JPH1083576A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 接着力が大きく剥離が生じることなく、機械
加工に耐えることができ、また接着剤による記録層の劣
化を防止した光記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板、記録層及び該記録層上に接着
層を介して保護基板が積層されている光記録媒体におい
て、該接着層が２種の接着剤ＡおよびＢを積層してな
り、記録層に接する接着剤Ａの溶融粘度が１３０℃にお
いて３０×１０^３ｐｏｉｓｅ以上であり、記録層に接触
しない接着剤Ｂの溶融粘度が１３０℃において２０×１
０^３ｐｏｉｓｅ以下である光記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は耐久性、特に再生光
劣化および機械的強度に優れた光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、多量の情報を貯蔵する手段とし
て、光によって情報の記録及び／又は再生を行なう光記
録媒体が提案されている。そして従来、光を用いて行な
う方法として、例えばオプティカル・エンジニアリング
（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ），Ｖｏ
ｌ．１５，Ｎｏ．２，Ｍａｒｃｈ−Ａｐｒｉｌ，１９７
６、ｐｐ．９９〜 の“レビュー アンド アナリシス
オブ オプティカル レコーディング メディア（Ｒ
ｅｖｉｅｗ ａｎｄ Ａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ Ｏｐｔ
ｉｃａｌ Ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ Ｍｅｄｉａ）”に記載
されている様に、光ビーム、例えばレーザー光を光記録
媒体の記録層へ照射する事により記録層に変形や孔を生
じさせるタイプやバブルを形成させるタイプ、及び光学
的性質を変化させるタイプ等が知られている。

【０００３】そして、記録層に用いられる材料として、
例えばＴｅ，Ｂｉ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｉｎ等の低融点金属や
シアニン系、スクワリウム系、フタロシアニン系、テト
ラデヒドロコリン系、ポリメチン系、ナフトキノン系、
ベンゼンジチオールニッケル錯体等の染・顔料（有機色
素）、及びこれら有機色素と金属との複合系の材料が知
られているが、近年上記の記録層材料のうち、有機色素
が安価な光記録媒体を得ることができるため注目されて
いる。

【０００４】すなわち、有機色素記録媒体は、溶媒塗布
法により基板上に記録層として形成することができ、真
空蒸着法で形成される低融点金属化合物よりも、量産性
に優れている。

【０００５】有機色素を記録層に用いた光記録媒体の記
録ピット部では、例えば有機色素の熱分解による脱色に
よって反射率が低下し、かつ記録ピット部の変形による
光学的散乱の効果によって、記録ピット部における情報
再生レーザ光の反射光量が変化するために、記録情報を
感知することができる。

【０００６】ところで、近年光記録媒体には、記録・再
生装置の小型化の要求に伴って、より薄くすることが求
められており、又カード状の外形を有する光カードは、
ＩＳＯの規格によって０．６８〜０．８４ｍｍの厚さと
することが要求されている。

【０００７】一方、光記録媒体の基板表面のゴミやキズ
の記録・再生への影響を少なくするためには、基板の厚
みはできるだけ厚い方が有利であり、通常０．４〜０．
６ｍｍ程度の厚みが適している。また、保護基板は０．
１５〜０．４ｍｍ程度の厚みが要求されている。したが
って、上記の厚みの光カードを得るためには、所謂エア
ーギャップ構造、即ち基板上に設けられた記録層上に厚
み０．５〜１ｍｍ程度の中空部を設け、その上に保護基
板を積層した構成とすることは困難である。

【０００８】従って、光カード等の薄型の光記録媒体に
於ては、記録層上に保護基板が接着層を介して積層され
てなる密着構造のものが採用されている。

【０００９】しかしながら、有機色素を含有する記録層
（以降、有機色素記録層と記す）上に接着剤からなる接
着層が直接接する構成とした場合、有機色素と接着剤の
反応によって記録層が劣化し、記録層に記録された情報
のＣ／Ｎが低下するという問題が生ずることがあった。

【００１０】そしてこれらの問題を解決するために、例
えば特開平２−３１１６号公報には、光情報パターンが
記録される記録層および接着剤層を積層した光カードに
おいて、該記録層と該接着剤層との間に隔壁層を設けた
光カードが提案されている。

【００１１】また本願出願人は特開平１−１４６１４４
号公報にて、有機色素記録層にダメージをあたえにくい
接着剤として、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレ
ン−アクリル酸エステル共重合体またはエチレン−無水
マレイン酸−アクリル酸三元共重合体を主成分とする接
着剤を用いた光記録媒体を開示している。しかし、上記
従来例に示す隔壁層を設ける方法は、製造方法が複雑で
ありコストが高くなる欠点がある。

【００１２】又、上記エチレン−アクリル酸共重合体、
エチレン−アクリル酸エステル共重合体又はエチレン−
無水マレイン酸−アクリル酸三元共重合体を主成分とす
る接着剤は有機色素記録層との相互作用が少なく、接着
力に優れた光記録媒体の貼合せ用接着剤として好適なも
のの１つであるが、この接着剤を用いた光記録媒体につ
いても、高温・高湿の条件下、例えば７０℃、ＲＨ９０
％の条件下で１００時間保存した場合、或いはより高パ
ワーの再生光ビームを用いた場合の有機色素記録層の反
射率の低下をより小さく抑えること、即ち具体的には７
０℃、ＲＨ９０％の条件下での反射率変化率が１０％以
下、特に６％以下、更には４％以下に抑えることが望ま
れ、又高パワーの再生光ビームの連続照射時の記録層反
射率の初期値から１０％低下するのに要する時間が、２
００秒以上、特に２５０秒以上、更には２８０秒以上と
することが望まれている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】上述の問題点を改良す
るために、本出願人は既に特開平５−１９８００９号公
報において、接着剤のビカット軟化点を規定した接着剤
を用いた記録媒体を提案した。しかしこの発明では、前
記接着剤による密着力は２５ｍｍ幅Ｔ型剥離テストにお
いて１ｋｇ以下であった。従来の記録媒体では、この程
度の密着力で十分であったが、光カード媒体の様に基板
と保護基板を前記接着剤で接着してワークサイズの大き
さに形成した後、中空刃切断によって光カードサイズに
切断する工程が必要な場合に、切断工程において光カー
ドの外周部の基板と保護基板の境界部に剥離が生じる問
題が発生した。

【００１４】したがって密着力が１ｋｇ（Ｔ型剥離テス
ト）以上ある記録媒体が必要となってきた。しかしなが
ら、密着力が１ｋｇ以上ある接着剤は、温度１３０℃に
おける溶融粘度が低く、２０×１０³ ｐｏｉｅｓ以下で
あり、これらの接着剤を記録層に積層すると再生光劣化
が著しく速くなる問題が発生した。

【００１５】一方、本出願人は特開平１−９８１３９号
公報において、２種類の異なる接着剤を用いた光カード
を提案しているが、再生光劣化の改良については十分検
討されていなかった。

【００１６】特に近年、光カードにおいては、光カード
の一部にＩＣチップを埋め込んだハイブリッド光カード
が提案されている。これらのハイブリッド光カードにお
いては、ＩＣチップを埋め込むために光カードに機械的
に穴をあける場合に、ストレスによって基板と保護基板
が剥離する問題が生じた。

【００１７】本発明は、この様な従来技術の問題点を解
決するためになされたものであり、接着層に特定の２種
類の異なる接着剤を用いることにより、接着力が１ｋｇ
（Ｔ型剥離テスト）以上と大きいために、切断加工によ
り光カードの外周部の基板と保護基板における剥離が生
じることなく、またＩＣチップを埋め込むための機械加
工に十分に耐えることができ、さらに接着剤による記録
層の劣化を防止した光記録媒体を提供することを目的と
するものである。

【００１８】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、透明基
板、記録層及び該記録層上に接着層を介して保護基板が
積層されている光記録媒体において、該接着層が２種の
接着剤ＡおよびＢを積層してなり、記録層に接する接着
剤Ａの溶融粘度が１３０℃において３０×１０³ｐｏｉ
ｓｅ以上であり、記録層に接触しない接着剤Ｂの溶融粘
度が１３０℃において２０×１０³ｐｏｉｓｅ以下であ
ることを特徴とする光記録媒体である。

【００１９】本発明において、接着層には接着剤Ａおよ
びＢが用いられ、接着剤Ａで透明基板上の記録層を被覆
し、その上に接着剤Ｂを設けて透明基板と保護基板を接
着するが、接着剤ＡおよびＢには、エチレン−アクリル
酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、
エチレン−メタアクリル酸共重合体及びエチレン−メタ
アクリル酸エステル共重合体から選ばれる少なくとも１
種の共重合体を含有する接着剤が好ましい。

【００２０】本発明の光記録媒体の外周部は、密着力を
向上するために接着剤Ｂを介して透明基板と保護基板が
貼り合わされていることを特徴とする。また、本発明に
用いる記録層は、有機色素が用いられるが、特にポリメ
チン系の色素が好ましい。さらに、本発明の光記録媒体
がＩＣチップおよびエンボスを有するハイブリッド光カ
ードであるときに特に有効である。

【００２１】

【発明の実施の形態】次に本発明を図面を用いて詳細に
説明する。図１は本発明に係る光記録媒体の一例を示す
概略断面図である。同図１に於て、本発明の光記録媒体
１０は、透明基板２の外側の第１の面にはハードコート
層１が形成され、内側の第２の面にはプリフォーマット
６が形成され、その上に記録層５が設けられており、該
記録層５は、接着層Ａおよび接着層Ｂからなる接着層３
を介して保護基板４と貼り合わされている。接着層３に
は接着剤ＡおよびＢが用いられ、接着剤Ａで透明基板２
上の記録層５を被覆し、その上に接着剤Ｂを設けて接着
されており、光記録媒体の外周部は接着剤Ｂを介して透
明基板２と保護基板４が貼り合わされている。

【００２２】光記録媒体１の記録層５が形成されていな
い領域には、穴をあけてＩＣチップ９が埋め込まれてお
り、ハイブリッド光カードとして使用することができ
る。また、記録・再生光８は透明基板２の側から照射さ
れ、記録・再生が行なわれる。

【００２３】本発明に於て、接着剤ＡおよびＢは、エチ
レン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エス
テル共重合体、エチレン−メタアクリル酸共重合体及び
エチレン−メタアクリル酸エステル共重合体から選ばれ
る少なくとも１つの共重合体を含有すると共に、接着剤
Ａは溶融粘度が１３０℃において３０×１０³ｐｏｉｓ
ｅ以上、好ましくは３０×１０^３〜１００×１０^３ｐｏ
ｉｓｅ、さらに好ましくは３０×１０^３〜８０×１０^３
ｐｏｉｓｅで、接着剤Ｂは溶融粘度が１３０℃において
２０×１０³ｐｏｉｓｅ以下、好ましくは２０×１０^３
〜５×１０^３ｐｏｉｓｅのものが用いられる。

【００２４】接着剤Ａの１３０℃における溶融粘度が３
０×１０³ｐｏｉｓｅ以上になると著しく記録層の再生
光劣化が改良できることがわかった。このことは、再生
パワー０．２ｍＷ〜０．１ｍＷでの再生光における記録
層の発熱が１３０℃前後であり、再生光による接着剤の
溶融変形が記録層の再生光劣化に影響をあたえているた
めであることが本発明者の検討で明らかになった。その
ために、記録層に接する接着剤として接着剤Ａを用いれ
ば、１３０℃前後における接着剤の溶融変形がないため
に、記録層の再生光劣化を防止することができる。

【００２５】ただし、１００×１０^３ｐｏｉｓｅ以上に
なると、プラスチック基板の熱変形以下の温度で接着
剤と記録層の間に空隙がなくなる様に貼り合わせること
ができないので好ましくなく、また接着剤が十分に溶
解しないために、接着剤内に空隙が発生し、記録・再生
時にノイズが発生しエラーの原因となる。

【００２６】一方、１３０℃における溶融粘度が３０×
１０³ｐｏｉｓｅ以上であると、１００〜１３０℃の温
度でラミネート工程によって接着されるホットメルト接
着剤Ａは溶融粘度が大きいために透明基板および保護基
板へのヌレ性が悪く、強い密着力、例えばＴ型２５ｍｍ
隔離１ｋｇ以上の密着力を得ることができなかった。本
発明者の検討によれば、接着剤の溶融粘度が２０×１０
³ｐｏｉｓｅ以下になると、十分な密着力が得られるこ
とがわかった。そのために、接着剤Ｂを用いれば、透明
基板および保護基板へのヌレ性が良く、透明基板および
保護基板との強い密着力、例えばＴ型２５ｍｍ隔離１ｋ
ｇ以上の密着力を得ることができる。

【００２７】しかしながら、５×１０^３ｐｏｉｓｅ以下
になると８０℃程度でも溶融する接着剤となるために耐
熱保存耐久性が好ましくない。

【００２８】また、上記の接着剤ＡおよびＢに用いられ
る共重合体を主成分とする接着剤は、記録層の保存耐久
性に優れており、特にポリメチン系色素の保存耐久性に
対しては優れた効果がある。

【００２９】本発明に於て、接着剤ＡおよびＢに含まれ
る共重合体の重量平均分子量は約１０，０００〜１，０
００，０００、好ましくは３０，０００〜８００，００
０の範囲が好ましい。

【００３０】接着剤ＡおよびＢに含まれるエチレン−ア
クリル酸共重合体は例えば下記構造式（ＩＩ）で示され
る様に

【００３１】

【化２】 （但し、ａ，ｂ，ｎは正の整数） ポリエチレンの構造中にランダムにカルボキシル基が含
まれた構造を有するものであり、エチレン−アクリル酸
エステル共重合体は、例えば下記構造式（ＩＩＩ）に示
される通りエチレンとアクリル酸エステルの共重合体で
あり、

【００３２】

【化３】 （但し、ａ，ｂ，ｎは正の整数、Ｒ：ＣＨ₃ ，Ｃ₂ Ｈ
₅ ，Ｃ₃ Ｈ₇ ） 又エチレン−メタアクリル酸共重合体は、例えば下記構
造式（ＩＶ）で示される様にポリエチレンの分子構造中
にカルボキシル基がランダムに含まれる構造を有するも
ので、

【００３３】

【化４】 （但し、ａ，ｂ，ｎは正の整数） 更にエチレン−メタアクリル酸エステル共重合体は、例
えば下記構造式（Ｖ）で示される通りの構造を有するも
のである。

【００３４】

【化５】 （但し、ａ，ｂ，ｎは正の整数、Ｒ：ＣＨ₃ ，Ｃ₂ Ｈ
₅ ，Ｃ₃ Ｈ₇ ）

【００３５】上記の共重合体の中で、特にエチレン−ア
クリル酸共重合体（ＥＡＡ）、エチレン−アクリル酸メ
チル共重合体（ＥＭＡ）、エチレン−メタアクリル酸共
重合体（ＥＭＡＡ）及びエチレン−メタアクリル酸メチ
ル共重合体（ＥＭＭＡ）が好ましい。

【００３６】そして、本発明の接着剤ＡおよびＢは上記
４種類の共重合体の少なくとも１種を含有するものであ
り、又２種以上の混合物を含有させてもよい。そして又
本発明に於いては、同種の共重合体の２つ以上の異なる
共重合体、例えばエチレン−メタアクリル酸メチル共重
合体とエチレン−メタアクリル酸エチル共重合体の混合
物を接着剤中に含有させても良い。

【００３７】本発明に於て、接着剤ＡおよびＢの溶融粘
度は、主に下記の３つの要素、即ち （１）接着剤ＡおよびＢに含まれる前記した各々の共重
合体におけるアクリル酸、アクリル酸エステル、メタア
クリル酸、メタアクリル酸エステルの含有量 （２）接着剤ＡおよびＢ中の前記共重合体の含有量 （３）接着剤ＡおよびＢ中の添加剤 を単独で或いは２つ以上の組合せで適宜変化させること
によって制御することができるが、本発明に於ては、接
着剤Ａについては上記（１）〜（３）の要素を制御して
溶融粘度を調整し、添加剤を加えないかもしくは添加剤
の添加量を極力抑えることが、記録層と接着層との相互
作用を防止する上で好ましい。

【００３８】本発明に於いては、接着剤Ａにおける共重
合体の総含有量として、接着剤Ａの８０〜１００ｗｔ
％、特に９０〜１００ｗｔ％、更には９５〜１００ｗｔ
％の範囲内とし、又本発明の接着剤に含まれる共重合体
におけるアクリル酸、アクリル酸エステル、メタアクリ
ル酸或いはメタアクリル酸エステルの含有量（モノマー
換算）としては、共重合体の２０ｗｔ％以下、特に８〜
１５ｗｔ％、更には９〜１２ｗｔ％の範囲内となること
が好ましい。

【００３９】本発明に於いては、接着剤Ｂにおける上記
の共重合体の総含有量として、接着剤Ｂの５０〜９５ｗ
ｔ％、特に７０〜９０ｗｔ％の範囲が好ましい。

【００４０】接着剤に含有される添加剤の含有量とし
て、１〜１０重量％の範囲が好ましい。

【００４１】そして、上記組成範囲内で接着剤Ａの溶融
粘度を１３０℃において３０×１０^３ｐｏｉｓｅ以上に
調整することによって、高温・高湿時或いはより高パワ
ーの再生光ビームを用いた時に於いても、記録層の反射
率の低下が少ない、耐久性がより一層向上した光記録媒
体を得ることができる。

【００４２】なお、本発明に於いて共重合体におけるア
クリル酸、アクリル酸エステル、メタアクリル酸、或い
はメタアクリル酸エステルの含有量は赤外吸収スペクト
ルでカルボニルの吸収を定量することによって算出でき
る。

【００４３】本発明に於いて接着層に添加する添加剤と
しては、例えば粘着付与剤や軟化剤が挙げられ、粘着付
与剤としては例えばロジン，重合ロジン，水素添加ロジ
ン，ロジンエステル等の天然樹脂及びその変成品，脂肪
族化合物，脂環式化合物，芳香族，石油樹脂，テルペン
樹脂，テルペン・フェノール樹脂，水素添加テルペン樹
脂，クマロン樹脂などが挙げられ，又軟化剤としては、
例えばプロセスオイル，パラフィンオイル，ヒマシ油，
ポリブテン，低分子量ポリイソプレン等が挙げられる。
更に、本発明の接着層には記録層との相互作用を生じ
ず、且つ上記した物性を変化させない範囲で必要に応じ
て紫外線吸収剤等を添加してもよい。

【００４４】本発明において、接着剤Ｂは、溶融粘度を
１３０℃において２０×１０^３ｐｏｉｓｅ以下とした接
着剤である。溶融粘度を下げるために必ずしもメルトフ
ローレート（ＪＩＳ Ｋ６７３０、またはＡＳＴＭ Ｄ
１２３８）を大きくしなくてもよい。メルトフローレー
トを大きくし接着剤の樹脂の融点を低くすると、耐熱性
が悪くなるために、添加剤の添加により１３０℃におけ
る溶融粘度をコントロールするのが好ましい。

【００４５】即ち本発明に於いて、接着剤ＡおよびＢの
組成として前記した様に共重合体のアクリル酸，アクリ
ル酸エステル，メタアクリル酸，メタアクリル酸エステ
ルの含有量を２０ｗｔ％以下とした場合、接着層の臨界
表面張力が例えば３０〜３７ｄｙｎ／ｃｍとなって、光
記録媒体用基板及び／又は保護基板として通常用いられ
るポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）基板や、ポリ
カーボネート（ＰＣ）基板等の樹脂基板に対する接着剤
の濡れ性が悪くなる為に、接着層と透明基板２及び／又
は保護基板との密着性が若干低下する傾向にあるが、上
記した様に接着フィルム或いは接着層の表面改質を行な
って臨界表面張力を向上させることで密着力の低下を抑
えることができる。

【００４６】このとき表面改質の方法としては特に限定
されないが、例えばコロナ放電処理、オゾン処理、アル
カリ処理、アルゴンプラズマ処理、酸素プラズマ処理等
が挙げられ、具体的には、接着フィルムとしてエチレン
−アクリル酸共重合体の接着フィルムを熔融押出し法に
よってシート状に形成する時に、押出し成形直後に両面
にコロナ放電装置を用いてコロナ放電処理を行なうこと
によって、接着シート表面の臨界表面張力を向上させる
ことができる。そして両面の表面改質を容易に行なうこ
とができるため、接着シートを用いる上記の製造方法
は、接着性に優れた光記録媒体を製造するうえで好まし
い。なお、本発明に於て臨界表面張力の測定はＪＩＳ
Ｋ−６７６８の方法に従って行なったものである。

【００４７】なお、本発明に係る光記録媒体の接着剤Ｂ
に関して求められる接着力としては、厚さ０．４ｍｍの
２枚の樹脂シートを該接着剤Ｂで接着した時のＴ型剥離
試験による接着力が１ｋｇ／２５ｍｍ以上が好ましい。
本発明に於て接着剤ＡおよびＢの厚さは、特に限定する
ことはないが通常５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１
２０μｍが好ましい。

【００４８】次に本発明に於て記録層５は、記録に使用
する光の波長、例えば半導体レーザーの様に光ビームの
波長が６５０ｎｍ以上、特に７００〜９００ｎｍの範囲
にある場合、該光ビームの波長域に吸収極大波長を有す
ることが好ましく、又光ビームの照射によって光学的に
検出可能な変化が生ずるのに必要なエネルギーの小さい
ことが好ましい。

【００４９】又、再生に使用する光に対して、情報の記
録部と非記録部とで光学特性の差が大きいものが好まし
い。そして本発明における記録層５に用いられる物質と
しては、例えば、アントラキノン誘導体（特にインダス
レン骨格を有するもの），ジオキサジン化合物及びその
誘導体，トリフェノジチアジン化合物，フェナンスレン
誘導体，シアニン化合物，メロシアニン化合物，ピリリ
ウム系化合物，キサンテン系化合物，トリフェニルメタ
ン系化合物，クロコニウム系色素，アゾ色素，クロコン
類，アジン類，インジゴイド類，ポリメチン系色素，ア
ズレン系色素，スクアリウム系色素，ポリメチン鎖を有
するシアニン系色素，テトラフェニルシアニン系色素等
の有機色素物質が挙げられる。

【００５０】特に本発明に於て、下記一般式（１）で示
されるポリメチン色素を記録層に用いた場合、特に耐久
性に優れた光記録媒体を得ることができる。

【００５１】

【化６】

【００５２】（式中、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは水素原子，ア
ルキル基，アルケニル基，アラルキル基，アリール基，
スチリルおよび複素環基から選ばれる基を示す。ｒ
₁ ′，ｒ₂′は水素原子，アルキル基，環式アルキル
基，アルケニル基，アラルキル基およびアリール基から
選ばれる基を示し、ｋは０又は１、Ｌは０，１又は２
で、Ｘ^-はアニオンを意味する。なお、Ａ，Ｂ，Ｄ，
Ｅ，ｒ₁ ′及びｒ₂ ′におけるアラルキル基，アリール
基，スチリル基，複素環基は置換されているものでもよ
い。）

【００５３】上記一般式中の略号についてさらに詳しく
述べる。Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは、水素原子又はアルキル基
（例えば、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，ｉｓ
ｏ−プロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｉ
ｓｏ−ブチル基，ｔ−ブチル基，ｎ−アミル基，ｔ−ア
ミル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−オクチル基，ｔ−オクチ
ル基など）を示し、さらに他のアルキル基、例えば置換
アルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル基，３−ヒ
ドロキシプロピル基，４−ヒドロキシブチル基，２−ア
セトキシエチル基，カルボキシメチル基，２−カルボキ
シエチル基，３−カルボキシプロピル基，２−スルホエ
チル基，３−スルホプロピル基，４−スルホブチル基，
３−スルフェートプロピル基，４−スルフェートブチル
基、Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基，
３−（アセチルスルフアミル）プロピル基，４−（アセ
チルスルフアミル）ブチル基など，環式アルキル基（例
えば、シクロヘキシル基など），アルケニル基（ビニル
基，プロペニル基，ブテニル基，ペンテニル基，ヘキセ
ニル基，ヘプテニル基，オクテニル基，ドデシニル基，
プレニル基など），アラルキル基（例えば、ベンジル
基，フェネチル基，α−ナフチルメチル基，β−ナフチ
ルメチル基など），置換アラルキル基（例えば、カルボ
キシベンジル基，スルホベンジル基，ヒドロキシベンジ
ル基など），アリール基（例えばフェニル基など），置
換アリール基（例えばジエチルアミノフェニル基など）
を包含する。

【００５４】ｒ₁ ′，ｒ₂ ′は水素原子又はアルキル基
（例えば、メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，ｉｓ
ｏ−プロピル基，ｎ−ブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｉ
ｓｏ−ブチル基，ｔ−ブチル基，ｎ−アミル基，ｔ−ア
ミル基，ｎ−ヘキシル基，ｎ−オクチル基，ｔ−オクチ
ル基など）を示し、さらに他のアルキル基、例えば置換
アルキル基、（例えば、２−ヒドロキシエチル基，３−
ヒドロキシプロピル基，４−ヒドロキシブチル基，２−
アセトキシエチル基，カルボキシメチル基，２−カルボ
キシエチル基，３−カルボキシプロピル基，２−スルホ
エチル基，３−スルホプロピル基，４−スルホブチル
基，３−スルフェートプロピル基，４−スルフェートブ
チル基，Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル
基，３−（アセチルスルファミル）プロピル基，４−
（アセチルスルファミル）ブチル基など）、環式アルキ
ル基（例えば、シクロヘキシル基など）、アルケニル基
（ビニル基，プロペニル基，ブテニル基，ペンテニル
基，ヘキセニル基，ヘプテニル基，オクテニル基，ドデ
シニル基，プレニル基など）、アラルキル基（例えば、
ベンジル基，フェネチル基，α−ナフチルメチル基，β
−ナフチルメチル基など）、置換アラルキル基（例え
ば、カルボキシベンジル基，スルホベンジル基，ヒドロ
キシベンジル基など）を包含する。

【００５５】これらの有機色素を含有する記録層には、
耐光性の向上を目的として赤外線吸収化合物などのスタ
ビライザーを含有していてもよい。スタビライザーとし
て用いられる材料としては、たとえば、特開昭６０−１
６３２４５号公報および特開昭６０−２３６１３１号公
報に示される様な物質、または下記の（ＶＩ），（ＶＩ
Ｉ）式に示す物質が挙げられる。

【００５６】

【化７】 （式中、Ｒは水素原子，低級アルキル基、Ｘは酸イオ
ン、Ａは

【００５７】

【化８】 を示す。但しｎは１又は２の整数である。）

【００５８】又上記式（ＶＩ），（ＶＩＩ）式に於て、
置換基Ｒをアルコキシアルキル基（例えばメトキシエチ
ル基など）、アルケニル基（例えばプロペニル基な
ど）、アルキニル基（例えばプロパギル基など）、更に
は環式アルキル基（例えばシクロペンチル基など）とし
た化合物は、有機色素を安定化させる機能に優れると共
に溶剤への溶解性に優れるために記録層を湿式塗布で形
成する場合には特に好適な材料である。

【００５９】又、有機色素を安定化させる効果を有する
クエンチャーとして、例えば下記の（ＶＩＩＩ）〜（Ｘ
ＩＩ）式に示される金属錯体を用いることもできる。

【００６０】

【化９】

【００６１】

【化１０】

【００６２】（ただし、Ｒ₁ ないしＲ₄ は同じかまたは
異なっていてもよく、それぞれは置換もしくは未置換の
アルキル基，アリール基またはアミノ基を表わし、Ｒ₅
ないしＲ₈ は同じかまたは異なっていてもよく、それぞ
れは水素原子、ハロゲン原子または置換もしくは未置換
のアルキル基またはアミノ基を表わし、ＭはＮｉ，Ｃ
ｏ，Ｍｎ，Ｃｕ，ＰｄおよびＰｔから選ばれた遷移金属
を表わす。）

【００６３】記録層５に含有されるスタビライザーやク
エンチャーの含有量は、色素の含有量に対して通常５〜
５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％の範囲が望ま
しい。又、本発明における記録層に於て、上記した有機
色素やスタビライザー，クエンチャーをバインダー中に
分散状態或いは溶解状態で含有させてもよい。

【００６４】本発明に用いられるバインダーとしては、
例えば、ニトロセルロース，リン酸セルロース，硫酸セ
ルロース，酢酸セルロース，プロピオン酸セルロース，
酪酸セルロース，ミリスチン酸セルロース，パルミチン
酸セルロース，酢酸・プロピオン酸セルロース，酢酸・
酪酸セルロースなどのセルロースエステル類，メチルセ
ルロース，エチルセルロース，プロピルセルロース，ブ
チルセルロースなどのセルロースエーテル類、ポリスチ
レン，ポリ塩化ビニルなどを用いることができる。

【００６５】また記録層として有機色素を湿式塗布で形
成する場合、塗工の際に使用できる有機溶剤は、有機色
素を分散状態とするか、あるいは、溶解状態にするかに
よって異なるが、一般にメタノール，エタノール，イソ
プロパノール，ジアセントアルコールなどのアルコール
類，アセトン，メチルエチルケトン，シクロヘサキノン
などのケトン類，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類，ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類，テトラヒドロフラ
ン，ジオキサン，エチレングリコールモノメチルエーテ
ルなどのエーテル類，ジクロロメタン，ジクロロエチレ
ン，トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロゲン化、炭化
水素などを用いることができる。

【００６６】また、これらの塗布液の透明基板への塗布
方法としては、公知の塗布方法、例えば、ディップコー
ト，スプレーコート，スピナーコート，バーコート，ブ
レードコート，ロールコート，カーテンコート等の方法
により形成される。

【００６７】又、記録層の膜厚は、４００〜１２００Å
の範囲が好ましいが、通常、記録層の膜厚と反射率の相
関関係により表面反射率が最大となる膜厚に設定すると
優れたＣ／Ｎの信号が得られる点で好ましく、又記録層
の光ビーム入射面側と反対側の面に反射層を設けた場
合、記録層の表面反射率が最小となる様な膜厚に設定す
ると記録感度が向上するため好ましい。

【００６８】本発明に用いられる透明基板２としては、
ＰＶＣ，ポリメチルメタクリレート，ポリカーボネー
ト，ポリスルフォン，ポリオレフィン樹脂等などの透明
プラスチック板などを使用することができる。特に、光
学的に屈折が無く、かつ硬くて傷の付きにくいポリメチ
ルメタクリレートが好ましい。基板は光学的に透明材料
であることが好ましい。

【００６９】また、保護基板は、記録媒体全体に“そ
り”が発生しない材質のプラスチック材料が好ましく、
ＰＭＭＡ，ＰＣ，ＰＶＣなどを用いることができる。

【００７０】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。

【００７１】実施例１ キャスティング成形によって一方の表面に幅３μｍ，ピ
ッチ１２μｍのストライプ状のプリグルーブを形成した
厚さ０．４ｍｍ、縦８０ｍｍ、横９５ｍｍのポリメチル
メタアクリレート製光カード基板のプリグルーブが形成
されていない面に紫外線硬化型樹脂（商品名：ユニディ
ック １７−８２４−９、大日本インキ社製）を厚さ３
μｍに塗布した後、紫外線を照射してハードコートを形
成した。又基板のプリグルーブを形成した側の面に、下
記構造式（１−１）で示されるポリメチン色素と下記構
造式（１−２）で示されるスタビライザーを重量比で
３：１の割合で混合した記録層を溶媒塗布法によって膜
厚９００Åに形成した。

【００７２】次に、該有機色素記録層上に、接着剤Ａと
して、厚さ５０μｍのクランベターＰ−２２００（商品
名、倉敷紡績社製）をたて３３ｍｍ、よこ８０ｍｍの大
きさに切断し、記録層上に重ね合わせた。次に、その上
に、接着剤Ｂとして、厚さ７０μｍのクランベター Ｏ
−４１２１（商品名、倉敷紡績社製）を、さらに厚さ
０．２５ｍｍのＰＭＭＡ板からなる保護基板を積層し、
表面温度１３０℃の熱ロールで圧着して貼り合せ、光カ
ードのサイズ（たて５４ｍｍ、よこ８５．６ｍｍ）に切
断して光カード状記録媒体を作製した。

【００７３】

【化１１】

【００７４】実施例２ 実施例１で用いた基板を、ローラーグルービング法によ
ってプリグルーブを形成した厚さ０．４ｍｍ、縦９２ｍ
ｍ、横９７ｍｍのポリカーボネート基板に変え、また保
護基板を厚さ０．３ｍｍのポリカーボネート基板に変え
て実施例１と同様に光カード状記録媒体を作製した。

【００７５】実施例３ 実施例２の接着剤Ａをニュクレル Ｎ−０９０３ＨＣ
（商品名、三井石油化学社製）変えて実施例２と同様に
光カード状記録媒体を作製した。

【００７６】実施例４ 実施例２の接着剤Ｂをクラウンベター Ｗ−４１１０
（商品名、倉敷紡績社製）変えて実施例２と同様に光カ
ード状記録媒体を作製した。

【００７７】比較例１ 実施例２の接着剤ＡおよびＢの変わりに、接着剤Ｂのク
ランベター Ｏ−４１２１のみ（１層の接着層）を用い
て実施例２と同様に光カード状記録媒体を作製した。

【００７８】比較例２ 実施例２の接着剤ＡおよびＢの変わりに、接着剤Ａのク
ランベター Ｐ−２２００のみ（１層の接着層）を用い
て実施例２と同様に光カード状記録媒体を作製した。

【００７９】比較例３ 実施例３の接着剤ＡおよびＢの変わりに、接着剤として
ニュクレル Ｎ−０９０３ＨＣのみ（１層の接着層）を
用いて実施例３と同様に光カード状記録媒体を作製し
た。

【００８０】比較例４ 実施例４の接着剤ＡおよびＢの変わりに、接着剤として
クラウンベター Ｗ−４１１０のみ（１層の接着層）を
用いて実施例４と同様に光カード状記録媒体を作製し
た。

【００８１】実施例１〜４および比較例１〜４の光カー
ド状記録媒体について、接着力および再生光劣化時間を
測定した結果を表１に示す。但し、接着力は２５ｍｍＴ
型剥離テストにより測定した。なお、再生光劣化時間と
は再生光ビーム（波長８３０ｎｍ）を該光カードを固定
して記録層の１点に連続照射した時の記録層の反射率が
初期値から１０％低下するに要する時間である。

【００８２】そして本実施例に於ては、再生光パワーを
０．１ｍＷ及び０．２ｍＷとしたときの再生光劣化時間
を測定した。なお、この時再生光の照射位置を変えたこ
とはいうまでもない。また、接着剤の物性を表２および
表３に示す。

【００８３】

【表１】

【００８４】

【表２】

【００８５】

【表３】

【００８６】（注） Ｐ−２２００：ＥＡＡ エチレンアクリル酸共重合体 Ｏ−４１２１：ＥＭＡ エチレン−アクリル酸メチル共
重合体 Ｏ−４１２２：ＥＭＡ エチレン−アクリル酸メチル共
重合体 Ｗ−４１１０：ＥＭＭＡ エチレン−メタアクリル酸メ
チル共重合体 Ｎ−０９０３ＨＣ：ＥＭＡＡ エチレンメタアクリル酸
共重合体

【００８７】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、接
着層に特定の２種類の異なる接着剤を用いることによ
り、接着力が１ｋｇ（Ｔ型剥離テスト）以上と大きいた
めに、切断加工により光カードの外周部の基板と保護基
板における剥離が生じることなく、またＩＣチップを埋
め込むための機械加工に十分に耐えることができ、さら
に接着剤による記録層の劣化を防止した光記録媒体を得
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光記録媒体の一例を示す概略断面
図である。

【符号の説明】

１ ハードコート層 ２ 透明基板 ３ 接着層 ４ 保護基板 ５ 記録層 ６ プリフォーマット ８ 記録・再生光 ９ ＩＣチップ １０ 光記録媒体

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板、記録層及び該記録層上に接着
   層を介して保護基板が積層されている光記録媒体におい
   て、該接着層が２種の接着剤ＡおよびＢを積層してな
   り、記録層に接する接着剤Ａの溶融粘度が１３０℃にお
   いて３０×１０³ｐｏｉｓｅ以上であり、記録層に接触
   しない接着剤Ｂの溶融粘度が１３０℃において２０×１
   ０³ｐｏｉｓｅ以下であることを特徴とする光記録媒
   体。
2. 【請求項２】 前記接着剤Ａの溶融粘度が１３０℃にお
   いて３０×１０^３〜１００×１０^３ｐｏｉｓｅであり、
   接着剤Ｂの溶融粘度が１３０℃において２０×１０^３〜
   ５×１０^３ｐｏｉｓｅである請求項１記載の光記録媒
   体。
3. 【請求項３】 前記接着剤ＡおよびＢがエチレン−アク
   リル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合
   体、エチレン−メタアクリル酸共重合体及びエチレン−
   メタアクリル酸エステル共重合体から選ばれる少なくと
   も１種の共重合体を含有する請求項１記載の光記録媒
   体。
4. 【請求項４】 光記録媒体の外周部が接着剤Ｂを介して
   基板と保護基板が貼り合わされている請求項１記載の光
   記録媒体。
5. 【請求項５】 光記録媒体がＩＣチップおよびエンボス
   を有するハイブリッド光カードである請求項１記載の光
   記録媒体。
6. 【請求項６】 前記記録層が有機色素を含有する請求項
   １記載の光記録媒体。
7. 【請求項７】 前記記録層がポリメチン色素を含有する
   請求項１または６記載の光記録媒体。
8. 【請求項８】 前記記録層が下記一般式（１）で示され
   るポリメチン色素を含有する請求項７記載の光記録媒
   体。 【化１】 （式中、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは水素原子，アルキル基，ア
   ルケニル基，アラルキル基，アリール基，スチリルおよ
   び複素環基から選ばれる基を示す。ｒ_１ ′，ｒ_２ ′
   は水素原子，アルキル基，環式アルキル基，アルケニル
   基，アラルキル基およびアリール基から選ばれる基を示
   し、ｋは０又は１、Ｌは０，１又は２で、Ｘ⁻ はアニ
   オンを示す。なお、Ａ，Ｂ，Ｄ，Ｅ，ｒ_１ ′及びｒ_２
   ′におけるアラルキル基，アリール基，スチリル基，
   複素環基は置換されているものでもよい。）