JPH1073704A

JPH1073704A - 高エネルギ光線の反射鏡

Info

Publication number: JPH1073704A
Application number: JP8229150A
Authority: JP
Inventors: Seiji Toyoda; 誠司豊田; Yoshio Kuromitsu; 祥郎黒光; Kunio Sugamura; 邦夫菅村
Original assignee: Mitsubishi Materials Corp
Current assignee: Mitsubishi Materials Corp
Priority date: 1996-08-30
Filing date: 1996-08-30
Publication date: 1998-03-17

Abstract

(57)【要約】【課題】高い反射率特性と高い耐熱性を有し、放熱性
に優れる。【解決手段】反射鏡１０は、窒化アルミニウム焼結体
からなる基体１１と、この基体１１上にＡｌ₂Ｏ₃層１２
を介して設けられＡｌ₂Ｏ₃にガラスが混在したガラス混
在Ａｌ₂Ｏ₃層１３と、このガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３上
に設けられた主ガラス層１６と、この主ガラス層１６上
に高屈折率層１７ａと低屈折率層１７ｂとが交互に複数
回積層して形成された積層体１７とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光線の反射に用いら
れる反射鏡に関する。更に詳しくはレーザ光線のような
高エネルギ光線を反射するための反射鏡に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】近年レーザ光線のような高エネルギ光線
の利用分野が増加している。特に、孔あけ、切断、溶接
などの超精密加工にレーザ加工機の活動分野が拡大して
いる。このようなレーザはレーザ光線発生源から発生し
たレーザを反射鏡やプリズムなどにより折り曲げてレー
ザ光線を操作している。従来、このような高エネルギ光
線を反射する反射鏡として、アルミニウム、石英ガラス
などの金属又は合金などの適宜な材料で形成された基板
上に誘電体を多層に形成したものが知られている。基板
表面は鏡面研磨され、誘電体は基板上に蒸着法、スパッ
タリング法等の手段により形成される。このような高屈
折率層と低屈折率層とを交互に複数回積層して形成され
た積層体を基板上に形成することにより境界面を複数設
けることができ、境界面における光線の反射を増加させ
て反射効率を高めることができる。

【０００３】しかし、アルミニウム等の金属材料では酸
化反応を起こす性質を有しているために、高エネルギ光
線用に使用した場合にはこの光線を反射することに起因
する温度上昇により酸化反応が促進され、積層体が剥離
して反射率を低下させる不具合があった。また、石英ガ
ラスは加工性がよく、耐酸化性はアルミニウムより優れ
ているが、石英ガラス自体の熱伝導率が低いため、同様
に、高エネルギ光線を反射することに起因する温度上昇
により積層体が剥離又は基板の熱変形に起因して反射率
を低下させる不具合があった。これらの点を解消するた
めに比較的熱伝導性の高いＳｉ又はＳｉＣ等のセラミッ
クスを基板に用いた反射鏡が知られている。このような
基板を用いることにより耐酸化性が高く、耐熱性の良好
な反射鏡を製作することができる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、Ｓｉは熱伝導
性に優れるが機械的強度がアルミニウム又は石英ガラス
より弱く、その表面を鏡面研磨する際の取扱い及び誘電
体層の形成の際の取扱いに困難を生じ、機械的強度が要
求される箇所への使用ができない不具合がある。また、
ＳｉＣはＳｉに比較して機械的強度が優れ、Ｓｉにおけ
る不具合は生じないが、機械的強度の上昇から鏡面研磨
する際の加工性に劣る問題点がある。即ち、鏡面研磨加
工の困難性からＳｉ等を加工する通常の加工時間に比較
して過剰な時間を必要とし、また燒結体であることに起
因して研磨加工における粒子の脱粒を起こし、高精度の
平面度に仕上げることが困難である問題点があった。本
発明の目的は、高い反射率特性と高い耐熱性を有し、放
熱性に優れた高エネルギ光線の反射鏡を提供することに
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
図１の拡大図に示すように窒化アルミニウム焼結体から
なる基体１１と、この基体１１上にＡｌ₂Ｏ₃層１２を介
して設けられＡｌ₂Ｏ₃にガラスが混在したガラス混在Ａ
ｌ₂Ｏ₃層１３と、このガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３上に設
けられた主ガラス層１６と、この主ガラス層１６上に高
屈折率層１７ａと低屈折率層１７ｂとが交互に複数回積
層して形成された積層体１７とを備えた高エネルギ光線
の反射鏡１０である。図示しないが、この反射鏡１０の
別の構成は、窒化アルミニウム焼結体からなる基体上に
Ａｌ₂Ｏ₃にガラスが混在したガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層が直
接形成されたものである。

【０００６】反射鏡１０において、Ａｌ₂Ｏ₃層１２は焼
結体である基体１１との界面で焼結体との整合性が高
く、基体１１と強固に接合される。このＡｌ₂Ｏ₃層１２
は基体１１に対するガラスのバリヤ層として機能し、基
体１１界面での気泡の発生を防止する。また熱酸化によ
り形成されたＡｌ₂Ｏ₃層が多孔質であることから、次の
特長がある。即ち、熱膨張係数が（７〜８）×１０^-6／
℃のＡｌ₂Ｏ₃に対して窒化アルミニウムの熱膨張係数は
約４×１０^-6／℃と小さいため、多孔質のＡｌ₂Ｏ₃層に
ガラスが侵入して形成されたガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３
は、ガラスの熱膨張係数がＡｌ₂Ｏ₃の熱膨張係数より小
さい場合はその熱膨張係数が窒化アルミニウムに近づ
き、層形成時の熱処理過程で発生する熱応力を十分に緩
和でき、Ａｌ₂Ｏ₃層１３にクラックが生じることがな
い。

【０００７】請求項２に係る発明は、請求項１に係る発
明であって、Ａｌ₂Ｏ₃層１２が０〜９．９９μｍの厚さ
に形成され、ガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３が０．０１〜１
０μｍの厚さに形成され、主ガラス層１６が０．１〜１
００μｍの厚さに形成され、高屈折率層１７ａが３０ｎ
ｍ〜１５０ｎｍの厚さに形成され、低屈折率層１７ｂが
６０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さに形成されたことを特徴と
する。特に主ガラス層１６は２μｍ〜４０μｍの厚さに
形成されることが好ましい。主ガラス層１６の厚さは
０．１μｍ未満では基体の表面平滑性が十分でなく、結
果として高い反射率を得ることが困難になり、１００μ
ｍを越えると基体全体の熱伝導性を極端に低下させる不
具合がある。また高屈折率層１７ａ及び低屈折率層１７
ｂは高エネルギ光線用反射鏡の用途に応じて３０ｎｍ〜
１５０ｎｍ及び６０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さにそれぞれ
形成されることが好ましい。高屈折率層１７ａ及び低屈
折率層の厚さが上記範囲を外れると十分な反射率が得ら
れない。

【０００８】請求項３に係る発明は、図２の拡大図に示
すように窒化アルミニウム焼結体からなる基体１１と、
この基体１１上にＡｌ₂Ｏ₃層１２を介して設けられＡｌ
₂Ｏ₃にガラスが混在したガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３と、
このガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３上に設けられＡｌ₂Ｏ₃、
ＴｉＯ₂及びＺｒＯ₂粒子よりなる群より選ばれた１種又
は２種以上の酸化物粒子がガラスに分散した酸化物粒子
分散ガラス層１４と、この酸化物粒子分散ガラス層１４
上に設けられ上記酸化物粒子が含まれない主ガラス層１
６と、この主ガラス層１６上に高屈折率層１７ａと低屈
折率層１７ｂとが交互に複数回積層して形成された積層
体１７とを備えた高エネルギ光線の反射鏡２０である。
図示しないが、この反射鏡２０の別の構成は、別構成の
反射鏡１０と同様にＡｌ₂Ｏ₃層１２がないものである。

【０００９】反射鏡２０においては、酸化物粒子分散ガ
ラス層１４はＡｌ₂Ｏ₃，ＴｉＯ₂，ＺｒＯ₂等のガラスよ
りも熱伝導性のよい粒子がガラス層中に分散するため、
この層１４の熱伝導度が高くなり、反射鏡２０の放熱特
性をより向上させる。また酸化物粒子分散ガラス層１４
の形成は、ガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層の表面平滑性を良好に
する。このことは比較的表面粗さが大きい窒化アルミニ
ウム焼結体でも基体表面粗さを小さくして基体表面平滑
度を向上させることが可能であることを意味する。平滑
化した主ガラス層上に形成された積層体１７の表面は歪
みのない鏡面となる。

【００１０】請求項４に係る発明は、請求項３に係る発
明であって、Ａｌ₂Ｏ₃層１２が０〜９．９９μｍの厚さ
に形成され、ガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３が０．０１〜１
０μｍの厚さに形成され、酸化物粒子分散ガラス層１４
が０．１〜１０μｍの厚さに形成され、主ガラス層１６
が０．１〜１００μｍの厚さに形成され、高屈折率層１
７ａが３０ｎｍ〜１５０ｎｍの厚さに形成され、低屈折
率層１７ｂが６０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さに形成された
ことを特徴とする。

【００１１】

【発明の実施の形態】初めに、請求項１及び請求項３に
係る反射鏡に共通する点について述べる。本発明の基体
となる窒化アルミニウム焼結体は、窒化アルミニウム単
体のみからなる焼結体に限らず、窒化アルミニウムを主
成分とし、各種添加物、例えばＣａＯ，Ｙ₂Ｏ₃等を含有
する焼結体でもよい。この基体上に設けられるＡｌ₂Ｏ₃
層は、窒化アルミニウム焼結体を１×１０^-2ａｔｍ以上
の酸素分圧であってかつ１×１０^-3ａｔｍ以下の水蒸気
分圧の雰囲気において、１１００〜１５００℃で３〜
０．５時間程度熱処理することにより作られる。温度を
高くする程、処理時間は短くてよい。この熱処理により
窒化アルミニウム焼結体の表面が酸化され、気孔率０．
０１〜１５容積％のＡｌ₂Ｏ₃層が形成される。

【００１２】(a) 請求項１に係る反射鏡この反射鏡の高屈折率層及び低屈折率層からなる積層体
を形成する前の基体上のガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層及び主ガ
ラス層は、上記熱酸化により作られたＡｌ₂Ｏ₃層上にガ
ラス粒子が溶剤に分散した懸濁液を塗布し乾燥した後焼
成し、このガラスが軟化する温度で熱処理してＡｌ₂Ｏ₃
層上部の微細孔に軟化したガラスを侵入させることによ
り作られる。なおガラスを侵入させるに当り、軟化した
ガラスを窒化アルミニウム焼結体に到達させないことが
必要である。換言すれば、窒化アルミニウム焼結体上に
Ａｌ₂Ｏ₃層を残存させておくことが必要である。ガラス
と焼結体との反応に起因して焼結体の界面に気泡を生じ
させないためである。図１の拡大図に示すように、この
反射鏡１０では、焼結体からなる基体１１上に、酸化に
より形成された、ガラスが侵入していないＡｌ₂Ｏ₃層１
２と、ガラスが侵入してＡｌ₂Ｏ₃にガラスが混在したガ
ラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３と、主ガラス層１６と、高屈折
率層及び低屈折率層からなる積層体１７とがこの順に形
成される。ここでガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３には熱酸化
により作られたＡｌ₂Ｏ₃層の気孔率に応じてガラスを
０．０１〜１５容積％含ませることが好ましい。

【００１３】この主ガラス層１６上に形成される積層体
の高屈折率層１７ａ及び低屈折率層１７ｂは、スパッタ
リング法、蒸着法等により形成される。高屈折率層１７
ａとしてはＺｎＳ（硫化亜鉛）、ＴｉＯ₂（二酸化チタ
ン）、ＣｅＯ₂（二酸化セリウム）等が例示される。Ｚ
ｎＳ及びＴｉＯ₂は可視スペクトルの範囲内において光
線の吸収がなく相当に堅く相当に耐久力のある膜を形成
し、ＣｅＯ₂は更に化学的に安定な膜を形成する。ま
た、低屈折率層１７ｂとしてはＭｇＦ₂（弗化マグネシ
ウム）、ＴｈＦ₂（弗化トリウム）等が例示される。Ｍ
ｇＦ₂、ＴｈＦ₂も同様に、可視スペクトルの範囲内にお
いて光線の吸収がなく極めて堅くて耐久力のある膜を形
成する。

【００１４】光線の反射は主として屈折率の境界面で起
こるために互いに異なった境界面で起こる反射には吸収
による反射ロスはほとんどなく非常に良好な反射面とな
り得る。従って通常では光の吸収がなく、化学的に安定
でかつ屈折率の低い低屈折率層１７ｂの上に、光の吸収
が比較的少なく、化学的に安定な高屈折率層１７ａを形
成することによりその境界面ででの反射特性を良好にす
ることができ、このような層１７ａ，１７ｂを複数設け
ることにより反射効率を向上させることができる。ただ
しこれらの層１７ａ，１７ｂの膜厚は使用される用途を
考慮して選定することが必要である。即ち、各層１７
ａ，１７ｂの境界面からの反射光は互いに重なり合って
反射されて行くため、光の位相が重なり合ったところで
は光は互いに強めあい、逆に位相が反転したところでは
光は打ち消し合うことになる。従って、反射させる光線
の波長及び入射角により膜厚を調整し、複数回積層する
ことにより順次境界面を増加させることに反射率を増加
させることができる。この積層体１７は高屈折率層１７
ａ及び低屈折率層１７ｂを少なくともそれぞれ２層以上
形成することが好ましい。２層未満であると十分な反射
率を得ることが困難となる。

【００１５】またこの反射鏡は、上記熱酸化により作ら
れたＡｌ₂Ｏ₃層にガラス前駆体としてのアルコキシドも
しくはゾルを含浸させ、それを焼成し、このＡｌ₂Ｏ₃層
中にガラスを固着させることによっても作られる。この
場合にはガラスが侵入していないＡｌ₂Ｏ₃層１２を残存
させる必要はなく、焼結体である基体１１とガラス混在
Ａｌ₂Ｏ₃層１３との接合界面に気泡を生じさせずにＡｌ
₂Ｏ₃層１２のない反射鏡１０が作られる。この方法は後
述する請求項３に係る反射鏡２０にも同様に適用でき
る。

【００１６】(b) 請求項３に係る反射鏡図２の拡大図に示すこの反射鏡２０は次の一の方法で作
られる。先ず熱酸化により作られたＡｌ₂Ｏ₃層上にガラ
ス粒子が溶剤に分散した懸濁液を反射鏡１０と同程度に
塗布し乾燥した後焼成することにより、上記Ａｌ₂Ｏ₃層
の微細孔に軟化したガラスを侵入させてこのＡｌ₂Ｏ₃層
を焼結体からなる基体１１側から順にＡｌ₂Ｏ₃層１２及
びガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３にする。続いてこのガラス
混在Ａｌ ₂Ｏ₃層１３上にＡｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂及びＺｒＯ₂
粒子よりなる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物
粒子とガラス粒子が溶剤に分散した懸濁液を塗布し乾燥
した後焼成することによりこのガラス粒子を軟化させ
て、上記酸化物粒子が分散したガラス層１４を形成す
る。更にこの酸化物粒子分散ガラス層１４上にガラス粒
子が溶剤に分散した懸濁液を塗布し乾燥した後焼成する
ことによりこのガラス粒子を軟化させて主ガラス層１６
を形成する。

【００１７】図２の拡大図に示す反射鏡２０は次の別の
方法でも作られる。先ず熱酸化により作られたＡｌ₂Ｏ₃
層上にＡｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂及びＺｒＯ₂粒子よりなる群よ
り選ばれた１種又は２種以上の酸化物粒子とＳｉＯ₂粒
子が溶剤に分散した懸濁液を塗布し乾燥した後焼成して
酸化物粒子とＳｉＯ₂粒子の複合もしくは混合層を形成
する。続いてこの複合もしくは混合層上にガラス粒子が
溶剤に分散した懸濁液を塗布し乾燥してガラス粒子層を
形成する。最後にガラス粒子層が軟化する温度で熱処理
して上記ガラス粒子層の軟化したガラスが上記複合もし
くは混合層のＳｉＯ₂粒子を溶解し更に上記多孔質Ａｌ₂
Ｏ₃層中に侵入する。これにより図２に示すように、焼
結体からなる基体１１上にＡｌ₂Ｏ₃層１２とガラス混在
Ａｌ₂Ｏ₃層１３と酸化物粒子分散ガラス層１４と主ガラ
ス層１６の４層構造が形成され、更にこの主ガラス層１
６上に積層体１７が形成される。この場合もガラス層の
軟化条件を制御して軟化したガラスを窒化アルミニウム
焼結体に到達させないことが必要である。換言すれば、
窒化アルミニウム焼結体上にＡｌ₂Ｏ₃層を残存させてお
くことが必要である。反射鏡２０のガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃
層１３には熱酸化により作られたＡｌ₂Ｏ₃層の気孔率に
応じて０．０１〜１５容積％ガラスが含まれ、酸化物粒
子分散ガラス層１４にはガラスが５容積％以上１００容
積％未満含まれることが好ましい。また各層の厚さは、
酸化物粒子分散ガラス層１４が０．１〜１０μｍの厚さ
に形成される以外、反射鏡１０の場合と同様である。

【００１８】反射鏡１０及び反射鏡２０の主ガラス層、
酸化物粒子分散ガラス層及びガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層中の
ガラス成分は、ＰｂＯ−ＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃系にＡｌ
₂Ｏ₃、アルカリ土類金属、アルカリ金属等が添加された
系である。このガラス層は、熱膨張係数が基体であるＡ
ｌＮの熱膨張係数に近いことが、これらの層の形成時に
クラック等の欠陥を生じないため、好ましい。具体的に
はこれらの層の熱膨張係数はＡｌＮの熱膨張係数に近い
（４．４±１．０）×１０^-6／℃であることが好まし
い。またこのガラス層は、これらのガラス粉末を溶剤と
混合してガラスペーストとし、このガラスペーストを熱
酸化により作られたＡｌ₂Ｏ₃層上にスクリーン印刷、ス
プレーコーティング、ディップコーティング、スピンコ
ーティング等の方法によりコーティングして乾燥した
後、焼成して形成される。更にこのガラス層はガラスペ
ーストをプラスチックベースシートに塗布した後、この
シートのペースト面を被積層面に重ねてベースシートを
剥離する方法、ゾル−ゲル法、スパッタリング法等によ
り形成することもできる。

【００１９】

【実施例】次に本発明の実施例を説明する。＜実施例１＞図１に示す反射鏡１０を次の方法により製
造した。先ず表面粗さが中心線平均粗さで０．５〜０．
６μｍを有する平板状の窒化アルミニウム焼結基板を、
大気中、１３００℃で１時間熱処理し、焼結基板の表面
に３．０μｍ厚の多孔質Ａｌ₂Ｏ₃層を形成した。次にこ
のＡｌ₂Ｏ₃層の上にガラス粒子が均一に溶剤に分散した
懸濁液をスプレーコーティング法により塗布し、１５０
℃で３０分間乾燥してガラス粒子層を形成した。続いて
１０００℃で３０分間焼成し、ガラス粒子層のガラスを
軟化させた。これにより窒化アルミニウム焼結体からな
る基板１１の平面上にＡｌ₂Ｏ₃層１２、ガラス混在Ａｌ
₂Ｏ₃層１３及び主ガラス層１６がこの順で形成された。
この主ガラス層１６上に厚さ６０ｎｍの高屈折率層であ
るＺｎＳ薄膜と厚さ１００ｎｍの低屈折率層であるＭｇ
Ｆ₂とを真空蒸着法により５回交互に積層し、厚さ８０
０ｎｍの積層体１７を形成した。

【００２０】＜実施例２＞図２に示す反射鏡２０を次の
方法により製造した。先ず実施例１と同程度の表面粗さ
を有する平板状の窒化アルミニウム焼結体を、大気中、
１３００℃で１時間熱処理し、焼結体の表面に３．０μ
ｍ厚の多孔質Ａｌ₂Ｏ₃層を形成した。Ａｌ₂Ｏ₃粒子とＳ
ｉＯ₂粒子とをＡｌ₂Ｏ₃粒子が３４重量％、ＳｉＯ₂粒子
が６６重量％の割合で溶剤に均一に分散した懸濁液を調
製した後、この懸濁液を上記多孔質Ａｌ₂Ｏ₃層上にスプ
レーコーティング法により塗布した後、３００℃で１時
間乾燥させ、次いで１１００℃で１時間焼成することに
よりＡｌ₂Ｏ₃粒子とＳｉＯ₂粒子の複合もしくは混合層
を形成した。次にこの複合もしくは混合層の上にガラス
粒子が均一に溶剤に分散した懸濁液をスプレーコーティ
ング法により塗布し、１５０℃で３０分間乾燥してガラ
ス粒子層を形成した。続いて１０００℃で３０分間焼成
し、ガラス粒子層のガラスを軟化させた。これにより窒
化アルミニウム焼結体からなる基板１１の平面上にＡｌ
₂Ｏ₃層１２、ガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１３、酸化物粒子分
散ガラス層１４及び主ガラス層１６がこの順で形成され
た。この主ガラス層１６上に実施例１と同様にして厚さ
８００ｎｍの積層体１７を形成した。

【００２１】＜比較例１＞実施例１と同一の平面を有す
る窒化アルミニウム焼結基板を熱処理せずに、その基板
表面に直接実施例１と同様の方法により厚さ８００ｎｍ
の積層体を形成した。＜比較例２＞実施例１と同一の平面を有する窒化アルミ
ニウム焼結基板を熱処理せずに、その基板表面に直接実
施例１と同一のガラス粒子が均一に溶剤に分散した懸濁
液をスプレーコーティング法により塗布し、１５０℃で
３０分間乾燥してガラス粒子層を形成した。続いて１０
００℃で３０分間焼成し、ガラス粒子層のガラスを軟化
させた。これにより窒化アルミニウム焼結体からなる基
板の平面上にガラス層を形成した。このガラス層の上に
実施例１と同様の方法により厚さ８００ｎｍの積層体を
形成した。

【００２２】＜比較試験と評価＞実施例１、実施例２、
比較例１及び比較例２の反射鏡について、それぞれ高エ
ネルギ光線の反射率を比較試験した。その結果を表１に
示す。反射率は基板上の積層体に対して波長５５０ｎｍ
の光線を照射したときの全反射率を分光光度計を用いて
測定することにより求め、また耐熱性は積層体を形成し
た基板を大気中、５００℃で１００時間、エージング処
理した後の積層体の外観変化の有無を目視により判断し
た。更に基板に対する積層体の密着性を上述のエージン
グ処理の後に積層体のピーリング（引き剥がし）試験を
行い、その剥離箇所又は破壊箇所により判断した。

【００２３】

【表１】

【００２４】表１から明らかなように、ガラス層のない
比較例１では反射率が７８％であって、ガラス層を有す
るもののＡｌ₂Ｏ₃層及びガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層を有しな
い比較例２では反射率が７０％であった。これに対し
て、基板上にＡｌ₂Ｏ₃層、ガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層及びガ
ラス層を有する実施例１及び２では反射率が９８％を示
した。また高熱処理で比較例２の反射鏡では微細な膨れ
が発生したのに対して、実施例１及び２では積層体に変
化がなく、高い耐熱性を示すことが判った。更にピーリ
ング試験で比較例１の反射鏡で積層体と基板間で、比較
例２の反射鏡ではガラス層と基板間で剥離が起こったの
に対して、実施例１及び２の反射鏡では基板内での剥離
であった。

【００２５】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の反射鏡によ
れば、焼結体の表面粗さが大きくても、ガラス混在Ａｌ
₂Ｏ₃層及び主ガラス層、或いはガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層、
酸化物粒子分散ガラス層及び主ガラス層がこれを平坦化
し、主ガラス層上に形成された積層体の表面を歪みのな
い鏡面とする。また窒化アルミニウム焼結体からなる基
体上に主ガラス層を介して積層体が形成されるため、高
い耐熱性と放熱性を有する。特に従来の反射鏡と比較し
て、反射率特性及び耐熱性に優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射鏡を示す斜視図とその拡大断面
図。

【図２】本発明の別の反射鏡のを示す図１に対応する断
面図。

【符号の説明】

１０，２０反射鏡１１基体１２Ａｌ₂Ｏ₃層１３ガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層１４酸化物粒子分散ガラス層１６主ガラス層１７積層体１７ａ高屈折率層１７ｂ低屈折率層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】窒化アルミニウム焼結体からなる基体(1
1)と、前記基体(11)上にＡｌ₂Ｏ₃層(12)を介して又はＡ
ｌ₂Ｏ₃層(12)を介さずに設けられＡｌ₂Ｏ₃にガラスが混
在したガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層(13)と、前記ガラス混在Ａ
ｌ₂Ｏ₃層(13)上に設けられた主ガラス層(16)と、前記主
ガラス層(16)上に高屈折率層(17a)と低屈折率層(17b)と
が交互に複数回積層して形成された積層体(17)とを備え
た高エネルギ光線の反射鏡。
【請求項２】Ａｌ₂Ｏ₃層(12)が０〜９．９９μｍの厚
さに形成され、ガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層(13)が０．０１〜
１０μｍの厚さに形成され、主ガラス層(16)が０．１〜
１００μｍの厚さに形成され、高屈折率層(17a)が３０
ｎｍ〜１５０ｎｍの厚さに形成され、低屈折率層(17b)
が６０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さに形成された請求項１記
載の高エネルギ光線の反射鏡。
【請求項３】窒化アルミニウム焼結体からなる基体(1
1)と、前記基体(11)上にＡｌ₂Ｏ₃層(12)を介して又はＡ
ｌ₂Ｏ₃層(12)を介さずに設けられＡｌ₂Ｏ₃にガラスが混
在したガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層(13)と、前記ガラス混在Ａ
ｌ₂Ｏ₃層(13)上に設けられＡｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂及びＺｒ
Ｏ₂粒子よりなる群より選ばれた１種又は２種以上の酸
化物粒子がガラスに分散した酸化物粒子分散ガラス層(1
4)と、前記酸化物粒子分散ガラス層(14)上に設けられ前
記酸化物粒子が含まれない主ガラス層(16)と、前記主ガ
ラス層(16)上に高屈折率層(17a)と低屈折率層(17b)とが
交互に複数回積層して形成された積層体(17)とを備えた
高エネルギ光線の反射鏡。
【請求項４】Ａｌ₂Ｏ₃層(12)が０〜９．９９μｍの厚
さに形成され、ガラス混在Ａｌ₂Ｏ₃層(13)が０．０１〜
１０μｍの厚さに形成され、酸化物粒子分散ガラス層(1
4)が０．１〜１０μｍの厚さに形成され、主ガラス層(1
6)が０．１〜１００μｍの厚さに形成され、高屈折率層
(17a)が３０ｎｍ〜１５０ｎｍの厚さに形成され、低屈
折率層(17b)が６０ｎｍ〜３００ｎｍの厚さに形成され
た請求項３記載の高エネルギ光線の反射鏡。