JPH1062702A

JPH1062702A - ラスターデータ描画装置

Info

Publication number: JPH1062702A
Application number: JP8237156A
Authority: JP
Inventors: Etsuo Iwasaki; 悦夫岩崎; Takashi Okuyama; 隆志奥山
Original assignee: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Current assignee: Pentax Corp
Priority date: 1996-08-20
Filing date: 1996-08-20
Publication date: 1998-03-06
Also published as: US5852293A

Abstract

(57)【要約】【課題】メモリの拡張など、大幅なコストアップをす
ることなく、主走査方向における描画開始位置を、容易
に、高い精度で調整することのできるラスターデータ描
画装置を提供すること。【解決手段】ラスターデータを格納するメモリ（７
１、７２）と、光源（３１）と、光源から射出されるビ
ームを偏向するポリゴンミラー（３５）と、基準クロッ
クパルス信号を遅延させた遅延クロック信号を生成し出
力するディレイライン（７４）およびマルチプレクサ
（７５）と、前記遅延クロック信号に同期して前記ラス
ターデータをメモリから読み出し光源をＯＮ・ＯＦＦ変
調する音響光学素子（３４）と、を有する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプリント基板へのパ
ターンの描画などに使用するラスターデータ描画装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、基板に回路パターンを形成す
る方法として、例えば銅などの導電金属材料からなる薄
膜を均一に付着させた基板上に、フォトポリマー等を均
一に付着させ、この基板を回路パターンが形成された露
光焼き付け用マスク（フォトマスクフィルム）によって
覆い紫外光等を照射して露光焼き付け用マスクに形成し
た回路パターンを露光焼き付けする方法が知られてい
る。

【０００３】近年、上記の方法に変わる方法として、露
光焼き付けマスクを使用せず、回路パターンに対応した
ラスターデータに応じて変調したレーザ光をポリゴンミ
ラーなどの偏向手段を介して基板上で走査させ、基板に
直接回路パターンに対応した画像を露光する方法が提案
されている。

【０００４】上記のようなラスターデータを用いて回路
パターンを基板に描画する場合には、通常、ワークテー
ブルに載置された基板上でレーザビームが所定方向（主
走査方向）に走査する構成とし、レーザビームの主走査
に同期してワークテーブルを主走査方向と直行する方向
（副走査方向）に移動させることにより、基板上に２次
元の回路パターンに対応した画像を形成するようになっ
ている。

【０００５】プリント基板の回路パターンの基板上の位
置は高い精度が要求されている。前述のフォトマスクを
用いる方法においては、フォトマスクと基板との位置が
正確に合っていればよい。一方、ラスターデータ描画装
置を用いる方法においては、基板のワークテーブル上の
位置、ワークテーブルの副走査方向の移動制御と、描画
装置の主走査方向における描き出し位置の調整が必要と
される。

【０００６】基板のワークテーブル上の位置は、基板を
ワークテーブル上の位置決め部にあわせることにより行
われる。ただし、これでは十分な精度が得られないた
め、ＣＣＤカメラ等を利用してテーブル上の基板の位置
を正確に読み取り補正を加えている。具体的には、副走
査方向についてはワークテーブルの移動制御により補正
を加えるようにし、主走査方向については、ラスターデ
ータの描き出しのタイミングを変更することにより補正
するようにしていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ワークテーブルの移動
制御では、１μｍを単位とする精度での移動が可能であ
る。従って副走査方向における基板に対する描画位置
は、副走査方向の基板位置を１μｍの精度で自由に設定
することができ、容易に高精度を得ることができる。こ
れに対し、従来の装置では、主走査方向において十分な
精度を得ることは難しかった。

【０００８】ラスターデータ（描画データ）はピクセル
（画素）単位でメモリに格納されている。そして、描画
が行われるときには、走査ビームが通過する描画範囲外
のある位置を基準点として、走査ビームが基準点から所
定の距離を通過した後に描画データに対応して走査ビー
ムのオン・オフ変調を開始し、基板上に描画データに対
応した露光・非露光部分を形成する。基板が主走査方向
において、テーブル上の所定位置に正確に載置されてい
る場合には、上記の所定のタイミングで（基準点から所
定の距離を通過した後に）直ちに描画を開始すればよ
い。しかし、基板が主走査方向において、所定位置より
ずれている場合にはそれに合わせて描画のタイミングを
ずらす必要がある。

【０００９】主走査方向の描画のタイミングは、メモリ
に格納されている描画データをピクセル単位でメモリ上
でシフトすることにより変更している。具体的には、デ
ータメモリに格納されている描画データをレーザビーム
駆動のためのメモリを一時的に格納するバッファメモリ
に格納する際に、必要な量だけピクセル単位で描画デー
タをシフトした状態で格納する。従って、描画される面
上においてピクセル単位（描画ドット単位）で主走査方
向の位置を調整することができる。

【００１０】しかしながら、描画面上での描画ドットの
ピッチは５〜１０μｍ程度であり、従来の方法ではドッ
トピッチ単位でしか主走査方向の描画開始位置の調整が
できないことになる。前述のように、プリント基板の回
路パターンの形成においては１μｍ単位の精度での位置
合わせが望ましい。ところが、従来の方法では、本来調
整すべき量に対し最大１／２ピクセルの誤差が発生す
る。この誤差を小さくするには、例えば画素数を増加さ
せる方法がある。しかし、画素数を増加させて１μｍ単
位の精度を得るためには、メモリを極めて大きくする必
要があり、これは大幅なコストアップとなる。

【００１１】上記の事情に鑑み、本発明は、メモリの拡
張など、大幅なコストアップをすることなく、主走査方
向における描画開始位置を、容易に、高い精度で調整す
ることのできるラスターデータ描画装置を提供すること
を目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このため、本発明のラス
ターデータ描画装置は、被描画面に対して主走査方向の
描画開始位置を制御することが可能であって、前記ラス
ターデータを格納する格納手段と、光源と、光源から射
出されるビームを偏向する偏向手段と、所定の周期の基
準クロックパルス信号と、前記基準クロックパルス信号
を、前記所定の周期より小さい時間だけ遅延させた遅延
クロック信号を生成し出力する遅延クロック出力手段
と、前記遅延クロック信号に基づいて前記ラスターデー
タを前記格納手段から読み出し、前記光源を前記ラスタ
ーデータに基づいて変調する描画制御手段と、を有する
ことを特徴としている。

【００１３】上記の複数の遅延クロック信号の各信号間
の位相のずれに対する描画面上での距離は、格納手段
（メモリ）上での画素のずれに対応した描画上の距離よ
り十分に小さく、従って描画面上における描き出し開始
位置の微細な調整が可能となる。

【００１４】また、前記遅延クロック出力手段は、前記
基準クロックパルスが入力されると、前記基準クロック
パルスを順次、前記所定の周期より小さい所定期間ずつ
遅延させた複数の遅延クロック信号を出力する遅延回路
と、前記複数の遅延クロック信号のうちの一つを選択す
る選択手段と、を有する構成とすることができる。

【００１５】この構成によれば、選択手段によって複数
の遅延クロックのいずれかを選択するだけで容易に描画
開始位置を調整することが可能であり、取り扱いが容易
である。

【００１６】さらに、前記選択手段は、前記被走査面の
基準位置からのずれを検出する位置検出手段を有し、前
記位置検出手段の検出結果に基づいて前記複数の遅延ク
ロック信号の一つを選択する構成とすることができる。
この場合には、精度よく位置ずれを補正することが可能
になる。

【００１７】また、前記ラスターデータ描画装置は、描
画時に前記格納手段に格納されている前記ラスターデー
タを少なくとも前記主走査方向において画素単位でシフ
トするシフト手段を有し、前記位置検出手段の検出結果
である前記被走査面の前記基準位置からの前記主走査方
向におけるずれを前記シフト手段による画素単位のデー
タのシフトと、前記複数の遅延クロック信号の一つを選
択することにより補正する構成とすることができる。

【００１８】従って、メモリ上でのデータのシフトによ
り大雑把に位置ずれの補正をし、遅延クロックを用いて
微調整をすることができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の形態であ
るラスターデータ描画装置１の概略構成を示す斜視図で
ある。レーザ光源３１からハーフミラー３２に向けてレ
ーザビームが射出される。ハーフミラー３２は、レーザ
光源３１からの射出ビームを後述する参照用のビームと
描画用のビームとに分割するものである。ハーフミラー
３２を透過したレーザビームは描画用のビームとして音
響光学素子（ＡＯＭ：Acousto-Optic Modulator）３４
によりラスターデータに基づいて変調される。変調され
た描画用レーザビームは偏向器としてのポリゴンミラー
３５により偏向され、ｆθレンズ３６、ミラー３７を介
して基板３８上を図中の矢印Ａ方向に走査して画像を形
成する。

【００２０】一方、ハーフミラー３２で反射されたレー
ザビームは参照用ビームとしてミラー３３を介してポリ
ゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５により
反射された参照用ビームは、描画用ビームと同様、ｆθ
レンズ３６を透過し、さらにミラー３７により反射され
て、ミラー３９へと向かう。ミラー３９により反射され
た参照用ビームは後述するリニアスケール４０の走査光
受光面４０Ａ上を走査する。走査光受光面４０Ａの、ミ
ラー３９と反対側の面側には蛍光性光ファイバ４１が配
置されており、その両端には蛍光性光ファイバ４１の端
部から射出される光を受光するための受光素子４２、４
３が配置されている。

【００２１】次に、リニアスケール４０の構成について
図２を参照して説明する。図２はリニアスケール４０の
近傍を、ミラー３９とは反対側から見た斜視図である。
光源であるレーザ光源３１から射出され、ミラー３２、
３３、ポリゴンミラー３５、ｆθレンズ３６、ミラー３
７を経てミラー３９に到達した参照用ビームはリニアス
ケール４０の走査光受光面４０Ａに入射する。リニアス
ケール４０にはレーザビームを通過させる透光部として
のスリット４４が、参照用ビームの走査方向に沿って周
期的に多数形成されている。リニアスケール４０のスリ
ットが形成されていない部分は非透光部となっており、
レーザビームを遮光あるいは十分に減衰させるよう構成
されている。スリット４４を介して蛍光性光ファイバ４
１にビームが入射すると、蛍光性光ファイバ４１に混入
されている蛍光物質が蛍光を発する。この蛍光は、蛍光
性光ファイバ４１の両端から射出され、受光素子４２お
よび４３により受光される。

【００２２】スリット４４が周期的に形成されているた
め、レーザビームが走査光受光面４０Ａを走査すると、
周期的にレーザビームはスリット４４を透過して蛍光性
光ファイバ４１に入射し、その結果、スリット４４の間
隔と走査ビームの走査スピードに対応した所定の周期で
ＯＮ・ＯＦＦするパルス信号が蛍光性ファイバ４１によ
り生成されることになる。

【００２３】図３は、本実施の形態のラスタデータ描画
装置の制御系を中心とした構成を示すブロック図であ
る。光源３１から射出されたレーザビームはハーフミラ
ー３２により描画用ビームと参照用ビームとに分割され
る。描画用ビームはＡＯＭ（音響光学素子）３４より、
描画データに基づいて変調されつつポリゴンミラー３５
およびｆθレンズ３６からなる走査光学系２へ入射す
る。一方、参照用ビームはミラー３３により反射されて
ポリゴンミラー３５へ入射する。すなわち、参照用ビー
ムはＯＮ・ＯＦＦ変調されないで連続してＯＮ状態とな
っているレーザビームとしてポリゴンミラー３５に入射
する。

【００２４】ポリゴンミラー３５に入射した描画用ビー
ムと参照用ビームは共にポリゴンミラー３５により偏向
されてｆθレンズ３６に入射する。ｆθレンズ３６を透
過した描画用ビームはミラー３７により光路を描画面で
ある基板３８に向けて曲げられ、基板３８上を走査す
る。参照用ビームは、ミラー３７、ミラー３９を介して
リニアスケール４０の走査光受光面上を走査する。リニ
アスケール４０のスリット４４を透過したビームが蛍光
性光ファイバ４１に入射する。前述のように、蛍光性光
ファイバ４１の端部から射出した光が受光素子４２、４
３により受光され、受光素子４２、４３は受光光に対応
した所定周期のパルス信号をディレイライン７４および
マルチプレクサ７５からなる描き出し位置制御部７に出
力する。

【００２５】上述の、テーブル１００上の基板３８の載
置位置と基準位置との差を検出するために、位置読み取
り部６０が設けられている。位置読み取り部６０は、Ｃ
ＣＤカメラと演算手段を有しており、テーブル１００上
に形成されている図示しない指標と、テーブル１００に
載置された基板３８上の指標とに基づいて、基板３８が
所定の基板載置位置からどれだけずれて載置されている
かを、主走査方向および副走査方向それぞれについて演
算し、その結果をＣＰＵ５１に出力する。

【００２６】テーブル１００はＣＰＵ５１に制御された
テーブル駆動部７３により副走査方向に移動することが
できる。ＣＰＵ５１は、レーザビームの主走査が１回行
われる間にテーブル１００が副走査方向に所定量だけ移
動するようテーブル駆動部７３を制御する。すなわち、
所定の周期で主走査方向に描画が行われ、一定の速度で
テーブル１００が副走査方向に移動することにより、基
板３８上に２次元の画像（回路パターン）の描画が行わ
れることになる。

【００２７】なお、前述の位置読み取り部６０により求
められた基板３８のテーブル１００に対するずれの副走
査方向成分を相殺するように、ＣＰＵ５１はテーブル駆
動部７３を制御して、描画開始時の副走査方向における
テーブル１００の位置を設定する。テーブル１００の移
動による副走査方向の初期位置は１μｍの精度で設定す
ることが可能である。このため、描画開始の初期位置を
テーブル１００の位置を変更するだけで、十分な精度で
設定することができる。前述のように、基板３８のテー
ブル１００に対する副走査方向の位置ずれが＋方向であ
る場合、これを相殺するにはテーブル１００の初期位置
を図１におけるＢ方向にずらせばよい。すなわち、副走
査方向の補正は予めテーブル１００を移動させておけば
よい。

【００２８】また、ＣＰＵ５１には描画制御部８が接続
されている。描画制御部８は、データメモリ７１、バッ
ファメモリ７２および出力制御部７６を有している。デ
ータメモリ７１には、描画のためのラスタデータ（すな
わち回路パターンに対応したラスタデータ）が格納され
ている。バッファメモリ７２は主走査方向における基板
３８とテーブル１００との位置ずれを画素単位で補正す
るために用いられるものである。前述のように、基板３
８のテーブル１００上の載置位置と基準となる所定の位
置との主走査方向における差を画素単位で補正（粗補
正）するため、データメモリ７１に格納されているデー
タを、主走査方向に画素単位でシフトした状態でバッフ
ァメモリ７２に格納する。出力制御部７６は、バッファ
メモリ７２に格納されているデータを用いてＡＯＭ３４
を制御して描画のためのレーザビームのＯＮ・ＯＦＦを
行う。この時のデータのシフト量は位置読み取り部６０
からＣＰＵ５１に入力されたデータに基づいてＣＰＵ５
１が決定する。

【００２９】上述の主走査方向における補正によれば、
既に述べたように、主走査方向における描画面上での描
画位置がドット単位（画素単位）でずれる。すなわち、
データのシフトによる補正では、基板上では５〜１０μ
ｍ単位で描画位置がずれるため、十分な精度が得られな
い。

【００３０】このため、本実施の形態においては、次に
述べるディレイライン７４を用いて、描画タイミングを
変化させる構成を上記のデータのシフトと共に採用して
いる。リニアスケール４０、光ファイバ４１、受光素子
４２、４３からなる走査位置検出部４は、受光素子４２
および４３により検出されたパルス信号に基づいて描画
制御クロック信号、および描画有効エリア信号を生成
し、描き出し位置制御部７のディレイライン７４に転送
する。ここで、描画制御クロック信号は、主走査ビーム
が各画素を通過するタイミングと同期したクロックパル
ス信号で、描画制御クロック信号の各パルス毎にバッフ
ァメモリ７２のデータを１画素分づつ読み出しＡＯＭ
（音響光学素子）３４に送ることによりビームの変調
（すなわち主走査方向の描画）が行われる。また描画有
効エリア信号は走査ビームが所定の走査領域（描画可能
な領域）を走査中にのみＯＮ状態となる信号である。

【００３１】図４に、描画有効エリア信号ＡＲＥＡ、デ
ィレイライン７４の入力クロック信号ＣＫ０および出力
信号ＣＫ１〜ＣＫｎ、ならびに描画データＤＡＴＡをタ
イミングチャートとして示す。ディレイライン７４に上
記の描画制御クロック信号（基準クロック信号）ＣＫ０
が入力されると、入力信号を基準として所定時間（本実
施の形態においては１０ｎｓｅｃ）ずつ順次遅延した複
数のクロック信号が出力される。図４においては、描画
制御クロック信号ＣＫ０をディレイライン７４に入力す
ると、遅延時間０のクロック信号ＣＫ１、遅延時間１０
ｎｓのクロック信号ＣＫ２、ＣＫ２に対してさらに１０
ｎｓｅｃ遅延した（すなわちＣＫ１に対して２０ｎｓｅ
ｃ遅延した）クロック信号ＣＫ３、・・・・、ＣＫ１に
対して７０ｎｓｅｃ遅延したクロック信号ＣＫ８、・・
・ＣＫ１に対して（ｎ−１）×１０ｎｓｅｃ遅延したク
ロック信号ＣＫｎのｎ種類のクロック信号がディレイラ
イン７４から出力される（ここでｎは必要な精度に応じ
て設定される整数である）。尚、クロック信号ＣＫ１は
クロック信号ＣＫ０と同一の信号となるため、図４にお
いては両者は同一のラインで示してある。

【００３２】こうして生成された複数のクロック信号Ｃ
Ｋ１〜ＣＫｎは全てディレイライン７４からマルチプレ
クサ７５に転送される。ＣＰＵ５１は、位置読み取り部
６０により読み取った基板３８の主走査方向に関する位
置誤差に基づき、画素単位での補正が可能な分について
はデータメモリ７１のデータをバッファメモリ７２に転
送する際にデータ位置をシフトすることにより補正し
（粗補正）、画素単位より小さい量の補正（微調整）に
ついてはマルチプレクサ７５に入力された複数のクロッ
ク信号ＣＫ１〜ＣＫｎのうち、適正なものを選択して描
画制御クロック信号として用いることにより補正するよ
うにしている。ここで、クロック信号ＣＫ１〜ＣＫｎの
いずれかの選択は、ＣＰＵ５１がマルチプレクサ７５を
制御して行い、マルチプレクサ７５は、選択されたクロ
ック信号のみを描画制御部８（出力制御部７６）に転送
する。

【００３３】なお、画素単位の補正で対処できる量（す
なわちデータをデータメモリ７１からバッファメモリ７
２に転送する際に補正可能な量）は５〜１０μｍ単位で
あり、クロックＣＫ１〜ＣＫｎにより対処できる量は、
クロック信号の周期を１５０ｎｓｅｃ、クロック信号間
の遅延時間を１０ｎｓｅｃ、描画面上での１画素の径を
５μｍとした場合で、約０．３μｍ単位となる。

【００３４】次に、描画制御部３４の動作について説明
する。上述のように、ＣＰＵ５１は、マルチプレクサ７
５に入力されたＣＫ１〜ＣＫｎのクロック信号中、基板
３８とテーブル１００との位置ずれを補正するためのク
ロック信号（ここでは例としてクロック信号ＣＫ４）を
選択して描画制御部８の出力制御部７６に転送する。

【００３５】描画制御部３４は描画制御クロック信号
（すなわちクロック信号ＣＫ４）に同期して、バッファ
メモリ７２のデータを読み出す。読み出したデータは読
み出し描画信号として図４においてＤＡＴＡとして示し
ている。

【００３６】出力制御部７６は、読み出し描画信号にお
いてＯＮのデータが連続する場合には、その間は描画制
御クロックのようにレーザビームのＯＮ・ＯＦＦを繰り
返すのではなく、ＯＮ状態を保つ。また、読み出し描画
信号がＯＮからＯＦＦに変わった後、所定時間ＯＦＦ状
態が継続すれば、レーザビームをＯＦＦする。図４にお
いて、描画データＤ１およびＤ２がＯＮ（１）の場合、
出力制御部７６の出力信号はＤＡＴＡとして示す様にに
ＯＮ状態を保持する。ＣＫ４の３つ目のパルスに対応す
るデータはＤ３で示すようにＯＦＦ状態（０）であるた
め、出力制御部７６の出力信号はＯＦＦ状態となる。

【００３７】このように出力制御部７６を制御すること
により、主走査方向において線を描画する場合には、ド
ットの集合ではなく、線に対応する部分を連続的に露光
することにより、解像度に無関係なむらのない線の描画
を行うことができる。すなわち、主走査方向においては
線分は点の集合ではなく連続した線分として描画され
る。

【００３８】図５は、マルチプレクサ７５に入力された
複数のクロック信号のうちの一つを選択する際のＣＰＵ
５１の制御を説明するためのフローチャートである。テ
ーブル１００の上に基板３８が載置されると、位置読み
取り部６０により、載置された基板３８と基準位置との
差を検出する（Ｓ１）。ＣＰＵ５１は検出された載置位
置の主走査方向のずれに基づきメモリ上でのデータのシ
フト量を求め（Ｓ３）、データメモリ７１に格納されて
いるデータをシフト量分ずらしてバッファメモリ７２に
格納する（Ｓ５）。さらに、ＣＰＵ５１は、バッファメ
モリ７２に格納する際のデータの画素単位のシフトのみ
で吸収できなかった基板３８と基準位置とのずれに基づ
き、マルチプレクサ７５に入力された複数のクロック信
号のうちのどれを選択するかを決定し（Ｓ７）、クロッ
ク選択信号をマルチプレクサ７５に送信する（Ｓ９）。

【００３９】例えば、主走査方向における基板３８とテ
ーブル１００の位置ずれがＤμｍ、バッファメモリ上で
補正できる最小単位がｄμｍ、ディレイライン７４を用
いてクロックを生成した場合に補正できる単位をαμｍ
とすると、ずれ量Ｄは次式で表すことができる。Ｄ＝Ｎ・ｄ＋Δ ここでΔはメモリ上で補正することができない端数分と
なる。上記の式においてΔ＜０とならない最大の整数Ｎ
を求めて、Ｎに対応した量だけシフトした状態でデータ
をデータメモリ７１からバッファメモリ７２に転送し、
さらに、マルチプレクサ７５においてクロック信号ＣＫ
１〜ＣＫｎの中からいずれを選択すべきかを、次式によ
り決定することができる。ｘ＝ＩＮＴ［Δ／α］＋１ここで、ＩＮＴ［］は［］内の数値の整数部分を抽出す
る関数であり、こうして求められたｘに対応してｘ番目
のクロック信号ＣＫｘが描画時のクロック信号として選
択される。

【００４０】

【発明の効果】本発明によれば、簡単な構成で、メモリ
上でデータをシフトするだけの方法よりはるかに精度の
高い描き出し開始位置の調整を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ラスターデータ描画装置の基本的な構成を示す
斜視図である。

【図２】図１に示すラスターデータ描画装置のリニアス
ケール近傍を図１とは異なる方向から見せる斜視図であ
る。

【図３】図１に示すラスターデータ描画装置の制御系を
中心とする構成を示すブロック図である。

【図４】図１に示すラスターデータ描画装置においてデ
ィレイラインにより生成されるクロック信号と描画との
関係を示すタイミングチャートである。

【図５】ディレイラインにより生成された複数のクロッ
ク信号の選択方法を説明するフローチャートである。

【符号の説明】

２走査光学系４走査位置検出部７描き出し位置制御部８描画制御部３１レーザ光源３２ミラー３３ミラー３４音響光学素子（ＡＯＭ）３５ポリゴンミラー３６ｆθレンズ３７ミラー３８基板３９ミラー４０リニアスケール４１蛍光性光ファイバ４２受光素子４３受光素子５１ＣＰＵ６０位置読取部７０描画制御部７１データメモリ７２バッファメモリ７４ディレイライン７５マルチプレクサ７６出力制御部１００テーブル

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被描画面に対して主走査方向の描画開始
位置を制御することが可能なラスターデータ描画装置で
あって、前記ラスターデータを格納する格納手段と、光源と、光源から射出されるビームを主走査方向に偏向する偏向
手段と、所定の周期の基準クロックパルス信号と、前記基準クロックパルス信号を、前記所定の周期より小
さい時間だけ遅延させた遅延クロック信号を生成し出力
する遅延クロック出力手段と、前記遅延クロック信号に同期して前記ラスターデータを
前記格納手段から読み出し、前記光源を前記ラスターデ
ータに基づいて変調する描画制御手段と、を有すること
を特徴とするラスターデータ描画装置。
【請求項２】前記遅延クロック出力手段は、前記基準
クロックパルスが入力されると、前記基準クロックパル
スを順次、前記所定の周期より小さい所定期間ずつ遅延
させた複数の遅延クロック信号を出力する遅延回路と、
前記複数の遅延クロック信号のうちの一つを選択する選
択手段と、を有することを特徴とする請求項１に記載の
ラスターデータ描画装置。
【請求項３】前記選択手段は、前記被描画面の基準位
置からのずれを検出する位置検出手段を有し、前記位置
検出手段の検出結果に基づいて前記複数の遅延クロック
信号の一つを選択することを特徴とする請求項１または
２に記載のラスターデータ描画装置。
【請求項４】前記ラスターデータ描画装置は、描画時
に前記格納手段に格納されている前記ラスターデータを
少なくとも前記主走査方向において画素単位でシフトす
るシフト手段を有し、前記位置検出手段の検出結果であ
る前記被走査面の前記基準位置からの前記主走査方向に
おけるずれを前記シフト手段による画素単位のデータの
シフトと、前記複数の遅延クロック信号の一つを選択す
ることにより補正することを特徴とする請求項３に記載
のラスターデータ描画装置。