JPH1072408A - トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート及びそれを含む組成物 - Google Patents
トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート及びそれを含む組成物Info
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- JPH1072408A JPH1072408A JP25330597A JP25330597A JPH1072408A JP H1072408 A JPH1072408 A JP H1072408A JP 25330597 A JP25330597 A JP 25330597A JP 25330597 A JP25330597 A JP 25330597A JP H1072408 A JPH1072408 A JP H1072408A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】例えば、塩基性条件下で高度な耐溶剤溶解性を
示し、種々の組成物において、溶解性制御剤としての成
分等として有用である新規なトリスフェノールのトリ−
ｔ−ブトキシカーボネートを提供することにある。 【解決手段】本発明によれば、1,１−ジ（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−
（2'−ヒドロキシフェニル）メタンのトリ−ｔ−ブトキ
シカーボネートが提供される。
示し、種々の組成物において、溶解性制御剤としての成
分等として有用である新規なトリスフェノールのトリ−
ｔ−ブトキシカーボネートを提供することにある。 【解決手段】本発明によれば、1,１−ジ（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−
（2'−ヒドロキシフェニル）メタンのトリ−ｔ−ブトキ
シカーボネートが提供される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塩基性条件下で高度な
耐溶剤溶解性を示し、例えば、種々の組成物において、
溶解性制御剤としての成分等として有用である新規なト
リスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネートとそ
れを含む組成物に関する。
耐溶剤溶解性を示し、例えば、種々の組成物において、
溶解性制御剤としての成分等として有用である新規なト
リスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネートとそ
れを含む組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ｔ−ブトキシカルボニル基を有する化合
物は、塩基性条件下で安定であるが、中性乃至酸性条件
下で加熱することによって、ｔ−ブトキシカルボニル基
を容易に脱離する性質を有する。この性質を利用して、
従来、アミノ酸類やアミノ酸誘導体等の製造において、
予めそのアミノ基をｔ−ブトキシカルボニル化すること
によって保護し、その後に塩基性条件下に目的とする反
応を行なった後に、酸性処理又は加熱処理を行なって、
目的とするアミノ酸やその誘導体を得る方法が広く知ら
れている。
物は、塩基性条件下で安定であるが、中性乃至酸性条件
下で加熱することによって、ｔ−ブトキシカルボニル基
を容易に脱離する性質を有する。この性質を利用して、
従来、アミノ酸類やアミノ酸誘導体等の製造において、
予めそのアミノ基をｔ−ブトキシカルボニル化すること
によって保護し、その後に塩基性条件下に目的とする反
応を行なった後に、酸性処理又は加熱処理を行なって、
目的とするアミノ酸やその誘導体を得る方法が広く知ら
れている。
【０００３】フェノール性化合物のｔ−ブトキシカーボ
ネートについては、例えば、H. Itoet al., Polym. En
g. Sci., 23, 1012 (1983) や、T. X. Neenan et al.,
S.P.I.E., 1086, 2 (1989) には、ポリ（ｐ−ヒドロキ
シ）スチレンのｔ−（ターシャリー）ブトキシカーボネ
ートが開示されており、また、D. R. McKean et al.,
S.P.I.E., 920, 60 (1988) や、熊田等、高分子学会予
稿集, 40, No. 10, 3691 (1991) には、ビスフェノール
Ａのｔ−ブトキシカーボネート化合物が開示されてい
る。
ネートについては、例えば、H. Itoet al., Polym. En
g. Sci., 23, 1012 (1983) や、T. X. Neenan et al.,
S.P.I.E., 1086, 2 (1989) には、ポリ（ｐ−ヒドロキ
シ）スチレンのｔ−（ターシャリー）ブトキシカーボネ
ートが開示されており、また、D. R. McKean et al.,
S.P.I.E., 920, 60 (1988) や、熊田等、高分子学会予
稿集, 40, No. 10, 3691 (1991) には、ビスフェノール
Ａのｔ−ブトキシカーボネート化合物が開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フェノ
ール化合物のうちで、トリスフェノール類のトリ−ｔ−
ブトキシカーボネート化合物は、これまで、知られてい
ない。このようなトリスフェノール類のトリ−ｔ−ブト
キシカーボネート化合物は、上述したビスフェノールＡ
のｔ−ブトキシカーボネート化合物に比べて、より高分
子であるので、耐水性、耐溶剤溶解性等の安定性にすぐ
れており、その性質を利用して、例えば、種々の組成物
において、溶解性制御剤等として、有利に用いることが
できる。
ール化合物のうちで、トリスフェノール類のトリ−ｔ−
ブトキシカーボネート化合物は、これまで、知られてい
ない。このようなトリスフェノール類のトリ−ｔ−ブト
キシカーボネート化合物は、上述したビスフェノールＡ
のｔ−ブトキシカーボネート化合物に比べて、より高分
子であるので、耐水性、耐溶剤溶解性等の安定性にすぐ
れており、その性質を利用して、例えば、種々の組成物
において、溶解性制御剤等として、有利に用いることが
できる。
【０００５】本発明は、従来、知られていない新規なト
リスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート化合
物とそれを含む組成物を提供することを目的とする。
リスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート化合
物とそれを含む組成物を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、1,１−
ジ（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシル
フェニル）−１−（2'−ヒドロキシフェニル）メタン
（以下、単に、トリスフェノールということがある。）
のトリ−ｔ−ブトキシカーボネートが提供される。この
トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート
は、次式（Ｉ）
ジ（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシル
フェニル）−１−（2'−ヒドロキシフェニル）メタン
（以下、単に、トリスフェノールということがある。）
のトリ−ｔ−ブトキシカーボネートが提供される。この
トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート
は、次式（Ｉ）
【０００７】
【化１】
【０００８】で表わされる。式中、ｔ−Ｂｕはｔ−ブチ
ル基を示す。更に、本発明によれば、好ましくは、上記
式（Ｉ）で表わされるトリスフェノールのトリ−ｔ−ブ
トキシカーボネートを主成分として含む組成物が提供さ
れる。
ル基を示す。更に、本発明によれば、好ましくは、上記
式（Ｉ）で表わされるトリスフェノールのトリ−ｔ−ブ
トキシカーボネートを主成分として含む組成物が提供さ
れる。
【０００９】本発明による上記トリスフェノールのトリ
−ｔ−ブトキシカーボネートは、触媒の存在下に、ジク
ロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセト
ン等の反応溶剤中にて、室温から１３０℃の範囲の温度
にて、式（II）
−ｔ−ブトキシカーボネートは、触媒の存在下に、ジク
ロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセト
ン等の反応溶剤中にて、室温から１３０℃の範囲の温度
にて、式（II）
【００１０】
【化２】
【００１１】で表わされる1,１−ジ（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−（2'
−ヒドロキシフェニル）メタンにジ−ｔ−ブチルジカー
ボネートを反応させることによって得ることができる。
ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−（2'
−ヒドロキシフェニル）メタンにジ−ｔ−ブチルジカー
ボネートを反応させることによって得ることができる。
【００１２】このような反応において、ジ−ｔ−ブチル
ジカーボネートは、ｔ−ブトキシカーボネート化しよう
とする上記トリスフェノールの水酸基の数に対して、１
〜２倍モルの範囲で用いられるが、好ましくは、1.１倍
モルが用いられる。
ジカーボネートは、ｔ−ブトキシカーボネート化しよう
とする上記トリスフェノールの水酸基の数に対して、１
〜２倍モルの範囲で用いられるが、好ましくは、1.１倍
モルが用いられる。
【００１３】また、上記触媒としては、例えば、テトラ
ブチルアンモニウムの硫酸塩と水酸化ナトリウム、１８
−クラウンエーテル−６と炭酸カリウム、炭酸カリウ
ム、ｔ−ブトキカリウム、トリアルキルアミン等が用い
られる。これらのなかでは、特に、トリエチルアミンが
好ましく用いられる。その使用量は、好ましくは、用い
るジ−ｔ−ブチルジカーボネートに対して等モル量であ
る。
ブチルアンモニウムの硫酸塩と水酸化ナトリウム、１８
−クラウンエーテル−６と炭酸カリウム、炭酸カリウ
ム、ｔ−ブトキカリウム、トリアルキルアミン等が用い
られる。これらのなかでは、特に、トリエチルアミンが
好ましく用いられる。その使用量は、好ましくは、用い
るジ−ｔ−ブチルジカーボネートに対して等モル量であ
る。
【００１４】反応は、通常、７２時間以内の範囲で、好
ましくは１８時間程度、行なわれるが、特に、制限され
るものではない。
ましくは１８時間程度、行なわれるが、特に、制限され
るものではない。
【００１５】反応終了後、得られた反応混合物から触媒
と溶剤とを除去した後、必要に応じて、適当な溶剤、例
えば、メタノール等のアルコール類、アセトンのような
ケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、水、又はこれらの混合物を用いて、晶析精製すれ
ば、目的とする前記トリスフェノールのｔ−ブトキシカ
ーボネート又はそれを主成分とする混合物を得ることが
できる。
と溶剤とを除去した後、必要に応じて、適当な溶剤、例
えば、メタノール等のアルコール類、アセトンのような
ケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、水、又はこれらの混合物を用いて、晶析精製すれ
ば、目的とする前記トリスフェノールのｔ−ブトキシカ
ーボネート又はそれを主成分とする混合物を得ることが
できる。
【００１６】即ち、本発明による組成物は、前記トリス
フェノールにジ−ｔ−ブチルジカーボネートを反応させ
ることによって得ることができる前記トリスフェノール
のｔ−ブトキシカーボネートの混合物であって、平均と
して、１分子中のｔ−ブトキシカルボニルエステル基の
数が１〜３の範囲にあればよい。従って、本発明による
組成物には、上記反応における未反応の前記トリスフェ
ノールが含まれていてもよい。
フェノールにジ−ｔ−ブチルジカーボネートを反応させ
ることによって得ることができる前記トリスフェノール
のｔ−ブトキシカーボネートの混合物であって、平均と
して、１分子中のｔ−ブトキシカルボニルエステル基の
数が１〜３の範囲にあればよい。従って、本発明による
組成物には、上記反応における未反応の前記トリスフェ
ノールが含まれていてもよい。
【００１７】また、本発明による組成物は、単一の前記
トリスフェノールのｔ−ブトキシカーボネートの高純度
品が主成分であってもよい。例えば、単一の前記トリス
フェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネートの純度９
５％以上、場合によっては、９８％以上、又は９９％以
上の高純度品を主成分とするものであってもよい。この
ような高純度品を主成分とする組成物の場合、残余の成
分は、未反応のトリスフェノールやモノ及び／又はジ−
ｔ−ブトキシカーボネートであってよい。
トリスフェノールのｔ−ブトキシカーボネートの高純度
品が主成分であってもよい。例えば、単一の前記トリス
フェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネートの純度９
５％以上、場合によっては、９８％以上、又は９９％以
上の高純度品を主成分とするものであってもよい。この
ような高純度品を主成分とする組成物の場合、残余の成
分は、未反応のトリスフェノールやモノ及び／又はジ−
ｔ−ブトキシカーボネートであってよい。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、前記トリスフェノール
のトリ−ｔ−ブトキシカーボネートが提供され、更に、
このようなトリスフェノールのｔ−ブトキシカーボネー
トを含む組成物が提供される。特に、好ましい態様によ
れば、単一の前記トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキ
シカーボネートを純度９０％以上にて含む組成物が提供
される。本発明によるこのような組成物は、溶解性制御
剤等として、有利に用いることができる。
のトリ−ｔ−ブトキシカーボネートが提供され、更に、
このようなトリスフェノールのｔ−ブトキシカーボネー
トを含む組成物が提供される。特に、好ましい態様によ
れば、単一の前記トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキ
シカーボネートを純度９０％以上にて含む組成物が提供
される。本発明によるこのような組成物は、溶解性制御
剤等として、有利に用いることができる。
【００１９】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
【００２０】実施例１ 温度計、コンデンサー、窒素ガス導入管及び撹拌機を備
えた５００ｍＬ容量のフラスコに1,１−ジ（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１
−（2'−ヒドロキシフェニル）メタン１4.６ｇ、トリエ
チルアミン１0.５ｇ及びジオキサン３０ｇを仕込み、攪
拌して溶液とした後、これにジ−ｔ−ブチルジカーボネ
ート２2.１ｇを加え、温度を６０℃に保持した水浴中で
２時間反応させた。
えた５００ｍＬ容量のフラスコに1,１−ジ（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１
−（2'−ヒドロキシフェニル）メタン１4.６ｇ、トリエ
チルアミン１0.５ｇ及びジオキサン３０ｇを仕込み、攪
拌して溶液とした後、これにジ−ｔ−ブチルジカーボネ
ート２2.１ｇを加え、温度を６０℃に保持した水浴中で
２時間反応させた。
【００２１】反応終了後、得られた反応混合物から減圧
下に溶剤を蒸留にて回収し、得られた残留物にメタノー
ル１１９ｇを加え、撹拌しながら、一夜放置して、結晶
を析出させた。この結晶を濾過し、真空乾燥して、目的
とする上記トリスフェノールのトリ−−ｔ−ブトキシカ
ーボネート２1.１ｇを得た。収率９６％、高速液体クロ
マトグラフィーによる純度は９5.８％であった。
下に溶剤を蒸留にて回収し、得られた残留物にメタノー
ル１１９ｇを加え、撹拌しながら、一夜放置して、結晶
を析出させた。この結晶を濾過し、真空乾燥して、目的
とする上記トリスフェノールのトリ−−ｔ−ブトキシカ
ーボネート２1.１ｇを得た。収率９６％、高速液体クロ
マトグラフィーによる純度は９5.８％であった。
【００２２】元素分析値 （1,１−ジ（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロ
ヘキシルフェニル）−１−（2'−ヒドロキシフェニル）
メタンのトリ−ｔ−ブトキシカーボネートとして） 実験式：Ｃ48Ｈ64Ｏ9 分子量：７８5.０３
ヘキシルフェニル）−１−（2'−ヒドロキシフェニル）
メタンのトリ−ｔ−ブトキシカーボネートとして） 実験式：Ｃ48Ｈ64Ｏ9 分子量：７８5.０３
【００２３】赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法） 帰属 波数 ＣＨ3 ２９８０cm-1 ＣＨ3 ２９３０cm-1 ＣＨ2 ２８５０cm-1 ＞Ｃ＝Ｏ １７５５cm-1 芳香族水素 １５００cm-1 ＣＨ3 １４７０cm-1 ＣＨ3 １４５８cm-1 Ｃ−Ｏ−Ｃ １１５０cm-1
【００２４】プロトン核磁気共鳴スペクトル（溶剤重ク
ロロホルム、ＴＭＳ標準、４００ＭＨｚ）を図１に示
し、13Ｃ核磁気共鳴スペクトル（溶剤重クロロホルム、
ＴＭＳ標準、４００ＭＨｚ）を図２に示す。
ロロホルム、ＴＭＳ標準、４００ＭＨｚ）を図１に示
し、13Ｃ核磁気共鳴スペクトル（溶剤重クロロホルム、
ＴＭＳ標準、４００ＭＨｚ）を図２に示す。
【図１】は、本発明による1,１−ジ（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−（2'
−ヒドロキシフェニル）メタンのトリ−ｔ−ブトキシカ
ーボネートのプロトン核磁気共鳴スペクトル（溶剤重ク
ロロホルム、ＴＭＳ標準、４００ＭＨｚ）を示す。
ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−（2'
−ヒドロキシフェニル）メタンのトリ−ｔ−ブトキシカ
ーボネートのプロトン核磁気共鳴スペクトル（溶剤重ク
ロロホルム、ＴＭＳ標準、４００ＭＨｚ）を示す。
【図２】は、本発明による1,１−ジ（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−（2'
−ヒドロキシフェニル）メタンのトリ−ｔ−ブトキシカ
ーボネートの13Ｃ核磁気共鳴スペクトル（溶剤重クロロ
ホルム、ＴＭＳ標準、４００ＭＨｚ）を示す。
ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−（2'
−ヒドロキシフェニル）メタンのトリ−ｔ−ブトキシカ
ーボネートの13Ｃ核磁気共鳴スペクトル（溶剤重クロロ
ホルム、ＴＭＳ標準、４００ＭＨｚ）を示す。
Claims (2)
- 【請求項１】1,１−ジ（２−メチル−４−ヒドロキシ−
５−シクロヘキシルフェニル）−１−（2'−ヒドロキシ
フェニル）メタンのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート。 - 【請求項２】主成分が1,１−ジ（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−（2'−ヒ
ドロキシフェニル）メタンのトリ−ｔ−ブトキシカーボ
ネートである混合物からなることを特徴とする組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9253305A JP3066466B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート及びそれを含む組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9253305A JP3066466B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート及びそれを含む組成物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4309980A Division JP3022008B2 (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | トリスフェノール類のｔ−ブトキシカーボネートの混合物からなる組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1072408A true JPH1072408A (ja) | 1998-03-17 |
| JP3066466B2 JP3066466B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=17249450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9253305A Expired - Fee Related JP3066466B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | トリスフェノールのトリ−ｔ−ブトキシカーボネート及びそれを含む組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3066466B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019099781A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 株式会社Adeka | 組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 |
-
1997
- 1997-09-18 JP JP9253305A patent/JP3066466B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019099781A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-24 | 株式会社Adeka | 組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3066466B2 (ja) | 2000-07-17 |
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