JPH107646A - アシルオキシスルホン酸エステル誘導体の製造法 - Google Patents
アシルオキシスルホン酸エステル誘導体の製造法Info
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- JPH107646A JPH107646A JP8159818A JP15981896A JPH107646A JP H107646 A JPH107646 A JP H107646A JP 8159818 A JP8159818 A JP 8159818A JP 15981896 A JP15981896 A JP 15981896A JP H107646 A JPH107646 A JP H107646A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 １，２−ジオール化合物をアミンやアルコー
ルなどの求核剤と反応させる合成中間体であるアシルオ
キシスルホン酸エステルへの変換をより効果的に行う。 【解決手段】 ジオール化合物をオルトエステルと反応
させオルトエステル化合物に変換後、スルホン酸で開環
させて効率的に１位にスルホネート基、２位にエステル
基を同時導入しアシルオキシスルホン酸エステル（１）
を得る。 ［Ｘは水素、無置換もしくはフェニル基を置換基とする
Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、無置換もしくはＣ１〜Ｃ４の
アルキル基を置換基とするフェニル基、ハロゲン基、シ
アノ基等、Ｒ１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基、無置換又は
Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、ニトロ基、ハロゲンから選ば
れた基を置換基とするフェニル基、Ｒ３は水素、Ｃ１〜
Ｃ４のアルキル基又は無置換もしくはＣ１〜Ｃ４のアル
キル基を置換基とするフェニル基を表す］
ルなどの求核剤と反応させる合成中間体であるアシルオ
キシスルホン酸エステルへの変換をより効果的に行う。 【解決手段】 ジオール化合物をオルトエステルと反応
させオルトエステル化合物に変換後、スルホン酸で開環
させて効率的に１位にスルホネート基、２位にエステル
基を同時導入しアシルオキシスルホン酸エステル（１）
を得る。 ［Ｘは水素、無置換もしくはフェニル基を置換基とする
Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、無置換もしくはＣ１〜Ｃ４の
アルキル基を置換基とするフェニル基、ハロゲン基、シ
アノ基等、Ｒ１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基、無置換又は
Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基、ニトロ基、ハロゲンから選ば
れた基を置換基とするフェニル基、Ｒ３は水素、Ｃ１〜
Ｃ４のアルキル基又は無置換もしくはＣ１〜Ｃ４のアル
キル基を置換基とするフェニル基を表す］
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は１，２−ジオール化
合物から医薬、農薬において重要な中間体であるアシル
オキシスルホン酸エステルの製造法に関するものであ
る。
合物から医薬、農薬において重要な中間体であるアシル
オキシスルホン酸エステルの製造法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】１，２−ジオール化合物は工業的に入手
容易なうえに、最近では光学活性な化合物も入手可能と
なり、その重要性がますます増加している。しかしなが
ら、１，２−ジオール化合物は、アミンやアルコールな
どの求核剤との反応では不活性なためこれらと反応させ
るためには、より有用な合成中間体に変換させる必要が
ある。従来、この変換方法としては、次のようなものが
知られている。即ち、ジオール化合物の水酸基の一方に
スルホン酸クロライドと反応させてトシル化した後、残
る水酸基をアセチル化する方法（特公昭５７−１６５３
５２号）、ジオール化合物を４５％ｗ／ｖ臭化水素／酢
酸で処理して末端の水酸基を臭素化し残る水酸基をアセ
チル化する方法（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，６３，１４
０）、ジオール化合物を塩化チオニルを使用し環状サル
フェートとすることで反応性を上げる方法（Ｊ．Ａｍ．
Ｃｅｍ．Ｓｏｃ．１９８８，１１０，７５３８）、ジブ
チル錫ジメトキシドを用いてジオール化合物の選択的ア
シル化、アルキル化する方法（ＳＹＮＬＥＴＴ，１９９
３，９１３）等が挙げられる。ジオール化合物を、オル
ト酢酸メチル処理した後、トリメチルシリルクロライド
や、アセチルブロマイド等と反応させてハロゲノアシル
オキシ化合物を得る方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖ
ｏｌ．４８，Ｎｏ．４８，ｐｐ１０５１５−１０５３
０，１９９２）、またジオール体にフェニルアルデヒド
を反応して環化、これをＮ−ブロモスクシンイミドで開
く反応（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ
ｕｎ．，１９８８，１００４）等が挙げられる。
容易なうえに、最近では光学活性な化合物も入手可能と
なり、その重要性がますます増加している。しかしなが
ら、１，２−ジオール化合物は、アミンやアルコールな
どの求核剤との反応では不活性なためこれらと反応させ
るためには、より有用な合成中間体に変換させる必要が
ある。従来、この変換方法としては、次のようなものが
知られている。即ち、ジオール化合物の水酸基の一方に
スルホン酸クロライドと反応させてトシル化した後、残
る水酸基をアセチル化する方法（特公昭５７−１６５３
５２号）、ジオール化合物を４５％ｗ／ｖ臭化水素／酢
酸で処理して末端の水酸基を臭素化し残る水酸基をアセ
チル化する方法（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，６３，１４
０）、ジオール化合物を塩化チオニルを使用し環状サル
フェートとすることで反応性を上げる方法（Ｊ．Ａｍ．
Ｃｅｍ．Ｓｏｃ．１９８８，１１０，７５３８）、ジブ
チル錫ジメトキシドを用いてジオール化合物の選択的ア
シル化、アルキル化する方法（ＳＹＮＬＥＴＴ，１９９
３，９１３）等が挙げられる。ジオール化合物を、オル
ト酢酸メチル処理した後、トリメチルシリルクロライド
や、アセチルブロマイド等と反応させてハロゲノアシル
オキシ化合物を得る方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖ
ｏｌ．４８，Ｎｏ．４８，ｐｐ１０５１５−１０５３
０，１９９２）、またジオール体にフェニルアルデヒド
を反応して環化、これをＮ−ブロモスクシンイミドで開
く反応（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ
ｕｎ．，１９８８，１００４）等が挙げられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の合成法には工業的に次のような問題点がある。即ち、
ジオール化合物の水酸基の一方をトシル化した後、残る
水酸基をアセチル化する方法では、トシル化の選択性が
悪いうえに、一度モノトシル体を単離した後にアセチル
化せねばならず効率的でない、ジオール化合物を４５％
ｗ／ｖ臭化水素／酢酸で処理して末端の水酸基を臭素化
し残る水酸基をアセチル化する方法では、強い酸性条件
化での反応であるので酸に弱い基質については使用でき
ない、ジオール化合物を塩化チオニルを使用し環状サル
フェートとすることで反応性を上げる方法では、酸化の
際に加水分解が起こり収率が下がる場合や、基質にアミ
ンを含むものには使用できない、ジブチル錫ジメトキシ
ドを用いてジオール化合物の選択的アシル化、アルキル
化する方法では、等量のすず化合物を使用する点で高価
であり、実用的でない、ジオール化合物からオルトエス
テルを経る反応で、オルト酢酸メチルを用いトリメチル
シリルクロライド、アセチルブロマイド等で開く反応で
は、オルトエステル体を開環させハロゲン置換はしてい
るものの、ハロゲンよりも結晶性が良く脱離基としてよ
り優れているアルキルスルホネートやフェニルスルホネ
ートとしたものはなかった。また、開環に使用する試薬
が、アセチルブロマイド、トリメチルシリルクロライド
と言った高価なものであることからコストの面で不利と
いえる、ジオール体にフェニルアルデヒドを反応して環
化、これをＮ−ブロモスクシンイミドで開く反応におい
ても、使用する試薬が高価であるため実用的でない。し
たがって、より効果的で、有用な合成中間体への変換方
法が求められていた。
の合成法には工業的に次のような問題点がある。即ち、
ジオール化合物の水酸基の一方をトシル化した後、残る
水酸基をアセチル化する方法では、トシル化の選択性が
悪いうえに、一度モノトシル体を単離した後にアセチル
化せねばならず効率的でない、ジオール化合物を４５％
ｗ／ｖ臭化水素／酢酸で処理して末端の水酸基を臭素化
し残る水酸基をアセチル化する方法では、強い酸性条件
化での反応であるので酸に弱い基質については使用でき
ない、ジオール化合物を塩化チオニルを使用し環状サル
フェートとすることで反応性を上げる方法では、酸化の
際に加水分解が起こり収率が下がる場合や、基質にアミ
ンを含むものには使用できない、ジブチル錫ジメトキシ
ドを用いてジオール化合物の選択的アシル化、アルキル
化する方法では、等量のすず化合物を使用する点で高価
であり、実用的でない、ジオール化合物からオルトエス
テルを経る反応で、オルト酢酸メチルを用いトリメチル
シリルクロライド、アセチルブロマイド等で開く反応で
は、オルトエステル体を開環させハロゲン置換はしてい
るものの、ハロゲンよりも結晶性が良く脱離基としてよ
り優れているアルキルスルホネートやフェニルスルホネ
ートとしたものはなかった。また、開環に使用する試薬
が、アセチルブロマイド、トリメチルシリルクロライド
と言った高価なものであることからコストの面で不利と
いえる、ジオール体にフェニルアルデヒドを反応して環
化、これをＮ−ブロモスクシンイミドで開く反応におい
ても、使用する試薬が高価であるため実用的でない。し
たがって、より効果的で、有用な合成中間体への変換方
法が求められていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】発明者等は従来の技術の
もつ欠点を解決するため鋭意検討を重ねた結果、ジオー
ル化合物をオルトエステル化合物とし、スルホン酸で開
環させることで効率的に、１位にスルホネート基、２位
にエステル基を同時に導入する方法を見いだし本発明を
完成した。
もつ欠点を解決するため鋭意検討を重ねた結果、ジオー
ル化合物をオルトエステル化合物とし、スルホン酸で開
環させることで効率的に、１位にスルホネート基、２位
にエステル基を同時に導入する方法を見いだし本発明を
完成した。
【０００５】本発明は即ち、下記式（１）
【０００６】
【化５】
【０００７】（式中、Ｘは水素、無置換もしくはフェニ
ル基を置換基として有するＣ1〜Ｃ4のアルキル基、無置
換もしくはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を置換基として有する
フェニル基、ハロゲン基、シアノ基、−ＣＯＯＲ2（Ｒ2
は無置換もしくはフェニル基を置換基として有するＣ1
〜Ｃ4のアルキル基）又は−ＯＲ2（Ｒ2は前記に同じ）
を表す。）で表される１，２−ジオール化合物に、酸触
媒存在下、オルトエステルを反応させて、下記式（２）
ル基を置換基として有するＣ1〜Ｃ4のアルキル基、無置
換もしくはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を置換基として有する
フェニル基、ハロゲン基、シアノ基、−ＣＯＯＲ2（Ｒ2
は無置換もしくはフェニル基を置換基として有するＣ1
〜Ｃ4のアルキル基）又は−ＯＲ2（Ｒ2は前記に同じ）
を表す。）で表される１，２−ジオール化合物に、酸触
媒存在下、オルトエステルを反応させて、下記式（２）
【０００８】
【化６】
【０００９】（式中、Ｒ3は水素、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル
基又は無置換もしくはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を置換基と
して有するフェニル基を表し、Ｒ4はＣ1〜Ｃ4のアルキ
ル基を表す）で表されるオルトエステル化合物を生成
後、該エステル化合物に、下記式（３）
基又は無置換もしくはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を置換基と
して有するフェニル基を表し、Ｒ4はＣ1〜Ｃ4のアルキ
ル基を表す）で表されるオルトエステル化合物を生成
後、該エステル化合物に、下記式（３）
【００１０】
【化７】
【００１１】（式中、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基、無
置換又はＣ1〜Ｃ4のアルキル基、ニトロ基、ハロゲンか
ら選ばれた基を置換基として有するフェニル基を表す）
で表されるスルホン酸を反応させる事を特徴とする、下
記式（４）
置換又はＣ1〜Ｃ4のアルキル基、ニトロ基、ハロゲンか
ら選ばれた基を置換基として有するフェニル基を表す）
で表されるスルホン酸を反応させる事を特徴とする、下
記式（４）
【００１２】
【化８】
【００１３】（式中、Ｘ、Ｒ1、Ｒ3は前記に同じ）で表
されるアシルオキシスルホン酸エステルの製法である。
されるアシルオキシスルホン酸エステルの製法である。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の工程を図示し、更に詳細
に説明する。
に説明する。
【００１５】
【化９】
【００１６】上記の１，２−ジオール化合物（１）を無
溶媒又は溶媒中、酸触媒存在下に、オルトエステルと反
応するとオルトエステル化合物（２）が得られる。使用
する１,２−ジオール化合物としては、１，２−プロパ
ンジオール、１，２−ブタンジオール、４−フェニルブ
タン、３−フェニル−１，２−プロパンジオール、３−
クロロ−１,２−プロパンジオール、１，２−ジヒドロ
キシブチロニトリル、１,２−ジヒドロキシブタン酸メ
チルエステル、１,２−ジヒドロキシブタン酸エチルエ
ステル、１,２−ジヒドロキシブタン酸ｎ−ブチルエス
テル、１,２−ジヒドロキシプロパンメチルエーテル、
１,２−ジヒドロキシプロパンエチルエーテル、１，２
−ジヒドロキシプロパンベンジルエーテル等が挙げられ
る。
溶媒又は溶媒中、酸触媒存在下に、オルトエステルと反
応するとオルトエステル化合物（２）が得られる。使用
する１,２−ジオール化合物としては、１，２−プロパ
ンジオール、１，２−ブタンジオール、４−フェニルブ
タン、３−フェニル−１，２−プロパンジオール、３−
クロロ−１,２−プロパンジオール、１，２−ジヒドロ
キシブチロニトリル、１,２−ジヒドロキシブタン酸メ
チルエステル、１,２−ジヒドロキシブタン酸エチルエ
ステル、１,２−ジヒドロキシブタン酸ｎ−ブチルエス
テル、１,２−ジヒドロキシプロパンメチルエーテル、
１,２−ジヒドロキシプロパンエチルエーテル、１，２
−ジヒドロキシプロパンベンジルエーテル等が挙げられ
る。
【００１７】使用する溶媒としては、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジグライム等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶
媒、ならびにこれらの混合溶媒等が挙げられる。
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジグライム等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶
媒、ならびにこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【００１８】使用する酸触媒としては、塩酸、硫酸、燐
酸等の鉱酸、酢酸、安息香酸等の有機酸、メタンスルホ
ン酸、P-トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸、三フ
ッ化ホウ素／エーテル錯体、四塩化錫等のルイス酸が挙
げられる。酸触媒の使用量は、１，２−ジオール化合物
１モルに対して０．０１モル％から１０モル％で、好ま
しくは、０．１モル％から１モル％である。
酸等の鉱酸、酢酸、安息香酸等の有機酸、メタンスルホ
ン酸、P-トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸、三フ
ッ化ホウ素／エーテル錯体、四塩化錫等のルイス酸が挙
げられる。酸触媒の使用量は、１，２−ジオール化合物
１モルに対して０．０１モル％から１０モル％で、好ま
しくは、０．１モル％から１モル％である。
【００１９】使用するオルトエステルは、オルト蟻酸メ
チル、オルト蟻酸エチル、オルト酢酸メチル、オルト酢
酸エチル、オルト安息香酸メチル等が挙げられる。オル
トエステルの使用量は、１，２−ジオール化合物１モル
に対して１モルから３０モルで、好ましくは、１モルか
ら３モルである。過剰に使用しても収率には影響はない
が、経済的に不利である。反応温度は−５０℃から溶媒
の還流温度までで、好ましくは０℃から３０℃である。
チル、オルト蟻酸エチル、オルト酢酸メチル、オルト酢
酸エチル、オルト安息香酸メチル等が挙げられる。オル
トエステルの使用量は、１，２−ジオール化合物１モル
に対して１モルから３０モルで、好ましくは、１モルか
ら３モルである。過剰に使用しても収率には影響はない
が、経済的に不利である。反応温度は−５０℃から溶媒
の還流温度までで、好ましくは０℃から３０℃である。
【００２０】この様にして得られたオルトエステル化合
物（２）の反応溶液から、副成したアルコールを減圧又
は常圧で留去したのち、単離することなく無溶媒又は溶
媒中でスルホン酸を反応させるとアシルオキシスルホン
酸エステル（４）が得られる。
物（２）の反応溶液から、副成したアルコールを減圧又
は常圧で留去したのち、単離することなく無溶媒又は溶
媒中でスルホン酸を反応させるとアシルオキシスルホン
酸エステル（４）が得られる。
【００２１】使用する溶媒としては、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジグライム等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶
媒、ならびにこれらの混合溶媒等が挙げられる。
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジグライム等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系溶
媒、ならびにこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【００２２】使用するスルホン酸としては、メタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸、フェニルスルホン酸、ｐ−
トルエンスルホン酸等のトルエンスルホン酸、ニトロベ
ンゼンスルホン酸、２，４，６−トリクロロベンゼンス
ルホン酸等が挙げられる。スルホン酸の使用量は、１，
２−ジオール化合物１モルに対して１モルから３０モル
で、好ましくは、１モルから３モルである。反応温度は
−５０℃から溶媒の還流温度までで、好ましくは−１０
℃から３０℃である。
ホン酸、エタンスルホン酸、フェニルスルホン酸、ｐ−
トルエンスルホン酸等のトルエンスルホン酸、ニトロベ
ンゼンスルホン酸、２，４，６−トリクロロベンゼンス
ルホン酸等が挙げられる。スルホン酸の使用量は、１，
２−ジオール化合物１モルに対して１モルから３０モル
で、好ましくは、１モルから３モルである。反応温度は
−５０℃から溶媒の還流温度までで、好ましくは−１０
℃から３０℃である。
【００２３】原料として光学活性な１，２−ジオール化
合物を用いる場合は、光学活性なアシルオキシスルホン
酸エステルを合成することができる。例えば、式中のＸ
がハロゲンの場合、Ｓ体の１，２−ジオール化合物を用
いれば、Ｓ体のアシルオキシスルホン酸エステルが得ら
れる。Ｒ体の場合も同様である。光学純度の高い１，２
−ジオール化合物を用いると、反応中顕著なラセミ化反
応は起こらず光学純度の高いアシルオキシスルホン酸エ
ステルを合成することができる。
合物を用いる場合は、光学活性なアシルオキシスルホン
酸エステルを合成することができる。例えば、式中のＸ
がハロゲンの場合、Ｓ体の１，２−ジオール化合物を用
いれば、Ｓ体のアシルオキシスルホン酸エステルが得ら
れる。Ｒ体の場合も同様である。光学純度の高い１，２
−ジオール化合物を用いると、反応中顕著なラセミ化反
応は起こらず光学純度の高いアシルオキシスルホン酸エ
ステルを合成することができる。
【００２４】
【実施例】以下、実施例により、本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
【００２５】実施例１ ３−クロロ−１，２−プロパンジオール ５５．２７ｇ
（０．５ｍｏｌ）、ｐートルエンスルホン酸 ０．２３
８ｇ（１．２５ｍｍｏｌ，０．２５ｍｏｌ％）を塩化メ
チレン ２５０ｍｌ中に溶解し、室温、窒素雰囲気下で
攪拌、そこにオルト酢酸メチル ７７．７２ｇ（０．６
４６ｍｏｌ）の塩化メチレン 溶液５０ｍｌを２０分か
けて滴下し、滴下終了後４時間攪拌した。溶媒を減圧留
去すると、８３．２３ｇ の粗生成物が得られた。この
粗生成物はそのまま次の反応に用いた。上記の反応で得
られたオルトエステル体 ０．３４０ｇ（２．０ｍｍｍ
ｏｌ） を、ｔ−ブチルメチルエーテル ４ｍｌ中に溶
解、そこにｐ−トルエンスルホン酸 ０．３７１ｇ
（２．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１９時間反応し
た。反応終了後、有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液で
処理、水洗後、溶媒を留去、ＨＰＬＣによる定量では収
率７５．２％で１−ｐ−トルエンスルホキシ−２−アセ
トキシ−３−クロロプロパン ０．６７０ｇを得た。
（０．５ｍｏｌ）、ｐートルエンスルホン酸 ０．２３
８ｇ（１．２５ｍｍｏｌ，０．２５ｍｏｌ％）を塩化メ
チレン ２５０ｍｌ中に溶解し、室温、窒素雰囲気下で
攪拌、そこにオルト酢酸メチル ７７．７２ｇ（０．６
４６ｍｏｌ）の塩化メチレン 溶液５０ｍｌを２０分か
けて滴下し、滴下終了後４時間攪拌した。溶媒を減圧留
去すると、８３．２３ｇ の粗生成物が得られた。この
粗生成物はそのまま次の反応に用いた。上記の反応で得
られたオルトエステル体 ０．３４０ｇ（２．０ｍｍｍ
ｏｌ） を、ｔ−ブチルメチルエーテル ４ｍｌ中に溶
解、そこにｐ−トルエンスルホン酸 ０．３７１ｇ
（２．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１９時間反応し
た。反応終了後、有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液で
処理、水洗後、溶媒を留去、ＨＰＬＣによる定量では収
率７５．２％で１−ｐ−トルエンスルホキシ−２−アセ
トキシ−３−クロロプロパン ０．６７０ｇを得た。
【００２６】実施例２ 実施例１と同様の方法で得られたオルトエステル体
０．３４０ｇ（２．０ｍｍｍｏｌ）を、酢酸エチル ４
ｍｌ中に溶解、そこにｐートルエンスルホン酸 ０．３
７１ｇ（２．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１７時間反
応した。反応終了後、有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶
液で処理、水洗後、溶媒を留去、ＨＰＬＣによる定量で
は収率８６．０％で１−ｐ−トルエンスルホキシ−２−
アセトキシ−３−クロロプロパン ０．６５５ｇを得
た。
０．３４０ｇ（２．０ｍｍｍｏｌ）を、酢酸エチル ４
ｍｌ中に溶解、そこにｐートルエンスルホン酸 ０．３
７１ｇ（２．１５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１７時間反
応した。反応終了後、有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶
液で処理、水洗後、溶媒を留去、ＨＰＬＣによる定量で
は収率８６．０％で１−ｐ−トルエンスルホキシ−２−
アセトキシ−３−クロロプロパン ０．６５５ｇを得
た。
【００２７】実施例３ 実施例１と同様の方法で得られたオルトエステル体
３．３４０ｇ（２０ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン ３０
ｍｌ中に溶解し、−１８℃まで冷却。そこにメタンスル
ホン酸 ２．００ｇ（２８ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下
終了後も液温を−１５℃〜−１２℃に保ち８時間反応し
た。反応終了後、有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液で
処理、水洗後、溶媒を留去、ＨＰＬＣによる定量では収
率６６．８％で１−メタンスルホキシ−２−アセトキシ
−３−クロロプロパン ４．８６ｇを得た。
３．３４０ｇ（２０ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン ３０
ｍｌ中に溶解し、−１８℃まで冷却。そこにメタンスル
ホン酸 ２．００ｇ（２８ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下
終了後も液温を−１５℃〜−１２℃に保ち８時間反応し
た。反応終了後、有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液で
処理、水洗後、溶媒を留去、ＨＰＬＣによる定量では収
率６６．８％で１−メタンスルホキシ−２−アセトキシ
−３−クロロプロパン ４．８６ｇを得た。
【００２８】実施例４ ジオール化合物を光学活性なＲ−３−クロロ−１，２，
−プロパンジオール（光学純度９８％ｅｅ）に代えて実
施例１と同様に反応した。反応終了後、有機層を飽和炭
酸ナトリウム水溶液で処理、水洗後、溶媒を留去、収率
７８．２％でＲ−１−ｐ−トルエンスルホキシ−２−ア
セトキシ−３−クロロプロパンを得た。これをメタノー
ル中青酸カリを作用させ、４−クロロ−３−ヒドロキシ
ブチロニトリルに誘導し、ガスクロマトグラフィーによ
り光学純度を測定したところ９８％ｅｅであった。
−プロパンジオール（光学純度９８％ｅｅ）に代えて実
施例１と同様に反応した。反応終了後、有機層を飽和炭
酸ナトリウム水溶液で処理、水洗後、溶媒を留去、収率
７８．２％でＲ−１−ｐ−トルエンスルホキシ−２−ア
セトキシ−３−クロロプロパンを得た。これをメタノー
ル中青酸カリを作用させ、４−クロロ−３−ヒドロキシ
ブチロニトリルに誘導し、ガスクロマトグラフィーによ
り光学純度を測定したところ９８％ｅｅであった。
【００２９】実施例５ ジオール化合物として１，２−ジヒドロキシブタン酸メ
チルエステルを用いた以外は実施例１と同様に反応を行
った。ＨＰＬＣによる定量では収率６５．２％で１−ｐ
−トルエンスルホキシ−２−アセトキシブタン酸エステ
ルを得た。
チルエステルを用いた以外は実施例１と同様に反応を行
った。ＨＰＬＣによる定量では収率６５．２％で１−ｐ
−トルエンスルホキシ−２−アセトキシブタン酸エステ
ルを得た。
【００３０】実施例６ ジオール化合物として１，２−ジヒドロキシプロパンエ
チルエーテルを用いた以外は実施例１と同様に反応を行
った。ＨＰＬＣによる定量では収率６７．４％で１−ｐ
−トルエンスルホキシ−２−アセトキシプロパンエチル
エーテルを得た。
チルエーテルを用いた以外は実施例１と同様に反応を行
った。ＨＰＬＣによる定量では収率６７．４％で１−ｐ
−トルエンスルホキシ−２−アセトキシプロパンエチル
エーテルを得た。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、１，２−ジオール化合
物をアミンやアルコールなどの求核剤と反応させるため
のより有用な合成中間体への変換を、より効果的に実施
することができる。また、高光学純度の１，２−ジオー
ル化合物を用いると、反応中顕著なラセミ化反応を起こ
すことなく高光学純度のアシルオキシスルホン酸エステ
ルの合成ができる。本反応は２段階であるがワンポット
で行え、しかもハロゲンよりも脱離能の高いスルホネー
トをより安価な原料で導入することができるという利点
を有する。
物をアミンやアルコールなどの求核剤と反応させるため
のより有用な合成中間体への変換を、より効果的に実施
することができる。また、高光学純度の１，２−ジオー
ル化合物を用いると、反応中顕著なラセミ化反応を起こ
すことなく高光学純度のアシルオキシスルホン酸エステ
ルの合成ができる。本反応は２段階であるがワンポット
で行え、しかもハロゲンよりも脱離能の高いスルホネー
トをより安価な原料で導入することができるという利点
を有する。
Claims (4)
- 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 （１）（式中、Ｘは水素、無置換もしくはフェニル基を
置換基として有するＣ1〜Ｃ4のアルキル基、無置換もし
くはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を置換基として有するフェニ
ル基、ハロゲン基、シアノ基、−ＣＯＯＲ2（Ｒ2は無置
換もしくはフェニル基を置換基として有するＣ1〜Ｃ4の
アルキル基）又は−ＯＲ2（Ｒ2は前記に同じ）を表
す。）で表される１，２−ジオール化合物に、酸触媒存
在下、オルトエステルを反応させて、下記式（２） 【化２】 （２）（式中、Ｒ3は水素、Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基又は
無置換もしくはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を置換基として有
するフェニル基を表し、Ｒ4はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を
表す）で表されるオルトエステル化合物を生成後、該エ
ステル化合物に、下記式（３） 【化３】 （３）（式中、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基、無置換又
はＣ1〜Ｃ4のアルキル基、ニトロ基、ハロゲンから選ば
れた基を置換基として有するフェニル基を表す）で表さ
れるスルホン酸を反応させる事を特徴とする、下記式
（４） 【化４】 （４）（式中、Ｘ、Ｒ1、Ｒ3は前記に同じ）で表される
アシルオキシスルホン酸エステルの製法。 - 【請求項２】 式（４）、式（２）中の、Ｒ3がメチル
基である請求項１に記載のアシルオキシスルホン酸エス
テルの製法。 - 【請求項３】 式（４）中の、Ｒ1がメチル基又はｐ−
トルイル基である請求項１又は２に記載のアシルオキシ
スルホン酸エステルの製法。 - 【請求項４】 １，２−ジオール化合物が光学活性体で
ある請求項１〜３のいずれかに記載の光学活性アシルオ
キシスルホン酸エステルの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15981896A JP3744060B2 (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | アシルオキシスルホン酸エステル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15981896A JP3744060B2 (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | アシルオキシスルホン酸エステル誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH107646A true JPH107646A (ja) | 1998-01-13 |
| JP3744060B2 JP3744060B2 (ja) | 2006-02-08 |
Family
ID=15701926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15981896A Expired - Fee Related JP3744060B2 (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | アシルオキシスルホン酸エステル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3744060B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57192325A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-26 | Syntex Pharma Int | Manufacture of alpha-arylalkanoic acids and precurcors therefor |
| JPS58135833A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-08-12 | シンテツクス・フア−マシユ−テイカルズ・インタ−ナシヨナル・リミテツド | 光学活性化合物の製造法 |
-
1996
- 1996-06-20 JP JP15981896A patent/JP3744060B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57192325A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-26 | Syntex Pharma Int | Manufacture of alpha-arylalkanoic acids and precurcors therefor |
| JPS58135833A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-08-12 | シンテツクス・フア−マシユ−テイカルズ・インタ−ナシヨナル・リミテツド | 光学活性化合物の製造法 |
| JPH02262533A (ja) * | 1981-12-11 | 1990-10-25 | Syntex Pharmceut Internatl Ltd | 光学活性ケトン |
| JPH02262532A (ja) * | 1981-12-11 | 1990-10-25 | Syntex Pharmceut Internatl Ltd | 光学活性ケタール |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3744060B2 (ja) | 2006-02-08 |
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