JPH1070078A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH1070078A JPH1070078A JP8224824A JP22482496A JPH1070078A JP H1070078 A JPH1070078 A JP H1070078A JP 8224824 A JP8224824 A JP 8224824A JP 22482496 A JP22482496 A JP 22482496A JP H1070078 A JPH1070078 A JP H1070078A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pirani sensor
- reaction chamber
- semiconductor manufacturing
- gas
- exhaust pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ピラニセンサの腐食，破壊を防止し、その取
付け、取外しが容易でメンテナンス性を向上する。 【解決手段】 反応室１の排気配管３Ｂに接続するピラ
ニセンサ５の手前に保護パルプ６を取付けることを特徴
とする。
付け、取外しが容易でメンテナンス性を向上する。 【解決手段】 反応室１の排気配管３Ｂに接続するピラ
ニセンサ５の手前に保護パルプ６を取付けることを特徴
とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＶＤ装置，枚葉
式ＣＶＤ装置、拡散装置等の半導体製造装置に関するも
のである。
式ＣＶＤ装置、拡散装置等の半導体製造装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来装置の１例を示す説明図であ
る。図２において１は反応室、２Ａ，２Ｂはガス導入配
管、３Ａ，３Ｂは排気配管、４は枝配管、５はピラニセ
ンサ、７はヒータ、８はゲートバルブを示す。従来例
は、反応室１の排気配管３Ｂに枝配管４を接続し、この
枝配管４に直接、ピラニセンサ５を取付けている。
る。図２において１は反応室、２Ａ，２Ｂはガス導入配
管、３Ａ，３Ｂは排気配管、４は枝配管、５はピラニセ
ンサ、７はヒータ、８はゲートバルブを示す。従来例
は、反応室１の排気配管３Ｂに枝配管４を接続し、この
枝配管４に直接、ピラニセンサ５を取付けている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例にあって
は、排気配管３Ｂに枝配管４を介してピラニセンサ５を
取付けているため、腐食性ガスを流通した時にピラニセ
ンサ５が腐食したり、破壊したりして交換頻度が非常に
高くなり、メンテナンス性も悪いという課題がある。
は、排気配管３Ｂに枝配管４を介してピラニセンサ５を
取付けているため、腐食性ガスを流通した時にピラニセ
ンサ５が腐食したり、破壊したりして交換頻度が非常に
高くなり、メンテナンス性も悪いという課題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明装置は、上記従来
技術の課題であるピラニセンサの腐食，破壊を解決する
ため、図１に示すように反応室１の排気配管３Ｂに接続
するピラニセンサ５の手前に保護バルブ６を取付けるこ
とを特徴とする。
技術の課題であるピラニセンサの腐食，破壊を解決する
ため、図１に示すように反応室１の排気配管３Ｂに接続
するピラニセンサ５の手前に保護バルブ６を取付けるこ
とを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】図１は本発明装置の実施形態の１
例を示す説明図である。この形態は、反応室１にゲート
バルブ８よりウェーハを搬入し、このウェーハをヒータ
７により加熱しながら一方のガス導入配管２Ａから反応
ガスを反応室１内に導入し、一方の排気配管３Ｂより排
気すると共に、他方のガス導入配管２Ｂから反応ガスを
反応室１内に導入し、他方の排気配管３Ａより排気して
ウェーハに膜を生成する枚葉式ＣＶＤ装置において、一
方の排気配管３Ｂに枝配管４を接続し、これに保護バル
ブ６及びピラニセンサ５をこの順に接続せしめる。
例を示す説明図である。この形態は、反応室１にゲート
バルブ８よりウェーハを搬入し、このウェーハをヒータ
７により加熱しながら一方のガス導入配管２Ａから反応
ガスを反応室１内に導入し、一方の排気配管３Ｂより排
気すると共に、他方のガス導入配管２Ｂから反応ガスを
反応室１内に導入し、他方の排気配管３Ａより排気して
ウェーハに膜を生成する枚葉式ＣＶＤ装置において、一
方の排気配管３Ｂに枝配管４を接続し、これに保護バル
ブ６及びピラニセンサ５をこの順に接続せしめる。
【０００６】このような構成であるから、反応ガスとし
て腐食性ガスを使用し、これを排気する際、保護バルブ
６を閉じて腐食性ガスがピラニセンサ５の方へ行くのを
防止することにより、ピラニセンサ５が腐食したり、破
壊したりするおそれがなくなり、ピラニセンサの取付
け、取外しが容易でメンテナンス性が良好になる。
て腐食性ガスを使用し、これを排気する際、保護バルブ
６を閉じて腐食性ガスがピラニセンサ５の方へ行くのを
防止することにより、ピラニセンサ５が腐食したり、破
壊したりするおそれがなくなり、ピラニセンサの取付
け、取外しが容易でメンテナンス性が良好になる。
【０００７】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、ピラニセ
ンサの腐食，破壊を防止でき、その取付け、取外しが容
易でメンテナンス性を向上することができる。
ンサの腐食，破壊を防止でき、その取付け、取外しが容
易でメンテナンス性を向上することができる。
【図１】本発明装置の実施形態の１例を示す説明図であ
る。
る。
【図２】従来装置の１例を示す説明図である。
１ 反応室 ２Ａ，２Ｂ ガス導入配管 ３Ａ，３Ｂ 排気配管 ４ 枝配管 ５ ピラニセンサ ６ 保護バルブ ７ ヒータ ８ ゲートバルブ
Claims (1)
- 【請求項１】 反応室の排気配管に接続するピラニセン
サの手前に保護バルブを取付けることを特徴とする半導
体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8224824A JPH1070078A (ja) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8224824A JPH1070078A (ja) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1070078A true JPH1070078A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=16819779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8224824A Pending JPH1070078A (ja) | 1996-08-27 | 1996-08-27 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1070078A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10782070B2 (en) | 2016-09-09 | 2020-09-22 | Sp Industries, Inc. | Energy recovery in a freeze-drying system |
-
1996
- 1996-08-27 JP JP8224824A patent/JPH1070078A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10782070B2 (en) | 2016-09-09 | 2020-09-22 | Sp Industries, Inc. | Energy recovery in a freeze-drying system |
| US11181320B2 (en) | 2016-09-09 | 2021-11-23 | Sp Industries, Inc. | Energy recovery in a freeze-drying system |
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