JPH1068952A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

液晶表示装置の製造方法

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Publication number
JPH1068952A
JPH1068952A JP22802096A JP22802096A JPH1068952A JP H1068952 A JPH1068952 A JP H1068952A JP 22802096 A JP22802096 A JP 22802096A JP 22802096 A JP22802096 A JP 22802096A JP H1068952 A JPH1068952 A JP H1068952A
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JP
Japan
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liquid crystal
pixel region
spacers
crystal material
substrate
Prior art date
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Application number
JP22802096A
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English (en)
Inventor
Yasuhiro Yamamoto
靖浩 山本
Hajime Hiraki
肇 平木
Ikuji Konishi
郁二 小西
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication of JPH1068952A publication Critical patent/JPH1068952A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶材料の注入時または液晶材料の注入後
に、スペーサーを非画素領域に分散配置することによ
り、コントラストの高い液晶表示装置を得ることのでき
る液晶表示装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 対向基板1に、カラーフィルター2及び
遮光層3を形成し、対向電極5を対向基板1の全面に形
成して液晶材料6を配向させるための配向膜7を形成す
る。アクティブマトリクス基板4には、表示電極8及び
信号線9を形成する。そして、表示電荷8及び信号線9
を覆うように配向膜7を形成する。この対向基板1とア
クティブマトリクス基板4とを、非画素領域に分散配置
したスペーサー10a、画素領域に分散配置したスペー
サー10b及びシール剤を介して貼り合わせる。この貼
り合わせた対向基板1とアクティブマトリクス基板4と
の間に、液晶材料6を注入する。この注入における液晶
材料6の流れにより、画素領域に分散配置したスペーサ
ー10bが移動し、非画素領域で止まって固定され、画
素領域に分散配置したスペーサー10bは、すべて非画
素領域に移動する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、透過型または反射
型等の直視型の表示装置、投射型の表示装置及び各種情
報処理装置等に使用される液晶表示装置の製造方法に関
するものであり、さらに詳しくは、液晶材料を介在する
一対の基板間隔を制御するスペーサーを、一対の基板間
に選択的に分散配置する液晶表示装置の製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は、少なくともいずれか一
方が透光性を有する一対の基板を所定の間隔を保持して
配置し、この一対の基板間に液晶材料を注入して構成さ
れる。
【0003】前述した所定の間隔を保持するためには、
例えば基板の液晶材料側表面にスペーサーが分散配置さ
れた後、一対の基板が貼り合わせられるため、一対の基
板の間隔は、ほぼスペーサーの大きさに保持される。一
般的に、このスペーサーは、基板の液晶材料側表面のほ
ぼ全領域に分散配置されている。
【0004】基板上にスペーサーを分散配置する際、ス
ペーサーが実際に表示にかかわる領域(画素)上に存在
している場合、スペーサーは液晶材料とは異なる光学的
異方性を示すため、スペーサーから光漏れが生じ、コン
トラストを低下させるという問題が生じる。
【0005】このような問題を解消するためには、非画
素領域にのみスペーサーを分散配置するような方法が提
案されている。非画素領域にのみスペーサーを分散配置
する方法としては、熱可塑性樹脂を利用して非画素領域
にのみスペーサーを分散配置する方法、電位を利用して
非画素領域にのみスペーサーを分散配置する方法、ブラ
ックマスク中に分散配置する方法等が既に提案されてい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】熱可塑性樹脂を利用し
て非画素領域にのみスペーサーを分散配置する方法は、
配向膜を塗布する前に熱可塑性樹脂膜を基板上に形成
し、熱可塑性樹脂膜のパターニングを行った後、スペー
サーを散布して加熱することにより、非画素領域にのみ
スペーサーを接着固定するという方法である。
【0007】このため、配向膜をオフセット印刷法また
はフレキソ印刷法等で塗布する場合には、凸版を基板上
に押圧した際に、基板上からスペーサーが剥がれること
があり、この剥がれたスペーサーが凸版に付着してしま
う。
【0008】さらに、次の基板上に配向膜を塗布する際
に、凸版に付着したスペーサーが基板に転写されてしま
う。転写されたスペーサーは基板上に接着固定されてい
ないため、以降のラビング工程及び洗浄工程等で剥がれ
てしまい、特に画素領域上にスペーサーが転写された場
合、転写されたスペーサーが剥がれた領域は配向膜が形
成されていない状態となってしまう。
【0009】すなわち、配向膜上にピンホールが存在し
てしまい、液晶表示装置として完成した場合には、配向
膜上のピンホール部分で液晶を配向させることが不可能
となり、表示不良や良品率の低下というような問題点を
有している。
【0010】また、ラビング工程では、基板上に接着固
定されているスペーサーにラビング布が接触するため、
スペーサーと接触した部分のラビング布の毛足が乱れて
しまう。ラビング布の毛足が乱れた部分でラビングした
配向膜は、チルト角にばらつきが生じるため、液晶表示
装置として完成した場合には、表示不良が発生してしま
う。
【0011】さらに、非画素領域に接着固定されている
スペーサーがラビング時に剥がれることがあり、その状
態のままラビングを続けた場合、配向膜に傷が付いてし
まい、表示不良となり、良品率を低下させるという問題
点も有している。
【0012】電位を利用して非画素領域にのみスペーサ
ーを分散配置する方法は、スペーサーを帯電させ、非画
素領域をスペーサーと逆極性に帯電させることにより、
非画素領域にスペーサーを付着させるという方法であ
る。
【0013】しかしながら、密閉された装置内を散布さ
れたスペーサーが沈下して基板上に付着するため、スペ
ーサーと非画素領域との電位差が小さい場合、画素領域
上にもスペーサーが付着してしまい、液晶表示装置とし
て完成したときには、画素領域上に存在しているスペー
サーから光漏れが生じ、コントラストの低下につながる
という問題点を有している。
【0014】逆に、スペーサーと非画素領域との電位差
が大きい場合、液晶表示装置として完成したときには、
スペーサー及び非画素領域が帯電していることに起因す
る表示不良が発生し、良品率を低下させるという問題点
も有している。さらに、アクティブマトリクス型の液晶
表示装置では、アクティブ素子の破壊にもつながりかね
ない。
【0015】ブラックマスク中にスペーサーを分散配置
する方法では、スペーサーをブラックマスクに固定した
後にラビングを行うため、基板上に固定されているスペ
ーサーにラビング布が接触し、スペーサーと接触した部
分のラビング布の毛足が乱れてしまう。ラビング布の毛
足が乱れた部分でラビングした配向膜は、チルト角にば
らつきが生じるため、液晶表示装置として完成した場合
には、表示不良が発生してしまう。
【0016】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、液晶材料の注入時または液晶
材料の注入後に、スペーサーを非画素領域に分散配置す
ることにより、コントラストの高い液晶表示装置を得る
ことのできる液晶表示装置の製造方法を提供することを
目的としている。
【0017】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の請求項1記載の液晶表示装置の製造方
法は、液晶材料を介在して対向配置された一対の基板間
隔を制御するスペーサーを、前記一対の基板間に選択的
に分散配置する液晶表示装置の製造方法において、非画
素領域の前記基板間隔を画素領域の前記基板間隔よりも
小さくし、前記液晶材料の注入時または前記液晶材料の
注入後に、前記液晶材料を移動させることにより、前記
スペーサーを前記非画素領域に分散配置することを特徴
としている。
【0018】請求項2記載の液晶表示装置の製造方法
は、請求項1記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記非画素領域を遮光するために形成される遮光層によ
り、前記非画素領域の前記基板間隔を前記画素領域の前
記基板間隔よりも小さくすることを特徴としている。
【0019】本発明の液晶表示装置の製造方法によれ
ば、非画素領域の基板間隔を画素領域の基板間隔よりも
小さくし、液晶材料の注入時または液晶材料の注入後
に、液晶材料を移動させることによってスペーサーを非
画素領域に分散配置することにより、画素領域上に存在
するスペーサーがなくなるため、スペーサーでの光散乱
及びスペーサーからの光漏れによるコントラストの低下
等を防止することができる。
【0020】さらに、配向膜塗布工程の後にスペーサー
を非画素領域に分散配置することができるため、基板上
からスペーサーが剥がれてしまうことがなく、スペーサ
ーが基板上から剥がれることによって発生する配向膜の
ピンホール及び配向膜の傷等がなくなり、これらに起因
する表示不良がなくなる。
【0021】さらに、ラビング工程の後にスペーサーを
非画素領域に分散配置することができるため、基板上に
固定されているスペーサーにラビング布が接触すること
がなく、スペーサーと接触した部分のラビング布の毛足
が乱れてしまうことがなくなり、これらに起因する表示
不良がなくなる。
【0022】さらに、スペーサーを帯電させる必要がな
いため、このことに起因する表示不良及びアクティブ素
子の破壊等が起こることがなくなる。
【0023】また、非画素領域を遮光するために形成さ
れる遮光層によって非画素領域の基板間隔を画素領域の
基板間隔よりも小さくすることにより、遮光層の膜厚を
厚く形成すれば新たな工程は不要となるため、コストア
ップさせることがない。
【0024】さらに、遮光層の膜厚を厚くすることによ
り、遮光性能を向上させることができる。
【0025】
【発明の実施の形態】図1及び図2を用いて、本発明の
実施の形態について説明する。図1は本発明に係わる液
晶表示装置の断面図、図2はスペーサーの移動方法の一
例を示す斜視図である。
【0026】図1に示すように、ガラスからなる対向基
板1に、顔料からなるカラーフィルター2を形成し、同
様の顔料によって非画素領域に遮光層3を形成する。
【0027】カラーフィルター2と遮光層3とを同様の
顔料で形成することにより、カラーフィルター2の形成
と遮光層3の形成とを同様に行うことができるため、コ
ストアップさせることがない。
【0028】また、遮光層3の膜厚を厚くすることによ
り、遮光層3の遮光性能を向上させることができるとと
もに、非画素領域の対向基板1とアクティブマトリクス
基板4との間隔を画素領域の対向基板1とアクティブマ
トリクス基板4との間隔よりも小さくすることができ、
非画素領域にスペーサーを固定することが可能となる。
【0029】カラーフィルター2及び遮光層3上には、
表示を行うための対向電極5を対向基板1の全面に形成
し、対向電極5上に液晶材料6を配向させるための配向
膜7を形成する。
【0030】ガラスからなるアクティブマトリクス基板
4には、表示を行うための表示電極8を形成し、表示電
極8とTFT等を介して接続される信号線9を形成す
る。信号線9は、表示電極8に電荷を供給または電荷の
供給を制御するための信号を与える。そして、表示電荷
8及び信号線9を覆うように配向膜7を形成する。
【0031】この対向基板1とアクティブマトリクス基
板4とを、非画素領域に分散配置したスペーサー10
a、画素領域に分散配置したスペーサー10b及びシー
ル剤を介して貼り合わせる。
【0032】非画素領域に分散配置したスペーサー10
aは、対向基板1とアクティブマトリクス基板4との間
隔を制御しているが、画素領域に分散配置したスペーサ
ー10bは、対向基板1とアクティブマトリクス基板4
とに挟み込まれていないため、自由に移動できる状態に
なっている。
【0033】この貼り合わせた対向基板1とアクティブ
マトリクス基板4との間に、液晶材料6を注入する。こ
の注入における液晶材料6の流れにより、画素領域に分
散配置したスペーサー10bが移動し、非画素領域で止
まって固定され、画素領域に分散配置したスペーサー1
0bは、すべて非画素領域に移動する。このとき、非画
素領域に分散配置したスペーサー10aは、対向基板1
とアクティブマトリクス基板4とに挟み込まれているた
め、移動することがない。
【0034】画素領域に分散配置したスペーサー10b
の移動が不十分な場合、種々の方法によって画素領域に
分散配置したスペーサー10bを移動させることが可能
であるが、その一例として、図2に示すように、液晶材
料6の注入を行った後、ローラー11を液晶表示装置1
2に圧力を加えながら転がすことにより、液晶材料6を
移動させ、画素領域に分散配置したスペーサー10bを
非画素領域に移動させることができる。
【0035】以上のようにして、画素領域にスペーサー
が存在することがなく、コントラストの高い液晶表示装
置を得ることができる。
【0036】
【発明の効果】以上の説明のように、本発明の液晶表示
装置の製造方法によれば、非画素領域の基板間隔を画素
領域の基板間隔よりも小さくし、液晶材料の注入時また
は液晶材料の注入後に、液晶材料を移動させることによ
ってスペーサーを非画素領域に分散配置することによ
り、画素領域上に存在するスペーサーがなくなるため、
コントラストの高い液晶表示装置を得ることができる。
【0037】さらに、配向膜塗布工程の後にスペーサー
を非画素領域に分散配置することができるため、配向膜
のピンホール及び配向膜の傷等に起因する表示不良がな
くなる。
【0038】さらに、ラビング工程の後にスペーサーを
非画素領域に分散配置することができるため、スペーサ
ーと接触した部分のラビング布の毛足が乱れてしまうこ
とに起因する表示不良がなくなる。
【0039】さらに、スペーサーを帯電させることに起
因する表示不良及びアクティブ素子の破壊等が起こるこ
とがなくなる。
【0040】また、非画素領域を遮光するために形成さ
れる遮光層によって非画素領域の基板間隔を画素領域の
基板間隔よりも小さくすることにより、遮光層の膜厚を
厚く形成すれば新たな工程は不要となるため、コストア
ップさせることがない。
【0041】さらに、遮光層の膜厚を厚くすることによ
り、遮光性能を向上させることができ、TFT等の特性
劣化を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる液晶表示装置の断面図である。
【図2】スペーサーの移動方法の一例を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
1 対向基板 2 カラーフィルター 3 遮光層 4 アクティブマトリクス基板 5 対向電極 6 液晶材料 7 配向膜 8 表示電極 9 信号線 10a 非画素領域に分散配置したスペーサー 10b 画素領域に分散配置したスペーサー 11 ローラー 12 液晶表示装置

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶材料を介在して対向配置された一対
    の基板間隔を制御するスペーサーを、前記一対の基板間
    に選択的に分散配置する液晶表示装置の製造方法におい
    て、非画素領域の前記基板間隔を画素領域の前記基板間
    隔よりも小さくし、前記液晶材料の注入時または前記液
    晶材料の注入後に、前記液晶材料を移動させることによ
    り、前記スペーサーを前記非画素領域に分散配置するこ
    とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記非画素領域を遮光するために形成さ
    れる遮光層により、前記非画素領域の前記基板間隔を前
    記画素領域の前記基板間隔よりも小さくすることを特徴
    とする請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
JP22802096A 1996-08-29 1996-08-29 液晶表示装置の製造方法 Pending JPH1068952A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0916991A3 (en) * 1997-11-13 2000-01-12 Nec Corporation Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
KR20020080867A (ko) * 2001-04-18 2002-10-26 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 컬러필터 기판 제조방법

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0916991A3 (en) * 1997-11-13 2000-01-12 Nec Corporation Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
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