JPH1062281A - 成膜装置の圧力検出器 - Google Patents
成膜装置の圧力検出器Info
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- JPH1062281A JPH1062281A JP8231352A JP23135296A JPH1062281A JP H1062281 A JPH1062281 A JP H1062281A JP 8231352 A JP8231352 A JP 8231352A JP 23135296 A JP23135296 A JP 23135296A JP H1062281 A JPH1062281 A JP H1062281A
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- temperature
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＣＶＤ装置の圧力検出に用いても副生成物が
付着することが無く、かつ、高精度な圧力検出が可能な
圧力検出器を提供する。 【解決手段】 被検知部である反応ガス供給管１に圧力
取出配管１１を接続し、この圧力取出配管１１の先端に
ダイアフラムセンサ１２を取り付けて構成される圧力検
出器であって、圧力取出配管１１の温度を検出する配管
温度センサ１４と、圧力取出配管１１を加熱する配管加
熱ヒータ１３と、ダイアフラムセンサ１２の温度を検出
する検知部温度センサ１９と、ダイアフラムセンサ１２
を加熱する内蔵ヒータと、配管温度センサ１４の検知出
力に基づき配管加熱ヒータ１３を、検知部温度センサ１
９の検知出力に基づきダイアフラムセンサ１２内蔵のヒ
ータをそれぞれ別個に駆動して圧力取出配管１１とダイ
アフラムセンサ１２の温度差が所定の温度差以下になる
ように制御する温度調節器２０とを備える。
付着することが無く、かつ、高精度な圧力検出が可能な
圧力検出器を提供する。 【解決手段】 被検知部である反応ガス供給管１に圧力
取出配管１１を接続し、この圧力取出配管１１の先端に
ダイアフラムセンサ１２を取り付けて構成される圧力検
出器であって、圧力取出配管１１の温度を検出する配管
温度センサ１４と、圧力取出配管１１を加熱する配管加
熱ヒータ１３と、ダイアフラムセンサ１２の温度を検出
する検知部温度センサ１９と、ダイアフラムセンサ１２
を加熱する内蔵ヒータと、配管温度センサ１４の検知出
力に基づき配管加熱ヒータ１３を、検知部温度センサ１
９の検知出力に基づきダイアフラムセンサ１２内蔵のヒ
ータをそれぞれ別個に駆動して圧力取出配管１１とダイ
アフラムセンサ１２の温度差が所定の温度差以下になる
ように制御する温度調節器２０とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はＣＶＤ装置等の成
膜装置に用いる圧力検出器、特に、被検知部の圧力を圧
力取出管により取り出してダイアフラムセンサ等の圧力
検知部により検出する圧力検出器であって、圧力取出管
やダイアフラムセンサ等を加熱して副生成物の付着の防
止を図る圧力検出器に関する。
膜装置に用いる圧力検出器、特に、被検知部の圧力を圧
力取出管により取り出してダイアフラムセンサ等の圧力
検知部により検出する圧力検出器であって、圧力取出管
やダイアフラムセンサ等を加熱して副生成物の付着の防
止を図る圧力検出器に関する。
【０００２】
【従来の技術】成膜装置、例えば、ＣＶＤ装置にあって
は、処理炉内を所定の真空度に維持して反応ガスを導入
し、基板等のワーク表面にポリシリコン等の薄膜を形成
する。このようなＣＶＤ装置は、温度や濃度とともに圧
力が重要な制御要素であり、炉内部の圧力や炉内に導入
する反応ガスの圧力等を圧力検出器により検出して適正
値に制御することが行われている。
は、処理炉内を所定の真空度に維持して反応ガスを導入
し、基板等のワーク表面にポリシリコン等の薄膜を形成
する。このようなＣＶＤ装置は、温度や濃度とともに圧
力が重要な制御要素であり、炉内部の圧力や炉内に導入
する反応ガスの圧力等を圧力検出器により検出して適正
値に制御することが行われている。
【０００３】従来、上述した圧力検出器としては、図２
に示すようなものが知られる。図２中、１は図示しない
処理炉に接続された反応ガス供給管（被検知部）であ
り、この反応ガス供給管１には、メインバルブ２が介設
され、また、この発明の対象である圧力検出器１０が設
けられる。圧力検出器１０は、反応ガス供給管１の途中
に圧力取出配管１１を接続し、この圧力取出配管１１の
先端にダイアフラムセンサ（圧力検知部）１２を取り付
けて構成される。なお、１８は圧力取出配管１１に設け
られたエアバルブである。
に示すようなものが知られる。図２中、１は図示しない
処理炉に接続された反応ガス供給管（被検知部）であ
り、この反応ガス供給管１には、メインバルブ２が介設
され、また、この発明の対象である圧力検出器１０が設
けられる。圧力検出器１０は、反応ガス供給管１の途中
に圧力取出配管１１を接続し、この圧力取出配管１１の
先端にダイアフラムセンサ（圧力検知部）１２を取り付
けて構成される。なお、１８は圧力取出配管１１に設け
られたエアバルブである。
【０００４】圧力取出配管１１には、配管１１を加熱す
る配管加熱ヒータ１３と、配管１１の温度を検出する配
管温度センサ１４が設けられる。これら配管加熱ヒータ
１３と配管温度センサ１４は温度調節器２０に接続さ
れ、配管温度センサ１４が配管１１の温度検知信号を温
度調節器２０に出力し、また、配管加熱ヒータ１３が配
管１１の温度に基づき温度調節器２０により制御され
る。
る配管加熱ヒータ１３と、配管１１の温度を検出する配
管温度センサ１４が設けられる。これら配管加熱ヒータ
１３と配管温度センサ１４は温度調節器２０に接続さ
れ、配管温度センサ１４が配管１１の温度検知信号を温
度調節器２０に出力し、また、配管加熱ヒータ１３が配
管１１の温度に基づき温度調節器２０により制御され
る。
【０００５】ダイアフラムセンサ１２は、圧力取出配管
１１により導入された圧力により弾性変形するダイアフ
ラムを有し、また、加熱ヒータを内蔵する。このダイア
フラムセンサ１２は、上述した温度調節器２０に接続さ
れ、ダイアフラムの変形を電気信号に変換して温度調節
器２０に出力し、また、加熱ヒータが上述した配管１１
の温度に基づき温度調節器２０により制御されてダイア
フラム等を加熱する。
１１により導入された圧力により弾性変形するダイアフ
ラムを有し、また、加熱ヒータを内蔵する。このダイア
フラムセンサ１２は、上述した温度調節器２０に接続さ
れ、ダイアフラムの変形を電気信号に変換して温度調節
器２０に出力し、また、加熱ヒータが上述した配管１１
の温度に基づき温度調節器２０により制御されてダイア
フラム等を加熱する。
【０００６】この圧力検出器１０は、圧力取出配管１１
を配管加熱ヒータ１３により、また、ダイアフラムセン
サ１２が内蔵ヒータによりダイアフラム等を加熱し、配
管１１やダイアフラムなどに副生成物が付着することを
防止している。そして、ダイアフラムセンサ１２の検知
精度がダイアフラムの温度等により影響を受けるため、
温度調節器２０においてダイアフラムの検知信号を配管
温度センサ１４の検知出力等に基づき補正している。
を配管加熱ヒータ１３により、また、ダイアフラムセン
サ１２が内蔵ヒータによりダイアフラム等を加熱し、配
管１１やダイアフラムなどに副生成物が付着することを
防止している。そして、ダイアフラムセンサ１２の検知
精度がダイアフラムの温度等により影響を受けるため、
温度調節器２０においてダイアフラムの検知信号を配管
温度センサ１４の検知出力等に基づき補正している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の圧力検出器１０にあっては、配管温度センサ１
４により検出された圧力取出配管１１の温度に基づき配
管加熱ヒータ１３とダイアフラムセンサ１２内蔵の加熱
ヒータとの双方を制御するため、ダイアフラムセンサ１
２の温度が圧力取出配管の温度と一致せず制御目標値か
ら変動することがあり、この温度変動に起因した検知誤
差が生じるという問題があった。この発明は、上記問題
に鑑みなされたもので、ダイアフラムセンサの温度変動
に起因した誤差の発生を防止でき、高精度な圧力検出が
可能な圧力検出器を提供することを目的とする。
た従来の圧力検出器１０にあっては、配管温度センサ１
４により検出された圧力取出配管１１の温度に基づき配
管加熱ヒータ１３とダイアフラムセンサ１２内蔵の加熱
ヒータとの双方を制御するため、ダイアフラムセンサ１
２の温度が圧力取出配管の温度と一致せず制御目標値か
ら変動することがあり、この温度変動に起因した検知誤
差が生じるという問題があった。この発明は、上記問題
に鑑みなされたもので、ダイアフラムセンサの温度変動
に起因した誤差の発生を防止でき、高精度な圧力検出が
可能な圧力検出器を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、成膜装置の被検知部に圧力取出配管を
接続し、該圧力取出配管に圧力検知部を取り付けるとと
もに、前記圧力取出配管を加熱する配管加熱ヒータと前
記圧力検知部を加熱する検知部加熱ヒータとを設けた成
膜装置の圧力検出器において、前記圧力取出配管の温度
を検出する配管温度センサと、前記圧力検知部の温度を
検出する検知部温度センサと、前記検知部温度センサお
よび配管温度センサの検知出力に基づき前記配管加熱ヒ
ータと前記検知部加熱ヒータとを制御して前記圧力取出
配管の温度と前記圧力検知部の温度との温度差を所定値
以下に保持する温度調節器とを設けた。
め、この発明は、成膜装置の被検知部に圧力取出配管を
接続し、該圧力取出配管に圧力検知部を取り付けるとと
もに、前記圧力取出配管を加熱する配管加熱ヒータと前
記圧力検知部を加熱する検知部加熱ヒータとを設けた成
膜装置の圧力検出器において、前記圧力取出配管の温度
を検出する配管温度センサと、前記圧力検知部の温度を
検出する検知部温度センサと、前記検知部温度センサお
よび配管温度センサの検知出力に基づき前記配管加熱ヒ
ータと前記検知部加熱ヒータとを制御して前記圧力取出
配管の温度と前記圧力検知部の温度との温度差を所定値
以下に保持する温度調節器とを設けた。
【０００９】この発明にかかる圧力検出器の適用対象で
ある成膜装置は、ＣＶＤ装置に代表されるが、その他の
成膜装置、例えば、エピタキシャル成長装置等に適用す
ることも可能である。また、成膜装置の被検知部として
は、処理炉、処理炉へ反応ガスを供給する反応ガス供給
配管あるいは処理炉からガスを排出する排出管等が挙げ
られるが、被検知部は任意に選択される。
ある成膜装置は、ＣＶＤ装置に代表されるが、その他の
成膜装置、例えば、エピタキシャル成長装置等に適用す
ることも可能である。また、成膜装置の被検知部として
は、処理炉、処理炉へ反応ガスを供給する反応ガス供給
配管あるいは処理炉からガスを排出する排出管等が挙げ
られるが、被検知部は任意に選択される。
【００１０】圧力検知部はダイアフラムセンサ等の圧力
センサが用いられるが、特に、この発明は、圧力を部材
の変形に置換して検出する圧力検知部に有効である。配
管加熱ヒータおよび検知部加熱ヒータはジュール熱を生
じる電気ヒータ等で代表されるが、赤外線ランプ等の他
の加熱手段を用いることも可能である。配管温度センサ
および検知部温度センサは、周知の熱伝対等が用いら
れ、それぞれが別個独立に温度調節器に接続される。
センサが用いられるが、特に、この発明は、圧力を部材
の変形に置換して検出する圧力検知部に有効である。配
管加熱ヒータおよび検知部加熱ヒータはジュール熱を生
じる電気ヒータ等で代表されるが、赤外線ランプ等の他
の加熱手段を用いることも可能である。配管温度センサ
および検知部温度センサは、周知の熱伝対等が用いら
れ、それぞれが別個独立に温度調節器に接続される。
【００１１】温度調節器は、ＣＶＤ装置等のマシンコン
トローラ、あるいは、圧力検出装置に専用のコントロー
ラが用いられる。この温度調節器は、圧力取出配管の温
度と圧力検知部の温度との温度差が所定値以下になるよ
うに、望ましくは、温度が一致するように各ヒータを制
御する。
トローラ、あるいは、圧力検出装置に専用のコントロー
ラが用いられる。この温度調節器は、圧力取出配管の温
度と圧力検知部の温度との温度差が所定値以下になるよ
うに、望ましくは、温度が一致するように各ヒータを制
御する。
【００１２】この発明にかかる成膜装置の圧力検出器
は、圧力取出配管が配管温度センサの検知出力に基づき
制御される配管加熱ヒータにより加熱され、また、圧力
検知部が検知部温度センサの検知出力に基づき制御され
る検知部加熱ヒータにより加熱され、圧力取出配管と圧
力検知部の温度差が所定値以下に維持される。このた
め、圧力取出配管のみならず圧力検知部の温度を正確に
管理でき、温度変動に起因した誤差の発生が防止でき、
圧力を高い精度で検出できる。
は、圧力取出配管が配管温度センサの検知出力に基づき
制御される配管加熱ヒータにより加熱され、また、圧力
検知部が検知部温度センサの検知出力に基づき制御され
る検知部加熱ヒータにより加熱され、圧力取出配管と圧
力検知部の温度差が所定値以下に維持される。このた
め、圧力取出配管のみならず圧力検知部の温度を正確に
管理でき、温度変動に起因した誤差の発生が防止でき、
圧力を高い精度で検出できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。図１はこの発明の一の実施の形
態にかかる成膜装置の圧力検出器を示す模式構成図であ
る。なお、前述した図２の従来の圧力検出器と同一の部
分には同一の番号を付して説明を省略する。
面を参照して説明する。図１はこの発明の一の実施の形
態にかかる成膜装置の圧力検出器を示す模式構成図であ
る。なお、前述した図２の従来の圧力検出器と同一の部
分には同一の番号を付して説明を省略する。
【００１４】図１に示すように、ダイアフラムセンサ１
２にはダイアフラム等の温度を検出する検知部温度セン
サ１９が設けられる。この検知部温度センサ１９は、熱
伝対等からなり、温度調節器２０に接続される。
２にはダイアフラム等の温度を検出する検知部温度セン
サ１９が設けられる。この検知部温度センサ１９は、熱
伝対等からなり、温度調節器２０に接続される。
【００１５】この実施の形態にあっては、圧力取出配管
１１の温度を配管温度センサ１４により検出し、また、
ダイアフラムセンサ１２の温度を検知部温度センサ１９
により検出する。そして、温度調節器２０が配管温度セ
ンサ１４の検知出力に基づき配管加熱ヒータ１３を駆動
制御し、また、検知部温度センサ１９の検知出力に基づ
きダイアフラムセンサ１２の内蔵ヒータを駆動制御し、
圧力取出配管１１とダイアフラムセンサ１２を加熱す
る。このため、これら圧力取出配管１１やダイアフラム
センサ１２に副生成物が付着することが防止できる。
１１の温度を配管温度センサ１４により検出し、また、
ダイアフラムセンサ１２の温度を検知部温度センサ１９
により検出する。そして、温度調節器２０が配管温度セ
ンサ１４の検知出力に基づき配管加熱ヒータ１３を駆動
制御し、また、検知部温度センサ１９の検知出力に基づ
きダイアフラムセンサ１２の内蔵ヒータを駆動制御し、
圧力取出配管１１とダイアフラムセンサ１２を加熱す
る。このため、これら圧力取出配管１１やダイアフラム
センサ１２に副生成物が付着することが防止できる。
【００１６】そして、温度調節器２０は、圧力取出配管
１１とダイアフラム１２の温度差が所定値、例えば、５
°Ｃ以下になるように配管加熱ヒータ１３とダイアフラ
ムセンサ１２内蔵のヒータを制御する。このため、圧力
取出配管１１とダイアフラムセンサ１２をほぼ同一の温
度に維持でき、また、ダイアフラムセンサ１２の温度を
正確に管理できその温度が変動することが無い。このた
め、温度変動に起因した誤差の発生も無く、高い精度で
圧力を検出できる。
１１とダイアフラム１２の温度差が所定値、例えば、５
°Ｃ以下になるように配管加熱ヒータ１３とダイアフラ
ムセンサ１２内蔵のヒータを制御する。このため、圧力
取出配管１１とダイアフラムセンサ１２をほぼ同一の温
度に維持でき、また、ダイアフラムセンサ１２の温度を
正確に管理できその温度が変動することが無い。このた
め、温度変動に起因した誤差の発生も無く、高い精度で
圧力を検出できる。
【００１７】すなわち、ダイアフラムセンサ１２は圧力
取出配管１１を経て導入された圧力でダイアフラムが変
形し、このダイアフラムの変形を圧力値として出力する
ため、ダイアフラムに熱変形を生じさせる温度の影響を
受けやすいが、温度が正確に管理されるため、温度調節
器２０における補正も正確に行え、圧力を高精度で検出
できる。
取出配管１１を経て導入された圧力でダイアフラムが変
形し、このダイアフラムの変形を圧力値として出力する
ため、ダイアフラムに熱変形を生じさせる温度の影響を
受けやすいが、温度が正確に管理されるため、温度調節
器２０における補正も正確に行え、圧力を高精度で検出
できる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、この発明にかかる
成膜装置の圧力検出器によれば、圧力検知部および該圧
力検知部に圧力を導く圧力取出配管にそれぞれ温度セン
サと加熱ヒータを個別に設け、これら圧力検知部と圧力
取出配管とをそれぞれのセンサに基づき加熱ヒータで別
個独立に加熱し、かつ、圧力検知部と圧力取出配管の温
度差が所定値以下になるように制御するため、圧力検知
部や圧力取出配管に副生成物が付着することを防止で
き、また、圧力検知部の温度変動に起因した圧力検知誤
差の発生も防止でき、圧力を高精度で検出できる。
成膜装置の圧力検出器によれば、圧力検知部および該圧
力検知部に圧力を導く圧力取出配管にそれぞれ温度セン
サと加熱ヒータを個別に設け、これら圧力検知部と圧力
取出配管とをそれぞれのセンサに基づき加熱ヒータで別
個独立に加熱し、かつ、圧力検知部と圧力取出配管の温
度差が所定値以下になるように制御するため、圧力検知
部や圧力取出配管に副生成物が付着することを防止で
き、また、圧力検知部の温度変動に起因した圧力検知誤
差の発生も防止でき、圧力を高精度で検出できる。
【図１】この発明の一の実施の形態にかかる成膜装置の
圧力検出器を示す模式構成図である。
圧力検出器を示す模式構成図である。
【図２】従来の成膜装置の圧力検出器を示す模式構成図
である。
である。
１ 反応ガス供給管（被検知部） １０ 圧力検出器 １１ 圧力取出配管 １２ ダイアフラムセンサ（圧力検知部、検知部加熱ヒ
ータ） １３ 配管加熱ヒータ １４ 配管温度センサ １９ 検知部温度センサ ２０ 温度調節器
ータ） １３ 配管加熱ヒータ １４ 配管温度センサ １９ 検知部温度センサ ２０ 温度調節器
Claims (1)
- 【請求項１】 成膜装置の被検知部に圧力取出配管を接
続し、該圧力取出配管に圧力検知部を取り付けるととも
に、前記圧力取出配管を加熱する配管加熱ヒータと前記
圧力検知部を加熱する検知部加熱ヒータとを設けた成膜
装置の圧力検出器において、 前記圧力取出配管の温度を検出する配管温度センサと、
前記圧力検知部の温度を検出する検知部温度センサと、
前記検知部温度センサおよび配管温度センサの検知出力
に基づき前記配管加熱ヒータと前記検知部加熱ヒータと
を制御して前記圧力取出配管の温度と前記圧力検知部の
温度との温度差を所定値以下に保持する温度調節器とを
備えることを特徴とする成膜装置の圧力検出器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8231352A JPH1062281A (ja) | 1996-08-13 | 1996-08-13 | 成膜装置の圧力検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8231352A JPH1062281A (ja) | 1996-08-13 | 1996-08-13 | 成膜装置の圧力検出器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1062281A true JPH1062281A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=16922283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8231352A Pending JPH1062281A (ja) | 1996-08-13 | 1996-08-13 | 成膜装置の圧力検出器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1062281A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005530141A (ja) * | 2002-06-13 | 2005-10-06 | マイクロリス コーポレイション | 圧力センサとともに使用するための温度調整器 |
| JP2009510626A (ja) * | 2005-09-29 | 2009-03-12 | ローズマウント インコーポレイテッド | プロセスフィールド装置の温度制御 |
| KR101252925B1 (ko) | 2010-10-18 | 2013-04-09 | 주식회사 엘지실트론 | 단결정 성장장치의 배관 시스템 및 이를 포함하는 단결정 성장장치 |
-
1996
- 1996-08-13 JP JP8231352A patent/JPH1062281A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005530141A (ja) * | 2002-06-13 | 2005-10-06 | マイクロリス コーポレイション | 圧力センサとともに使用するための温度調整器 |
| JP2009510626A (ja) * | 2005-09-29 | 2009-03-12 | ローズマウント インコーポレイテッド | プロセスフィールド装置の温度制御 |
| KR101252925B1 (ko) | 2010-10-18 | 2013-04-09 | 주식회사 엘지실트론 | 단결정 성장장치의 배관 시스템 및 이를 포함하는 단결정 성장장치 |
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