
自動的に補正試薬を補充する、めっき液の自動管理装置
であって、前記めっき槽から測定用試料液を採取する手段（Ａ）
と；該試料液について前記特性値を測定する手段（Ｂ）
と；得られた測定値を予め設定された目標値と比較し、
測定値が設定値の範囲外である場合には補正データを演
算する手段（Ｃ）と；めっき液の当該特性値が設定値と
なるように、前記演算手段により得られた補正データに
応じて次の補充手段（Ｅ）を制御し、補充される補正試
薬の補充量を調節する、制御手段（Ｄ）と；補正試薬を
めっき槽内のめっき液に補充する手段（Ｅ）と、を有し
てなるめつき液の自動管理装置。
【請求項４】前記めっき液が銀の部分めっき、銀又は
銅ストライクめっき用のめっき液であって、前記の管理
される特性値が、めっき被膜成分濃度、遊離シアン濃
度、およびｐＨの１又は２以上である、請求項３に記載
の自動管理装置。