JPH1062809A5

JPH1062809A5 -

Info

Publication number: JPH1062809A5
Application number: JP1996213414A
Authority: JP
Filing date: 1996-08-13
Publication date: 2004-08-19

Description

【００２２】
また、所定のずらし量を継ぎ部の幅より大きくすれば、上層と下層の継ぎ部が相互に影響を及ぼし合うことがなくなる。従って、重ね合わせ誤差の最大値を従来の半分にすることができるので、継ぎ部をずらすことにより継ぎ部の箇所が２倍に増えても画面分かれは視認されない。
上記目的は、基板面上に投影領域が分離して形成され、且つ各投影領域の隣接部分同士が基板面内で基板の走査方向と垂直な方向に所定の重複幅で重複すると共に、投影領域に対して第１のパターンと前記基板とを同期させて前記走査方向に走査させて、第１の複数の投影領域により基板上に前記第１のパターンを転写し、第１の複数の投影領域を基板面内で走査方向と直角な方向に相対的に所定のずれ幅だけずらした第２の複数の投影領域により基板上に前記第１のパターンとは異なる第２のパターンを投影し、前記第２の複数の投影領域に対して前記第２のパターンと前記基板とを同期させて前記走査方向に走査させて、前記第２のパターンを前記基板上に転写するようにして達成される。
また、所定のずれ幅は、所定の重複幅よりも大きくすることにより、上層と下層との継ぎ部が相互に影響を及ぼし合わないようにすることができる。

Claims

基板面上で各投影領域が分離しており、且つ前記各投影領域の隣接部分同士が基板面内で基板の走査方向と垂直な方向に所定の重複幅で重複している第１の複数の投影領域で前記基板上に第１のパターンの一部を投影し、前記第１の複数の投影領域に対して前記第１のパターンと前記基板とを同期させて前記走査方向に走査させて、前記基板上に前記第１のパターンを転写し、
前記第１の複数の投影領域を前記基板面内で前記走査方向と直角な方向に相対的に所定のずれ幅だけずらした第２の複数の投影領域で前記基板上に第２のパターンの一部を投影し、前記第２の複数の投影領域に対して前記第２のパターンと前記基板とを同期させて前記走査方向に走査させて、前記第２のパターンを前記基板上に転写することを特徴とする投影露光方法。
請求項１記載の投影露光方法において、
前記第１のパターンが描画されたレチクル及び前記基板の配置に対して、前記第２のパターンが描画されたレチクル及び前記基板の配置を前記基板面内で前記走査方向と直角な方向に相対的に前記所定のずれ幅だけずらすことにより、
前記第１の複数の投影領域に対して前記第２の複数の投影領域を相対的にずらすようにすることを特徴とする投影露光方法。
請求項１記載の投影露光方法において、
前記第１のパターンのレチクル上での描画位置に対して、前記第２のパターンのレチクル上での描画位置を前記基板面内で前記走査方向と直角な方向に相対的に所定のずれ幅だけずらし、
前記第１のパターンに対する前記基板の位置に対して、前記第２のパターンに対する前記基板の位置を前記基板面内で前記走査方向と直角な方向に相対的に前記所定のずれ幅だけずらすことにより、
前記第１の複数の投影領域に対して前記第２の複数の投影領域を相対的にずらすようにすることを特徴とする投影露光方法。
請求項１記載の投影露光方法において、
前記第１の複数の投影領域に投影する第１の複数の投影光学系に対して、前記第２の複数の投影領域に投影する第２の複数の投影光学系を前記基板面内で前記走査方向と直角な方向に相対的に前記所定のずれ幅だけずらすことにより、
前記第１の複数の投影領域に対する前記第２の複数の投影領域を相対的にずらすようにすることを特徴とする投影露光方法。
請求項１乃至４のいずれかに記載の投影露光方法において、
前記所定のずれ幅は、前記所定の重複幅にほぼ等しくすることを特徴とする投影露光方法。
請求項１乃至５のいずれかに記載の投影露光方法において、
前記所定のずれ幅は、前記所定の重複幅から前記所定の重複幅のほぼ２倍の範囲内にすることを特徴とする投影露光方法。
基板面上に投影領域が分離して形成され、且つ前記各投影領域の隣接部分同士が基板面内で基板の走査方向と垂直な方向に所定の重複幅で重複すると共に、前記投影領域に対して第１のパターンと前記基板とを同期させて前記走査方向に走査させて、第１の複数の投影領域により前記基板上に前記第１のパターンを転写し、
前記第１の複数の投影領域を前記基板面内で前記走査方向と直角な方向に相対的に所定のずれ幅だけずらした第２の複数の投影領域により前記基板上に前記第１のパターンとは異なる第２のパターンを投影し、前記第２の複数の投影領域に対して前記第２のパターンと前記基板とを同期させて前記走査方向に走査させて、前記第２のパターンを前記基板上に転写することを特徴とする投影露光方法。
請求項７に記載の投影露光方法において、
前記所定のずれ幅は、前記所定の重複幅よりも大きくすることを特徴とする投影露光方法。