JPH1079499A - 受光素子およびこれを用いたイメージセンサ - Google Patents
受光素子およびこれを用いたイメージセンサInfo
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- JPH1079499A JPH1079499A JP8235377A JP23537796A JPH1079499A JP H1079499 A JPH1079499 A JP H1079499A JP 8235377 A JP8235377 A JP 8235377A JP 23537796 A JP23537796 A JP 23537796A JP H1079499 A JPH1079499 A JP H1079499A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、複数の波長帯を受光する受光素子
と、その受光素子を複数配列したイメージセンサとに関
し、種々の使用環境や広範囲の波長帯にわたって、良好
な検出性能を得ることを目的とする。 【解決手段】 半導体基板(11)上に形成され、第1
の波長帯の光を検知する第1の受光部(15)と、第1
の受光部の上方に空隙Sを隔てて支持され、かつ第2の
波長帯の光を検知する第2の受光部(22)とを備えて
受光素子を構成する。また、第2の受光部は、第1の受
光部と対向する側に、第1の受光部を透過した光の少な
くとも一部を反射する反射膜(24)を備えて構成す
る。さらに、上記の受光素子を線状もしくは面状に配置
して撮像部を構成し、画像読み出し部を付設してイメー
ジセンサを構成する。
と、その受光素子を複数配列したイメージセンサとに関
し、種々の使用環境や広範囲の波長帯にわたって、良好
な検出性能を得ることを目的とする。 【解決手段】 半導体基板(11)上に形成され、第1
の波長帯の光を検知する第1の受光部(15)と、第1
の受光部の上方に空隙Sを隔てて支持され、かつ第2の
波長帯の光を検知する第2の受光部(22)とを備えて
受光素子を構成する。また、第2の受光部は、第1の受
光部と対向する側に、第1の受光部を透過した光の少な
くとも一部を反射する反射膜(24)を備えて構成す
る。さらに、上記の受光素子を線状もしくは面状に配置
して撮像部を構成し、画像読み出し部を付設してイメー
ジセンサを構成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の波長帯を受
光する受光素子と、その受光素子を複数配列したイメー
ジセンサとに関する。特に、従来の受光素子およびイメ
ージセンサとの構造上の相違点は、空隙を挟んで、2つ
の受光部を上下に層配置している点である。
光する受光素子と、その受光素子を複数配列したイメー
ジセンサとに関する。特に、従来の受光素子およびイメ
ージセンサとの構造上の相違点は、空隙を挟んで、2つ
の受光部を上下に層配置している点である。
【0002】
【従来の技術】近年、光センサ技術の発展には、めざま
しいものがあり、種々の受光素子が開発されている。
しいものがあり、種々の受光素子が開発されている。
【0003】例えば、赤外線を検知する受光素子として
は、ボロメータその他の熱型赤外線センサが一般に知ら
れている。このような熱型赤外線センサの一種として、
受光部にショットキーバリアダイオードを形成し、接合
部の温度に応じて変化する逆方向飽和電流を電気的に検
出するショットキーバリアサーミスタが知られている
(特開平5−40064号公報)。
は、ボロメータその他の熱型赤外線センサが一般に知ら
れている。このような熱型赤外線センサの一種として、
受光部にショットキーバリアダイオードを形成し、接合
部の温度に応じて変化する逆方向飽和電流を電気的に検
出するショットキーバリアサーミスタが知られている
(特開平5−40064号公報)。
【0004】また、3〜5μm帯の赤外線を光電変換に
より検知する受光素子としては、受光部にPtSiショ
ットキーバリアダイオードを形成したものが知られてい
る(テレビジョン学会誌Vol.49,No2,pp2
19〜224,1995)。一方、1μm以下の可視光
を検知する受光素子としては、ホトダイオード、ホトト
ランジスタなどが一般に知られている。
より検知する受光素子としては、受光部にPtSiショ
ットキーバリアダイオードを形成したものが知られてい
る(テレビジョン学会誌Vol.49,No2,pp2
19〜224,1995)。一方、1μm以下の可視光
を検知する受光素子としては、ホトダイオード、ホトト
ランジスタなどが一般に知られている。
【0005】また、これらの受光素子を線状もしくは面
状に配列して、光像の撮像を行うイメージセンサも知ら
れている。
状に配列して、光像の撮像を行うイメージセンサも知ら
れている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、1μm以下
の可視光を検知する受光素子やイメージセンサは、太陽
光や照明光その他の明るい照明のもとで、対象物からの
光を鮮明に検知することができる。
の可視光を検知する受光素子やイメージセンサは、太陽
光や照明光その他の明るい照明のもとで、対象物からの
光を鮮明に検知することができる。
【0007】しかしながら、照明光や自発発光のない真
っ暗な環境下においては、可視光用の受光素子は、対象
物を一切検出することができない。また、3〜8μm帯
の赤外線を検知する受光素子やイメージセンサは、真っ
暗な環境下においても、常温付近の対象物が放つ赤外線
を検知することができる。しかし、太陽光やヘッドライ
トのような白色光が対象物の近くで照射されると、強い
近赤外線の周辺光が生じるため、常温付近の対象物を鮮
明に検出することが困難になる。
っ暗な環境下においては、可視光用の受光素子は、対象
物を一切検出することができない。また、3〜8μm帯
の赤外線を検知する受光素子やイメージセンサは、真っ
暗な環境下においても、常温付近の対象物が放つ赤外線
を検知することができる。しかし、太陽光やヘッドライ
トのような白色光が対象物の近くで照射されると、強い
近赤外線の周辺光が生じるため、常温付近の対象物を鮮
明に検出することが困難になる。
【0008】さらに、8〜12μm帯の赤外線を検知す
る受光素子やイメージセンサも、真っ暗な環境下におい
て、常温付近の対象物が放つ赤外線を検知することがで
きる。しかし、大気中の雨滴量が多くなると、8〜12
μm帯の赤外線が減衰するため、S/Nが低下して対象
物を鮮明に検出することができない。以上説明したよう
に、従来の受光素子およびイメージセンサは、特定の環
境下において、特定の波長帯の光を検知する用途に適し
ている。
る受光素子やイメージセンサも、真っ暗な環境下におい
て、常温付近の対象物が放つ赤外線を検知することがで
きる。しかし、大気中の雨滴量が多くなると、8〜12
μm帯の赤外線が減衰するため、S/Nが低下して対象
物を鮮明に検出することができない。以上説明したよう
に、従来の受光素子およびイメージセンサは、特定の環
境下において、特定の波長帯の光を検知する用途に適し
ている。
【0009】しかしながら、これらの受光素子は、上述
したように、使用環境や波長帯が一旦変化すると、充分
な検出性能を得ることができなくなるという問題点があ
った。そのため、種々の使用環境や広範囲の波長帯にわ
たって充分な検出性能を得ることができる受光素子が要
望される。そこで、請求項1に記載の発明では、上述の
問題点を解決するために、種々の使用環境や広範囲の波
長帯にわたって、良好な検出性能を得ることができる受
光素子を提供することを目的とする。
したように、使用環境や波長帯が一旦変化すると、充分
な検出性能を得ることができなくなるという問題点があ
った。そのため、種々の使用環境や広範囲の波長帯にわ
たって充分な検出性能を得ることができる受光素子が要
望される。そこで、請求項1に記載の発明では、上述の
問題点を解決するために、種々の使用環境や広範囲の波
長帯にわたって、良好な検出性能を得ることができる受
光素子を提供することを目的とする。
【0010】請求項2に記載の発明では、請求項1の目
的と併せて、第2の受光部(後述)における受光帯域の
弁別度を高めた受光素子を提供することを目的とする。
請求項3に記載の発明では、請求項2の目的と併せて、
第1の受光部(後述)の受光効率を高めることができる
受光素子を提供することを目的とする。請求項4に記載
の発明では、請求項3の目的と併せて、第1の受光部の
受光効率を一層高めることができる受光素子を提供する
ことを目的とする。
的と併せて、第2の受光部(後述)における受光帯域の
弁別度を高めた受光素子を提供することを目的とする。
請求項3に記載の発明では、請求項2の目的と併せて、
第1の受光部(後述)の受光効率を高めることができる
受光素子を提供することを目的とする。請求項4に記載
の発明では、請求項3の目的と併せて、第1の受光部の
受光効率を一層高めることができる受光素子を提供する
ことを目的とする。
【0011】請求項5に記載の発明では、請求項1の目
的と併せて、第1の受光部における受光帯域の弁別度を
高めた受光素子を提供することを目的とする。請求項6
に記載の発明では、請求項5の目的と併せて、第2の受
光部の受光効率を高めることができる受光素子を提供す
ることを目的とする。請求項7に記載の発明では、請求
項6の目的と併せて、第2の受光部の受光効率を一層高
めることができる受光素子を提供することを目的とす
る。
的と併せて、第1の受光部における受光帯域の弁別度を
高めた受光素子を提供することを目的とする。請求項6
に記載の発明では、請求項5の目的と併せて、第2の受
光部の受光効率を高めることができる受光素子を提供す
ることを目的とする。請求項7に記載の発明では、請求
項6の目的と併せて、第2の受光部の受光効率を一層高
めることができる受光素子を提供することを目的とす
る。
【0012】請求項8に記載の発明では、請求項1の目
的と併せて、強い近赤外線の周辺光、もしくは大気中の
雨滴の影響にかかわらず、対象物を的確に検出すること
ができる受光素子を提供することを目的とする。請求項
9に記載の発明では、請求項1の目的と併せて、明るい
環境下、または暗い環境下のどちらにおいても、対象物
を的確に検出することができる受光素子を提供すること
を目的とする。
的と併せて、強い近赤外線の周辺光、もしくは大気中の
雨滴の影響にかかわらず、対象物を的確に検出すること
ができる受光素子を提供することを目的とする。請求項
9に記載の発明では、請求項1の目的と併せて、明るい
環境下、または暗い環境下のどちらにおいても、対象物
を的確に検出することができる受光素子を提供すること
を目的とする。
【0013】請求項10に記載の発明では、請求項1の
目的と併せて、2つの受光部の検出出力を選択的に取り
出すことができる受光素子を提供することを目的とす
る。請求項11に記載の発明では、請求項1の目的と併
せて、2つの受光部の検出出力を混合して取り出すこと
ができる受光素子を提供することを目的とする。請求項
12に記載の発明では、請求項1乃至請求項12のいず
れか1項に記載の受光素子を用いたイメージセンサを提
供することを目的とする。
目的と併せて、2つの受光部の検出出力を選択的に取り
出すことができる受光素子を提供することを目的とす
る。請求項11に記載の発明では、請求項1の目的と併
せて、2つの受光部の検出出力を混合して取り出すこと
ができる受光素子を提供することを目的とする。請求項
12に記載の発明では、請求項1乃至請求項12のいず
れか1項に記載の受光素子を用いたイメージセンサを提
供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、半導体基板上に形成され、第1の波長帯の光を検知
する第1の受光部と、第1の受光部の上方に空隙を隔て
て支持され、かつ第2の波長帯の光を検知する第2の受
光部とを備えて構成する。請求項2に記載の発明は、請
求項1に記載の受光素子において、第1の受光部は、半
導体基板の裏面側から入射される光の内、第1の波長帯
の光を一部もしくは全部吸収して検知し、第2の受光部
は、第1の受光部を透過した光の内、第2の波長帯の光
を検知することを特徴とする。なお、第2の受光部は、
第2の波長帯の光と併せて、第1の受光部を透過した第
1の波長帯の光を吸収してもよい。
は、半導体基板上に形成され、第1の波長帯の光を検知
する第1の受光部と、第1の受光部の上方に空隙を隔て
て支持され、かつ第2の波長帯の光を検知する第2の受
光部とを備えて構成する。請求項2に記載の発明は、請
求項1に記載の受光素子において、第1の受光部は、半
導体基板の裏面側から入射される光の内、第1の波長帯
の光を一部もしくは全部吸収して検知し、第2の受光部
は、第1の受光部を透過した光の内、第2の波長帯の光
を検知することを特徴とする。なお、第2の受光部は、
第2の波長帯の光と併せて、第1の受光部を透過した第
1の波長帯の光を吸収してもよい。
【0015】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の受光素子において、第2の受光部は、第1の受光部と
対向する側に、第1の受光部を透過した光の少なくとも
一部を反射する反射膜を備えて構成する。
の受光素子において、第2の受光部は、第1の受光部と
対向する側に、第1の受光部を透過した光の少なくとも
一部を反射する反射膜を備えて構成する。
【0016】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の受光素子において、反射膜と第1の受光部との間隔
を、第1の波長帯における波長のn/4倍(nは奇数)
とする。請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の受
光素子において、第2の受光部は、半導体基板の表面側
から入射される光の内、第2の波長帯の光を一部もしく
は全部吸収して検知し、第1の受光部は、第2の受光部
を透過した光の内、第1の波長帯の光を検知することを
特徴とする。なお、第1の受光部は、第1の波長帯の光
と併せて、第2の受光部を透過した第2の波長帯の光を
吸収してもよい。
の受光素子において、反射膜と第1の受光部との間隔
を、第1の波長帯における波長のn/4倍(nは奇数)
とする。請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の受
光素子において、第2の受光部は、半導体基板の表面側
から入射される光の内、第2の波長帯の光を一部もしく
は全部吸収して検知し、第1の受光部は、第2の受光部
を透過した光の内、第1の波長帯の光を検知することを
特徴とする。なお、第1の受光部は、第1の波長帯の光
と併せて、第2の受光部を透過した第2の波長帯の光を
吸収してもよい。
【0017】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
の受光素子において、第1の受光部は、第2の受光部と
対向する側に、第2の受光部を透過した光の少なくとも
一部を反射する反射膜を備えて構成する。請求項7に記
載の発明は、請求項6に記載の受光素子において、反射
膜と第2の受光部との間隔を、第2の波長帯における波
長のn/4倍(nは奇数)とする。
の受光素子において、第1の受光部は、第2の受光部と
対向する側に、第2の受光部を透過した光の少なくとも
一部を反射する反射膜を備えて構成する。請求項7に記
載の発明は、請求項6に記載の受光素子において、反射
膜と第2の受光部との間隔を、第2の波長帯における波
長のn/4倍(nは奇数)とする。
【0018】請求項8に記載の発明は、請求項1乃至請
求項7のいずれか1項に記載の受光素子において、第1
の受光部は、8μm未満の赤外線を光電変換するショッ
トキーバリアダイオードからなり、第2の受光部は、赤
外線を熱エネルギーに変換して検知する熱型赤外線セン
サであることを特徴とする。請求項9に記載の発明は、
請求項5乃至請求項7のいずれか1項に記載の受光素子
において、第1の受光部は、可視光を光電変換する光電
変換素子であり、第2の受光部は、赤外線を熱エネルギ
ーに変換して検知する熱型赤外線センサであることを特
徴とする。
求項7のいずれか1項に記載の受光素子において、第1
の受光部は、8μm未満の赤外線を光電変換するショッ
トキーバリアダイオードからなり、第2の受光部は、赤
外線を熱エネルギーに変換して検知する熱型赤外線セン
サであることを特徴とする。請求項9に記載の発明は、
請求項5乃至請求項7のいずれか1項に記載の受光素子
において、第1の受光部は、可視光を光電変換する光電
変換素子であり、第2の受光部は、赤外線を熱エネルギ
ーに変換して検知する熱型赤外線センサであることを特
徴とする。
【0019】請求項10に記載の発明は、請求項1乃至
請求項9のいずれか1項に記載の受光素子において、半
導体基板上に形成され、出力側に電気的に接続された電
荷読み出し拡散層と、第1の受光部に対し電気的に接続
された拡散層と、電荷読み出し拡散層との間に配置さ
れ、チャネルを制御する第1のトランスファゲートと、
第2の受光部に対し電気的に接続された拡散層と、電荷
読み出し拡散層との間に配置され、チャネルを制御する
第2のトランスファゲートとを備えて構成する。
請求項9のいずれか1項に記載の受光素子において、半
導体基板上に形成され、出力側に電気的に接続された電
荷読み出し拡散層と、第1の受光部に対し電気的に接続
された拡散層と、電荷読み出し拡散層との間に配置さ
れ、チャネルを制御する第1のトランスファゲートと、
第2の受光部に対し電気的に接続された拡散層と、電荷
読み出し拡散層との間に配置され、チャネルを制御する
第2のトランスファゲートとを備えて構成する。
【0020】請求項11に記載の発明は、請求項1乃至
請求項9のいずれか1項に記載の受光素子において、半
導体基板上に形成され、出力側に電気的に接続された電
荷読み出し拡散層と、第1の受光部と第2の受光部とに
対し電気的に接続され、両方から蓄積される電荷を混合
する電荷混合拡散層と、電荷読み出し拡散層と電荷混合
拡散層との間に配置され、チャネルを制御するトランス
ファゲートとを備えて構成する。
請求項9のいずれか1項に記載の受光素子において、半
導体基板上に形成され、出力側に電気的に接続された電
荷読み出し拡散層と、第1の受光部と第2の受光部とに
対し電気的に接続され、両方から蓄積される電荷を混合
する電荷混合拡散層と、電荷読み出し拡散層と電荷混合
拡散層との間に配置され、チャネルを制御するトランス
ファゲートとを備えて構成する。
【0021】請求項12に記載の発明は、請求項1乃至
請求項11のいずれか1項に記載の受光素子を線状もし
くは面状に複数配列してなる撮像部と、複数の受光素子
において検知される画素単位の電荷を、電荷転送方式も
しくはXYアドレス方式により逐次読み出す画像読み出
し部とを備えて、イメージセンサを構成する。
請求項11のいずれか1項に記載の受光素子を線状もし
くは面状に複数配列してなる撮像部と、複数の受光素子
において検知される画素単位の電荷を、電荷転送方式も
しくはXYアドレス方式により逐次読み出す画像読み出
し部とを備えて、イメージセンサを構成する。
【0022】(作用)請求項1にかかわる受光素子は、
空隙を挟んで、2つの受光部が上下に形成される。
空隙を挟んで、2つの受光部が上下に形成される。
【0023】一般に、半導体基板に形成される受光部
は、膜厚が薄いため、光を一部透過する。したがって、
一方の受光部を透過した光を、他方の受光部で検知する
ことができる。また、2つの受光部は、検知する光の波
長帯が完全に一致しない。そのため、1つの受光部のみ
を備えた受光素子に比べ、種々の使用環境や広範囲の波
長帯をカバーすることができ、良好な検出性能を得るこ
とができる。
は、膜厚が薄いため、光を一部透過する。したがって、
一方の受光部を透過した光を、他方の受光部で検知する
ことができる。また、2つの受光部は、検知する光の波
長帯が完全に一致しない。そのため、1つの受光部のみ
を備えた受光素子に比べ、種々の使用環境や広範囲の波
長帯をカバーすることができ、良好な検出性能を得るこ
とができる。
【0024】さらに、2つの受光部が積層されるので、
2つの受光部を並置する場合に比べ、集積度を格段に高
くすることができる。請求項2にかかわる受光素子で
は、半導体基板の裏面側から入射された光を受光する。
2つの受光部を並置する場合に比べ、集積度を格段に高
くすることができる。請求項2にかかわる受光素子で
は、半導体基板の裏面側から入射された光を受光する。
【0025】まず、裏面側から入射された光は、第1の
受光部に到達する。第1の受光部は、第1の波長帯の光
を電気エネルギー,熱エネルギーなどのエネルギーに変
換して検知する。したがって、第1の波長帯の光は、少
なくとも一部がエネルギー変換されて、第1の受光部に
吸収される。
受光部に到達する。第1の受光部は、第1の波長帯の光
を電気エネルギー,熱エネルギーなどのエネルギーに変
換して検知する。したがって、第1の波長帯の光は、少
なくとも一部がエネルギー変換されて、第1の受光部に
吸収される。
【0026】第2の受光部は、第1の受光部を透過した
光を受光する。したがって、第1の受光部は、第2の受
光部に対して、第1の波長帯の光を一部吸収する光フィ
ルタとして機能する。したがって、第2の受光部では、
到達する光がある程度弁別され、受光帯域の弁別度が高
められる。
光を受光する。したがって、第1の受光部は、第2の受
光部に対して、第1の波長帯の光を一部吸収する光フィ
ルタとして機能する。したがって、第2の受光部では、
到達する光がある程度弁別され、受光帯域の弁別度が高
められる。
【0027】請求項3にかかわる受光素子では、第1の
受光部を透過した光は、第2の受光部の反射膜に到達す
る。反射膜は、少なくとも一部の光を反射して、第1の
受光部側に光を戻す。したがって、第1の受光部におけ
る受光効率が向上する。請求項4にかかわる受光素子で
は、反射膜と第1の受光部との間隔が、第1の波長帯に
おける波長のn/4倍(nは奇数)に設定される。
受光部を透過した光は、第2の受光部の反射膜に到達す
る。反射膜は、少なくとも一部の光を反射して、第1の
受光部側に光を戻す。したがって、第1の受光部におけ
る受光効率が向上する。請求項4にかかわる受光素子で
は、反射膜と第1の受光部との間隔が、第1の波長帯に
おける波長のn/4倍(nは奇数)に設定される。
【0028】このように間隔長を設定すると、反射膜と
第1の受光部との間に生じる光学的共振効果により、第
1の受光部は、第1の波長帯の光を効率よく受光するこ
とができる。請求項5にかかわる受光素子では、半導体
基板の表面側から光が入射される。このような光は、ま
ず、第2の受光部に到達する。第2の受光部は、第2の
波長帯の光を電気エネルギー,熱エネルギーなどのエネ
ルギーに変換して検知する。
第1の受光部との間に生じる光学的共振効果により、第
1の受光部は、第1の波長帯の光を効率よく受光するこ
とができる。請求項5にかかわる受光素子では、半導体
基板の表面側から光が入射される。このような光は、ま
ず、第2の受光部に到達する。第2の受光部は、第2の
波長帯の光を電気エネルギー,熱エネルギーなどのエネ
ルギーに変換して検知する。
【0029】したがって、第2の波長帯の光は、少なく
とも一部がエネルギー変換されて、第2の受光部に吸収
される。第1の受光部は、第2の受光部を透過した光を
受光する。したがって、第2の受光部は、第1の受光部
に対して、第2の波長帯の光を一部吸収する光フィルタ
として機能する。
とも一部がエネルギー変換されて、第2の受光部に吸収
される。第1の受光部は、第2の受光部を透過した光を
受光する。したがって、第2の受光部は、第1の受光部
に対して、第2の波長帯の光を一部吸収する光フィルタ
として機能する。
【0030】したがって、第1の受光部では、到達する
光がある程度弁別され、受光帯域の弁別度が高められ
る。請求項6にかかわる受光素子では、第2の受光部を
透過した光は、第1の受光部の反射膜に到達する。反射
膜は、少なくとも一部の光を反射して、第2の受光部側
に光を戻す。したがって、第2の受光部における受光効
率が向上する。
光がある程度弁別され、受光帯域の弁別度が高められ
る。請求項6にかかわる受光素子では、第2の受光部を
透過した光は、第1の受光部の反射膜に到達する。反射
膜は、少なくとも一部の光を反射して、第2の受光部側
に光を戻す。したがって、第2の受光部における受光効
率が向上する。
【0031】請求項7にかかわる受光素子では、反射膜
と第2の受光部との間隔が、第2の波長帯における波長
のn/4倍(nは奇数)に設定される。このように間隔
長を設定すると、反射膜と第2の受光部との間に生じる
光学的共振効果により、第2の受光部は、第2の波長帯
の光を効率よく受光することができる。
と第2の受光部との間隔が、第2の波長帯における波長
のn/4倍(nは奇数)に設定される。このように間隔
長を設定すると、反射膜と第2の受光部との間に生じる
光学的共振効果により、第2の受光部は、第2の波長帯
の光を効率よく受光することができる。
【0032】請求項8にかかわる受光素子は、強い近赤
外線の周辺光、もしくは大気中の雨滴の影響にかかわら
ず、下記のように、対象物を鮮明に検出することができ
る。すなわち、太陽光や白色光などが対象物の近くで照
射されるような環境では、近赤外線の周辺光が強く生じ
る。このような近赤外線の周辺光は、対象物からの光と
共に、半導体基板の裏面側から入射して、まず第1の受
光部に到達する。
外線の周辺光、もしくは大気中の雨滴の影響にかかわら
ず、下記のように、対象物を鮮明に検出することができ
る。すなわち、太陽光や白色光などが対象物の近くで照
射されるような環境では、近赤外線の周辺光が強く生じ
る。このような近赤外線の周辺光は、対象物からの光と
共に、半導体基板の裏面側から入射して、まず第1の受
光部に到達する。
【0033】第1の受光部は、8μm未満の赤外線を光
電変換するショットキーバリアダイオード(例えば、P
tSiショットキーバリアダイオード)から構成され
る。このような第1の受光部は、近赤外線(波長8μm
未満)の周辺光を専ら光電変換して吸収する。一方、常
温付近の対象物から生じた遠赤外線(波長8μm以上)
の光は、光エネルギーが小さいため、励起された電子は
ショットキーバリアを超えることができず、第1の受光
部をそのまま透過する。
電変換するショットキーバリアダイオード(例えば、P
tSiショットキーバリアダイオード)から構成され
る。このような第1の受光部は、近赤外線(波長8μm
未満)の周辺光を専ら光電変換して吸収する。一方、常
温付近の対象物から生じた遠赤外線(波長8μm以上)
の光は、光エネルギーが小さいため、励起された電子は
ショットキーバリアを超えることができず、第1の受光
部をそのまま透過する。
【0034】そのため、第2の受光部は、常温付近の対
象物から生じた遠赤外線(波長8μm以上)の光を中心
的に受光する。したがって、第2の受光部は、近赤外線
の周辺光の影響を強く受けず、対象物からの遠赤外線を
鮮明に検知することができる。一方、大気中の雨滴量が
増すと、大気中を透過する赤外線は減衰する。例えば、
大気1km当たりの等化水分厚さを200mmとする
と、赤外線の透過率は、下表に示すようになる(久野治
義、「赤外線工学」(1994)p.58−61)。
象物から生じた遠赤外線(波長8μm以上)の光を中心
的に受光する。したがって、第2の受光部は、近赤外線
の周辺光の影響を強く受けず、対象物からの遠赤外線を
鮮明に検知することができる。一方、大気中の雨滴量が
増すと、大気中を透過する赤外線は減衰する。例えば、
大気1km当たりの等化水分厚さを200mmとする
と、赤外線の透過率は、下表に示すようになる(久野治
義、「赤外線工学」(1994)p.58−61)。
【0035】 上記データに示されるように、第1の受光部により検知
される4μm近辺の波長帯は、雨や霧の状況下におい
て、大気中の透過率が特に高い。
される4μm近辺の波長帯は、雨や霧の状況下におい
て、大気中の透過率が特に高い。
【0036】したがって、大気中の雨滴の影響にかかわ
らず、第1の受光部は、常温付近の対象物から発せられ
る波長4μm近辺の赤外線を高いS/Nで検知すること
ができる。請求項9にかかわる受光素子では、明るい環
境下、または暗い環境下のどちらにおいても、下記のよ
うに、対象物を的確に検出することができる。
らず、第1の受光部は、常温付近の対象物から発せられ
る波長4μm近辺の赤外線を高いS/Nで検知すること
ができる。請求項9にかかわる受光素子では、明るい環
境下、または暗い環境下のどちらにおいても、下記のよ
うに、対象物を的確に検出することができる。
【0037】すなわち、明るい環境下では、可視光と赤
外線とが、まず第2の受光部に到達する。第2の受光部
は、熱型赤外線センサから構成されるので、赤外線を熱
エネルギーに変換して吸収する。
外線とが、まず第2の受光部に到達する。第2の受光部
は、熱型赤外線センサから構成されるので、赤外線を熱
エネルギーに変換して吸収する。
【0038】このように第2の受光部は、赤外線カット
フィルタとして機能し、第1の受光部に到達する赤外線
を低減する。そのため、第1の受光部である光電変換素
子は、対象物から投射された可視光を中心に受光し、対
象物を鮮明に検出することができる。一方、暗い環境下
では、第2の受光部が、常温付近の対象物から発した赤
外線を検知し、対象物を的確に検出することができる。
フィルタとして機能し、第1の受光部に到達する赤外線
を低減する。そのため、第1の受光部である光電変換素
子は、対象物から投射された可視光を中心に受光し、対
象物を鮮明に検出することができる。一方、暗い環境下
では、第2の受光部が、常温付近の対象物から発した赤
外線を検知し、対象物を的確に検出することができる。
【0039】請求項10にかかわる受光素子では、第1
のトランスファゲートを介してチャネルを開くと、第1
の受光部と電荷読み出し拡散層とが電気的に導通する。
この状態では、第1の受光部の出力を電荷読み出し拡散
層から読み出すことができる。また、第2のトランスフ
ァゲートを介してチャネルを開くと、第2の受光部と電
荷読み出し拡散層とが電気的に導通する。この状態で
は、第2の受光部の出力を電荷読み出し拡散層から読み
出すことができる。
のトランスファゲートを介してチャネルを開くと、第1
の受光部と電荷読み出し拡散層とが電気的に導通する。
この状態では、第1の受光部の出力を電荷読み出し拡散
層から読み出すことができる。また、第2のトランスフ
ァゲートを介してチャネルを開くと、第2の受光部と電
荷読み出し拡散層とが電気的に導通する。この状態で
は、第2の受光部の出力を電荷読み出し拡散層から読み
出すことができる。
【0040】さらに、第1および第2のトランスファゲ
ートを介して両方のチャネルを開くと、第1および第2
の受光部と電荷読み出し拡散層が電気的に導通する。こ
の状態では、第1および第2の受光部の出力を電荷読み
出し拡散層で混合して読み出すことができる。請求項1
1にかかわる受光素子では、第1および第2の受光部か
ら蓄積される電荷が、電荷混合拡散層において混合され
る。
ートを介して両方のチャネルを開くと、第1および第2
の受光部と電荷読み出し拡散層が電気的に導通する。こ
の状態では、第1および第2の受光部の出力を電荷読み
出し拡散層で混合して読み出すことができる。請求項1
1にかかわる受光素子では、第1および第2の受光部か
ら蓄積される電荷が、電荷混合拡散層において混合され
る。
【0041】トランスファゲートを介してチャネルを開
くと、電荷混合拡散層の電荷が電荷読み出し拡散層から
読み出される。請求項12にかかわるイメージセンサで
は、撮像部の輝度分布に従って、各受光素子は、画素単
位の電荷を蓄積する。画像読み出し部は、これらの画素
単位の電荷を電荷転送方式もしくはXYアドレス方式に
より逐次読み出し、画像信号として出力する。
くと、電荷混合拡散層の電荷が電荷読み出し拡散層から
読み出される。請求項12にかかわるイメージセンサで
は、撮像部の輝度分布に従って、各受光素子は、画素単
位の電荷を蓄積する。画像読み出し部は、これらの画素
単位の電荷を電荷転送方式もしくはXYアドレス方式に
より逐次読み出し、画像信号として出力する。
【0042】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明にお
ける実施の形態を説明する。 (第1の実施形態)図1は、第1の実施形態(請求項1
〜4,8,10,12に対応)であるイメージセンサの
受光セルを示す図である。
ける実施の形態を説明する。 (第1の実施形態)図1は、第1の実施形態(請求項1
〜4,8,10,12に対応)であるイメージセンサの
受光セルを示す図である。
【0043】図1において、P型シリコンからなる半導
体基板11の裏面側には、3〜5μm帯および8〜12
μm帯の赤外線の透過率を高めるための反射防止膜12
が形成され、表面側には、イメージセンサを受光セル1
0ごとに区切るためのP+ 分離層13がパターン形成さ
れる。このP+ 分離層13の区画内には、N拡散層であ
るガードリング14がリング状に形成され、そのリング
内には、PtSiショットキーバリアダイオード(以
下、「PtSi−SBD」という)15が形成される。
体基板11の裏面側には、3〜5μm帯および8〜12
μm帯の赤外線の透過率を高めるための反射防止膜12
が形成され、表面側には、イメージセンサを受光セル1
0ごとに区切るためのP+ 分離層13がパターン形成さ
れる。このP+ 分離層13の区画内には、N拡散層であ
るガードリング14がリング状に形成され、そのリング
内には、PtSiショットキーバリアダイオード(以
下、「PtSi−SBD」という)15が形成される。
【0044】このガードリング14に隣接してトランス
ファゲート16aが配置され、このトランスファゲート
16aには、受光帯域の選択を行うための電極X1が電
気的に接続される。なお、ガードリング14とトランス
ファゲート16aとの隣接部分には、PtSi−SBD
15とガードリング14との間のコンタクト抵抗を下げ
るためのN+ 拡散層14aが埋め込まれる。
ファゲート16aが配置され、このトランスファゲート
16aには、受光帯域の選択を行うための電極X1が電
気的に接続される。なお、ガードリング14とトランス
ファゲート16aとの隣接部分には、PtSi−SBD
15とガードリング14との間のコンタクト抵抗を下げ
るためのN+ 拡散層14aが埋め込まれる。
【0045】また、トランスファゲート16aの他側に
は、N+ 拡散層からなる電荷読み出し拡散層17が配置
され、電荷読み出し拡散層17には、電荷読み出し用の
電極Yが電気的に接続される。電荷読み出し拡散層17
の他側には、トランスファゲート16bおよび拡散層1
8が順に配置され、トランスファゲート16bには、受
光帯域の選択を行うための電極X2が電気的に接続され
る。
は、N+ 拡散層からなる電荷読み出し拡散層17が配置
され、電荷読み出し拡散層17には、電荷読み出し用の
電極Yが電気的に接続される。電荷読み出し拡散層17
の他側には、トランスファゲート16bおよび拡散層1
8が順に配置され、トランスファゲート16bには、受
光帯域の選択を行うための電極X2が電気的に接続され
る。
【0046】一方、PtSi−SBD15の上方には、
空隙Sを挟んで架橋構造20が形成される。この架橋構
造20は、窒化シリコン膜などからなる橋状の支持体
(図示せず)により支持される。
空隙Sを挟んで架橋構造20が形成される。この架橋構
造20は、窒化シリコン膜などからなる橋状の支持体
(図示せず)により支持される。
【0047】この支持体の上には、熱型赤外線センサで
あるショットキーバリアサーミスタ22と、熱吸収膜2
3とが層状に形成される。ショットキーバリアサーミス
タ22の一方の端子は、支持体の橋脚部21上の配線を
介して、逆バイアスを印加するバイアス電源25に接続
される。また、他方の端子は、支持体の橋脚部21上の
配線を介して、拡散層18に接続される。
あるショットキーバリアサーミスタ22と、熱吸収膜2
3とが層状に形成される。ショットキーバリアサーミス
タ22の一方の端子は、支持体の橋脚部21上の配線を
介して、逆バイアスを印加するバイアス電源25に接続
される。また、他方の端子は、支持体の橋脚部21上の
配線を介して、拡散層18に接続される。
【0048】ショットキーバリアサーミスタ22の裏側
には、金属薄膜からなる反射膜24が形成される。この
反射膜24とPtSi−SBD15との間隔は、3/4
〜5/4μm程度に設定される。ここで、このような架
橋構造20は、例えば、次のように形成される。まず、
PtSi−SBD15の上に犠牲層を形成し、この犠牲
層の上に架橋構造20を逐次形成する。最後に犠牲層を
除去することにより、架橋構造20を半導体基板11上
から浮かす。
には、金属薄膜からなる反射膜24が形成される。この
反射膜24とPtSi−SBD15との間隔は、3/4
〜5/4μm程度に設定される。ここで、このような架
橋構造20は、例えば、次のように形成される。まず、
PtSi−SBD15の上に犠牲層を形成し、この犠牲
層の上に架橋構造20を逐次形成する。最後に犠牲層を
除去することにより、架橋構造20を半導体基板11上
から浮かす。
【0049】図2は、X−Yアドレス方式のイメージセ
ンサの構成を示す図である。図2において、撮像部31
には、上述した受光セル10(図1)が面状に複数配列
される。垂直方向に並んだ受光セル10の電極X1,X
2は、水平走査信号発生部32の端子ごとに一括接続さ
れ、水平走査信号発生部32は、受光帯域選択部33に
接続される。
ンサの構成を示す図である。図2において、撮像部31
には、上述した受光セル10(図1)が面状に複数配列
される。垂直方向に並んだ受光セル10の電極X1,X
2は、水平走査信号発生部32の端子ごとに一括接続さ
れ、水平走査信号発生部32は、受光帯域選択部33に
接続される。
【0050】一方、水平方向に並んだ受光セル10の電
極Yは、出力スイッチ群35のドレイン端子ごとに一括
接続される。出力スイッチ群35のゲート端子は、垂直
走査信号発生部34の各端子に接続され、出力スイッチ
群35のソース端子は一括接続されて画像信号の出力端
子となる。なお、請求項1,2に記載の発明と第1の実
施形態との対応関係については、第1の受光部はPtS
i−SBD15に対応し、第2の受光部はショットキー
バリアサーミスタ22に対応する。
極Yは、出力スイッチ群35のドレイン端子ごとに一括
接続される。出力スイッチ群35のゲート端子は、垂直
走査信号発生部34の各端子に接続され、出力スイッチ
群35のソース端子は一括接続されて画像信号の出力端
子となる。なお、請求項1,2に記載の発明と第1の実
施形態との対応関係については、第1の受光部はPtS
i−SBD15に対応し、第2の受光部はショットキー
バリアサーミスタ22に対応する。
【0051】請求項3,4に記載の発明と第1の実施形
態との対応関係については、反射膜は反射膜24に対応
する。請求項8に記載の発明と第1の実施形態との対応
関係については、ショットキーバリアダイオードはPt
Si−SBD15に対応し、熱型赤外線センサはショッ
トキーバリアサーミスタ22に対応する。
態との対応関係については、反射膜は反射膜24に対応
する。請求項8に記載の発明と第1の実施形態との対応
関係については、ショットキーバリアダイオードはPt
Si−SBD15に対応し、熱型赤外線センサはショッ
トキーバリアサーミスタ22に対応する。
【0052】請求項10に記載の発明と第1の実施形態
との対応関係については、電荷読み出し拡散層は電荷読
み出し拡散層17に対応し、第1のトランスファゲート
はトランスファゲート16aに対応し、第2のトランス
ファゲートはトランスファゲート16bに対応する。請
求項12に記載の発明と第1の実施形態との対応関係に
ついては、撮像部は撮像部31に対応し、画像読み出し
部は水平走査信号発生部32,垂直走査信号発生部3
4,出力スイッチ群35に対応する。
との対応関係については、電荷読み出し拡散層は電荷読
み出し拡散層17に対応し、第1のトランスファゲート
はトランスファゲート16aに対応し、第2のトランス
ファゲートはトランスファゲート16bに対応する。請
求項12に記載の発明と第1の実施形態との対応関係に
ついては、撮像部は撮像部31に対応し、画像読み出し
部は水平走査信号発生部32,垂直走査信号発生部3
4,出力スイッチ群35に対応する。
【0053】図3は、第1の実施形態の動作を説明する
分解斜視図である。以下、これらの図を用いて、第1の
実施形態の動作を説明する。まず、半導体基板11の裏
面側に光が照射されると、反射防止膜12を透過して、
PtSi−SBD15に光が到達する。PtSi−SB
D15は、3〜5μm帯の赤外線(図1中のA)を吸収
して光電変換を行う。しかし、PtSi膜の厚さは50
Å以下と非常に薄いので、3〜5μm帯の赤外線の一部
(図1中のB)は、PtSi−SBD15に吸収されず
に透過して極薄の反射膜24に反射され、PtSi−S
BD15に再び導かれる。
分解斜視図である。以下、これらの図を用いて、第1の
実施形態の動作を説明する。まず、半導体基板11の裏
面側に光が照射されると、反射防止膜12を透過して、
PtSi−SBD15に光が到達する。PtSi−SB
D15は、3〜5μm帯の赤外線(図1中のA)を吸収
して光電変換を行う。しかし、PtSi膜の厚さは50
Å以下と非常に薄いので、3〜5μm帯の赤外線の一部
(図1中のB)は、PtSi−SBD15に吸収されず
に透過して極薄の反射膜24に反射され、PtSi−S
BD15に再び導かれる。
【0054】ここで、反射膜24とPtSi−SBD1
5との間隔dが、3/4〜5/4μm程度に設定される
ので、光学的共振効果により3〜5μm帯の赤外線がP
tSi−SBD15に効率よく吸収される。なお、Pt
Si−SBD15の周縁に配置されたガードリング14
は、PtSi−SBD15のエッジ部における電界集中
を緩和するとともに、光電変換により発生した電荷を蓄
積する。
5との間隔dが、3/4〜5/4μm程度に設定される
ので、光学的共振効果により3〜5μm帯の赤外線がP
tSi−SBD15に効率よく吸収される。なお、Pt
Si−SBD15の周縁に配置されたガードリング14
は、PtSi−SBD15のエッジ部における電界集中
を緩和するとともに、光電変換により発生した電荷を蓄
積する。
【0055】一方、半導体基板11の裏面側から入射さ
れた8〜12μm帯の赤外線(図1中のC)は、PtS
i−SBD15で吸収されずに、熱吸収膜23に主とし
て吸収され、熱エネルギーに変換される。ここで、架橋
構造20をとるので、熱吸収膜23と半導体基板11と
は効果的に断熱される。したがって、架橋構造20の熱
容量は小さく、微弱な赤外線に対しても敏感な温度変化
を生じる。
れた8〜12μm帯の赤外線(図1中のC)は、PtS
i−SBD15で吸収されずに、熱吸収膜23に主とし
て吸収され、熱エネルギーに変換される。ここで、架橋
構造20をとるので、熱吸収膜23と半導体基板11と
は効果的に断熱される。したがって、架橋構造20の熱
容量は小さく、微弱な赤外線に対しても敏感な温度変化
を生じる。
【0056】このような温度変化により、ショットキー
バリアサーミスタ22の逆飽和電流の値が変化し、拡散
層18に蓄積される電荷量が変化する。この状態で、電
極X1,X2のいずれかに電圧を印加すると、PtSi
−SBD15もしくはショットキーバリアサーミスタ2
2のいずれか一方の信号電荷を電極Y側に読み出すこと
ができる。
バリアサーミスタ22の逆飽和電流の値が変化し、拡散
層18に蓄積される電荷量が変化する。この状態で、電
極X1,X2のいずれかに電圧を印加すると、PtSi
−SBD15もしくはショットキーバリアサーミスタ2
2のいずれか一方の信号電荷を電極Y側に読み出すこと
ができる。
【0057】また、電極X1,X2の両方に電圧を印加
すると、PtSi−SBD15およびショットキーバリ
アサーミスタ22の両方の信号電荷を混合して電極Y側
から読み出すこともできる。実際には、図2に示したよ
うに、水平走査信号発生部32および垂直走査信号発生
部34を介して、走査パルスが順次与えられる。このよ
うな走査パルスの印加により、X−Yアドレス方式によ
る信号電荷の読み出しが行われる。
すると、PtSi−SBD15およびショットキーバリ
アサーミスタ22の両方の信号電荷を混合して電極Y側
から読み出すこともできる。実際には、図2に示したよ
うに、水平走査信号発生部32および垂直走査信号発生
部34を介して、走査パルスが順次与えられる。このよ
うな走査パルスの印加により、X−Yアドレス方式によ
る信号電荷の読み出しが行われる。
【0058】以上説明した動作により、第1の実施形態
では、2種類の受光部を備えるので、種々の使用環境や
広範囲の波長帯を確実にカバーして、良好な検出性能を
得ることができる。すなわち、太陽光や白色光などによ
り近赤外線(8μm未満)の周辺光が強く生じるような
場合、PtSi−SBD15は、これらの周辺光を吸収
する。したがって、ショットキーバリアサーミスタ22
は、周辺光に妨害されることなく、常温付近の対象物か
ら生じた遠赤外線(波長8μm以上)の光を鮮明に検知
することができる。
では、2種類の受光部を備えるので、種々の使用環境や
広範囲の波長帯を確実にカバーして、良好な検出性能を
得ることができる。すなわち、太陽光や白色光などによ
り近赤外線(8μm未満)の周辺光が強く生じるような
場合、PtSi−SBD15は、これらの周辺光を吸収
する。したがって、ショットキーバリアサーミスタ22
は、周辺光に妨害されることなく、常温付近の対象物か
ら生じた遠赤外線(波長8μm以上)の光を鮮明に検知
することができる。
【0059】一方、大気中の雨滴量が増すと、8〜12
μm程度の遠赤外線は大きく減衰する。しかし、4μm
近辺の近赤外線はそれほど減衰せず、PtSi−SBD
15に到達する。したがって、大気中の雨滴の影響にか
かわらず、PtSi−SBD15は、常温付近の対象物
から発せられる波長4μm近辺の赤外線を高S/Nで検
知することができる。
μm程度の遠赤外線は大きく減衰する。しかし、4μm
近辺の近赤外線はそれほど減衰せず、PtSi−SBD
15に到達する。したがって、大気中の雨滴の影響にか
かわらず、PtSi−SBD15は、常温付近の対象物
から発せられる波長4μm近辺の赤外線を高S/Nで検
知することができる。
【0060】また、2つの撮像面が重複して配置される
ので、撮像面ごとに結像光学系を並置する必要がなく、
装置全体の小型化を実現することができる。さらに、上
下2層に受光部が積層されるので、同一面内に2つの受
光部を配置する場合に比べ、受光セル10の集積度を格
段に高めることができる。したがって、空間解像度が優
れたイメージセンサを実現することができる。
ので、撮像面ごとに結像光学系を並置する必要がなく、
装置全体の小型化を実現することができる。さらに、上
下2層に受光部が積層されるので、同一面内に2つの受
光部を配置する場合に比べ、受光セル10の集積度を格
段に高めることができる。したがって、空間解像度が優
れたイメージセンサを実現することができる。
【0061】また、反射膜24とPtSi−SBD15
との間隔が、3/4〜5/4μmに設定されるので、光
学的共振効果により、PtSi−SBD15は、3〜5
μm帯の赤外線を効率的に受光することができる。さら
に、電極X1,X2の電圧操作を行うことにより、2つ
の受光部の出力を適宜に読み出すことができる。
との間隔が、3/4〜5/4μmに設定されるので、光
学的共振効果により、PtSi−SBD15は、3〜5
μm帯の赤外線を効率的に受光することができる。さら
に、電極X1,X2の電圧操作を行うことにより、2つ
の受光部の出力を適宜に読み出すことができる。
【0062】次に、別の実施形態について説明する。 (第2の実施形態)図4は、第2の実施形態(請求項
1,5〜7,9,10,12に対応)であるイメージセ
ンサの受光セルを示す図である。第2の実施形態におけ
る構造上の特徴点は、(1)ガードリング14およびP
tSi−SBD15の代わりに、ホトダイオード44を
配置し、(2)反射防止膜12の代わりに、光吸収膜4
2を配置し、(3)反射膜24の代わりに、ホトダイオ
ード44の上面に反射膜45を配置して、反射膜45と
熱吸収膜23との間隔を8/4〜12/4μmに設定し
た点である。
1,5〜7,9,10,12に対応)であるイメージセ
ンサの受光セルを示す図である。第2の実施形態におけ
る構造上の特徴点は、(1)ガードリング14およびP
tSi−SBD15の代わりに、ホトダイオード44を
配置し、(2)反射防止膜12の代わりに、光吸収膜4
2を配置し、(3)反射膜24の代わりに、ホトダイオ
ード44の上面に反射膜45を配置して、反射膜45と
熱吸収膜23との間隔を8/4〜12/4μmに設定し
た点である。
【0063】また、図1に示す構成要件と同じ構成要件
については、同一の参照番号を付与して図4に示し、こ
こでの重複説明を省略する。なお、請求項1,2に記載
の発明と第2の実施形態との対応関係については、第1
の受光部はホトダイオード44に対応し、第2の受光部
はショットキーバリアサーミスタ22に対応する。
については、同一の参照番号を付与して図4に示し、こ
こでの重複説明を省略する。なお、請求項1,2に記載
の発明と第2の実施形態との対応関係については、第1
の受光部はホトダイオード44に対応し、第2の受光部
はショットキーバリアサーミスタ22に対応する。
【0064】請求項6,7に記載の発明と第2の実施形
態との対応関係については、反射膜は反射膜45に対応
する。請求項9に記載の発明と第2の実施形態との対応
関係については、光電変換素子はホトダイオード44に
対応し、熱型赤外線センサはショットキーバリアサーミ
スタ22に対応する。
態との対応関係については、反射膜は反射膜45に対応
する。請求項9に記載の発明と第2の実施形態との対応
関係については、光電変換素子はホトダイオード44に
対応し、熱型赤外線センサはショットキーバリアサーミ
スタ22に対応する。
【0065】請求項10に記載の発明と第2の実施形態
との対応関係については、電荷読み出し拡散層は電荷読
み出し拡散層17に対応し、第1のトランスファゲート
はトランスファゲート16aに対応し、第2のトランス
ファゲートはトランスファゲート16bに対応する。以
下、第2の実施形態の動作を説明する。
との対応関係については、電荷読み出し拡散層は電荷読
み出し拡散層17に対応し、第1のトランスファゲート
はトランスファゲート16aに対応し、第2のトランス
ファゲートはトランスファゲート16bに対応する。以
下、第2の実施形態の動作を説明する。
【0066】まず、半導体基板11の表面側から光が照
射されると、8〜12μm帯の赤外線(図4中のA)は
熱吸収膜23に到達して、熱エネルギーに変換される。
しかし、ショットキーバリアサーミスタ22などの厚さ
は1000Å程度と非常に薄いので、8〜12μm帯の
赤外線の一部(図4中のB)は、そのまま透過して反射
膜45に反射され、熱吸収膜23に再び導かれる。
射されると、8〜12μm帯の赤外線(図4中のA)は
熱吸収膜23に到達して、熱エネルギーに変換される。
しかし、ショットキーバリアサーミスタ22などの厚さ
は1000Å程度と非常に薄いので、8〜12μm帯の
赤外線の一部(図4中のB)は、そのまま透過して反射
膜45に反射され、熱吸収膜23に再び導かれる。
【0067】ここで、熱吸収膜23と反射膜45との間
隔dが、8/4〜12/4μm程度に設定されるので、
光学的共振効果により8〜12μm帯の赤外線が熱吸収
膜23に効率よく吸収される。
隔dが、8/4〜12/4μm程度に設定されるので、
光学的共振効果により8〜12μm帯の赤外線が熱吸収
膜23に効率よく吸収される。
【0068】熱吸収膜23の温度変化により、ショット
キーバリアサーミスタ22の逆飽和電流の値が変化し、
拡散層18に蓄積される電荷量が変化する。一方、半導
体基板11の表面側から入射された可視光の大部分(図
4中のC)は、熱吸収膜23および反射膜45を透過し
て、ホトダイオード44に到達する。ホトダイオード4
4は可視光を光電変換して電荷を蓄積する。
キーバリアサーミスタ22の逆飽和電流の値が変化し、
拡散層18に蓄積される電荷量が変化する。一方、半導
体基板11の表面側から入射された可視光の大部分(図
4中のC)は、熱吸収膜23および反射膜45を透過し
て、ホトダイオード44に到達する。ホトダイオード4
4は可視光を光電変換して電荷を蓄積する。
【0069】なお、ホトダイオード44を透過した光
は、光吸収膜42に吸収されるため、迷光の発生は防止
され、画質が劣化する心配はない。この状態で、電極X
1,X2に電圧を適宜に印加することにより、2つの受
光部の信号電荷を電極Y側に読み出すことができる。以
上説明した動作により、第2の実施形態では、2種類の
受光部を備えるので、種々の使用環境や広範囲の波長帯
をカバーし、良好な検出性能を得ることができる。
は、光吸収膜42に吸収されるため、迷光の発生は防止
され、画質が劣化する心配はない。この状態で、電極X
1,X2に電圧を適宜に印加することにより、2つの受
光部の信号電荷を電極Y側に読み出すことができる。以
上説明した動作により、第2の実施形態では、2種類の
受光部を備えるので、種々の使用環境や広範囲の波長帯
をカバーし、良好な検出性能を得ることができる。
【0070】すなわち、明るい環境では、熱吸収膜23
が赤外線カットフィルタとして機能し、ホトダイオード
44に到達する赤外線を低減する。そのため、第1の受
光部は、赤外線に妨害されず、対象物を鮮明に撮像する
ことができる。一方、暗い環境下では、ショットキーバ
リアサーミスタ22が、常温付近の対象物から発した赤
外線を検知し、対象物を鮮明に撮像することができる。
が赤外線カットフィルタとして機能し、ホトダイオード
44に到達する赤外線を低減する。そのため、第1の受
光部は、赤外線に妨害されず、対象物を鮮明に撮像する
ことができる。一方、暗い環境下では、ショットキーバ
リアサーミスタ22が、常温付近の対象物から発した赤
外線を検知し、対象物を鮮明に撮像することができる。
【0071】また、2つの撮像面が重複して配置される
ので、撮像面ごとに結像光学系を並置する必要がなく、
装置全体の小型化を実現することができる。さらに、上
下2層に受光部が積層されるので、同一面内に2つの受
光部を配置する場合に比べ、受光セル10の集積度を格
段に高めることができる。したがって、空間解像度が優
れたイメージセンサを実現することができる。
ので、撮像面ごとに結像光学系を並置する必要がなく、
装置全体の小型化を実現することができる。さらに、上
下2層に受光部が積層されるので、同一面内に2つの受
光部を配置する場合に比べ、受光セル10の集積度を格
段に高めることができる。したがって、空間解像度が優
れたイメージセンサを実現することができる。
【0072】また、反射膜45と熱吸収膜23との間隔
が、8/4〜12/4μmに設定されるので、光学的共
振効果により、熱吸収膜23は、8〜12μm帯の赤外
線を効率的に受光することができる。なお、上述した実
施形態では、2つの受光部から信号電荷を選択的に読み
出す場合について説明したが、その構成に限定されるも
のではない。例えば、図5に示すように、電荷混合拡散
層54aにおいて2つの受光部からの信号電荷を予め混
合し、混合後の信号電荷を読み出してもよい。このよう
な構成では、受光帯域の広いイメージセンサを簡易に実
現することができる。
が、8/4〜12/4μmに設定されるので、光学的共
振効果により、熱吸収膜23は、8〜12μm帯の赤外
線を効率的に受光することができる。なお、上述した実
施形態では、2つの受光部から信号電荷を選択的に読み
出す場合について説明したが、その構成に限定されるも
のではない。例えば、図5に示すように、電荷混合拡散
層54aにおいて2つの受光部からの信号電荷を予め混
合し、混合後の信号電荷を読み出してもよい。このよう
な構成では、受光帯域の広いイメージセンサを簡易に実
現することができる。
【0073】また、上述した実施形態では、X−Yアド
レス方式により画素単位の信号電荷を読み出している
が、その構成に限定されるものではない。例えば、電荷
読み出し拡散層17に転送電極を設けてCCDを構成し
てもよい。このような構成では、電荷転送方式により信
号電荷を読み出すことができる。さらに、上述した実施
形態では、熱型赤外線センサとしてショットキーバリア
サーミスタ22を採用しているが、その構成に限定され
るものではない。例えば、PN接合ダイオード,ボロメ
ータ,焦電型センサ,熱電対その他の熱型赤外線センサ
を使用してもよい。
レス方式により画素単位の信号電荷を読み出している
が、その構成に限定されるものではない。例えば、電荷
読み出し拡散層17に転送電極を設けてCCDを構成し
てもよい。このような構成では、電荷転送方式により信
号電荷を読み出すことができる。さらに、上述した実施
形態では、熱型赤外線センサとしてショットキーバリア
サーミスタ22を採用しているが、その構成に限定され
るものではない。例えば、PN接合ダイオード,ボロメ
ータ,焦電型センサ,熱電対その他の熱型赤外線センサ
を使用してもよい。
【0074】また、第1の実施形態では、PtSi−S
BD15を第1の受光部として採用しているが、その構
成に限定されるものではない。例えば、その他の金属,
金属シリサイドと組み合わせたショットキーバリアダイ
オードなどを採用してもよい。このように接合部の組み
合わせを換えることにより、波長8μm程度の赤外光を
検出することが可能となる。
BD15を第1の受光部として採用しているが、その構
成に限定されるものではない。例えば、その他の金属,
金属シリサイドと組み合わせたショットキーバリアダイ
オードなどを採用してもよい。このように接合部の組み
合わせを換えることにより、波長8μm程度の赤外光を
検出することが可能となる。
【0075】さらに、上述した実施形態では、第1の受
光部を光電変換素子により構成しているが、その構成に
限定されるものではない。例えば、熱型赤外線センサに
より構成してもよい。なお、この構成では、第1の受光
部と半導体基板とを熱的に遮断するために、第1の受光
部の下の基板に空隙を設けるなどの断熱構造をとること
が特に好ましい。このように、第1および第2の受光部
を熱型赤外線センサとすることにより、光電変換型の赤
外線センサに必要な冷却装置を一切不要とすることがで
きる。
光部を光電変換素子により構成しているが、その構成に
限定されるものではない。例えば、熱型赤外線センサに
より構成してもよい。なお、この構成では、第1の受光
部と半導体基板とを熱的に遮断するために、第1の受光
部の下の基板に空隙を設けるなどの断熱構造をとること
が特に好ましい。このように、第1および第2の受光部
を熱型赤外線センサとすることにより、光電変換型の赤
外線センサに必要な冷却装置を一切不要とすることがで
きる。
【0076】また、上述した実施形態では、断熱構造を
形成するために、空隙を設けているが、例えば、断熱性
に優れた光透過材を、空隙部分の一部もしくは全部に配
してもよい(これは、本発明に光透過材を構成要件とし
て付加したものである)。このような構成により、断熱
構造の機械的強度を高める効果がある。
形成するために、空隙を設けているが、例えば、断熱性
に優れた光透過材を、空隙部分の一部もしくは全部に配
してもよい(これは、本発明に光透過材を構成要件とし
て付加したものである)。このような構成により、断熱
構造の機械的強度を高める効果がある。
【0077】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1に記載の
受光素子は、2種類の受光部を備えるので、種々の使用
環境や広範囲の波長帯を確実にカバーし、良好な検出性
能を得ることができる。したがって、環境の変化によっ
ては、対象物の存在すら検出できなくなるという従来の
問題点が解決される。
受光素子は、2種類の受光部を備えるので、種々の使用
環境や広範囲の波長帯を確実にカバーし、良好な検出性
能を得ることができる。したがって、環境の変化によっ
ては、対象物の存在すら検出できなくなるという従来の
問題点が解決される。
【0078】また、第2の受光部は、半導体基板の上方
に空隙を隔てて配置されるので、断熱性が高く、熱容量
が小さくなる。したがって、赤外線による温度変化率が
高くなり、微弱な赤外線を高感度に検知することができ
る。さらに、2つの受光部が上下に積層されるので、2
つの受光部を同一面内に並置する場合に比べ、半導体素
子の集積度を高くすることができる。
に空隙を隔てて配置されるので、断熱性が高く、熱容量
が小さくなる。したがって、赤外線による温度変化率が
高くなり、微弱な赤外線を高感度に検知することができ
る。さらに、2つの受光部が上下に積層されるので、2
つの受光部を同一面内に並置する場合に比べ、半導体素
子の集積度を高くすることができる。
【0079】一般に、2つの受光部を並置する場合に
は、受光部ごとに集光光学系を配置したり、光路を分岐
するための専用プリズムなどを別途配置する必要があっ
た。しかし、請求項1の受光素子は、受光部が上下に積
層されるので、一つの光学系を備えればよく、光学系の
占める実装スペースを格段に小型化することができる。
は、受光部ごとに集光光学系を配置したり、光路を分岐
するための専用プリズムなどを別途配置する必要があっ
た。しかし、請求項1の受光素子は、受光部が上下に積
層されるので、一つの光学系を備えればよく、光学系の
占める実装スペースを格段に小型化することができる。
【0080】請求項2に記載の受光素子では、第1の受
光部が、第1の波長帯の光を吸収する光フィルタとして
機能するので、第2の受光部に到達する光を予め弁別
し、第2の受光部における受光帯域の弁別度を高めるこ
とができる。請求項3に記載の受光素子では、反射膜
が、第1の受光部側に光を戻すので、第1の受光部にお
ける受光効率を高めることができる。
光部が、第1の波長帯の光を吸収する光フィルタとして
機能するので、第2の受光部に到達する光を予め弁別
し、第2の受光部における受光帯域の弁別度を高めるこ
とができる。請求項3に記載の受光素子では、反射膜
が、第1の受光部側に光を戻すので、第1の受光部にお
ける受光効率を高めることができる。
【0081】請求項4に記載の受光素子では、反射膜と
第1の受光部との間隔が、第1の波長帯における波長の
n/4倍(nは奇数)に設定されるので、光学的共振効
果により、第1の受光部は、第1の波長帯の光を効率よ
く受光することができる。請求項5に記載の受光素子で
は、第2の受光部は、第2の波長帯の光を吸収する光フ
ィルタとして機能するので、第1の受光部に到達する光
を弁別し、第1の受光部における受光帯域の弁別度を高
めることができる。
第1の受光部との間隔が、第1の波長帯における波長の
n/4倍(nは奇数)に設定されるので、光学的共振効
果により、第1の受光部は、第1の波長帯の光を効率よ
く受光することができる。請求項5に記載の受光素子で
は、第2の受光部は、第2の波長帯の光を吸収する光フ
ィルタとして機能するので、第1の受光部に到達する光
を弁別し、第1の受光部における受光帯域の弁別度を高
めることができる。
【0082】請求項6に記載の受光素子では、反射膜
が、第2の受光部側に光を戻すので、第2の受光部にお
ける受光効率を高めることができる。請求項7に記載の
受光素子では、反射膜と第2の受光部との間隔が、第2
の波長帯における波長のn/4倍(nは奇数)に設定さ
れるので、光学的共振効果により、第2の受光部は、第
2の波長帯の光を効率よく受光することができる。
が、第2の受光部側に光を戻すので、第2の受光部にお
ける受光効率を高めることができる。請求項7に記載の
受光素子では、反射膜と第2の受光部との間隔が、第2
の波長帯における波長のn/4倍(nは奇数)に設定さ
れるので、光学的共振効果により、第2の受光部は、第
2の波長帯の光を効率よく受光することができる。
【0083】請求項8に記載の受光素子では、第1の受
光部が、太陽光などに含まれる近赤外線の周辺光(波長
8μm未満)を吸収するので、第2の受光部は、周辺光
に妨害されることなく、常温付近の対象物から生じた遠
赤外線(波長8μm以上)の光を鮮明に検知することが
可能となる。一方、大気中の雨滴量が増すと、8〜12
μm程度の遠赤外線は減衰する。しかし、4μm近辺の
近赤外線は減衰せず、第1の受光部に強く到達する。し
たがって、大気中の雨滴の影響にかかわらず、第1の受
光部は、常温付近の対象物から発せられる波長4μm近
辺の赤外線を高S/Nで検知することができる。
光部が、太陽光などに含まれる近赤外線の周辺光(波長
8μm未満)を吸収するので、第2の受光部は、周辺光
に妨害されることなく、常温付近の対象物から生じた遠
赤外線(波長8μm以上)の光を鮮明に検知することが
可能となる。一方、大気中の雨滴量が増すと、8〜12
μm程度の遠赤外線は減衰する。しかし、4μm近辺の
近赤外線は減衰せず、第1の受光部に強く到達する。し
たがって、大気中の雨滴の影響にかかわらず、第1の受
光部は、常温付近の対象物から発せられる波長4μm近
辺の赤外線を高S/Nで検知することができる。
【0084】したがって、上述した悪環境のどちらにお
いても、対象物からの赤外線を鮮明に検知することがで
きる。請求項9に記載の受光素子では、明るい環境下に
おいて、第2の受光部が赤外線カットフィルタとして機
能し、第1の受光部に到達する赤外線を低減する。その
ため、光電変換素子からなる第1の受光部は、赤外線に
妨害されず、対象物からの可視光を鮮明に検知すること
ができる。
いても、対象物からの赤外線を鮮明に検知することがで
きる。請求項9に記載の受光素子では、明るい環境下に
おいて、第2の受光部が赤外線カットフィルタとして機
能し、第1の受光部に到達する赤外線を低減する。その
ため、光電変換素子からなる第1の受光部は、赤外線に
妨害されず、対象物からの可視光を鮮明に検知すること
ができる。
【0085】一方、暗い環境下では、第2の受光部が、
常温付近の対象物から発した赤外線を検知し、対象物を
的確に検出することができる。したがって、周囲の明る
さなどにかかわらず、対象物からの光を的確に検知する
ことができる。請求項10に記載の受光素子では、第1
および第2のトランスファゲートを操作することによ
り、第1の受光部の出力と、第2の受光部の出力とを選
択的に読み出すことができる。
常温付近の対象物から発した赤外線を検知し、対象物を
的確に検出することができる。したがって、周囲の明る
さなどにかかわらず、対象物からの光を的確に検知する
ことができる。請求項10に記載の受光素子では、第1
および第2のトランスファゲートを操作することによ
り、第1の受光部の出力と、第2の受光部の出力とを選
択的に読み出すことができる。
【0086】したがって、使用環境や対象物に適応した
受光部を容易に選択することができる。請求項11に記
載の受光素子では、トランスファゲートを操作すること
により、第1の受光部の出力と、第2の受光部の出力と
を混合して読み出すことができる。したがって、異なる
受光部を適宜に組み合わせて受光素子を構成することに
より、受光帯域が広い受光素子を簡便に実現することが
できる。
受光部を容易に選択することができる。請求項11に記
載の受光素子では、トランスファゲートを操作すること
により、第1の受光部の出力と、第2の受光部の出力と
を混合して読み出すことができる。したがって、異なる
受光部を適宜に組み合わせて受光素子を構成することに
より、受光帯域が広い受光素子を簡便に実現することが
できる。
【0087】請求項12に記載のイメージセンサでは、
請求項1乃至請求項11のいずれか1項に記載の受光素
子を複数配列して、撮像部を構成する。したがって、2
つの波長帯について、光像を撮像することができるの
で、種々の使用環境や広範囲の波長帯を確実にカバーし
て、良好な撮像性能を得ることができる。
請求項1乃至請求項11のいずれか1項に記載の受光素
子を複数配列して、撮像部を構成する。したがって、2
つの波長帯について、光像を撮像することができるの
で、種々の使用環境や広範囲の波長帯を確実にカバーし
て、良好な撮像性能を得ることができる。
【0088】また、2種類の受光部が縦方向に積層され
るので、2種類の受光部を同一面内に並置する場合に比
べ、受光セルの集積度を格段に高めることができる。し
たがって、空間解像度が優れたイメージセンサを実現す
ることができる。一般に、2つの撮像面を並置する場合
には、撮像面ごとに結像光学系を配置したり、光路を分
岐するための専用プリズムなどを別途配置する必要があ
った。しかし、請求項12のイメージセンサは、撮像面
が上下に積層されるので、一つの結像光学系を備えれば
よく、光学系の占める実装スペースを格段に小型化する
ことができる。
るので、2種類の受光部を同一面内に並置する場合に比
べ、受光セルの集積度を格段に高めることができる。し
たがって、空間解像度が優れたイメージセンサを実現す
ることができる。一般に、2つの撮像面を並置する場合
には、撮像面ごとに結像光学系を配置したり、光路を分
岐するための専用プリズムなどを別途配置する必要があ
った。しかし、請求項12のイメージセンサは、撮像面
が上下に積層されるので、一つの結像光学系を備えれば
よく、光学系の占める実装スペースを格段に小型化する
ことができる。
【図1】第1の実施形態(請求項1〜4,8,10,1
2に対応)であるイメージセンサの受光セルを示す図で
ある。
2に対応)であるイメージセンサの受光セルを示す図で
ある。
【図2】X−Yアドレス方式のイメージセンサの構成を
示す図である。
示す図である。
【図3】第1の実施形態の動作を説明する分解斜視図で
ある。
ある。
【図4】第2の実施形態(請求項1,5〜7,9,1
0,12に対応)であるイメージセンサの受光セルを示
す図である。
0,12に対応)であるイメージセンサの受光セルを示
す図である。
【図5】請求項11に対応する受光セルを示す図であ
る。
る。
10 受光セル 11 半導体基板 12 反射防止膜 13 P+ 分離層 14 ガードリング 14a N+ 拡散層 15 PtSi−SBD 16a トランスファゲート 16b トランスファゲート 17 電荷読み出し拡散層 18 拡散層 20 架橋構造 21 橋脚部 22 ショットキーバリアサーミスタ 23 熱吸収膜 24 反射膜 25 バイアス電源 31 撮像部 32 水平走査信号発生部 33 受光帯域選択部 34 垂直走査信号発生部 35 出力スイッチ群 42 光吸収膜 44 ホトダイオード 45 反射膜
Claims (12)
- 【請求項1】 半導体基板上に形成され、第1の波長帯
の光を検知する第1の受光部と、 第2の波長帯の光を検知する第2の受光部とを備え、 前記第2の受光部は、前記第1の受光部の上方に空隙を
隔てて支持されることを特徴とする受光素子。 - 【請求項2】 請求項1に記載の受光素子において、 前記第1の受光部は、 前記半導体基板の裏面側から入射される光の内、前記第
1の波長帯の光を一部もしくは全部吸収して検知し、 前記第2の受光部は、 前記第1の受光部を透過した光の内、前記第2の波長帯
の光を検知することを特徴とする受光素子。 - 【請求項3】 請求項2に記載の受光素子において、 前記第2の受光部は、 前記第1の受光部と対向する側に、前記第1の受光部を
透過した光の少なくとも一部を反射する反射膜を備えた
ことを特徴とする受光素子。 - 【請求項4】 請求項3に記載の受光素子において、 前記反射膜と前記第1の受光部との間隔は、 前記第1の波長帯における波長のn/4倍(nは奇数)
であることを特徴とする受光素子。 - 【請求項5】 請求項1に記載の受光素子において、 前記第2の受光部は、 前記半導体基板の表面側から入射される光の内、前記第
2の波長帯の光を一部もしくは全部吸収して検知し、 前記第1の受光部は、 前記第2の受光部を透過した光の内、前記第1の波長帯
の光を検知することを特徴とする受光素子。 - 【請求項6】 請求項5に記載の受光素子において、 前記第1の受光部は、 前記第2の受光部と対向する側に、前記第2の受光部を
透過した光の少なくとも一部を反射する反射膜を備えた
ことを特徴とする受光素子。 - 【請求項7】 請求項6に記載の受光素子において、 前記反射膜と前記第2の受光部との間隔は、 前記第2の波長帯における波長のn/4倍(nは奇数)
であることを特徴とする受光素子。 - 【請求項8】 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に
記載の受光素子において、 前記第1の受光部は、 波長8μm未満の赤外光を光電変換するショットキーバ
リアダイオードからなり、 前記第2の受光部は、 赤外光を熱エネルギーに変換して検知する熱型赤外線セ
ンサであることを特徴とする受光素子。 - 【請求項9】 請求項5乃至請求項7のいずれか1項に
記載の受光素子において、 前記第1の受光部は、 可視光を光電変換する光電変換素子であり、 前記第2の受光部は、 赤外光を熱エネルギーに変換して検知する熱型赤外線セ
ンサであることを特徴とする受光素子。 - 【請求項10】 請求項1乃至請求項9のいずれか1項
に記載の受光素子において、 前記半導体基板上に形成され、出力側に電気的に接続さ
れた電荷読み出し拡散層と、 前記第1の受光部に対し電気的に接続された拡散層と、
前記電荷読み出し拡散層との間に配置され、チャネルを
制御する第1のトランスファゲートと、 前記第2の受光部に対し電気的に接続された拡散層と、
前記電荷読み出し拡散層との間に配置され、チャネルを
制御する第2のトランスファゲートとを備えたことを特
徴とする受光素子。 - 【請求項11】 請求項1乃至請求項9のいずれか1項
に記載の受光素子において、 前記半導体基板上に形成され、出力側に電気的に接続さ
れた電荷読み出し拡散層と、 前記第1の受光部と前記第2の受光部とに対し電気的に
接続され、両方から蓄積される電荷を混合する電荷混合
拡散層と、 前記電荷読み出し拡散層と前記電荷混合拡散層との間に
配置され、チャネルを制御するトランスファゲートとを
備えたことを特徴とする受光素子。 - 【請求項12】 請求項1乃至請求項11のいずれか1
項に記載の受光素子を線状もしくは面状に複数配列して
なる撮像部と、 前記複数の受光素子において検知される画素単位の電荷
を、電荷転送方式もしくはXYアドレス方式により逐次
読み出す画像読み出し部とを備えたことを特徴とするイ
メージセンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8235377A JPH1079499A (ja) | 1996-09-05 | 1996-09-05 | 受光素子およびこれを用いたイメージセンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8235377A JPH1079499A (ja) | 1996-09-05 | 1996-09-05 | 受光素子およびこれを用いたイメージセンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1079499A true JPH1079499A (ja) | 1998-03-24 |
Family
ID=16985188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8235377A Pending JPH1079499A (ja) | 1996-09-05 | 1996-09-05 | 受光素子およびこれを用いたイメージセンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1079499A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004531740A (ja) * | 2001-06-27 | 2004-10-14 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 二重波長帯用のセンサ |
| JP2005217629A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Toshiba Corp | 固体撮像装置、撮像回路および撮像データ出力方法 |
| JP2012079979A (ja) * | 2010-10-04 | 2012-04-19 | Sony Corp | 固体撮像装置、および、その製造方法、電子機器 |
| JP2017538101A (ja) * | 2014-10-03 | 2017-12-21 | コミサリア ア エナジー アトミック エ オックス エナジーズ オルタネティヴ | 指紋又は掌紋のセンサ |
| JP2020506377A (ja) * | 2017-01-16 | 2020-02-27 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | セレン化鉛検出器及び集積されるバンドパスフィルタを備えるカプノグラフィー |
| WO2026014062A1 (ja) * | 2024-07-09 | 2026-01-15 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 光検出センサ、光検出装置及び電子機器 |
-
1996
- 1996-09-05 JP JP8235377A patent/JPH1079499A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004531740A (ja) * | 2001-06-27 | 2004-10-14 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 二重波長帯用のセンサ |
| JP2005217629A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Toshiba Corp | 固体撮像装置、撮像回路および撮像データ出力方法 |
| JP2012079979A (ja) * | 2010-10-04 | 2012-04-19 | Sony Corp | 固体撮像装置、および、その製造方法、電子機器 |
| US9136420B2 (en) | 2010-10-04 | 2015-09-15 | Sony Corporation | Solid-state imaging device with photoelectric conversion section, method of manufacturing the same, and electronic device with photoelectric conversion section |
| JP2017538101A (ja) * | 2014-10-03 | 2017-12-21 | コミサリア ア エナジー アトミック エ オックス エナジーズ オルタネティヴ | 指紋又は掌紋のセンサ |
| JP2020506377A (ja) * | 2017-01-16 | 2020-02-27 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | セレン化鉛検出器及び集積されるバンドパスフィルタを備えるカプノグラフィー |
| WO2026014062A1 (ja) * | 2024-07-09 | 2026-01-15 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 光検出センサ、光検出装置及び電子機器 |
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