JPH1074321A - 光ディスク基板及びその製造方法並びに光ディスク及びその再生方法 - Google Patents

光ディスク基板及びその製造方法並びに光ディスク及びその再生方法

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JPH1074321A
JPH1074321A JP8287740A JP28774096A JPH1074321A JP H1074321 A JPH1074321 A JP H1074321A JP 8287740 A JP8287740 A JP 8287740A JP 28774096 A JP28774096 A JP 28774096A JP H1074321 A JPH1074321 A JP H1074321A
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optical disk
meandering
tracking
recording
optical
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Junichiro Nakayama
純一郎 中山
Naoyasu Iketani
直泰 池谷
Michinobu Saegusa
理伸 三枝
Yoshiteru Murakami
善照 村上
Akira Takahashi
明 高橋
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Sharp Corp
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単に製造することのできるトラッキングガ
イドを有する光ディスク基板とその製造方法並びに光デ
ィスク及びその再生方法を提供する。 【解決手段】 トラッキング制御用のグルーブとして、
アドレス情報に応じて蛇行している蛇行グルーブ１ａと
通常グルーブ２ａを有する。蛇行グルーブ１ａと通常グ
ルーブ２ａは互いにディスク半径方向に隣接している。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、トラッキング用の
グルーブもしくはランドを有する光ディスク基板及びそ
の製造方法並びに光ディスク及びその再生方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク基板及び光ディスクに対して
アドレス情報を設ける方法はいろいろとあるが、高密度
化の要求からトラッキング用のグルーブそのものにアド
レス情報をもたせる方法、即ちトラッキング用のグルー
ブを蛇行させ、トラッキング信号から蛇行周波数成分を
取り出すことによりアドレス情報を求める方法が提案さ
れている。また、図２５に示すような特開平５−３１４
５３８号公報に記載された光ディスク基板においては、
グルーブの一方の側壁だけをアドレス情報に応じて蛇行
させ、グルーブ幅の倍よりも小さい記録再生用光スポッ
ト４により片側だけを読み出し、アドレス情報を求める
方法が提案されている。尚、図２５（ａ）はこの光ディ
スク基板の製造方法を説明する図であり、図２５（ｂ）
はこの光ディスク基板を用いた光ディスクから情報を読
み出す様子を説明する図であり、図２５（ｃ）は図２５
（ａ），（ｂ）の断面図である。
【０００３】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、図２
５に示した光ディスク基板では、その製造のために、少
なくとも２本のレーザー光３０ａ，３０ｂを半径方向に
離間させて照射し、１本のレーザー光だけをアドレス情
報に応じて半径方向に振動させながら照射する。具体的
には、レーザ光３０ａ，３０ｂがそれぞれ図２５（ａ）
における線３０ｃ，３０ｄ上を辿るように照射する。こ
のため、レーザー光を２分化することによる光利用効率
の低下、光学系の複雑化、各レーザー光の個別制御など
の問題が生じてしまう。
【０００４】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであって、製造が容易な光ディスク基板及びそ
の製造方法並びに光ディスク及びその再生方法を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【問題点を解決するための手段】請求項１に記載の光デ
ィスク基板は、グルーブあるいはランドからなるトラッ
キング制御用のトラッキングガイドを有してなる光ディ
スク基板において、トラッキングガイドが、アドレス情
報に応じて蛇行している第１の部分と、蛇行していない
第２の部分とを有してなり、第１の部分と第２の部分
が、ディスクの半径方向に交互に設けられてなるもので
ある。
【０００６】請求項２に記載の光ディスク基板は、請求
項１に記載の光ディスク基板において、トラッキングガ
イドが、一定幅で形成されてなるものである。
【０００７】請求項３に記載の光ディスク基板は、請求
項１または請求項２に記載の光ディスク基板において、
トラッキングガイドが、螺旋状に連続的に形成されてお
り、ディスク一周当たり、合わせて奇数個の、互いにデ
ィスクの周方向に隣接した第１の部分と第２の部分とを
有してなるものである。
【０００８】請求項４に記載の光ディスク基板は、請求
項１または請求項２に記載の光ディスク基板において、
トラッキングガイドが、同心円状に形成されており、デ
ィスク一周当たり、合わせて偶数個の、互いにディスク
の周方向に隣接した第１の部分と第２の部分とを有して
なるものである。
【０００９】請求項５に記載の光ディスク基板の製造方
法は、アドレス情報に応じて蛇行している第１の部分と
蛇行していない第２の部分とが互いにディスクの半径方
向に隣接して形成された、グルーブあるいはランドから
なるトラッキングガイドを具備してなる光ディスク基板
の製造方法であって、レーザ光をディスクの半径方向に
振動させる第１のモードと、振動させない第２のモード
と、を切り替えながら、１本のレーザ光をガラス基板に
塗布したフォトレジスト上に照射することにより、前記
第１の部分と前記第２の部分に対応するパターンを形成
するものである。
【００１０】請求項６に記載の光ディスクの製造方法
は、請求項５に記載の光ディスクの製造方法において、
トラッキングガイドを螺旋状に連続的に形成するもので
ある。請求項７に記載の光ディスク基板は、請求項１乃
至請求項４のいずれかに記載の光ディスク基板におい
て、ディスクの半径方向に隣り合う２つのトラッキング
ガイドの間のガイド間記録領域に、凹凸ピットからなる
絶対アドレス識別部を有してなるものである。
【００１１】請求項８に記載の光ディスク基板は、請求
項１乃至請求項４のいずれかに記載の光ディスク基板に
おいて、第１の部分あるいは第２の部分の少なくとも一
方に、ディスク周方向に連続する両側の部分とは曲率の
異なる絶対アドレス識別部が形成されてなるものであ
る。
【００１２】請求項９に記載の光ディスク基板は、請求
項１乃至請求項４のいずれかに記載の光ディスク基板に
おいて、トラッキングガイドが、ディスク半径方向に互
いに隣接する部分がすべて前記第１の部分からなる絶対
アドレス識別部を有してなるものである。
【００１３】請求項１０に記載の光ディスクは、請求項
１乃至請求項９のいずれかに記載の光ディスク基板上
に、少なくとも記録層が形成されてなるものである。
【００１４】請求項１１に記載の光ディスクの再生方法
は、請求項７乃至請求項９のいずれかに記載の光ディス
ク基板上に、少なくとも記録層が形成されてなる光ディ
スクの再生方法であって、絶対アドレス識別部からの信
号、及び、第１の部分からの信号に基づき、アドレス情
報を再生するものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
〔実施の形態１〕本発明の光ディスク基板の一実施の形
態について、図１，図２，図３，図９，図１１に基づい
て説明すれば、以下のとおりである。
【００１６】本実施の形態に用いられる光ディスク基板
５には、図１，図２の平面図，図３の半径方向断面図に
示すように、蛇行しているトラッキング用の蛇行グルー
ブ（請求項における第１の部分）１ａと、蛇行していな
いトラッキング用の通常グルーブ（請求項における第２
の部分）２ａとが、ディスク半径方向に交互に設けられ
ている。また、ディスク周方向においては切替部３にお
いて隣接して設けられている。グルーブは螺旋状に形成
され、蛇行グルーブ１ａ，通常グルーブ２ａ間のエリア
はランドと呼ばれる。
【００１７】蛇行グルーブ１ａは、アドレス情報に応じ
て、ディスクの半径方向に蛇行しており、その蛇行周波
数は、トラッキングサーボ系の追従周波数よりも高く、
記録周波数よりも低い周波数に設定されている。
【００１８】このような光ディスク基板５を用いた光デ
ィスクにおいて情報を記録する場合は、ランドに対して
行われる。トラッキング信号は、例えばプッシュプル法
によって得られる。アドレス情報はトラック信号から蛇
行グルーブ１ａの蛇行周波数の成分を取り出すことによ
って求められる。
【００１９】即ち、記録再生用光スポット４をランドに
追従させると、蛇行周波数がトラッキング系の追従周波
数よりも高いので、記録再生用光スポット４は、ランド
の平均幅のほぼ中心線上をトラッキングする。このた
め、蛇行グルーブ１ａの蛇行振幅に対応したトラッキン
グ誤差信号が常に生じている。したがって、トラッキン
グ信号からこれを取り出せば、蛇行周波数の信号成分が
得られる。
【００２０】また、蛇行グルーブ１ａのアドレス情報
は、両側に隣接したランド共通のアドレス情報となる
が、その左を追従しているのか、その右を追従している
のかは、トラッキング誤差信号が、記録再生用光スポッ
ト４の左エリアに生じているのか、右エリアに生じてい
るのかで判断でき、容易に選択できるので、特定のトラ
ックを指定することは容易である。
【００２１】本実施の形態の光ディスク基板５では、記
録再生用光スポット４の直径をトラックピッチよりも大
きく、かつ、トラックピッチの２倍よりも小さくするこ
とにより、２つの蛇行グルーブ１ａ，１ａに同時に当た
ることがなく、正確なアドレス情報が得られる。
【００２２】また、光ディスクに高密度に情報を記録す
るためにトラックピッチが小さくなった場合でも、アド
レス情報を正確に読むことができる。
【００２３】以上の説明では、トラッキング信号から蛇
行周波数の信号成分を取り出しているが、光ディスクか
らの反射光の光量変化から蛇行周波数の信号成分を取り
出してもよい。即ち、ランドの幅が狭くなっていると反
射光が弱くなり、広くなっていると反射光が強くなる。
従って、記録再生用光スポット４の反射光の光量変化を
取り出せば、蛇行周波数の信号成分を得ることができ
る。
【００２４】上記の光ディスク基板５の製造プロセスに
ついて図９（ａ）から図９（ｅ）に基づいて説明すれ
ば、以下の通りである。
【００２５】（ａ）ガラス基板５の片面にフォトレジス
ト６を塗布する。
【００２６】（ｂ）１本のレーザー光を対物レンズ７に
よってフォトレジスト６上に集光し、フォトレジスト６
を所望の蛇行グルーブ１ａ，通常グルーブ１ｂのパター
ンに感光させる。
【００２７】（ｃ）感光させたフォトレジスト６を現像
することにより除去し、残ったフォトレジスト６により
所望のパターンを形成する。
【００２８】（ｄ）ドライエッチングもしくはウエット
エッチングにより、ガラス基板５，フォトレジスト６を
エッチングし、ガラス基板５に所望のパターンを形成す
る。
【００２９】（ｅ）残ったフォトレジスト６をアッシン
グにより除去する。
【００３０】螺旋状の通常グルーブ２ａを形成する場
合、ガラス基板５に相対的に感光用光スポットを螺旋状
に移動させる（請求項における第２のモード）だけであ
るが、蛇行グルーブ１ａを形成する場合、螺旋状に移動
させながら、アドレス情報に応じて半径方向に振動させ
る（請求項における第１のモード）。これにより、アド
レス情報に応じたパターンをフォトレジスト６上に形成
することができる。
【００３１】上記のフォトレジスト６を蛇行グルーブ１
ａ，通常グルーブ１ｂのパターンに感光させる装置を図
１１に示す。
【００３２】フォトレジスト６を感光させるためのレー
ザー光源１１ａと、対物レンズ７のフォーカス用レーザ
ー光源１１ｂを備えており、レーザー光源１１ａには、
例えばＡｒレーザーが使用され、レーザー光源１１ｂに
は、例えばＨｅ−Ｎｅレーザーが使用される。
【００３３】レーザー光源１１ａからのレーザー光は、
ノイズ抑制装置１２ａにより光ノイズを低減した後、ミ
ラー１９，２０で反射され光変調器２２に入射する。光
変調器２２としては、例えば音響光学素子を用いること
ができ、その場合、光変調器２２の前後に集束レンズ２
１を配置する。
【００３４】光変調器２２を通ったレーザー光は光偏向
器２３に入射する。光偏向器２３としては、例えば、電
気光学素子、あるいは音響光学素子を用いることがで
き、レーザー光の進行方向を変えることができる。
【００３５】さらに、レーザー光はビームエキスパンダ
ー２４によって適当なビーム径に拡大され、２色ミラー
１５によって対物レンズ７に入射する。そして対物レン
ズ７によってガラス基板５上のフォトレジスト６に感光
用光スポット３として集光される。
【００３６】尚、上記の光変調器２２，光偏向器２３，
ビームエキスパンダー２４は、それぞれ、ドライバー２
５，２６，２７により制御されている。
【００３７】一方、レーザー光源１１ｂからのレーザー
光は、ノイズ抑制装置１２ｂにより光ノイズを低減した
後、偏光ビームスプリッター１３，（１／４）波長板１
４，２色ミラー１５を通り、対物レンズ７によってガラ
ス基板５上のフォトレジスト６に集光される。
【００３８】その反射光は、対物レンズ７により再び集
光され、２色ミラー１５，（１／４）波長板１４，偏光
ビームスプリッター１３を通り、対物レンズ１６及びシ
リンドリカルレンズ１７によって光検出器１８に集光さ
れる。光検出器１８からの信号に基づいて、フォーカス
サーボ系が対物レンズ７をフォーカス方向に駆動し、ス
ピンドルモーターで回転しているガラス基板５上のフォ
トレジスト６に対物レンズ７の焦点が合わされる。
【００３９】上記の構成において、光偏向器２３によ
り、アドレス情報に応じて半径方向に振動させ、光変調
器２２，ビームエキスパンダー２４により、レーザー光
強度もしくはレーザースポット径を最適化させ、さら
に、光偏向器２３のドライバー２６を、蛇行しているト
ラッキング用の蛇行グルーブ１ａと蛇行していないトラ
ッキング用の通常グルーブ２ａとが、ディスクの半径方
向に互いに隣接するように、図１の切替部３において、
ディスク一周につき１回ＯＮ−ＯＦＦ切り替えを行うこ
とにより形成される。
【００４０】また、本実施の形態の光ディスク基板５の
製造方法は、上記に限らず、上記のように作成した光デ
ィスク基板原盤をもとにマスク原盤を作成し、そのマス
ク原盤を用いて製造してもよい。
【００４１】〔実施の形態２〕本発明の他の光ディスク
基板の実施の形態について図１，図１０，図１１に基づ
いて説明すれば、以下のとおりである。
【００４２】本実施の形態に用いられる光ディスク基板
５は、〔実施の形態１〕の光ディスク基板と同じ特徴を
有しており、基板材料と製造プロセスが異なるものであ
る。本実施の形態の光ディスク基板５の製造プロセスに
ついて図１０（ａ）から図１０（ｆ）に基づいて説明す
れば、以下の通りである。
【００４３】（ａ）ガラス基板５の片面にフォトレジス
ト６を塗布する。
【００４４】（ｂ）レーザー光を対物レンズ７によって
フォトレジスト６上に集光し、フォトレジスト６を所望
の蛇行グルーブ１ａ，通常グルーブ１ｂのパターンに感
光させる。
【００４５】（ｃ）感光させたフォトレジスト６を現像
することにより除去し、残ったフォトレジスト６により
所望のパターンを形成する。
【００４６】（ｄ）フォトレジスト６からなるパターン
上に導電性の薄膜８をスパッタ、あるいは、無電解メッ
キなどによって形成する。
【００４７】（ｅ）薄膜８上に金属層９を電鋳などによ
って形成する。
【００４８】（ｆ）ガラス基板５，フォトレジスト６か
ら薄膜８，金属層９を剥離する。
【００４９】尚、薄膜８の材料には、Ｎｉ，Ｔａ，Ｃｒ
またはその合金、あるいはそれらの複合膜が用いられ、
金属層９の材料にも、Ｎｉ，Ｔａ，Ｃｒまたはその合
金、あるいはそれらの複合膜が用いられる。
【００５０】工程（ｆ）により剥離された薄膜８，金属
層９はスタンパー１０と呼ばれ、このスタンパー１０を
用いて、射出成型もしくは射出圧縮成型によりプラスチ
ックからなる光ディスク基板５が製造される。プラスチ
ック材料には、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、
エチレン樹脂、エステル樹脂、ナイロン樹脂、ＡＰＯな
どの熱可塑性樹脂が用いられる。
【００５１】また、本実施の形態のスタンパー１０の製
造方法は、上記に限らず、〔実施の形態１〕の製造方法
により作成した光ディスク基板原盤をもとにスタンパー
を作成し、製造してもよい。
【００５２】これにより、光ディスク基板を樹脂により
作成することができ、量産とコストダウンが容易とな
る。
【００５３】〔実施の形態３〕本発明の更に他の光ディ
スク基板の実施の形態について図４，図５，図６に基づ
いて説明すれば、以下のとおりである。
【００５４】本実施の形態に用いられる光ディスク基板
５には、図４，図５の平面図、図６の半径方向断面図に
示すように、蛇行しているトラッキング用の蛇行ランド
１ｂと蛇行していないトラッキング用の通常ランド２ｂ
とが、ディスク半径方向に交互に設けられている。ま
た、ディスク周方向においては切替部３において互いに
隣接して設けられている。ランドは螺旋状に形成され、
蛇行ランド１ｂ，通常ランド２ｂ間のエリアはグルーブ
と呼ばれる。
【００５５】蛇行ランド１ｂはアドレス情報に応じて，
ディスクの半径方向に蛇行しており、その蛇行周波数
は、トラッキングサーボ系の追従周波数よりも高く、記
録周波数よりも低い周波数に設定されている。
【００５６】上記の光ディスク基板５を用いた光ディス
クにおいて情報を記録する場合は、グルーブに対して行
われる。トラッキング信号は、例えばプッシュプル法に
よって得られる。アドレス情報はトラック信号から蛇行
ランド１ｂの蛇行周波数の成分を取り出すことによって
求められる。
【００５７】即ち、記録再生用光スポット４をグルーブ
に追従させると、蛇行周波数がトラッキング系の追従周
波数よりも高いので、記録再生用光スポット４は、グル
ーブの平均幅のほぼ中心線上をトラッキングする。この
ため、蛇行ランド１ｂの蛇行振幅に対応したトラッキン
グ誤差信号が常に生じている。したがって、トラッキン
グ信号からこれを取り出せば、蛇行周波数の信号成分が
得られる。
【００５８】また、蛇行ランド１ｂのアドレス情報は、
両側に隣接したグルーブ共通のアドレス情報となるが、
その左を追従しているのか、その右を追従しているのか
は、トラッキング誤差信号が、記録再生用光スポット４
の左エリアに生じているのか、右エリアに生じているの
かで判断でき、容易に選択できるので、特定のトラック
を指定することは容易である。
【００５９】本実施の形態の光ディスク基板５では、記
録再生用光スポット４の直径をトラックピッチよりも大
きく、かつ、トラックピッチの２倍よりも小さくするこ
とにより、２つの蛇行ランド１ｂ，１ｂに同時に当たる
ことがなく、正確なアドレス情報が得られる。
【００６０】このように本実施の形態では、トラッキン
グ信号から蛇行周波数の信号成分を取り出しているが、
光ディスクからの反射光の光量変化から蛇行周波数の信
号成分を取り出してもよい。即ち、グルーブの幅が狭く
なっていると反射光が弱くなり、広くなっていると反射
光が強くなる。従って、記録再生用光スポット４の反射
光の光量変化を取り出せば、蛇行周波数の信号成分を得
ることができる。
【００６１】本実施の形態に用いられる光ディスク基板
５は、〔実施の形態１〕、〔実施の形態２〕の光ディス
ク基板５と同じ特徴、基板材料を有するものである。製
造プロセスでは、凹凸の関係が逆になるため、〔実施の
形態１〕、〔実施の形態２〕の製造プロセスで作成した
光ディスク基板原盤を転写することにより〔実施の形態
３〕の光ディスク基板を製造することができる。また、
この光ディスク基板５の製造方法は、上記したものに限
らず、上記のように作成した光ディスク基板原盤をもと
にマスク原盤を作成し、マスク原盤を用いて製造しても
よく、さらに、光ディスク基板原盤をもとにスタンパー
を作成し、製造してもよい。これにより、製造プロセス
は１工程複雑になるが、グルーブ記録が可能になる。
【００６２】〔実施の形態４〕本発明の更に他の光ディ
スク基板の実施の形態について図７に基づいて説明すれ
ば、以下のとおりである。
【００６３】本実施の形態に用いられる光ディスク基板
５は、〔実施の形態１〕、〔実施の形態２〕、〔実施の
形態３〕の光ディスク基板５と同じ特徴、基板材料を有
している。製造プロセスにおいては、図１１における光
偏向器２３のドライバー２６を、蛇行しているトラッキ
ング用の蛇行グルーブ１ａと蛇行していないトラッキン
グ用の通常グルーブ２ａとが交互に設けられるように、
図７の切替部３にて、つまり、一周につき３回ＯＮ−Ｏ
ＦＦ制御することにより形成される。
【００６４】これにより、蛇行グルーブ１ａのアドレス
情報は、両側に隣接したランド共通のアドレス情報とな
るが、アドレス情報の形成された（蛇行している）サイ
ドが頻繁に切り替わることにより、より正確に特定のト
ラックを指定することが可能になる。
【００６５】なお、ここでは、トラッキング制御用にグ
ルーブ１ａ，２ａを用いる場合について説明したが、も
ちろんランド１ｂ，２ｂを用いてもよい。
【００６６】〔実施の形態５〕本発明の更に他の光ディ
スク基板の実施の形態について図８（ａ），（ｂ）に基
づいて説明すれば、以下のとおりである。
【００６７】図８（ａ）に示す光ディスク基板５は、
〔実施の形態１〕，〔実施の形態２〕，〔実施の形態
３〕の光ディスク基板５と同じ特徴、基板材料を有して
いる。本実施の形態の光ディスク基板は、蛇行している
トラッキング用の蛇行グルーブ１ａ（または蛇行ランド
１ｂ）と、蛇行していないトラッキング用の通常グルー
ブ２ａ（または通常ランド２ｂ）とが、同心円状となっ
ている。
【００６８】図８（ｂ）に示す光ディスク基板５は、図
８（ａ）場合と同様に、同心円状にグルーブ（またはラ
ンド）が形成されているものであるが、ディスク一周に
つき蛇行しているトラッキング用の蛇行グルーブ１ａ
（または蛇行ランド１ｂ）と蛇行していないトラッキン
グ用の通常グルーブ２ａ（または通常ランド２ｂ）とを
それぞれ２個づつ合計４個有している。この光ディスク
基板５の製造プロセスにおいては、図１１における光偏
向器２３のドライバー２６をディスク一周当たり４回Ｏ
Ｎ−ＯＦＦ制御する。
【００６９】この図８（ｂ）の構成では、蛇行グルーブ
１ａ（また蛇行ランド１ｂ）のアドレス情報は、両側に
隣接したランド（またはグルーブ）共通のアドレス情報
となるが、アドレス情報が形成されているサイドが頻繁
に切り替わることにより、より正確に特定のトラックを
指定することが可能になる。
【００７０】〔実施の形態６〕次に実施の形態６の光デ
ィスク基板について、図１，図１８，図１９に基づいて
説明すれば、以下のとおりである。
【００７１】本実施の形態に用いられる光ディスク基板
５は、透光性のあるガラスやプラスチック材料からな
り、図１の平面図，図１８の平面拡大図，図１９の半径
方向断面図に示すように、蛇行しているトラッキング用
の蛇行グルーブ（請求項における第１の部分）１ａと、
蛇行していないトラッキング用の通常グルーブ（請求項
における第２の部分）２ａとが、ディスク半径方向に交
互に設けられている。また、ディスク周方向において
は、切替部３において蛇行グルーブ１ａと通常グルーブ
２ａが隣接して設けられている。グルーブは螺旋状に形
成され、蛇行グルーブ１ａ，通常グルーブ２ａ間のエリ
アはランドと呼ばれる。グルーブ深さは、光ディスク基
板５の屈折率をｎとした場合、λ／８ｎ近傍に設定され
る。
【００７２】さらに、ディスク半径方向に多数形成され
たトラッキングガイド間のエリアに、凹凸ピット３６が
１つおきに形成されている。凹凸ピット３６の深さは、
光ディスク基板５の屈折率をｎとした場合、λ／８ｎ〜
λ／４ｎ近傍に設定されている。
【００７３】蛇行グルーブ１ａは、アドレス情報に応じ
てディスクの半径方向に蛇行しており、その蛇行周波数
は、トラッキングサーボ系の追従周波数よりも高く、記
録周波数よりも低い周波数に設定されている。
【００７４】このような光ディスク基板を用いた光ディ
スクにおいて、トラッキング信号は、例えばプッシュプ
ル法によって得られる。アドレス情報はトラック信号か
ら蛇行グルーブ１ａの蛇行周波数の成分を取り出すこと
によって求められる。
【００７５】即ち、メインビームスポット４をランドに
追従させると、蛇行周波数がトラッキング系の追従周波
数よりも高いので、メインビームスポット４は、ランド
の平均幅のほぼ中心線上をトラッキングする。このた
め、蛇行グルーブ１ａの蛇行振幅に対応したトラッキン
グ誤差信号を取り出せば、蛇行周波数の信号成分が得ら
れる。
【００７６】また、メインビームスポット４の絶対アド
レスは、トラッキングガイド間のエリアに凹凸ピット３
６が半径方向に１つおきに形成されているので、ピット
の有無により、蛇行グルーブ１ａの左右どちら側を再生
しているかを容易に求めることできる。従って、この凹
凸ピット３６からの再生信号及び蛇行グルーブ１ａの蛇
行周波数からアドレス情報を正確に再生することができ
る。
【００７７】以上の説明では、トラッキング信号から蛇
行周波数の信号成分を取り出しているが、光ディスクか
らの反射光の光量変化から蛇行周波数の信号成分を取り
出してもよい。即ち、蛇行グルーブ１ａがサブビームス
ポットの中央部にある場合と、外縁部にある場合とで反
射光の光量が変化するので、その光量変化を取り出せ
ば、蛇行周波数の信号成分を得ることができる。
【００７８】本実施の形態１では、凹凸ピット３６は、
半径方向に１つおきに形成されている、すなわち、半径
方向に”０、１、０、１、・・・”となるよう形成され
ているが、もちろん、”１、２、１、２、・・・”でも
よく、更には、すべてのトラックに対し、”０、１、
２、３、・・・”とトラック番号を表すように形成され
ていてもよい。
【００７９】〔実施の形態７〕本発明の他の光ディスク
基板の実施の形態について、図４，図２０，図２１に基
づいて説明すれば、以下のとおりである。
【００８０】本実施の形態の光ディスク基板５は、透光
性のあるガラスやプラスチック材料からなり、図４の平
面図，図２０の平面拡大図、図２１の半径方向断面図に
示すように、蛇行しているトラッキング用の蛇行ランド
１ｂと蛇行していないトラッキング用の通常ランド２ｂ
とが、ディスク半径方向に交互に設けられている。ま
た、ディスク周方向においては切替部３において蛇行ラ
ンド１ｂと通常ランド２ｂが互いに隣接するよう設けら
れている。ランドは螺旋状に形成され、蛇行ランド１
ｂ，通常ランド２ｂ間のエリアはグルーブと呼ばれる。
ランド高さは、光ディスク基板５の屈折率をｎとした場
合、λ／８ｎ近傍に設定される。
【００８１】蛇行ランド１ｂは、アドレス情報に応じて
ディスクの半径方向に蛇行しており、その蛇行周波数
は、トラッキングサーボ系の追従周波数よりも高く、記
録周波数よりも低い周波数に設定されている。
【００８２】このような光ディスク基板を用いた光ディ
スクにおいて情報を記録する場合は、グルーブに対して
行われる。〔実施の形態６〕と同様に、トラッキング信
号は、例えばプッシュプル法によって得られる。アドレ
ス情報はトラック信号から蛇行ランド１ｂの蛇行周波数
の成分を取り出すこと、及び、凹凸ピット３６からの再
生信号によって求められる。
【００８３】本実施の形態に用いられる光ディスク基板
５は、〔実施の形態６〕の光ディスク基板５に比べる
と、凹凸の関係が逆になるため、製造プロセスは１工程
複雑になるが、グルーブ記録が可能になる。
【００８４】〔実施の形態８〕本発明の更に他の光ディ
スク基板の実施の形態について図２２，図２３に基づい
て説明すれば、以下のとおりである。
【００８５】本実施の形態の光ディスク基板５は、透光
性のあるガラスやプラスチック材料からなり、図２３，
図２４に示すように、蛇行しているトラッキング用の蛇
行グルーブ（請求項における第１の部分）１ａと、蛇行
していないトラッキング用の通常グルーブ（請求項にお
ける第２の部分）２ａとが、ディスク半径方向に交互に
設けられている。また、ディスク周方向においては切替
部３において隣接して設けられている。グルーブは螺旋
状に形成され、蛇行グルーブ１ａ，通常グルーブ２ａ間
のエリアはランドと呼ばれる。グルーブ深さは、光ディ
スク基板５の屈折率をｎとした場合、λ／８ｎ近傍に設
定される。
【００８６】さらに、図２３に示すような蛇行グルーブ
１ａの一部が通常の蛇行量よりも大きく蛇行している曲
率変化箇所（請求項８における絶対アドレス識別部）３
７、もしくは図２４に示すような通常グルーブ２ａの一
部が通常の蛇行量よりも大きく蛇行している箇所３７が
１つおきに形成されている。
【００８７】蛇行グルーブ１ａは、アドレス情報に応じ
てディスクの半径方向に蛇行しており、その蛇行周波数
は、トラッキングサーボ系の追従周波数よりも高く、記
録周波数よりも低い周波数に設定されている。
【００８８】このような光ディスクにおいて情報を記録
する場合は、ランドに対して行われる。トラッキング信
号は、例えばプッシュプル法によって得られる。アドレ
ス情報はトラック信号から蛇行グルーブ１ａの蛇行周波
数の成分を取り出すことによって求められる。
【００８９】即ち、メインビームスポット４をランドに
追従させると、蛇行周波数がトラッキング系の追従周波
数よりも高いので、メインビームスポット４は、ランド
の平均幅のほぼ中心線上をトラッキングする。このた
め、蛇行グルーブ１ａの蛇行振幅に対応したトラッキン
グ誤差信号を取り出せば、蛇行周波数の信号成分が得ら
れる。
【００９０】また、メインビームスポット４の絶対アド
レスは、蛇行グルーブ１ａの一部が通常の蛇行量よりも
大きく蛇行している箇所３７、通常グルーブ２ａの一部
が通常の蛇行量よりも大きく蛇行している箇所３７が１
つおきに形成されているので、それらの有無をトラッキ
ング誤差信号から判断っすることができる。したがっ
て、メインビーム４が蛇行グルーブ１ａの左右どちら側
を走査しているかを割り出すことができ、蛇行グルーブ
１ａの蛇行周波数及び曲率変化箇所３７からの信号によ
り、アドレス情報を容易に再生することができる。
【００９１】以上の説明では、トラッキング信号から蛇
行周波数の信号成分を取り出しているが、光ディスクか
らの反射光の光量変化から蛇行周波数の信号成分を取り
出してもよい。即ち、蛇行グルーブ１ａがサブビームス
ポットの中央部にある場合と、外縁部にある場合とで反
射光の光量が変化するので、その光量変化を取り出せ
ば、蛇行周波数の信号成分を得ることができる。
【００９２】通常の蛇行量よりも大きく蛇行している箇
所３７は、ここでは、”０、１、０、１、・・・”の場
合を示したが、”１、２、１、２、・・・”でもよく、
さらには、すべてのトラックに対し、”０、１、２、
３、・・・”とトラック番号が形成されていてもよい。
【００９３】なお、ここでは、トラッキング制御用にグ
ルーブ１ａ，２ａを用いる場合について説明したが、も
ちろんランド１ｂ，２ｂを用いてもよい。
【００９４】〔実施の形態９〕本発明の更に他の光ディ
スク及び光ディスクの再生方法の実施の形態について図
２４に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【００９５】本実施の形態に用いられる光ディスク基板
５は、透光性のあるガラスやプラスチック材料からな
り、蛇行しているトラッキング用の蛇行グルーブ（請求
項における第１の部分）１ａと、蛇行していないトラッ
キング用の通常グルーブ（請求項における第２の部分）
２ａとが、ディスク半径方向に交互に設けられている。
また、ディスク周方向においては切替部３において隣接
して設けられている。グルーブは螺旋状に形成され、蛇
行グルーブ１ａ，通常グルーブ２ａ間のエリアはランド
と呼ばれる。グルーブ深さは、光ディスク基板５の屈折
率をｎとした場合、λ／８ｎ近傍に設定される。
【００９６】さらに、図２４に示すような第１の部分の
みがディスクの半径方向に隣接して形成されている全ト
ラック蛇行領域３８（請求項９における絶対アドレス識
別部）が形成されている。
【００９７】蛇行グルーブ１ａは、アドレス情報に応じ
てディスクの半径方向に蛇行しており、その蛇行周波数
は、トラッキングサーボ系の追従周波数よりも高く、記
録周波数よりも低い周波数に設定されている。
【００９８】このような光ディスクにおいて情報を記録
する場合は、ランドに対して行われる。トラッキング信
号は、例えばプッシュプル法によって得られる。アドレ
ス情報はトラック信号から蛇行グルーブ１ａの蛇行周波
数の成分を取り出すことによって求められる。
【００９９】即ち、メインビームスポット４をランドに
追従させると、蛇行周波数がトラッキング系の追従周波
数よりも高いので、メインビームスポット４は、ランド
の平均幅のほぼ中心線上をトラッキングする。このた
め、蛇行グルーブ１ａの蛇行振幅に対応したトラッキン
グ誤差信号を取り出せば、蛇行周波数の信号成分が得ら
れる。
【０１００】また、蛇行グルーブ１ａのみがディスクの
半径方向に隣接するように設けられている領域３８にメ
インビームスポット４が到達すると、そこから得られる
蛇行周波数は隣接する２つのトラッキングガイドの蛇行
周波数が混合されたものとなる。したがって、その蛇行
周波数から、メインビームスポット４がどのトラックを
走査しているかを容易に求めることが可能である。
【０１０１】以上の説明では、トラッキング信号から蛇
行周波数の信号成分を取り出しているが、光ディスクか
らの反射光の光量変化から蛇行周波数の信号成分を取り
出してもよい。即ち、蛇行グルーブ１ａがサブビームス
ポットの中央部にある場合と、外縁部にある場合とで反
射光の光量が変化するので、その光量変化を取り出せ
ば、蛇行周波数の信号成分を得ることができる。
【０１０２】なお、ここでは、トラッキング制御用にグ
ルーブ１ａ，２ａを用いる場合について説明したが、も
ちろんランド１ｂ，２ｂを用いてもよい。
【０１０３】〔実施の形態１０〕本発明の光ディスク基
板を使用した光ディスクについて図１２に基づいて説明
すれば、以下のとおりである。本実施の形態に用いられ
る光ディスク基板５は、〔実施の形態１〕〜〔実施の形
態９〕に記載の光ディスク基板５と同じ特徴、基板材
料、製造プロセスを有している。
【０１０４】本光ディスクは、図１２に示すように、光
ディスク基板５上に、光磁気記録層２８ａとオーバーコ
ート層２９とを順次形成した構成になっている。光磁気
記録層２８ａは、図示していないが、透光性を有する誘
電体層と、磁性層と、保護層と、反射層から構成されて
おり、磁性層は、例えば、ＤｙＦｅＣｏ，ＴｂＦｅＣ
ｏ，ＤｙＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦｅ，ＧｄＴｂＦｅＣ
ｏなどの希土類金属−遷移金属合金からなっている。
【０１０５】磁性層は、室温からキュリー点まで垂直磁
化となる特性を示す。
【０１０６】上記の構成において記録を行う場合、レー
ザー光を照射して磁性層の温度をキュリー点近傍まで昇
温し、磁性層の磁化がゼロもしくは記録磁界で反転する
ような状態にし、例えば、上向きの記録磁界を印加する
ことにより、磁性層の磁化を上向きに揃え、その後、同
じくレーザー光を照射して磁性層の温度をキュリー点近
傍まで昇温し、磁性層の磁化がゼロもしくは記録磁界で
反転するような状態にし、（反対向きの）下向きの記録
磁界を印加することにより、磁性層の磁化を下向きに揃
えることにより記録を行う。
【０１０７】実際には、レーザー光を変調する光変調記
録方法と記録磁界を変調する磁界変調記録方法がある。
【０１０８】これにより、１００万回以上書き換えが可
能な光ディスクである光磁気ディスクとなる。
【０１０９】〔実施の形態１１〕本発明の光ディスク基
板を使用した光ディスクの他の実施の形態について図１
３に基づいて説明すれば、以下のとおりである。本実施
の形態に用いられる光ディスク基板５は、〔実施の形態
１〕〜〔実施の形態９〕の光ディスク基板５と同じ特
徴、基板材料、製造プロセスを有している。
【０１１０】本光ディスクは、図１３に示すように、光
ディスク基板５上に、相変化型記録層２８ｂとオーバー
コート層２９とを順次形成した構成になっている。相変
化型記録層２８ｂは、図示していないが、透光性を有す
る誘電体層と、記録層と、保護層と、反射層から構成さ
れており、記録層は、例えば、ＧｅＳｂＴｅなどの相変
化型記録材料からなっている。
【０１１１】上記の構成において記録を行う場合、高パ
ワーレーザー光を照射して記録層を非晶質状態にし、低
パワーレーザー光を照射して記録層を結晶質状態にする
ことにより記録を行う。
【０１１２】これにより、レーザー光のみで書き換えが
可能な光ディスクである相変化型光ディスクとなる。
【０１１３】〔実施の形態１２〕本発明の光ディスク基
板を使用した更に他の光ディスクの実施の形態について
図１４に基づいて説明すれば、以下のとおりである。本
実施の形態に用いられる光ディスク基板５は、〔実施の
形態１〕〜〔実施の形態９〕の光ディスク基板５と同じ
特徴、基板材料、製造プロセスを有している。
【０１１４】本実施の形態の光ディスクは、図１４に示
すように、光ディスク基板５上に、光磁気記録層２８ｃ
とオーバーコート層２９とを順次形成した構成になって
いる。光磁気記録層２８ｃは、図示していないが、透光
性を有する誘電体層と、再生磁性層と、記録磁性層と、
誘電体層から構成されており、再生磁性層は、例えば、
ＧｄＦｅＣｏ，ＧｄＤｙＦｅＣｏなどの希土類金属−遷
移金属合金、記録磁性層は、例えば、ＤｙＦｅＣｏ，Ｔ
ｂＦｅＣｏ，ＤｙＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦｅ，ＧｄＴ
ｂＦｅＣｏなどの希土類金属−遷移金属合金からなって
いる。
【０１１５】再生磁性層は、室温から所定温度まで面内
磁化となり、所定温度から垂直磁化となる特性を示し、
記録磁性層は、室温からキュリー点まで垂直磁化となる
特性を示す。
【０１１６】上記の構成において記録を行う場合は〔実
施の形態１０〕と同じであり、再生は次のように行われ
る。再生磁性層に光ビームが照射されると、照射された
部位の温度分布はガウス分布になるので、光ビームの径
より小さい領域のみの温度が上昇する。この温度上昇に
伴って、温度上昇部位の磁化は、面内磁化から垂直磁化
に移行する。つまり、再生磁性層と記録磁性層の２層間
の交換結合により、記録磁性層の磁化の向きが再生磁性
層に転写される。
【０１１７】温度上昇部位が面内磁化から垂直磁化に移
行すると、温度上昇部位のみが磁気光学効果を示すよう
になり、温度上昇部位からの反射光に基づいて記録磁性
層に記録された情報が再生される。
【０１１８】そして、光ビームが移動して次の記録ビッ
トを再生するときは、先の再生部位の温度は低下し、垂
直磁化から面内磁化に移行する。これに伴って、この温
度の低下した部位は磁気光学効果を示さなくなり、記録
磁性層に記録された磁化は再生磁性層の面内磁化にマス
クされて再生されなくなる。これにより、雑音の原因で
ある隣接ビットからの信号が混入することがなくなる。
【０１１９】以上のように、所定温度以上の温度を有す
る領域のみを再生に関与させるので、光ビームの径より
小さい記録ビットの再生が行え、記録密度は著しく向上
することになる。
【０１２０】〔実施の形態１３〕本発明の光ディスク基
板を用いた光ディスクの更に他の実施の形態について図
１４に基づいて説明すれば、以下のとおりである。本実
施の形態に用いられる光ディスク基板５は、〔実施の形
態１〕〜〔実施の形態９〕の光ディスク基板５と同じ特
徴、基板材料、製造プロセスを有している。
【０１２１】本光ディスクは、図１５に示すように、光
ディスク基板５上に、光磁気記録層２８ｄとオーバーコ
ート層２９とを順次形成した構成になっている。光磁気
記録層２８ｄは、図示していないが、透光性を有する誘
電体層と、再生磁性層と、誘電体層と、記録磁性層と、
誘電体層から構成されており、再生磁性層は、例えば、
ＧｄＦｅＣｏ，ＧｄＤｙＦｅＣｏなどの希土類金属−遷
移金属合金、記録磁性層は、例えば、ＤｙＦｅＣｏ，Ｔ
ｂＦｅＣｏ，ＤｙＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦｅ，ＧｄＴ
ｂＦｅＣｏなどの希土類金属−遷移金属合金からなって
いる。
【０１２２】再生磁性層は、室温から所定温度まで面内
磁化となり、所定温度から垂直磁化となる特性を示し、
記録磁性層は、室温からキュリー点まで垂直磁化となる
特性を示す。
【０１２３】上記の構成において記録、再生を行う場合
は〔実施の形態１２〕と同じである。
【０１２４】本実施の形態の場合は、再生磁性層と記録
磁性層との間に、誘電体層が存在するので、光ビームの
径より小さい記録ビットの再生が行え、記録密度は著し
く向上することに加え、記録磁界を減少させることが可
能になる。
【０１２５】〔実施の形態１４〕本発明の光ディスク基
板を用いた更に他の実施の形態について図１６に基づい
て説明すれば、以下のとおりである。本実施の形態に用
いられる光ディスク基板５は、〔実施の形態１〕〜〔実
施の形態９〕の光ディスク基板５と同じ特徴、基板材
料、製造プロセスを有している。
【０１２６】本実施の形態の光ディスクは、図１６に示
すように、光ディスク基板５上に、光磁気記録層２８ｅ
とオーバーコート層２９とを順次形成した構成になって
いる。光磁気記録層２８ｅは、図示していないが、透光
性を有する誘電体層と、記録磁性層と、記録補助磁性層
と、誘電体層から構成されており、記録磁性層は、例え
ば、ＤｙＦｅＣｏ，ＴｂＦｅＣｏ，ＤｙＴｂＦｅＣｏ，
ＧｄＴｂＦｅ，ＧｄＴｂＦｅＣｏなどの希土類金属−遷
移金属合金、記録補助磁性層は、例えば、ＧｄＦｅＣ
ｏ，ＧｄＤｙＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦｅＣｏなどの希土類
金属−遷移金属合金からなっている。記録磁性層、記録
補助磁性層の磁気特性の関係は、室温での保磁力は、記
録磁性層のほうが大きく、キュリー温度は、記録補助磁
性層の方が高くなっている。
【０１２７】ここで、オーバーライトの手順について簡
単に説明する。初期化においては、記録磁性層の保磁力
より小さく、記録補助磁性層の保磁力よりも大きい、初
期化磁場を印加することにより、記録補助磁性層の磁化
のみを一方向（例えば、上向き）に揃える。なお、初期
化は常時、あるいは、記録時のみ行われる。 記録は、
記録磁場を印加しながら、ハイパワーとローパワーに強
度変調されたレーザ光を照射することにより行う。
【０１２８】ハイパワーのレーザ光が照射されると、記
録補助磁性層のキュリー点付近またはそれ以上となる温
度まで昇温し、ローパワーのレーザ光が照射されると、
記録磁性層のキュリー点付近またはそれ以上となる温度
まで昇温するように、ハイパワーおよびローパワーは設
定されている。
【０１２９】従って、ハイパワーのレーザ光が照射され
ると、記録補助磁性層の磁化は記録磁場により、初期化
の向きと反対（例えば、下向き）に反転し、記録磁性層
の磁化は冷却の過程で界面に作用する交換力により記録
補助磁性層の向きと一致する。従って、記録磁性層の向
きは上向きとなる。
【０１３０】一方、ローパワーのレーザ光が照射されて
も、記録補助磁性層の磁化は、記録磁場により反転する
ことはない。記録磁性層の磁化は、上記と同様に、冷却
の過程で界面に作用する交換力により記録補助磁性層の
磁化の向きと一致する。従って、記録磁性層の磁化の向
きは、下向きとなる。
【０１３１】なお、上記記録磁場は初期化磁場よりかな
り小さく設定されている。また、再生時のレーザ光の強
度は、記録時のローパワーよりもかなり小さいレベルに
設定されている。本実施の形態の場合は、光変調オーバ
ーライト可能で、消去動作が不要となり、記録速度が向
上する。
【０１３２】〔実施の形態１５〕本発明の光ディスクの
実施の形態について図１７に基づいて説明すれば、以下
のとおりである。本実施の形態に用いられる光ディスク
基板５は、〔実施の形態１〕〜〔実施の形態９〕の光デ
ィスク基板５と同じ特徴、基板材料、製造プロセスを有
している。
【０１３３】本実施の形態の光ディスクは、図１７に示
すように、光ディスク基板５上に、光磁気記録層２８ｆ
とオーバーコート層２９とを順次形成した構成になって
いる。光磁気記録層２８ｆは、図示していないが、透光
性を有する誘電体層と、記録磁性層と、記録補助磁性
層、スイッチング磁性層と、初期化磁性層と、誘電体層
から構成されており、記録磁性層は、例えば、ＤｙＦｅ
Ｃｏ，ＴｂＦｅＣｏ，ＤｙＴｂＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦ
ｅ，ＧｄＴｂＦｅＣｏなどの希土類金属−遷移金属合
金、記録補助磁性層は、例えば、ＧｄＦｅＣｏ，ＧｄＤ
ｙＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦｅＣｏなどの希土類金属−遷移
金属合金、スイッチング磁性層は、例えば、ＤｙＦｅＣ
ｏ，ＴｂＦｅＣｏ，ＤｙＴｂＦｅ，ＤｙＦｅ，ＴｂＦｅ
などの希土類金属−遷移金属合金、記録補助磁性層は、
例えば、ＧｄＦｅＣｏ，ＧｄＤｙＦｅＣｏ，ＧｄＴｂＦ
ｅＣｏなどの希土類金属−遷移金属合金からなってい
る。記録磁性層、記録補助磁性層、スイッチング磁性
層、初期化磁性層の磁気特性の関係は、室温での保磁力
は、記録磁性層、初期化磁性層が、記録補助磁性層より
大きく、キュリー温度は、初期化磁性層、記録補助磁性
層、記録磁性層、スイッチング磁性層の順で高くなって
いる。
【０１３４】ここで、交換結合４層膜を利用し、Ｈｉを
無くした光変調オーバーライト媒体を用いた光変調オー
バーライトの手順につき簡単に説明する。
【０１３５】室温においては、記録磁性層の磁化の向き
が上向きか下向きであるかにより情報が記録されてい
る。また、初期化磁性層の磁化は常に一方向（例えば、
上向き）に揃えられており、記録補助磁性層の磁化はス
イッチング磁性層を通して初期化磁性層の磁化と同じ方
向に揃えられている。
【０１３６】記録は、記録磁場を印加しながら、ハイパ
ワーとローパワーに強度変調されたレーザ光を照射する
ことにより行う。
【０１３７】ハイパワー、ローパワーは、ハイパワーの
レーザ光が照射されると、媒体は記録補助磁性層のキュ
リー点付近となる温度まで昇温し、ローパワーのレーザ
光が照射されると、記録磁性層のキュリー点付近となる
温度まで昇温するように設定されている。
【０１３８】従って、ハイパワーのレーザ光が照射され
ると、記録補助磁性層の磁化は、記録磁場により下向き
に反転し、冷却の過程で界面に作用する交換力により、
記録磁性層に転写され、さらに冷却されると、記録補助
磁性層の磁化は、スイッチング磁性層を通して初期化磁
性層の磁化と同じ方向に揃えらる。従って、記録磁性層
の磁化の向きが下向きの状態になる。
【０１３９】一方、ローパワーのレーザ光が照射される
と、記録補助磁性層の磁化は、その保磁力が記録磁場よ
り大きいため、記録磁場により反転することはなく、記
録磁性層の磁化は、上記と同様に、冷却の過程で界面に
作用する交換力により記録補助磁性層の磁化の向きと一
致する。従って、従って、記録磁性層の磁化の向きが上
向きの状態になる。
【０１４０】なお、再生時のレーザパワーは、記録時の
ローパワーよりもかなり小さいレベルに設定されてい
る。
【０１４１】本実施の形態の場合は、光変調オーバーラ
イト可能で、消去動作が不要となり、記録速度が向上す
るうえに、初期化磁界が不要となる。
【０１４２】さらに、〔実施の形態１４〕、〔実施の形
態１５〕についても、記録磁性層の再生側に、〔実施の
形態１２〕、〔実施の形態１３〕のような再生磁性層を
設けることが可能であり、その場合、光変調オーバーラ
イト可能で、消去動作が不要となり、記録速度が向上す
るうえに、光ビームの径より小さい記録ビットの再生が
行え、記録密度は著しく向上する。
【０１４３】尚、〔実施の形態１０〕〜〔実施の形態１
５〕は、記録層についての実施の形態であるが、光によ
る記録再生が可能な記録層であれば、この限りではな
い。
【０１４４】
【発明の効果】以上のように、本発明の光ディスク基板
は、アドレス情報に応じて蛇行している蛇行グルーブ
（または蛇行ランド）と、蛇行していない通常グルーブ
（または通常ランド）とを有し、その蛇行グルーブ（ま
たは蛇行ランド）と通常グルーブ（または通常ランド）
とがディスクの半径方向に隣接しているため、１本のレ
ーザー光による製造が可能となり、光利用効率の向上、
光学系の簡素化という効果を奏する。また、光ディスク
に高密度に情報を記録するためにトラックピッチが小さ
くなった場合でも、アドレス情報を正確に読むことが可
能となる。
【０１４５】また、ディスクの周方向において、蛇行グ
ルーブ（または蛇行ランド）と通常グルーブ（または通
常ランド）とを隣接することにより、より正確に特定の
トラックを指定することが可能となる。
【０１４６】更に、レーザー光を半径方向に振動させる
モードと、振動させないモードを切り替えながら、１本
のレーザ光をガラス基板に塗布したフォトレジスト上に
照射することにより、蛇行グルーブ（または蛇行ラン
ド）と通常グルーブ（または通常ランド）を形成するた
め、廉価な光ディスク基板を大量に製造することができ
る。
【０１４７】また、凹凸ピットを設けたり、曲率の異な
る蛇行部を設けたり、トラッキングガイドの互いに隣接
する一部分をすべて蛇行部としたりすることで、再生時
に光ビームがどの部分（トラック）を走査しているかを
判断することができ、正確なアドレス情報を得ることが
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１の光ディスク基板の概略の構成を
示す模式図である。
【図２】図１の光ディスク基板の概略の拡大構成を示す
模式図である。
【図３】図１，２の光ディスク基板の概略の拡大断面図
を示す模式図である。
【図４】実施の形態３の光ディスク基板の概略の構成を
示す模式図である。
【図５】図４の光ディスク基板の概略の拡大構成を示す
模式図である。
【図６】図４，５の光ディスク基板の概略の拡大断面図
を示す模式図である。
【図７】実施の形態４の光ディスク基板の概略の構成を
示す模式図である。
【図８】実施の形態５の光ディスク基板の概略の構成を
示す模式図である。
【図９】本発明の光ディスク基板の製造プロセスを説明
する図である。
【図１０】本発明の光ディスク基板の他の製造プロセス
を説明する図である。
【図１１】本発明の光ディスク基板を製造する装置を説
明する図である。
【図１２】本発明の光ディスク基板を使用した光ディス
クの一構成を示す断面図である。
【図１３】本発明の光ディスク基板を使用した光ディス
クの他の構成を示す断面図である。
【図１４】本発明の光ディスク基板を使用した光ディス
クの更に他の構成を示す断面図である。
【図１５】本発明の光ディスク基板を使用した光ディス
クの更に他の構成を示す断面図である。
【図１６】本発明の光ディスク基板を使用した光ディス
クの更に他の構成を示す断面図である。
【図１７】本発明の光ディスク基板を使用した光ディス
クの更に他の構成を示す断面図である。
【図１８】実施の形態６の光ディスク基板の概略の拡大
構成を示す模式図である。
【図１９】図１８の光ディスク基板の概略の構成を示す
断面図である。
【図２０】実施の形態７の光ディスク基板の概略の拡大
構成を示す模式図である。
【図２１】図２０の光ディスク基板の概略の構成を示す
断面図である。
【図２２】実施の形態８の光ディスク基板の概略の拡大
構成を示す模式図である。
【図２３】実施の形態８の光ディスク基板の他の概略の
拡大構成を示す模式図である。
【図２４】実施の形態９の光ディスク基板の概略の拡大
構成を示す模式図である。
【図２５】従来の光ディスク基板の概略の構成を示す断
面模式図である。
【符号の説明】
１ａ 蛇行グルーブ １ｂ 蛇行ランド ２ａ 通常グルーブ ２ｂ 通常ランド ３ 切替部 ４ 光スポット ５ ディスク基板 ６ フォトレジスト ３６ 凹凸ピット ３７ 曲率変化箇所 ３８ 全ガイド蛇行領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 善照 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 高橋 明 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 グルーブあるいはランドからなるトラッ
    キング制御用のトラッキングガイドを有してなる光ディ
    スク基板において、 前記トラッキングガイドは、アドレス情報に応じて蛇行
    している第１の部分と、蛇行していない第２の部分とを
    有してなり、 前記第１の部分と前記第２の部分は、ディスクの半径方
    向に交互に設けられてなることを特徴とする光ディスク
    基板。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の光ディスク基板におい
    て、 前記トラッキングガイドは、一定幅で形成されてなるこ
    とを特徴とする光ディスク基板。
  3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の光ディ
    スク基板において、 前記トラッキングガイドは、螺旋状に連続的に形成され
    ており、ディスク一周当たり、合わせて奇数個の、互い
    にディスクの周方向に隣接した前記第１の部分と前記第
    ２の部分とを有してなることを特徴とする光ディスク基
    板。
  4. 【請求項４】 請求項１または請求項２に記載の光ディ
    スク基板において、 前記トラッキングガイドは、同心円状に形成されてお
    り、ディスク一周当たり、合わせて偶数個の、互いにデ
    ィスクの周方向に隣接した前記第１の部分と前記第２の
    部分とを有してなることを特徴とする光ディスク基板。
  5. 【請求項５】 アドレス情報に応じて蛇行している第１
    の部分と蛇行していない第２の部分とが互いにディスク
    の半径方向に隣接して形成された、グルーブあるいはラ
    ンドからなるトラッキングガイドを具備してなる光ディ
    スク基板の製造方法であって、 レーザ光をディスクの半径方向に振動させる第１のモー
    ドと、振動させない第２のモードと、を切り替えなが
    ら、１本のレーザ光をガラス基板に塗布したフォトレジ
    スト上に照射することにより、前記第１の部分と前記第
    ２の部分に対応するパターンを形成することを特徴とす
    る光ディスク基板の製造方法。
  6. 【請求項６】 請求項５に記載の光ディスクの製造方法
    において、 前記トラッキングガイドを螺旋状に連続的に形成するこ
    とを特徴とする光ディスクの製造方法。
  7. 【請求項７】 請求項１乃至請求項４のいずれかに記載
    の光ディスク基板において、 ディスクの半径方向に隣り合う２つのトラッキングガイ
    ドの間のガイド間記録領域に、凹凸ピットからなる絶対
    アドレス識別部を有してなることを特徴とする光ディス
    ク基板。
  8. 【請求項８】 請求項１乃至請求項４のいずれかに記載
    の光ディスク基板において、 前記第１の部分あるいは前記第２の部分の少なくとも一
    方に、ディスク周方向に連続する両側の部分とは曲率の
    異なる絶対アドレス識別部が形成されてなることを特徴
    とする光ディスク基板。
  9. 【請求項９】 請求項１乃至請求項４のいずれかに記載
    の光ディスク基板において、 前記トラッキングガイドは、ディスク半径方向に互いに
    隣接する部分がすべて前記第１の部分からなる絶対アド
    レス識別部を有してなることを特徴とする光ディスク基
    板。
  10. 【請求項１０】 請求項１乃至請求項９のいずれかに記
    載の光ディスク基板上に、少なくとも記録層が形成され
    てなることを特徴とする光ディスク。
  11. 【請求項１１】 請求項７乃至請求項９のいずれかに記
    載の光ディスク基板上に、少なくとも記録層が形成され
    てなる光ディスクの再生方法であって、 前記絶対アドレス識別部からの信号、及び、前記第１の
    部分からの信号に基づいて、アドレス情報を再生するこ
    とを特徴とする光ディスクの再生方法。
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